JPWO2018163427A1 - 浴槽洗浄装置及び給湯システム - Google Patents
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Abstract
Description
また、本発明の給湯システムは、上記浴槽洗浄装置と、浴槽に湯を供給可能な給湯装置と、を備えるものである。
図1は、実施の形態1による浴槽洗浄装置を備えた貯湯式給湯システムの構成図である。図1に示す貯湯式給湯システムは、水を加熱する加熱手段1とタンクユニット2とを有する給湯装置を備える。加熱手段1は、ヒートポンプ式加熱装置でもよい。ヒートポンプ式加熱装置は、自然冷媒である二酸化炭素を冷媒として用いたものでもよく、高圧側では臨界圧を超える状態で運転してもよい。
次に、図17を参照して、実施の形態2について説明するが、前述した実施の形態1との相違点を中心に説明し、同一部分または相当部分については説明を簡略化または省略する。図17は、実施の形態2による旋回水流発生手段の断面図である。実施の形態2は、図3に示す旋回水流発生手段に代えて、図17に示す旋回水流発生手段を備える。
次に、図18を参照して、実施の形態3について説明するが、前述した実施の形態1との相違点を中心に説明し、同一部分または相当部分については説明を簡略化または省略する。図18は、実施の形態3による旋回水流発生手段の断面図である。実施の形態3は、図3に示す旋回水流発生手段に代えて、図18に示す旋回水流発生手段を備える。
次に、図19及び図20を参照して、実施の形態4について説明するが、前述した実施の形態1との相違点を中心に説明し、同一部分または相当部分については説明を簡略化または省略する。図19及び図20は、実施の形態4による旋回水流発生手段の断面図である。実施の形態4は、図3に示す旋回水流発生手段に代えて、図19及び図20に示す旋回水流発生手段を備える。
次に、図21及び図22を参照して、実施の形態5について説明するが、前述した実施の形態1との相違点を中心に説明し、同一部分または相当部分については説明を簡略化または省略する。図21は、実施の形態5による旋回水流発生手段の断面図である。図22は、実施の形態5による旋回水流発生手段が備えるローター130Eの平面図である。実施の形態5は、図3に示す旋回水流発生手段に代えて、図21及び図22に示す旋回水流発生手段を備える。図21は、ローター130Eについては断面図ではなく側面図を示す。
また、本発明の浴槽洗浄装置は、浴槽の底部に設けられ、浴槽内で回る旋回水流を発生させる旋回水流発生手段と、浴槽に接続された第一循環回路に設置され、浴槽の水が第一循環回路を通って浴槽内に戻るように水を循環させる第一ポンプと、第一循環回路を通る水の中に気泡を発生させる気泡発生装置と、浴槽を洗浄する浴槽洗浄モードにおいて、第一ポンプを運転し、気泡発生装置により気泡を発生させ、旋回水流発生手段により旋回水流を発生させる制御手段と、を備える浴槽洗浄装置であって、旋回水流発生手段は、浴槽の底部に回転可能に設置されたローターを有し、ローターの回転により、旋回水流を発生させ、ローターに形成された開口、またはローターの周囲に形成された開口と、開口につながる第二循環回路と、浴槽の水を、開口及び第二循環回路を通して循環させる第二ポンプと、を備え、浴槽洗浄モードにおいて、制御手段は、ローターの回転を伴って第二ポンプを運転することにより、開口から浴槽内に水を吐出するか、または浴槽内の水を開口から吸入するものである。
また、本発明の給湯システムは、上記浴槽洗浄装置と、浴槽に湯を供給可能な給湯装置と、を備えるものである。
Claims (11)
- 浴槽の底部に設けられ、前記浴槽内で回る旋回水流を発生させる旋回水流発生手段と、
前記浴槽に接続された第一循環回路に設置され、前記浴槽の水が前記第一循環回路を通って前記浴槽内に戻るように水を循環させる第一ポンプと、
前記第一循環回路を通る水の中に気泡を発生させる気泡発生装置と、
前記浴槽を洗浄する浴槽洗浄モードにおいて、前記第一ポンプを運転し、前記気泡発生装置により気泡を発生させ、前記旋回水流発生手段により前記旋回水流を発生させる制御手段と、
を備える浴槽洗浄装置。 - 前記浴槽洗浄モードにおいて、前記制御手段は、前記第一ポンプを運転するとともに前記気泡発生装置により気泡を発生させることで前記浴槽内に気泡を供給した後に、前記旋回水流発生手段により前記旋回水流を発生させる請求項1に記載の浴槽洗浄装置。
- 前記旋回水流発生手段は、前記浴槽の排水口の位置に設けられている請求項1または請求項2に記載の浴槽洗浄装置。
- 前記排水口につながる第二循環回路と、
前記浴槽の水を、前記排水口及び前記第二循環回路を通して循環させる第二ポンプと、
を備え、
前記浴槽洗浄モードにおいて、前記制御手段は、前記旋回水流発生手段により前記旋回水流を発生させるとともに前記第二ポンプを運転することにより、前記排水口から前記浴槽内に水を吐出するか、または前記浴槽内の水を前記排水口から吸入する請求項3に記載の浴槽洗浄装置。 - 前記旋回水流発生手段は、前記浴槽の底部に回転可能に設置されたローターを有し、前記ローターの回転により、前記旋回水流を発生させる請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の浴槽洗浄装置。
- 前記ローターの少なくとも一部が前記浴槽の排水口の内部に入る第一位置と、前記第一位置より上の位置である第二位置とに前記ローターを動かす移動装置を備え、
前記浴槽洗浄モードにおいて、前記制御手段は、前記ローターを前記第二位置において回転させる請求項5に記載の浴槽洗浄装置。 - 前記ローターに形成された開口、または前記ローターの周囲に形成された開口と、
前記開口につながる第二循環回路と、
前記浴槽の水を、前記開口及び前記第二循環回路を通して循環させる第二ポンプと、
を備え、
前記浴槽洗浄モードにおいて、前記制御手段は、前記ローターの回転を伴って前記第二ポンプを運転することにより、前記開口から前記浴槽内に水を吐出するか、または前記浴槽内の水を前記開口から吸入する請求項5または請求項6に記載の浴槽洗浄装置。 - 前記ローターに前記開口が形成されており、
前記開口から吐出される水流または前記開口に吸入される水流が前記ローターに及ぼす反作用によって前記ローターが自動的に回転するように構成されている請求項7に記載の浴槽洗浄装置。 - 前記開口から吐出される水流の方向または前記開口に吸入される水流の方向は、前記浴槽の底面に対して実質的に平行である請求項7または請求項8に記載の浴槽洗浄装置。
- 請求項1から請求項9のいずれか一項に記載の浴槽洗浄装置と、
前記浴槽に湯を供給可能な給湯装置と、
を備える給湯システム。 - 前記浴槽洗浄モードにおいて、前記制御手段は、前記給湯装置により前記浴槽に湯を追加するとともに、前記旋回水流発生手段により前記旋回水流を発生させる請求項10に記載の給湯システム。
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