JPWO2018155661A1 - チアゾール化合物及び除草剤 - Google Patents

Abstract

本発明は、チアゾール化合物及び該チアゾール化合物を含有する除草剤を提供することを課題としている。本発明は、一般式（１）：【化１】［式中、Ｒ１及びＲ２は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を示す。Ｒ３及びＲ４は、同一又は異なって、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子等を示す。Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基等を示し、前記Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９のうち少なくとも一つは、水酸基、ＯＣＯＲ１２基、ＣＯＲ１３基、ＯＳＯ２Ｒ１４基等を示す。Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を示す。ｎは０、１又は２を示す。]で表されるチアゾール化合物に関する。【選択図】図１

Description

本発明は、チアゾール化合物及び該チアゾール化合物を含有する除草剤に関する。

チアゾール環を有する化合物はこれまでに数多く知られている。例えば、特許文献１には、下記式（А）で表されるチアゾール化合物及び該チアゾール化合物を有効成分とする除草剤組成物が開示されている。

しかしながら、この特許文献１には、ベンゼン環上のＸ基が、ハロゲン原子、Ｃ_１−４アルキル基、Ｃ_１−４ハロアルキル基、Ｃ_１−４アルコキシカルボニル基、又はニトロ基であるチアゾール化合物が開示されているが、該Ｘ基が水酸基、ＯＣＯＲ^１２基、ＣＯＲ^１３基、シリル基、シリルオキシ基、シアノ基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、置換スルフィド基、置換スルフィニル基、置換スルホニル基、ＯＳＯ_２Ｒ^１４基等の基であるチアゾール化合物は一切記載されていない。

特開２００３−０９６０５９

本発明の課題は、特に水田雑草に対し、低薬量で広い殺草スペクトラムを有し、葉齢の進んだヒエ属、ミズアオイ属等を含む一年生雑草全般、及びホタルイ属等の多年生雑草全般に対しても十分な除草活性を有する化合物、及び該チアゾール化合物を有効成分とする除草剤を提供することにある。

本発明者は、前記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、ベンゼン環上にアルコキシ基等が置換した下記チアゾール化合物（以下、「チアゾール化合物」ということもある。）が低薬量で広い殺草スペクトラムを有することを見出した。本発明は、このような知見に基づき完成されたものである。

すなわち、本発明は、下記チアゾール化合物及び該チアゾール化合物を含有する除草剤に関する。

項１．
一般式（１）：

［式中、Ｒ^１及びＲ^２は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を示す。
Ｒ^３及びＲ^４は、同一又は異なって、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、ＣＯＲ^１０基又はＣＯＯＲ^１１基を示す。
Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ＯＣＯＲ^１２基、ＣＯＲ^１３基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいシリルオキシ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換スルフィド基、置換スルフィニル基、置換スルホニル基又はＯＳＯ_２Ｒ^１４基を示し、
前記Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９のうち少なくとも一つは、水酸基、ＯＣＯＲ^１２基、ＣＯＲ^１３基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいシリルオキシ基、シアノ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換スルフィド基、置換スルフィニル基、置換スルホニル基又はＯＳＯ_２Ｒ^１４基を示す。
Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３及びＲ^１４は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を示す。
ｎは０、１又は２を示す。]
で表されるチアゾール化合物又はその塩。

項２．
Ｒ^１が、水素原子、ハロゲン原子又は無置換のアルキル基である、項１に記載のチアゾール化合物又はその塩。

項３．
Ｒ^２が、ハロゲン原子又はハロアルキル基である、前項の何れか一項に記載のチアゾール化合物又はその塩。

項４．
Ｒ^３及びＲ^４が、同一又は異なって、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、無置換のアルキル基、ＣＯＣＨ_３基又はＣＯＯＣＨ_３基である、前項の何れか一項に記載のチアゾール化合物又はその塩。

項５．
前記Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９のうち、Ｒ^５及びＲ^９のどちらか一方又はその両方が、水酸基、ＯＣＯＲ^１２基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいシリルオキシ基、シアノ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換スルホニル基又はＯＳＯ_２Ｒ^１４基である、前項の何れか一項に記載のチアゾール化合物又はその塩。

項６．
Ｒ^５及びＲ^９のうち少なくとも一つが、無置換のアルコキシ基又はハロアルコキシ基である、前項の何れか一項に記載のチアゾール化合物又はその塩。

項７．
Ｒ^７が、水素原子、無置換のアルコキシ基又はハロアルコキシ基である、前項の何れか一項に記載のチアゾール化合物又はその塩。

項８．
Ｒ^７が、無置換のアルコキシ基又はハロアルコキシ基である、前項の何れか一項に記載のチアゾール化合物又はその塩。

項９．
Ｒ^７が、水素原子である、前項の何れか一項に記載のチアゾール化合物又はその塩。

項１０．
項１〜９の何れか一項に記載のチアゾール化合物又はその塩を含有する除草剤。

項１１．
項１〜９の何れか一項に記載のチアゾール化合物又はその塩を含有する水田用除草剤。

項１２．
ミズアオイ属、ホタルイ属、ヒエ属、及び／又はメヒシバ属に用いる、項１〜９の何れか一項に記載のチアゾール化合物又はその塩を含有する除草剤。

本発明によれば、水田雑草及び畑地雑草全般に高い除草効果を示す除草剤組成物を得ることができる。

本発明の除草剤組成物は、中でも、水田雑草としてはヒエ属、ミズアオイ属等を含む一年生広葉雑草及びホタルイ属、並びに畑雑草としてはメヒシバ属に対して高い除草効果を示す。

特に水田雑草に対し、低薬量で広い殺草スペクトラムを有し、葉齢の進んだヒエ属、ミズアオイ属等を含む一年生雑草全般、及びホタルイ属等の多年生雑草全般に対しても十分な除草活性を有する化合物、及び該チアゾール化合物を有効成分とする除草剤組成物を得ることができる。

図１は、２−２．５葉期のヒメタイヌビエに対して、本発明の実施例化合物（1C-38）、比較化合物Ａ及び比較化合物Ｂをそれぞれ処理し、その処理後２１日目の植物の状態を示した写真である。

以下、本発明のチアゾール化合物及び該チアゾール化合物を含有する除草剤について詳細に説明する。

１．チアゾール化合物
上記一般式（１）で表されるチアゾール化合物又はその塩（以下、「チアゾール化合物（１）」、「本発明のチアゾール化合物」又は「本発明化合物」ということもある。）は、該一般式（１）におけるｎが０である下記スルフィド化合物（１Ａ）、ｎが１である下記スルホキシド化合物（１Ｂ）及びｎが２である下記スルホン化合物（１Ｃ）を包含する。

［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は、前記に同じ。]；

［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は、前記に同じ。]；

［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は、前記に同じ。]。

また、上記スルホキシド化合物（１Ｂ）には、下記一般式（１Ｂ−Ｓ）で表されるスルホキシド化合物又は一般式（１Ｂ−Ｒ）で表されるスルホキシド化合物が含まれる。

［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は、前記に同じ。]；

［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は、前記に同じ。]。

本明細書において示される各基は、具体的には以下のものを例示できる。

「ハロゲン原子」としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。

「アルキル基」としては、特に限定はなく、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等のＣ_１〜４の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基が挙げられる。本明細書中において、「ｎ−」とはノルマルを、「ｓｅｃ−」とはセカンダリーを、「ｔ−」とはターシャリーを意味する。

「アルコキシ基」としては、特に限定はなく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等のＣ_１〜４の直鎖状又は分岐鎖状アルコキシ基が挙げられる。

「アリール基」としては、特に限定はなく、例えば、フェニル、ナフチル基、アントリル基等のＣ_６〜１４アリール基を挙げることができる。

置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいシリルオキシ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換スルフィド基、置換スルフィニル基、及び置換スルホニル基における「置換基」又は「置換」としては、特に限定はなく、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、水酸基、ニトロ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基等が挙げられる。該置換基を有している場合において、その置換基の数としては、特に限定はなく、通常１〜１０個であり、好ましくは１〜５であり、より好ましくは１〜４である。

「置換基を有していてもよいシリル基」としては、特に限定はなく、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ジメチルイソプロピルシリル基、ジエチルイソプロピルシリル基、ジメチルヘキシルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、トリベンジルシリル基、トリ−ｐ−キシリルシリル基、トリフェニルシリル基、ｔ−ブチルメトキシフェニルシリル基等の炭素数０〜２０の置換又は無置換のシリル基等が挙げられ、好ましくはトリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基等が挙げられる。

「置換基を有していてもよいシリルオキシ基」としては、特に限定はなく、例えば、シリルオキシ基、トリメチルシリルオキシ基、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基、ジフェニルメチルシリルオキシ基等の炭素数０〜２０の置換又は無置換のシリルオキシ基等が挙げられる。

「置換基を有していてもよいアルキル基」としては、特に限定はなく、例えば、無置換のアルキル基；ハロアルキル基、アルコキシアルキル基等の置換アルキル基が挙げられる。

「ハロアルキル基」としては、特に限定はなく、例えば、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ヨードメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、1−フルオロエチル基、１−フルオロプロピル基、２−クロロプロピル基、３−フルオロプロピル基、３−クロロプロピル基、１−フルオロブチル基、１−クロロブチル基、４−フルオロブチル基等のＣ_１〜４ハロアルキル基が挙げられ、該ハロゲン原子の数としては、通常１〜５個、好ましくは１〜４個、より好ましくは１〜３個である。

「アルコキシアルキル基」としては、特に限定はなく、例えば、２−メトキシエチル基、２−エトキシエチル基、３−メトキシプロピル基、３−エトキシプロピル基、４−メトキシブチル基、４−エトキシブチル基等のＣ_１〜４アルコキシＣ_１〜４アルキル基等が挙げられる。該アルコキシアルキル基は、ハロゲン原子等の置換基を有していてもよい。

「置換基を有していてもよいアミノ基」としては、特に限定はなく、例えば、無置換のアミノ基（NH₂）、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基等が挙げられる。

「モノアルキルアミノ基」としては、特に限定はなく、例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基等のモノＣ_１〜４アルキルアミノ基が挙げられる。

「ジアルキルアミノ基」としては、特に限定はなく、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基等のジＣ_１〜４アルキルアミノ基が挙げられる。

「置換基を有していてもよいアルコキシ基」としては、特に限定はなく、例えば、無置換のアルコキシ基；ハロアルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アリールアルコキシ基、カルボキシアルコキシ基、アルコキシカルボニルアルコキシ基等の置換アルコキシ基が挙げられる。

「ハロアルコキシ基」としては、特に限定はなく、例えば、上記のアルコキシ基が、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子で置換された基であり、具体的には、モノフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロエトキシ基、トリフルオロエトキシ基、テトラフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、トリフルオロプロポキシ基、ノナフルオロブトキシ基等のＣ_１〜４の直鎖状又は分岐鎖状ハロアルコキシ基が挙げられる。該ハロアルコキシ基は、さらに置換基を有していてもよい。

「アルコキシアルコキシ基」としては、特に限定はなく、例えば、メトキシメトキシ基、２−メトキシエトキシ基、エトキシメトキシ基、２−エトキシエトキシ基、３−メトキシプロポキシ基、３−エトキシプロポキシ基、４−メトキシブトキシ基、４−エトキシブトキシ基等のＣ_１〜４アルコキシＣ_１〜４アルコキシ基等が挙げられる。該アルコキシアルコキシ基は、さらに置換基を有していてもよい。

「アリールアルコキシ基」としては、特に限定はなく、例えば、フェニルメトキシ基（ベンジルオキシ基）、ナフチルオキシ基等のＣ_６〜１４アリールＣ_１〜４アルコキシ基等が挙げられる。該アリールアルコキシ基は、さらに置換基を有していてもよい。

「カルボキシアルコキシ基」としては、特に限定はなく、例えば、カルボキシメトキシ基（HOOCCH₂O基）、カルボキシエトキシ基（HOOCCH₂CH₂O基）、カルボキシジフルオロメトキシ基（HOOCCF₂O基）等のカルボキシＣ_１〜４アルコキシ基等が挙げられる。該カルボキシアルコキシ基は、さらに置換基を有していてもよい。

「アルコキシカルボニルアルコキシ基」としては、特に限定はなく、例えば、エトキシカルボニルメトキシ基（EtOOCCH₂O基）、エトキシカルボニルエトキシ基（EtOOCCH₂CH₂O基）、エトキシカルボニルジフルオロメトキシ基（EtOOCCF₂O基）等のＣ_１〜４アルコキシカルボニルＣ_１〜４アルコキシ基等が挙げられる。該アルコキシカルボニルアルコキシ基は、さらに置換基を有していてもよい。

「置換スルフィド基」としては、特に限定はなく、例えば、置換基を有していてもよいアルキルチオ基、置換基を有していてもよいアリールチオ基、アルコキシスルフィド基等が挙げられる。具体的に、置換基を有していてもよいアルキルチオ基としては、例えば、メタンスルフィド基、エタンスルフィド基、トリフルオロメタンスルフィド基等が挙げられる。置換基を有していてもよいアリールチオ基としては、例えば、ベンゼンスルフィド基（フェニルチオ基）、ｐ−トルエンスルフィド基（４−メチルフェニルチオ基）、２−メトキシベンゼンスルフィド基（２−メトキシフェニルチオ基）、４−クロロベンゼンスルフィド基（ｐ−クロロフェニルチオ基）、４−ニトロベンゼンスルフィド基（４−ニトロフェニルチオ基）等の置換又は無置換の炭素数６〜１４のアリールチオ基等が挙げられる。アルコキシスルフィド基としては、例えば、メトキシスルフィド基、エトキシスルフィド基等が挙げられる。

「置換スルフィニル基」としては、特に限定はなく、例えば、メタンスルフィニル基、エタンスルフィニル基、トリフルオロメタンスルフィニル基等のアルキルスルフィニル基；ベンゼンスルフィニル基、ｐ−トルエンスルフィニル基、メトキシベンゼンスルフィニル基、クロロベンゼンスルフィニル基等のアリールスルフィニル基；メトキシスルフィニル基、エトキシスルフィニル基等のアルコキシスルフィニル基等が挙げられる。

「置換スルホニル基」としては、特に限定はなく、例えば、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基等の置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基；ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、メトキシベンゼンスルホニル基、クロロベンゼンスルホニル基等の置換基を有していてもよいアリールスルホニル基；メトキシスルホニル基、エトキシスルホニル基等の置換基を有していてもよいアルコキシスルホニル基等；スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−フェニルスルファモイル基等の置換基を有していてもよいスルファモイル基等が挙げられる。

「ＣＯＲ^１０基」及び「ＣＯＲ^１３基」としては、特に限定はなく、例えば、ホルミル基；アセチル基、ピバロイル基、メトキシアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ベンゾイル基、ｐ−メトキシベンジル基、ｐ−ニトロベンゾイル基等の置換基を有していてもよいアシル基が挙げられる。Ｒ^１０及びＲ^１３としては、前述した水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基が挙げられる。

「ＣＯＯＲ^１１基」としては、特に限定はなく、例えば、メチルエステル基、エチルエステル基、ｎ−プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、ｎ−ブチルエステル基、ｔｅｒｔ−ブチルエステル基、シクロペンチルエステル基、シクロヘキシルエステル基、ベンジルエステル基等の置換基を有していてもよいアルキルエステル基；フェニルエステル基、ナフチルエステル基等の置換基を有していてもよいアリールエステル基等が挙げられる。Ｒ^１１としては、前述した水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基が挙げられる。

「ＯＣＯＲ^１２基」としては、特に限定はなく、例えば、ホルミルオキシ基；メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基等の置換基を有していてもよいアルキルカルボニルオキシ基；フェニルカルボニルオキシ基、ナフチルカルボニルオキシ基等の置換基を有していてもよいアリールカルボニルオキシ基等が挙げられる。Ｒ^１２としては、前述した水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基が挙げられる。

「ＯＳＯ_２Ｒ^１４基」としては、特に限定はなく、例えば、メタンスルホニルオキシ基、エタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、ペンタフルオロエタンスルホニルオキシ基等の置換基を有していてもよいアルキルスルホニルオキシ基；ベンゼンスルホニルオキシ基、トルエンスルホニルオキシ基等の置換基を有していてもよいアリールスルホニルオキシ基等が挙げられる。Ｒ^１４としては、前述した水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基が挙げられる。

上記本発明のチアゾール化合物（１）の中でも、
Ｒ^１は、水素原子、ハロゲン原子、又は無置換のアルキル基、
Ｒ^２は、水素原子、ハロゲン原子、又は置換基を有していてもよいアルキル基、
Ｒ^３及びＲ^４は、同一又は異なって、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、無置換のアルキル基、ＣＯＲ^１０基、又はＣＯＯＲ^１１基、
Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ＯＣＯＲ^１２基、ＣＯＲ^１３基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいシリルオキシ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換スルフィド基、置換スルフィニル基、置換スルホニル基、又はＯＳＯ_２Ｒ^１４基、
前記Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９のうち少なくとも一つは、水酸基、ＯＣＯＲ^１２基、ＣＯＲ^１３基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいシリルオキシ基、シアノ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換スルフィド基、置換スルフィニル基、置換スルホニル基、又はＯＳＯ_２Ｒ^１４基、
Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３及びＲ^１４は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基、
ｎは０、１又は２であるチアゾール化合物が好ましい。

中でも、
Ｒ^１が、水素原子、ハロゲン原子又は無置換のアルキル基、
Ｒ^２が、ハロゲン原子又はハロアルキル基、
Ｒ^３及びＲ^４が、同一又は異なって、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子又は無置換のＣ_１〜４アルキル基、
Ｒ^５が、無置換のアルコキシ基、ハロアルコキシ基又は無置換のアルキルオキシＣ_１〜４アルコキシ基、
Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９のうち少なくとも一つが、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基又はハロアルコキシ基であるチアゾール化合物がより好ましい。

中でも、
Ｒ^１が、水素原子、ハロゲン原子又は無置換のＣ_１〜４アルキル基、
Ｒ^２が、ハロゲン原子又はハロＣ_１〜４アルキル基、
Ｒ^３及びＲ^４が、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子又は無置換のＣ_１〜４アルキル基、
Ｒ^５が、無置換のＣ_１〜４アルコキシ基、ハロＣ_１〜４アルコキシ基又は無置換のＣ_１〜４アルキルオキシＣ_１〜４アルコキシ基、
Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９のうち少なくとも一つが、水素原子、ハロゲン原子、無置換のＣ_１〜４アルキル基、ハロＣ_１〜４アルキル基、無置換のＣ_１〜４アルコキシ基又はハロＣ_１〜４アルコキシ基であるチアゾール化合物がさらに好ましい。

中でも、
Ｒ^１が、水素原子、ハロゲン原子又は無置換のＣ_１〜４アルキル基、
Ｒ^２が、ハロゲン原子又はハロＣ_１〜４アルキル基、
Ｒ^３及びＲ^４が、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子又は無置換のＣ_１〜４アルキル基、
Ｒ^５が、無置換のＣ_１〜４アルコキシ基、又はハロＣ_１〜４アルコキシ基、
Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８のうち少なくとも一つが、水素原子、ハロゲン原子、無置換のＣ_１〜４アルキル基、ハロＣ_１〜４アルキル基、無置換のＣ_１〜４アルコキシ基又はハロＣ_１〜４アルコキシ基、
Ｒ^９が、水素原子、ハロゲン原子、無置換のＣ_１〜４アルキル基、ハロＣ_１〜４アルキル基、無置換のＣ_１〜４アルコキシ基又はハロＣ_１〜４アルコキシ基であるチアゾール化合物が特に好ましい。

チアゾール化合物の製造方法
本発明のチアゾール化合物（１）は、種々の方法により製造することができる。例えば、一般式（１Ａ−１）で表されるチアゾール化合物は下記反応式−１で示される方法によって製造される。

［式中、Ｒ^１、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、及びＲ^９は前記に同じ。Ｒ^２’はハロゲン原子を示す。］。

反応式−１によれば、適当な溶媒中、一般式（１Ａ−２）で表されるチアゾール化合物とハロゲン化剤とを反応させることによって一般式（１Ａ−１）で表される本発明のチアゾール化合物〔１Ａ：一般式（１）で表されるチアゾール化合物におけるｎが０、Ｒ^２はハロゲン原子である化合物〕が製造される。

本反応に用いられる溶媒としては、反応に対して不活性な溶媒を用いることができ、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類；ベンゼン、クロロベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；塩化メチレン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類；酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（THF）、ジオキサン等のエーテル類；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類；メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類；Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド（DMF）、Ｎ,Ｎ−ジエチルホルムアミド等のアミド類；ジメチルスルホキシド（DMSO）等のスルホキシド類が挙げられる。また、これらの混合溶媒を用いることもできる。これら溶媒の使用量は、一般式（１Ａ−２）で表されるチアゾール化合物１ｋｇ当たり０.０５〜５００リットル程度、好ましくは０.５〜２０リットル程度とすればよい。

ハロゲン化剤としては、特に限定はなく、例えば、塩素ガス、臭素、スルフリルクロリド、Ｎ−クロロコハク酸イミド（NCS）、Ｎ−ブロモコハク酸イミド（NBS）、Ｎ−ヨードコハク酸イミド（NIS）等が挙げられる。

本反応には一般式（１Ａ−２）のチアゾール化合物とハロゲン化剤とを任意の割合で使用することができるが、好ましくは前者１モルに対し、後者を０.８〜１.５モルとするのがよい。本反応は−２０℃から使用される溶媒の沸点温度までの温度範囲で行うのが好ましく、また、通常０.５〜２４時間程度で完結する。

反応式−１で用いられた一般式（１Ａ−２）で表されるチアゾール化合物は、例えば、下記反応式−２で示される方法によって製造することができる。

［式中、Ｒ^１、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、及びＲ^９は前記に同じ。］。

反応式−２によれば、溶媒中で２−アミノチアゾール（４）にジアゾ化剤及び一般式（３）で表されるベンジルジスルフィド化合物を反応させることによって一般式（１Ａ−２）で表されるチアゾール化合物を製造することができる。

本反応に用いられる溶媒としては、反応に対して、不活性な溶媒を用いることができ、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類；ベンゼン、クロロベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；塩化メチレン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類；酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類；ジエチルエーテル、THF、ジオキサン等のエーテル類；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類；メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類；DMF、Ｎ,Ｎ−ジエチルホルムアミド等のアミド類；DMSO等のスルホキシド類が挙げられる。また、これらの混合溶媒及びこれらと水との混合溶媒を用いることもできる。これら溶媒の使用量は、２−アミノチアゾール（４）１ｋｇ当たり０.０５〜５００リットル程度、好ましくは０.５〜２０リットル程度とすればよい。

ジアゾ化剤としては、特に限定はなく、例えば、亜硝酸イソアミル等の亜硝酸エステル類；亜硝酸ナトリウム等の亜硝酸塩などを用いることができる。

本反応には２−アミノチアゾール（４）と一般式（３）で表されるベンジルジスルフィド化合物とジアゾ化剤とを任意の割合で使用することができるが、好ましくは２−アミノチアゾール（４）１モルに対し、一般式（３）で表されるベンジルジスルフィド化合物を０.８〜３モル、ジアゾ化剤を０.８〜４モルとするのがよい。該反応は−２０℃から使用される溶媒の沸点温度までの温度範囲で行うのが好ましく、通常０.１〜４０時間程度で完結する。

出発原料の２−アミノチアゾール（４）は公知化合物であり、市販品を利用できる。ベンジルジスルフィド化合物（３）は市販品を用いるか、又は文献（例えば、Tetrahedron, 35, 2329(1979)）に記載の方法に従って調製できる。

下記スルホン化合物（１Ｃ）は下記反応式−３で表される反応によって製造することができる。

［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、及びＲ^９は前記に同じ。］。

一般式（１Ａ）で表されるチアゾール化合物（以下、「スルフィド化合物（１Ａ）又はチアゾール化合物（１Ａ）ということもある。」と酸化剤とを反応させることによって一般式（１Ｂ）で表される本発明のチアゾール化合物〔スルホキシド化合物（１Ｂ）又はチアゾール化合物（１Ｂ）：一般式（１）で表されるチアゾール化合物におけるｎが１である化合物〕、及び/又は一般式（１Ｃ）で表される本発明のチアゾール化合物〔スルホン化合物（１Ｃ）又はチアゾール化合物（１Ｃ）：一般式（１）で表されるチアゾール化合物におけるｎが２である化合物〕を製造することができる。

本反応に用いられる溶媒としては、反応に対して、不活性な溶媒を用いることができ、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類；ベンゼン、クロロベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；塩化メチレン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類；酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類；ジエチルエーテル、THF、ジオキサン等のエーテル類；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類；メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類；DMF、Ｎ,Ｎ−ジエチルホルムアミド等のアミド類；DMSO等のスルホキシド類；酢酸等のカルボン酸類及び水が挙げられる。また、これらの混合溶媒を用いることもできる。これら溶媒の使用量は、スルフィド化合物（１Ａ）１ｋｇ当たり０.０５〜５００リットル程度、好ましくは０.５〜２０リットル程度とすればよい。

本反応で用いられる酸化剤としては、特に限定はなく、例えば、メタクロロ過安息香酸(mCPBA)、過酸化水素、過酢酸、過マンガン酸塩、ヒドロペルオキシド、ペルオキシ硫酸カリウム、過ホウ酸ナトリウム、メタ過ヨウ素酸ナトリウム、酸化オスミウム、酸化ルテニウム、硝酸、クロム酸、二クロム酸ナトリウム、ハロゲン、次亜塩素酸ナトリウム、ヨードベンゼンジクロリド、オゾン、一重項酸素等が挙げられる。

酸化剤の使用量は、スルフィド化合物（１Ａ）又はスルホキシド化合物（１Ｂ）に対して化学量論量又はそれよりも過剰に用いることができるが、好ましくは０．８〜５倍程度の量を用いるのがよい。本反応は通常−２０℃から使用される溶媒の沸点温度までの温度範囲で行うのが好ましく、また通常０.５〜２４時間程度で完結する。

なお、スルホン化合物（１Ｃ）は、スルフィド化合物（１Ａ）から１段階だけでなく、２段階で製造することもできる。

また、Ｒ^３基及びＲ^４基を有するスルホン化合物（１Ｃ−３）は下記反応式−４で示される方法によって製造できる。

［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、及びＲ^９は前記に同じ。］。

反応式−４によれば、一般式（１Ｃ−１）で表される本発明のチアゾール化合物（以下、「チアゾール化合物（１Ｃ−１）」ということもある。）に、溶媒中、塩基の存在下でアルキル化剤、ベンジル化剤、又は重水素化剤を反応させることによって、一般式（１Ｃ−２）で表されるチアゾール化合物（以下、「チアゾール化合物（１Ｃ−２）」ということもある。）、及び/又は一般式（１Ｃ−３）で表されるチアゾール化合物（以下、「チアゾール化合物（１Ｃ−３）」ということもある。）が得られる。

本発明のチアゾール化合物（１Ｃ−３）を製造する反応については、以下のように行うのが好ましい。使用される溶媒としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、ペンタン等の脂肪族炭化水素類；シクロヘキサン等の脂環式炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、１,２−ジクロロエタン、１,１,１−トリクロロエタン、テトラクロロエチレン、トリクロロエチレン、四塩化炭素、クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類；ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、THF、ジオキサン、モノグライム等のエーテル類；蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル等のエステル類；DMF、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、１,３−ジメチルイミダゾリジノン等のアミド類；アセトニトリル等のニトリル類、DMSO等のスルホキシド類；水又はこれらの混合溶媒等が挙げられる。

これら溶媒の使用量は、チアゾール化合物（１Ｃ−１）１ｋｇ当たり０.０５〜５００リットル程度、好ましくは０.５〜２０リットル程度とすればよい。

本反応で使用されるアルキル化剤としては、特に限定はなく、例えば、ヨウ化メチル、臭化メチル、臭化エチル等のハロゲン化アルキル類；ジメチル硫酸、エチル メタンスルフォネート等の硫酸エステル類が挙げられる。

本反応で使用されるベンジル化剤としては、特に限定はなく、例えば、塩化ベンジル、臭化ベンジル等が挙げられる。

本反応で使用される重水素化剤としては、特に限定はなく、例えば、重水素を含むプロトン性化合物、具体的には、重水、重水素化メタノール、重水素化エタノール等の重水素化アルコール、塩化重水素、重水素化アルカリ等が挙げられる。重水素化反応を促進させるために、トリメチルアミン、トリエチルアミン、金属バナジン酸アパタイト（例えば、カルシウムバナジン酸アパタイト）等の添加剤を反応溶液に加えることができる。これらアルキル化剤、ベンジル化剤、又は重水素化剤の使用量は、チアゾール化合物（１Ｃ−１）に対して、０.８〜１.６当量、好ましくは１〜１.１当量とするのがよい。

本反応は好ましくは塩基の存在下で行われる。使用される塩基としては、例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物；トリエチルアミン、ピリジン、ジアザビシクロウンデセン（DBU）等の有機塩基；ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビストリメチルシリルアミド等のリチウム塩；などが挙げられる。これら塩基は１種又は２種以上を併用することができ、その使用量は、チアゾール化合物（１Ｃ−１）に対して０.８〜５当量、好ましくは１〜１.１当量とするのがよい。本反応は−１００℃から使用溶媒の沸点温度の範囲で任意に設定することができる。反応時間は特に限定されないが、通常１０分〜２４時間程度で十分である。

前記反応で製造されたチアゾール化合物（１Ｃ−２）からチアゾール化合物（１Ｃ−３）を製造する反応においては、使用する溶媒の種類及びその使用量、使用するアルキル化剤、ベンジル化剤又は重水素化剤の種類及びその使用量、使用する塩基の種類及びその使用量、反応温度及び反応時間を前記チアゾール化合物（１Ｃ−１）からチアゾール化合物（１Ｃ−２）を製造する反応と同様にすればよい。なお、チアゾール化合物（１Ｃ−３）は、チアゾール化合物（１Ｃ−１）から１段階だけでなく、２段階で製造することもできる。

スルフィド化合物（１Ａ）は下記反応式−５で表される反応によって製造することができる。

［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、及びＲ^９は前記に同じ。Ｒ^１４は置換基を有していてもよいアルキル基を示す。］。
反応式−５によれば、一般式（５）で表されるチアゾールスルホン化合物に、溶媒中、塩基の存在下で、式（６）で表されるカルバムイミドチオ酸化合物又はその塩を反応させることによって、スルフィド化合物（１Ａ）が得られる。

出発原料のチアゾールスルホン化合物（５）又はカルバムイミドチオ酸化合物（６）若しくはその塩は、市販品であるか、又は文献記載の方法に従って容易に調製できる（例えば、国際特許出願公報2006/123088）。

カルバムイミドチオ酸化合物の塩としては、特に限定はなく、塩酸塩、臭化水素酸等が挙げられる。

本発明の一般式（１Ａ）で表されるチアゾール化合物を製造する反応については、以下のように行うのが好ましい。使用される溶媒としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、ペンタン等の脂肪族炭化水素類；シクロヘキサン等の脂環式炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、１,２−ジクロロエタン、１,１,１−トリクロロエタン、テトラクロロエチレン、トリクロロエチレン、四塩化炭素、クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類；ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、THF、ジオキサン、モノグライム等のエーテル類；蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル等のエステル類；Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、１,３−ジメチルイミダゾリジノン等のアミド類；アセトニトリル等のニトリル類、DMSO等のスルホキシド類；水又はこれらの混合溶媒等が挙げられる。

これら溶媒の使用量は、一般式（５）で表されるチアゾールスルホン化合物１ｋｇ当たり０.０５〜５００リットル程度、好ましくは０.５〜２０リットル程度とすればよい。

本反応は好ましくは塩基の存在下で行われる。使用される塩基としては、特に限定はなく、例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物；トリエチルアミン、ピリジン、DBU等の有機塩基；ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビストリメチルシリルアミド等のリチウム塩が挙げられる。これら塩基は１種又は２種以上を併用することができ、その使用量は、一般式（５）で表されるチアゾールスルホン化合物に対して０.８〜１０当量、好ましくは２〜８当量とするのがよい。

本反応では、上記の水及び有機溶媒（特に、疎水性有機溶媒）の両方を含む媒体を用いることができる。２相間の物質の反応を促進させるため、相間移動触媒等を存在させることができる。

相間移動触媒としては、特に限定はなく、例えば、テトラブチルアンモニウムブロマイド(TBAB)、トリメチルベンジルアンモニウムブロマイド、トリエチルベンジルアンモニウムブロマイド、トリオクチルメチルアンモニウムクロライド(TOMAC)等の第四級アンモニウム塩；塩化テトラブチルホスホニウムクロライド(TBPC)等のホスホニウム塩；１５−クラウン５、１８−クラウン６などのクラウンエーテル類等の他、アルキルアンモニウム塩、カルボン酸塩、アルキルスルホン酸塩等の公知の物質を使用することができる。その中でも、第4級アンモニウム塩が好ましく、例えば、TBAB、TOMAC、Aliquat336（登録商標）等を好適に用いることができる。

相間移動触媒を用いる場合、その量は、媒体として用いる水の重量に対して、０．０５〜１０重量％、好ましくは０．０８〜５重量％である。

本反応は−１００℃から使用溶媒の沸点温度の範囲で任意に設定することができる。反応時間は特に限定されないが、通常１０分〜２４時間程度で十分である。

上記各反応で得られる各化合物は、通常の分離手段、例えば、有機溶媒抽出法、クロマトグラフィー法、再結晶法等の慣用の単離精製手段により、反応混合物から容易に単離、精製される。

２．除草剤
本発明のチアゾール化合物及び該化合物を有効成分として含有する除草剤は、広く農園芸上間題となる各種雑草に有効に作用し、特にタマガヤツリ、ホタルイ、アゼナ、ミズアオイ（コナギ等）、ヒルムシロ、キカシグサ、ヒメタイヌビエ等の水田雑草、及びカヤツリグサ、アオビユ、イチビ、イタリアンライグラス、エノコログサ、メヒシバ等の畑地雑草に対して、優れた除草活性を示す。

また、本発明のチアゾール化合物を有効成分とする除草剤組成物は茎葉処理及び/又は土壌処理においても効果を示し、中でも湛水処理において特に優れた除草効果を発揮する。本発明化合物の作用機構については不明であるが、光関与型除草剤特有の早い効果発現、薬剤接触部の褐変等が認められず、全く異なる作用であると考えられる。

本発明化合物を除草剤として使用する場合、他の成分を加えずにそのまま使用してもよいが、通常は液体状、固体状、ガス状等の各種担体と混合し、更に必要に応じて界面活性剤、及び/又はその他製剤用補助剤を添加して、乳剤、水和剤、ドライフロアブル剤、フロアブル剤、水溶剤、粒剤、微粒剤、顆粒剤、粉剤、塗布剤、スプレー用製剤、エアゾール製剤、マイクロカプセル製剤、燻蒸用製剤、燻煙用製剤等の各種製剤形態に製剤して用いることができる。

これら製剤において、有効成分の本発明化合物の含有量は、その製剤形態、使用場所等の各種条件に応じて広い範囲から適宜選択できるが、通常０.０１〜９５重量％程度、好ましくは０.１〜５０重量％程度とすればよい。これら製剤を調製するに当たって用いられる固体状担体としては、例えば、カオリンクレー、珪藻土、ベントナイト、フバサミクレー、酸性白土等の粘土類、タルク類、セラミック、セライト、石英、硫黄、活性炭、炭酸シリカ、水和シリカ等の無機鉱物、化学肥料等の微粉末、粒状物等が挙げられる。

液状担体としては、例えば、水、アルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；ヘキサン、シクロヘキサン、灯油、軽油等の炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン等の芳香族炭化水素類；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類；ジイソプロピルエーテル、ジオキサン等のエーテル類；DMF、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド等の酸アミド類；ジクロロメタン、トリクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類；DMSO；大豆油、綿実油等の植物油等が挙げられる。

ガス状担体としては、一般に噴射剤として用いられているものであり、例えば、ブタンガス、液化石油ガス、ジメチルエーテル、炭酸ガス等が挙げられる。

界面活性剤の具体例として、例えば、非イオン界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエステル、ポリエチレンソルビタンアルキルエステル等を、陰イオン界面活性剤としては、アルキルベンゼンスルホネート、アルキルスルホサクシネート、アルキルサルフェート、ポリオキシエチレンアルキルサルフェート、アリルスルホネート、リグニン亜硫酸塩等が挙げられる。

製剤用補助剤としては、例えば、固着剤、分散剤、安定剤等が挙げられる。固着剤及び/又は分散剤としては、例えば、カゼイン、ゼラチン、多糖類（澱粉、アラビアガム、セルロース誘導体、アルギン酸等）、リグニン誘導体、ベントナイト、糖類、合成水溶性高分子（ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸類等）等が挙げられる。安定剤としては、例えば、PAP（酸性リン酸イソプロピル）、BHT（２,６−ジ−tert−ブチル−４−メチルフェノール）、BHA（２−tert−ブチル−４−メトキシフェノールと３−tert−ブチル−４−メトキシフェノールとの混合物）、植物油、鉱物油、界面活性剤、脂肪酸又はそのエステル等が挙げられる。これら製剤は、有機及び無機染料を用いて着色してもよい。

このようにして得られる製剤は、そのまま又は水等で希釈して用いることができる。ただし、粒剤、粉剤等は通常希釈することなくそのまま使用される。また、乳剤、水和剤、フロアブル剤等を水等で希釈して使用する場合には、通常有効成分濃度が０.０００１〜１００重量％、好ましくは０.００１〜１０重量％程度となるようにすればよい。

また、本発明のチアゾール化合物は、他の除草剤、殺虫剤、殺線虫剤、殺ダニ剤、殺菌剤、植物生長調節剤、共力剤（例えば、ピペロニルブトキシド等）、土壌改良剤等と予め混合して製剤化することができる。あるいは、本発明の製剤と上記各剤とを、使用の際に併用することもできる

本発明の化合物を除草剤として用いる場合、その施用量は特に制限されず、製剤の形態、施用方法、施用時期、施用場所、施用作物の種類、除草対象の雑草の種類等の各種条件に応じて広い範囲から適宜選択される。例えば、茎葉処理法、土壌処理法、又は湛水処理法を実施する場合には、有効成分量で１００００ｍ^２当たり通常１〜４０００ｇ程度、好ましくは１０〜１０００ｇ程度とすればよい。

以下、実施例、参考例、製剤例及び試験例を掲げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

実施例１（ルート１）
5-クロロ-2-[(2,5-ジフルオロ-4-エトキシフェニル)(メタンスルファニル)]-1,3-チアゾール（化合物1A-97）の合成

ナスフラスコ中、2-メルカプトチアゾール（1.44 g, 12.3 mmol）をDMF（50 ml）に溶解し、この溶液に氷冷下N-クロロスクシンイミド（以下、「NCS」ということもある）（4.94 g, 37.0 mmol）を加え、1時間攪拌した。その後、反応液にK₂CO₃（5.11 g, 37.0 mmol）を加え5分間攪拌し、続けて2,5-ジフルオロ-4-エトキシベンジルブロミド(3.10 g, 12.3 mmol)を加え、室温へと昇温後17時間40分攪拌した。この反応液に水を加え反応を停止させ、酢酸エチルで抽出した。得られた酢酸エチル溶液を水洗後、飽和食塩水で洗浄し、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をろ過後、ろ液を減圧下濃縮し、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝20：1）にて精製し、標題のチアゾール化合物（1A-97）を黄色油状物質（0.93 g, 23%）で得た。

実施例２
5-クロロ-2-[(2,5-ジフルオロ-4-エトキシフェニル)(メタンスルホニル)]-1,3-チアゾール（化合物1C-101）の合成

ナスフラスコ中、上記実施例１で製造した化合物（1A-97,0.93 g, 2.89 mmol）をジクロロメタン（15 ml）に溶解し、得られた溶液に氷冷下mCPBA（1.79 g, 7.22 mmol）を加えた。その後、該溶液を室温まで昇温し、22時間攪拌した。得られた反応液に、Na₂SO₃水溶液を加え反応を停止させ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を1M NaOH水溶液、水、飽和食塩水で洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶液をろ過後、ろ液を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝3：1）にて精製し、標題のチアゾール化合物（1C-101）を白色固体（0.65 g, 64%）で得た。

参考例１
2-ジフルオロメトキシ-6-フルオロベンジルブロミドの合成

ナスフラスコ中、2-ジフルオロメトキシ-6-フルオロベンジルアルコール（1.87 g, 9.74 mmol）をジクロロメタン（30 ml）に溶解し、該溶液に、氷冷下CBr₄（3.88 g, 11.7 mmol）、PPh₃（3.07 g, 11.7 mmol）を加えた。その後室温まで昇温し、1時間15分攪拌した。反応終了後、反応液を減圧下濃縮した。残渣をヘキサン：酢酸エチル＝10：1の溶液に懸濁させ、ろ別した。得られたろ液を減圧下濃縮し、2-ジフルオロメトキシ-6-フルオロベンジルブロミド2.98gを無色油状物質（crude）として得た。

参考例２
カルバムイミドチオ酸2-ジフルオロメトキシ-6-フルオロフェニルメチル臭化水素酸塩の合成

ナスフラスコ中、参考例１で得られた2-ジフルオロメトキシ-6-フルオロベンジルブロミド2.98g（crude）をアセトン（30 ml）に溶解し、チオウレア（0.82 g, 10.7 mmol）を加え、4時間45分加熱還流した。溶液中のアセトンを留去し、カルバムイミドチオ酸2-ジフルオロメトキシ-6-フルオロフェニルメチル臭化水素酸塩を白色固体（crude）として得、次の反応に用いた。

実施例３（ルート２）
5-クロロ-2-{[2-(ジフルオロメトキシ)-6-フルオロフェニル](メタンスルファニル)}-1,3-チアゾール（化合物1A-40）の合成

ナスフラスコ中、参考例２で得られたカルバムイミドチオ酸2-ジフルオロメトキシ-6-フルオロフェニルメチル臭化水素酸塩（crude）に1M NaOH水溶液（30 ml）を加え、室温にて1時間10分攪拌した。その後、反応液に、トルエン（30 ml）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（TBAB）（1.57 g, 4.87 mmol）、及び2-メチルスルホニル-5-クロロチアゾール（1.93 g, 9.74 mmol）を加え、室温にて22時間攪拌した。反応終了後、トルエン層を水、飽和食塩水で洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶液をろ過後、ろ液を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝9：1）にて精製し、標題のチアゾール化合物（1A-40）1.67gを黄色油状物質（crude）として得た。

実施例４（ルート２）
5-クロロ-2-{[2-(ジフルオロメトキシ)-6-フルオロフェニル](メタンスルホニル)}-1,3-チアゾール（化合物1C-41）の合成

ナスフラスコ中、実施例３で得られたチアゾール化合物（1A-40, 1.67g, crude）をジクロロメタン（20 ml）に溶解し、該溶液に、氷冷下mCPBA（3.16 g, 12.8 mmol）を加えた。その後、反応液を室温まで昇温し、24時間45分攪拌した。その後、該反応液に、Na₂SO₃水溶液を加え反応を停止させ、酢酸エチルで抽出した。有機層を1M NaOH水溶液、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をろ過後、ろ液を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝3：1）にて精製し、標題のチアゾール化合物（1C-41）を白色固体物質（1.57 g, 4 steps, 47%）として得た。

実施例５
5-クロロ-2-{[3-(トリフルオロメトキシ)フェニル](メタンスルファニル)]-1,3-チアゾール（化合物1A-81）の合成

ナスフラスコ中、2-{[3-(トリフルオロメトキシ)フェニル](メタンスルファニル)}-1,3-チアゾール（1A-148, 1.0 g, 3.43 mmol）をDMF（10 ml）に溶解し、室温にてNCS（690 mg, 5.15 mmol）を加え、該溶液を室温でさらに1時間50分間攪拌した。該反応液に硫酸ナトリウム水溶液を加え反応を停止し、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶液をろ過後、ろ液を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝20：1）にて精製し、標題のチアゾール化合物（1A-81）を淡黄色油状物質（240 mg, 21%）として得た。

実施例６
5-クロロ-2-{[3-(トリフルオロメトキシ)フェニル](メタンスルホニル)}-1,3-チアゾール（化合物1C-85）の合成

ナスフラスコ中、実施例５で得られたチアゾール化合物（1A-81)（240 mg, 0.737 mmol）をクロロホルム（5 ml）に溶解し、該溶液に、室温にてmCPBA（450 mg, 1.84 mmol）を加え、21時間攪拌した。該反応液を、硫酸ナトリウム水溶液を加え反応を停止させた。得られた反応液を酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水酸化ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶液をろ過後、ろ液を減圧下濃縮した。残渣をヘキサンに懸濁させ、ろ別し、標題のチアゾール化合物（1C-85）を白色固体物質（180 mg, 76%）として得た。

実施例７
5-ブロモ-2-{[2-(2,2,2-トリフルオロエトキシ)-6-クロロフェニル](メタンスルファニル)}-1,3-チアゾール（化合物1A-127）の合成

ナスフラスコ中、2-{[2-(2,2,2-トリフルオロエトキシ)-6-クロロフェニル](メタンスルファニル)}-1,3-チアゾール（1A-149, 690 mg, 2.03 mmol）をDMF（15 ml）に溶解した。該溶液に、氷冷下にてNBS（430 mg, 2.44 mmol）を加え、室温へ昇温し、65時間攪拌した。該反応液に、硫酸ナトリウム水溶液を加えて反応を停止し、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶液をろ過後、ろ液を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝7：1）にて精製し、標題のチアゾール化合物（1A-127）を白色固体（670 mg, 79%）として得た。

実施例８
5-ブロモ-2-{[2-(2,2,2-トリフルオロエトキシ)-6-クロロフェニル](メタンスルホニル)}-1,3-チアゾール（化合物1C-161）の合成

ナスフラスコ中、実施例７で得られたチアゾール化合物（1A-127, 210 mg, 0.5 mmol）をクロロホルム（20 ml）に溶解し、該溶液に室温でmCPBA（310 mg, 1.25 mmol）を加え、18時間攪拌した。該反応液に、硫酸ナトリウム水溶液を加え反応を停止させ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶液をろ過後、ろ液を減圧下濃縮し、標題のチアゾール化合物（1C-161）を白色固体（230 mg, quant.）として得た。

実施例９
5-クロロ-2-{[2-エトキシ-5,6-ジクロロフェニル][ジデューテリウム(メタンスルホニル)]}-1,3-チアゾール（化合物1C-130）の合成

ナスフラスコ中、5-クロロ-2-[(2-エトキシ-5,6-ジクロロフェニル)(メタンスルホニル)]-1,3-チアゾール（1C-33、3 g、7.76 mmol）を窒素雰囲気下、THF(20 ml)、D₂O(20 ml)に溶解し、該溶液に室温でカルシウムバナジン酸アパタイト（80 mg）を加えた後、５０℃で２３時間攪拌した。該反応液を室温に戻した後、水を加え反応を停止させ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をろ過後、ろ液を減圧下濃縮し、標題のチアゾール（1C-130）を白色固体（3.1 g, quant.）として得た。

実施例１０
5-クロロ-2-{[2-(2,2,3,3-テトラフルオロプロポキシ)-6-フルオロフェニル][エタンスルホニル]}-1,3-チアゾール（化合物1C-148）の合成

ナスフラスコ中、5-クロロ-2-{[2-(2,2,3,3-テトラフルオロプロポキシ)-6-フルオロフェニル][メタンスルホニル]}-1,3-チアゾール（1C-60、250 mg、0.536 mmol）をTHF（5.36 ml）に溶解し、この溶液に氷冷下NaH（47 mg, 1.18 mmol）、CH₃I（152 mg、1.07 mmol）を加え、15分間攪拌した。この反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え反応を停止させ、酢酸エチルで抽出した。得られた酢酸エチル溶液を水洗後、飽和食塩水で洗浄し、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液をろ過後、ろ液を減圧下濃縮し、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝3：1）にて精製し、標題のチアゾール化合物（1C-148）を白色油状物質（200 mg, 78%）で得た。

上記実施例の何れかの方法に準じて、下記表１−１〜表１−５、表２−１〜表２−４及び表３に記載の本発明化合物を製造した。

本明細書における次の表記は下記のとおり、それぞれ該当する基を表す。

H：水素、D：重水素、F：フッ素、Cl：塩素、Br：臭素、Me：メチル、OMe：メトキシ、OEt：エトキシ、OnPr：ノルマル-プロポキシ、OiPr：イソプロポキシ、OnBu：n−ブトキシ、OCHF₂：ジフルオロメトキシ、OCF₃：トリフルオロメトキシ、OCH₂CHF₂：ジフルオロエトキシ、OCF₂CHF₂：テトラフルオロエトキシ、OCH₂CH₂CF₃：トリフルオロプロポキシ、OCH₂OMe：メトキシメトキシ、OBn：ベンジルオキシ、OH：水酸基、OCOMe：アセチルオキシ、OPh：フェノキシ、CN：シアノ、CF₃：トリフルオロメチル、NMe₂：ジメチルアミノ、O：酸素原子。

また、下記表４−１〜表６に各化合物の物理学的性質等を示した。なお、^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルはテトラメチルシラン（ＴＭＳ）を標準物質として測定した。

次に製剤例を示す。
製剤例１（乳剤）
本発明化合物の各々１０部を、ソルベッソ１５０の４５部及びＮ−メチルピロリドン３５部に溶解し、これに乳化剤（商品名：ソルポール３００５Ｘ、東邦化学株式会社製）１０部を加え、撹拌混合して各々の１０％乳剤を得た。

製剤例２（水和剤）
本発明化合物の各々２０部を、ラウリル硫酸ナトリウム２部、リグニンスルホン酸ナトリウム４部、合成含水酸化珪素微粉末２０部及びクレー５４部を混合した中に加え、ジュースミキサーで撹拌混合して２０％水和剤を得た。

製剤例３（粒剤）
本発明化合物の各々５部に、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム２部、ベントナイト１０部及びクレー８３部を加え十分撹拌混合した。適当量の水を加え、更に撹拌し、造粒機で造粒し、通風乾燥して５％粒剤を得た。

製剤例４（粉剤）
本発明化合物の各々１部を適当量のアセトンに溶解し、これに合成含水酸化珪素微粉末５部、PAP（酸性リン酸イソプロピル）０.３部及びクレー９３.７部を加え、ジュースミキサーで撹拌混合し、アセトンを蒸発除去して１％粉剤を得た。

製剤例５（フロアブル剤）
本発明化合物の各々２０部とポリオキシエチレントリスチリルフェニルエーテルリン酸エステルトリエタノールアミン３部、シリコーン系消泡剤〔商品名：RHODORSIL（ローダジル）(登録商標) 426R、RHODIA CHIMIE社製〕０.２部を含む水２０部を混合し、ミル（ダイノミル、Willy A Bachofen社製）を用いて湿式粉砕後、プロピレングリコール８部、キサンタンガム０.３２部を含む水６０部と混合し２０％水中懸濁液を得た。

次に本発明化合物が除草剤の有効成分として有用であることを示す。なお、本発明化合物は表１〜３に記載の化合物番号で示した。

試験例１
（※１）湛水処理除草効果試験口径８cm（約５２ｃｍ^２）のスチロールカップに篩別（２ｍｍ）した土壌（４５ｍｌ）を充填し、加水（約１１５ｍｌ）混和して湛水状態とした。１日静置した後、ミズアオイ（コナギ）、ヒメタイヌビエ、タマガヤツリ、イヌホタルイを播種した。本発明化合物をそれぞれアセトンに溶解し、ツィーン（Tween）80(登録商標)を含む水で希釈した薬液を１区当たり１ｍｌ（薬量２ｋｇ／ｈａ）となるように処理区内全面に滴下処理した。処理後ガラス室内にて植物を生育させ、２１日目に除草活性を肉眼観察により調査し、以下の判定基準に従い評価した。

（※２）湛水処理除草効果試験口径１３ cm（約１３０ｃｍ^２）のスチロールカップに泥土状態の土壌（５００ｍｌ）を充填し、加水（約３００ｍｌ）混和して湛水状態とした。１日静置した後、ヒメタイヌビエを播種した。ヒメタイヌビエが２−２．５葉期まで成長したとき、本発明化合物をそれぞれアセトンに溶解し、ツィーン（Tween）80(登録商標)を含む水で希釈した薬液を１区当たり１ｍｌ（薬量０．２ｋｇ／ｈａ）となるように処理区内全面に滴下処理した。処理後ガラス室内にて植物を生育させ、２１日目に除草活性を肉眼観察により調査し、以下の判定基準に従い評価した。
[供試植物]
ECHDG=ヒメタイヌビエ（Echinochloa crus-galli (L.) P.Beauv. var. formosensis Ohwi）、MONVA=コナギ(Monochoria vaginalis)、SCIJU=イヌホタルイ(Scirpus juncoides)、CYMIC=カヤツリグサ(Cyperus microiria)。

その結果を表７−１〜表７−５及び表８に示した。
[判定基準]
０：生育抑制効果が１０％未満である。
１：生育抑制効果が１０％以上３０％未満である。
２：生育抑制効果が３０％以上５０％未満である。
３：生育抑制効果が５０％以上７０％未満である。
４：生育抑制効果が７０％以上９０％未満である。
５：生育抑制効果が９０％以上、又は完全枯殺である。

試験例２
上記試験例1（※２）の方法に準じた方法で、下記比較化合物Ａ及びＢ（特開２００３−０９６０５９記載の化合物）の除草活性を評価した。

＜試験結果＞
その結果、比較化合物Ａは１０％以上３０％未満の生育抑制効果を、比較化合物Ｂは３０％以上５０％未満の生育抑制効果を示した。

これに対して、上記表７より選抜した本発明化合物1C-6,1C-16, 1C-19, 1C-20, 1C-21, 1C-33, 1C-38, 1C-39, 1C-41, 1C-42, 1C-48, 1C-49, 1C-50, 1C-51, 1C-52, 1C-54, 1C-55, 1C-56, 1C-71, 1C-91, 1C-131, 1C-132, 1C-133, 1C-134, 1C-135, 1C-140, 1C-151, 1C-152, 1C-153, 1C-154, 1C-158, 1C-159, 1C-160, 1C-162，1C-163，1C-175，1C-176，1C-179，1C-180及び1C-185は生育抑制効果が９０％以上、又は完全枯殺であった。

試験例３
（※３）土壌処理除草効果試験口径８cm（約５２ｃｍ^２）のスチロールカップに篩別（２ｍｍ）した土壌（４５ｍｌ）を充填し、加水（約１１５ｍｌ）した後、メヒシバを播種した。本発明化合物をそれぞれアセトンに溶解し、ツィーン（Tween）80(登録商標)を含む水で希釈した薬液を１区当たり１ｍｌ（薬量２ｋｇ／ｈａ）となるように処理区内全面に滴下処理した。処理後ガラス室内にて植物を生育させ、２１日目に除草活性を肉眼観察により調査し、以下の判定基準に従い評価した。

下記比較化合物Ａ及びＢ（特開２００３−０９６０５９記載の化合物）の除草活性を評価した。

＜試験結果＞
その結果、比較化合物Ａ及び比較化合物Ｂは３０％以上５０％未満の生育抑制効果を示した。

これに対して、本発明化合物1C-2、1C-5、1C-8、1C-9、1C-12、1C-14、1C-15、1C-19、1C-20、1C-21、1C-27、1C-29、1C-31、1C-33、1C-36、1C-37、1C-38、1C-39、1C-41、1C-42、1C-43、1C-44、1C-46、1C-48、1C-49、1C-50、1C-51、1C-52、1C-53、1C-54、1C-55、1C-56、1C-57、1C-58、1C-59、1C-60、1C-61、1C-62、1C-63、1C-64、1C-71、1C-75、1C-76、1C-81、1C-82、1C-83、1C-95、1C-99、1C-101、1C-102、1C-103、1C-104、1C-108、1C-119、1C-127、1C-129、1C-138、1C-140、1C-141、1C-142、1C-143、1C-145、1C-146、1C-147、1C-148、1C-149、1C-150、1C-152、1C-153、1C-160、1C-161、1C-162、1C-164、1C-165、1C-170、1C-171、1C-172、1C-175、1C-178、1C-179、1C-180、1C-185、1A-49、1A-50、1A-57、1A-58、1A-59、1A-117、1A-140、1A-147、1B-3、1B-5、1B-7、1B-10、1B-11、1B-12、1B-13、1B-14、1B-16および1B-29は生育抑制効果が50％以上で、そのうち1C-2、1C-5、1C-8、1C-12、1C-14、1C-19、1C-20、1C-21、1C-27、1C-31、1C-33、1C-36、1C-37、1C-38、1C-41、1C-42、1C-43、1C-44、1C-46、1C-48、1C-49、1C-50、1C-51、1C-52、1C-53、1C-54、1C-55、1C-56、1C-57、1C-60、1C-61、1C-81、1C-83、1C-102、1C-108、1C-140、1C-141、1C-142、1C-143、1C-146、1C-148、1C-149、1C-152、1C-160、1C-162、1C-170、1C-175、1C-179、1A-49、1A-57、1A-117、1A-140、1A-147、1B-3、1B-5、1B-7、1B-10、1B-11、1B-12、1B-13、1B-14、1B-16および1B-29は生育抑制効果が９０％以上、又は完全枯殺であった。

関連出願との相互参照
本出願は、２０１７年２月２６日に出願された日本国特許出願第２０１７−０３４２３１号の優先権を主張し、その開示の全てをここに援用する。

Claims (10)

1. 一般式（１）：
   

   

   ［式中、Ｒ^１及びＲ^２は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を示す。
   Ｒ^３及びＲ^４は、同一又は異なって、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、ＣＯＲ^１０基又はＣＯＯＲ^１１基を示す。
   Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ＯＣＯＲ^１２基、ＣＯＲ^１３基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいシリルオキシ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換スルフィド基、置換スルフィニル基、置換スルホニル基又はＯＳＯ_２Ｒ^１４基を示し、
   前記Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９のうち少なくとも一つは、水酸基、ＯＣＯＲ^１２基、ＣＯＲ^１３基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいシリルオキシ基、シアノ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換スルフィド基、置換スルフィニル基、置換スルホニル基又はＯＳＯ_２Ｒ^１４基を示す。
   Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３及びＲ^１４は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を示す。
   ｎは０、１又は２を示す。]
   で表されるチアゾール化合物又はその塩。
2. Ｒ^１が、水素原子、ハロゲン原子又は無置換のアルキル基である、請求項１に記載のチアゾール化合物又はその塩。
3. Ｒ^２が、ハロゲン原子又はハロアルキル基である、請求項１又は２に記載のチアゾール化合物又はその塩。
4. Ｒ^３及びＲ^４が、同一又は異なって、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、無置換のアルキル基、ＣＯＣＨ_３基又はＣＯＯＣＨ_３基である、請求項１〜３の何れか一項に記載のチアゾール化合物又はその塩。
5. 前記Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９のうち、Ｒ^５及びＲ^９のどちらか一方又はその両方が、水酸基、ＯＣＯＲ^１２基、置換基を有していてもよいシリル基、置換基を有していてもよいシリルオキシ基、シアノ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換スルホニル基又はＯＳＯ_２Ｒ^１４基である請求項１〜４の何れか一項に記載のチアゾール化合物又はその塩。
6. Ｒ^５及びＲ^９のうち少なくとも一つが、無置換のアルコキシ基又はハロアルコキシ基である、請求項１〜５の何れか一項に記載のチアゾール化合物又はその塩。
7. Ｒ^７が、水素原子、無置換のアルコキシ基又はハロアルコキシ基である、請求項１〜６の何れか一項に記載のチアゾール化合物又はその塩。
8. Ｒ^７が、無置換のアルコキシ基又はハロアルコキシ基である、請求項１〜７の何れか一項に記載のチアゾール化合物又はその塩。
9. Ｒ^７が、水素原子である、請求項１〜７の何れか一項に記載のチアゾール化合物又はその塩。
10. 請求項１〜９の何れか一項に記載のチアゾール化合物又はその塩を含有する除草剤。
    
    

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