JPS6339867A - 3−アリ−ル−4−置換イソオキサゾ−ル誘導体、その製造方法およびそれらを含有する農園芸用殺菌剤 - Google Patents

3−アリ−ル−4−置換イソオキサゾ−ル誘導体、その製造方法およびそれらを含有する農園芸用殺菌剤

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JPS6339867A
JPS6339867A JP18185586A JP18185586A JPS6339867A JP S6339867 A JPS6339867 A JP S6339867A JP 18185586 A JP18185586 A JP 18185586A JP 18185586 A JP18185586 A JP 18185586A JP S6339867 A JPS6339867 A JP S6339867A
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formula
atom
halogen atom
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Application number
JP18185586A
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Kengo Oda
小田 研悟
Tsutomu Ishii
勉 石井
Koji Fukushi
幸治 福士
Hitoshi Shimotori
下鳥 均
Shunichi Inami
俊一 稲見
Takeshi Sekino
関野 武
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Publication date
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  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
  • Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は新規な3−了り−ルー4−置換イソオキサゾー
ル誘導体、その製造方法および核化合物を有効成分とし
て含有する農園芸用殺凹剤に関する。
〔従来の技術〕
従来よりイソオキサゾール環を持つ化合物については、
多くの研究がなされており、特徴ある生理活性化合物が
数多く見出されている。特に半合成ペニシリンおよび半
合成セファロスポリンの部分構造として、イソオキサゾ
ール環を持つ化合物が多数合成されその生理活性が研究
されている6農園芸用に限れば、殺菌剤として3−ヒド
ロキシ−5−メチルイソオキサゾール(タチガレン)、
殺虫剤として0.0−ジエチル−〇−(5−フェニルイ
ソオキサゾール−3−イル)ホスホロチオエート(カル
ホス)、除草剤として3   (3−tert−ブチル
イソオキサゾール−3−イル) −1,1−ジメチルウ
レア(イソウロン)等が実用に供されている。
本発明に類似の3−了り−ルー4−置換イソオキサゾー
ル誘導体としては、特開昭54−79274号公報およ
び米国特許4187099号に一般式(1)においてY
がカルボン酸誘導体である化合物が植物成長調節剤およ
び除草剤として開示されている。
また、米国特許3578673号には、3−(4−ニト
ロ置換フェニル)−4−へロイソオキサゾール誘導体の
製造方法と該誘導体の殺虫剤、除草剤及び殺菌剤として
の活性について開示されているが、その製造方法で製造
できるのは、イソオキサゾール環の3位の置換フェニル
基は4位にニトロ基を持つものに限られ、その殺菌活性
は一般細菌に対してのin vttro試験のみであり
、実際、植物病原菌に対しては極めて弱いものである。
製造方法として他に、カナデイアン ジャーナル オン
 ケミストリー(Can、J、Chem、)、48.3
753〜3755頁(1970年)に、3−(2,6−
ジクロロフェニル)−4−クロロイソオキサゾールの合
成方法が記載されているが、反応中間体である2、6−
シクロロペンゾニトリルオキサイドが安定であることが
必要とされ一般性に乏しい。また、ケミカル アプスト
ラクツ(C,A、)、 56.34654(1962)
に3−アリール−4,5−無置換イソオキサゾールの4
位のハロゲン化方法、同70巻、 68225e (1
969)にベンゾニトリルオキサイドとビニレン カー
ボネー14用いる3−フェニル−4−ヒドロキシイソオ
キサゾール誘導体の合成方法が記載されているがどちら
も極めて低収率であり、それら化合物の生理作用につい
ては触れられていない。
各種作物の病害の中で、灰色カビ病は重要病害として知
られ、それを防除するためにジチオカーバメイト系薬剤
、チオファネートメチル剤、ジクロフルアニド剤等が用
いられてきたが、活性が不十分であり、その上耐性面の
問題が現われてきた。
そこで、新たな防除剤の研究が続けられ、現在ではプロ
シミドン、ビンクロゾリン等のN−フェニルイミド系化
合物が開発され世界的に実用に供されつつあるが、これ
らについても既にその耐性菌が問題視され始めている〔
参考文献;日植病報。
48巻、89頁(1982)、同報、48巻1210頁
〜216頁(1982)、同報、48巻、547頁〜5
50頁(1982) )。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明は、前記従来技術の問題点を解決するために新し
い構造、広い殺菌スペクトラムおよび高い殺菌活性を示
す優れた殺菌性化合物、その製造方法、さらにそれらを
有効成分として含有する殺菌剤を提供することを課題と
する。
すなわち、一般殺菌のみならず各種植物の灰色カビ病を
始めうどんこ病、疫病等の植物病害菌に対しても高い殺
菌活性を示す化合物、それらの簡便で好収率かつ汎用性
のある製造方法、およびそれらを有効成分として含有す
る殺菌剤を提供することを課題とする。
〔課題を解決するための手段および作用〕本発明者らは
前記課題を解決すべくイソオキサゾール誘導体の植物病
原菌に対する生理作用について種々検討した結果、3−
了り−ルー4−置換イソオキサゾール誘導体が各種植物
の灰色カビ病を始めうどんこ病、疫病等の植物病害菌に
対して高い殺菌活性を示すことを見出し本発明を完成し
た。
すなわち、本発明は一般式(I): 〔式中、Xは同一または異なっていてもよ<、/Sロゲ
ン原子、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基ま
たはシアノ基を示し、nは1から5までの整数を示し、
Yはハロゲン原子または−A−R1を示しく式中、Aは
酸素原子、硫黄原子、−NH−基または−NR”−基を
示し、R1、R2は同一または異なっていてもよ(、水
素原子、低級アルキル基、シアノ基、低級アルケニル基
、低級アルキニル基、低級ハロアルキル基、低級アルコ
キシカルボニル基、低級アルコキシカルボニル低級アル
キル基、低級ハロアルキルカルボニル基、低級シアノア
ルキル基、低級アシル基または低級アルキルカルバモイ
ル基を示す)ただし、Xnが2.6−ジクロル基で、Y
が塩素原子である場合を除く〕で表わされる3−アリー
ル−4−置換イソオキサゾール誘導体である。
さらに、本発明は一般式(■): C式中、Xは同一または異なっていてもよく、ハロゲン
原子、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基また
はシアノ基を示し、nは1から5までの整数を示し、Y
はハロゲン原子または−A−R1を示しく式中、Aは酸
素原子、硫黄原子、−NH−基または−NR”−基を示
し、R1,R1は同一または異なっていてもよく、水素
原子、低級アルキル基、シアノ基、低級アルケニル基、
低級アルキニル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキ
シカルボニル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキ
ル基、低級ハロアルキルカルボニル基、低級シアノアル
キル基、低級アシル基または低級アルキルカルバモイル
基を示す)〕 で表わされる3−アリール−4−置換イソオキサゾール
誘導体を有効成分として含有することを特徴とする農園
芸用殺菌剤をも提供する。
本発明らは、更に前記一般式(1)および(II)で表
わされる本発明化合物を含む3−アリール−4−置換イ
ソオキサゾール誘導体の製造方法についても鋭意検討し
た結果、好収率で目的物を得る方法を見出し本発明を完
成した。
すなわち、本発明は一般式(■): (式中、Xlは同一または異なっていてもよく、水素原
子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基
、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基、低級ア
ルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、低級ハロ
アルキルスルホニル基、低級ハロアルキルスルホニルオ
キシ基または低級ハロアルコキシスルホニル基を示し、
nは1から5までの整数を示し、R3は低級アルキル基
を示す)で表わされる化合物をハロゲン化し、−C式(
m:(式中、X’、 nおよびR3は前記と同し意味を
示し、Ylはハロゲン原子を示す) で表わされる化合物を得、次いで該化合物を加熱するか
、または塩基と反応させることを特徴とする一般式(■
): (式中、X’% nおよびYlは前記と同じ意味を示す
)で表わされる3−アリール−4−置換イソオキサゾー
ル誘導体の製造方法、 一般式(■): (式中、XIは同一または異なっていてもよく、水素原
子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基
、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基、低級ア
ルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、低級ハロ
アルキルスルホニル基、低級ハロアルキルスルホニルオ
キシ基または低級ハロアルコキシスルホニル基を示し、
nは1から5までの整数を示し、R3は低級アルキル基
を示し、Y”はハらゲン原子を示す) で表わされる化合物と一般式 %式% (式中、Aは酸素原子、硫黄原子、−NH−基または−
NR”−基を示し、RISRZは同一または異なってい
てもよく、水素原子、低級アルキル基、シアノ基、低級
アルケニル基、低級アルキニル基、低級ハロアルキル基
、低級アシル基または低級アルキルカルバモイル基を示
す) で表わされる化合物を反応させることを特徴とする一般
式(■): (式中、xl、nsAおよびR1は前記と同じ意味を示
す) で表わされる3−アリール−4−置換イソオキサプール
誘導体の製造方法、および 一般式(■): (式中、XIは同一または異なっていてもよく、水素原
子ζハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基
、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基、低級ア
ルコキシカルボニル基、シアノa、(mmハロアルキル
スルホニル基、低級ハロアルキルスルホニルオキシ基ま
たは低級ハロアルコキシスルホニル基を示し、nは1か
ら5までの整数を示し、Bは酸素原子または硫黄原子、
−NH−基または−NR’−基を示し、R4は低級アル
キル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級ハ
ロアルキル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アル
コキシカルボニル低級アルキル基、低級ハロアルキルカ
ルボニル基、低級シアノアルキル4、低級アシル基、低
級ハロアルキルスルホニル基、低級ジアルキルホスホリ
ル基、低級ジアルキルチオホスホリル基または低級アル
キルカルバモイル基を示し、Zはハロゲン原子を示す)
で表わされる化合物と一般式 (式中、R5は低級アルキル基、低級アルケニル基、低
級アルキニル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキシ
カルボニル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル
基、低級ハロアルキルカルボニル基、低級シアノアルキ
ル基、低級アシル基、低級ハロアルキルスルホニル基、
低級ジアルキルホスホリル基、低級ジアルキルチオホス
ホリル基または低級アルキルカルバモイル基を示し、Z
はハロゲン原子を示す) で表わされる化合物、または一般式 %式% (式中、R6は低級アルキル基を示す)で表わされる化
合物を反応させることを特徴とする一般式(■): (式中、Wは−B−R’または一〇〇NHR6を示し、
X’、 n−B、 R’および96は前記と同し意味を
示す) で表わされる3−アリール−4−置換イソオキサゾール
誘導体の製造方法である。
ここで、ハロゲン原子とはフッ素原子、塩素原子、臭素
原子およびヨード原子を意味する。また低級アルキル基
等の低級とは炭素数1から5までを意味し、アルキルと
は鎖状および分岐した炭素鎖を意味する。
さらに、一般式(1)および(II)で表わされる本発
明化合物を含む3−アリール−4−置換イソオキサゾー
ル誘導体の製造方法を反応図式Iおよび2に示し、以下
に詳しく説明する。
反応図式1 %式%(1) (式中、X’、 n、 Y’、A、B、W、R’、R3
、R5およびR6は前記の意味を示す) すなわち、一般式(ilI)で表わされる2−イソオキ
サゾリン誘導体を不活性溶媒中、ラジカル発生剤または
光の存在下、適当なハロゲン化剤と反応させて中間体(
IV)を得ることができる。不活性溶媒としてはベンゼ
ン、クロロヘンゼン等の芳香族化合物、クロロホルム、
四塩化炭素、1,1,2゜2−テトラクロロエタン等の
脂肪族ハロゲン化物を使用することができるが、四塩化
炭素、ベンゼンで特に良好な結果を得ることができる。
ラジカル発生剤としてはベンゾイルパーオキサイド等の
パーオキサイド類、α、α−アゾビスイソブチロニトリ
ル等が挙げられる。
本反応で使用される光源は、紫外線ランプ、可視光線ラ
ンプ、赤外線ランプ等が挙げられる。
ハロゲン化剤としては、N−ブロモこはく酸イミド、N
−クロロこは(酸イミド、N〜ジブロモセトアミド等の
N−ハロゲノ化合物、塩素、臭素、塩化スルフリル、臭
化スルフリル等を用いることができる。
反応温度および反応時間は出発原料に応じて広範囲に変
化させることができるが、−船釣には反応温度は60℃
〜100℃付近の溶媒の還流温度が好適であり、不活性
気体の雰囲気化で反応させてもよい0反応時間は通常1
〜50時間である。
また、このとき出発原料によっては3−了り−ル基の核
あるいは置換基を同時にハロゲン化させることもできる
一般式(IV)で表わされる化合物を適当な溶媒に溶解
し酸受容体を加えるか、酸受容体なしに無溶媒あるいは
適当な溶媒中で加熱することによって一般式(V)で表
わされる化合物を得ることができる。酸受容体としては
トリエチルアミン、ピリジン、1.8−ジアザビシクロ
(5,4,0)ウンデセン(D B U)等の三級アミ
ン類、アルカリ金属のフッ化物および炭酸塩等が用いら
れる。この場合、溶媒としてアセトン、ジメチルホルム
アミド、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、クロロ
ホルム、トルエン等の不活性溶媒を用いることができる
1反応は一り0℃〜その溶媒の還流温度で、0.1〜5
時間行われる。酸受容体なしで加熱する場合、用いる溶
媒としてジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、1.3−ジメチ
ル−2−イミダゾリジノン(DMT)、キシレン、0−
ジクロロベンゼン等が挙げられる。反応は70℃〜その
溶媒の還流温度で、0.1〜5時間行われる。無溶媒の
場合、反応温度は100〜220℃で、反応時間は0.
1〜1時間である。
−II式(IV)で表わされる中間体は、さらに一般式
R’−A−Hと適当な溶媒中で反応することにより一般
式(Vl)で表わされる化合物を得ることができる。
この反応では酸受容体が必要であるが、反応試剤が塩基
性を有している場合は反応試剤自身を酸受容体としても
良い。酸受容体としてはアルカリ金属の水素化物、水酸
化物あるいは炭酸塩、アルカリ土類金属の水酸化物、3
級アミン類または反応試剤自身のアルカリ金属塩、アル
カリ土類金属塩あるいは4級アンモニウム塩等を用いる
ことができる0反応溶媒としてはアセトン、テトラヒド
ロフラン、アセトニトリル、クロロホルム、ベンゼン、
トルエン、クロロベンゼン、酢酸、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセ
トアミド、1.3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(
DMr)等の不活性溶媒を用いることができる。好まし
い反応温度は、反応試剤によって異なり一10〜100
°Cであるが、加圧下で反応混合物の沸点以上の温度を
使用することもできる0反応時間は、0.1〜15時間
である。
反応条件によっては一般式(■°)または(■”)で表
わされる化合物を中間体として単離することもできる。
一般式(■°)で表わされる化合物は適当な溶媒に溶解
し酸受容体を加えるか、酸受容体なしに無溶媒あるいは
適当な溶媒中で加熱することによって容易に一般式(V
)で表わされる化合物を得ることができる。酸受容体と
してはトリエチルアミン、ピリジン、1.8−ジアザビ
シクロ〔5゜4.0〕 ウンデセン(DBU)等の三級
アミン類、アルカリ金属のフン化物および炭酸塩等が用
いられる。この場合、溶媒としてアセトン、ジメチルホ
ルムアミド、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ク
ロロホルム、トルエン等の不活性溶媒を用いることがで
きる。反応は一り0℃〜その)容媒の還流温度で、0.
1〜5時間で行われる。酸受容体なしで加熱する場合、
用いる溶媒としてジメチルスルホキシド、スルホラン、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、1,3
−ジメチル−2−イミダゾリジノン(DMり、キシレン
、〇−ジクロロベンゼン等が挙げられる。反応温度は、
70゛C〜その溶媒の還流温度で、0.1〜5時間行わ
れる。無溶媒の場合は、反応温度は100〜220℃で
、反応時間は0.1〜1時間である。また一般弐(■”
)で表わされる化合物は硫酸等の酸性触媒の存在下、1
50〜220℃で0.1〜1時間加熱することによって
容易に一般式(Vl)で表わされる化合物に導くことが
できる。
なお、一般式(V)および(Vr)で表わされる化合物
は一般式(I[[)で表わされる化合物から中間体を単
離せずに合成することもできる。
一般式(■)で表わされる化合物は反応図式2に示す方
法によって、−i式(■)で表わされる化合物と所望す
るハロゲン化物または低級アルキルイソシアネートを反
応させることにより得ることができる。反応は有機溶媒
中0〜50℃、好ましくは5℃〜室温で1〜24時間行
う。ハロゲン化物を反応させる場合、反応試剤によって
は酸受容体が必要である。有機溶媒としてはアセトン、
ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、アセトニ
トリル、クロロホルム、トルエン等の不活性溶媒が用い
られ、酸受容体としてはアルカリ金属の水素化物、水酸
化物あるいは炭酸塩、アルカリ土類金属の水酸化物、3
級アミン類等の有機、無機の塩基を用いることができる
。3級アミンは溶媒替わりに用いることもできる。低級
アルキルイソシアネートを反応させる場合トリエチルア
ミン、ピリジン等の三級アミンを触媒量加えてもよい。
このようにして得た所望のイソオキサゾール誘導体は再
結晶、カラムクロマトグラフィー、蒸留等の常法によっ
て容易に単離精製できる。
なお、原料として用いた前記一般式(III)で表わさ
れる化合物は、対応するニトリルオキサイドと低級アル
キルカルボン酸のビニルエステルを反応させることによ
り製造することができる。ニトリルオキサイドは一般に
不安定で自己縮合しやすいものが多いので単離せずに用
いる方が良い。
すなわち、以下の反応式に従って、 ([11)   6 適当なヒドロキサム酸クロリドと低級アルキルカルボン
酸のビニルエステルを塩基条件下に反応させることによ
り反応液中においてニトリルオキサイドを生成させ、そ
のニトリルオキサイドと低級アルキルカルボン酸のビニ
ルエステルとの環状付加反応により製造することができ
る。
本発明に係わる前記一般式(T)および(U)により表
わされるイソオキサゾール誘導体を有効成分とする農園
芸用殺菌剤をは各種植物の灰色カビ病を始めうどんこ病
、疫病等の病害菌類によってひきおこされる病害に対し
て有効である。主な防除対象病害としては、 キュウリ
灰色カビ病、インゲン灰色カビ病、タマネギ灰色カビ病
、ナス灰色カビ病、キュウリうどんこ病、ナスうどんこ
病、ジャガイモ疫病、トマト疫病等が挙げられる。
本発明化合物を実際に施用する場合には、他の成分を加
えずに草味の形でも使用できるが、防除薬剤として使い
やすくするため担体を配合して適用するのが好ましい。
本発明化合物の製剤化に当たっては、何らの特別の条件
を必要とせず、−iM薬に準じて当業技術の熟知する方
法によって乳剤、水和剤、粉剤、粒剤、微粒剤、油剤、
エアゾール等の任意の剤型に調整でき、これらをそれぞ
れの目的に応じた各種用途に供し得る。
ここでいう担体とは、処理すべき部位への有効成分の到
達を助け、また有効成分化合物の貯蔵、輸送、取扱いを
容易にするために配合される合成または天然の無機また
は有機物質を意味する。
適当な固体担体としてはモンモリロナイト、カオリナイ
トなどの粘土類;ケイソウ土、白土、タルク、バーミキ
ュライト、石膏、炭酸カルシウム、シリカゲル、硫安な
どの無機物質;大豆粉、鋸屑、小麦粉などの植物性有機
物質;および尿素などが挙げられる。
適当な液体担体としてはトルエン、キシレン、クメンな
どの芳香族炭化水素類;ケロシン、鉱油などのパラフィ
ン系炭化水素類;四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロ
エタンなどのハロゲン化炭化水素類;アセトン、メチル
エチルケトンなどのケトン類ニジオキサン、テトラヒド
ロフランなどのエーテル類;メタノール、エタノール、
プロパツール、エチレングリコールなどのアルコール類
;ジメチルホルムアミド;ジメチルスルホキシド;水な
どが挙げられる。
さらに本発明化合物の効力を増強するために、製剤の剤
型、適用場面等を考慮して、乳化、分散、拡展、湿潤、
結合、安定化等の目的に応じて種々の補助剤を、それぞ
れ単独に、または組合わせて使用することもできる。そ
のような補助剤の例としては、リグニンスルホン酸塩な
どの水溶性塩基;アルキルベンゼンスルホン酸塩等のア
ニオン界面活性剤;アルキル硫酸エステル、ポリオキシ
アルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンア
ルキルアリールエーテル、ポリオキシアルキレンアルキ
ルアミン、ポリオキシアルキレンアルキルアミド、ポリ
オキシアルキレンアルキルチオエーテル、ポリオキシア
ルキレン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、
ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキジアルキレンツル
ビクン脂肪酸エステル、ポリオキシブロビレンポリオキ
シェチレンブロフクボリマー等の非イオン性界面活性剤
ニステアリン酸カルシウム、ワックス等の滑剤;イソプ
ロピルヒドロジエンホスフェート等の安定剤;メチルセ
ルロース、カルボキシメチルセルロース、カゼイン、ア
ラビアゴム等その他の添加剤が挙げられる。しかし、こ
れらの成分は以上のものに限定されるものではない。
さらにこれら本発明化合物は2種以上の配合使用によっ
て、より優れた殺菌力を発現させることも可能であり、
また他の生理活性物質、例えば他の殺菌剤や殺虫剤、殺
ダニ剤、殺線虫剤、除草剤、植物成長調整剤、肥料、B
T剤、昆虫ホルモン剤、その他の農薬等と混合すること
によりさらに効力の優れた多目的組成物をつくることも
でき、また相乗効果も期待できる。なお、本発明化合物
は光、熱、酸化等に安定であるが、必要に応じ酸化防止
剤あるいは紫外線吸収剤、例えばBHT(2,6−ジー
t−ブチル−4−メチルフェノール)、BHA(ブチル
ヒドロキシアニソール)のようなフエノル誘導体、ビス
フェノール誘導体、またはフェノール−α−ナフチルア
ミン、フェニル−β−す7チルアミン、フェネチジンと
アセトンの縮合物等のアリールアミン類あるいはベンゾ
フェノン系化金物類を安定剤として適景加えることによ
って、より効果の安定した組成物を得ることができる。
本発明化合物の組成物の有効成分量は通常粉剤では0.
5〜20重量%、乳剤では5〜30重量%、水和剤では
10〜90重量%、フロワブル剤では10〜90重量%
である。
〔実施例〕
本発明に係わる化合物の代表例を第1表に揚げ、その製
造方法を具体的に説明するために、以下に代表的な合成
例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない
第1表 化合物No、  Xn    Y   敗屯(’C)、
n:’   NMR6r1.lsCppm)I招某 1  3−CI    Br     5B、5〜60
.OB     8.862  4−CI    Br
     58.0〜61.5    A     8
.513  3−Br    Br     56.0
〜57.5    A     8.484  2.3
−Cb  Br     73.0〜74.OA   
  8.585  2.4−CI2  Br     
4B、5〜49.3    A     8.606 
 3−CI    CI、    45.0〜45.6
    A     8.507  3.5−C1□B
r     88.0−88.5    B     
8.468  2−CI    Br     1.5
903       B     8.469  3.
4−C1z  Br     87.5〜89.OB 
    8.4710  4−F     Br   
  80.0〜81.5    B     8.47
11  3−CI   N(CHs)z   63.5
〜65.5    B     8.0212  3.
5−CIZ  CI     82.5〜84.0  
  B     8.52134−CF3Br1.52
05B8.491■肛1皇) Haの化学シフト 化合物No、  Xn    Y   融点(℃)、n
二’   NMR6rss (ppaa>溶媒 14  3−c+    QC)I、    1.57
16     B    8.0915  3−CI 
   SCN     1.6047     B  
  8.8016  3−OCHFz  C11,52
04B    8.4517  2−CI    CI
     1.5681     B    8.50
18  2−CI    SCN     1.592
8     B    8.8619  2−CI  
  OCH:+    1.5712     B  
  8.1020  3−CI    0COCH,1
,5560B   ’8.8521  3−F    
Br     53.0〜55.OA    8.50
22  3−F    C11,5520A    8
.4423  3−CI   0CthCミCH1,5
757A    8.2924  3−CI   0C
ONHCI+3  65.0−釘、5   A    
8.8025  3−CI、4−F  Br     
82.0〜83.5   B    8.4426  
3−Br    C150,O〜5L、OA    8
.5027  4−CN    Br     115
.0〜117.OA    8.6328  2.4−
C1z  0CONHCHt   65.0〜68.5
   B    8.84第1表(vtき) Haの化学シフト 化flグNo、  Xn      Y     EV
、、  (℃)、n:’    NMRδrss  (
ppm)溶媒 29  2.4−CIt  0CII2C1+、CL 
 88.0〜89.OB    8.0830  3−
CI   0CIhCII=CHz  1.5638 
    B    8.0131  3−CI   0
CJI(Cth)z  1.5438     B  
  7.9832  3−CI    0CtlFz 
   1.5301     B    8.4333
  2’CI   0CHzC=C)l  1.567
8     B    8.2634  2−CI  
 0CONHCHz   85.0〜86.OB   
 8.7935  2−C10C1(、CO□Cl+3
1.5446     B    8.2336  4
−CI    0CIlzCミCH81,0〜82.0
  −    −37  3−CI    OCR,C
N   87.0〜88.5   A    8.44
38  4−CI    QC)12CN   98.
0〜99.5   A    8..1239  2−
CI    O)l     90.0〜93.5  
 C8,38403−CI    Of(107,0〜
110.OC8,46414−CI    OH150
,0〜152.0  C8,41422−CI    
SH1,5970B    8.4243  2−c+
    SCH31,5895B    8.4]第1
表(続き) Haの化学シフト 化合物No、Xn    Y   融点(℃) + n
 ;ONMRδrns (ppm)l舅某 44  2−CI   5CHzC−CH1,5929
−−453−F    5C)12CミCI  1.5
824      B    8.6046  3−F
     5CHs    1.5769     B
    8.3547  3−CI    SCH2C
MCH1,6063B     8.5648  3−
CI    5c)Iff    1.6036   
   B    8.3349  3−CI    5
CI(F□  1.5589      B    8
.6350  3−CI  NHCOCR(CH3)C
I 91.5〜93.5   A    8.3051
  3−CI    N)It    1.6028 
     B    7.9852  3−CI   
 SH1,6084B    8.4553  3−C
I     1    94.0〜95.OA    
8.4854  2.6−C1z   C184,0〜
85.OA    8.60合成実施例1゜ 3−(3−クロロフェニル)−4−クロロ−5−アセト
キシ−2−イソオキサゾリンの合成3−(3−クロロフ
ェニル)−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン2.
4gをベンゼン20m lに溶解し、次いでα、α゛ 
−アゾビスイソブチロニトリルを少量ずつ加え、塩素ガ
スを吹き込みながら還流温度で14時間攪拌した。溶媒
を減圧下で留去し残渣3.3gを得た。これをシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;トルエン)に
より精製し目的物2.2gを得た。
屈折率;no20℃ 1.5644 ν””(cm”) : 3020.1756.1565
.1435.1375.1210.1050.1030
.963.880δ頻:”  (ppm)  : 2.
08(311,s)、5.10(LH,s)、6.60
(IH,s) 、7.2〜7.8(4H,m)合成実施
例2. 3−(2−クロロフェニル)−4−クロロ−5−アセト
キシ−2−イソオキサゾリンの合成3−(2−クロロフ
ェニル)−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン4.
0gをベンゼン30m lに溶解し、次いでα、α° 
−アゾビスイソブチロニトリルを少量ずつ加え、塩素ガ
スを吹き込みながら還流温度で10時間攪拌した。溶媒
を減圧下で留去し残渣5.3gを得た。これをシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;トルエン)に
より精製し目的物3.6gを得た。
屈折率;no20℃1.5502 1””t(ca−’) : 3010.1765.15
90.1435.1375.1350.1210.10
40.963δ♀櫂’  (ppm)  : 2.10
(3H,s)、5.55(1)1.s)、6.66(L
H,s) 、7.2〜7.8(4Hv+)さらに、合成
実施例1.および2.に従って以下の化合物を製造する
ことができる。3−(3−トリフルオロフェニル)−4
−クロロ−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン、3
−(3−ヨードフェニル)−4−クロロ−5−アセトキ
シ−2−イソオキサゾリン、3− (2−)リフルオロ
メチルフェニル)−4−クロロ−5−アセトキシ−2−
イソオキサゾリン、3−(3−1−リフルオロメトキシ
フェニル)−4−クロロ−5−アセトキシ−2−イソオ
キサゾリン、3−(3−ジフルオロメトキシフェニル)
−4−クロロ−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン
、3−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)−4−ク
ロロ−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン、3−(
2,3−ジクロロフェニル)−4−クロロ−5−アセト
キシ−2−イソオキサゾリン、3−(4−ニトロフェニ
ル)−4−クロロ−5−アセトキシ−2−イソオキサゾ
リン、3−(3,5−ジクロロフェニル)−4−クロロ
−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン、3−(2,
6−ジクロロフェニル)−4−クロロ−5−アセトキシ
−2−イソオキサゾリン等。
合成実施例3゜ 3−(2−クロロフェニル)−4−ブロモー5−アセト
キシ−2−イソオキサゾリンの合成3−(2−クロロフ
ェニル)−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン1.
9.0gとN−ブロモこはく酸イミド20.Ogをベン
ゼン300m1に溶解し、次いでα、α″ −アゾビス
イソブチロニトリルを少量ずつ加えながら窒素気流下還
流温度で16時間攪拌した。反応混合物を水に注ぎ込み
、酢酸エチルで抽出し、得られた酢酸エチル溶液を水洗
後乾燥した。酢酸エチルを減圧下で留去し残渣26.8
gを得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(展開溶媒;トルエン)により精製し目的物を18.6
g得た。
屈折率; nl、20’C1,5672ν″”’((J
l−’) : 3020.1778.1445.138
5.1220.1043.1036.965.860.
773δ頴?(’ppm)  : 2.17(3H,s
)、5.63(LH,s)、6.90(LH,s)、7
.3〜7.8(4H,m)合成実施例4゜ 3−(4−ジフルオロメチルフェニル)−4−ブロモ−
5−アセトキシ−2−イソオキサゾリンの合成 3−(4−ジフルオロメチルフェニル)−5−アセトキ
シ−2−イソオキサゾリン5.1gとN−ブロモこばく
酸イミド3.7gをベンゼン30m lに溶解し、次い
でα、α゛ −アゾビスイソブチロニトリルを少量ずつ
加えながら窒素気流下還流温度で12時間撹拌した0反
応混合物を水に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出し、得られ
た酢酸エチル溶液を水洗後乾燥した。酢酸エチルを減圧
下で留去し残渣6.2gを得た。これをシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(展開溶媒;トルエン)により精
製し目的物4.6gを得た。
屈折率1no20℃1.5182 W’:、::’Ccm−’)  :  3010、17
44<  1610、1515.1390.1380.
1360.1242.1230.1130.1060.
970.850 δ頴、”  (ppm)  : 2.10(3H,s)
、5.12(IH,s)、6.55(LH,t、J−7
2Hz) 、6.82(IH,s)、7.21 (2H
,d、 J−8Hz)、7.80(211,d、J=8
)1z)さらに、合成実施例3.および4.に従って以
下の化合物を製造することができる。3−(3−トリフ
ルオロフェニル)−4−ブロモ−5−アセトキシ−2−
イソオキサゾリン、3−(3−ヨードフェニル)−4−
ブロモ−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン、3−
(2−トリフルオロメチルフェニル)−4−ブロモ−5
−アセトキシ−2−インオキサゾリン、3−(3−トリ
フルオロメトキシフェニル)−4−ブロモー5−アセト
キシ−2−イソオキサゾリン、3− (3〜ジフロルオ
ロメトキシフエニル)−4−ブロモ−5−アセトキシ−
2−イソオキサゾリン、3− (3−クロロ−4−フル
オロフェニル)−4−ブロモ−5−アセトキシ−2−イ
ソオキサゾリン、3−(2,3−ジクロロフェニル)−
4−ブロモー5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン、
3−(4−ニトロフェニル)−4−ブロモ−5−アセト
キシ−2−イソオキサゾリン、3−(2,6−ジクロロ
フェニル)−4−ブロモー5−アセトキシ−2−イソオ
キサゾリン等。
合成実施例5゜ 3−(3−クロロフェニル)−4−40ロイソオキサゾ
ール(皮企皇匣」)の合成 3−(3−クロロフェニル)−4−クロロ−5−アセト
キシ−2−イソオキサゾリン1.1gをテトラヒドロフ
ラン20m lに溶解し、次いで1.8−ジアザビシク
ロ(5,4,0)ウンデセン(D B U)1ml を
水冷下で加えた後、室温で0.5時間撹拌した0反応混
合物を水に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出し、得られた酢
酸エチル溶液を希塩酸で洗浄後水洗、乾燥した。酢酸エ
チルを減圧下で留去し残11.0gを得た。これをシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;トルエン
/ヘキサン=2/l)により精製し目的物0.8gを得
た。
融点、 45.0〜45.6°C0 V”’ (cm−’) : 3150.3070.15
80.1442.1363.1163.1150.10
83.882δ冗11コ(ppm)  : 7.4〜7
.6(2)1.m) 、7.6〜7.9(2H,nl)
 、8.50(lfl、s)合成実施例6゜ 3−(2−クロロフェニル)−4−チオシアノイソオキ
サゾール(止金生立ユ鉦の合成3−(2−クロロフェニ
ル)−4−ブロモー5−アセトキシ−2−イソオキサゾ
リン1.0gをジメチルホルムアミド10m1に溶解し
、次いでチオシアン酸カリウム1.0gを加え80”C
で8時間攪拌した0反応混合物を水に注ぎ込み、酢酸エ
チルで抽出し、得られた酢酸エチル溶液を水洗後乾燥し
た。酢酸エチルを減圧下で留去し残渣1.1gを得た。
これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒
;トルエン/ヘキサン−271)により精製し目的物0
.5gを得た。
屈折率;no 20℃1.5928 ν′1t(cm−’) : 3130.2160.16
00.15451、 笥Lx 1440、1370.1130.1070.1000.
850、δcr櫂” <99m): 7.3〜7.7(
4H,i) 、8.86(IH,s)合成実施例7゜ 3−(3−クロロフェニル)−4−アセトキシ−5−ヒ
ドロキシ−2−イソオキサゾリンの合成3−(2−クロ
ロフェニル)−4−ブロモ−5−アセトキシ−2−イソ
オキサゾリン2.0gを氷酢酸20m lに溶解し、次
いで無水酢酸ナトリウム1.0gを加え110℃で6時
間攪拌した0反応混合物を水に注ぎ込み、酢酸エチルで
抽出し、得られた酢酸エチル?8液を水洗後乾燥した。
酢酸エチルを減圧下で留去しP2渣1.8gを得た。こ
れをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;
トルエン/酢酸エチル=5/1 )により精製して、3
−(3−クロロフェニル)−4,5−ジアセトキシ−2
−インオキサゾリン0.5gの他に目的物0.4gを得
た。
融点; 79.5〜82.0℃。
ν””(c+n−’) : 3320(br)、294
0.1750.1735.1560.1370.124
0.1210.1120.1050.950.900 δ課讐(ppm): 2.13(3Ls)、4.2〜4
.7(LH,m)5.80(LH,s)、6.18(l
)1.s)、7.2〜7.8  (4tLm) 合成実施例8゜ 3−(3−クロロフェニル) −4,5−ジアセトキシ
−2−イソオキサプリンの合成 3−(2−クロロフェニル)−4−ブロモ−5−アセト
キシ−2−イソオキサプリン9.7gを氷酢酸40m 
lに溶解し、次いで無水酢酸ナトリウム8.0gおよび
無水酢酸2Iwlを加え、窒素気流下110・Cで8時
間攪拌した0反応混合物を水に注ぎ込み、トルエンで抽
出し、得られたトルエン溶液を水洗後乾燥した。トルエ
ンを減圧下で留去し残渣8.8gを得た。これをシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;トルエン/
酢酸エチル−571)により精製し目的物7.3gを油
状物として得た。
δ醒”;’ (ppm)  : 2.14(3H,s)
、2.16(3H,s)、6.32(LH,s)、6.
52(18,s)、7.3.〜7.8  (4H,m) 合成実施例9゜ 3−(3−クロロフェニル)−4−アセトキシイソオキ
サゾール(化”’1MNo、20)  の合成3−(3
−クロロフェニル) −4,5−ジアセトキシ−2−イ
ソオキサゾリン5.5gをテトラヒドロフラン40国1
に溶解し、次いで1.8−ジアザビシクロ[5,4,0
)ウンデセン(DBU)5mlを水冷下で加えた後、室
温で5時間攪拌した0反応混合物を水に注ぎ込み、酢酸
エチルで抽出し、得られた酢酸エチル溶液を希塩酸で洗
浄後水洗、乾燥した。酢酸エチルを減圧下で留去し残渣
5−2gを得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(展開溶媒;トルエン)により精製し目的物4.
1gを得た。
屈折率1nn20℃1.5560 1””’(Cl11−’) : 3150.1770.
1600.1460.1440.1370.1200.
1050.885δ頴’、4(ppm): 2.34(
3H,s) 、7.3〜7.5(2H,m)7.6〜7
.9(2H,m) 、8.85(LH,s)合成実施例
10゜ 3−(3−クロロフェニル)−4−ジメチルアミノ−5
−ヒドロキシ−2−イソオキサゾリンの合成 3−(3−クロロフェニル)−4−ブロモ−5−アセト
キシ−2−イソオキサゾリン3.0gをテトラヒドロフ
ラン20m1に溶解し、次いで室温でジメチルアミンを
約2gを吹き込んだ後、室温で5時間撹拌した0反応混
合物を水に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出し、得られた酢
酸エチル溶液を水洗後乾燥した。酢酸エチルを減圧下で
留去し粗結晶2.0gを得た。これをヘキサン−ベンゼ
ンでスラツシングし目的物1.8gを得た。
融点;141〜144℃(分解)。
ν”’ (cl’) : 3300〜2600.148
5.1470.1445.1355.1115.109
0.1050.905.855.775 δC′”3 (ppm): 2.25(6H,s)、4
.76(LH,s)、5.82(18,s) 、7.2
〜7.7(4H,m)合成実施例11゜ 3− (3−10ロフエニル)−4−メチルカルバモイ
ルオキシイソオキサゾール(ts ” elJ N o
 、 24 )の合成 3−(3−クロロフェニル)−4−1ニー)’ロキシイ
ソオキサゾール0.5gをテトラヒドロフラン10m1
にン容解し、次いでメチルイソシアネート0.3mlお
よびトリエチルアミン0.05m1を加え室温で1時間
攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた油状物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒: トル
エン/酢酸エチル−471)で精製し目的物0.5gを
得た。
融点;65゜0〜67.5°C ν話″X(ロー’)  : 3280.3175.17
50.161O11455,1355,1225,10
75δ”” (ppm)   :  2.19(3H,
s)、5.27(LH,br s)  、7.3 〜7
.5(2tl、m)  、7.6 〜7.9(2H,m
)、8.80(II(、s)合成実施例12゜ 3−(3−クロロフェニル)−ジフルオロメトキシイソ
オキサゾール(■o  No、32)  の合成3−(
3−クロロフェニル)−4−ヒドロキシイソオキサゾー
ル1.Ogをアセトニトリル50m1に溶解し、水酸化
カリウム0.7gの水溶液2mlを加え、次いで60〜
70℃でクロロジフルオロメタンガスを30分間吹き込
んだ。反応混合物を水に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出し
、得られた酢酸エチル溶液を水洗後乾燥した。酢酸エチ
ルを減圧下で留去し、得られた油状物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(展開溶媒;トルエン)で精製し
目的物0.6gを得た。
屈折率; n、 20℃1.5301 u”’  (cm−’):  3150.1617.1
470.1380.1280.1255.1240.1
143.1130.1105.1070 δcc”+  (ppm)   :  6.47(IH
,t、J=72Hz)  、7.2 〜Mj 7.5(211,m)、7.5 〜7.9(2H,m)
8.43  (IH,m) 合成実施例13゜ 3−(2−クロロフェニル)−4−メチルチオイソオキ
サゾールB2”  No、43)  の合成3−(2−
クロロフェニル)−4−メルカプトイソオキサゾール1
.0gをジメチルホルムアミド10m1に溶解し、次い
でヨウ化メチル1.0gおよび無水炭酸カリウム1.0
gを加え室温にて1時間攪拌した。反応混合物を水に注
ぎ込み、酢酸エチルで抽出し、得られた酢酸エチル溶液
を水洗後乾燥した。酢酸エチルを減圧下で留去し残渣1
.4gを得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(展開溶媒;ジクロロメタン/ヘキサン= 3/2
)により精製し目的物0.9gを得た。
屈折率;n、20℃1.5895゜ ”””(cps−’):  3140.1610.15
60.1510.1440.1375.1120.10
75.765 .740 δ!、4.”(ppm) : 2.16(3H,s)、
7.2〜7.6(411,m)8.41(LH,s) 参考例。
3−(3−ブロモフェニル)−5−アセトキシ−2−イ
ソオキサゾリンの合成 3−ブロモフェニルヒドロキサム酸クロリド2.3gお
よび酢酸ビニル1.9gをテトラヒドロフラン20m 
l に溶解し、この溶液に0〜5°Cでトリエチルアミ
ン2mlを10分間かけて滴下した後、室温で3時間反
応した0反応部合物を水に注ぎ込の、酢酸エチルで抽出
し、得られた酢酸エチル?8液を水洗後乾燥した。酢酸
エチルを減圧下で留去し残渣3.3gを得た。これをシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー゛(展開溶媒;ヘキ
サン/酢酸エチル=4/1)により精製し目的物2.4
gを得た。
融点; 70.5〜71.5℃。
νK” (cm−’) : 1750.1557.14
23.1362、1220.1176.1027.95
6 .860δcc” (ppm);2.00(3tl
、s)、3.14(18,dd、J=2.16Hz)3
.48(LH,dd、J=7.161(z)、6.67
(LH。
dd、J−2+7Hz)  、7.1 〜7.8(4B
、m)さらに以下の化合物は参考例に従って製造するこ
とができる。(融点または屈折率;口。20℃)3−(
4−クロロフェニル)−5−アセトキシ−2−イソオキ
サゾリン(88,0〜90.0℃)、3−(3−クロロ
フェニル)−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン(
68,0〜70.5℃)、3−(2−クロロフェニル)
−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン(1,556
4)、3−(4−ジフルオロメトキシフェニル)−5−
アセトキシ−2−イソオキサゾリン(1,5182)、
3−(4−シアノフェニル)−5−アセトキシ−2−イ
ソオキサゾリン(150,5〜151.3℃)、3−(
2,4−ジクロロフェニル)−5−アセトキシ−2−イ
ソオキサゾリン(60,5〜61.5℃)、3−(2,
3−ジクロロフェニル)−5−アセトキシ−2−イソオ
キサゾリン(1,5672)、3−(3−ニトロフェニ
ル)−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン(111
,0〜112.5℃)、3−(4−フルオロフェニル)
−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン(121,0
〜125.0℃(dec、))3−(2−り四ロー5−
二トロフェニル)−5−アセトキシ−2−イソオキサゾ
リン(98,0〜100゜0℃)、 3−(2,6−ジクロロフェニル)−5−アセトキシ−
2−イソオキサゾリン(132,0〜134.0℃)、
3−(3−)リフルオロメチルフェニル)−5−アセト
キシ−2−イソオキサゾリン(1,4965)、3−(
3−)リフルオロメトキシ)−5−アセトキシ−2−イ
ソオキサゾリン、 3−(4−1−リフルオロアセトキシフェニル)−5−
アセトキシ−2−イソオキサゾリン。
次に、本発明の農園芸用殺菌剤の製造法を製剤例を若干
示し説明するが、添加物および添加割合は、これらの実
施例に限定されるべきものではなく、広い範囲に変化さ
せることが可能である。
有効成分化合物は前記第1表の化合物番号で示す、「部
」は「重量部」を表す。
製剤例1.$e剤 化合物No、2 : 3部、ケイソウ土:20部、白土
:30部およびタルク:47部を均一に粉砕混合して、
粉剤100部を得た。
製剤例2.水和剤 化合物No、3 :  30部、ケイソウ土:47部、
白土:20部、リグニンスルホン酸ナトリウム:1部お
よびアルキルヘンゼンスルホン酸ナトリウム:2部を均
一に粉砕混合して、粉剤100部を得た。
製剤例31粒剤 化合物No、6 : 7部、ポリエチレングリコールノ
ニルフェニルエーテル:1部、ポリビニルアルコール:
3部およびクレイ:89部を均一に粉砕混合し、加水造
粒後、乾燥し粉剤100部を得た。
製剤例4.粉削 化合物No、9 : 2部、炭酸カルシウム140部お
よびクレイ:58部を均一に粉砕混合して、粉剤100
部を得た。
製剤例5.水和剤 化合物No、12 : 50部、タルク:40部、ラウ
リン酸ナトリウム:5部およびアルキルナフタレン酸ナ
トリウム;5部を混合し水和剤100部を得た。
製剤例6.永和剤 化合物No、22 : 50部、リグニンスルホン酸ナ
トリウムニ10部、アルキルナフタレン 5部、ホワイトカーボン:10部およびケイソウ土:2
5部を均一に粉砕混合して、水和剤100部を得た。
製剤例7.フロアブル荊 化合物No.32 : 40部、カルボキシメチルセル
ロース:3部、リグニンスルホン酸ナトリウム=2部、
ジオクチルスルホサクシネートナトリウム塩=1部およ
び水:54部をサンドグラインダーで湿式粉砕し、フロ
ワブル剤100部を得た。
次に試験例を挙げて、本発明化合物の生理活性を詳しく
説明する。
試験例1.キュウリ灰色かび病防除試験温室内でポット
に育成したキュウリ (品種:相撲半白、子葉2枚展開
)に所定濃度の薬剤(供試化合物を製剤例5.の方法に
準じて水和剤を調製し、これを水で所定濃度に希釈した
もの)をスプレーガン(1,0Kg/ca! )を使用
して3鉢当たり20m1敗布し、風乾した。予めPDA
培地にて培養した灰色かび病菌より胞子液を調製し、そ
れを前記ポットのキュウリに噴霧接種した。接種したポ
ットを直ちに22〜24℃、ン温度95X以上に保った
後、子葉の病斑形成程度を調査した。評価基準は以下の
とおりである。
罹病度 O;病斑面積割合    0χ1:   〆 
      1〜10χ2:          11
〜25χ3:”       26〜50χ 4:   151%以上 全子葉について上記のごとく罹病度をもとめ、各区毎に
平均値を算出し、罹病度とした。なお、4〜5本/ボッ
ト、3連を一区とした。結果を第2表に示した。
第2表 キュウリ灰色かび病防除試験結果 対照化合物A: (米国特許3578673号) (ベノミル) 試験例2.キュウリうどんこ病防除試験温室内でポット
に育成したキュウリ (品種:和積半白、子葉1枚展開
)に所定濃度の薬剤(供試化合物を製剤例5.の方法に
準じて水和剤を調製し、これを水で所定濃度に希釈した
もの)をスプレーガン(1,0Kg/alりを使用して
3鉢当たり30m1散布し、風乾した。自然発生したキ
ュウリうどんこ病菌の胞子を集め、それを前記ポットの
キュウリ葉に噴霧接種した。接種したポットを温室内(
18〜27℃)に9日間保った後、子葉の病斑形成程度
を調査した。評価基準は前述の通りである。 全ての第
一本葉について罹病度を求め、各区毎に平均値を算出し
、罹病度とした。なお、4〜5本/ボット、3連を一区
とした。
結果を第3表に示した。
工主去 キュウリうどんこ病防除試験結果 (注)対照化合物^、Bは試験例1に同じ。
試験例1.および2.に示した結果より、本発明化合物
群はキュウリ灰色カビ病およびキュウリうどんこ病に対
して現在市販されているベノミル(ベンズイミダゾール
)に比し、はるかに優れた効果を示している。また本発
明化合物群は米国特許3578673号に開示されてい
る化合物群、つまり3−(4−ニトロフェニル)−4−
クロロイソオキサゾール等からは予想できない優れた防
除効果を存していることは明らかである。
〔発明の効果〕
以上の説明より明らかなように、本発明に係わる3−ア
リール−4−置換イソオキサゾール誘導体は高い殺苗力
と広い設置スペクトルを有する優れた化合物である。す
なわち、一般細菌のみならず各種植物の灰色カビ病を始
めうどんこ病、疫病等の植物病害菌に対しても高い殺菌
活性を示す化合物である。
本発明に係わる3−了り−ルー4−1換イソオキサゾー
ル誘導体は本発明に係わる製造方法により容易に製造す
ることが出来る。
また、本発明に係わる3−アリール−4−置換イソオキ
サゾール化合物を含量する組成物は農園芸用殺菌剤とし
て優れた特性を具備し有用である。
特許出廓人 三井東圧化学株式会社

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、Xは同一または異なっていてもよく、ハロゲン
    原子、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基また
    はシアノ基を示し、nは1から5までの整数を示し、Y
    はハロゲン原子または−A−R^1を示し(式中、Aは
    酸素原子、硫黄原子、−NH−基または−NR^2−基
    を示し、R^1、R^2は同一または異なっていてもよ
    く、水素原子、低級アルキル基、シアノ基、低級アルケ
    ニル基、低級アルキニル基、低級ハロアルキル基、低級
    アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニル低
    級アルキル基、低級ハロアルキルカルボニル基、低級シ
    アノアルキル基、低級アシル基または低級アルキルカル
    バモイル基を示す)ただし、Xnが2,6−ジクロル基
    で、Yが塩素原子である場合を除く〕で表わされる3−
    アリール−4−置換イソオキサゾール誘導体。
  2. (2)一般式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中、Xは同一または異なっていてもよく、ハロゲン
    原子、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基また
    はシアノ基を示し、nは1から5までの整数を示し、Y
    はハロゲン原子または−A−R^1を示し(式中、Aは
    酸素原子、硫黄原子、−NH−基または−NR^2−基
    を示し、R^1、R^2は同一または異なっていてもよ
    く、水素原子、低級アルキル基、シアノ基、低級アルケ
    ニル基、低級アルキニル基、低級ハロアルキル基、低級
    アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニル低
    級アルキル基、低級ハロアルキルカルボニル基、低級シ
    アノアルキル基、低級アシル基または低級アルキルカル
    バモイル基を示す)〕 で表わされる3−アリール−4−置換イソオキサゾール
    誘導体を有効成分として含有することを特徴とする農園
    芸用殺菌剤。
  3. (3)一般式(III): ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、X^1は同一または異なっていてもよく、水素
    原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
    基、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基、低級
    アルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、低級ハ
    ロアルキルスルホニル基、低級ハロアルキルスルホニル
    オキシ基または低級ハロアルコキシスルホニル基を示し
    、nは1から5までの整数を示し、R^3は低級アルキ
    ル基を示す)で表わされる化合物をハロゲン化し、一般
    式(IV):▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中、X^1、nおよびR^3は前記と同じ意味を示
    し、Y^1はハロゲン原子を示す) で表わされる化合物を得、次いで該化合物を加熱するか
    、または塩基と反応させることを特徴とする一般式(V
    ): ▲数式、化学式、表等があります▼(V) (式中、X^1、nおよびY^1は前記と同じ意味を示
    す)で表わされる3−アリール−4−置換イソオキサゾ
    ール誘導体の製造方法。
  4. (4)一般式(IV): ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中、X^1は同一または異なっていてもよく、水素
    原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
    基、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基、低級
    アルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、低級ハ
    ロアルキルスルホニル基、低級ハロアルキルスルホニル
    オキシ基または低級ハロアルコキシスルホニル基を示し
    、nは1から5までの整数を示し、R^3は低級アルキ
    ル基を示し、Y^1はハロゲン原子を示す) で表わされる化合物と一般式 H−A−R^1 (式中、Aは酸素原子、硫黄原子、−NH−基または−
    NR^2−基を示し、R^1、R^2は同一または異な
    っていてもよく、水素原子、低級アルキル基、シアノ基
    、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級ハロアル
    キル基、低級アシル基または低級アルキルカルバモイル
    基を示す) で表わされる化合物を反応させることを特徴とする一般
    式(VI): ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) (式中、X^1、n、AおよびR^1は前記と同じ意味
    を示す) で表わされる3−アリール−4−置換イソオキサゾール
    誘導体の製造方法。
  5. (5)一般式(VII): ▲数式、化学式、表等があります▼(VII) (式中、X^1は同一または異なっていてもよく、水素
    原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
    基、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基、低級
    アルコキシカルボニル基、シアノ基、低級ハロアルキル
    スルホニル基、低級ハロアルキルスルホニルオキシ基ま
    たは低級ハロアルコキシスルホニル基を示し、nは1か
    ら5までの整数を示し、Bは酸素原子または硫黄原子、
    −NH−基または−NR^4−基を示し、R^4は低級
    アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低
    級ハロアルキル基、低級アルコキシカルボニル基、低級
    アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級ハロアルキ
    ルカルボニル基、低級シアノアルキル基、低級アシル基
    、低級ハロアルキルスルホニル基、低級ジアルキルホス
    ホリル基、低級ジアルキルチオホスホリル基または低級
    アルキルカルバモイル基を示し、Zはハロゲン原子を示
    す) で表わされる化合物と一般式 R^5−Z (式中、R^5は低級アルキル基、低級アルケニル基、
    低級アルキニル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキ
    シカルボニル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキ
    ル基、低級ハロアルキルカルボニル基、低級シアノアル
    キル基、低級アシル基、低級ハロアルキルスルホニル基
    、低級ジアルキルホスホリル基、低級ジアルキルチオホ
    スホリル基または低級アルキルカルバモイル基を示し、
    Zはハロゲン原子を示す) で表わされる化合物、または一般式 R^6−NCO (式中、R^6は低級アルキル基を示す) で表わされる化合物を反応させることを特徴とする一般
    式(VIII): ▲数式、化学式、表等があります▼(VIII) (式中、Wは−B−R^5または−CONH−R^6を
    示し、X^1、n、B、R^5およびR^6は前記と同
    じ意味を示す) で表わされる3−アリール−4−置換イソオキサゾール
    誘導体の製造方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999005130A1 (de) * 1997-07-23 1999-02-04 Basf Aktiengesellschaft Substituierte 3-phenylisoxazoline

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