JPS6339867A - 3−アリ−ル−4−置換イソオキサゾ−ル誘導体、その製造方法およびそれらを含有する農園芸用殺菌剤 - Google Patents
3−アリ−ル−4−置換イソオキサゾ−ル誘導体、その製造方法およびそれらを含有する農園芸用殺菌剤Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は新規な3−了り−ルー4−置換イソオキサゾー
ル誘導体、その製造方法および核化合物を有効成分とし
て含有する農園芸用殺凹剤に関する。
ル誘導体、その製造方法および核化合物を有効成分とし
て含有する農園芸用殺凹剤に関する。
従来よりイソオキサゾール環を持つ化合物については、
多くの研究がなされており、特徴ある生理活性化合物が
数多く見出されている。特に半合成ペニシリンおよび半
合成セファロスポリンの部分構造として、イソオキサゾ
ール環を持つ化合物が多数合成されその生理活性が研究
されている6農園芸用に限れば、殺菌剤として3−ヒド
ロキシ−5−メチルイソオキサゾール(タチガレン)、
殺虫剤として0.0−ジエチル−〇−(5−フェニルイ
ソオキサゾール−3−イル)ホスホロチオエート(カル
ホス)、除草剤として3 (3−tert−ブチル
イソオキサゾール−3−イル) −1,1−ジメチルウ
レア(イソウロン)等が実用に供されている。
多くの研究がなされており、特徴ある生理活性化合物が
数多く見出されている。特に半合成ペニシリンおよび半
合成セファロスポリンの部分構造として、イソオキサゾ
ール環を持つ化合物が多数合成されその生理活性が研究
されている6農園芸用に限れば、殺菌剤として3−ヒド
ロキシ−5−メチルイソオキサゾール(タチガレン)、
殺虫剤として0.0−ジエチル−〇−(5−フェニルイ
ソオキサゾール−3−イル)ホスホロチオエート(カル
ホス)、除草剤として3 (3−tert−ブチル
イソオキサゾール−3−イル) −1,1−ジメチルウ
レア(イソウロン)等が実用に供されている。
本発明に類似の3−了り−ルー4−置換イソオキサゾー
ル誘導体としては、特開昭54−79274号公報およ
び米国特許4187099号に一般式(1)においてY
がカルボン酸誘導体である化合物が植物成長調節剤およ
び除草剤として開示されている。
ル誘導体としては、特開昭54−79274号公報およ
び米国特許4187099号に一般式(1)においてY
がカルボン酸誘導体である化合物が植物成長調節剤およ
び除草剤として開示されている。
また、米国特許3578673号には、3−(4−ニト
ロ置換フェニル)−4−へロイソオキサゾール誘導体の
製造方法と該誘導体の殺虫剤、除草剤及び殺菌剤として
の活性について開示されているが、その製造方法で製造
できるのは、イソオキサゾール環の3位の置換フェニル
基は4位にニトロ基を持つものに限られ、その殺菌活性
は一般細菌に対してのin vttro試験のみであり
、実際、植物病原菌に対しては極めて弱いものである。
ロ置換フェニル)−4−へロイソオキサゾール誘導体の
製造方法と該誘導体の殺虫剤、除草剤及び殺菌剤として
の活性について開示されているが、その製造方法で製造
できるのは、イソオキサゾール環の3位の置換フェニル
基は4位にニトロ基を持つものに限られ、その殺菌活性
は一般細菌に対してのin vttro試験のみであり
、実際、植物病原菌に対しては極めて弱いものである。
製造方法として他に、カナデイアン ジャーナル オン
ケミストリー(Can、J、Chem、)、48.3
753〜3755頁(1970年)に、3−(2,6−
ジクロロフェニル)−4−クロロイソオキサゾールの合
成方法が記載されているが、反応中間体である2、6−
シクロロペンゾニトリルオキサイドが安定であることが
必要とされ一般性に乏しい。また、ケミカル アプスト
ラクツ(C,A、)、 56.34654(1962)
に3−アリール−4,5−無置換イソオキサゾールの4
位のハロゲン化方法、同70巻、 68225e (1
969)にベンゾニトリルオキサイドとビニレン カー
ボネー14用いる3−フェニル−4−ヒドロキシイソオ
キサゾール誘導体の合成方法が記載されているがどちら
も極めて低収率であり、それら化合物の生理作用につい
ては触れられていない。
ケミストリー(Can、J、Chem、)、48.3
753〜3755頁(1970年)に、3−(2,6−
ジクロロフェニル)−4−クロロイソオキサゾールの合
成方法が記載されているが、反応中間体である2、6−
シクロロペンゾニトリルオキサイドが安定であることが
必要とされ一般性に乏しい。また、ケミカル アプスト
ラクツ(C,A、)、 56.34654(1962)
に3−アリール−4,5−無置換イソオキサゾールの4
位のハロゲン化方法、同70巻、 68225e (1
969)にベンゾニトリルオキサイドとビニレン カー
ボネー14用いる3−フェニル−4−ヒドロキシイソオ
キサゾール誘導体の合成方法が記載されているがどちら
も極めて低収率であり、それら化合物の生理作用につい
ては触れられていない。
各種作物の病害の中で、灰色カビ病は重要病害として知
られ、それを防除するためにジチオカーバメイト系薬剤
、チオファネートメチル剤、ジクロフルアニド剤等が用
いられてきたが、活性が不十分であり、その上耐性面の
問題が現われてきた。
られ、それを防除するためにジチオカーバメイト系薬剤
、チオファネートメチル剤、ジクロフルアニド剤等が用
いられてきたが、活性が不十分であり、その上耐性面の
問題が現われてきた。
そこで、新たな防除剤の研究が続けられ、現在ではプロ
シミドン、ビンクロゾリン等のN−フェニルイミド系化
合物が開発され世界的に実用に供されつつあるが、これ
らについても既にその耐性菌が問題視され始めている〔
参考文献;日植病報。
シミドン、ビンクロゾリン等のN−フェニルイミド系化
合物が開発され世界的に実用に供されつつあるが、これ
らについても既にその耐性菌が問題視され始めている〔
参考文献;日植病報。
48巻、89頁(1982)、同報、48巻1210頁
〜216頁(1982)、同報、48巻、547頁〜5
50頁(1982) )。
〜216頁(1982)、同報、48巻、547頁〜5
50頁(1982) )。
本発明は、前記従来技術の問題点を解決するために新し
い構造、広い殺菌スペクトラムおよび高い殺菌活性を示
す優れた殺菌性化合物、その製造方法、さらにそれらを
有効成分として含有する殺菌剤を提供することを課題と
する。
い構造、広い殺菌スペクトラムおよび高い殺菌活性を示
す優れた殺菌性化合物、その製造方法、さらにそれらを
有効成分として含有する殺菌剤を提供することを課題と
する。
すなわち、一般殺菌のみならず各種植物の灰色カビ病を
始めうどんこ病、疫病等の植物病害菌に対しても高い殺
菌活性を示す化合物、それらの簡便で好収率かつ汎用性
のある製造方法、およびそれらを有効成分として含有す
る殺菌剤を提供することを課題とする。
始めうどんこ病、疫病等の植物病害菌に対しても高い殺
菌活性を示す化合物、それらの簡便で好収率かつ汎用性
のある製造方法、およびそれらを有効成分として含有す
る殺菌剤を提供することを課題とする。
〔課題を解決するための手段および作用〕本発明者らは
前記課題を解決すべくイソオキサゾール誘導体の植物病
原菌に対する生理作用について種々検討した結果、3−
了り−ルー4−置換イソオキサゾール誘導体が各種植物
の灰色カビ病を始めうどんこ病、疫病等の植物病害菌に
対して高い殺菌活性を示すことを見出し本発明を完成し
た。
前記課題を解決すべくイソオキサゾール誘導体の植物病
原菌に対する生理作用について種々検討した結果、3−
了り−ルー4−置換イソオキサゾール誘導体が各種植物
の灰色カビ病を始めうどんこ病、疫病等の植物病害菌に
対して高い殺菌活性を示すことを見出し本発明を完成し
た。
すなわち、本発明は一般式(I):
〔式中、Xは同一または異なっていてもよ<、/Sロゲ
ン原子、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基ま
たはシアノ基を示し、nは1から5までの整数を示し、
Yはハロゲン原子または−A−R1を示しく式中、Aは
酸素原子、硫黄原子、−NH−基または−NR”−基を
示し、R1、R2は同一または異なっていてもよ(、水
素原子、低級アルキル基、シアノ基、低級アルケニル基
、低級アルキニル基、低級ハロアルキル基、低級アルコ
キシカルボニル基、低級アルコキシカルボニル低級アル
キル基、低級ハロアルキルカルボニル基、低級シアノア
ルキル基、低級アシル基または低級アルキルカルバモイ
ル基を示す)ただし、Xnが2.6−ジクロル基で、Y
が塩素原子である場合を除く〕で表わされる3−アリー
ル−4−置換イソオキサゾール誘導体である。
ン原子、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基ま
たはシアノ基を示し、nは1から5までの整数を示し、
Yはハロゲン原子または−A−R1を示しく式中、Aは
酸素原子、硫黄原子、−NH−基または−NR”−基を
示し、R1、R2は同一または異なっていてもよ(、水
素原子、低級アルキル基、シアノ基、低級アルケニル基
、低級アルキニル基、低級ハロアルキル基、低級アルコ
キシカルボニル基、低級アルコキシカルボニル低級アル
キル基、低級ハロアルキルカルボニル基、低級シアノア
ルキル基、低級アシル基または低級アルキルカルバモイ
ル基を示す)ただし、Xnが2.6−ジクロル基で、Y
が塩素原子である場合を除く〕で表わされる3−アリー
ル−4−置換イソオキサゾール誘導体である。
さらに、本発明は一般式(■):
C式中、Xは同一または異なっていてもよく、ハロゲン
原子、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基また
はシアノ基を示し、nは1から5までの整数を示し、Y
はハロゲン原子または−A−R1を示しく式中、Aは酸
素原子、硫黄原子、−NH−基または−NR”−基を示
し、R1,R1は同一または異なっていてもよく、水素
原子、低級アルキル基、シアノ基、低級アルケニル基、
低級アルキニル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキ
シカルボニル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキ
ル基、低級ハロアルキルカルボニル基、低級シアノアル
キル基、低級アシル基または低級アルキルカルバモイル
基を示す)〕 で表わされる3−アリール−4−置換イソオキサゾール
誘導体を有効成分として含有することを特徴とする農園
芸用殺菌剤をも提供する。
原子、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基また
はシアノ基を示し、nは1から5までの整数を示し、Y
はハロゲン原子または−A−R1を示しく式中、Aは酸
素原子、硫黄原子、−NH−基または−NR”−基を示
し、R1,R1は同一または異なっていてもよく、水素
原子、低級アルキル基、シアノ基、低級アルケニル基、
低級アルキニル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキ
シカルボニル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキ
ル基、低級ハロアルキルカルボニル基、低級シアノアル
キル基、低級アシル基または低級アルキルカルバモイル
基を示す)〕 で表わされる3−アリール−4−置換イソオキサゾール
誘導体を有効成分として含有することを特徴とする農園
芸用殺菌剤をも提供する。
本発明らは、更に前記一般式(1)および(II)で表
わされる本発明化合物を含む3−アリール−4−置換イ
ソオキサゾール誘導体の製造方法についても鋭意検討し
た結果、好収率で目的物を得る方法を見出し本発明を完
成した。
わされる本発明化合物を含む3−アリール−4−置換イ
ソオキサゾール誘導体の製造方法についても鋭意検討し
た結果、好収率で目的物を得る方法を見出し本発明を完
成した。
すなわち、本発明は一般式(■):
(式中、Xlは同一または異なっていてもよく、水素原
子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基
、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基、低級ア
ルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、低級ハロ
アルキルスルホニル基、低級ハロアルキルスルホニルオ
キシ基または低級ハロアルコキシスルホニル基を示し、
nは1から5までの整数を示し、R3は低級アルキル基
を示す)で表わされる化合物をハロゲン化し、−C式(
m:(式中、X’、 nおよびR3は前記と同し意味を
示し、Ylはハロゲン原子を示す) で表わされる化合物を得、次いで該化合物を加熱するか
、または塩基と反応させることを特徴とする一般式(■
): (式中、X’% nおよびYlは前記と同じ意味を示す
)で表わされる3−アリール−4−置換イソオキサゾー
ル誘導体の製造方法、 一般式(■): (式中、XIは同一または異なっていてもよく、水素原
子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基
、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基、低級ア
ルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、低級ハロ
アルキルスルホニル基、低級ハロアルキルスルホニルオ
キシ基または低級ハロアルコキシスルホニル基を示し、
nは1から5までの整数を示し、R3は低級アルキル基
を示し、Y”はハらゲン原子を示す) で表わされる化合物と一般式 %式% (式中、Aは酸素原子、硫黄原子、−NH−基または−
NR”−基を示し、RISRZは同一または異なってい
てもよく、水素原子、低級アルキル基、シアノ基、低級
アルケニル基、低級アルキニル基、低級ハロアルキル基
、低級アシル基または低級アルキルカルバモイル基を示
す) で表わされる化合物を反応させることを特徴とする一般
式(■): (式中、xl、nsAおよびR1は前記と同じ意味を示
す) で表わされる3−アリール−4−置換イソオキサプール
誘導体の製造方法、および 一般式(■): (式中、XIは同一または異なっていてもよく、水素原
子ζハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基
、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基、低級ア
ルコキシカルボニル基、シアノa、(mmハロアルキル
スルホニル基、低級ハロアルキルスルホニルオキシ基ま
たは低級ハロアルコキシスルホニル基を示し、nは1か
ら5までの整数を示し、Bは酸素原子または硫黄原子、
−NH−基または−NR’−基を示し、R4は低級アル
キル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級ハ
ロアルキル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アル
コキシカルボニル低級アルキル基、低級ハロアルキルカ
ルボニル基、低級シアノアルキル4、低級アシル基、低
級ハロアルキルスルホニル基、低級ジアルキルホスホリ
ル基、低級ジアルキルチオホスホリル基または低級アル
キルカルバモイル基を示し、Zはハロゲン原子を示す)
で表わされる化合物と一般式 (式中、R5は低級アルキル基、低級アルケニル基、低
級アルキニル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキシ
カルボニル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル
基、低級ハロアルキルカルボニル基、低級シアノアルキ
ル基、低級アシル基、低級ハロアルキルスルホニル基、
低級ジアルキルホスホリル基、低級ジアルキルチオホス
ホリル基または低級アルキルカルバモイル基を示し、Z
はハロゲン原子を示す) で表わされる化合物、または一般式 %式% (式中、R6は低級アルキル基を示す)で表わされる化
合物を反応させることを特徴とする一般式(■): (式中、Wは−B−R’または一〇〇NHR6を示し、
X’、 n−B、 R’および96は前記と同し意味を
示す) で表わされる3−アリール−4−置換イソオキサゾール
誘導体の製造方法である。
子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基
、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基、低級ア
ルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、低級ハロ
アルキルスルホニル基、低級ハロアルキルスルホニルオ
キシ基または低級ハロアルコキシスルホニル基を示し、
nは1から5までの整数を示し、R3は低級アルキル基
を示す)で表わされる化合物をハロゲン化し、−C式(
m:(式中、X’、 nおよびR3は前記と同し意味を
示し、Ylはハロゲン原子を示す) で表わされる化合物を得、次いで該化合物を加熱するか
、または塩基と反応させることを特徴とする一般式(■
): (式中、X’% nおよびYlは前記と同じ意味を示す
)で表わされる3−アリール−4−置換イソオキサゾー
ル誘導体の製造方法、 一般式(■): (式中、XIは同一または異なっていてもよく、水素原
子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基
、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基、低級ア
ルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、低級ハロ
アルキルスルホニル基、低級ハロアルキルスルホニルオ
キシ基または低級ハロアルコキシスルホニル基を示し、
nは1から5までの整数を示し、R3は低級アルキル基
を示し、Y”はハらゲン原子を示す) で表わされる化合物と一般式 %式% (式中、Aは酸素原子、硫黄原子、−NH−基または−
NR”−基を示し、RISRZは同一または異なってい
てもよく、水素原子、低級アルキル基、シアノ基、低級
アルケニル基、低級アルキニル基、低級ハロアルキル基
、低級アシル基または低級アルキルカルバモイル基を示
す) で表わされる化合物を反応させることを特徴とする一般
式(■): (式中、xl、nsAおよびR1は前記と同じ意味を示
す) で表わされる3−アリール−4−置換イソオキサプール
誘導体の製造方法、および 一般式(■): (式中、XIは同一または異なっていてもよく、水素原
子ζハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基
、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基、低級ア
ルコキシカルボニル基、シアノa、(mmハロアルキル
スルホニル基、低級ハロアルキルスルホニルオキシ基ま
たは低級ハロアルコキシスルホニル基を示し、nは1か
ら5までの整数を示し、Bは酸素原子または硫黄原子、
−NH−基または−NR’−基を示し、R4は低級アル
キル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級ハ
ロアルキル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アル
コキシカルボニル低級アルキル基、低級ハロアルキルカ
ルボニル基、低級シアノアルキル4、低級アシル基、低
級ハロアルキルスルホニル基、低級ジアルキルホスホリ
ル基、低級ジアルキルチオホスホリル基または低級アル
キルカルバモイル基を示し、Zはハロゲン原子を示す)
で表わされる化合物と一般式 (式中、R5は低級アルキル基、低級アルケニル基、低
級アルキニル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキシ
カルボニル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル
基、低級ハロアルキルカルボニル基、低級シアノアルキ
ル基、低級アシル基、低級ハロアルキルスルホニル基、
低級ジアルキルホスホリル基、低級ジアルキルチオホス
ホリル基または低級アルキルカルバモイル基を示し、Z
はハロゲン原子を示す) で表わされる化合物、または一般式 %式% (式中、R6は低級アルキル基を示す)で表わされる化
合物を反応させることを特徴とする一般式(■): (式中、Wは−B−R’または一〇〇NHR6を示し、
X’、 n−B、 R’および96は前記と同し意味を
示す) で表わされる3−アリール−4−置換イソオキサゾール
誘導体の製造方法である。
ここで、ハロゲン原子とはフッ素原子、塩素原子、臭素
原子およびヨード原子を意味する。また低級アルキル基
等の低級とは炭素数1から5までを意味し、アルキルと
は鎖状および分岐した炭素鎖を意味する。
原子およびヨード原子を意味する。また低級アルキル基
等の低級とは炭素数1から5までを意味し、アルキルと
は鎖状および分岐した炭素鎖を意味する。
さらに、一般式(1)および(II)で表わされる本発
明化合物を含む3−アリール−4−置換イソオキサゾー
ル誘導体の製造方法を反応図式Iおよび2に示し、以下
に詳しく説明する。
明化合物を含む3−アリール−4−置換イソオキサゾー
ル誘導体の製造方法を反応図式Iおよび2に示し、以下
に詳しく説明する。
反応図式1
%式%(1)
(式中、X’、 n、 Y’、A、B、W、R’、R3
、R5およびR6は前記の意味を示す) すなわち、一般式(ilI)で表わされる2−イソオキ
サゾリン誘導体を不活性溶媒中、ラジカル発生剤または
光の存在下、適当なハロゲン化剤と反応させて中間体(
IV)を得ることができる。不活性溶媒としてはベンゼ
ン、クロロヘンゼン等の芳香族化合物、クロロホルム、
四塩化炭素、1,1,2゜2−テトラクロロエタン等の
脂肪族ハロゲン化物を使用することができるが、四塩化
炭素、ベンゼンで特に良好な結果を得ることができる。
、R5およびR6は前記の意味を示す) すなわち、一般式(ilI)で表わされる2−イソオキ
サゾリン誘導体を不活性溶媒中、ラジカル発生剤または
光の存在下、適当なハロゲン化剤と反応させて中間体(
IV)を得ることができる。不活性溶媒としてはベンゼ
ン、クロロヘンゼン等の芳香族化合物、クロロホルム、
四塩化炭素、1,1,2゜2−テトラクロロエタン等の
脂肪族ハロゲン化物を使用することができるが、四塩化
炭素、ベンゼンで特に良好な結果を得ることができる。
ラジカル発生剤としてはベンゾイルパーオキサイド等の
パーオキサイド類、α、α−アゾビスイソブチロニトリ
ル等が挙げられる。
パーオキサイド類、α、α−アゾビスイソブチロニトリ
ル等が挙げられる。
本反応で使用される光源は、紫外線ランプ、可視光線ラ
ンプ、赤外線ランプ等が挙げられる。
ンプ、赤外線ランプ等が挙げられる。
ハロゲン化剤としては、N−ブロモこはく酸イミド、N
−クロロこは(酸イミド、N〜ジブロモセトアミド等の
N−ハロゲノ化合物、塩素、臭素、塩化スルフリル、臭
化スルフリル等を用いることができる。
−クロロこは(酸イミド、N〜ジブロモセトアミド等の
N−ハロゲノ化合物、塩素、臭素、塩化スルフリル、臭
化スルフリル等を用いることができる。
反応温度および反応時間は出発原料に応じて広範囲に変
化させることができるが、−船釣には反応温度は60℃
〜100℃付近の溶媒の還流温度が好適であり、不活性
気体の雰囲気化で反応させてもよい0反応時間は通常1
〜50時間である。
化させることができるが、−船釣には反応温度は60℃
〜100℃付近の溶媒の還流温度が好適であり、不活性
気体の雰囲気化で反応させてもよい0反応時間は通常1
〜50時間である。
また、このとき出発原料によっては3−了り−ル基の核
あるいは置換基を同時にハロゲン化させることもできる
。
あるいは置換基を同時にハロゲン化させることもできる
。
一般式(IV)で表わされる化合物を適当な溶媒に溶解
し酸受容体を加えるか、酸受容体なしに無溶媒あるいは
適当な溶媒中で加熱することによって一般式(V)で表
わされる化合物を得ることができる。酸受容体としては
トリエチルアミン、ピリジン、1.8−ジアザビシクロ
(5,4,0)ウンデセン(D B U)等の三級アミ
ン類、アルカリ金属のフッ化物および炭酸塩等が用いら
れる。この場合、溶媒としてアセトン、ジメチルホルム
アミド、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、クロロ
ホルム、トルエン等の不活性溶媒を用いることができる
1反応は一り0℃〜その溶媒の還流温度で、0.1〜5
時間行われる。酸受容体なしで加熱する場合、用いる溶
媒としてジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、1.3−ジメチ
ル−2−イミダゾリジノン(DMT)、キシレン、0−
ジクロロベンゼン等が挙げられる。反応は70℃〜その
溶媒の還流温度で、0.1〜5時間行われる。無溶媒の
場合、反応温度は100〜220℃で、反応時間は0.
1〜1時間である。
し酸受容体を加えるか、酸受容体なしに無溶媒あるいは
適当な溶媒中で加熱することによって一般式(V)で表
わされる化合物を得ることができる。酸受容体としては
トリエチルアミン、ピリジン、1.8−ジアザビシクロ
(5,4,0)ウンデセン(D B U)等の三級アミ
ン類、アルカリ金属のフッ化物および炭酸塩等が用いら
れる。この場合、溶媒としてアセトン、ジメチルホルム
アミド、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、クロロ
ホルム、トルエン等の不活性溶媒を用いることができる
1反応は一り0℃〜その溶媒の還流温度で、0.1〜5
時間行われる。酸受容体なしで加熱する場合、用いる溶
媒としてジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、1.3−ジメチ
ル−2−イミダゾリジノン(DMT)、キシレン、0−
ジクロロベンゼン等が挙げられる。反応は70℃〜その
溶媒の還流温度で、0.1〜5時間行われる。無溶媒の
場合、反応温度は100〜220℃で、反応時間は0.
1〜1時間である。
−II式(IV)で表わされる中間体は、さらに一般式
R’−A−Hと適当な溶媒中で反応することにより一般
式(Vl)で表わされる化合物を得ることができる。
R’−A−Hと適当な溶媒中で反応することにより一般
式(Vl)で表わされる化合物を得ることができる。
この反応では酸受容体が必要であるが、反応試剤が塩基
性を有している場合は反応試剤自身を酸受容体としても
良い。酸受容体としてはアルカリ金属の水素化物、水酸
化物あるいは炭酸塩、アルカリ土類金属の水酸化物、3
級アミン類または反応試剤自身のアルカリ金属塩、アル
カリ土類金属塩あるいは4級アンモニウム塩等を用いる
ことができる0反応溶媒としてはアセトン、テトラヒド
ロフラン、アセトニトリル、クロロホルム、ベンゼン、
トルエン、クロロベンゼン、酢酸、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセ
トアミド、1.3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(
DMr)等の不活性溶媒を用いることができる。好まし
い反応温度は、反応試剤によって異なり一10〜100
°Cであるが、加圧下で反応混合物の沸点以上の温度を
使用することもできる0反応時間は、0.1〜15時間
である。
性を有している場合は反応試剤自身を酸受容体としても
良い。酸受容体としてはアルカリ金属の水素化物、水酸
化物あるいは炭酸塩、アルカリ土類金属の水酸化物、3
級アミン類または反応試剤自身のアルカリ金属塩、アル
カリ土類金属塩あるいは4級アンモニウム塩等を用いる
ことができる0反応溶媒としてはアセトン、テトラヒド
ロフラン、アセトニトリル、クロロホルム、ベンゼン、
トルエン、クロロベンゼン、酢酸、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセ
トアミド、1.3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(
DMr)等の不活性溶媒を用いることができる。好まし
い反応温度は、反応試剤によって異なり一10〜100
°Cであるが、加圧下で反応混合物の沸点以上の温度を
使用することもできる0反応時間は、0.1〜15時間
である。
反応条件によっては一般式(■°)または(■”)で表
わされる化合物を中間体として単離することもできる。
わされる化合物を中間体として単離することもできる。
一般式(■°)で表わされる化合物は適当な溶媒に溶解
し酸受容体を加えるか、酸受容体なしに無溶媒あるいは
適当な溶媒中で加熱することによって容易に一般式(V
)で表わされる化合物を得ることができる。酸受容体と
してはトリエチルアミン、ピリジン、1.8−ジアザビ
シクロ〔5゜4.0〕 ウンデセン(DBU)等の三級
アミン類、アルカリ金属のフン化物および炭酸塩等が用
いられる。この場合、溶媒としてアセトン、ジメチルホ
ルムアミド、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ク
ロロホルム、トルエン等の不活性溶媒を用いることがで
きる。反応は一り0℃〜その)容媒の還流温度で、0.
1〜5時間で行われる。酸受容体なしで加熱する場合、
用いる溶媒としてジメチルスルホキシド、スルホラン、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、1,3
−ジメチル−2−イミダゾリジノン(DMり、キシレン
、〇−ジクロロベンゼン等が挙げられる。反応温度は、
70゛C〜その溶媒の還流温度で、0.1〜5時間行わ
れる。無溶媒の場合は、反応温度は100〜220℃で
、反応時間は0.1〜1時間である。また一般弐(■”
)で表わされる化合物は硫酸等の酸性触媒の存在下、1
50〜220℃で0.1〜1時間加熱することによって
容易に一般式(Vl)で表わされる化合物に導くことが
できる。
し酸受容体を加えるか、酸受容体なしに無溶媒あるいは
適当な溶媒中で加熱することによって容易に一般式(V
)で表わされる化合物を得ることができる。酸受容体と
してはトリエチルアミン、ピリジン、1.8−ジアザビ
シクロ〔5゜4.0〕 ウンデセン(DBU)等の三級
アミン類、アルカリ金属のフン化物および炭酸塩等が用
いられる。この場合、溶媒としてアセトン、ジメチルホ
ルムアミド、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ク
ロロホルム、トルエン等の不活性溶媒を用いることがで
きる。反応は一り0℃〜その)容媒の還流温度で、0.
1〜5時間で行われる。酸受容体なしで加熱する場合、
用いる溶媒としてジメチルスルホキシド、スルホラン、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、1,3
−ジメチル−2−イミダゾリジノン(DMり、キシレン
、〇−ジクロロベンゼン等が挙げられる。反応温度は、
70゛C〜その溶媒の還流温度で、0.1〜5時間行わ
れる。無溶媒の場合は、反応温度は100〜220℃で
、反応時間は0.1〜1時間である。また一般弐(■”
)で表わされる化合物は硫酸等の酸性触媒の存在下、1
50〜220℃で0.1〜1時間加熱することによって
容易に一般式(Vl)で表わされる化合物に導くことが
できる。
なお、一般式(V)および(Vr)で表わされる化合物
は一般式(I[[)で表わされる化合物から中間体を単
離せずに合成することもできる。
は一般式(I[[)で表わされる化合物から中間体を単
離せずに合成することもできる。
一般式(■)で表わされる化合物は反応図式2に示す方
法によって、−i式(■)で表わされる化合物と所望す
るハロゲン化物または低級アルキルイソシアネートを反
応させることにより得ることができる。反応は有機溶媒
中0〜50℃、好ましくは5℃〜室温で1〜24時間行
う。ハロゲン化物を反応させる場合、反応試剤によって
は酸受容体が必要である。有機溶媒としてはアセトン、
ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、アセトニ
トリル、クロロホルム、トルエン等の不活性溶媒が用い
られ、酸受容体としてはアルカリ金属の水素化物、水酸
化物あるいは炭酸塩、アルカリ土類金属の水酸化物、3
級アミン類等の有機、無機の塩基を用いることができる
。3級アミンは溶媒替わりに用いることもできる。低級
アルキルイソシアネートを反応させる場合トリエチルア
ミン、ピリジン等の三級アミンを触媒量加えてもよい。
法によって、−i式(■)で表わされる化合物と所望す
るハロゲン化物または低級アルキルイソシアネートを反
応させることにより得ることができる。反応は有機溶媒
中0〜50℃、好ましくは5℃〜室温で1〜24時間行
う。ハロゲン化物を反応させる場合、反応試剤によって
は酸受容体が必要である。有機溶媒としてはアセトン、
ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、アセトニ
トリル、クロロホルム、トルエン等の不活性溶媒が用い
られ、酸受容体としてはアルカリ金属の水素化物、水酸
化物あるいは炭酸塩、アルカリ土類金属の水酸化物、3
級アミン類等の有機、無機の塩基を用いることができる
。3級アミンは溶媒替わりに用いることもできる。低級
アルキルイソシアネートを反応させる場合トリエチルア
ミン、ピリジン等の三級アミンを触媒量加えてもよい。
このようにして得た所望のイソオキサゾール誘導体は再
結晶、カラムクロマトグラフィー、蒸留等の常法によっ
て容易に単離精製できる。
結晶、カラムクロマトグラフィー、蒸留等の常法によっ
て容易に単離精製できる。
なお、原料として用いた前記一般式(III)で表わさ
れる化合物は、対応するニトリルオキサイドと低級アル
キルカルボン酸のビニルエステルを反応させることによ
り製造することができる。ニトリルオキサイドは一般に
不安定で自己縮合しやすいものが多いので単離せずに用
いる方が良い。
れる化合物は、対応するニトリルオキサイドと低級アル
キルカルボン酸のビニルエステルを反応させることによ
り製造することができる。ニトリルオキサイドは一般に
不安定で自己縮合しやすいものが多いので単離せずに用
いる方が良い。
すなわち、以下の反応式に従って、
([11) 6
適当なヒドロキサム酸クロリドと低級アルキルカルボン
酸のビニルエステルを塩基条件下に反応させることによ
り反応液中においてニトリルオキサイドを生成させ、そ
のニトリルオキサイドと低級アルキルカルボン酸のビニ
ルエステルとの環状付加反応により製造することができ
る。
酸のビニルエステルを塩基条件下に反応させることによ
り反応液中においてニトリルオキサイドを生成させ、そ
のニトリルオキサイドと低級アルキルカルボン酸のビニ
ルエステルとの環状付加反応により製造することができ
る。
本発明に係わる前記一般式(T)および(U)により表
わされるイソオキサゾール誘導体を有効成分とする農園
芸用殺菌剤をは各種植物の灰色カビ病を始めうどんこ病
、疫病等の病害菌類によってひきおこされる病害に対し
て有効である。主な防除対象病害としては、 キュウリ
灰色カビ病、インゲン灰色カビ病、タマネギ灰色カビ病
、ナス灰色カビ病、キュウリうどんこ病、ナスうどんこ
病、ジャガイモ疫病、トマト疫病等が挙げられる。
わされるイソオキサゾール誘導体を有効成分とする農園
芸用殺菌剤をは各種植物の灰色カビ病を始めうどんこ病
、疫病等の病害菌類によってひきおこされる病害に対し
て有効である。主な防除対象病害としては、 キュウリ
灰色カビ病、インゲン灰色カビ病、タマネギ灰色カビ病
、ナス灰色カビ病、キュウリうどんこ病、ナスうどんこ
病、ジャガイモ疫病、トマト疫病等が挙げられる。
本発明化合物を実際に施用する場合には、他の成分を加
えずに草味の形でも使用できるが、防除薬剤として使い
やすくするため担体を配合して適用するのが好ましい。
えずに草味の形でも使用できるが、防除薬剤として使い
やすくするため担体を配合して適用するのが好ましい。
本発明化合物の製剤化に当たっては、何らの特別の条件
を必要とせず、−iM薬に準じて当業技術の熟知する方
法によって乳剤、水和剤、粉剤、粒剤、微粒剤、油剤、
エアゾール等の任意の剤型に調整でき、これらをそれぞ
れの目的に応じた各種用途に供し得る。
を必要とせず、−iM薬に準じて当業技術の熟知する方
法によって乳剤、水和剤、粉剤、粒剤、微粒剤、油剤、
エアゾール等の任意の剤型に調整でき、これらをそれぞ
れの目的に応じた各種用途に供し得る。
ここでいう担体とは、処理すべき部位への有効成分の到
達を助け、また有効成分化合物の貯蔵、輸送、取扱いを
容易にするために配合される合成または天然の無機また
は有機物質を意味する。
達を助け、また有効成分化合物の貯蔵、輸送、取扱いを
容易にするために配合される合成または天然の無機また
は有機物質を意味する。
適当な固体担体としてはモンモリロナイト、カオリナイ
トなどの粘土類;ケイソウ土、白土、タルク、バーミキ
ュライト、石膏、炭酸カルシウム、シリカゲル、硫安な
どの無機物質;大豆粉、鋸屑、小麦粉などの植物性有機
物質;および尿素などが挙げられる。
トなどの粘土類;ケイソウ土、白土、タルク、バーミキ
ュライト、石膏、炭酸カルシウム、シリカゲル、硫安な
どの無機物質;大豆粉、鋸屑、小麦粉などの植物性有機
物質;および尿素などが挙げられる。
適当な液体担体としてはトルエン、キシレン、クメンな
どの芳香族炭化水素類;ケロシン、鉱油などのパラフィ
ン系炭化水素類;四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロ
エタンなどのハロゲン化炭化水素類;アセトン、メチル
エチルケトンなどのケトン類ニジオキサン、テトラヒド
ロフランなどのエーテル類;メタノール、エタノール、
プロパツール、エチレングリコールなどのアルコール類
;ジメチルホルムアミド;ジメチルスルホキシド;水な
どが挙げられる。
どの芳香族炭化水素類;ケロシン、鉱油などのパラフィ
ン系炭化水素類;四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロ
エタンなどのハロゲン化炭化水素類;アセトン、メチル
エチルケトンなどのケトン類ニジオキサン、テトラヒド
ロフランなどのエーテル類;メタノール、エタノール、
プロパツール、エチレングリコールなどのアルコール類
;ジメチルホルムアミド;ジメチルスルホキシド;水な
どが挙げられる。
さらに本発明化合物の効力を増強するために、製剤の剤
型、適用場面等を考慮して、乳化、分散、拡展、湿潤、
結合、安定化等の目的に応じて種々の補助剤を、それぞ
れ単独に、または組合わせて使用することもできる。そ
のような補助剤の例としては、リグニンスルホン酸塩な
どの水溶性塩基;アルキルベンゼンスルホン酸塩等のア
ニオン界面活性剤;アルキル硫酸エステル、ポリオキシ
アルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンア
ルキルアリールエーテル、ポリオキシアルキレンアルキ
ルアミン、ポリオキシアルキレンアルキルアミド、ポリ
オキシアルキレンアルキルチオエーテル、ポリオキシア
ルキレン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、
ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキジアルキレンツル
ビクン脂肪酸エステル、ポリオキシブロビレンポリオキ
シェチレンブロフクボリマー等の非イオン性界面活性剤
ニステアリン酸カルシウム、ワックス等の滑剤;イソプ
ロピルヒドロジエンホスフェート等の安定剤;メチルセ
ルロース、カルボキシメチルセルロース、カゼイン、ア
ラビアゴム等その他の添加剤が挙げられる。しかし、こ
れらの成分は以上のものに限定されるものではない。
型、適用場面等を考慮して、乳化、分散、拡展、湿潤、
結合、安定化等の目的に応じて種々の補助剤を、それぞ
れ単独に、または組合わせて使用することもできる。そ
のような補助剤の例としては、リグニンスルホン酸塩な
どの水溶性塩基;アルキルベンゼンスルホン酸塩等のア
ニオン界面活性剤;アルキル硫酸エステル、ポリオキシ
アルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンア
ルキルアリールエーテル、ポリオキシアルキレンアルキ
ルアミン、ポリオキシアルキレンアルキルアミド、ポリ
オキシアルキレンアルキルチオエーテル、ポリオキシア
ルキレン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、
ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキジアルキレンツル
ビクン脂肪酸エステル、ポリオキシブロビレンポリオキ
シェチレンブロフクボリマー等の非イオン性界面活性剤
ニステアリン酸カルシウム、ワックス等の滑剤;イソプ
ロピルヒドロジエンホスフェート等の安定剤;メチルセ
ルロース、カルボキシメチルセルロース、カゼイン、ア
ラビアゴム等その他の添加剤が挙げられる。しかし、こ
れらの成分は以上のものに限定されるものではない。
さらにこれら本発明化合物は2種以上の配合使用によっ
て、より優れた殺菌力を発現させることも可能であり、
また他の生理活性物質、例えば他の殺菌剤や殺虫剤、殺
ダニ剤、殺線虫剤、除草剤、植物成長調整剤、肥料、B
T剤、昆虫ホルモン剤、その他の農薬等と混合すること
によりさらに効力の優れた多目的組成物をつくることも
でき、また相乗効果も期待できる。なお、本発明化合物
は光、熱、酸化等に安定であるが、必要に応じ酸化防止
剤あるいは紫外線吸収剤、例えばBHT(2,6−ジー
t−ブチル−4−メチルフェノール)、BHA(ブチル
ヒドロキシアニソール)のようなフエノル誘導体、ビス
フェノール誘導体、またはフェノール−α−ナフチルア
ミン、フェニル−β−す7チルアミン、フェネチジンと
アセトンの縮合物等のアリールアミン類あるいはベンゾ
フェノン系化金物類を安定剤として適景加えることによ
って、より効果の安定した組成物を得ることができる。
て、より優れた殺菌力を発現させることも可能であり、
また他の生理活性物質、例えば他の殺菌剤や殺虫剤、殺
ダニ剤、殺線虫剤、除草剤、植物成長調整剤、肥料、B
T剤、昆虫ホルモン剤、その他の農薬等と混合すること
によりさらに効力の優れた多目的組成物をつくることも
でき、また相乗効果も期待できる。なお、本発明化合物
は光、熱、酸化等に安定であるが、必要に応じ酸化防止
剤あるいは紫外線吸収剤、例えばBHT(2,6−ジー
t−ブチル−4−メチルフェノール)、BHA(ブチル
ヒドロキシアニソール)のようなフエノル誘導体、ビス
フェノール誘導体、またはフェノール−α−ナフチルア
ミン、フェニル−β−す7チルアミン、フェネチジンと
アセトンの縮合物等のアリールアミン類あるいはベンゾ
フェノン系化金物類を安定剤として適景加えることによ
って、より効果の安定した組成物を得ることができる。
本発明化合物の組成物の有効成分量は通常粉剤では0.
5〜20重量%、乳剤では5〜30重量%、水和剤では
10〜90重量%、フロワブル剤では10〜90重量%
である。
5〜20重量%、乳剤では5〜30重量%、水和剤では
10〜90重量%、フロワブル剤では10〜90重量%
である。
本発明に係わる化合物の代表例を第1表に揚げ、その製
造方法を具体的に説明するために、以下に代表的な合成
例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない
。
造方法を具体的に説明するために、以下に代表的な合成
例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない
。
第1表
化合物No、 Xn Y 敗屯(’C)、
n:’ NMR6r1.lsCppm)I招某 1 3−CI Br 5B、5〜60
.OB 8.862 4−CI Br
58.0〜61.5 A 8
.513 3−Br Br 56.0
〜57.5 A 8.484 2.3
−Cb Br 73.0〜74.OA
8.585 2.4−CI2 Br
4B、5〜49.3 A 8.606
3−CI CI、 45.0〜45.6
A 8.507 3.5−C1□B
r 88.0−88.5 B
8.468 2−CI Br 1.5
903 B 8.469 3.
4−C1z Br 87.5〜89.OB
8.4710 4−F Br
80.0〜81.5 B 8.47
11 3−CI N(CHs)z 63.5
〜65.5 B 8.0212 3.
5−CIZ CI 82.5〜84.0
B 8.52134−CF3Br1.52
05B8.491■肛1皇) Haの化学シフト 化合物No、 Xn Y 融点(℃)、n
二’ NMR6rss (ppaa>溶媒 14 3−c+ QC)I、 1.57
16 B 8.0915 3−CI
SCN 1.6047 B
8.8016 3−OCHFz C11,52
04B 8.4517 2−CI CI
1.5681 B 8.50
18 2−CI SCN 1.592
8 B 8.8619 2−CI
OCH:+ 1.5712 B
8.1020 3−CI 0COCH,1
,5560B ’8.8521 3−F
Br 53.0〜55.OA 8.50
22 3−F C11,5520A 8
.4423 3−CI 0CthCミCH1,5
757A 8.2924 3−CI 0C
ONHCI+3 65.0−釘、5 A
8.8025 3−CI、4−F Br
82.0〜83.5 B 8.4426
3−Br C150,O〜5L、OA 8
.5027 4−CN Br 115
.0〜117.OA 8.6328 2.4−
C1z 0CONHCHt 65.0〜68.5
B 8.84第1表(vtき) Haの化学シフト 化flグNo、 Xn Y EV
、、 (℃)、n:’ NMRδrss (
ppm)溶媒 29 2.4−CIt 0CII2C1+、CL
88.0〜89.OB 8.0830 3−
CI 0CIhCII=CHz 1.5638
B 8.0131 3−CI 0
CJI(Cth)z 1.5438 B
7.9832 3−CI 0CtlFz
1.5301 B 8.4333
2’CI 0CHzC=C)l 1.567
8 B 8.2634 2−CI
0CONHCHz 85.0〜86.OB
8.7935 2−C10C1(、CO□Cl+3
1.5446 B 8.2336 4
−CI 0CIlzCミCH81,0〜82.0
− −37 3−CI OCR,C
N 87.0〜88.5 A 8.44
38 4−CI QC)12CN 98.
0〜99.5 A 8..1239 2−
CI O)l 90.0〜93.5
C8,38403−CI Of(107,0〜
110.OC8,46414−CI OH150
,0〜152.0 C8,41422−CI
SH1,5970B 8.4243 2−c+
SCH31,5895B 8.4]第1
表(続き) Haの化学シフト 化合物No、Xn Y 融点(℃) + n
;ONMRδrns (ppm)l舅某 44 2−CI 5CHzC−CH1,5929
−−453−F 5C)12CミCI 1.5
824 B 8.6046 3−F
5CHs 1.5769 B
8.3547 3−CI SCH2C
MCH1,6063B 8.5648 3−
CI 5c)Iff 1.6036
B 8.3349 3−CI 5
CI(F□ 1.5589 B 8
.6350 3−CI NHCOCR(CH3)C
I 91.5〜93.5 A 8.3051
3−CI N)It 1.6028
B 7.9852 3−CI
SH1,6084B 8.4553 3−C
I 1 94.0〜95.OA
8.4854 2.6−C1z C184,0〜
85.OA 8.60合成実施例1゜ 3−(3−クロロフェニル)−4−クロロ−5−アセト
キシ−2−イソオキサゾリンの合成3−(3−クロロフ
ェニル)−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン2.
4gをベンゼン20m lに溶解し、次いでα、α゛
−アゾビスイソブチロニトリルを少量ずつ加え、塩素ガ
スを吹き込みながら還流温度で14時間攪拌した。溶媒
を減圧下で留去し残渣3.3gを得た。これをシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;トルエン)に
より精製し目的物2.2gを得た。
n:’ NMR6r1.lsCppm)I招某 1 3−CI Br 5B、5〜60
.OB 8.862 4−CI Br
58.0〜61.5 A 8
.513 3−Br Br 56.0
〜57.5 A 8.484 2.3
−Cb Br 73.0〜74.OA
8.585 2.4−CI2 Br
4B、5〜49.3 A 8.606
3−CI CI、 45.0〜45.6
A 8.507 3.5−C1□B
r 88.0−88.5 B
8.468 2−CI Br 1.5
903 B 8.469 3.
4−C1z Br 87.5〜89.OB
8.4710 4−F Br
80.0〜81.5 B 8.47
11 3−CI N(CHs)z 63.5
〜65.5 B 8.0212 3.
5−CIZ CI 82.5〜84.0
B 8.52134−CF3Br1.52
05B8.491■肛1皇) Haの化学シフト 化合物No、 Xn Y 融点(℃)、n
二’ NMR6rss (ppaa>溶媒 14 3−c+ QC)I、 1.57
16 B 8.0915 3−CI
SCN 1.6047 B
8.8016 3−OCHFz C11,52
04B 8.4517 2−CI CI
1.5681 B 8.50
18 2−CI SCN 1.592
8 B 8.8619 2−CI
OCH:+ 1.5712 B
8.1020 3−CI 0COCH,1
,5560B ’8.8521 3−F
Br 53.0〜55.OA 8.50
22 3−F C11,5520A 8
.4423 3−CI 0CthCミCH1,5
757A 8.2924 3−CI 0C
ONHCI+3 65.0−釘、5 A
8.8025 3−CI、4−F Br
82.0〜83.5 B 8.4426
3−Br C150,O〜5L、OA 8
.5027 4−CN Br 115
.0〜117.OA 8.6328 2.4−
C1z 0CONHCHt 65.0〜68.5
B 8.84第1表(vtき) Haの化学シフト 化flグNo、 Xn Y EV
、、 (℃)、n:’ NMRδrss (
ppm)溶媒 29 2.4−CIt 0CII2C1+、CL
88.0〜89.OB 8.0830 3−
CI 0CIhCII=CHz 1.5638
B 8.0131 3−CI 0
CJI(Cth)z 1.5438 B
7.9832 3−CI 0CtlFz
1.5301 B 8.4333
2’CI 0CHzC=C)l 1.567
8 B 8.2634 2−CI
0CONHCHz 85.0〜86.OB
8.7935 2−C10C1(、CO□Cl+3
1.5446 B 8.2336 4
−CI 0CIlzCミCH81,0〜82.0
− −37 3−CI OCR,C
N 87.0〜88.5 A 8.44
38 4−CI QC)12CN 98.
0〜99.5 A 8..1239 2−
CI O)l 90.0〜93.5
C8,38403−CI Of(107,0〜
110.OC8,46414−CI OH150
,0〜152.0 C8,41422−CI
SH1,5970B 8.4243 2−c+
SCH31,5895B 8.4]第1
表(続き) Haの化学シフト 化合物No、Xn Y 融点(℃) + n
;ONMRδrns (ppm)l舅某 44 2−CI 5CHzC−CH1,5929
−−453−F 5C)12CミCI 1.5
824 B 8.6046 3−F
5CHs 1.5769 B
8.3547 3−CI SCH2C
MCH1,6063B 8.5648 3−
CI 5c)Iff 1.6036
B 8.3349 3−CI 5
CI(F□ 1.5589 B 8
.6350 3−CI NHCOCR(CH3)C
I 91.5〜93.5 A 8.3051
3−CI N)It 1.6028
B 7.9852 3−CI
SH1,6084B 8.4553 3−C
I 1 94.0〜95.OA
8.4854 2.6−C1z C184,0〜
85.OA 8.60合成実施例1゜ 3−(3−クロロフェニル)−4−クロロ−5−アセト
キシ−2−イソオキサゾリンの合成3−(3−クロロフ
ェニル)−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン2.
4gをベンゼン20m lに溶解し、次いでα、α゛
−アゾビスイソブチロニトリルを少量ずつ加え、塩素ガ
スを吹き込みながら還流温度で14時間攪拌した。溶媒
を減圧下で留去し残渣3.3gを得た。これをシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;トルエン)に
より精製し目的物2.2gを得た。
屈折率;no20℃ 1.5644
ν””(cm”) : 3020.1756.1565
.1435.1375.1210.1050.1030
.963.880δ頻:” (ppm) : 2.
08(311,s)、5.10(LH,s)、6.60
(IH,s) 、7.2〜7.8(4H,m)合成実施
例2. 3−(2−クロロフェニル)−4−クロロ−5−アセト
キシ−2−イソオキサゾリンの合成3−(2−クロロフ
ェニル)−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン4.
0gをベンゼン30m lに溶解し、次いでα、α°
−アゾビスイソブチロニトリルを少量ずつ加え、塩素ガ
スを吹き込みながら還流温度で10時間攪拌した。溶媒
を減圧下で留去し残渣5.3gを得た。これをシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;トルエン)に
より精製し目的物3.6gを得た。
.1435.1375.1210.1050.1030
.963.880δ頻:” (ppm) : 2.
08(311,s)、5.10(LH,s)、6.60
(IH,s) 、7.2〜7.8(4H,m)合成実施
例2. 3−(2−クロロフェニル)−4−クロロ−5−アセト
キシ−2−イソオキサゾリンの合成3−(2−クロロフ
ェニル)−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン4.
0gをベンゼン30m lに溶解し、次いでα、α°
−アゾビスイソブチロニトリルを少量ずつ加え、塩素ガ
スを吹き込みながら還流温度で10時間攪拌した。溶媒
を減圧下で留去し残渣5.3gを得た。これをシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;トルエン)に
より精製し目的物3.6gを得た。
屈折率;no20℃1.5502
1””t(ca−’) : 3010.1765.15
90.1435.1375.1350.1210.10
40.963δ♀櫂’ (ppm) : 2.10
(3H,s)、5.55(1)1.s)、6.66(L
H,s) 、7.2〜7.8(4Hv+)さらに、合成
実施例1.および2.に従って以下の化合物を製造する
ことができる。3−(3−トリフルオロフェニル)−4
−クロロ−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン、3
−(3−ヨードフェニル)−4−クロロ−5−アセトキ
シ−2−イソオキサゾリン、3− (2−)リフルオロ
メチルフェニル)−4−クロロ−5−アセトキシ−2−
イソオキサゾリン、3−(3−1−リフルオロメトキシ
フェニル)−4−クロロ−5−アセトキシ−2−イソオ
キサゾリン、3−(3−ジフルオロメトキシフェニル)
−4−クロロ−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン
、3−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)−4−ク
ロロ−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン、3−(
2,3−ジクロロフェニル)−4−クロロ−5−アセト
キシ−2−イソオキサゾリン、3−(4−ニトロフェニ
ル)−4−クロロ−5−アセトキシ−2−イソオキサゾ
リン、3−(3,5−ジクロロフェニル)−4−クロロ
−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン、3−(2,
6−ジクロロフェニル)−4−クロロ−5−アセトキシ
−2−イソオキサゾリン等。
90.1435.1375.1350.1210.10
40.963δ♀櫂’ (ppm) : 2.10
(3H,s)、5.55(1)1.s)、6.66(L
H,s) 、7.2〜7.8(4Hv+)さらに、合成
実施例1.および2.に従って以下の化合物を製造する
ことができる。3−(3−トリフルオロフェニル)−4
−クロロ−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン、3
−(3−ヨードフェニル)−4−クロロ−5−アセトキ
シ−2−イソオキサゾリン、3− (2−)リフルオロ
メチルフェニル)−4−クロロ−5−アセトキシ−2−
イソオキサゾリン、3−(3−1−リフルオロメトキシ
フェニル)−4−クロロ−5−アセトキシ−2−イソオ
キサゾリン、3−(3−ジフルオロメトキシフェニル)
−4−クロロ−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン
、3−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)−4−ク
ロロ−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン、3−(
2,3−ジクロロフェニル)−4−クロロ−5−アセト
キシ−2−イソオキサゾリン、3−(4−ニトロフェニ
ル)−4−クロロ−5−アセトキシ−2−イソオキサゾ
リン、3−(3,5−ジクロロフェニル)−4−クロロ
−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン、3−(2,
6−ジクロロフェニル)−4−クロロ−5−アセトキシ
−2−イソオキサゾリン等。
合成実施例3゜
3−(2−クロロフェニル)−4−ブロモー5−アセト
キシ−2−イソオキサゾリンの合成3−(2−クロロフ
ェニル)−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン1.
9.0gとN−ブロモこはく酸イミド20.Ogをベン
ゼン300m1に溶解し、次いでα、α″ −アゾビス
イソブチロニトリルを少量ずつ加えながら窒素気流下還
流温度で16時間攪拌した。反応混合物を水に注ぎ込み
、酢酸エチルで抽出し、得られた酢酸エチル溶液を水洗
後乾燥した。酢酸エチルを減圧下で留去し残渣26.8
gを得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(展開溶媒;トルエン)により精製し目的物を18.6
g得た。
キシ−2−イソオキサゾリンの合成3−(2−クロロフ
ェニル)−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン1.
9.0gとN−ブロモこはく酸イミド20.Ogをベン
ゼン300m1に溶解し、次いでα、α″ −アゾビス
イソブチロニトリルを少量ずつ加えながら窒素気流下還
流温度で16時間攪拌した。反応混合物を水に注ぎ込み
、酢酸エチルで抽出し、得られた酢酸エチル溶液を水洗
後乾燥した。酢酸エチルを減圧下で留去し残渣26.8
gを得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(展開溶媒;トルエン)により精製し目的物を18.6
g得た。
屈折率; nl、20’C1,5672ν″”’((J
l−’) : 3020.1778.1445.138
5.1220.1043.1036.965.860.
773δ頴?(’ppm) : 2.17(3H,s
)、5.63(LH,s)、6.90(LH,s)、7
.3〜7.8(4H,m)合成実施例4゜ 3−(4−ジフルオロメチルフェニル)−4−ブロモ−
5−アセトキシ−2−イソオキサゾリンの合成 3−(4−ジフルオロメチルフェニル)−5−アセトキ
シ−2−イソオキサゾリン5.1gとN−ブロモこばく
酸イミド3.7gをベンゼン30m lに溶解し、次い
でα、α゛ −アゾビスイソブチロニトリルを少量ずつ
加えながら窒素気流下還流温度で12時間撹拌した0反
応混合物を水に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出し、得られ
た酢酸エチル溶液を水洗後乾燥した。酢酸エチルを減圧
下で留去し残渣6.2gを得た。これをシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(展開溶媒;トルエン)により精
製し目的物4.6gを得た。
l−’) : 3020.1778.1445.138
5.1220.1043.1036.965.860.
773δ頴?(’ppm) : 2.17(3H,s
)、5.63(LH,s)、6.90(LH,s)、7
.3〜7.8(4H,m)合成実施例4゜ 3−(4−ジフルオロメチルフェニル)−4−ブロモ−
5−アセトキシ−2−イソオキサゾリンの合成 3−(4−ジフルオロメチルフェニル)−5−アセトキ
シ−2−イソオキサゾリン5.1gとN−ブロモこばく
酸イミド3.7gをベンゼン30m lに溶解し、次い
でα、α゛ −アゾビスイソブチロニトリルを少量ずつ
加えながら窒素気流下還流温度で12時間撹拌した0反
応混合物を水に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出し、得られ
た酢酸エチル溶液を水洗後乾燥した。酢酸エチルを減圧
下で留去し残渣6.2gを得た。これをシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(展開溶媒;トルエン)により精
製し目的物4.6gを得た。
屈折率1no20℃1.5182
W’:、::’Ccm−’) : 3010、17
44< 1610、1515.1390.1380.
1360.1242.1230.1130.1060.
970.850 δ頴、” (ppm) : 2.10(3H,s)
、5.12(IH,s)、6.55(LH,t、J−7
2Hz) 、6.82(IH,s)、7.21 (2H
,d、 J−8Hz)、7.80(211,d、J=8
)1z)さらに、合成実施例3.および4.に従って以
下の化合物を製造することができる。3−(3−トリフ
ルオロフェニル)−4−ブロモ−5−アセトキシ−2−
イソオキサゾリン、3−(3−ヨードフェニル)−4−
ブロモ−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン、3−
(2−トリフルオロメチルフェニル)−4−ブロモ−5
−アセトキシ−2−インオキサゾリン、3−(3−トリ
フルオロメトキシフェニル)−4−ブロモー5−アセト
キシ−2−イソオキサゾリン、3− (3〜ジフロルオ
ロメトキシフエニル)−4−ブロモ−5−アセトキシ−
2−イソオキサゾリン、3− (3−クロロ−4−フル
オロフェニル)−4−ブロモ−5−アセトキシ−2−イ
ソオキサゾリン、3−(2,3−ジクロロフェニル)−
4−ブロモー5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン、
3−(4−ニトロフェニル)−4−ブロモ−5−アセト
キシ−2−イソオキサゾリン、3−(2,6−ジクロロ
フェニル)−4−ブロモー5−アセトキシ−2−イソオ
キサゾリン等。
44< 1610、1515.1390.1380.
1360.1242.1230.1130.1060.
970.850 δ頴、” (ppm) : 2.10(3H,s)
、5.12(IH,s)、6.55(LH,t、J−7
2Hz) 、6.82(IH,s)、7.21 (2H
,d、 J−8Hz)、7.80(211,d、J=8
)1z)さらに、合成実施例3.および4.に従って以
下の化合物を製造することができる。3−(3−トリフ
ルオロフェニル)−4−ブロモ−5−アセトキシ−2−
イソオキサゾリン、3−(3−ヨードフェニル)−4−
ブロモ−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン、3−
(2−トリフルオロメチルフェニル)−4−ブロモ−5
−アセトキシ−2−インオキサゾリン、3−(3−トリ
フルオロメトキシフェニル)−4−ブロモー5−アセト
キシ−2−イソオキサゾリン、3− (3〜ジフロルオ
ロメトキシフエニル)−4−ブロモ−5−アセトキシ−
2−イソオキサゾリン、3− (3−クロロ−4−フル
オロフェニル)−4−ブロモ−5−アセトキシ−2−イ
ソオキサゾリン、3−(2,3−ジクロロフェニル)−
4−ブロモー5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン、
3−(4−ニトロフェニル)−4−ブロモ−5−アセト
キシ−2−イソオキサゾリン、3−(2,6−ジクロロ
フェニル)−4−ブロモー5−アセトキシ−2−イソオ
キサゾリン等。
合成実施例5゜
3−(3−クロロフェニル)−4−40ロイソオキサゾ
ール(皮企皇匣」)の合成 3−(3−クロロフェニル)−4−クロロ−5−アセト
キシ−2−イソオキサゾリン1.1gをテトラヒドロフ
ラン20m lに溶解し、次いで1.8−ジアザビシク
ロ(5,4,0)ウンデセン(D B U)1ml を
水冷下で加えた後、室温で0.5時間撹拌した0反応混
合物を水に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出し、得られた酢
酸エチル溶液を希塩酸で洗浄後水洗、乾燥した。酢酸エ
チルを減圧下で留去し残11.0gを得た。これをシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;トルエン
/ヘキサン=2/l)により精製し目的物0.8gを得
た。
ール(皮企皇匣」)の合成 3−(3−クロロフェニル)−4−クロロ−5−アセト
キシ−2−イソオキサゾリン1.1gをテトラヒドロフ
ラン20m lに溶解し、次いで1.8−ジアザビシク
ロ(5,4,0)ウンデセン(D B U)1ml を
水冷下で加えた後、室温で0.5時間撹拌した0反応混
合物を水に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出し、得られた酢
酸エチル溶液を希塩酸で洗浄後水洗、乾燥した。酢酸エ
チルを減圧下で留去し残11.0gを得た。これをシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;トルエン
/ヘキサン=2/l)により精製し目的物0.8gを得
た。
融点、 45.0〜45.6°C0
V”’ (cm−’) : 3150.3070.15
80.1442.1363.1163.1150.10
83.882δ冗11コ(ppm) : 7.4〜7
.6(2)1.m) 、7.6〜7.9(2H,nl)
、8.50(lfl、s)合成実施例6゜ 3−(2−クロロフェニル)−4−チオシアノイソオキ
サゾール(止金生立ユ鉦の合成3−(2−クロロフェニ
ル)−4−ブロモー5−アセトキシ−2−イソオキサゾ
リン1.0gをジメチルホルムアミド10m1に溶解し
、次いでチオシアン酸カリウム1.0gを加え80”C
で8時間攪拌した0反応混合物を水に注ぎ込み、酢酸エ
チルで抽出し、得られた酢酸エチル溶液を水洗後乾燥し
た。酢酸エチルを減圧下で留去し残渣1.1gを得た。
80.1442.1363.1163.1150.10
83.882δ冗11コ(ppm) : 7.4〜7
.6(2)1.m) 、7.6〜7.9(2H,nl)
、8.50(lfl、s)合成実施例6゜ 3−(2−クロロフェニル)−4−チオシアノイソオキ
サゾール(止金生立ユ鉦の合成3−(2−クロロフェニ
ル)−4−ブロモー5−アセトキシ−2−イソオキサゾ
リン1.0gをジメチルホルムアミド10m1に溶解し
、次いでチオシアン酸カリウム1.0gを加え80”C
で8時間攪拌した0反応混合物を水に注ぎ込み、酢酸エ
チルで抽出し、得られた酢酸エチル溶液を水洗後乾燥し
た。酢酸エチルを減圧下で留去し残渣1.1gを得た。
これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒
;トルエン/ヘキサン−271)により精製し目的物0
.5gを得た。
;トルエン/ヘキサン−271)により精製し目的物0
.5gを得た。
屈折率;no 20℃1.5928
ν′1t(cm−’) : 3130.2160.16
00.15451、 笥Lx 1440、1370.1130.1070.1000.
850、δcr櫂” <99m): 7.3〜7.7(
4H,i) 、8.86(IH,s)合成実施例7゜ 3−(3−クロロフェニル)−4−アセトキシ−5−ヒ
ドロキシ−2−イソオキサゾリンの合成3−(2−クロ
ロフェニル)−4−ブロモ−5−アセトキシ−2−イソ
オキサゾリン2.0gを氷酢酸20m lに溶解し、次
いで無水酢酸ナトリウム1.0gを加え110℃で6時
間攪拌した0反応混合物を水に注ぎ込み、酢酸エチルで
抽出し、得られた酢酸エチル?8液を水洗後乾燥した。
00.15451、 笥Lx 1440、1370.1130.1070.1000.
850、δcr櫂” <99m): 7.3〜7.7(
4H,i) 、8.86(IH,s)合成実施例7゜ 3−(3−クロロフェニル)−4−アセトキシ−5−ヒ
ドロキシ−2−イソオキサゾリンの合成3−(2−クロ
ロフェニル)−4−ブロモ−5−アセトキシ−2−イソ
オキサゾリン2.0gを氷酢酸20m lに溶解し、次
いで無水酢酸ナトリウム1.0gを加え110℃で6時
間攪拌した0反応混合物を水に注ぎ込み、酢酸エチルで
抽出し、得られた酢酸エチル?8液を水洗後乾燥した。
酢酸エチルを減圧下で留去しP2渣1.8gを得た。こ
れをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;
トルエン/酢酸エチル=5/1 )により精製して、3
−(3−クロロフェニル)−4,5−ジアセトキシ−2
−インオキサゾリン0.5gの他に目的物0.4gを得
た。
れをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;
トルエン/酢酸エチル=5/1 )により精製して、3
−(3−クロロフェニル)−4,5−ジアセトキシ−2
−インオキサゾリン0.5gの他に目的物0.4gを得
た。
融点; 79.5〜82.0℃。
ν””(c+n−’) : 3320(br)、294
0.1750.1735.1560.1370.124
0.1210.1120.1050.950.900 δ課讐(ppm): 2.13(3Ls)、4.2〜4
.7(LH,m)5.80(LH,s)、6.18(l
)1.s)、7.2〜7.8 (4tLm) 合成実施例8゜ 3−(3−クロロフェニル) −4,5−ジアセトキシ
−2−イソオキサプリンの合成 3−(2−クロロフェニル)−4−ブロモ−5−アセト
キシ−2−イソオキサプリン9.7gを氷酢酸40m
lに溶解し、次いで無水酢酸ナトリウム8.0gおよび
無水酢酸2Iwlを加え、窒素気流下110・Cで8時
間攪拌した0反応混合物を水に注ぎ込み、トルエンで抽
出し、得られたトルエン溶液を水洗後乾燥した。トルエ
ンを減圧下で留去し残渣8.8gを得た。これをシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;トルエン/
酢酸エチル−571)により精製し目的物7.3gを油
状物として得た。
0.1750.1735.1560.1370.124
0.1210.1120.1050.950.900 δ課讐(ppm): 2.13(3Ls)、4.2〜4
.7(LH,m)5.80(LH,s)、6.18(l
)1.s)、7.2〜7.8 (4tLm) 合成実施例8゜ 3−(3−クロロフェニル) −4,5−ジアセトキシ
−2−イソオキサプリンの合成 3−(2−クロロフェニル)−4−ブロモ−5−アセト
キシ−2−イソオキサプリン9.7gを氷酢酸40m
lに溶解し、次いで無水酢酸ナトリウム8.0gおよび
無水酢酸2Iwlを加え、窒素気流下110・Cで8時
間攪拌した0反応混合物を水に注ぎ込み、トルエンで抽
出し、得られたトルエン溶液を水洗後乾燥した。トルエ
ンを減圧下で留去し残渣8.8gを得た。これをシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;トルエン/
酢酸エチル−571)により精製し目的物7.3gを油
状物として得た。
δ醒”;’ (ppm) : 2.14(3H,s)
、2.16(3H,s)、6.32(LH,s)、6.
52(18,s)、7.3.〜7.8 (4H,m) 合成実施例9゜ 3−(3−クロロフェニル)−4−アセトキシイソオキ
サゾール(化”’1MNo、20) の合成3−(3
−クロロフェニル) −4,5−ジアセトキシ−2−イ
ソオキサゾリン5.5gをテトラヒドロフラン40国1
に溶解し、次いで1.8−ジアザビシクロ[5,4,0
)ウンデセン(DBU)5mlを水冷下で加えた後、室
温で5時間攪拌した0反応混合物を水に注ぎ込み、酢酸
エチルで抽出し、得られた酢酸エチル溶液を希塩酸で洗
浄後水洗、乾燥した。酢酸エチルを減圧下で留去し残渣
5−2gを得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(展開溶媒;トルエン)により精製し目的物4.
1gを得た。
、2.16(3H,s)、6.32(LH,s)、6.
52(18,s)、7.3.〜7.8 (4H,m) 合成実施例9゜ 3−(3−クロロフェニル)−4−アセトキシイソオキ
サゾール(化”’1MNo、20) の合成3−(3
−クロロフェニル) −4,5−ジアセトキシ−2−イ
ソオキサゾリン5.5gをテトラヒドロフラン40国1
に溶解し、次いで1.8−ジアザビシクロ[5,4,0
)ウンデセン(DBU)5mlを水冷下で加えた後、室
温で5時間攪拌した0反応混合物を水に注ぎ込み、酢酸
エチルで抽出し、得られた酢酸エチル溶液を希塩酸で洗
浄後水洗、乾燥した。酢酸エチルを減圧下で留去し残渣
5−2gを得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(展開溶媒;トルエン)により精製し目的物4.
1gを得た。
屈折率1nn20℃1.5560
1””’(Cl11−’) : 3150.1770.
1600.1460.1440.1370.1200.
1050.885δ頴’、4(ppm): 2.34(
3H,s) 、7.3〜7.5(2H,m)7.6〜7
.9(2H,m) 、8.85(LH,s)合成実施例
10゜ 3−(3−クロロフェニル)−4−ジメチルアミノ−5
−ヒドロキシ−2−イソオキサゾリンの合成 3−(3−クロロフェニル)−4−ブロモ−5−アセト
キシ−2−イソオキサゾリン3.0gをテトラヒドロフ
ラン20m1に溶解し、次いで室温でジメチルアミンを
約2gを吹き込んだ後、室温で5時間撹拌した0反応混
合物を水に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出し、得られた酢
酸エチル溶液を水洗後乾燥した。酢酸エチルを減圧下で
留去し粗結晶2.0gを得た。これをヘキサン−ベンゼ
ンでスラツシングし目的物1.8gを得た。
1600.1460.1440.1370.1200.
1050.885δ頴’、4(ppm): 2.34(
3H,s) 、7.3〜7.5(2H,m)7.6〜7
.9(2H,m) 、8.85(LH,s)合成実施例
10゜ 3−(3−クロロフェニル)−4−ジメチルアミノ−5
−ヒドロキシ−2−イソオキサゾリンの合成 3−(3−クロロフェニル)−4−ブロモ−5−アセト
キシ−2−イソオキサゾリン3.0gをテトラヒドロフ
ラン20m1に溶解し、次いで室温でジメチルアミンを
約2gを吹き込んだ後、室温で5時間撹拌した0反応混
合物を水に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出し、得られた酢
酸エチル溶液を水洗後乾燥した。酢酸エチルを減圧下で
留去し粗結晶2.0gを得た。これをヘキサン−ベンゼ
ンでスラツシングし目的物1.8gを得た。
融点;141〜144℃(分解)。
ν”’ (cl’) : 3300〜2600.148
5.1470.1445.1355.1115.109
0.1050.905.855.775 δC′”3 (ppm): 2.25(6H,s)、4
.76(LH,s)、5.82(18,s) 、7.2
〜7.7(4H,m)合成実施例11゜ 3− (3−10ロフエニル)−4−メチルカルバモイ
ルオキシイソオキサゾール(ts ” elJ N o
、 24 )の合成 3−(3−クロロフェニル)−4−1ニー)’ロキシイ
ソオキサゾール0.5gをテトラヒドロフラン10m1
にン容解し、次いでメチルイソシアネート0.3mlお
よびトリエチルアミン0.05m1を加え室温で1時間
攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた油状物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒: トル
エン/酢酸エチル−471)で精製し目的物0.5gを
得た。
5.1470.1445.1355.1115.109
0.1050.905.855.775 δC′”3 (ppm): 2.25(6H,s)、4
.76(LH,s)、5.82(18,s) 、7.2
〜7.7(4H,m)合成実施例11゜ 3− (3−10ロフエニル)−4−メチルカルバモイ
ルオキシイソオキサゾール(ts ” elJ N o
、 24 )の合成 3−(3−クロロフェニル)−4−1ニー)’ロキシイ
ソオキサゾール0.5gをテトラヒドロフラン10m1
にン容解し、次いでメチルイソシアネート0.3mlお
よびトリエチルアミン0.05m1を加え室温で1時間
攪拌した。減圧下で溶媒を留去し、得られた油状物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒: トル
エン/酢酸エチル−471)で精製し目的物0.5gを
得た。
融点;65゜0〜67.5°C
ν話″X(ロー’) : 3280.3175.17
50.161O11455,1355,1225,10
75δ”” (ppm) : 2.19(3H,
s)、5.27(LH,br s) 、7.3 〜7
.5(2tl、m) 、7.6 〜7.9(2H,m
)、8.80(II(、s)合成実施例12゜ 3−(3−クロロフェニル)−ジフルオロメトキシイソ
オキサゾール(■o No、32) の合成3−(
3−クロロフェニル)−4−ヒドロキシイソオキサゾー
ル1.Ogをアセトニトリル50m1に溶解し、水酸化
カリウム0.7gの水溶液2mlを加え、次いで60〜
70℃でクロロジフルオロメタンガスを30分間吹き込
んだ。反応混合物を水に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出し
、得られた酢酸エチル溶液を水洗後乾燥した。酢酸エチ
ルを減圧下で留去し、得られた油状物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(展開溶媒;トルエン)で精製し
目的物0.6gを得た。
50.161O11455,1355,1225,10
75δ”” (ppm) : 2.19(3H,
s)、5.27(LH,br s) 、7.3 〜7
.5(2tl、m) 、7.6 〜7.9(2H,m
)、8.80(II(、s)合成実施例12゜ 3−(3−クロロフェニル)−ジフルオロメトキシイソ
オキサゾール(■o No、32) の合成3−(
3−クロロフェニル)−4−ヒドロキシイソオキサゾー
ル1.Ogをアセトニトリル50m1に溶解し、水酸化
カリウム0.7gの水溶液2mlを加え、次いで60〜
70℃でクロロジフルオロメタンガスを30分間吹き込
んだ。反応混合物を水に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出し
、得られた酢酸エチル溶液を水洗後乾燥した。酢酸エチ
ルを減圧下で留去し、得られた油状物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(展開溶媒;トルエン)で精製し
目的物0.6gを得た。
屈折率; n、 20℃1.5301
u”’ (cm−’): 3150.1617.1
470.1380.1280.1255.1240.1
143.1130.1105.1070 δcc”+ (ppm) : 6.47(IH
,t、J=72Hz) 、7.2 〜Mj 7.5(211,m)、7.5 〜7.9(2H,m)
8.43 (IH,m) 合成実施例13゜ 3−(2−クロロフェニル)−4−メチルチオイソオキ
サゾールB2” No、43) の合成3−(2−
クロロフェニル)−4−メルカプトイソオキサゾール1
.0gをジメチルホルムアミド10m1に溶解し、次い
でヨウ化メチル1.0gおよび無水炭酸カリウム1.0
gを加え室温にて1時間攪拌した。反応混合物を水に注
ぎ込み、酢酸エチルで抽出し、得られた酢酸エチル溶液
を水洗後乾燥した。酢酸エチルを減圧下で留去し残渣1
.4gを得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(展開溶媒;ジクロロメタン/ヘキサン= 3/2
)により精製し目的物0.9gを得た。
470.1380.1280.1255.1240.1
143.1130.1105.1070 δcc”+ (ppm) : 6.47(IH
,t、J=72Hz) 、7.2 〜Mj 7.5(211,m)、7.5 〜7.9(2H,m)
8.43 (IH,m) 合成実施例13゜ 3−(2−クロロフェニル)−4−メチルチオイソオキ
サゾールB2” No、43) の合成3−(2−
クロロフェニル)−4−メルカプトイソオキサゾール1
.0gをジメチルホルムアミド10m1に溶解し、次い
でヨウ化メチル1.0gおよび無水炭酸カリウム1.0
gを加え室温にて1時間攪拌した。反応混合物を水に注
ぎ込み、酢酸エチルで抽出し、得られた酢酸エチル溶液
を水洗後乾燥した。酢酸エチルを減圧下で留去し残渣1
.4gを得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(展開溶媒;ジクロロメタン/ヘキサン= 3/2
)により精製し目的物0.9gを得た。
屈折率;n、20℃1.5895゜
”””(cps−’): 3140.1610.15
60.1510.1440.1375.1120.10
75.765 .740 δ!、4.”(ppm) : 2.16(3H,s)、
7.2〜7.6(411,m)8.41(LH,s) 参考例。
60.1510.1440.1375.1120.10
75.765 .740 δ!、4.”(ppm) : 2.16(3H,s)、
7.2〜7.6(411,m)8.41(LH,s) 参考例。
3−(3−ブロモフェニル)−5−アセトキシ−2−イ
ソオキサゾリンの合成 3−ブロモフェニルヒドロキサム酸クロリド2.3gお
よび酢酸ビニル1.9gをテトラヒドロフラン20m
l に溶解し、この溶液に0〜5°Cでトリエチルアミ
ン2mlを10分間かけて滴下した後、室温で3時間反
応した0反応部合物を水に注ぎ込の、酢酸エチルで抽出
し、得られた酢酸エチル?8液を水洗後乾燥した。酢酸
エチルを減圧下で留去し残渣3.3gを得た。これをシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー゛(展開溶媒;ヘキ
サン/酢酸エチル=4/1)により精製し目的物2.4
gを得た。
ソオキサゾリンの合成 3−ブロモフェニルヒドロキサム酸クロリド2.3gお
よび酢酸ビニル1.9gをテトラヒドロフラン20m
l に溶解し、この溶液に0〜5°Cでトリエチルアミ
ン2mlを10分間かけて滴下した後、室温で3時間反
応した0反応部合物を水に注ぎ込の、酢酸エチルで抽出
し、得られた酢酸エチル?8液を水洗後乾燥した。酢酸
エチルを減圧下で留去し残渣3.3gを得た。これをシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー゛(展開溶媒;ヘキ
サン/酢酸エチル=4/1)により精製し目的物2.4
gを得た。
融点; 70.5〜71.5℃。
νK” (cm−’) : 1750.1557.14
23.1362、1220.1176.1027.95
6 .860δcc” (ppm);2.00(3tl
、s)、3.14(18,dd、J=2.16Hz)3
.48(LH,dd、J=7.161(z)、6.67
(LH。
23.1362、1220.1176.1027.95
6 .860δcc” (ppm);2.00(3tl
、s)、3.14(18,dd、J=2.16Hz)3
.48(LH,dd、J=7.161(z)、6.67
(LH。
dd、J−2+7Hz) 、7.1 〜7.8(4B
、m)さらに以下の化合物は参考例に従って製造するこ
とができる。(融点または屈折率;口。20℃)3−(
4−クロロフェニル)−5−アセトキシ−2−イソオキ
サゾリン(88,0〜90.0℃)、3−(3−クロロ
フェニル)−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン(
68,0〜70.5℃)、3−(2−クロロフェニル)
−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン(1,556
4)、3−(4−ジフルオロメトキシフェニル)−5−
アセトキシ−2−イソオキサゾリン(1,5182)、
3−(4−シアノフェニル)−5−アセトキシ−2−イ
ソオキサゾリン(150,5〜151.3℃)、3−(
2,4−ジクロロフェニル)−5−アセトキシ−2−イ
ソオキサゾリン(60,5〜61.5℃)、3−(2,
3−ジクロロフェニル)−5−アセトキシ−2−イソオ
キサゾリン(1,5672)、3−(3−ニトロフェニ
ル)−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン(111
,0〜112.5℃)、3−(4−フルオロフェニル)
−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン(121,0
〜125.0℃(dec、))3−(2−り四ロー5−
二トロフェニル)−5−アセトキシ−2−イソオキサゾ
リン(98,0〜100゜0℃)、 3−(2,6−ジクロロフェニル)−5−アセトキシ−
2−イソオキサゾリン(132,0〜134.0℃)、
3−(3−)リフルオロメチルフェニル)−5−アセト
キシ−2−イソオキサゾリン(1,4965)、3−(
3−)リフルオロメトキシ)−5−アセトキシ−2−イ
ソオキサゾリン、 3−(4−1−リフルオロアセトキシフェニル)−5−
アセトキシ−2−イソオキサゾリン。
、m)さらに以下の化合物は参考例に従って製造するこ
とができる。(融点または屈折率;口。20℃)3−(
4−クロロフェニル)−5−アセトキシ−2−イソオキ
サゾリン(88,0〜90.0℃)、3−(3−クロロ
フェニル)−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン(
68,0〜70.5℃)、3−(2−クロロフェニル)
−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン(1,556
4)、3−(4−ジフルオロメトキシフェニル)−5−
アセトキシ−2−イソオキサゾリン(1,5182)、
3−(4−シアノフェニル)−5−アセトキシ−2−イ
ソオキサゾリン(150,5〜151.3℃)、3−(
2,4−ジクロロフェニル)−5−アセトキシ−2−イ
ソオキサゾリン(60,5〜61.5℃)、3−(2,
3−ジクロロフェニル)−5−アセトキシ−2−イソオ
キサゾリン(1,5672)、3−(3−ニトロフェニ
ル)−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン(111
,0〜112.5℃)、3−(4−フルオロフェニル)
−5−アセトキシ−2−イソオキサゾリン(121,0
〜125.0℃(dec、))3−(2−り四ロー5−
二トロフェニル)−5−アセトキシ−2−イソオキサゾ
リン(98,0〜100゜0℃)、 3−(2,6−ジクロロフェニル)−5−アセトキシ−
2−イソオキサゾリン(132,0〜134.0℃)、
3−(3−)リフルオロメチルフェニル)−5−アセト
キシ−2−イソオキサゾリン(1,4965)、3−(
3−)リフルオロメトキシ)−5−アセトキシ−2−イ
ソオキサゾリン、 3−(4−1−リフルオロアセトキシフェニル)−5−
アセトキシ−2−イソオキサゾリン。
次に、本発明の農園芸用殺菌剤の製造法を製剤例を若干
示し説明するが、添加物および添加割合は、これらの実
施例に限定されるべきものではなく、広い範囲に変化さ
せることが可能である。
示し説明するが、添加物および添加割合は、これらの実
施例に限定されるべきものではなく、広い範囲に変化さ
せることが可能である。
有効成分化合物は前記第1表の化合物番号で示す、「部
」は「重量部」を表す。
」は「重量部」を表す。
製剤例1.$e剤
化合物No、2 : 3部、ケイソウ土:20部、白土
:30部およびタルク:47部を均一に粉砕混合して、
粉剤100部を得た。
:30部およびタルク:47部を均一に粉砕混合して、
粉剤100部を得た。
製剤例2.水和剤
化合物No、3 : 30部、ケイソウ土:47部、
白土:20部、リグニンスルホン酸ナトリウム:1部お
よびアルキルヘンゼンスルホン酸ナトリウム:2部を均
一に粉砕混合して、粉剤100部を得た。
白土:20部、リグニンスルホン酸ナトリウム:1部お
よびアルキルヘンゼンスルホン酸ナトリウム:2部を均
一に粉砕混合して、粉剤100部を得た。
製剤例31粒剤
化合物No、6 : 7部、ポリエチレングリコールノ
ニルフェニルエーテル:1部、ポリビニルアルコール:
3部およびクレイ:89部を均一に粉砕混合し、加水造
粒後、乾燥し粉剤100部を得た。
ニルフェニルエーテル:1部、ポリビニルアルコール:
3部およびクレイ:89部を均一に粉砕混合し、加水造
粒後、乾燥し粉剤100部を得た。
製剤例4.粉削
化合物No、9 : 2部、炭酸カルシウム140部お
よびクレイ:58部を均一に粉砕混合して、粉剤100
部を得た。
よびクレイ:58部を均一に粉砕混合して、粉剤100
部を得た。
製剤例5.水和剤
化合物No、12 : 50部、タルク:40部、ラウ
リン酸ナトリウム:5部およびアルキルナフタレン酸ナ
トリウム;5部を混合し水和剤100部を得た。
リン酸ナトリウム:5部およびアルキルナフタレン酸ナ
トリウム;5部を混合し水和剤100部を得た。
製剤例6.永和剤
化合物No、22 : 50部、リグニンスルホン酸ナ
トリウムニ10部、アルキルナフタレン 5部、ホワイトカーボン:10部およびケイソウ土:2
5部を均一に粉砕混合して、水和剤100部を得た。
トリウムニ10部、アルキルナフタレン 5部、ホワイトカーボン:10部およびケイソウ土:2
5部を均一に粉砕混合して、水和剤100部を得た。
製剤例7.フロアブル荊
化合物No.32 : 40部、カルボキシメチルセル
ロース:3部、リグニンスルホン酸ナトリウム=2部、
ジオクチルスルホサクシネートナトリウム塩=1部およ
び水:54部をサンドグラインダーで湿式粉砕し、フロ
ワブル剤100部を得た。
ロース:3部、リグニンスルホン酸ナトリウム=2部、
ジオクチルスルホサクシネートナトリウム塩=1部およ
び水:54部をサンドグラインダーで湿式粉砕し、フロ
ワブル剤100部を得た。
次に試験例を挙げて、本発明化合物の生理活性を詳しく
説明する。
説明する。
試験例1.キュウリ灰色かび病防除試験温室内でポット
に育成したキュウリ (品種:相撲半白、子葉2枚展開
)に所定濃度の薬剤(供試化合物を製剤例5.の方法に
準じて水和剤を調製し、これを水で所定濃度に希釈した
もの)をスプレーガン(1,0Kg/ca! )を使用
して3鉢当たり20m1敗布し、風乾した。予めPDA
培地にて培養した灰色かび病菌より胞子液を調製し、そ
れを前記ポットのキュウリに噴霧接種した。接種したポ
ットを直ちに22〜24℃、ン温度95X以上に保った
後、子葉の病斑形成程度を調査した。評価基準は以下の
とおりである。
に育成したキュウリ (品種:相撲半白、子葉2枚展開
)に所定濃度の薬剤(供試化合物を製剤例5.の方法に
準じて水和剤を調製し、これを水で所定濃度に希釈した
もの)をスプレーガン(1,0Kg/ca! )を使用
して3鉢当たり20m1敗布し、風乾した。予めPDA
培地にて培養した灰色かび病菌より胞子液を調製し、そ
れを前記ポットのキュウリに噴霧接種した。接種したポ
ットを直ちに22〜24℃、ン温度95X以上に保った
後、子葉の病斑形成程度を調査した。評価基準は以下の
とおりである。
罹病度 O;病斑面積割合 0χ1: 〆
1〜10χ2: 11
〜25χ3:” 26〜50χ 4: 151%以上 全子葉について上記のごとく罹病度をもとめ、各区毎に
平均値を算出し、罹病度とした。なお、4〜5本/ボッ
ト、3連を一区とした。結果を第2表に示した。
1〜10χ2: 11
〜25χ3:” 26〜50χ 4: 151%以上 全子葉について上記のごとく罹病度をもとめ、各区毎に
平均値を算出し、罹病度とした。なお、4〜5本/ボッ
ト、3連を一区とした。結果を第2表に示した。
第2表
キュウリ灰色かび病防除試験結果
対照化合物A:
(米国特許3578673号)
(ベノミル)
試験例2.キュウリうどんこ病防除試験温室内でポット
に育成したキュウリ (品種:和積半白、子葉1枚展開
)に所定濃度の薬剤(供試化合物を製剤例5.の方法に
準じて水和剤を調製し、これを水で所定濃度に希釈した
もの)をスプレーガン(1,0Kg/alりを使用して
3鉢当たり30m1散布し、風乾した。自然発生したキ
ュウリうどんこ病菌の胞子を集め、それを前記ポットの
キュウリ葉に噴霧接種した。接種したポットを温室内(
18〜27℃)に9日間保った後、子葉の病斑形成程度
を調査した。評価基準は前述の通りである。 全ての第
一本葉について罹病度を求め、各区毎に平均値を算出し
、罹病度とした。なお、4〜5本/ボット、3連を一区
とした。
に育成したキュウリ (品種:和積半白、子葉1枚展開
)に所定濃度の薬剤(供試化合物を製剤例5.の方法に
準じて水和剤を調製し、これを水で所定濃度に希釈した
もの)をスプレーガン(1,0Kg/alりを使用して
3鉢当たり30m1散布し、風乾した。自然発生したキ
ュウリうどんこ病菌の胞子を集め、それを前記ポットの
キュウリ葉に噴霧接種した。接種したポットを温室内(
18〜27℃)に9日間保った後、子葉の病斑形成程度
を調査した。評価基準は前述の通りである。 全ての第
一本葉について罹病度を求め、各区毎に平均値を算出し
、罹病度とした。なお、4〜5本/ボット、3連を一区
とした。
結果を第3表に示した。
工主去
キュウリうどんこ病防除試験結果
(注)対照化合物^、Bは試験例1に同じ。
試験例1.および2.に示した結果より、本発明化合物
群はキュウリ灰色カビ病およびキュウリうどんこ病に対
して現在市販されているベノミル(ベンズイミダゾール
)に比し、はるかに優れた効果を示している。また本発
明化合物群は米国特許3578673号に開示されてい
る化合物群、つまり3−(4−ニトロフェニル)−4−
クロロイソオキサゾール等からは予想できない優れた防
除効果を存していることは明らかである。
群はキュウリ灰色カビ病およびキュウリうどんこ病に対
して現在市販されているベノミル(ベンズイミダゾール
)に比し、はるかに優れた効果を示している。また本発
明化合物群は米国特許3578673号に開示されてい
る化合物群、つまり3−(4−ニトロフェニル)−4−
クロロイソオキサゾール等からは予想できない優れた防
除効果を存していることは明らかである。
以上の説明より明らかなように、本発明に係わる3−ア
リール−4−置換イソオキサゾール誘導体は高い殺苗力
と広い設置スペクトルを有する優れた化合物である。す
なわち、一般細菌のみならず各種植物の灰色カビ病を始
めうどんこ病、疫病等の植物病害菌に対しても高い殺菌
活性を示す化合物である。
リール−4−置換イソオキサゾール誘導体は高い殺苗力
と広い設置スペクトルを有する優れた化合物である。す
なわち、一般細菌のみならず各種植物の灰色カビ病を始
めうどんこ病、疫病等の植物病害菌に対しても高い殺菌
活性を示す化合物である。
本発明に係わる3−了り−ルー4−1換イソオキサゾー
ル誘導体は本発明に係わる製造方法により容易に製造す
ることが出来る。
ル誘導体は本発明に係わる製造方法により容易に製造す
ることが出来る。
また、本発明に係わる3−アリール−4−置換イソオキ
サゾール化合物を含量する組成物は農園芸用殺菌剤とし
て優れた特性を具備し有用である。
サゾール化合物を含量する組成物は農園芸用殺菌剤とし
て優れた特性を具備し有用である。
特許出廓人
三井東圧化学株式会社
Claims (5)
- (1)一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、Xは同一または異なっていてもよく、ハロゲン
原子、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基また
はシアノ基を示し、nは1から5までの整数を示し、Y
はハロゲン原子または−A−R^1を示し(式中、Aは
酸素原子、硫黄原子、−NH−基または−NR^2−基
を示し、R^1、R^2は同一または異なっていてもよ
く、水素原子、低級アルキル基、シアノ基、低級アルケ
ニル基、低級アルキニル基、低級ハロアルキル基、低級
アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニル低
級アルキル基、低級ハロアルキルカルボニル基、低級シ
アノアルキル基、低級アシル基または低級アルキルカル
バモイル基を示す)ただし、Xnが2,6−ジクロル基
で、Yが塩素原子である場合を除く〕で表わされる3−
アリール−4−置換イソオキサゾール誘導体。 - (2)一般式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中、Xは同一または異なっていてもよく、ハロゲン
原子、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基また
はシアノ基を示し、nは1から5までの整数を示し、Y
はハロゲン原子または−A−R^1を示し(式中、Aは
酸素原子、硫黄原子、−NH−基または−NR^2−基
を示し、R^1、R^2は同一または異なっていてもよ
く、水素原子、低級アルキル基、シアノ基、低級アルケ
ニル基、低級アルキニル基、低級ハロアルキル基、低級
アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニル低
級アルキル基、低級ハロアルキルカルボニル基、低級シ
アノアルキル基、低級アシル基または低級アルキルカル
バモイル基を示す)〕 で表わされる3−アリール−4−置換イソオキサゾール
誘導体を有効成分として含有することを特徴とする農園
芸用殺菌剤。 - (3)一般式(III): ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、X^1は同一または異なっていてもよく、水素
原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基、低級
アルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、低級ハ
ロアルキルスルホニル基、低級ハロアルキルスルホニル
オキシ基または低級ハロアルコキシスルホニル基を示し
、nは1から5までの整数を示し、R^3は低級アルキ
ル基を示す)で表わされる化合物をハロゲン化し、一般
式(IV):▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中、X^1、nおよびR^3は前記と同じ意味を示
し、Y^1はハロゲン原子を示す) で表わされる化合物を得、次いで該化合物を加熱するか
、または塩基と反応させることを特徴とする一般式(V
): ▲数式、化学式、表等があります▼(V) (式中、X^1、nおよびY^1は前記と同じ意味を示
す)で表わされる3−アリール−4−置換イソオキサゾ
ール誘導体の製造方法。 - (4)一般式(IV): ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中、X^1は同一または異なっていてもよく、水素
原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基、低級
アルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、低級ハ
ロアルキルスルホニル基、低級ハロアルキルスルホニル
オキシ基または低級ハロアルコキシスルホニル基を示し
、nは1から5までの整数を示し、R^3は低級アルキ
ル基を示し、Y^1はハロゲン原子を示す) で表わされる化合物と一般式 H−A−R^1 (式中、Aは酸素原子、硫黄原子、−NH−基または−
NR^2−基を示し、R^1、R^2は同一または異な
っていてもよく、水素原子、低級アルキル基、シアノ基
、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級ハロアル
キル基、低級アシル基または低級アルキルカルバモイル
基を示す) で表わされる化合物を反応させることを特徴とする一般
式(VI): ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) (式中、X^1、n、AおよびR^1は前記と同じ意味
を示す) で表わされる3−アリール−4−置換イソオキサゾール
誘導体の製造方法。 - (5)一般式(VII): ▲数式、化学式、表等があります▼(VII) (式中、X^1は同一または異なっていてもよく、水素
原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基、低級
アルコキシカルボニル基、シアノ基、低級ハロアルキル
スルホニル基、低級ハロアルキルスルホニルオキシ基ま
たは低級ハロアルコキシスルホニル基を示し、nは1か
ら5までの整数を示し、Bは酸素原子または硫黄原子、
−NH−基または−NR^4−基を示し、R^4は低級
アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低
級ハロアルキル基、低級アルコキシカルボニル基、低級
アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級ハロアルキ
ルカルボニル基、低級シアノアルキル基、低級アシル基
、低級ハロアルキルスルホニル基、低級ジアルキルホス
ホリル基、低級ジアルキルチオホスホリル基または低級
アルキルカルバモイル基を示し、Zはハロゲン原子を示
す) で表わされる化合物と一般式 R^5−Z (式中、R^5は低級アルキル基、低級アルケニル基、
低級アルキニル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキ
シカルボニル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキ
ル基、低級ハロアルキルカルボニル基、低級シアノアル
キル基、低級アシル基、低級ハロアルキルスルホニル基
、低級ジアルキルホスホリル基、低級ジアルキルチオホ
スホリル基または低級アルキルカルバモイル基を示し、
Zはハロゲン原子を示す) で表わされる化合物、または一般式 R^6−NCO (式中、R^6は低級アルキル基を示す) で表わされる化合物を反応させることを特徴とする一般
式(VIII): ▲数式、化学式、表等があります▼(VIII) (式中、Wは−B−R^5または−CONH−R^6を
示し、X^1、n、B、R^5およびR^6は前記と同
じ意味を示す) で表わされる3−アリール−4−置換イソオキサゾール
誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18185586A JPS6339867A (ja) | 1986-08-04 | 1986-08-04 | 3−アリ−ル−4−置換イソオキサゾ−ル誘導体、その製造方法およびそれらを含有する農園芸用殺菌剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18185586A JPS6339867A (ja) | 1986-08-04 | 1986-08-04 | 3−アリ−ル−4−置換イソオキサゾ−ル誘導体、その製造方法およびそれらを含有する農園芸用殺菌剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6339867A true JPS6339867A (ja) | 1988-02-20 |
Family
ID=16108009
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18185586A Pending JPS6339867A (ja) | 1986-08-04 | 1986-08-04 | 3−アリ−ル−4−置換イソオキサゾ−ル誘導体、その製造方法およびそれらを含有する農園芸用殺菌剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6339867A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999005130A1 (de) * | 1997-07-23 | 1999-02-04 | Basf Aktiengesellschaft | Substituierte 3-phenylisoxazoline |
-
1986
- 1986-08-04 JP JP18185586A patent/JPS6339867A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999005130A1 (de) * | 1997-07-23 | 1999-02-04 | Basf Aktiengesellschaft | Substituierte 3-phenylisoxazoline |
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