JP2984775B2 - トリアゾール誘導体、水田用除草剤組成物及びその使用方法 - Google Patents
トリアゾール誘導体、水田用除草剤組成物及びその使用方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、トリアゾール誘導体、
水田用除草剤組成物及びその使用方法に関する。
水田用除草剤組成物及びその使用方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】今日まで、多くの除草剤が見い出され、
それらの中には水田用除草剤として開発されたものもあ
る。しかしながら、イネに薬害がなく、且つ種々の水田
重要雑草に低薬量で有効な薬剤は未だ見い出されていな
い。
それらの中には水田用除草剤として開発されたものもあ
る。しかしながら、イネに薬害がなく、且つ種々の水田
重要雑草に低薬量で有効な薬剤は未だ見い出されていな
い。
【０００３】米国特許第５１０８４８６号明細書には、
ある種の４−フェニル−１，２，４−トリアゾール誘導
体が除草活性を有することが開示されている。しかしな
がら上記明細書中には、畑地条件下での試験例が記載さ
れているものの、必ずしも十分な除草活性を示すもので
はなく、また湛水条件下での水田雑草に対する除草効果
及び同条件下でのイネに対する作物選択性を示すデータ
は一切記載されていない。
ある種の４−フェニル−１，２，４−トリアゾール誘導
体が除草活性を有することが開示されている。しかしな
がら上記明細書中には、畑地条件下での試験例が記載さ
れているものの、必ずしも十分な除草活性を示すもので
はなく、また湛水条件下での水田雑草に対する除草効果
及び同条件下でのイネに対する作物選択性を示すデータ
は一切記載されていない。
【０００４】
【発明の開示】本発明者らは、上述の背景を踏まえ、４
−フェニル−１，２，４−トリアゾール誘導体に興味を
抱き、当該誘導体の湛水土壌処理における水田雑草に対
する除草効果とイネに対する作物選択性について詳細に
検討を続けてきた。その結果、米国特許第５１０８４８
６号明細書には開示も示唆もない下記一般式（Ｉ）で表
される１，２，４−トリアゾール誘導体が湛水土壌処理
試験においてイネに薬害がなく、且つ低薬量で水田の重
要雑草を完全に撲滅させる極めて高い選択性を有するこ
とを見い出した。本発明は斯かる知見に基づき完成され
たものである。
−フェニル−１，２，４−トリアゾール誘導体に興味を
抱き、当該誘導体の湛水土壌処理における水田雑草に対
する除草効果とイネに対する作物選択性について詳細に
検討を続けてきた。その結果、米国特許第５１０８４８
６号明細書には開示も示唆もない下記一般式（Ｉ）で表
される１，２，４−トリアゾール誘導体が湛水土壌処理
試験においてイネに薬害がなく、且つ低薬量で水田の重
要雑草を完全に撲滅させる極めて高い選択性を有するこ
とを見い出した。本発明は斯かる知見に基づき完成され
たものである。
【０００５】即ち、本発明は、一般式
【０００６】
【化２】
【０００７】〔式中Ｒ1 及びＲ2 は同一又は異なって水
素原子又は低級アルキル基を示す。Ｒ3 は低級アルキル
基を示す。Ｘは酸素原子又は硫黄原子を示す。〕で表さ
れる１，２，４−トリアゾール誘導体、該誘導体を有効
成分とする水田用除草剤組成物、及び水田の湛水土壌処
理法において用いる水田用除草剤組成物の使用方法に係
る。
素原子又は低級アルキル基を示す。Ｒ3 は低級アルキル
基を示す。Ｘは酸素原子又は硫黄原子を示す。〕で表さ
れる１，２，４−トリアゾール誘導体、該誘導体を有効
成分とする水田用除草剤組成物、及び水田の湛水土壌処
理法において用いる水田用除草剤組成物の使用方法に係
る。
【０００８】上記一般式（Ｉ）において、低級アルキル
基としては、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イ
ソプロピル、ｎ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げ
られる。
基としては、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イ
ソプロピル、ｎ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げ
られる。
【０００９】上記一般式（Ｉ）の本発明化合物には、以
下の化合物が包含される。
下の化合物が包含される。
【００１０】Ｒ1 及びＲ2 が水素原子、Ｒ3 がメチル基
である一般式（Ｉ）の化合物；Ｒ1 及びＲ2 が水素原
子、Ｒ3 がエチル基である一般式（Ｉ）の化合物；Ｒ1
が水素原子、Ｒ2 及びＲ3 がメチル基である一般式
（Ｉ）の化合物；Ｒ1 が水素原子、Ｒ2 がメチル基、Ｒ
3 がエチル基である一般式（Ｉ）の化合物；Ｒ1 及びＲ
3 がメチル基、Ｒ2 が水素原子である一般式（Ｉ）の化
合物；Ｒ1 がメチル基、Ｒ2 が水素原子、Ｒ3 がエチル
基である一般式（Ｉ）の化合物；Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 が
メチル基である一般式（Ｉ）の化合物；Ｒ1 及びＲ2 が
メチル基、Ｒ3 がエチル基である一般式（Ｉ）の化合
物。
である一般式（Ｉ）の化合物；Ｒ1 及びＲ2 が水素原
子、Ｒ3 がエチル基である一般式（Ｉ）の化合物；Ｒ1
が水素原子、Ｒ2 及びＲ3 がメチル基である一般式
（Ｉ）の化合物；Ｒ1 が水素原子、Ｒ2 がメチル基、Ｒ
3 がエチル基である一般式（Ｉ）の化合物；Ｒ1 及びＲ
3 がメチル基、Ｒ2 が水素原子である一般式（Ｉ）の化
合物；Ｒ1 がメチル基、Ｒ2 が水素原子、Ｒ3 がエチル
基である一般式（Ｉ）の化合物；Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 が
メチル基である一般式（Ｉ）の化合物；Ｒ1 及びＲ2 が
メチル基、Ｒ3 がエチル基である一般式（Ｉ）の化合
物。
【００１１】本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物
は、例えば下記反応式−１に示す方法により製造され
る。
は、例えば下記反応式−１に示す方法により製造され
る。
【００１２】
【化３】
【００１３】〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 及びＸは前記に
同じ。〕 上記反応式−１によれば、本発明化合物は、一般式（I
I）で表される（チオ）カルバジド類と無水トリフルオ
ロ酢酸とを反応させることにより製造される。この反応
で使用される溶剤としては、例えばベンゼン、トルエン
等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、１，２−ジク
ロロエタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類や
これらの混合溶媒等を挙げることができる。一般式（I
I）の（チオ）カルバジド類と無水トリフルオロ酢酸と
の使用割合としては、特に限定されるものではないが、
通常前者に対して後者を０．５〜２倍モル程度、好まし
くは１．２〜１．５倍モル程度とするのがよい。上記反
応は室温から使用される溶剤の沸点までの温度範囲で良
好に進行し、通常１〜５時間程度で該反応は完結する。
上記反応式−１において、出発原料として用いられる一
般式（II）の（チオ）カルバジド類は、公知の方法〔Ｓ
ｙｎｔｈｅｓｉｓ−Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ，（１２），９
２３（１９８９）〕に準じて簡便に製造され得る。
同じ。〕 上記反応式−１によれば、本発明化合物は、一般式（I
I）で表される（チオ）カルバジド類と無水トリフルオ
ロ酢酸とを反応させることにより製造される。この反応
で使用される溶剤としては、例えばベンゼン、トルエン
等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、１，２−ジク
ロロエタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類や
これらの混合溶媒等を挙げることができる。一般式（I
I）の（チオ）カルバジド類と無水トリフルオロ酢酸と
の使用割合としては、特に限定されるものではないが、
通常前者に対して後者を０．５〜２倍モル程度、好まし
くは１．２〜１．５倍モル程度とするのがよい。上記反
応は室温から使用される溶剤の沸点までの温度範囲で良
好に進行し、通常１〜５時間程度で該反応は完結する。
上記反応式−１において、出発原料として用いられる一
般式（II）の（チオ）カルバジド類は、公知の方法〔Ｓ
ｙｎｔｈｅｓｉｓ−Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ，（１２），９
２３（１９８９）〕に準じて簡便に製造され得る。
【００１４】本発明の化合物は、イネには全く無害で、
同じイネ科のイネ属以外のメヒシバ属、ノビエ属を始め
イネ科及び広葉雑草を選択的に防除できるため、水稲の
生産向上や水田の有害雑草の防除に極めて有効である。
同じイネ科のイネ属以外のメヒシバ属、ノビエ属を始め
イネ科及び広葉雑草を選択的に防除できるため、水稲の
生産向上や水田の有害雑草の防除に極めて有効である。
【００１５】本発明の化合物を水田用除草剤として使用
する場合、乳剤、水和剤、水溶剤、粒剤、微粒剤、顆粒
剤、粉剤、スプレー用製剤、エアゾール製剤、マイクロ
カプセル製剤、燻蒸用製剤、燻煙用製剤等の各種の製剤
形態で用いることができる。
する場合、乳剤、水和剤、水溶剤、粒剤、微粒剤、顆粒
剤、粉剤、スプレー用製剤、エアゾール製剤、マイクロ
カプセル製剤、燻蒸用製剤、燻煙用製剤等の各種の製剤
形態で用いることができる。
【００１６】本発明の水田用除草剤に配合される補助剤
としては、この分野で通常使用されているものを広く使
用でき、例えば珪藻土、カオリン、クレー、ベントナイ
ト、ホワイトカーボン、タルク等の増量剤、ポリオキシ
エチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキ
ルエステル、ポリオキシエチレンソルビタンアルキルエ
ステル等の非イオン界面活性剤、アルキルベンゼンスル
ホネート、アルキルスルホサクシネート、アルキルサル
フェート、ポリオキシエチレンアルキルサルフェート、
アルキルスルフォネート、アリルスルフォネート、リグ
ニン亜硫酸塩等の陰イオン界面活性剤等を挙げることが
できる。
としては、この分野で通常使用されているものを広く使
用でき、例えば珪藻土、カオリン、クレー、ベントナイ
ト、ホワイトカーボン、タルク等の増量剤、ポリオキシ
エチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキ
ルエステル、ポリオキシエチレンソルビタンアルキルエ
ステル等の非イオン界面活性剤、アルキルベンゼンスル
ホネート、アルキルスルホサクシネート、アルキルサル
フェート、ポリオキシエチレンアルキルサルフェート、
アルキルスルフォネート、アリルスルフォネート、リグ
ニン亜硫酸塩等の陰イオン界面活性剤等を挙げることが
できる。
【００１７】また本発明の水田用除草剤に配合される溶
解剤や希釈剤としては、各種有機溶媒、各種エアゾール
噴射剤、各種天然鉱物、各種合成化合物等を用いること
ができる。例えば、有機溶剤としてはベンゼン、トルエ
ン、キシレン、エチルベンゼン、クロルベンゼン、アル
キルナフタリン、クロルエチレン、シクロヘキサノン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アルコ
ール類、セロソルブ類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、アセトニトリル、鉱油留分及び水等が
好んで用いられる。エアゾール噴射剤としては例えばプ
ロパン、ブタン、ハロゲン化炭化水素、窒素、二酸化炭
素等を例示できる。
解剤や希釈剤としては、各種有機溶媒、各種エアゾール
噴射剤、各種天然鉱物、各種合成化合物等を用いること
ができる。例えば、有機溶剤としてはベンゼン、トルエ
ン、キシレン、エチルベンゼン、クロルベンゼン、アル
キルナフタリン、クロルエチレン、シクロヘキサノン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アルコ
ール類、セロソルブ類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、アセトニトリル、鉱油留分及び水等が
好んで用いられる。エアゾール噴射剤としては例えばプ
ロパン、ブタン、ハロゲン化炭化水素、窒素、二酸化炭
素等を例示できる。
【００１８】更に本発明の水田用除草剤は、有機乃至無
機染料を用いて着色が施されていてもよい。
機染料を用いて着色が施されていてもよい。
【００１９】本発明において、上記各種製剤を製造する
に当っては、本発明の化合物が０．１〜９５重量％程
度、好ましくは０．５〜９０重量％程度含有されるよう
に製剤すればよい。斯くして得られる製剤は、そのまま
で又は担体もしくは水で希釈して用いられるが、目的に
応じて０．０００１〜１００重量％程度、好ましくは
０．００１〜１０重量％程度の範囲で自由に希釈して使
用するのがよい。
に当っては、本発明の化合物が０．１〜９５重量％程
度、好ましくは０．５〜９０重量％程度含有されるよう
に製剤すればよい。斯くして得られる製剤は、そのまま
で又は担体もしくは水で希釈して用いられるが、目的に
応じて０．０００１〜１００重量％程度、好ましくは
０．００１〜１０重量％程度の範囲で自由に希釈して使
用するのがよい。
【００２０】本発明の水田用除草剤を使用するに当って
は、特に限定されるものではないが、水田の湛水土壌処
理法において本発明除草剤を使用するのが好ましい。そ
の使用例としては、例えば田植え４〜６日後、湛水状態
に保たれた水田に本発明組成物（粒剤）を散布して水田
雑草を防除すればよい。
は、特に限定されるものではないが、水田の湛水土壌処
理法において本発明除草剤を使用するのが好ましい。そ
の使用例としては、例えば田植え４〜６日後、湛水状態
に保たれた水田に本発明組成物（粒剤）を散布して水田
雑草を防除すればよい。
【００２１】
【実施例】以下に製造例、製剤例及び試験例を掲げて本
発明をより一層明らかにする。製剤例において「部」と
あるのは「重量部」を意味する。
発明をより一層明らかにする。製剤例において「部」と
あるのは「重量部」を意味する。
【００２２】製造例１ Ｒ1 がメチル基、Ｒ2 が水素原子、Ｒ3 がメチル基及び
Ｘが硫黄原子である一般式（Ｉ）の化合物（化合物１）
の製造 チオセミカルバジト５．３ミリモルのトルエン３０ｍｌ
懸濁液に、氷冷下で無水トリフルオロ酢酸６．９ミリモ
ルを滴下し、滴下終了後、反応混合物を更に３時間室温
で攪拌した。反応液を１０％炭酸ナトリウム水溶液で洗
浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。溶媒を留去
し、残留物をシリカゲルカラム（展開溶媒；ヘキサン：
酢酸エチル＝４：１）で精製して、白色結晶の目的物
（化合物１）を２．０ｇ得た。
Ｘが硫黄原子である一般式（Ｉ）の化合物（化合物１）
の製造 チオセミカルバジト５．３ミリモルのトルエン３０ｍｌ
懸濁液に、氷冷下で無水トリフルオロ酢酸６．９ミリモ
ルを滴下し、滴下終了後、反応混合物を更に３時間室温
で攪拌した。反応液を１０％炭酸ナトリウム水溶液で洗
浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。溶媒を留去
し、残留物をシリカゲルカラム（展開溶媒；ヘキサン：
酢酸エチル＝４：１）で精製して、白色結晶の目的物
（化合物１）を２．０ｇ得た。
【００２３】融点１１３〜１１４℃1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；２．５６（３
Ｈ，ＣＨ3 −Ｃ）、３．９２（３Ｈ，ＣＨ3 −Ｎ）、
６．６３（１Ｈ，ＣＨ＝Ｃ）、７．２２（１Ｈ，芳香族
Ｈ）。
Ｈ，ＣＨ3 −Ｃ）、３．９２（３Ｈ，ＣＨ3 −Ｎ）、
６．６３（１Ｈ，ＣＨ＝Ｃ）、７．２２（１Ｈ，芳香族
Ｈ）。
【００２４】適当な出発原料を用い、上記製造例１と同
様にして以下の化合物を得た。
様にして以下の化合物を得た。
【００２５】Ｒ1 がメチル基、Ｒ2 がメチル基、Ｒ3 が
メチル基及びＸが硫黄原子である一般式（Ｉ）の化合物
（化合物２）； 融点１０４〜１０５℃1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；２．３５，２．
４２（６Ｈ，ＣＨ3 −Ｃ）、３．８９（３Ｈ，ＣＨ3 −
Ｎ）、７．２２（１Ｈ，芳香族Ｈ）。
メチル基及びＸが硫黄原子である一般式（Ｉ）の化合物
（化合物２）； 融点１０４〜１０５℃1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；２．３５，２．
４２（６Ｈ，ＣＨ3 −Ｃ）、３．８９（３Ｈ，ＣＨ3 −
Ｎ）、７．２２（１Ｈ，芳香族Ｈ）。
【００２６】Ｒ1 がメチル基、Ｒ2 がメチル基、Ｒ3 が
メチル基及びＸが酸素原子である一般式（Ｉ）の化合物
（化合物３）； 融点１０９〜１１０℃1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；２．３５，２．
４２（６Ｈ，ＣＨ3 −Ｃ）、３．６２（３Ｈ，ＣＨ3 −
Ｎ）、７．２４（１Ｈ，芳香族Ｈ）。
メチル基及びＸが酸素原子である一般式（Ｉ）の化合物
（化合物３）； 融点１０９〜１１０℃1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；２．３５，２．
４２（６Ｈ，ＣＨ3 −Ｃ）、３．６２（３Ｈ，ＣＨ3 −
Ｎ）、７．２４（１Ｈ，芳香族Ｈ）。
【００２７】Ｒ1 がメチル基、Ｒ2 が水素原子、Ｒ3 が
メチル基及びＸが酸素原子である一般式（Ｉ）の化合物
（化合物４）； 融点１１５〜１１６℃1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；２．５６（３
Ｈ，ＣＨ3 −Ｃ）、３．６３（３Ｈ，ＣＨ3 −Ｎ）、
６．６０（１Ｈ，ＣＨ＝Ｃ）、７．２４（１Ｈ，芳香族
Ｈ）。
メチル基及びＸが酸素原子である一般式（Ｉ）の化合物
（化合物４）； 融点１１５〜１１６℃1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；２．５６（３
Ｈ，ＣＨ3 −Ｃ）、３．６３（３Ｈ，ＣＨ3 −Ｎ）、
６．６０（１Ｈ，ＣＨ＝Ｃ）、７．２４（１Ｈ，芳香族
Ｈ）。
【００２８】Ｒ1 が水素原子、Ｒ2 がメチル基、Ｒ3 が
メチル基及びＸが硫黄原子である一般式（Ｉ）の化合物
（化合物５）； 融点１１１〜１１２℃1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；２．５２（３
Ｈ，ＣＨ3 −Ｃ）、３．９０（３Ｈ，ＣＨ3 −Ｎ）、
７．２４（１Ｈ，芳香族Ｈ）、７．４０（１Ｈ，ＣＨ＝
Ｃ）。
メチル基及びＸが硫黄原子である一般式（Ｉ）の化合物
（化合物５）； 融点１１１〜１１２℃1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；２．５２（３
Ｈ，ＣＨ3 −Ｃ）、３．９０（３Ｈ，ＣＨ3 −Ｎ）、
７．２４（１Ｈ，芳香族Ｈ）、７．４０（１Ｈ，ＣＨ＝
Ｃ）。
【００２９】Ｒ1 が水素原子、Ｒ2 がメチル基、Ｒ3 が
メチル基及びＸが酸素原子である一般式（Ｉ）の化合物
（化合物６）； 融点１１４〜１１５℃1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；２．５２（３
Ｈ，ＣＨ3 −Ｃ）、３．９０（３Ｈ，ＣＨ3 −Ｎ）、
７．２４（１Ｈ，芳香族Ｈ）、７．４０（１Ｈ，ＣＨ＝
Ｃ）。
メチル基及びＸが酸素原子である一般式（Ｉ）の化合物
（化合物６）； 融点１１４〜１１５℃1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；２．５２（３
Ｈ，ＣＨ3 −Ｃ）、３．９０（３Ｈ，ＣＨ3 −Ｎ）、
７．２４（１Ｈ，芳香族Ｈ）、７．４０（１Ｈ，ＣＨ＝
Ｃ）。
【００３０】Ｒ1 が水素原子、Ｒ2 が水素原子、Ｒ3 が
エチル基及びＸが硫黄原子である一般式（Ｉ）の化合物
（化合物７）； 融点１１３〜１１４℃1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；１．３０（３
Ｈ，ＣＨ3 −Ｃ）、３．８６（２Ｈ，ＣＨ2 −Ｎ）、
６．３０（１Ｈ，ＣＨ＝Ｃ）、７．２４（１Ｈ，芳香族
Ｈ）、７．４０（１Ｈ，ＣＨ＝Ｃ）。
エチル基及びＸが硫黄原子である一般式（Ｉ）の化合物
（化合物７）； 融点１１３〜１１４℃1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；１．３０（３
Ｈ，ＣＨ3 −Ｃ）、３．８６（２Ｈ，ＣＨ2 −Ｎ）、
６．３０（１Ｈ，ＣＨ＝Ｃ）、７．２４（１Ｈ，芳香族
Ｈ）、７．４０（１Ｈ，ＣＨ＝Ｃ）。
【００３１】Ｒ1 が水素原子、Ｒ2 が水素原子、Ｒ3 が
メチル基及びＸが酸素原子である一般式（Ｉ）の化合物
（化合物８）； 融点１２７〜１２８℃1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；３．６０（３
Ｈ，ＣＨ3 −Ｎ）、６．３０（１Ｈ，ＣＨ＝Ｃ）、７．
２４（１Ｈ，芳香族Ｈ）、７．４０（１Ｈ，ＣＨ＝
Ｃ）。
メチル基及びＸが酸素原子である一般式（Ｉ）の化合物
（化合物８）； 融点１２７〜１２８℃1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；３．６０（３
Ｈ，ＣＨ3 −Ｎ）、６．３０（１Ｈ，ＣＨ＝Ｃ）、７．
２４（１Ｈ，芳香族Ｈ）、７．４０（１Ｈ，ＣＨ＝
Ｃ）。
【００３２】 製剤例１（１０％水和剤） 一般式（Ｉ）の化合物 １０．０部 ジークライト（カリオン系クレー：ジークライト工業（株）製） ８７．３部 ソルポール８００Ａ １．３５部 ルノックスＰ−６５−Ｌ（東邦化学工業（株）製） １．３５部 製剤例２（１０％粒剤） 一般式（Ｉ）の化合物 １０．０部 リグニンスルホン酸ナトリウム ０．５部 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム ２．０部 珪藻土 ２７．５部 ベントナイト ６０．０部 試験例１（湛水土壌処理試験） 外形９．２ｃｍ、内径８．５ｃｍ、高さ９．０ｃｍの磁
製ポットに、予め混合機内で水を加えて適度な粘度に調
製した殖壌土と適当量の混合肥料とを入れ、土壌表面に
ノビエ、ホタルイ、広葉雑草（キカシグサ、アゼナ）、
タマガヤツリ及びコナギの種子を播種した。軽く鎮圧し
て土壌表面を平らにした後、２葉期のイネ（品種：アキ
ニシキ）を移植し約３ｃｍの深さに湛水した。３日後、
供試化合物の有効成分量が所定の割合になるように湛水
面に均一に散布した。散布の際の薬液は、前記製剤例１
に示した処方の水和剤を水で希釈してピペットにより湛
水面に均一に滴下した。薬液散布３週間後にイネ及び各
種雑草に対する除草効果を下記の判定基準に従って調査
し、その結果を表１に示した。尚、表１中の供試化合物
番号は、上記製造例における化合物番号に対応する。
製ポットに、予め混合機内で水を加えて適度な粘度に調
製した殖壌土と適当量の混合肥料とを入れ、土壌表面に
ノビエ、ホタルイ、広葉雑草（キカシグサ、アゼナ）、
タマガヤツリ及びコナギの種子を播種した。軽く鎮圧し
て土壌表面を平らにした後、２葉期のイネ（品種：アキ
ニシキ）を移植し約３ｃｍの深さに湛水した。３日後、
供試化合物の有効成分量が所定の割合になるように湛水
面に均一に散布した。散布の際の薬液は、前記製剤例１
に示した処方の水和剤を水で希釈してピペットにより湛
水面に均一に滴下した。薬液散布３週間後にイネ及び各
種雑草に対する除草効果を下記の判定基準に従って調査
し、その結果を表１に示した。尚、表１中の供試化合物
番号は、上記製造例における化合物番号に対応する。
【００３３】判定基準； ５…殺草率１００％（完全枯
死）、４．５…殺草率９０〜１００％、４…殺草率７０
〜９０％、３…殺草率４０〜７０％、２…殺草率２０〜
４０％、１…殺草率０〜２０％、０…殺草率０％（無
害）。
死）、４．５…殺草率９０〜１００％、４…殺草率７０
〜９０％、３…殺草率４０〜７０％、２…殺草率２０〜
４０％、１…殺草率０〜２０％、０…殺草率０％（無
害）。
【００３４】
【表１】
【００３５】
【発明の効果】本発明によれば、水田の重要雑草に対し
て少量で優れた防除効果を発現し且つイネに対しては無
害な水田用除草剤が提供される。
て少量で優れた防除効果を発現し且つイネに対しては無
害な水田用除草剤が提供される。
フロントページの続き (72)発明者 多田 功 徳島県鳴門市里浦町里浦字花面615番地 大塚化学株式会社鳴門研究所内 (72)発明者 元木 稔 徳島県鳴門市里浦町里浦字花面615番地 大塚化学株式会社鳴門研究所内 (72)発明者 ▲柳▼▲瀬▼ 大輔 徳島県鳴門市里浦町里浦字花面615番地 大塚化学株式会社鳴門研究所内 (56)参考文献 米国特許5108486（ＵＳ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07D 405/04 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (3)
- 【請求項１】 一般式 【化１】 〔式中Ｒ1 及びＲ2 は同一又は異なって水素原子又は低
級アルキル基を示す。Ｒ3 は低級アルキル基を示す。Ｘ
は酸素原子又は硫黄原子を示す。〕で表される１，２，
４−トリアゾール誘導体。 - 【請求項２】 請求項１に記載の１，２，４−トリアゾ
ール誘導体を有効成分とすることを特徴とする水田用除
草剤組成物。 - 【請求項３】 水田の湛水土壌処理法において用いる請
求項２に記載の水田用除草剤組成物の使用方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15479694A JP2984775B2 (ja) | 1994-07-06 | 1994-07-06 | トリアゾール誘導体、水田用除草剤組成物及びその使用方法 |
| TW84114152A TW300224B (ja) | 1994-07-06 | 1995-12-19 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15479694A JP2984775B2 (ja) | 1994-07-06 | 1994-07-06 | トリアゾール誘導体、水田用除草剤組成物及びその使用方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0820583A JPH0820583A (ja) | 1996-01-23 |
| JP2984775B2 true JP2984775B2 (ja) | 1999-11-29 |
Family
ID=15592085
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15479694A Expired - Fee Related JP2984775B2 (ja) | 1994-07-06 | 1994-07-06 | トリアゾール誘導体、水田用除草剤組成物及びその使用方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2984775B2 (ja) |
| TW (1) | TW300224B (ja) |
-
1994
- 1994-07-06 JP JP15479694A patent/JP2984775B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-12-19 TW TW84114152A patent/TW300224B/zh active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW300224B (ja) | 1997-03-11 |
| JPH0820583A (ja) | 1996-01-23 |
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