JPWO2018139638A1 - 表示装置 - Google Patents

Abstract

偏光子保護フィルム、偏光子、位相差フィルム及び表示素子をこの順に備える表示装置であって、前記偏光子保護フィルムが、レーザー吸収剤を含み且つλ／４板として機能できる基材を含み、前記位相差フィルムの波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が、９０ｎｍ〜１５０ｎｍである、表示装置。

Description

本発明は、表示装置に関する。

モバイル機器から大型テレビまで、様々な電子機器に表示装置が設けられる。この表示装置としては、従来、液晶表示装置を用いることが一般的であった。しかし、近年では、ノートパソコン、携帯電話等のモバイル機器を中心に、表示装置として有機エレクトロルミネッセンス表示装置（以下、適宜「有機ＥＬ表示装置」ということがある。）を用いた電子機器が増加傾向にある。

モバイル機器のデザイン性及び携帯性を改善する観点から、モバイル機器のモジュール全体の薄型化及び軽量化が求められている。また、テレビにおいては大型化が求められている。さらに、表示装置においては、一般に、表示画面の高繊細化が求められる。そのため、これらの表示装置に用いられる光学フィルム及び偏光板も、薄膜化、広幅化及び高品質化が求められている。また、表示装置の表示窓には、タッチパネルが使用されることが多い。いくつかの方式のタッチパネルの中で、指先で画面を叩く、弾く、摘むという操作で画像を拡大又は縮小させるマルチタッチ機能や、視認性、耐久性に優れていることから、静電容量方式のタッチパネルの人気が高い。このような要求に応えるため、特許文献１〜１４に示すように、様々な検討が行われている。

国際公開第２０１６／３１７７６号 特開２０１４−１９１００６号公報 特開２０１０−７６１８１号公報 特許第５８２１１５５号公報 国際公開第２０１６／２００９５６号 国際公開第２０１４／１８５０００号 特開平１０−１０５２３号公報 特開平１−２０４０９２号公報 特開平３−１７４５１２号公報 特開２００９−１２２４５４号公報 特開２００５−１８１６１５号公報 特開２０１５−０３１７５３号公報 特開平０５−１００１１４号公報 特開平１０−６８８１６号公報

一般に、表示装置の製造プロセスにおいては、偏光板を表示素子のガラス基板に粘着剤又は接着剤を介して貼合する。偏光板は、通常、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムに二色性色素が吸着配向された偏光子の両面に、偏光子保護フィルムを積層した構成で製造されている。偏光子保護フィルムとしては、環状オレフィンフィルム及びトリアセチルセルロースフィルムが代表的である。また、偏光子保護フィルムは、通常、水又は有機溶媒を含む液状の粘着剤又は接着剤を介して、偏光子の両面に積層される。

偏光板は、表示素子のガラス基板の周縁に至るように貼合されることが望ましい。しかし、偏光子保護フィルムは、外部環境の湿度及び温度、並びに使用する粘着剤又は接着剤等の影響により、寸法変化をおこすことがある。この寸法変化への対策として、予め、表示素子の周縁よりも大きいサイズの偏光板を貼合したのち、表示素子のガラス基板の端部からはみ出た偏光板を、ガラス基板を傷つけることなく切断することが行われている。

また、表示装置の画面サイズに合わせて、自由自在にガラス基板を傷つけることなく偏光板を所望の形状に切断することが求められる。

さらには、近年、特に、表示装置の製造工程において、ロール状の偏光板と表示素子を備えるパネルとを直接貼合する「ロールｔｏパネル製法」が採用されている。このようなロールｔｏパネル製法で製造されたロール状偏光板は、所望の寸法に切断される。

また、画面サイズの大型化に伴って、フィルムの幅を広くしたいという要求がある。この要求に対して、溶融流延法及び溶液流延法などにより製造されたロール状の原反フィルムの幅方向端部をクリップで固定して、横延伸することにより、広幅な延伸フィルムが製造されている。しかし、その延伸フィルムの両端部は、クリップ痕があるため、通常は、その不要な部分を切断することが求められる。

一方、タッチパネルは、一般に、表示窓に配置され誘電体として機能する透光性を有したカバーパネルを備える。そして、このカバーパネルの裏面には、通常、静電容量方式のフィルムセンサーが、粘着層又は接着層を介して接着されている。このフィルムセンサーは、基材と、基材の一方の側（観察者側）の面上に設けられた第１電極部と、基材の他方の側（表示装置の側）の面上に設けられた第２電極部と、を有している。そして、このようなフィルムセンサーでは、基材の一方の側の面および他方の側の面の所望の部分を切断し、導電性を有した引き回し配線を形成することが行われている。

偏光子保護フィルム及び偏光板を所望の形状に切り出す方法としては、例えば、ナイフを用いた機械的切断方法、及び、レーザー光を用いたレーザー切断方法が挙げられる。しかし、機械的な切断加工を行った場合、目には見えない傷や残留応力の不均一化を招くことがある。このような事情から、近年では、レーザー切断方法の採用が求められる。

さらに、表示装置の薄膜化、軽量化、フレキシブル化、高品質化及び高精細化の要求に伴い、そこに使用される偏光板についても薄膜化、軽量化、フレキシブル化、高性能化が要求されている。しかし、これらの要求は、ただ単に偏光子、粘着層、接着層及び偏光子保護フィルム等の偏光板の構成要素を薄くしても、達成は難しい。具体的には、偏光板の構成要素を薄くすると、偏光子が延伸方向に裂け易くなったり、粘着剤又は接着剤の成分によって偏光子及び偏光子保護フィルムが劣化したり、偏光板を湾曲させる時及び偏光板をリワークする時の取扱い性が劣ったり、引き裂き強度が低くなって剥離性に乏しくなったりする傾向があった。このような事情から、薄く軽量でありながらも、現状よりも優れた耐久性を有する偏光板が求められている。

ところが、材料の種類によっては、使用環境（湿度、温度、紫外線など）及び使用形態（貼合に使用される接着剤や折り曲げ使用など）によって、十分な耐久性が得られないことがあった。例えば、使用環境又は使用形態が過酷であったり、使用環境又は使用形態が変動したりすると、その影響によって、偏光板の耐熱性、耐湿性、耐光性、耐溶媒性、耐回折性、耐引裂き性、寸法安定性などの性質が、必ずしも十分ではないことがあった。

また、偏光子保護フィルムをレーザー光で切断することが困難である場合がある。仮に強引にレーザー光で切断すると、偏光板に切断カスが混入することがあった。また、偏光子保護フィルムの切断面の盛り上がりが発生し、こうして製造された偏光板において偏光子保護フィルム層が浮き上がり、耐湿性が低下することがあった。そのため、偏光子保護フィルムの加工性には、課題があった。
本発明は、前記の課題に鑑みて創案されたものであって、レーザー光によって切断可能な偏光子保護フィルムを備え、且つ、使用環境及び使用形態に対する耐久性に優れた偏光板を備える表示装置を提供することを目的とする。

本発明者は、前記の課題を解決するべく鋭意検討した結果、偏光子保護フィルムにレーザー吸収剤を含む基材を設けることにより、偏光子保護フィルムのレーザー光による切断が可能となることを見い出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、下記のものを含む。

〔１〕 偏光子保護フィルム、偏光子、位相差フィルム及び表示素子をこの順に備える表示装置であって、
前記偏光子保護フィルムが、レーザー吸収剤を含み且つλ／４板として機能できる基材を含み、
前記位相差フィルムの波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が、９０ｎｍ〜１５０ｎｍである、表示装置。
〔２〕 前記基材が、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が１０ｎｍ以下である第一基材層と、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が９０ｎｍ〜１５０ｎｍである第二基材層と、前記第一基材層の少なくとも一方の面に形成された導電層とを含み、
前記レーザー吸収剤が、前記第一基材層及び前記第二基材層の一方又は両方に含まれる、〔１〕記載の表示装置。
〔３〕 前記基材が、λ／４板として機能できる第一基材層と、λ／２板として機能できる第二基材層と、前記第一基材層の少なくとも一方の面に形成された導電層とを含み、且つ、広帯域λ／４板として機能でき、
前記レーザー吸収剤が、前記第一基材層及び前記第二基材層の一方又は両方に含まれる、〔１〕記載の表示装置。
〔４〕 前記第二基材層が、液晶性化合物を含む液晶組成物の硬化物で形成されている、〔３〕記載の表示装置。
〔５〕 前記第一基材層及び前記第二基材層の一方又は両方が、
第一外側層と、
第二外側層と、
前記第一外側層及び前記第二外側層の間に設けられた中間層と、を含む、〔２〕〜〔４〕のいずれか一項に記載の表示装置。
〔６〕 前記中間層が、紫外線吸収剤を含む、〔５〕記載の表示装置。
〔７〕 前記第一外側層が、ガラス転移温度Ｔｇ_Ｏ１を有する第一外側樹脂で形成され、
前記第二外側層が、ガラス転移温度Ｔｇ_Ｏ２を有する第二外側樹脂で形成され、
前記中間層が、ガラス転移温度Ｔｇ_Ｃを有する中間樹脂で形成され、
前記第一外側樹脂のガラス転移温度Ｔｇ_Ｏ１が、前記中間樹脂のガラス転移温度Ｔｇ_Ｃよりも低く、
前記第二外側樹脂のガラス転移温度Ｔｇ_Ｏ２が、前記中間樹脂のガラス転移温度Ｔｇ_Ｃよりも低い、〔５〕又は〔６〕記載の表示装置。
〔８〕 前記第一外側樹脂のガラス転移温度Ｔｇ_Ｏ１と、前記中間樹脂のガラス転移温度Ｔｇ_Ｃとの差Ｔｇ_Ｃ−Ｔｇ_Ｏ１が、３０℃以上であり、
前記第二外側樹脂のガラス転移温度Ｔｇ_Ｏ２と、前記中間樹脂のガラス転移温度Ｔｇ_Ｃとの差Ｔｇ_Ｃ−Ｔｇ_Ｏ２が、３０℃以上である、〔７〕記載の表示装置。
〔９〕 前記第一基材層及び前記第二基材層の一方又は両方の厚みが、１０μｍ〜６０μｍである、〔２〕〜〔８〕のいずれか一項に記載の表示装置。
〔１０〕 前記基材の遅相軸と前記偏光子の透過軸とが交差している、〔１〕〜〔９〕のいずれか一項に記載の表示装置。
〔１１〕 前記基材の遅相軸と前記偏光子の透過軸との交差角が、４５°±５°である、〔１０〕記載の表示装置。
〔１２〕 前記基材が、結晶性を有する重合体を含む、〔１〕〜〔１１〕のいずれか一項に記載の表示装置。
〔１３〕 前記基材及び前記位相差フィルムが、それぞれ、脂環式構造含有重合体を含む、請求項〔１〕〜〔１２〕のいずれか一項に記載の表示装置。
〔１４〕 前記基材及び前記位相差フィルムが、それぞれ、延伸フィルムを含む、〔１〕〜〔１３〕のいずれか一項に記載の表示装置。
〔１５〕 前記位相差フィルムが、液晶性化合物を含む液晶組成物の硬化物で形成されていて、
前記位相差フィルムの波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（４５０）と、前記位相差フィルムの波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）とが、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０を満たす、〔１〕〜〔１２〕のいずれか一項に記載の表示装置。
〔１６〕 前記表示素子が、液晶セルである、〔１〕〜〔１５〕のいずれか一項に記載の表示装置。
〔１７〕 前記表示素子が、有機エレクトロルミネッセンス素子である、〔１〕〜〔１５〕のいずれか一項に記載の表示装置。

本発明によれば、レーザー光によって切断可能な偏光子保護フィルムを備え、且つ、使用環境及び使用形態に対する耐久性に優れた偏光板を備える表示装置を提供できる。

図１は、本発明の一実施形態に係る表示装置を模式的に示す断面図である。 図２は、基材に含まれうる樹脂層の一例を模式的に示す断面図である。 図３は、一例としての基材を模式的に示す断面図である。 図４は、一例としての基材を模式的に示す断面図である。 図５は、本発明の一実施形態に係る表示装置としての液晶表示装置の一例を模式的に示す断面図である。 図６は、本発明の別の一実施形態に係る表示装置としての有機ＥＬ表示装置の一例を模式的に示す断面図である。 図７は、本発明の更に別の一実施形態に係る表示装置としての有機ＥＬ表示装置の一例を模式的に示す断面図である。 図８は、本発明の更に別の一実施形態に係る表示装置としての有機ＥＬ表示装置の一例を模式的に示す断面図である。 図９は、本発明の更に別の一実施形態に係る表示装置としての有機ＥＬ表示装置の一例を模式的に示す断面図である。

以下、本発明について実施形態及び例示物を示して詳細に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施形態及び例示物に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。

以下の説明において、「紫外線」とは、別に断らない限り、波長が１０ｎｍ〜４００ｎｍの光を示す。

以下の説明において、「長尺」の形状とは、幅に対して、５倍以上の長さを有する形状をいい、好ましくは１０倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するフィルムの形状をいう。長尺の形状の長さの上限は、特に制限は無く、例えば、幅に対して１０万倍以下としうる。

以下の説明において、フィルム及び層の面内レターデーションＲｅは、別に断らない限り、Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで表される値である。また、フィルム及び層の厚み方向のレターデーションＲｔｈは、別に断らない限り、Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄで表される値である。ここで、ｎｘは、フィルム及び層の厚み方向に垂直な方向（面内方向）であって最大の屈折率を与える方向の屈折率を表す。ｎｙは、フィルム及び層の前記面内方向であってｎｘの方向に直交する方向の屈折率を表す。ｎｚは、フィルム及び層の厚み方向の屈折率を表す。ｄは、フィルム及び層の厚みを表す。測定波長は、別に断らない限り、５５０ｎｍである。

以下の説明において、ある面の正面方向とは、別に断らない限り、当該面の法線方向を意味し、具体的には前記面の極角０°且つ方位角０°の方向を指す。

以下の説明において、別に断らない限り、「順波長分散特性」とは、波長４５０ｎｍ及び５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（４５０）及びＲｅ（５５０）が、Ｒｅ（４５０）＞Ｒｅ（５５０）の関係を満たすことをいう。

以下の説明において、別に断らない限り、「逆波長分散特性」とは、波長４５０ｎｍ及び５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（４５０）及びＲｅ（５５０）が、Ｒｅ（４５０）＜Ｒｅ（５５０）の関係を満たすことをいう。

以下の説明において、フィルム及び層の遅相軸とは、別に断らない限り、当該フィルム及び層の面内における遅相軸を表す。

以下の説明において、複数のフィルム又は層を備える部材における各フィルム又は層の光学軸（偏光吸収軸、偏光透過軸、遅相軸等）がなす角度は、別に断らない限り、前記のフィルム又は層を厚み方向から見たときの角度を表す。

以下の説明において、別に断らない限り、用語「（メタ）アクリロイル基」は、アクリロイル基、メタクリロイル基及びこれらの組み合わせを包含する。

以下の説明において、正の固有複屈折値を有する樹脂とは、別に断らない限り、延伸方向の屈折率がそれに直交する方向の屈折率よりも大きくなる樹脂を意味する。また、負の固有複屈折値を有する樹脂とは、別に断らない限り、延伸方向の屈折率がそれに直交する方向の屈折率よりも小さくなる樹脂を意味する。固有複屈折値は、誘電率分布から計算しうる。

以下の説明において、「偏光板」、「λ／２板」及び「λ／４板」とは、別に断らない限り、剛直な部材だけでなく、例えば樹脂製のフィルムのように可撓性を有する部材も含む。

［１．概要］
図１は、本発明の一実施形態に係る表示装置１０を模式的に示す断面図である。
図１に示すように、本発明の一実施形態に係る表示装置１０は、偏光子保護フィルム１１０、偏光子１２０、位相差フィルム１３０及び表示素子１４０を、この順に備える。このうち、偏光子保護フィルム１１０及び偏光子１２０からなる部分が、偏光板として機能する。

前記の偏光子保護フィルム１１０は、レーザー光を吸収できる基材１１１を含む。基材１１１は、レーザー光を照射された部分においてレーザー光を吸収し、その部分の基材１１１の材料を昇華されることができる。また、偏光子保護フィルム１１０が基材１１１以外の任意要素（図示せず。）を含む場合、レーザー光が照射されると、昇華した基材１１１の材料によって任意要素が加熱され、溶融又は昇華を生じることができる。よって、偏光子保護フィルム１１０は、レーザー光によって容易に切断されることができる。また、偏光子保護フィルム１１０を、偏光子１２０及び位相差フィルム１３０と貼り合わせた状態で切断を行う場合には、通常、基材１１１がレーザー光を吸収して生じる熱により、偏光子保護フィルム１１０だけでなく偏光子１２０及び位相差フィルム１３０も容易に切断することが可能である。

このように、表示装置１０は、レーザー光による偏光子保護フィルム１１０の切断工程を経て、製造することが可能である。レーザー光による偏光子保護フィルム１１０の切断によれば、切断カスの発生を抑制したり、切断面を滑らかにしたりできる。これにより、偏光子保護フィルム１１０を備えた表示装置１０において、表示品位を高めることが可能である。

偏光子保護フィルム１１０のレーザー光による切断しやすさを評価するために、その切断面を観察するが、その切断面は、下記の評価方法で評価できる。
偏光子保護フィルム１１０及び偏光子１２０を、両者を分離せず一体の積層体として、表示装置から取り外す。この積層体を、ガラス板（例えば厚さ０．７ｍｍ）に、接着剤を介して貼合する。その後、偏光子保護フィルム側からレーザー光を照射する。このようにレーザー光を照射した状態で、偏光子保護フィルムの切断面を顕微鏡観察することで、前記切断面を評価できる。

［２．偏光子保護フィルム］
レーザー光の吸収を可能にするために、偏光子保護フィルムに含まれる基材は、レーザー吸収剤を含む。また、偏光子保護フィルムは、基材に組み合わせて任意の層を含んでいてもよい。

［２．１．基材］
基材としては、レーザー光による切断が可能なフィルムを用いうる。レーザー光による切断が可能なフィルムとしては、例えば、１）レーザー光の平均吸光度が高い重合体を含むフィルム、及び、２）レーザー光の平均吸光度が低い重合体と、レーザー吸収剤とを含むフィルムが挙げられる。しかし、一般的に、レーザー光の平均吸光度が高い重合体は、極性を有し、吸湿性が高い傾向がある。そのため、基材としては、レーザー光の平均吸光度が低い重合体と、レーザー吸収剤とを含むフィルムが好ましい。

レーザー光の吸光度は、「ＡＴＲ法」を用いて測定することができる。「ＡＴＲ法」とは、測定対象に対して任意の波長を有するレーザー光を照射し、測定対象の表面で全反射する光を測定することによって、測定対象の表面における吸収スペクトルを得る方法である。照射されるレーザー光の波長範囲内において、任意の波長を有する光の吸光度を、ＡＴＲ法を用いて測定し、得られた吸光度の平均値を算出することによって平均吸光度として求めることができる。

［２．１．１．基材に含まれるレーザー吸収剤］
レーザー吸収剤としては、切断に用いるレーザー光を吸収できる化合物を用いることができる。一般に、工業的にはレーザー光として赤外線レーザー光を用いることが多い。ここで、赤外線レーザー光とは、７６０ｎｍ以上１ｍｍ未満の赤外線範囲の波長を有するレーザー光をいう。よって、レーザー吸収剤としては、赤外線レーザー光を吸収可能な化合物を用いることが好ましい。特に、赤外線レーザー光としては、切断面の割れ及び欠けが少なく、作業性が良好であるので、９μｍ〜１１μｍの範囲に波長を有するＣＯ_２レーザー光が広く用いられている。ＣＯ_２レーザー光には、波長が１０．６μｍのものと、波長が９．４μｍのものがあり、偏光子保護フィルム及び偏光板の切断加工においては、波長が９．４μｍのものを用いることが推奨される。例えば１０．６μｍのレーザー波長を用いて切断加工した場合に比べ、９．４μｍのレーザー波長を用いて切断加工する場合には、偏光板の切断端面に溶融物が突起したり溶融変形したりすることを抑制できるので、切断端面が平滑になる。そのため、レーザー吸収剤としても、９μｍ〜１１μｍの範囲に波長を有するレーザー光を吸収可能な化合物を用いることが好ましい。特に９．４μｍと１０．６μｍに吸収極大を有する化合物を用いるのが好ましい。

好ましいレーザー吸収剤としては、エステル化合物が挙げられる。エステル化合物は、通常、極性を有する化合物であり、９μｍ〜１１μｍの範囲に波長を有するレーザー光を効果的に吸収することができる。エステル化合物としては、例えば、リン酸エステル化合物、カルボン酸エステル化合物、フタル酸エステル化合物、アジピン酸エステル化合物などが挙げられる。中でも、ＣＯ_２レーザー光を特に効率良く吸収できるようにする観点から、カルボン酸エステル化合物が好ましい。

上述したエステル化合物の中でも、分子中に芳香環を含むものが好ましく、この芳香環にエステル結合が結合しているものが特に好ましい。このようなエステル化合物は、レーザー光をより効率良く吸収できる。したがって、上述したエステル化合物の中でも、芳香族カルボン酸エステルが好ましく、中でもレーザー光の吸収効率に優れることからジエチレングリコールジベンゾエート及びペンタエリスリトールテトラベンゾエート等の安息香酸エステルが特に好ましい。
このようなエステル化合物としては、例えば、国際公開第２０１６／３１７７６号に記載のものが挙げられる。

さらに、レーザー吸収剤は、可塑剤として機能できるものが好ましい。一般に、可塑剤は樹脂中において重合体分子の間に容易に入り込める。特に、極性を有するレーザー吸収剤を、極性を有する重合体を含む基材に混合する場合は、海島構造を作ること無く樹脂に良好に分散できる。そのため、樹脂によって基材に含まれる層を形成した場合に、レーザー光の吸収が局所的になることを抑制できるので、基材全体としての切断し易さを向上させることが可能である。一般的に、極性の物質と非極性の物質とを混合する場合、お互い混ざりにくいので、基材全体としてヘイズを生じることがある。

エステル化合物等のレーザー吸収剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意に組み合わせて用いてもよい。

レーザー吸収剤の分子量は、好ましくは３００以上、より好ましくは４００以上、特に好ましくは５００以上であり、好ましくは２２００以下、より好ましくは１８００以下、特に好ましくは１４００以下である。レーザー吸収剤の分子量を前記範囲の下限値以上にすることにより、レーザー吸収剤のブリードアウトを抑制することができる。また、上限値以下にすることにより、レーザー吸収剤を可塑剤として機能し易くさせることができ、更に熱がかかってからのレーザー吸収剤の分子の動き出しを早くできるので、偏光子保護フィルムの切断を容易にすることができる。

レーザー吸収剤の融点は、好ましくは２０℃以上、より好ましくは６０℃以上、特に好ましくは１００℃以上であり、好ましくは１８０℃以下、より好ましくは１５０℃以下、特に好ましくは１２０℃以下である。レーザー吸収剤の融点を前記範囲の下限値以上にすることにより、レーザー吸収剤のブリードアウトを抑制することができる。また、上限値以下にすることにより、レーザー吸収剤を可塑剤として機能し易くさせることができ、更に熱がかかってからのレーザー吸収剤の分子の動き出しを早くできるので、偏光子保護フィルムの切断を容易にすることができる。

レーザー吸収剤は、基材の厚み方向において、均一に含まれていてもよい。例えば、基材が１層のみを含む単層構造のフィルムである場合、当該基材がレーザー吸収剤を均一に含んでいることが好ましい。また、基材が複数の層を含む複層構造のフィルムである場合、当該基材に含まれる全ての層がレーザー吸収剤を含んでいてもよい。
また、レーザー吸収剤は、基材の厚み方向において偏在化していてもよく、よって基材の一部のみに含まれていてもよい。例えば、基材が複層構造のフィルムである場合、当該基材に含まれる一部の層のみがレーザー吸収剤を含んでいてもよい。

基材におけるレーザー吸収剤の含有率は、偏光子保護フィルムのレーザー光による切断が可能な範囲で、任意に設定しうる。よって、基材に含まれる層のうち、レーザー吸収剤を含む層のレーザー吸収剤の含有率は、偏光子保護フィルムのレーザー光による切断が可能な範囲で適切に設定することが好ましい。特に、基材におけるレーザー吸収剤の含有率は、基材が含む重合体が非極性であるか、極性であるかに応じて、設定することが好ましい。

具体的には、基材が含む重合体が非極性の場合は、レーザー吸収剤を含む層のレーザー吸収剤の含有率は、好ましくは０．１重量％以上、より好ましくは１重量％以上、特に好ましくは２重量％以上であり、好ましくは１０重量％以下、より好ましくは９重量％以下、特に好ましくは８重量％以下である。レーザー吸収剤の含有率を前記範囲の下限値以上にすることにより、基材の本来の光学特性、機械的特性を損なうことなく、基材にレーザー光を効率良く吸収できる性質を付与できる。また、上限値以下にすることにより、基材のヘイズを低くできるので、偏光子保護フィルムの透明性を良好にできる。さらに、レーザー光によって偏光子保護フィルムを切断した時に、切断した偏光子保護フィルムの断面が局所的に高温になって熱溶けによる大きな変形が生じることを抑制できる。

基材が含む重合体が極性の場合は、レーザー吸収剤を含む層のレーザー吸収剤の含有率は、混合条件にもよるが、基材が含む重合体が非極性の場合よりも多く混合することができる。レーザー吸収剤により基材にレーザー光を効率良く吸収できる性質を付与できる。また、基材の本来の特性（例えば面内レターデーションや寸法安定性など）を損ない難くする観点から、レーザー吸収剤は多く入れ過ぎないことが望ましい。

フィルムの寸法安定性は、下記の評価方法によって評価できる。
１５０ｍｍ×１５０ｍｍに裁断したフィルムを試験片とし、長尺のフィルムのＭＤ方向（流れ方向）とＴＤ方向（幅方向）の寸法を計測する。その後、１５０℃に保持したギヤーオーブン中のタルクバス上にフィルムを水平に置き、３０分加熱後のＭＤ方向とＴＤ方向の変形量を測定する。この変形量により、寸法安定性を評価できる。

［２．１．２．基材に含まれうる重合体］
基材は、上述したレーザー吸収剤に組み合わせて、通常、重合体を含む。具体的には、基材は、通常、重合体を含む一又は二以上の樹脂層を備えたフィルムであり、前記の樹脂層のうちの一部又は全てが、レーザー吸収剤を含む。この際、基材は、耐溶媒性、耐回折性及び引裂き強度を高める観点から、結晶性を有する重合体を含むことが好ましい。特に、結晶性を有する重合体のフィルム、及び、非晶性の重合体のフィルムを、同じ波長で同じ出力のレーザー光で切断した場合には、結晶性を有する重合体のフィルムの方がカールを生じ難い。よって、この観点からも、結晶性を有する重合体が好ましい。ここで、結晶性を有する重合体とは、融点Ｍｐを有する重合体をいう。融点Ｍｐを有する重合体とは、すなわち、示差走査熱量計（ＤＳＣ）で融点Ｍｐを観測することができる重合体をいう。

また、基材は、低吸湿性及び低水蒸気透過性などの観点から、重合体として非極性の脂環式構造含有重合体を含むことが好ましい。したがって、基材は、脂環式構造含有重合体を含む樹脂層を備えた単層構造又は複層構造のフィルムであることが好ましい。

脂環式構造含有重合体は、繰り返し単位中に脂環式構造を有する重合体である。脂環式構造含有重合体は、機械的強度に優れるので、偏光子保護フィルムの衝撃強度を効果的に高めることができる。また、脂環式構造含有重合体は、吸湿性が低いので、偏光子保護フィルムの水蒸気透過率を効果的に小さくできる。さらに、脂環式構造含有重合体は、通常、透明性、寸法安定性及び軽量性に優れる。

脂環式構造含有重合体としては、例えば、環状オレフィンを単量体として用いた重合反応によって得ることができる重合体又はその水素添加物などが挙げられる。また、前記の脂環式構造含有重合体としては、主鎖中に脂環式構造を含有する重合体、及び、側鎖に脂環式構造を含有する重合体のいずれも用いることができる。脂環式構造としては、例えば、シクロアルカン構造、シクロアルケン構造等が挙げられるが、熱安定性等の観点からシクロアルカン構造が好ましい。

１つの脂環式構造に含まれる炭素原子の数は、好ましくは４個以上、より好ましくは５個以上、より好ましくは６個以上であり、好ましくは３０個以下、より好ましくは２０個以下、特に好ましくは１５個以下である。１つの脂環式構造に含まれる炭素原子の数が上記範囲内にあることで、機械的強度、耐熱性、及び成形性が高度にバランスされる。

脂環式構造含有重合体中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合は、好ましくは３０重量％以上、より好ましくは５０重量％以上、更に好ましくは７０重量％以上、特に好ましくは９０重量％以上である。脂環式構造を有する繰り返し単位の割合を前記のように多くすることにより、耐熱性を高めることができる。
また、脂環式構造含有重合体において、脂環式構造を有する構造単位以外の残部は、格別な限定はなく、使用目的に応じて適宜選択しうる。

脂環式構造含有重合体としては、結晶性を有するもの、及び、結晶性を有さないもののいずれを用いてもよく、両者を組み合わせて用いてもよい。結晶性を有する脂環式構造含有重合体を用いることにより、偏光子保護フィルムの衝撃強度、耐溶媒性、耐回折性、引裂き強度を特に高めることができる。また、結晶性を有さない脂環式構造含有重合体を用いることにより、偏光子保護フィルムの製造コストを下げることができる。

結晶性を有する脂環式構造含有重合体としては、例えば、下記の重合体（α）〜重合体（δ）が挙げられる。これらの中でも、耐熱性に優れる偏光子保護フィルムが得られ易いことから、結晶性を有する脂環式構造含有重合体としては、重合体（β）が好ましい。
重合体（α）：環状オレフィン単量体の開環重合体であって、結晶性を有するもの。
重合体（β）：重合体（α）の水素添加物であって、結晶性を有するもの。
重合体（γ）：環状オレフィン単量体の付加重合体であって、結晶性を有するもの。
重合体（δ）：重合体（γ）の水素添加物等であって、結晶性を有するもの。

具体的には、結晶性を有する脂環式構造含有重合体としては、ジシクロペンタジエンの開環重合体であって結晶性を有するもの、及び、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素添加物であって結晶性を有するものがより好ましく、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素添加物であって結晶性を有するものが特に好ましい。ここで、ジシクロペンタジエンの開環重合体とは、全構造単位に対するジシクロペンタジエン由来の構造単位の割合が、通常５０重量％以上、好ましくは７０重量％以上、より好ましくは９０重量％以上、さらに好ましくは１００重量％の重合体をいう。

結晶性を有する脂環式構造含有重合体は、偏光子保護フィルムを製造するよりも前においては、結晶化していなくてもよい。しかし、偏光子保護フィルムが製造された後においては、基材に含まれる結晶性を有する脂環式構造含有重合体は、通常、結晶化していることにより、高い結晶化度を有することができる。具体的な結晶化度の範囲は所望の性能に応じて適宜選択しうるが、好ましくは１０％以上、より好ましくは１５％以上である。基材に含まれる脂環式構造含有重合体の結晶化度を前記範囲の下限値以上にすることにより、偏光子保護フィルムに高い耐熱性及び耐溶媒性を付与することができる。結晶化度は、Ｘ線回折法によって測定しうる。

偏光子保護フィルムの耐熱性は、耐熱温度によって評価できる。偏光子保護フィルムの耐熱温度は、通常１６０℃以上、好ましくは１８０℃以上、より好ましくは２００℃以上である。耐熱温度は高いほど好ましいため、耐熱温度の上限に制限は無いが、結晶性の重合体の場合は融点Ｔｍ以下である。

フィルムの耐熱温度は、下記の評価方法によって評価できる。
試料としてのフィルムに張力を掛けない状態で、そのフィルムをある温度Ｔｘの雰囲気下で１０分放置する。その後、目視でフィルムの面状を確認する。フィルムの表面の形状に凹凸が確認できなかった場合、そのフィルムの耐熱温度が前記の温度Ｔｘ以上であることが分かる。

フィルムの耐溶媒性は、下記の評価方法によって評価できる。
試料としてのフィルム（５０ｍｍ×１０ｍｍのサンプル）を切り出し、所定の溶媒を１ｍｌ塗布する。塗布から１分後に、フィルムの外観変化の有無を観察して、耐溶媒性を評価できる。

偏光子保護フィルムが耐性を有する溶媒としては、粘着剤又は接着剤に使用される溶媒を用いることができる。この溶媒の具体例としては、ヘキサン、シクロヘキサン、オクタンなどの脂肪族炭化水素；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素；エタノール、１−プロパノール、イソプロパノール、１−ブタノール、シクロヘキサノールなどのアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチルなどのエステル類；リモネン等の単環状類などが挙げられる。

一般に、偏光板を製造する場合、偏光子保護フィルムと偏光子とは、溶媒を含む粘着剤又は接着剤で貼合される。この際、仮に、偏光子保護フィルムが溶媒に対する耐性を有していないと、偏光板の品位が劣化し、その結果、表示装置の表示品位が低下することが考えられる。しかし、結晶性を有する脂環式構造含有重合体を用いれば、耐溶媒性に優れる偏光子保護フィルムが得られるので、前記のような品位低下を抑制することができる。
偏光子保護フィルムと偏光子とを粘着剤又は接着剤を介して貼合して得られた偏光板が品位の劣化を生じているか否かは、２枚の偏光板を偏光顕微鏡上に配置し、一方の偏光板を回転させた時に白黒の明確性及び光抜けの有無で評価できる。

結晶性を有する脂環式構造含有重合体の融点Ｍｐは、好ましくは２００℃以上、より好ましくは２３０℃以上であり、好ましくは２９０℃以下である。このような融点Ｍｐを有する結晶性を有する脂環式構造含有重合体を用いることによって、成形性と耐熱性とのバランスに更に優れた偏光子保護フィルムを得ることができる。

結晶性を有する脂環式構造含有重合体は、耐折性に優れる。よって、偏光子保護フィルムは、好ましくは、耐折性に優れる。偏光子保護フィルムの耐折性は、具体的には、耐折度で表しうる。結晶性を有する脂環式構造含有重合体を含む基材を備えた偏光子保護フィルムの耐折度は、通常２０００回以上、好ましくは２２００回以上、より好ましくは２４００回以上である。耐折度は高いほど好ましいため、耐折度の上限に制限は無いが、耐折度は通常は１０００００回以下である。

耐折度は、ＪＩＳＰ８１１５「紙及び板紙−耐折強さ試験方法−ＭＩＴ試験機法」に準拠したＭＩＴ耐折試験により、下記の方法で測定しうる。
試料としてのフィルムから、幅１５ｍｍ±０．１ｍｍ、長さ約１１０ｍｍの試験片を切り出す。この際、フィルムがより強く延伸された方向が試験片の約１１０ｍｍの辺と平行になるように試験片を作製する。そして、ＭＩＴ耐折度試験機（安田精機製作所製「Ｎｏ．３０７」）を用いて、荷重９．８Ｎ、屈曲部の曲率０．３８±０．０２ｍｍ、折り曲げ角度１３５°±２°、折り曲げ速度１７５回／分の条件で、試験片の幅方向に折れ目が現れるように前記の試験片を折り曲げる。この折り曲げを継続し、試験片が破断するまでの往復折り曲げ回数を測定する。

前記のような結晶性を有する脂環式構造含有重合体は、例えば、国際公開第２０１６／０６７８９３号に記載の方法により、製造しうる。

他方、結晶性を有さない脂環式構造含有重合体は、例えば、（１）ノルボルネン重合体、（２）単環の環状オレフィン重合体、（３）環状共役ジエン重合体、（４）ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素添加物などが挙げられる。これらの中でも、透明性及び成形性の観点から、ノルボルネン重合体及びこの水素添加物がより好ましい。

ノルボルネン重合体としては、例えば、ノルボルネンモノマーの開環重合体、ノルボルネンモノマーと開環共重合可能なその他のモノマーとの開環共重合体、及びそれらの水素添加物；ノルボルネンモノマーの付加重合体、ノルボルネンモノマーと共重合可能なその他のモノマーとの付加共重合体などが挙げられる。これらの中でも、透明性の観点から、ノルボルネンモノマーの開環重合体水素添加物が特に好ましい。
上記の脂環式構造含有重合体は、例えば特開２００２−３２１３０２号公報に開示されている重合体から選ばれる。

結晶性を有さない脂環式構造含有重合体を含む樹脂としては、様々な商品が市販されているので、それらのうち、所望の特性を有するものを適宜選択し、使用しうる。かかる市販品の例としては、商品名「ＺＥＯＮＯＲ」（日本ゼオン株式会社製）、「アートン」（ＪＳＲ株式会社製）、「アペル」（三井化学株式会社製）、「ＴＯＰＡＳ」（ポリプラスチック社製）の製品群が挙げられる。

上述したものの中でも、重合体としては、低吸湿性及び低い水蒸気透過性の観点から、非極性で、当該重合体単独ではレーザー光の平均吸光度が低いものが好ましい。このようにレーザー光の平均吸光度が低い重合体を用いた場合に、低吸湿性による寸法安定性、及び、レーザー吸収剤を組み合わせたことによる効果を特に有効に活用できる。このようにレーザー光の平均吸光度が低い重合体としては、日本ゼオン社製「ＺＥＯＮＯＲ」が挙げられる。波長９．２μｍ〜１０．８μｍにおいて前記「ＺＥＯＮＯＲ」からなる環状オレフィンフィルムの平均吸光度を測定したところ、０．０５であった。

重合体は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

重合体のガラス転移温度Ｔｇは、好ましくは８０℃以上、より好ましくは８５℃以上、更に好ましくは１００℃以上であり、好ましくは２５０℃以下、より好ましくは１７０℃以下である。ガラス転移温度がこのような範囲にある重合体は、高温下での使用における変形及び応力が生じ難く、耐久性に優れる。

重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１，０００以上、より好ましくは２，０００以上、更に好ましくは１０，０００以上、特に好ましくは２５，０００以上であり、好ましくは１，０００，０００以下、より好ましくは５００，０００以下、更に好ましくは１００，０００以下、中でも好ましくは８０，０００以下、特に好ましくは５０，０００以下である。このような重量平均分子量を有する重合体は、成形加工性と耐熱性とのバランスに優れる。

重合体の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは１．０以上、より好ましくは１．２以上、特に好ましくは１．５以上であり、好ましくは１０以下、より好ましくは４．０以下、更に好ましくは３．５以下である。ここで、Ｍｎは数平均分子量を表す。このような分子量分布を有する重合体は、成形加工性に優れる。

前記の重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、溶媒としてシクロヘキサンを用いたゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーにより、ポリイソプレンまたはポリスチレン換算の重量平均分子量として測定しうる。但し、試料がシクロヘキサンに溶解しない場合には、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーの溶媒としてトルエンを用いてもよい。

基材における重合体の含有率は、偏光子保護フィルムに求められる特性に応じて、任意に設定しうる。よって、基材に含まれる層のうち、重合体を含む層での当該重合体の含有率は、偏光子保護フィルムに求められる特性に応じて適切に設定することが好ましい。具体的には、重合体を含む層での当該重合体の含有率は、好ましくは５０重量％以上、より好ましくは７０重量％以上、更に好ましは８０重量％以上、特に好ましくは９０重量％以上である。

［２．１．３．基材に含まれうる樹脂層］
図２は、基材に含まれうる樹脂層の一例を模式的に示す断面図である。図２に示すように、基材に含まれる樹脂層２００は、好ましくは、第一外側層２１０と、第二外側層２２０と、前記の第一外側層２１０及び第二外側層２２０の間に設けられた中間層２３０と、を含む。この樹脂層２００は、必要に応じて、第一外側層２１０、中間層２３０及び第二外側層２２０以外の任意の層を備えていてもよいが、厚みを薄くする観点から、任意の層を備えない３層構造の層であることが好ましい。このような樹脂層２００では、通常、第一外側層２１０と中間層２３０とは、間に他の層を介することなく直接に接しており、中間層２３０と第二外側層２２０とは、間に他の層を介することなく直接に接している。

図２に示すように第一外側層２１０と第二外側層２２０と中間層２３０とを含む樹脂層２００がレーザー吸収剤を含む場合、このレーザー吸収剤は、通常、中間層２３０に含まれる。中間層２３０に含まれるレーザー吸収剤は、第一外側層２１０及び第二外側層２２０によって移動を妨げられるので、前記の樹脂層２００では、レーザー吸収剤のブリードアウトを抑制できる。

中間層２３０は、通常、重合体を含む樹脂によって形成される。以下、中間層２３０を形成する樹脂を、適宜「中間樹脂」という。中間樹脂に含まれる重合体としては、樹脂層２００の製造が容易であることから、熱可塑性の重合体を用いることが好ましい。このような重合体としては、機械特性、耐熱性、透明性、低吸湿性、寸法安定性及び軽量性に優れることから、脂環式構造含有重合体が好ましい。また、重合体は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
中間層２３０における重合体の含有率は、好ましくは８０.０重量％以上、より好ましくは８２．０重量％以上、特に好ましくは８５．０重量％以上であり、好ましくは９７．０重量％以下、より好ましくは９６．０重量％以下、特に好ましくは９５．０重量％以下である。

また、中間層２３０は、前記のように、レーザー吸収剤を含みうる。中間層２３０におけるレーザー吸収剤の量は、基材に含まれる層のうちレーザー吸収剤を含む層のレーザー吸収剤の含有率の範囲として上述した範囲から、適切に設定しうる。具体的には、中間層２３０におけるレーザー吸収剤の量は、好ましくは０．１重量％以上、特に好ましくは１．０重量％以上、好ましくは１０．０重量％以下、特に好ましくは８．０重量％以下である。

中間層２３０は、重合体及びレーザー吸収剤に組み合わせて、更に任意の成分を含みうる。任意の成分としては、例えば、紫外線吸収剤が挙げられる。紫外線吸収剤を含む中間層２３０は、紫外線の透過を妨げることができるので、表示装置に含まれる部材の紫外線による劣化を抑制することが可能である。したがって、外光に含まれる紫外線による偏光子の着色を抑制したり、バックライトからの紫外線を抑制して表示素子の長寿命化を達成したりすることができる。また、中間層２３０が紫外線吸収剤を含む場合には、紫外線吸収剤のブリードアウトの抑制が可能であるので、中間層２３０における紫外線吸収剤の濃度を高めたり、紫外線吸収剤の種類の選択の幅を広げたりできる。よって、樹脂層２００の厚みが薄くても、紫外線の透過抑制能力を高めることが可能である。

さらに、レーザー吸収剤と紫外線吸収剤とを組み合わせることで、樹脂の面内レターデーション及び切り出した寸法等の特性の変化を抑え、基材にレーザー光を効率良く吸収できる性質を付与できる。また、基材の物性（面内レターデーション、寸法変化、内部ヘイズ等）の変化を抑制することができる。さらに、製膜プロセスにおいて膜厚ムラを小さくすることができる。特に、結晶性を有する重合体を、レーザー吸収剤及び紫外線吸収剤と組み合わせた場合に、前記の物性変化の抑制等の作用を顕著に得ることができる。一般に、レーザー光の平均吸光度が低い非極性の重合体（例えば、脂環式構造含有重合体）を極性の化合物（例えば、エステル化合物）と混合しても、分散性が不十分となり、前記の物性変化が生じ易い傾向があるというのが、当業者の技術的認識であった。よって、前記の作用は、従来の技術常識からすれば意外なものである。レーザー吸収剤と紫外線吸収剤とを組み合わせて用いることによりこのような効果が得られる理由はよく分かっていないが、適度なレーザー吸収剤と紫外線吸収剤とが、中間層２３０において可塑剤のように働き、製膜プロセルに対して有利な効果をもたらしているものと考えられる。

中間層２３０におけるレーザー吸収剤と紫外線吸収剤の合計量は、好ましくは８．０重量％以上、特に好ましくは１０．０重量％以上、好ましくは２０．０重量％以下、特に好ましくは１６．０重量％以下である。レーザー吸収剤と紫外線吸収剤の合計量が前記範囲に収まることにより、樹脂のレターデーション等の物性変化を抑え、コンパウンド製造時にダイスからの漏れも少なく、フィッシュアイの発生抑制や樹脂の焼けを抑制することができる。

紫外線吸収剤としては、紫外線を吸収できる化合物を用いうる。通常、このような紫外線吸収剤として、有機化合物を用いる。以下、有機化合物としての紫外線吸収剤を「有機紫外線吸収剤」ということがある。有機紫外線吸収剤を用いることにより、通常は、基材の可視波長における光線透過率を高めたり、基材のヘイズを小さくしたりできる。そのため、表示装置の表示性能を良好にできる。

有機紫外線吸収剤としては、例えば、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、アクリロニトリル系紫外線吸収剤、サリシレート系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、アゾメチン系紫外線吸収剤、インドール系紫外線吸収剤、ナフタルイミド系紫外線吸収剤、フタロシアニン系紫外線吸収剤等が挙げられる。

トリアジン系紫外線吸収剤としては、例えば、１，３，５−トリアジン環を有する化合物が好ましい。トリアジン系紫外線吸収剤の具体例としては、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（へキシル）オキシ］−フェノール、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。このようなトリアジン系紫外線吸収剤の市販品としては、例えば、チバスペシャリティーケミカルズ社製「チヌビン１５７７」、ＡＤＥＫＡ社製「ＬＡ−Ｆ７０」、「ＬＡ−４６」などが挙げられる。

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−ｐ−クレゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−ベンゾトリアゾール−２−イル−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−［５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−メチル−６−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル−６−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミジルメチル）フェノール、メチル３−（３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート／ポリエチレングリコール３００の反応生成物、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖および側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール等が挙げられる。このようなトリアゾール系紫外線吸収剤の市販品としては、例えば、ＡＤＥＫＡ社製「アデカスタブＬＡ−３１」、チバスペシャリティーケミカルズ社製「ＴＩＮＵＶＩＮ３２６」などが挙げられる。

アゾメチン系紫外線吸収剤としては、例えば、特許第３３６６６９７号公報に記載の材料を例示することができ、市販品としては、例えば、オリエント化学社製「ＢＯＮＡＳＯＲＢ ＵＡ−３７０１」などが挙げられる。

インドール系紫外線吸収剤としては、例えば、特許第２８４６０９１号公報に記載の材料を例示することができ、市販品としては、例えば、オリエント化学社製「ＢＯＮＡＳＯＲＢ ＵＡ−３９１１」、「ＢＯＮＡＳＯＲＢ ＵＡ−３９１２」などが挙げられる。

フタロシアニン系紫外線吸収剤としては、例えば、特許第４４０３２５７号公報、特許第３２８６９０５号公報に記載の材料を例示することができ、市販品としては、例えば、山田化学工業社製「ＦＤＢ００１」、「ＦＤＢ００２」などが挙げられる。

特に好ましい紫外線吸収剤としては、トリアジン系紫外線吸収剤であるＡＳＤＥＫＡ社製「ＬＡ−Ｆ７０」；アゾメチン系紫外線吸収剤であるオリエンタル化学工業「ＵＡ−３７０１」；並びに、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤であるＢＡＳＦ社製「Ｔｉｎｕｖｉｎ３２６」及びＡＤＥＫＡ社製「ＬＡ−３１」が挙げられる。これらは、紫外線吸収能力に特に優れるので、量が少なくても高い紫外線遮断能力を有する樹脂層２００を得ることができる。

紫外線吸収剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

中間層２３０における紫外線吸収剤の量は、好ましくは３重量％以上、より好ましくは４重量％以上、特に好ましくは５重量％以上であり、好ましくは２０重量％以下、より好ましくは１８重量％以下、特に好ましくは１６重量％以下である。紫外線吸収剤の量が、前記範囲の下限値以上であることにより、樹脂層２００によって紫外線の透過を効果的に抑制できる。また、紫外線の量が、前記範囲の上限値以下であることによって、樹脂層２００の可視波長における光線透過率を高くし易い。また、樹脂層２００の製造時に、紫外線吸収剤による樹脂のゲル化を抑制できるので、樹脂層２００でのフィッシュアイの発生を抑制し易い。ここで、フィッシュアイとは、層の内部に生じうる異物のことをいう。

さらに、任意の成分の別の例としては、例えば、顔料、染料等の着色剤；可塑剤；蛍光増白剤；分散剤；滑剤；熱安定剤；光安定剤；帯電防止剤；酸化防止剤；界面活性剤等の配合剤が挙げられる。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

中間樹脂のガラス転移温度Ｔｇ_Ｃは、好ましくは１００℃以上、より好ましくは１２０℃以上、特に好ましくは１４０℃以上であり、好ましくは１８０℃以下、より好ましくは１７０℃以下、特に好ましくは１６５℃以下である。中間樹脂のガラス転移温度Ｔｇ_Ｃが、前記範囲に収まることにより、中間層２３０のレターデーションなどの物性変化を抑えたり、中間層２３０の製造時に膜厚を安定させて膜厚ムラの少ない製膜を可能にしたりできる。

中間層２３０の厚みＴ_２３０は、樹脂層２００の厚みＴ_２００に対する中間層２３０の厚みＴ_２３０の比Ｔ_２３０／Ｔ_２００が、所定の範囲に収まるように設定されることが好ましい。具体的には、前記の厚み比Ｔ_２３０／Ｔ_２００は、好ましくは１／４以上、より好ましくは２／４以上であり、好ましくは８０／８２以下、より好ましくは７９／８２以下、特に好ましくは７８／８２以下である。厚み比が、前記下限値以上であることにより、樹脂層２００によってレーザー光を効果的に吸収できる。また、中間層２３０が紫外線吸収剤を含む場合には、紫外線の透過を効果的に抑制できる。また、厚み比が、前記上限値以下であることにより、第一外側層２１０及び第二外側層２２０を厚くできるので、レーザー吸収剤及び紫外線吸収剤のブリードアウトを安定して抑制したり、樹脂層２００の製造を容易に行ったりできる。

複数の層を含む樹脂層での各層の厚みは、次の方法で測定しうる。樹脂層をエポキシ樹脂で包埋して、試料片を用意する。この試料片を、ミクロトームを用いて厚み０．０５μｍにスライスする。その後、スライスにより現れた断面を顕微鏡を用いて観察することで、樹脂層に含まれる各層の厚みを測定しうる。

第一外側層２１０は、通常、重合体を含む樹脂で形成される。以下、第一外側層２１０を形成する樹脂を、適宜「第一外側樹脂」という。第一外側樹脂は、中間層２３０に含まれる中間樹脂よりもレーザー吸収剤の含有率が低いことが好ましく、レーザー吸収剤を含まないことがより好ましい。さらに、第一外側樹脂は、中間層２３０に含まれる中間樹脂よりも紫外線吸収剤の含有率が低いことが好ましく、紫外線吸収剤を含まないことがより好ましい。

第一外側樹脂に含まれる重合体としては、中間樹脂に含まれる重合体と同一の重合体を用いることが好ましい。これにより、中間層２３０と第一外側層２１０との接着強度を高めたり、中間層２３０と第一外側層２１０との界面での光の反射を抑制したりし易い。
第一外側層２１０における重合体の量は、好ましくは９０．０重量％〜１００重量％、より好ましくは９５．０重量％〜１００重量％である。

第一外側樹脂は、重合体に組み合わせて、更に任意の成分を含みうる。任意の成分としては、例えば、中間層２３０が含みうる任意の成分として挙げたのと同様の成分が挙げられる。

第一外側樹脂のガラス転移温度Ｔｇ_Ｏ１は、中間樹脂のガラス転移温度Ｔｇ_Ｃよりも低いことが好ましい。さらに、第一外側樹脂のガラス転移温度Ｔｇ_Ｏ１と中間樹脂のガラス転移温度Ｔｇ_Ｃとの差Ｔｇ_Ｃ−Ｔｇ_Ｏ１は、好ましくは３０℃以上、より好ましくは３３℃以上、特に好ましくは３５℃以上である。ガラス転移温度の差Ｔｇ_Ｃ−Ｔｇ_Ｏ１が前記範囲に収まることにより、中間樹脂に含まれる添加剤の第一外側樹脂へのブリード量を抑制することができる。ガラス転移温度の差Ｔｇ_Ｃ−Ｔｇ_Ｏ１の上限は、好ましくは５５℃以下、より好ましくは５０℃以下、特に好ましくは４５℃以下である。ガラス転移温度の差Ｔｇ_Ｃ−Ｔｇ_Ｏ１が前記の上限値以下であることにより、第一外側樹脂と中間樹脂の密着性を向上させることができる。

ガラス転移温度の差Ｔｇ_Ｃ−Ｔｇ_Ｏ１を上述した条件で調整する方法は、特に制限は無い。例えば、中間樹脂が重合体以外の成分（例えば、レーザー吸収剤、任意の成分）を含む場合、その重合体以外の成分の種類及び量によって、中間樹脂のガラス転移温度Ｔｇ_Ｃを調整できる。そこで、中間樹脂が含む重合体以外の成分の種類及び量の調整によって、前記のガラス転移温度の差Ｔｇ_Ｃ−Ｔｇ_Ｏ１を調整してもよい。

第一外側層２１０の厚みは、好ましくは３μｍ以上、より好ましくは５μｍ以上、特に好ましくは７μｍ以上であり、好ましくは１５μｍ以下、より好ましくは１３μｍ以下、特に好ましくは１０μｍ以下である。第一外側層２１０の厚みが、前記範囲の下限値以上であることにより、中間層２３０に含まれる成分のブリードアウトを効果的に抑制できる。また、第一外側層２１０の厚みが、前記範囲の上限値以下であることにより、樹脂層２００を薄くできる。

第二外側層２２０は、通常、重合体を含む樹脂で形成される。以下、第二外側層２２０を形成する樹脂を、適宜「第二外側樹脂」という。第二外側樹脂としては、第一外側樹脂として説明した樹脂の範囲から選択される任意の樹脂を用いうる。したがって、第二外側樹脂の含有成分は、第一外側樹脂の含有成分として説明した範囲から選択して適用しうる。これにより、第一外側層２１０の説明に記載したのと同様の利点を得ることができる。

第二外側樹脂のガラス転移温度Ｔｇ_Ｏ２は、中間樹脂のガラス転移温度Ｔｇ_Ｃよりも低いことが好ましい。さらに、第二外側樹脂のガラス転移温度Ｔｇ_Ｏ２と中間樹脂のガラス転移温度Ｔｇ_Ｃとの差Ｔｇ_Ｃ−Ｔｇ_Ｏ２は、好ましくは３０℃以上、より好ましくは３３℃以上、特に好ましくは３５℃以上である。これにより、中間樹脂に含まれる添加剤の第二外側樹脂へのブリード量を抑制することができる。ガラス転移温度の差Ｔｇ_Ｃ−Ｔｇ_Ｏ２の上限は、好ましくは５５℃以下、より好ましくは５０℃以下、特に好ましくは４５℃以下である。ガラス転移温度の差Ｔｇ_Ｃ−Ｔｇ_Ｏ２が前記の上限値以下であることにより、第二外側樹脂と中間樹脂の密着性を向上させることができる。
前記のガラス転移温度の差Ｔｇ_Ｃ−Ｔｇ_Ｏ２は、例えば、ガラス転移温度の差Ｔｇ_Ｃ−Ｔｇ_Ｏ１と同様の方法で調整できる。

第二外側樹脂は、第一外側樹脂と異なる樹脂であってもよく、第一外側樹脂と同一の樹脂であってもよい。中でも、第一外側樹脂及び第二外側樹脂として同一の樹脂を用いることが好ましい。第一外側樹脂及び第二外側樹脂として同一の樹脂を用いることにより、樹脂層２００の製造コストを抑制したり、基材のカールを抑制したりできる。

第二外側層２２０の厚みは、第一外側層２１０の厚みの範囲として説明した範囲から選択される任意の厚みにしうる。これにより、第一外側層２１０の厚みの説明で記載したのと同様の利点を得ることができる。中でも、基材のカールを抑制するためには、第二外側層２２０の厚みは、第一外側層２１０と同一にすることが好ましい。

また、基材に含まれる樹脂層は、図２に示した樹脂層２００のように２層以上の層を含む複層構造の層に限られず、１層のみを含む単層構造の層であってもよい。例えば、樹脂層は、重合体及びレーザー吸収剤を含み、更に必要に応じて紫外線吸収剤等の任意の成分を含む樹脂によって形成された単層構造の層であってもよい。具体例を挙げると、上述した中間層自体を、単独で、樹脂層として用いてもよい。

樹脂層が含む揮発性成分の量は、好ましくは０．１重量％以下、より好ましくは０．０５重量％以下、さらに好ましくは０．０２重量％以下である。揮発性成分の量が前記範囲にあることにより、樹脂層の寸法安定性が向上し、レターデーション等の光学特性の経時変化を小さくすることができる。さらには、偏光子及び表示装置の劣化を抑制でき、長期的に表示装置の表示を安定で良好に保つことができる。ここで、揮発性成分は、分子量２００以下の物質である。揮発性成分としては、例えば、残留単量体及び溶媒などが挙げられる。揮発性成分の量は、分子量２００以下の物質の合計として、ガスクロマトグラフィーにより分析することにより定量しうる。

樹脂層の飽和吸水率は、好ましくは０．０５％以下、より好ましくは０．０３％以下、特に好ましくは０．０１％以下であり、理想的にはゼロ％である。樹脂層の飽和吸水率がこのように低いことにより、樹脂層の光学特性の継時的な変化を抑制することができる。

樹脂層の飽和吸水率は、ＪＩＳ Ｋ７２０９に従い、下記の手順で測定しうる。
樹脂層を５０℃で２４時間乾燥し、デシケータ中で放冷する。次いで、乾燥した樹脂層の重量（Ｍ１）を測定する。
この樹脂層を、温度２３℃、相対湿度５０％の室内で２４時間水に浸漬し樹脂層を水で飽和させる。その後、水から樹脂層を取り出し、２４時間浸漬後の樹脂層の重量（Ｍ２）を測定する。
これらの重量の測定値から、次式により、樹脂層の飽和吸水率を求めうる。
飽和吸水率（％）＝［（Ｍ２−Ｍ１）／Ｍ１］×１００（％）

樹脂層の厚みは、好ましくは１５μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上、特に好ましくは２５μｍ以上であり、好ましくは５０μｍ以下、より好ましくは４５μｍ以下、特に好ましくは４０μｍ以下である。

樹脂層の製造方法に制限は無い。例えば、図２に示したような第一外側層２１０、中間層２３０及び第二外側層２２０を備える樹脂層２００は、各層を形成するための樹脂をフィルム状に成形する工程を含む製造方法により、製造しうる。樹脂の成形方法としては、例えば、共押出法及び共流延法などが挙げられる。これらの成形方法の中でも、共押出法は、製造効率に優れ、得られた樹脂層に揮発性成分を残留させ難いので、好ましい。

また、基材が含む樹脂層は、延伸フィルムであってもよい。よって、例えば、図２に示したような第一外側層２１０、中間層２３０及び第二外側層２２０を備える樹脂層２００は、上述した方法によってフィルム状に成形した後で、延伸処理を施されたものであってもよい。延伸フィルムは、延伸処理を施されたフィルムであり、通常は、当該フィルム中の重合体が前記の延伸処理によって配向している。そのため、延伸フィルムは重合体の配向に応じた光学特性を有することができるので、レターデーション等の光学特性を容易に調整することができる。また、延伸フィルムは、通常、延伸によって厚みを薄くされたり、広幅なフィルムを得られたり、機械的強度を向上させられたりできる。よって、樹脂層として延伸フィルムを用いることにより、好適な属性を有する基材を容易に得ることができる。

［２．１．４．基材に含まれうる光学異方性層］
基材は、液晶性化合物を含む液晶組成物の硬化物で形成された光学異方性層を含んでいてもよい。ここで、用語「液晶組成物」は、２種類以上の成分を含む材料だけでなく、１種類の液晶化合物のみを含む材料を包含する。通常、液晶組成物の硬化物は、液晶性化合物に応じた光学異方性を有するので、前記の硬化物で形成された光学異方性層は、所定の面内レターデーションを有する。以下の説明では、位相差フィルムに含まれうる光学異方性層と区別するため、基材に含まれる光学異方性層を「第一光学異方性層」ということがある。

液晶化合物は、液晶組成物に配合し配向させた際に、液晶相を呈しうる化合物である。このような液晶化合物として、通常は、重合性の液晶化合物を用いる。ここで、重合性の液晶化合物とは、液晶相を呈した状態で液晶組成物中で重合し、液晶相における分子の配向を維持したまま重合体となりうる液晶化合物である。

重合性の液晶化合物としては、重合性基を有する液晶化合物、側鎖型液晶ポリマーを形成しうる化合物、円盤状液晶化合物などの化合物が挙げられ、中でも、可視光線、紫外線、及び赤外線等の光を照射することによって重合しうる光重合性の化合物が好ましい。重合性基を有する液晶化合物としては、例えば、特開平１１−５１３３６０号公報、特開２００２−０３００４２号公報、特開２００４−２０４１９０号公報、特開２００５−２６３７８９号公報、特開２００７−１１９４１５号公報、特開２００７−１８６４３０号公報などに記載された重合性基を有する棒状液晶化合物などが挙げられる。また、側鎖型液晶ポリマー化合物としては、例えば、特開２００３−１７７２４２号公報などに記載の側鎖型液晶ポリマー化合物などが挙げられる。また、好ましい液晶化合物の例を製品名で挙げると、ＢＡＳＦ社製「ＬＣ２４２」等が挙げられる。円盤状液晶化合物の具体例としては、特開平８−５０２０６号公報、文献（C. Destrade et al., Mol. Cryst. Liq. Cryst., vol. 71, page 111 (1981) ；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節(1994)；J. Zhang et al., J. Am. Chem. Soc., vol. 116, page 2655 (1994)）；J. Lehn et al., Ｊ.Chem.Soc.,Chem.Commun., page 1794 (1985)に記載されている。液晶化合物は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

液晶化合物は、逆波長分散性液晶化合物であってもよい。ここで、逆波長分散性液晶化合物とは、ホモジニアス配向した場合に、逆波長分散特性を示す液晶化合物をいう。また、液晶化合物をホモジニアス配向させる、とは、当該液晶化合物を含む層を形成し、その層における液晶化合物の分子のメソゲンの長軸方向を、前記層の面に平行なある一の方向に配向させることをいう。液晶化合物が配向方向の異なる複数種類のメソゲンを含む場合は、それらのうち最も長い種類のメソゲンが配向する方向が、前記の配向方向となる。液晶化合物がホモジニアス配向しているか否か、及びその配向方向は、ＡｘｏＳｃａｎ（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）に代表されるような位相差計を用いた遅相軸方向の測定と、遅相軸方向における入射角毎のレターデーション分布の測定とにより確認しうる。液晶組成物が含む液晶化合物の一部又は全部として、逆波長分散性液晶化合物を用いることにより、逆波長分散特性を示す第一光学異方性層を容易に得ることができる。

例えば、当該化合物の分子中に、主鎖メソゲンと、前記主鎖メソゲンに結合した側鎖メソゲンとを含む化合物を、液晶化合物として用いることが好ましく、逆波長分散性液晶化合物として用いることがより好ましい。主鎖メソゲン及び側鎖メソゲンを含む前記の逆波長分散性液晶化合物は、当該逆波長分散性液晶化合物が配向した状態において、側鎖メソゲンが主鎖メソゲンと異なる方向に配向しうる。このような場合、複屈折は主鎖メソゲンに対応する屈折率と側鎖メソゲンに対応する屈折率との差として発現するので、結果として、逆波長分散性液晶化合物は、ホモジニアス配向した場合に、逆波長分散特性を示すことができる。

重合性を有する逆波長分散性液晶化合物としては、例えば、下記式（Ｉ）で表される化合物が挙げられる。

前記式（Ｉ）において、Ｙ^１〜Ｙ^８は、それぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^１−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^１−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^１−、−ＮＲ^１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^１−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^１−、−Ｏ−ＮＲ^１−、又は、−ＮＲ^１−Ｏ−を表す。ここで、Ｒ^１は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。

前記式（Ｉ）において、Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数１〜２０の二価の脂肪族基を表す。また、前記脂肪族基には、１つの脂肪族基当たり１以上の−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^２−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^２−、−ＮＲ^２−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい。ただし、−Ｏ−又は−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。ここで、Ｒ^２は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。

前記式（Ｉ）において、Ｚ^１及びＺ^２は、それぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基を表す。

前記式（Ｉ）において、Ａ^ｘは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。「芳香環」は、Ｈｕｃｋｅｌ則に従う広義の芳香族性を有する環状構造、すなわち、π電子を（４ｎ＋２）個有する環状共役構造、及びチオフェン、フラン、ベンゾチアゾール等に代表される、硫黄、酸素、窒素等のヘテロ原子の孤立電子対がπ電子系に関与して芳香族性を示す環状構造を意味する。

前記式（Ｉ）において、Ａ^ｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^３、−ＳＯ_２−Ｒ^４、−Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ−Ｒ^９、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。ここで、Ｒ^３は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は、炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基を表す。Ｒ^４は、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、フェニル基、又は、４−メチルフェニル基を表す。Ｒ^９は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０の芳香族基を表す。前記Ａ^ｘ及びＡ^ｙが有する芳香環は、置換基を有していてもよい。また、前記Ａ^ｘとＡ^ｙは、一緒になって、環を形成していてもよい。

前記式（Ｉ）において、Ａ^１は、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。
前記式（Ｉ）において、Ａ^２及びＡ^３は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数３〜３０の二価の脂環式炭化水素基を表す。
前記式（Ｉ）において、Ａ^４及びＡ^５は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数６〜３０の二価の芳香族基を表す。
前記式（Ｉ）において、Ｑ^１は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
前記式（Ｉ）において、ｍは、それぞれ独立に、０又は１を表す。

式（Ｉ）で表される液晶化合物としては、例えば、国際公開第２０１４／０６９５１５号、国際公開第２０１５／０６４５８１号などに記載された化合物が挙げられる。

また、液晶化合物は、順波長分散性液晶化合物であってもよい。ここで、順波長分散性液晶化合物とは、ホモジニアス配向した場合に、順波長分散特性を示す液晶化合物をいう。液晶組成物が含む液晶化合物の一部又は全部として、順波長分散性液晶化合物を用いることにより、順波長分散特性を有する第一光学異方性層を容易に得ることができる。

重合性を有する順波長分散性液晶化合物としては、例えば、下記式（II）で表される化合物が挙げられる。
Ｒ^３ｘ−Ｃ^３ｘ−Ｄ^３ｘ−Ｃ^５ｘ−Ｍ^ｘ−Ｃ^６ｘ−Ｄ^４ｘ−Ｃ^４ｘ−Ｒ^４ｘ 式（II）

式（II）において、Ｒ^３ｘ及びＲ^４ｘは、それぞれ独立して、反応性基を示す。Ｒ^３ｘ及びＲ^４ｘは、例えば、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、チオエポキシ基、オキセタン基、チエタニル基、アジリジニル基、ピロール基、フマレート基、シンナモイル基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、オキサゾリン基、メルカプト基、ビニル基、アリル基等が挙げられる。

式（II）において、Ｄ^３ｘ及びＤ^４ｘは、それぞれ独立して、単結合、炭素原子数１〜２０個の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基、及び炭素原子数１〜２０個の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレンオキサイド基からなる群より選択される基を表す。

式（II）において、Ｃ^３ｘ〜Ｃ^６ｘは、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＳ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＯＯ−、及び−ＣＨ_２ＯＣＯ−からなる群より選択される基を表す。

式（II）においてＭ^ｘは、メソゲン基を表す。好適なメソゲン基Ｍ^ｘは、非置換又は置換基を有していてもよい、アゾメチン類、アゾキシ類、フェニル類、ビフェニル類、ターフェニル類、ナフタレン類、アントラセン類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類、アルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類からなる群より選択された２〜４個の骨格を、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＳ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＯＯ−、及び−ＣＨ_２ＯＣＯ−等の結合基によって結合されて形成される。

メソゲン基Ｍ^ｘが有しうる置換基としては、例えば、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、−Ｏ−Ｒ^５ｘ、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^５ｘ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ^５ｘ、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ^５ｘ、−ＮＲ^５ｘ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^５ｘ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^５ｘＲ^７ｘ、または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^５ｘＲ^７ｘが挙げられる。ここで、Ｒ^５ｘ及びＲ^７ｘは、水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基を表す。Ｒ^５ｘ及びＲ^７ｘがアルキル基である場合、当該アルキル基には、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ^６ｘ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^６ｘ−、−ＮＲ^６ｘ−、または−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい（ただし、−Ｏ−および−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。）。ここで、Ｒ^６ｘは、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。

前記「置換基を有してもよい炭素数１〜１０個のアルキル基」における置換基としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、炭素原子数１〜６個のアルコキシ基、炭素原子数２〜８個のアルコキシアルコキシ基、炭素原子数３〜１５個のアルコキシアルコキシアルコキシ基、炭素原子数２〜７個のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜７個のアルキルカルボニルオキシ基、炭素原子数２〜７個のアルコキシカルボニルオキシ基等が挙げられる。

式（II）で表される液晶化合物としては、例えば、国際公開第２０１６／００２７６５号などに記載された棒状液晶性化合物が挙げられる。

また、液晶化合物は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

液晶組成物における液晶化合物の量は、所望の第一光学異方性層が得られる範囲で任意に設定でき、好ましくは１重量％以上、より好ましくは５重量％以上、特に好ましくは１０重量％以上であり、また、好ましくは１００重量％以下、より好ましくは８０重量％以下、特に好ましくは６０重量％以下である。

液晶組成物は、液晶化合物に組み合わせて、任意の成分を含んでいてもよい。任意の成分としては、例えば、重合開始剤、界面活性剤、溶媒、金属、金属錯体、染料、顔料、蛍光材料、燐光材料、レベリング剤、チキソ剤、ゲル化剤、多糖類、赤外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交換樹脂、酸化チタン等の金属酸化物等が挙げられる。任意の成分については、国際公開第２０１５／０６４５８１号を参照しうる。

第一光学異方性層は、前記の液晶化合物を含む液晶組成物の硬化物で形成された層であり、通常、液晶化合物から得られる硬化液晶分子を含む。ここで、「硬化液晶分子」とは、液晶相を呈しうる化合物を、液晶相を呈した状態のまま固体とした際の当該化合物の分子を意味する。第一光学異方性層が含む硬化液晶分子は、通常、液晶化合物を重合させてなる重合体である。よって、第一光学異方性層は、通常は、液晶化合物を重合させてなる重合体を含み、必要に応じて任意の成分を含みうる樹脂の層となっている。そして、このような第一光学異方性層は、前記の硬化液晶分子の配向状態に応じた光学異方性を有しうる。第一光学異方性層の光学異方性は、面内レターデーションによって表すことができる。第一光学異方性層の具体的な面内レターデーションは、第一光学異方性層が有するべき面内レターデーションに応じて設定できる。

第一光学異方性層の厚みは、レターデーション等の光学特性を所望の範囲にできるように適宜調整でき、好ましくは０．５μｍ以上、より好ましくは１．０μｍ以上であり、好ましくは１０μｍ以下、より好ましくは７μｍ以下、特に好ましくは５μｍ以下である。

第一光学異方性層は、通常、支持体上に液晶組成物の層を形成する工程と、液晶組成物の層を硬化させて第一光学異方性層を得る工程と、を含む製造方法によって、製造できる。

この製造方法では、支持体を用意し、その支持体の面に、液晶組成物の層を形成する。支持体として、通常は、樹脂フィルムを用いる。樹脂としては、熱可塑性樹脂を用いることができる。中でも、透明性、低吸湿性、寸法安定性及び軽量性の観点から、脂環式構造含有重合体を含む樹脂、及び、セルロースエステル樹脂が好ましい。

支持体の表面には、液晶組成物の層における液晶化合物の配向を促進するため、配向規制力を付与するための処理が施されていてもよい。ここで、ある面の配向規制力とは、液晶組成物中の液晶化合物を配向させうる、その面の性質をいう。

配向規制力を付与するための処理としては、例えば、ラビング処理、配向層形成処理、イオンビーム配向処理、延伸処理などが挙げられ、中でも、延伸処理が好ましい。支持体に適切な条件で延伸処理を施すことにより、支持体に含まれる重合体の分子を配向させることができる。これにより、支持体に含まれる重合体の分子の配向方向に液晶化合物を配向させる配向規制力を、支持体の表面に付与できる。

支持体の延伸は、支持体に異方性を付与して、当該支持体に遅相軸を発現させられるように行うことが好ましい。これにより、通常は、支持体の遅相軸と平行又は垂直な方向に液晶化合物を配向させる配向規制力が、支持体の表面に付与される。例えば、支持体の材料として正の固有複屈折値を有する樹脂を用いた場合、通常は、支持体に含まれる重合体の分子が延伸方向に配向することにより延伸方向に平行な遅相軸が発現するので、支持体の遅相軸と平行な方向に液晶化合物を配向させる配向規制力が、支持体の表面に付与される。したがって、支持体の延伸方向は、液晶化合物を配向させようとする所望の配向方向に応じて設定しうる。

延伸倍率は、延伸後の支持体の複屈折Δｎが所望の範囲となるように設定しうる。延伸後の支持体の複屈折Δｎは、好ましくは０．００００５０以上、より好ましくは０．００００７０以上であり、好ましくは０．００７５００以下、より好ましくは０．００７０００以下である。延伸後の支持体の複屈折Δｎが前記範囲の下限値以上であることにより、当該支持体の表面に良好な配向規制力を付与できる。前記の延伸は、テンター延伸機などの延伸機を用いて行いうる。

前記のような支持体としては、長尺のフィルムを用いることが好ましい。支持体として長尺のフィルムを用いることにより、第一光学異方性層の生産性を向上させることができる。この際、支持体の厚みは、生産性の向上、薄型化及び軽量化を容易にする観点から、好ましくは１μｍ以上、より好ましくは５μｍ以上、特に好ましくは３０μｍ以上であり、好ましくは１０００μｍ以下、より好ましくは３００μｍ以下、特に好ましくは１００μｍ以下である。

また、支持体としては、上述した樹脂層を用いてもよい。基材に含まれるべき樹脂層を支持体として用いることにより、基材の材料とは別に支持体を用意する必要が無くなるので、基材の製造コストを低くすることができる。

液晶組成物の層の形成は、通常、塗工法によって行う。具体的には、支持体の表面に、液晶組成物を塗工して、液晶組成物の層を形成する。塗工方法としては、例えば、カーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ロールコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、スライドコーティング法、印刷コーティング法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、ギャップコーティング法、及びディッピング法が挙げられる。塗工される液晶組成物の層の厚みは、第一光学異方性層に求められる所望の厚みに応じて適切に設定しうる。

液晶組成物の層を形成した後で、必要に応じて、液晶組成物の層を乾燥させる工程を行ってもよい。かかる乾燥は、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥等の乾燥方法で達成しうる。かかる乾燥により、液晶組成物の層から、溶媒を除去することができる。

また、液晶組成物の層を形成した後で、必要に応じて、当該層に含まれる液晶化合物を配向させる工程を行ってもよい。この工程では、通常は、液晶組成物の層に配向処理を施すことにより、支持体の面の配向規制力に応じた方向に液晶化合物を配向させる。配向処理は、通常、液晶組成物の層を、所定の配向温度に加熱することによって、行う。この配向処理の条件は、使用する液晶組成物の性質に応じて適切に設定しうる。配向処理の条件の具体例を挙げると、５０℃〜１６０℃の温度条件において、３０秒間〜５分間処理する条件としうる。

ただし、液晶化合物の配向は、液晶組成物の塗工により直ちに達成される場合がありえる。そのため、液晶化合物を配向させたい場合でも、配向処理は、必ずしも液晶組成物の層に施さなくてもよい。

必要に応じて液晶組成物の層の乾燥、及び、液晶化合物の配向を行った後で、前記液晶組成物の層を硬化させて、第一光学異方性層を得る工程を行う。この工程では、通常、液晶化合物を重合させて、液晶組成物の層を硬化させる。液晶化合物の重合方法としては、液晶組成物に含まれる成分の性質に適合した方法を選択しうる。重合方法としては、例えば、活性エネルギー線を照射する方法、及び、熱重合法が挙げられる。中でも、加熱が不要であり、室温で重合反応を進行させられるので、活性エネルギー線を照射する方法が好ましい。ここで、照射される活性エネルギー線には、可視光線、紫外線、及び赤外線等の光、並びに電子線等の任意のエネルギー線が含まれうる。

なかでも、操作が簡便なことから、紫外線等の光を照射する方法が好ましい。紫外線照射時の温度は、支持体のガラス転移温度以下とすることが好ましく、好ましくは１５０℃以下、より好ましくは１００℃以下、特に好ましくは８０℃以下である。紫外線照射時の温度の下限は、１５℃以上としうる。紫外線の照射強度は、好ましくは０．１ｍＷ／ｃｍ^２以上、より好ましくは０．５ｍＷ／ｃｍ^２以上であり、好ましくは１０００ｍＷ／ｃｍ^２以下、より好ましくは６００ｍＷ／ｃｍ^２以下である。

こうして得られた第一光学異方性層は、必要に応じて、支持体から剥がして用いてもよい。

［２．１．５．基材に含まれうる導電層］
基材は、樹脂層に組み合わせて、導電層を含んでいてもよい。導電層は、通常、基材に含まれる樹脂層の片面又は両面に設けられる。樹脂層は、一般に可撓性に優れるので、樹脂層上に導電層を備えた基材を用いることにより、指での入力が円滑なタッチパネルを実現できる。特に、脂環式構造含有重合体を含む基材では、その脂環式構造含有重合体の優れた耐熱性及び低吸湿性を活用できるので、高温又は高湿度の環境においてカール等の変形を生じ難い。

導電層としては、例えば、導電性金属酸化物、導電性ナノワイヤ、金属メッシュ及び導電性ポリマーからなる群より選ばれる少なくとも１種の導電材料を含む層を用いうる。

導電性金属酸化物としては、例えば、ＩＴＯ（インジウム錫オキサイド）、ＩＺＯ（インジウム亜鉛オキサイド）、ＺｎＯ（酸化亜鉛）、ＩＷＯ（インジウムタングステンオキサイド）、ＩＴｉＯ（インジウムチタニウムオキサイド）、ＡＺＯ（アルミニウム亜鉛オキサイド）、ＧＺＯ（ガリウム亜鉛オキサイド）、ＸＺＯ（亜鉛系特殊酸化物）、ＩＧＺＯ（インジウムガリウム亜鉛オキサイド）等が挙げられる。これらの中でも、光線透過性及び耐久性の観点より、ＩＴＯが特に好ましい。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

導電性金属酸化物を含む導電層は、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト蒸着法、アーク放電プラズマ蒸着法、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、鍍金法、及びこれらの組み合わせ等の成膜方法によって、形成しうる。これらの中でも、蒸着法及びスパッタリング法が好ましく、スパッタリング法が特に好ましい。スパッタリング法では、厚みが均一な導電層を形成できるので、導電層に局所的に薄い部分が発生することを抑制できる。

導電性ナノワイヤとは、形状が針状または糸状であり、径がナノメートルサイズの導電性物質をいう。導電性ナノワイヤは直線状であってもよく、曲線状であってもよい。このような導電性ナノワイヤは、導電性ナノワイヤ同士が隙間を形成して網の目状となることにより、少量の導電性ナノワイヤであっても良好な電気伝導経路を形成することができ、電気抵抗の小さい導電層を実現できる。また、導電性ワイヤは、網の目状となることにより、網の目の隙間に開口部を形成するので、光透過率の高い導電層を得ることができる。さらに、導電性ナノワイヤを含む導電層を用いることにより、通常は、耐屈曲性に優れる基材を得ることができる。

導電性ナノワイヤの太さｄと長さＬとの比（アスペクト比：Ｌ／ｄ）は、好ましくは１０〜１００，０００であり、より好ましくは５０〜１００，０００であり、特に好ましくは１００〜１０，０００である。このようにアスペクト比の大きい導電性ナノワイヤを用いれば、導電性ナノワイヤが良好に交差して、少量の導電性ナノワイヤにより高い導電性を発現させることができる。その結果、透明性に優れる基材を得ることができる。ここで、「導電性ナノワイヤの太さ」とは、導電性ナノワイヤの断面が円状である場合はその直径を意味し、楕円状である場合はその短径を意味し、多角形である場合は最も長い対角線を意味する。導電性ナノワイヤの太さおよび長さは、走査型電子顕微鏡または透過型電子顕微鏡によって測定しうる。

導電性ナノワイヤの太さは、好ましくは５００ｎｍ未満であり、より好ましくは２００ｎｍ未満であり、更に好ましくは１０ｎｍ〜１００ｎｍであり、特に好ましくは１０ｎｍ〜５０ｎｍである。これにより、導電層の透明性を高めることができる。

導電性ナノワイヤの長さは、好ましくは２．５μｍ〜１０００μｍであり、より好ましくは１０μｍ〜５００μｍであり、特に好ましくは２０μｍ〜１００μｍである。これにより、導電層の導電性を高めることができる。

導電性ナノワイヤとしては、例えば、金属により構成される金属ナノワイヤ、カーボンナノチューブを含む導電性ナノワイヤ等が挙げられる。

導電層における導電性ナノワイヤの含有率は、導電層の全重量に対して、好ましくは８０重量％〜１００重量％であり、より好ましくは８５重量％〜９９重量％である。これにより、導電性および光透過性に優れる導電層を得ることができる。

導電性ナノワイヤを含む導電層は、導電性ナノワイヤを溶媒に分散させて得られた導電性ナノワイヤ分散液を塗工及び乾燥させることにより、製造しうる。

金属メッシュとは、格子状に形成された金属細線である。金属メッシュに含まれる金属としては、導電性の高い金属が好ましい。好適な金属の例としては、金、白金、銀及び銅が挙げられ、なかでも好ましくは銀、銅及び金であり、より好ましくは銀である。これらの金属は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

金属メッシュを含む導電層は、例えば、銀塩を含む導電層形成用組成物を塗工し、露光処理及び現像処理によって金属細線を所定の格子パターンに形成することにより、形成できる。また、金属メッシュを含む導電層は、金属微粒子を含む導電層形成用組成物を所定のパターンに印刷することによっても、形成できる。このような導電層及びその形成方法の詳細については、特開２０１２−１８６３４号公報、特開２００３−３３１６５４号公報を参照しうる。

導電性ポリマーとしては、例えば、ポリチオフェン系ポリマー、ポリアセチレン系ポリマー、ポリパラフェニレン系ポリマー、ポリアニリン系ポリマー、ポリパラフェニレンビニレン系ポリマー、ポリピロール系ポリマー、ポリフェニレン系ポリマー、アクリル系ポリマーで変性されたポリエステル系ポリマー等が挙げられる。中でも、ポリチオフェン系ポリマー、ポリアセチレン系ポリマー、ポリパラフェニレン系ポリマー、ポリアニリン系ポリマー、ポリパラフェニレンビニレン系ポリマーおよびポリピロール系ポリマーが好ましい。その中でも、特に、ポリチオフェン系ポリマーが好ましい。ポリチオフェン系ポリマーを用いることにより、透明性及び化学的安定性に優れる導電層を得ることができる。ポリチオフェン系ポリマーの具体例としては、ポリチオフェン；ポリ（３−ヘキシルチオフェン）等のポリ（３−Ｃ_１−８アルキル−チオフェン）；ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）、ポリ（３，４−プロピレンジオキシチオフェン）、ポリ［３，４−（１，２−シクロヘキシレン）ジオキシチオフェン］等のポリ（３，４−（シクロ）アルキレンジオキシチオフェン）；ポリチエニレンビニレン等が挙げられる。
また、前記の導電性ポリマーは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

導電性ポリマーを含む導電層は、例えば、導電性ポリマーを含む導電性組成物を塗工し、乾燥することにより形成しうる。導電性ポリマーを含む導電層については、特開２０１１−１７５６０１号公報を参照しうる。

導電層は、基材の面内方向の全体に形成されていてもよいが、所定のパターンにパターン化されていてもよい。導電層のパターンの形状は、タッチパネル（例えば、静電容量方式タッチパネル）として良好に動作するパターンが好ましく、例えば、特表２０１１−５１１３５７号公報、特開２０１０−１６４９３８号公報、特開２００８−３１０５５０号公報、特表２００３−５１１７９９号公報、特表２０１０−５４１１０９号公報に記載のパターンが挙げられる。

導電層の表面抵抗値は、好ましくは２０００Ω／□以下、より好ましくは１５００Ω／□以下、特に好ましくは１０００Ω／□以下である。導電層の表面抵抗値がこのように低いことにより、基材を用いて高性能のタッチパネルを実現できる。導電層の表面抵抗値の下限に特段の制限は無いが、製造が容易であることから、好ましくは１００Ω／□以上、より好ましくは２００Ω／□以上、特に好ましくは３００Ω／□以上である。

導電層の波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲における光線透過率は、好ましくは８５％以上であり、より好ましくは９０％以上であり、さらに好ましくは９５％以上である。

導電層の厚みは、好ましくは０．０１μｍ〜１０μｍ、より好ましくは０．０５μｍ〜３μｍ、特に好ましくは０．１μｍ〜１μｍである。

［２．１．６．基材の光学特性及び厚み］
上述した基材は、通常、λ／４板として機能できる。ここで、λ／４板とは、波長５５０ｎｍにおいて所定の範囲の面内レターデーションを有する部材をいう。具体的には、λ／４板の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションは、通常１１０ｎｍ以上、好ましくは１２０ｎｍ以上、より好ましくは１２５ｎｍ以上であり、通常１６５ｎｍ以下、好ましくは１５５ｎｍ以下、より好ましくは１５０ｎｍ以下である。したがって、λ／４板として機能できる基材とは、波長５５０ｎｍにおいて前記範囲の面内レターデーションを有する基材をいう。λ／４板として機能できる基材を偏光子と組み合わせることにより、円偏光板を得ることができる。

基材は、表示装置の表示品位を高くする観点から、可視波長における光線透過率が高いことが好ましい。例えば、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲における基材の光線透過率は、好ましくは８５％〜１００％、より好ましくは８７％〜１００％、特に好ましくは９０％〜１００％である。

基材は、表示装置の画像鮮明性を高める観点から、ヘイズが小さいことが好ましい。基材の具体的なヘイズは、好ましくは１％以下、より好ましくは０．８％以下、特に好ましくは０．５％以下である。ヘイズは、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１９９７に準拠して、濁度計を用いて測定しうる。

基材が単層の場合、その基材の厚みは、好ましくは１０μｍ以上、より好ましくは１５μｍ以上、特に好ましくは２０μｍ以上であり、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは８０μｍ以下、特に好ましくは６０μｍ以下である。基材が複層の場合、各層の厚みは、好ましくは１０μｍ以上、より好ましくは１５μｍ以上、特に好ましくは２０μｍ以上であり、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは８０μｍ以下、特に好ましくは６０μｍ以下である。

［２．１．７．基材の第一の構成例］
以下、基材の具体的な構成例を、図面を示して説明する。
図３は、一例としての基材３００を模式的に示す断面図である。図３に示すように、この例に係る基材３００は、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が小さい第一基材層３１０と、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が大きい第二基材層３２０と、第一基材層３１０の少なくとも一方の面３１０Ｕに形成された導電層３３０とを含む。そして、レーザー吸収剤は、第一基材層３１０及び第二基材層３２０の一方又は両方に含まれている。図３には、第一基材層３１０の一方の面３１０Ｕに導電層３３０が形成された例を示したが、導電層３３０は、第一基材層３１０の他方の面３１０Ｄに形成されていてもよく、第一基材層３１０の両方の面３１０Ｕ及び３１０Ｄに形成されていてもよい。

第一基材層３１０は光学等方性の層であることが好ましい。よって、第一基材層の波長５５０ｎｍにおける第一基材層３１０の面内レターデーションＲｅ（５５０）及び厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）は小さいことが好ましい。具体的には、第一基材層３１０の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）は、好ましくは１０ｎｍ以下、より好ましくは５ｎｍ以下、特に好ましくは４ｎｍ以下であり、理想的には０ｎｍである。また、第一基材層３１０の波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）は、好ましくは１５ｎｍ以下、より好ましくは１３ｎｍ以下、特に好ましくは１０ｎｍ以下である。下限は、特段の制限は無く、理想的には０ｎｍであるが、通常５ｎｍ以上である。このように第一基材層３１０が光学等方性であることにより、表示装置に用いた場合に表示画面の着色を抑制したり、視野角特性を改善したりすることができる。第一基材層３１０は単層構造であっても、複層構造であってもよい。第一基材層３１０としては、脂環式構造含有重合体フィルム（例えば、ゼオノアフィルム（日本ゼオン社製））やトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムなどが挙げられる。

また、波長５５０ｎｍにおける第二基材層３２０の面内レターデーションＲｅ（５５０）は、好ましくは９０ｎｍ以上、より好ましくは１００ｎｍ以上、特に好ましくは１１０ｎｍ以上であり、好ましくは１５０ｎｍ以下、より好ましくは１４５ｎｍ以下、特に好ましくは１４０ｎｍ以下である。第二基材層としては、例えば、斜め延伸フィルム（ゼオノアフィルムＺＤシリーズ、日本ゼオン社製）などが挙げられる。
このようなレターデーションを有する第一基材層３１０及び第二基材層３２０を組み合わせることにより、λ／４板として機能できる基材３００を実現することができる。

前記の基材３００の好ましい実施形態として、第一基材層３１０及び第二基材層３２０の一方又は両方が、第一外側層と、第二外側層と、前記の第一外側層及び第二外側層の間に設けられた中間層とを含む複層構造の樹脂層である（図２参照）。このような樹脂層では、中間層に含まれる成分は、ブリードアウトを生じ難い。よって、中間層がブリードアウトを生じ易い成分を含む場合に、前記ブリードアウトによる製造設備の汚れを抑制しながら基材３００の製造が可能となる。よって、レーザー吸収剤及び任意の成分としての紫外線吸収剤は、中間層に含まれることが好ましい。

上述した基材３００において、第一基材層３１０及び第二基材層３２０の一方又は両方の厚みは、好ましくは１０μｍ〜６０μｍ、より好ましくは１５μｍ〜５５μｍ、特に好ましくは２０μｍ〜５０μｍである。第一基材層３１０及び第二基材層３２０の一方又は両方の厚みが前記の範囲に収まることにより、偏光子保護フィルム自体の自己支持性を保持することができ、偏光子保護フィルムの剛性を維持することができる。

［２．１．８．第二の構成例］
以下、基材の別の具体的な構成例を、図面を示して説明する。
図４は、一例としての基材４００を模式的に示す断面図である。図４に示すように、この例に係る基材４００は、λ／４板として機能できる第一基材層４１０と、λ／２板として機能できる第二基材層４２０と、第一基材層４１０の少なくとも一方の面４１０Ｕに形成された導電層４３０とを含む。そして、レーザー吸収剤は、第一基材層４１０及び第二基材層４２０の一方又は両方に含まれている。図４には、第一基材層４１０の一方の面４１０Ｕに導電層４３０が形成された例を示したが、導電層４３０は、第一基材層４１０の他方の面４１０Ｄに形成されていてもよく、第一基材層４１０の両方の面４１０Ｕ及び４１０Ｄに形成されていてもよい。

第一基材層４１０は、λ／４板として機能できる層である。よって、第一基材層４１０は、波長５５０ｎｍにおいて所定の範囲の面内レターデーションを有する。具体的には、第一基材層４１０の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションは、通常１１０ｎｍ以上、好ましくは１２０ｎｍ以上、より好ましくは１２５ｎｍ以上であり、通常１６５ｎｍ以下、好ましくは１５５ｎｍ以下、より好ましくは１５０ｎｍ以下である。

第二基材層４２０は、λ／２板として機能できる層である。ここで、λ／２板とは、波長５５０ｎｍにおいて所定の範囲の面内レターデーションを有する層をいう。具体的には、λ／２板の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションは、通常２４０ｎｍ以上、好ましくは２５０ｎｍ以上であり、通常３００ｎｍ以下、好ましくは２８０ｎｍ以下、特に好ましくは２６５ｎｍ以下である。したがって、λ／２板として機能できる第二基材層４２０とは、波長５５０ｎｍにおいて前記範囲の面内レターデーションを有する層をいう。

λ／４板として機能できる第一基材層４１０と、λ／２板として機能できる第二基材層４２０とを組み合わせて含むことにより、基材４００は、広帯域λ／４板として機能できる。ここで、広帯域λ／４板とは、逆波長分散特性を示すλ／４板をいう。広帯域λ／４板は、広範な波長範囲においてλ／４板としての機能を発揮できるので、広帯域λ／４板として機能できる基材４００を含む表示装置は、特に正面方向から観察した画像の意図しない色付きを抑制できる。また、広帯域λ／４板として機能できる基材４００を含む偏光子保護フィルムを偏光子と組み合わせることによって、広い波長範囲において機能できる円偏光板を実現することができる。

ただし、基材４００が広帯域λ／４板として機能できるようにするために、第一基材層４１０の遅相軸と第二基材層４２０の遅相軸とがなす交差角は、適切な範囲に調整することが好ましい。
一般に、ある基準方向に対して角度θ（λ／４）をなす遅相軸を有するλ／４板と、前記基準方向に対して角度θ（λ／２）をなす遅相軸を有するλ／２板とを組み合わせた複層フィルムが、式（Ｘ）：「θ（λ／４）＝２θ（λ／２）＋４５°」を満たす場合、この複層フィルムは、広い波長範囲において当該複層フィルムを通過する正面方向の光にその光の波長の略１／４波長の面内レターデーションを与えうる広帯域λ／４板となる（特開２００７−００４１２０号公報参照）。よって、λ／４板として機能できる第一基材層４１０と、λ／２板として機能できる第二基材層４２０との組み合わせによって広帯域λ／４板として機能できる基材４００を得る観点から、λ／４板として機能できる第一基材層４１０の遅相軸と、λ／２板として機能できる第二基材層４２０の遅相軸との間に、前記式（Ｘ）で表されるのに近い関係を満たすことが好ましい。このような観点から、λ／４板として機能できる第一基材層４１０の遅相軸と、λ／２板として機能できる第二基材層４２０の遅相軸とがなす交差角は、好ましくは５５°以上、より好ましくは５７°以上、特に好ましくは５９°以上であり、好ましくは６５°以下、より好ましくは６３°以下、特に好ましくは６１°以下である。

前記の基材４００の好ましい実施形態として、第二基材層４２０は、液晶性化合物を含む液晶組成物の硬化物で形成された第一光学異方性層であることが好ましい。通常、液晶組成物の硬化物によれば、耐久性を上げることができ、更には薄くても大きなレターデーションを得やすい。よって、第二基材層４２０として第一光学異方性層を用いることにより、特に耐熱性の優れた薄い基材層４００を得ることができる。
第二基材層４２０として第一光学異方性層を用いる場合、第一基材層４１０としては、通常、レーザー吸収剤を含む樹脂層を用いる。

また、前記の基材４００の別の好ましい実施形態として、第一基材層４１０及び第二基材層４２０の一方又は両方が、第一外側層と、第二外側層と、前記の第一外側層及び第二外側層の間に設けられた中間層とを含む複層構造の樹脂層であることが好ましい（図２参照）。このような樹脂層では、ブリードアウトを抑制する観点から、レーザー吸収剤及び任意の成分としての紫外線吸収剤は、中間層に含まれることが好ましい。

上述した基材４００において、第一基材層４１０及び第二基材層４２０の一方又は両方の厚みは、基材の第一の構成例と同様に、好ましくは１０μｍ〜６０μｍである。

［２．２．任意の層］
偏光子保護フィルムは、基材に組み合わせて、更に任意の層を含んでいてもよい。任意の層としては、例えば、粘着層、接着層、ハードコート層、インデックスマッチング層、易接着層、防眩層、反射防止層などが挙げられる。

［２．３．偏光子保護フィルムの特性及び厚み］
偏光子保護フィルムは、表示装置の表示品位を高くする観点から、可視波長における光線透過率が高いことが好ましい。例えば、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲における偏光子保護フィルムの光線透過率は、好ましくは８５％〜１００％、より好ましくは８７％〜１００％、特に好ましくは９０％〜１００％である。

また、偏光子の外光およびバックライトからの紫外線による劣化を抑制するために、波長３８０ｎｍにおける光線透過率は、好ましくは１％以下、より好ましくは０．５％以下、特に好ましくは０．０５％以下である。光線透過率は紫外線吸収剤により制御できる。

偏光子保護フィルムは、表示装置の画像鮮明性を高める観点から、ヘイズが小さいことが好ましい。偏光子保護フィルムのヘイズは、好ましくは１％以下、より好ましくは０．８％以下、特に好ましくは０．５％以下である。

偏光子保護フィルムの厚みは、特段の制限は無いが、好ましくは１０μｍ以上、より好ましくは１５μｍ以上、特に好ましくは２０μｍ以上であり、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは８０μｍ以下、特に好ましくは６０μｍ以下である。

［３．偏光子］
偏光子は、偏光透過軸及び偏光吸収軸を有する光学部材である。この偏光子は、偏光吸収軸と平行な振動方向を有する直線偏光を吸収し、偏光透過軸と平行な振動方向を有する直線偏光を通過させることができる。ここで、直線偏光の振動方向とは、直線偏光の電場の振動方向を意味する。

偏光子としては、例えば、ポリビニルアルコール、部分ホルマール化ポリビニルアルコール等の適切なビニルアルコール系重合体のフィルムに、ヨウ素及び二色性染料等の二色性物質による染色処理、延伸処理、架橋処理等の適切な処理を適切な順序及び方式で施したフィルムを用いうる。この直線偏光子は、偏光度に優れるものが好ましい。直線偏光子の厚みは、５μｍ〜８０μｍが一般的であるが、これに限定されない。

λ／４板として機能できる基材を含む偏光子保護フィルムと偏光子との組み合わせによって円偏光板を得る観点から、偏光子保護フィルムの基材の遅相軸と偏光子の透過軸とは、交差していることが好ましい。この際、基材の遅相軸と偏光子の透過軸との交差角は、所定の範囲に収まることが好ましい。前記の交差角の具体的範囲は、好ましくは４５°±５°、より好ましくは４５°±３°、特に好ましくは４５°±１°である。交差角を前記の範囲に調整されていると、偏光子を透過して偏光子保護フィルムに進入した直線偏光を、λ／４板として機能できる基材によって、円偏光に変換することができる。偏光子を透過して偏光子保護フィルムに進入した直線偏光を円偏光に変換することで、偏光子保護フィルムを視認側に配置した表示装置では、偏光サングラスを通してみた場合でも、表示品位を落とすことなく表示装置を見ることができる。

［４．位相差フィルム］
位相差フィルムは、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が９０ｎｍ〜１５０ｎｍのフィルムである。より詳細には、位相差フィルムの波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）は、好ましくは９０ｎｍ以上、より好ましくは９５ｎｍ以上、特に好ましくは１００ｎｍ以上であり、好ましくは１５０ｎｍ以下、より好ましくは１４５ｎｍ以下、特に好ましくは１４０ｎｍ以下である。このような範囲の面内レターデーションＲｅ（５５０）を有する位相差フィルムは、λ／４板として機能できる。よって、位相差フィルムと偏光子との組み合わせにより、円偏光板を得ることができる。

位相差フィルムと偏光子との組み合わせによって円偏光板を得る観点から、位相差フィルムの遅相軸と偏光子の透過軸とは、交差していることが好ましい。この際、位相差フィルムの遅相軸と偏光子の透過軸との交差角は、所定の範囲に収まることが好ましい。前記の交差角の具体的範囲は、好ましくは４５°±５°、より好ましくは４５°±３°、特に好ましくは４５°±１°である。交差角を前記の範囲に調整されていると、偏光子を透過して位相差フィルムに進入した直線偏光を、その位相差フィルムによって、円偏光に変換することができる。

前記の位相差フィルムとしては、例えば、樹脂によって形成されたフィルムを用いうる。位相差フィルムを形成する樹脂としては、重合体と、必要に応じて重合体以外の任意の成分を含む樹脂を用いることができる。よって、位相差フィルムとしては、重合体及び必要に応じて任意の成分を含むフィルムを用いることができる。このフィルムとしては、単層構造のフィルムを用いてもよく、複層構造のフィルムを用いてもよい。

重合体としては、例えば、基材に含まれうる重合体として説明した範囲から選択される任意の重合体を用いることができ、中でも、脂環式構造含有重合体が好ましい。脂環式構造含有重合体を含む位相差フィルムを用いることにより、脂環式構造含有重合体の優れた性質を活用して、耐久性に優れた表示装置を得ることができる。
位相差フィルムにおける重合体の量は、好ましくは９０．０重量％〜１００重量％、より好ましくは９５．０重量％〜１００重量％である。重合体の量を前記範囲にすることにより、位相差フィルムの耐湿熱性及び機械的強度を効果的に高めることができる。
また、任意の成分としては、例えば、基材に含まれうる任意の成分として挙げたのと同様の成分が挙げられる。

位相差フィルムは、好ましくは延伸フィルムを含む。この延伸フィルムは、樹脂フィルムに延伸処理を施して得られたフィルムであり、通常は、延伸フィルム自体を位相差フィルムとして用いることができる。延伸フィルムを用いることにより、位相差フィルムを容易に得ることができる。

また、位相差フィルムとしては、例えば、液晶性化合物を含む液晶組成物の硬化物で形成された光学異方性層を用いてもよい。以下の説明では、基材に含まれうる第一光学異方性層と区別するため、位相差フィルムとしての光学異方性層を「第二光学異方性層」ということがある。第二光学異方性層としては、第一光学異方性層として説明した範囲に含まれる層を任意に用いうる。通常、液晶組成物の硬化物によれば、耐久性を上げることができ、薄くても大きなレターデーションを得やすいので、位相差フィルムとして第二光学異方性層を用いることにより、表示装置の薄型化を達成できる。

位相差フィルムが第二光学異方性層である場合、位相差フィルムの波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（４５０）と、位相差フィルムの波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）とが、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０を満たすことが好ましい。Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０を満たすレターデーションを有する位相差フィルムは、広帯域λ／４板として機能できる。そのため、位相差フィルムと偏光子との組み合わせにより、広い波長範囲において機能できる円偏光板を得ることが可能である。Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０を満たすレターデーションを有する位相差フィルムは、例えば、第二光学異方性層の材料として、逆波長分散液晶を含む液晶組成物を用いることにより得ることができる。

位相差フィルムの厚みは、レターデーション等の光学特性を所望の範囲にできるように適宜調整でき、好ましくは１．０μｍ以上、より好ましくは３．０μｍ以上、特に好ましくは５．０μｍ以上であり、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは８０μｍ以下、特に好ましくは５５μｍ以下である。

［５．表示素子］
表示素子としては、表示装置の種類に応じて様々なものがある。代表的な表示素子の例としては、液晶セル及び有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、適宜「有機ＥＬ素子」ということがある。）が挙げられる。

液晶セルは、例えば、インプレーンスイッチング（ＩＰＳ）モード、バーチカルアラインメント（ＶＡ）モード、マルチドメインバーチカルアラインメント（ＭＶＡ）モード、コンティニュアスピンホイールアラインメント（ＣＰＡ）モード、ハイブリッドアラインメントネマチック（ＨＡＮ）モード、ツイステッドネマチック（ＴＮ）モード、スーパーツイステッドネマチック（ＳＴＮ）モード、オプチカルコンペンセイテッドベンド（ＯＣＢ）モードなど、任意のモードの液晶セルを用いうる。このような液晶セルは、通常、液晶表示装置に表示素子として設けられる。

有機ＥＬ素子は、通常、透明電極層、発光層及び電極層をこの順に備え、透明電極層及び電極層から電圧を印加されることにより発光層が光を生じうる。有機発光層を構成する材料の例としては、ポリパラフェニレンビニレン系、ポリフルオレン系、およびポリビニルカルバゾール系の材料を挙げることができる。また、発光層は、複数の発光色が異なる層の積層体、あるいはある色素の層に異なる色素がドーピングされた混合層を有していてもよい。さらに、有機ＥＬ素子は、バリア層、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層、等電位面形成層、電荷発生層等の機能層を備えていてもよい。このような有機ＥＬ素子は、通常、有機ＥＬ表示装置に表示素子として設けられる。

［６．任意の部材］
表示装置は、必要に応じて、上述した偏光子保護フィルム、偏光子、位相差フィルム及び表示素子以外に任意の部材を備えていてもよい。
任意の部材としては、例えば、保護フィルム；液晶セル用の光学補償フィルム；表示装置が含む部材同士を接着する接着剤層及び粘着剤層；などが挙げられる。

［７．製造方法］
上述した表示装置は、通常、偏光子保護フィルムを用意する工程；偏光子保護フィルムと偏光子とを、直接又は任意の層を介して貼り合わせる工程；偏光子と位相差フィルムとを、直接又は任意の層を介して貼り合わせる工程；位相差フィルムと表示素子とを、直接又は任意の層を介して貼り合わせる工程；偏光子保護フィルムを、レーザー光によって切断する工程；を含む製造方法によって、製造できる。

前記の製造方法において、各工程の順番は任意である。例えば、偏光子保護フィルムを単独で切断する工程の後で、偏光子保護フィルムと偏光子とを貼り合わせる工程を行ってもよい。また、例えば、偏光子保護フィルムと偏光子とを貼り合わせる工程、及び、偏光子と位相差フィルムとを貼り合わせる工程の後で、偏光子及び位相差フィルムと同時に偏光子保護フィルムを切断する工程を行ってもよい。

前記のように、通常、表示装置は、レーザー光によって偏光子保護フィルムを切断する工程を含む製造方法で製造できる。従来の偏光子保護フィルムには切断されるのに充分なレーザー光の吸収を有さないフィルムがあったが、レーザー吸収剤を含む基材を有する偏光子保護フィルムは、単独の状態で、又は、偏光子及び位相差フィルム等の他の部材と貼り合わせた状態で、レーザー光による切断が可能である。よって、切断カスの発生を抑制したり、切断面を滑らかにしたりできるので、表示品位に優れた表示装置を得ることができる。また、耐熱性の有る偏光子保護フィルムであるので、レーザー光による切断においても寸法変化が小さく、表示品位に優れた表示装置を得ることができる。また、耐溶媒性の有る偏光子保護フィルムであるので、接着剤を介して貼合した場合でも偏光子保護フィルムの劣化は小さく、表示品位に優れた表示装置を得ることができる。

レーザー光としては、レーザー吸収剤が吸収可能な波長のレーザー光を用いることができる。中でも、工業設備として広く普及していることから、赤外領域の波長を有するレーザー光が好ましい。その中でも、偏光子保護フィルムの切断に適した出力が効率的に得られ、且つ、比較的安価に導入可能であることから、９μｍ〜１２μｍの範囲内の波長のレーザー光が好ましい。特に、９μｍ〜１１μｍの波長のレーザー光がより好ましく、９μｍ以上９．５μｍ以下の波長のレーザー光が特に好ましい。このような波長のレーザー光は、レーザー装置として炭酸ガスレーザー装置を用いる場合に安定して出力することができる。

レーザー光としては、ガウシアンモードのレーザー光を用いてもよく、トップハット状のエネルギー分布を有するレーザー光を用いてもよい。中でも、レーザー光としては、少なくとも一の方位において、トップハット状のエネルギー分布を示すレーザー光を用いることが好ましい。トップハット状のエネルギー分布を有するレーザー光を用いることにより、通常は、偏光子保護フィルムの切断面を、当該偏光子保護フィルムの主面に対して垂直に近い急峻な面にできる。また、トップハット状のエネルギー分布を示すレーザー光を用いると、通常は、切断面の近傍におけるフィルムの樹脂の盛り上がりを抑制できる。

レーザー光は、連続レーザー光でもよく、パルスレーザー光でもよいが、熱の発生を抑えて切断加工を行う観点では、パルスレーザー光が好ましい。

切断の際には、通常、レーザー光の照射点が偏光子保護フィルムの表面を所望の線に沿って走査するように、レーザー光を照射する。これにより、切断したい形状に偏光子保護フィルムを切断できる。この際、レーザー光の照射点に偏光子保護フィルムの表面を移動させるために、レーザー光の照射装置を移動させてもよく、偏光子保護フィルムを移動させてもよく、照射装置及び偏光子保護フィルムの両方を移動させてもよい。

［８．表示装置の具体的な実施形態］
以下、表示装置の更に具体的な実施形態を説明するが、表示装置の構造は、下記の実施形態に限定されるものでは無い。

図５は、本発明の一実施形態に係る表示装置としての液晶表示装置５０の一例を模式的に示す断面図である。
図５に示すように、液晶表示装置５０は、光源５１０；光源側偏光子５２０；表示素子としての液晶セル５３０；位相差フィルム５４０；視認側偏光子５５０；及び、レーザー吸収剤を含み且つλ／４板として機能できる基材５６０を含む偏光子保護フィルム５７０；をこの順に備える。また、図５では、基材５６０が、液晶組成物の硬化物で形成された第一光学異方性層としての第二基材層５６１；第一外側層５６２、レーザー吸収剤を含む中間層５６３、及び、第二外側層５６４をこの順に備えた第一基材層５６５；並びに、導電層５６６；を視認側偏光子５５０側からこの順に備えている例を示すが、基材層５６０の構造は、この例に限定されない。

液晶表示装置５０においては、光源５１０から発せられ、光源側偏光子５２０、液晶セル５３０、位相差フィルム５４０、視認側偏光子５５０、並びに、λ／４板として機能できる基材５６０を含む偏光子保護フィルム５７０を通過した光によって、画像が表示される。位相差フィルム５４０によって光学補償が行われるので、前記の液晶表示装置５０では、十分に広い視野角が得られる。また、画像を表示する光は、視認側偏光子５５０を通過した時点では直線偏光であるが、偏光子保護フィルム５７０の基材５６０を通過することによって円偏光に変換される。したがって、前記の液晶表示装置５０では、円偏光によって画像が表示されるので、偏光サングラスを通して見た場合に、画像を視認することが可能である。

また、この液晶表示装置５０において、導電層５６６が、タッチパネル用の電極、配線等の回路部材として機能できる。よって、タッチパネルを備えた液晶表示装置５０を実現することが可能である。ここでは、タッチパネルとは、表示装置に設けられ、必要に応じて表示装置の表示面に表示された画像を参照しながら、所定の箇所に使用者が触れることで情報の入力を行えるように設けられた入力装置である。タッチパネルの操作検出方式の例としては、抵抗膜方式、電磁誘導様式及び静電容量方式等の方式が挙げられ、特に静電容量方式のタッチパネルが好ましい。図５に示す例においては、導電層５６６が液晶表示装置５０の視認側偏光子５５０よりも外側（視認側）の位置に設けられるので、アウトセル型のタッチパネルを得ることができる。

上述した液晶表示装置５０においては、偏光子保護フィルム５７０が、レーザー吸収剤を含む基材５６０を有している。そのため、前記の液晶表示装置５０の製造は、偏光子保護フィルム５７０をレーザー光によって切断する工程を含む製造方法によって行うことが可能である。したがって、偏光子保護フィルム５７０の切断の際、切断カスの発生を抑制したり、切断面を滑らかにしたりできるので、優れた表示品位を実現することが可能である。

図６は、本発明の別の一実施形態に係る表示装置としての有機ＥＬ表示装置６０の一例を模式的に示す断面図である。
図６に示すように、有機ＥＬ表示装置６０は、表示素子としての有機ＥＬ素子６１０；所定の面内レターデーションを有してλ／４板として機能できる位相差フィルム６２０；偏光子６３０；及び、レーザー吸収剤を含み且つλ／４板として機能できる基材６４０を含む偏光子保護フィルム６５０；をこの順に備える。また、図６では、基材６４０が、第一外側層６４１、レーザー吸収剤を含む中間層６４２、第二外側層６４３をこの順に備える第二基材層６４４；第一外側層６４５、レーザー吸収剤を含む中間層６４６、及び、第二外側層６４７をこの順に備えた第一基材層６４８；並びに、導電層６４９；を偏光子６３０側からこの順に備えている例を示すが、基材層６４０の構造は、この例に限定されない。

有機ＥＬ表示装置６０においては、装置外部から入射した光は、その一部の直線偏光のみが偏光子６３０を通過し、それが位相差フィルム６２０を通過することにより円偏光となる。円偏光は、表示装置内の光を反射する構成要素（有機ＥＬ素子６１０中の反射電極（図示せず）等）により反射され、再び位相差フィルム６２０を通過することにより、入射した直線偏光の振動方向と直交する振動方向を有する直線偏光となり、偏光子６３０を通過しなくなる。これにより、反射防止の機能が達成される（有機ＥＬ表示装置における反射防止の原理は、特開平９-１２７８８５号公報参照）。

また、この有機ＥＬ表示装置６０においては、有機ＥＬ素子６１０から発せられ、位相差フィルム６２０、偏光子６３０、並びに、λ／４板として機能できる基材６４０を含む偏光子保護フィルム６５０を通過した光によって、画像が表示される。画像を表示する光は、偏光子６３０を通過した時点では直線偏光であるが、偏光子保護フィルム６５０の基材６４０を通過することによって円偏光に変換される。したがって、前記の有機ＥＬ表示装置６０では、円偏光によって画像が表示されるので、偏光サングラスを通して見た場合に、画像を視認することが可能である。

また、この有機ＥＬ表示装置６０において、導電層６４９が、タッチパネル用の電極、配線等の回路部材として機能できる。よって、タッチパネルを備えた有機ＥＬ表示装置６０を実現することが可能である。

上述した有機ＥＬ表示装置６０においては、偏光子保護フィルム６５０が、レーザー吸収剤を含む基材６４０を有している。そのため、前記の有機ＥＬ表示装置６０の製造は、偏光子保護フィルム６５０をレーザー光によって切断する工程を含む製造方法によって行うことが可能であるので、液晶表示装置５０と同様に、優れた表示品位を実現することが可能である。

図７は、本発明の更に別の一実施形態に係る表示装置としての有機ＥＬ表示装置７０の一例を模式的に示す断面図である。
図７に示すように、有機ＥＬ表示装置７０は、偏光子保護フィルム６５０の代わりに偏光子保護フィルム７００を備えること以外は、図６に示した有機ＥＬ表示装置６０と同様に設けられている。具体的には、図７に示す有機ＥＬ表示装置７０は、表示素子としての有機ＥＬ素子６１０；所定の面内レターデーションを有してλ／４板として機能できる位相差フィルム６２０；偏光子６３０；及び、レーザー吸収剤を含み且つλ／４板として機能できる基材７１０を含む偏光子保護フィルム７００；をこの順に備える。

また、基材７１０は、第一外側層７２１、レーザー吸収剤を含む中間層７２２、第二外側層７２３をこの順に備える第二基材層７２０；レーザー吸収剤を含む第一基材層７３０；並びに、導電層７４０；を偏光子６３０側からこの順に備える。第二基材層７２０は、基材の第一の構成例で説明したように大きい面内レターデーションＲｅ（５５０）を有することが好ましく、中でも、当該第二基材層７２０がλ／４板として機能できる面内レターデーションＲｅ（５５０）を有することが特に好ましい。また、第一基材層７３０は、基材の第一の構成例で説明したように小さい面内レターデーションＲｅ（５５０）を有することが好ましく、中でも、当該第一基材層７３０が光学等方性の層として機能できるように、１０ｎｍ以下の面内レターデーションＲｅ（５５０）を有することが好ましい。このような有機ＥＬ表示装置７０は、図６に示した有機ＥＬ表示装置６０と同様の利点を得ることができる。

図８は、本発明の更に別の一実施形態に係る表示装置としての有機ＥＬ表示装置８０の一例を模式的に示す断面図である。
図８に示すように、有機ＥＬ表示装置８０は、偏光子保護フィルム６５０の代わりに偏光子保護フィルム８００を備えること以外は、図６に示した有機ＥＬ表示装置６０と同様に設けられている。具体的には、有機ＥＬ表示装置８０は、表示素子としての有機ＥＬ素子６１０；所定の面内レターデーションを有してλ／４板として機能できる位相差フィルム６２０；偏光子６３０；及び、レーザー吸収剤を含み且つλ／４板として機能できる基材８１０を含む偏光子保護フィルム８００；をこの順に備える。

また、基材８１０は、第一基材層７３０と第二基材層７２０との間に、レーザー吸収剤を含む第三基材層８５０を備えること以外は、図７に示した有機ＥＬ表示装置７０の基材７１０と同様に設けられている。具体的には、基材８１０は、第一外側層７２１、レーザー吸収剤を含む中間層７２２、第二外側層７２３をこの順に備える第二基材層７２０；レーザー吸収剤を含む第三基材層８５０；レーザー吸収剤を含む第一基材層７３０；並びに、導電層７４０；を偏光子６３０側からこの順に備える。第三基材層８５０は、当該第三基材層８５０が光学等方性の層として機能できるようにするため、基材の第一の構成例で説明した第一基材層と同様に、１０ｎｍ以下の面内レターデーションＲｅ（５５０）を有することが好ましい。このような有機ＥＬ表示装置８０は、図６に示した有機ＥＬ表示装置６０と同様の利点を得ることができる。

図９は、本発明の更に別の一実施形態に係る表示装置としての有機ＥＬ表示装置９０の一例を模式的に示す断面図である。
図９に示すように、有機ＥＬ表示装置９０は、偏光子保護フィルム６５０の代わりに偏光子保護フィルム９００を備えること以外は、図６に示した有機ＥＬ表示装置６０と同様に設けられている。具体的には、有機ＥＬ表示装置９０は、表示素子としての有機ＥＬ素子６１０；所定の面内レターデーションを有してλ／４板として機能できる位相差フィルム６２０；偏光子６３０；及び、レーザー吸収剤を含み且つλ／４板として機能できる基材９１０を含む偏光子保護フィルム９００；をこの順に備える。

また、基材９１０は、第二基材層７２０の第一基材層７３０とは反対側に、レーザー吸収剤を含む第四基材層９６０を備えること以外は、図７に示した有機ＥＬ表示装置７０の基材７１０と同様に設けられている。具体的には、基材９１０は、第一外側層９６１、レーザー吸収剤を含んでいてもよい中間層９６２、第二外側層９６３をこの順に備える第四基材層９６０；第一外側層７２１、レーザー吸収剤を含む中間層７２２、第二外側層７２３をこの順に備える第二基材層７２０；レーザー吸収剤を含む第一基材層７３０；並びに、導電層７４０；を偏光子６３０側からこの順に備える。このような有機ＥＬ表示装置９０は、図６に示した有機ＥＬ表示装置６０と同様の利点を得ることができる。特に、この有機ＥＬ表示装置９０では、第二基材層７２０と第四基材層９６０との組み合わせによって広帯域λ／４板としての機能を発揮できるようにするために、第二基材層７２０がλ／４板として機能でき、且つ、第四基材層９６０がλ／２板として機能できることが好ましい。この際、第二基材層７２０及び第四基材層９６０の面内レターデーション及び遅相軸のなす交差角は、基材の第二の構成例における第一基材層４１０及び第二基材層４２０と同様にしうる（図４参照）。

以下、実施例を示して本発明について具体的に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。

以下の説明において、量を表す「％」及び「部」は、別に断らない限り、重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温常圧大気中において行った。

［レターデーションの測定方法］
面内レターデーションの測定は、位相差計（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製「ＡｘｏＳｃａｎ」）を用いて行った。

［レーザー光による加工性の評価方法］
実施例又は比較例で製造した円偏光板又は偏光板を、評価サンプルとして、スライダー上に置いた。評価サンプルの偏光子保護フィルム側の面に、波長９．４μｍのＣＯ_２レーザー光を当てた。レーザー光の出力は、評価サンプルのガラス板以外の部分が切断できるよう調整した。具体的には、レーザー光の出力は、最初は低出力に設定し、次第に上げていき、評価サンプルのガラス板以外の部分が切断できた時点又はガラス板が割れた時点でレーザー光の照射を停止した。前記のようにレーザー光を照射した後で評価サンプルを観察し、下記の基準で評価した。
「Ａ」：ガラス板を傷つけずに、評価サンプルのガラス板以外の部分を切断でき、切断面が平坦で良好な切断状態であった。
「Ｂ」：ガラス板を傷つけずに評価サンプルのガラス板以外の部分を切断できた。しかし、評価サンプルに含まれる偏光子の切断面に、熱溶けによる凹凸又は樹脂の盛り上がりがあった。
「Ｃ」：評価サンプルが切断できないか、もしくは、ガラス板が割れた。

［円偏光板、偏光板のヒートサイクル試験による耐久性の評価方法］
実施例又は比較例で製造した円偏光板又は偏光板を評価サンプルとして、冷熱衝撃装置（エスペック社製「ＴＳＡ−７１Ｌ−Ａ」）を用いてヒートサイクル試験を行った。このヒートサイクル試験では、温度−４５℃で３０分冷却し、次いで温度８５℃で３０分加熱する連続動作を１サイクルとし、５０サイクルの冷却及び加熱を行った。このヒートサイクル試験の後、評価サンプルである円偏光板又は偏光板の全長にわたるワレ発生状況を目視により観察し、下記の基準で評価した。
「Ａ」：偏光板を形成する偏光子に全く亀裂及び割れはなかった。
「Ｂ」：偏光板を形成する偏光子に２０本以下の割れがあった。
「Ｃ」：偏光板を形成する偏光子に２０本以上の割れがあった。

［製造例１．熱可塑性樹脂（Ｊ１）の製造］
ノルボルネン重合体（日本ゼオン社製、ガラス転移温度Ｔｇ＝１２６℃）としての熱可塑性樹脂（Ｊ０）のペレットを、１００℃で５時間乾燥させた。乾燥させたペレット１００部と、レーザー吸収剤（ペンタエリスリトールテトラベンゾエート、分子量５５２、融点１０２．０℃〜１０６．０℃）５．０部とを、二軸押出機により混合した。得られた混合物を、単軸押出機に接続されたホッパーへ投入し、単軸押出機から溶融押し出して、熱可塑性樹脂（Ｊ１）を得た。この熱可塑性樹脂（Ｊ１）のガラス転移温度Ｔｇは、１０５℃であった。

［製造例２．熱可塑性樹脂（Ｊ３）の製造］
製造例１で用いた熱可塑性樹脂（Ｊ０）の代わりに、ノルボルネン重合体（日本ゼオン社製、ガラス転移温度Ｔｇ＝１６３℃）としての熱可塑性樹脂（Ｊ２）を用いた。また、レーザー吸収剤に加えて、更にベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（ＡＤＥＫＡ社製「ＬＡ−３１」）１２．０部を添加した。以上の事項以外は、製造例１と同様にして、熱可塑性樹脂（Ｊ３）を得た。この熱可塑性樹脂（Ｊ３）のガラス転移温度Ｔｇは、１２６℃であった。

［製造例３．λ／４板（Ｑ１）の製造］
製造例２で製造した熱可塑性樹脂（Ｊ３）を、１００℃で５時間乾燥させた。乾燥させた熱可塑性樹脂（Ｊ３）を、押出機に供給し、押出機内で溶融させた。溶融した熱可塑性樹脂（Ｊ３）を、ポリマーパイプおよびポリマーフィルターを通し、Ｔダイからキャスティングドラム上にシート状に押し出した。押し出された熱可塑性樹脂（Ｊ３）を冷却して、厚み１４５μｍ、面内レターデーションＲｅ（５５０）が８ｎｍの延伸前基材（Ｑ０）を得た。得られた延伸前基材（Ｑ０）を巻き取り、ロールを得た。

次いで、延伸前基材（Ｑ０）のロールから、延伸前基材（Ｑ０）を引き出した。引き出された延伸前基材（Ｑ０）を、テンター延伸機に供給し、斜め延伸処理を行なって、延伸フィルムを得た。斜め延伸処理とは、フィルムの幅方向に平行でも垂直でもない斜め方向への延伸処理をいう。この斜め延伸処理における延伸倍率は４．０倍、延伸温度は１５５℃とした。得られた延伸フィルムは、その遅相軸が当該延伸フィルムの幅方向に対してなす角度が４５°であった。また、延伸フィルムの面内レターデーションＲｅ（５５０）は１２５ｎｍ、厚みは３６μｍであった。得られた延伸フィルムをλ／４板（Ｑ１）として巻き取り、回収した。

［製造例４．λ／４板（Ｑ３）の製造］
目開き３μｍのリーフディスク形状のポリマーフィルターを備える、ダブルフライト型単軸押出機（スクリューの直径Ｄ＝５０ｍｍ、スクリューの有効長さＬとスクリューの直径Ｄとの比Ｌ／Ｄ＝２８）を用意した。この単軸押出機に、中間層形成用の樹脂として、製造例２で製造した熱可塑性樹脂（Ｊ３）を導入し、溶融させた。溶融させた熱可塑性樹脂（Ｊ３）を、押出機出口温度２６０℃、押出機のギヤポンプの回転数１０ｒｐｍの条件で、フィードブロックを介して、単層ダイに供給した。この単層ダイのダイスリップの算術平均粗さＲａは、０．１μｍであった。

他方、目開き３μｍのリーフディスク形状のポリマーフィルターを備える、単軸押出機（スクリューの直径Ｄ＝５０ｍｍ、スクリューの有効長さＬとスクリューの直径Ｄとの比Ｌ／Ｄ＝２８）を用意した。この単軸押出機に、第一外側層及び第二外側層形成用の熱可塑性樹脂として、熱可塑性樹脂（Ｊ０）を導入し、溶融させた。溶融させた熱可塑性樹脂（Ｊ０）を、押出機出口温度２８５℃、押出機のギヤポンプの回転数４ｒｐｍの条件で、フィードブロックを介して、前記の単層ダイに供給した。

次いで、第一外側層形成用の樹脂の層、中間層形成用の樹脂の層、及び、第二外側層形成用の樹脂の層の３層を含むフィルム状に吐出されるように、前記の熱可塑性樹脂（Ｊ０）及び（Ｊ３）を、前記の単層ダイから２８０℃で共押し出しした。そして、単層ダイから吐出された熱可塑性樹脂（Ｊ０）及び（Ｊ３）を、１５０℃に温度調整された冷却ロールにキャストして、厚さ７０μｍの延伸前基材（Ｑ２）を得た。この延伸前基材（Ｑ２）は、熱可塑性樹脂（Ｊ０）からなる第一外側層（厚み１７．５μｍ）／熱可塑性樹脂（Ｊ３）からなる中間層（厚み３５μｍ）／熱可塑性樹脂（Ｊ０）からなる第二外側層（厚み１７．５μｍ）の２種３層からなるフィルムであった。ここで、２種３層とは、２種類の樹脂からなる３層構造のフィルムの構造を表す。得られた延伸前基材（Ｑ２）を巻き取り、ロールを得た。

次いで、延伸前基材（Ｑ２）のロールから、延伸前基材（Ｑ２）を引き出した。引き出した延伸前基材（Ｑ２）を、テンター延伸機に供給し、斜め延伸処理を行なって、延伸フィルムを得た。この斜め延伸処理における延伸倍率は１．４７倍、延伸温度は１４０℃とした。得られた延伸フィルムは、その遅相軸が当該延伸フィルムの幅方向に対してなす角度が４５°であった。また、斜め延伸フィルムの面内レターデーションＲｅ（５５０）は１０４ｎｍ、厚みは４８μｍであった。得られた延伸フィルムをλ／４板（Ｑ３）として巻き取り、回収した。

［製造例５．λ／２板（Ｈ１）の製造］
製造例１で使用した熱可塑性樹脂（Ｊ０）を、１００℃で５時間乾燥させた。乾燥させた熱可塑性樹脂（Ｊ０）を、押出機に供給し、押出機内で溶融させた。溶融した熱可塑性樹脂（Ｊ０）を、ポリマーパイプおよびポリマーフィルターを通し、Ｔダイからキャスティングドラム上にシート状に押し出した。押し出された熱可塑性樹脂（Ｊ０）を冷却して、厚み７０μｍの延伸前基材（Ｈ０）を得た。得られた延伸前基材（Ｈ０）を巻き取り、ロールを得た。

次いで、延伸前基材（Ｈ０）のロールから、延伸前基材（Ｈ０）を引き出した。引き出された延伸前基材（Ｈ０）を、テンター延伸機に供給し、斜め延伸処理を行なって、中間フィルムを得た。この斜め延伸処理における延伸倍率は１．６５倍、延伸温度は１４０℃とした。得られた中間フィルムを、長手方向に連続的に搬送しながら、縦延伸処理を行って、延伸フィルムを得た。縦延伸処理とは、フィルムの長手方向への延伸処理をいう。この縦延伸処理における延伸倍率は１．４５倍、延伸温度は１３５℃とした。得られた延伸フィルムは、その遅相軸が当該延伸フィルムの幅方向に対してなす角度が７５°であった。また、延伸フィルムの面内レターデーションＲｅ（５５０）は２４５ｎｍ、厚みは３０μｍであった。得られた延伸フィルムをλ／２板（Ｈ１）として巻き取り、回収した。

［製造例６．λ／２板（Ｈ２）の製造］
製造例４で得られた延伸前基材（Ｑ２）のロールから、延伸前基材（Ｑ２）を引き出した。引き出した延伸前基材（Ｑ２）を、テンター延伸機に供給し、斜め延伸処理を行なって、中間フィルムを得た。この斜め延伸処理における延伸倍率は１．７倍、延伸温度は１３１℃とした。得られた中間フィルムを、長手方向に連続的に搬送しながら、縦延伸処理を行って、延伸フィルムを得た。この縦延伸処理における延伸倍率は１．５倍、延伸温度は１２５℃とした。得られた延伸フィルムは、その遅相軸が当該延伸フィルムの幅方向に対してなす角度が７５°であった。また、延伸フィルムの面内レターデーションＲｅ（５５０）は２４５ｎｍ、厚みは２７μｍであった。得られた延伸フィルムをλ／２板（Ｈ２）として巻き取り、回収した。

［製造例７．λ／２板（Ｈ３）の製造］
下記式（Ａ１）で表される重合性の液晶化合物を用意した。この液晶化合物は、逆波長分散性液晶化合物である。この式（Ａ１）で表される液晶化合物２１．２５部、界面活性剤（ＡＧＣセイミケミカル社製「サーフロンＳ４２０」）０．１１部、重合開始剤（ＢＡＳＦ社製「ＩＲＧＡＣＵＲＥ３７９」）０．６４部、及び、溶媒（シクロペンタノン、日本ゼオン社製）７８．００部を混合し、液晶組成物Ａを調製した。

支持体として、製造例５で得られた延伸フィルムとしてのλ／２板（Ｈ１）を用意した。前記支持体をロールから繰り出し、室温２５℃において、その長手方向に搬送した。搬送される支持体上に、液晶組成物Ａを、ダイコーターを用いて直接に塗布し、液晶組成物Ａの層を形成した。液晶組成物Ａの層に、１１０℃、２．５分間の条件で、配向処理を施した。その後、窒素雰囲気下（酸素濃度０．１％以下）で、積算光量１０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を、支持体の液晶組成物Ａの層とは反対側に照射することによって、液晶組成物Ａの層に照射した。紫外線の照射により液晶組成物Ａの層が硬化されて、乾燥膜厚４．４μｍの光学異方性層が形成された。これにより、支持体と、当該支持体上に形成された光学異方性層とを備える複層フィルムを得た。前記の光学異方性層は、液晶組成物Ａの硬化物で形成された層であり、ホモジニアス配向した硬化液晶分子を含んでいた。光学異方性層の遅相軸がフィルムの幅方向に対してなす角度は７５°であった。また、光学異方性層は、２４０ｎｍの面内レターデーションＲｅ（５５０）を有し、λ／２板として機能するものであった。そこで、この光学異方性層を、λ／２板（Ｈ３）とした。

［製造例８．λ／４板（Ｑ４）の製造］
脂環式構造含有重合体製の市販の斜め延伸フィルム（遅相軸が幅方向に対してなす角度が４５°、厚み６０μｍ、面内レターデーションＲｅ（５５０）は１４１ｎｍ）を用意した。この市販の斜め延伸フィルムを、製造例７で用いたλ／２板（Ｈ１）の代わりに、支持体として用いた。また、支持体上に形成する液晶組成物Ａの層の厚みを、乾燥膜厚２．２μｍの光学異方性層が得られるように変更した。以上の事項以外は、製造例７と同様にして、支持体と、当該支持体上に形成された光学異方性層とを備える複層フィルムを得た。前記の光学異方性層は、液晶組成物Ａの硬化物で形成された層であり、ホモジニアス配向した硬化液晶分子を含んでいた。光学異方性層の遅相軸がフィルムの幅方向に対してなす角度は４５°であった。また、光学異方性層は、１３９ｎｍの面内レターデーションＲｅ（５５０）を有し、λ／４板として機能するものであった。また、この光学異方性層のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、０．８３であった。そこで、この光学異方性層を、λ／４板（Ｑ４）とした。

［製造例９．λ／４板（Ｑ６）の製造］
第一外側層及び第二外側層形成用の熱可塑性樹脂として、熱可塑性樹脂（Ｊ０）の代わりに、熱可塑性樹脂（Ｊ２）を用いた。以上の事項以外は製造例４における延伸前基材（Ｑ２）の製造方法と同様にして、厚み７０μｍの延伸前基材（Ｑ５）を得た。この延伸前基材（Ｑ５）は、熱可塑性樹脂（Ｊ２）からなる第一外側層（厚み１７．５μｍ）／熱可塑性樹脂（Ｊ３）からなる中間層（厚み３５μｍ）／熱可塑性樹脂（Ｊ２）からなる第二外側層（厚み１７．５μｍ）の２種３層からなるフィルムであった。得られた延伸前基材（Ｑ５）を巻き取り、ロールを得た。

次いで、延伸前基材（Ｑ５）のロールから、延伸前基材（Ｑ５）を引き出した。引き出した延伸前基材（Ｑ５）を、テンター延伸機に供給し、斜め延伸処理を行なって、延伸フィルムを得た。この斜め延伸処理における延伸倍率は２．０倍、延伸温度は１８０℃とした。得られた延伸フィルムは、その遅相軸が当該延伸フィルムの幅方向に対してなす角度が４５°であった。また、斜め延伸フィルムの面内レターデーションＲｅ（５５０）は１３０ｎｍ、厚みは３５μｍであった。得られた延伸フィルムをλ／４板（Ｑ６）として巻き取り、回収した。

［実施例１］
偏光子保護フィルムとして、製造例３で製造したλ／４板（Ｑ１）を用意した。この偏光子保護フィルム、粘着剤（日東電工社製「ＣＳ９６２１Ｔ」）、偏光子（サンリッツ社製「ＨＬＣ２−５６１８Ｓ」、厚さ１８０μｍ、幅方向に対して０°の方向に透過軸を有する）、粘着剤（日東電工社製「ＣＳ９６２１Ｔ」）、及びガラス板（厚さ０．７ｍｍ）を、この順に積層して、円偏光板（Ｐ１）を製造した。得られた円偏光板（Ｐ１）において、λ／４板（Ｑ１）の遅相軸と偏光子の透過軸との交差角は４５°であった。この円偏光板（Ｐ１）のレーザー光による加工性を評価した結果、「Ａ」基準であった。また、ヒートサイクル試験により耐久性を評価した結果、「Ａ」基準であった。

［実施例２］
偏光子保護フィルムとして、実施例１で用いたλ／４板（Ｑ１）の代わりに、製造例４で製造したλ／４板（Ｑ３）を用いた。以上の事項以外は、実施例１と同様にして、円偏光板（Ｐ２）を製造した。得られた円偏光板（Ｐ２）において、λ／４板（Ｑ３）の遅相軸と偏光子の透過軸との交差角は４５°であった。この円偏光板（Ｐ２）のレーザー光による加工性を評価した結果、「Ｂ」基準であった。また、ヒートサイクル試験により耐久性を評価した結果、「Ｂ」基準であった。

［実施例３］
製造例３で得た光学等方性を有する延伸前基材（Ｑ０）と、製造例３で得たλ／４板（Ｑ１）とを、粘着剤（日東電工社製「ＣＳ９６２１Ｔ」）を介して貼合して、積層体を得た。この積層体を、実施例１で用いたλ／４板（Ｑ１）の代わりに、偏光子保護フィルムとして用いた。以上の事項以外は、実施例１と同様にして、円偏光板（Ｐ３）を製造した。得られた円偏光板（Ｐ３）において、積層体のλ／４板（Ｑ１）の遅相軸と偏光子の透過軸との交差角は４５°であった。この円偏光板（Ｐ３）のレーザー光による加工性を評価した結果、「Ａ」基準であった。また、ヒートサイクル試験により耐久性を評価した結果、「Ａ」基準であった。

［実施例４］
製造例３で得たλ／４板（Ｑ１）と製造例５で得たλ／２板（Ｈ１）とを、粘着剤（日東電工社製「ＣＳ９６２１Ｔ」）を介して貼合して、広帯域λ／４板を得た。この広帯域λ／４板を、実施例１で用いたλ／４板（Ｑ１）の代わりに、偏光子保護フィルムとして用いた。以上の事項以外は、実施例１と同様にして、円偏光板（Ｐ４）を製造した。得られた円偏光板（Ｐ４）において、広帯域λ／４板のλ／４板（Ｑ１）の遅相軸とλ／２板（Ｈ１）の遅相軸との交差角は６０°であった。また、λ／２板（Ｈ１）の遅相軸と偏光子の透過軸との交差角は１５°であった。この円偏光板（Ｐ４）のレーザー光による加工性を評価した結果、「Ａ」基準であった。また、ヒートサイクル試験により耐久性を評価した結果、「Ａ」基準であった。

［実施例５］
製造例３で得たλ／４板（Ｑ１）と製造例６で得たλ／２板（Ｈ２）とを、粘着剤（日東電工社製「ＣＳ９６２１Ｔ」）を介して貼合して、広帯域λ／４板を得た。この広帯域λ／４板を、実施例１で用いたλ／４板（Ｑ１）の代わりに、偏光子保護フィルムとして用いた。以上の事項以外は、実施例１と同様にして、円偏光板（Ｐ５）を製造した。得られた円偏光板（Ｐ５）において、広帯域λ／４板のλ／４板（Ｑ１）の遅相軸とλ／２板（Ｈ２）の遅相軸との交差角は６０°であった。また、λ／２板（Ｈ２）の遅相軸と偏光子の透過軸との交差角は１５°であった。この円偏光板（Ｐ５）のレーザー光による加工性を評価した結果、「Ａ」基準であった。また、ヒートサイクル試験により耐久性を評価した結果、「Ａ」基準であった。

［実施例６］
製造例３で得たλ／４板（Ｑ１）と、製造例７で得た複層フィルムの光学異方性層としてのλ／２板（Ｈ３）とを、粘着剤（日東電工社製「ＣＳ９６２１Ｔ」）を介して貼合した。その後、複層フィルムの支持体を剥離して、λ／４板（Ｑ１）、粘着剤及びλ／２板（Ｈ３）をこの順で備える広帯域λ／４板を得た。この広帯域λ／４板を、実施例１で用いたλ／４板（Ｑ１）の代わりに、偏光子保護フィルムとして用いた。以上の事項以外は、実施例１と同様にして、円偏光板（Ｐ６）を製造した。得られた円偏光板（Ｐ６）において、広帯域λ／４板のλ／４板（Ｑ１）の遅相軸とλ／２板（Ｈ３）の遅相軸の交差角は６０°であった。また、λ／２板（Ｈ３）の遅相軸と偏光子の透過軸との交差角は１５°であった。この円偏光板（Ｐ６）のレーザー光による加工性を評価した結果、「Ａ」基準であった。また、ヒートサイクル試験により耐久性を評価した結果、「Ａ」基準であった。

［実施例７］
偏光子保護フィルムとして、実施例１で用いたλ／４板（Ｑ１）の代わりに、製造例９で製造したλ／４板（Ｑ６）を用いた。以上の事項以外は、実施例１と同様にして、円偏光板（Ｐ７）を製造した。得られた円偏光板（Ｐ７）において、λ／４板（Ｑ６）の遅相軸と偏光子の透過軸との交差角は４５°であった。この円偏光板（Ｐ７）のレーザー光による加工性を評価した結果、「Ｂ」基準であった。また、ヒートサイクル試験により耐久性を評価した結果、「Ａ」基準であった。

［比較例１］
偏光子保護フィルムとして、実施例１に用いたλ／４板（Ｑ１）の代わりに、レーザー吸収剤を含まない延伸前フィルム（日本ゼオン社製「ゼオノアフィルムＺＦ１４−１００」、厚み１００μｍ、樹脂のガラス転移温度１３６℃）を用いた。この延伸前フィルムは、脂環式構造含有重合体を含む樹脂からなる光学等方性のフィルムであった。以上の事項以外は、実施例１と同様にして、偏光板（Ｐ７）を製造した。この偏光板（Ｐ７）のレーザー光による加工性を評価した結果、「Ｃ」基準であった。また、ヒートサイクル試験により耐久性を評価した結果、「Ｃ」基準であった。

［比較例２］
偏光子保護フィルムとして、実施例１に用いたλ／４板（Ｑ１）の代わりに、レーザー吸収剤を含まない斜め延伸フィルム（日本ゼオン社製「斜め延伸位相差フィルム」、厚み４７μｍ、面内レターデーションＲｅ（５５０）は１２５ｎｍ、遅相軸がフィルムの幅方向に対してなす角度は４５°）を用いた。この斜め延伸フィルムは、脂環式構造含有重合体を含む樹脂からなる市販のフィルムであった。以上の事項以外は、実施例１と同様にして、円偏光板（Ｐ８）を製造した。この円偏光板（Ｐ８）のレーザー光による加工性を評価した結果、「Ｃ」基準であった。また、ヒートサイクル試験により耐久性を評価した結果、「Ｃ」基準であった。

［実施例８］
実施例１で製造した円偏光板（Ｐ１）のλ／４板（Ｑ１）とは反対側の面に、粘着剤（日東電工社製「ＣＳ９６２１Ｔ」）を介して、製造例４で製造したλ／４板（Ｑ３）を位相差フィルムとして貼り合わせた。これにより、偏光子保護フィルム、粘着剤、偏光子、粘着剤、ガラス板、粘着剤及び位相差フィルムをこの順で備える視認側部材（Ｔ１）を製造した。得られた視認側部材（Ｔ１）において、偏光子の透過軸と位相差フィルムの遅相軸との交差角は、４５°であった。

（画像表示装置の製造）
視認側偏光板、液晶セル、光源側偏光板、及び光源をこの順に備える市販の液晶表示装置（Ａｐｐｌｅ社製「ｉＰａｄ」（登録商標））を２つ用意した。
一方の液晶表示装置の表示面部分を分解し、液晶表示装置の視認側偏光板を剥離し、代わりに、視認側部材（Ｔ１）を取り付けた。視認側部材（Ｔ１）は、偏光子保護フィルムが視認側に向くように取り付けた。これにより、視認側から、視認側部材（Ｔ１）、画像表示素子としての液晶セル、光源側偏光板、及び光源をこの順に備える液晶表示装置を得た。

（裸眼観察）
視認側部材（Ｔ１）を取り付けた一方の液晶表示装置について、表示画面の色味および輝度を、裸眼で目視観察した。また、視認側部材（Ｔ１）を取り付けていない他方の液晶表示装置について、表示画面の色味および輝度を、裸眼で目視観察した。前記の観察は、表示画面の正面方向において行った。その結果、２つの液晶表示装置の間で、差はほとんど識別できなかった。

（偏光サングラス観察）
視認側部材（Ｔ１）を取り付けた一方の液晶表示装置について、偏光サングラスを装着して、表示画面を観察した。また、視認側部材（Ｔ１）を取り付けていない他方の液晶表示装置について、偏光サングラスを装着して、表示画面を観察した。前記の観察は、表示画面の傾斜方向において行った。面の傾斜方向とは、その面に平行でも垂直でもない方向を表す。その結果、視認側部材（Ｔ１）を取り付けた一方の液晶表示装置では、表示画面の正面方向に比べ、傾斜方向でもその明るさはほとんど変化しなかった。他方、視認側部材（Ｔ１）を取り付けていない他方の液晶表示装置では、表示画面の正面方向に比べ、傾斜方向では明るさが変化して暗くなった。

［実施例９］
実施例１で製造した円偏光板（Ｐ１）のλ／４板（Ｑ１）とは反対側の面に、粘着剤（日東電工社製「ＣＳ９６２１Ｔ」）を介して、製造例８で製造したλ／４板（Ｑ４）を位相差フィルムとして貼り合わせた。これにより、偏光子保護フィルム、粘着剤、偏光子、粘着剤、ガラス板、粘着剤及び位相差フィルムをこの順で備える視認側部材（Ｔ２）を製造した。得られた視認側部材（Ｔ２）において、偏光子の透過軸と位相差フィルムの遅相軸との交差角は、４５°であった。

（画像表示装置の製造）
視認側偏光板及び有機ＥＬ表示素子をこの順に備える市販のＯＬＥＤスマートフォン（ＬＧエレクトロニクス社製「Ｇ ＦｌｅｘＬＧＬ２３」）を用意した。
このスマートフォンの視認側偏光板を剥離し、代わりに、視認側部材（Ｔ２）を取り付けた。視認側部材（Ｔ２）は、偏光子保護フィルムが視認側に向くように取り付けた。これにより、円偏光板を含む有機ＥＬ表示装置を得た。この有機ＥＬ表示装置の黒表示時及び白表示時の輝度は、それぞれ、６．２ｃｄ／ｍ^２及び３０５ｃｄ／ｍ^２であった。

晴れた日の外光下において、この有機ＥＬ表示装置を黒表示した状態で、表示画面を正面方向から目視した。その結果、表示画面での外光の反射は無く、表示画面は黒色であった。さらに、表示画面を斜め方向（極角４５°、全方位）から目視したところ、方位角による反射率及び色味の変化は見られなかった。

１０ 表示装置
５０ 液晶表示装置
６０ 有機ＥＬ表示装置
１１０ 偏光子保護フィルム
１１１ 基材
１２０ 偏光子
１３０ 位相差フィルム
１４０ 表示素子
２００ 樹脂層
２１０ 第一外側層
２２０ 第二外側層
２３０ 中間層
３００ 基材
３１０ 第一基材層
３２０ 第二基材層
３３０ 導電層
４００ 基材
４１０ 第一基材層
４２０ 第二基材層
４３０ 導電層
５１０ 光源
５２０ 光源側偏光子
５３０ 液晶セル
５４０ 位相差フィルム
５５０ 視認側偏光子
５６０ 基材
５６１ 第二基材層
５６２ 第一外側層
５６３ 中間層
５６４ 第二外側層
５６５ 第一基材層
５６６ 導電層
５７０ 偏光子保護フィルム
６１０ 有機ＥＬ素子
６２０ 位相差フィルム
６３０ 偏光子
６４０ 基材
６４１ 第一外側層
６４２ 中間層
６４３ 第二外側層
６４４ 第二基材層
６４５ 第一外側層
６４６ 中間層
６４７ 第二外側層
６４８ 第一基材層
６４９ 導電層
６５０ 偏光子保護フィルム

Claims (17)

1. 偏光子保護フィルム、偏光子、位相差フィルム及び表示素子をこの順に備える表示装置であって、
   前記偏光子保護フィルムが、レーザー吸収剤を含み且つλ／４板として機能できる基材を含み、
   前記位相差フィルムの波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が、９０ｎｍ〜１５０ｎｍである、表示装置。
2. 前記基材が、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が１０ｎｍ以下である第一基材層と、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が９０ｎｍ〜１５０ｎｍである第二基材層と、前記第一基材層の少なくとも一方の面に形成された導電層とを含み、
   前記レーザー吸収剤が、前記第一基材層及び前記第二基材層の一方又は両方に含まれる、請求項１記載の表示装置。
3. 前記基材が、λ／４板として機能できる第一基材層と、λ／２板として機能できる第二基材層と、前記第一基材層の少なくとも一方の面に形成された導電層とを含み、且つ、広帯域λ／４板として機能でき、
   前記レーザー吸収剤が、前記第一基材層及び前記第二基材層の一方又は両方に含まれる、請求項１記載の表示装置。
4. 前記第二基材層が、液晶性化合物を含む液晶組成物の硬化物で形成されている、請求項３記載の表示装置。
5. 前記第一基材層及び前記第二基材層の一方又は両方が、
   第一外側層と、
   第二外側層と、
   前記第一外側層及び前記第二外側層の間に設けられた中間層と、を含む、請求項２〜４のいずれか一項に記載の表示装置。
6. 前記中間層が、紫外線吸収剤を含む、請求項５記載の表示装置。
7. 前記第一外側層が、ガラス転移温度Ｔｇ_Ｏ１を有する第一外側樹脂で形成され、
   前記第二外側層が、ガラス転移温度Ｔｇ_Ｏ２を有する第二外側樹脂で形成され、
   前記中間層が、ガラス転移温度Ｔｇ_Ｃを有する中間樹脂で形成され、
   前記第一外側樹脂のガラス転移温度Ｔｇ_Ｏ１が、前記中間樹脂のガラス転移温度Ｔｇ_Ｃよりも低く、
   前記第二外側樹脂のガラス転移温度Ｔｇ_Ｏ２が、前記中間樹脂のガラス転移温度Ｔｇ_Ｃよりも低い、請求項５又は６記載の表示装置。
8. 前記第一外側樹脂のガラス転移温度Ｔｇ_Ｏ１と、前記中間樹脂のガラス転移温度Ｔｇ_Ｃとの差Ｔｇ_Ｃ−Ｔｇ_Ｏ１が、３０℃以上であり、
   前記第二外側樹脂のガラス転移温度Ｔｇ_Ｏ２と、前記中間樹脂のガラス転移温度Ｔｇ_Ｃとの差Ｔｇ_Ｃ−Ｔｇ_Ｏ２が、３０℃以上である、請求項７記載の表示装置。
9. 前記第一基材層及び前記第二基材層の一方又は両方の厚みが、１０μｍ〜６０μｍである、請求項２〜８のいずれか一項に記載の表示装置。
10. 前記基材の遅相軸と前記偏光子の透過軸とが交差している、請求項１〜９のいずれか一項に記載の表示装置。
11. 前記基材の遅相軸と前記偏光子の透過軸との交差角が、４５°±５°である、請求項１０記載の表示装置。
12. 前記基材が、結晶性を有する重合体を含む、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の表示装置。
13. 前記基材及び前記位相差フィルムが、それぞれ、脂環式構造含有重合体を含む、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の表示装置。
14. 前記基材及び前記位相差フィルムが、それぞれ、延伸フィルムを含む、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の表示装置。
15. 前記位相差フィルムが、液晶性化合物を含む液晶組成物の硬化物で形成されていて、
    前記位相差フィルムの波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（４５０）と、前記位相差フィルムの波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）とが、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０を満たす、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の表示装置。
16. 前記表示素子が、液晶セルである、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の表示装置。
17. 前記表示素子が、有機エレクトロルミネッセンス素子である、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の表示装置。

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