JPWO2017212567A1 - 回路形成方法 - Google Patents

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Abstract

回路形成装置では、吐出装置によって吐出された紫外線硬化樹脂を硬化させることで、樹脂積層体130が形成される。そして、樹脂積層体のキャビティ132の内部に、紫外線硬化樹脂137が吐出され、その紫外線硬化樹脂137の上に電子部品96が載置される。そして、紫外線硬化樹脂が硬化されることで、電子部品96が固定される。これにより、既存の設備を利用して部品を固定することが可能となり、新たな設備に要するコスト,配設スペース等の問題が解消する。また、紫外線硬化樹脂は紫外線を照射するだけで硬化するため、部品の固定に要する時間を短くすることが可能となる。また、部品を固定するための紫外線硬化樹脂の吐出量を、電子部品のサイズと重量との少なくとも一方に応じた量とすることで、部品をセルフアライメント効果によって装着予定位置に適切に装着することが可能となる。

Description

本発明は、基板に部品が装着された回路を形成する回路形成方法に関する。
基板に部品が装着された回路が形成される際に、部品を基板において固定する必要がある。下記特許文献には、接着剤等を用いて、部品を基板において固定するための技術が記載されている。
特開平8−088316号公報 特開2003−298005号公報
上記特許文献に記載の技術によれば、部品を基板において固定することが可能となる。しかしながら、上記特許文献に記載の技術では、例えば、接着剤を吐出するためのディスペンサヘッドを配設する必要があり、ディスペンサヘッドの配設コスト,配設スペースの確保等の問題がある。また、例えば、樹脂系の接着剤を電気炉等により熱で半硬化させ、その半硬化させた樹脂に部品が載置される場合があるが、熱により樹脂系の接着剤を半硬化させるための時間により、スループットが低下するという問題がある。このように、基板に部品が装着された回路を形成する方法には、種々の問題があり、それら種々の問題を解消することで、基板に部品が装着された回路を形成する方法の実用性が向上する。本発明は、そのような実情に鑑みてなされたものであり、実用性の高い回路形成方法の提供を課題とする。
上記課題を解決するために、本発明の回路形成方法は、吐出装置によって吐出された紫外線硬化樹脂を硬化させた樹脂層を用いて、基板に部品が装着された回路を形成する回路形成方法であって、前記部品の装着予定位置に、前記部品のサイズと重量との少なくとも一方に応じた量の紫外線硬化樹脂を前記吐出装置によって吐出する吐出工程と、前記吐出工程において吐出された紫外線硬化樹脂の上に前記部品を載置する載置工程と、前記吐出工程において吐出された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射することで、前記載置工程において載置された前記部品を固定する固定工程とを含むことを特徴とする。
また、本発明の回路形成方法は、吐出装置によって吐出された紫外線硬化樹脂を硬化させた樹脂層を用いて、基板に形成されたキャビティの内部に部品が装着された回路を形成する回路形成方法であって、前記キャビティの底面の全体に、紫外線硬化樹脂を前記吐出装置によって吐出する吐出工程と、前記吐出工程において吐出された紫外線硬化樹脂の上の所定の位置に前記部品を載置する載置工程と、前記吐出工程において吐出された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射することで、前記載置工程において載置された前記部品を固定する固定工程とを含むことを特徴とする。
本発明の回路形成方法では、吐出装置によって吐出された紫外線硬化樹脂を硬化させることで、樹脂層が形成され、その樹脂層を用いて回路が形成される。そして、吐出装置によって吐出される紫外線硬化樹脂によって部品が固定される。つまり、本発明の回路形成方法では、回路形成時に樹脂層が形成されるが、その樹脂層を形成するための紫外線硬化樹脂によって、部品が固定される。このため、既存の設備を利用して、部品が固定される。これにより、新たな設備に要するコスト,配設スペースの確保等の問題が解消される。また、紫外線硬化樹脂は紫外線を照射するだけで硬化するため、部品の固定に要する時間を短くし、スループットの低下を防止することが可能となる。また、例えば、部品を固定するための紫外線硬化樹脂の吐出量を、部品のサイズと重量との少なくとも一方に応じた量とすることで、後に詳しく説明するように、部品をセルフアライメント効果によって装着予定位置に適切に装着することが可能となる。また、例えば、部品がキャビティの底面に装着される場合に、そのキャビティの底面の全体に紫外線硬化樹脂を吐出する。そして、吐出された紫外線硬化樹脂の所定の位置に部品を載置し、その部品を紫外線硬化樹脂によって固定する。これにより、部品のキャビティの底面への固定と、キャビティの底面を覆う樹脂層の形成とが同時に実行され、スループットが向上する。このように、本発明によれば、回路形成方法の実用性を向上させることが可能となる。
回路形成装置を示す図である。 制御装置を示すブロック図である。 樹脂積層体が形成された状態の回路を示す断面図である。 キャビティ内部に紫外線硬化樹脂が吐出された状態の回路を示す断面図である。 キャビティ内部に紫外線硬化樹脂が吐出された状態の回路を示す平面図である。 キャビティ内部に電子部品が載置された状態の回路を示す断面図である。 キャビティ内部に電子部品が載置された状態の回路を示す平面図である。 キャビティ内部に電子部品が載置された状態の回路を示す平面図である。 キャビティの電子部品が固定された箇所以外の隙間に樹脂積層体が形成された状態の回路を示す断面図である。 樹脂積層体の上に樹脂層が形成された状態の回路を示す断面図である。 配線が形成された状態の回路を示す断面図である。 キャビティの底面全体に紫外線硬化樹脂が吐出された状態の回路を示す断面図である。 キャビティ内部に電子部品が載置された状態の回路を示す断面図である。 キャビティの電子部品が固定された箇所以外の隙間に樹脂積層体が形成された状態の回路を示す断面図である。
第1実施例
回路形成装置の構成
図1に回路形成装置10を示す。回路形成装置10は、搬送装置20と、第1造形ユニット22と、第2造形ユニット24と、装着ユニット26と、制御装置(図2参照)27を備える。それら搬送装置20と第1造形ユニット22と第2造形ユニット24と装着ユニット26とは、回路形成装置10のベース28の上に配置されている。ベース28は、概して長方形状をなしており、以下の説明では、ベース28の長手方向をX軸方向、ベース28の短手方向をY軸方向、X軸方向及びY軸方向の両方に直交する方向をZ軸方向と称して説明する。
搬送装置20は、X軸スライド機構30と、Y軸スライド機構32とを備えている。そのX軸スライド機構30は、X軸スライドレール34とX軸スライダ36とを有している。X軸スライドレール34は、X軸方向に延びるように、ベース28の上に配設されている。X軸スライダ36は、X軸スライドレール34によって、X軸方向にスライド可能に保持されている。さらに、X軸スライド機構30は、電磁モータ(図2参照)38を有しており、電磁モータ38の駆動により、X軸スライダ36がX軸方向の任意の位置に移動する。また、Y軸スライド機構32は、Y軸スライドレール50とステージ52とを有している。Y軸スライドレール50は、Y軸方向に延びるように、ベース28の上に配設されており、X軸方向に移動可能とされている。そして、Y軸スライドレール50の一端部が、X軸スライダ36に連結されている。そのY軸スライドレール50には、ステージ52が、Y軸方向にスライド可能に保持されている。さらに、Y軸スライド機構32は、電磁モータ(図2参照)56を有しており、電磁モータ56の駆動により、ステージ52がY軸方向の任意の位置に移動する。これにより、ステージ52は、X軸スライド機構30及びY軸スライド機構32の駆動により、ベース28上の任意の位置に移動する。
ステージ52は、基台60と、保持装置62と、昇降装置64とを有している。基台60は、平板状に形成され、上面に基板が載置される。保持装置62は、基台60のX軸方向の両側部に設けられている。そして、基台60に載置された基板のX軸方向の両縁部が、保持装置62によって挟まれることで、基板が固定的に保持される。また、昇降装置64は、基台60の下方に配設されており、基台60を昇降させる。
第1造形ユニット22は、ステージ52の基台60に載置された基板(図3参照)70の上に配線を造形するユニットであり、第1印刷部72と、焼成部74とを有している。第1印刷部72は、インクジェットヘッド(図2参照)76を有しており、基台60に載置された基板70の上に、金属インクを線状に吐出する。金属インクは、金属の微粒子が溶剤中に分散されたものである。なお、インクジェットヘッド76は、例えば、圧電素子を用いたピエゾ方式によって複数のノズルから導電性材料を吐出する。
焼成部74は、レーザ照射装置(図2参照)78を有している。レーザ照射装置78は、基板70の上に吐出された金属インクにレーザを照射する装置であり、レーザが照射された金属インクは焼成し、配線が形成される。なお、金属インクの焼成とは、エネルギーを付与することによって、溶媒の気化や金属微粒子保護膜の分解等が行われ、金属微粒子が接触または融着をすることで、導電率が高くなる現象である。そして、金属インクが焼成することで、金属製の配線が形成される。
また、第2造形ユニット24は、ステージ52の基台60に載置された基板70の上に樹脂層を造形するユニットであり、第2印刷部84と、硬化部86とを有している。第2印刷部84は、インクジェットヘッド(図2参照)88を有しており、基台60に載置された基板70の上に紫外線硬化樹脂を吐出する。なお、インクジェットヘッド88は、例えば、圧電素子を用いたピエゾ方式でもよく、樹脂を加熱して気泡を発生させノズルから吐出するサーマル方式でもよい。
硬化部86は、平坦化装置(図2参照)90と照射装置(図2参照)92とを有している。平坦化装置90は、インクジェットヘッド88によって基板70の上に吐出された紫外線硬化樹脂の上面を平坦化するものであり、例えば、紫外線硬化樹脂の表面を均しながら余剰分の樹脂を、ローラもしくはブレードによって掻き取ることで、紫外線硬化樹脂の厚みを均一させる。また、照射装置92は、光源として水銀ランプもしくはLEDを備えており、基板70の上に吐出された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射する。これにより、基板70の上に吐出された紫外線硬化樹脂が硬化し、樹脂層が造形される。
また、装着ユニット26は、ステージ52の基台60に載置された基板70の上に電子部品(図6参照)96を装着するユニットであり、供給部100と、装着部102とを有している。供給部100は、テーピング化された電子部品96を1つずつ送り出すテープフィーダ(図2参照)110を複数有しており、供給位置において、電子部品96を供給する。なお、供給部100は、テープフィーダ110に限らず、トレイから電子部品96をピックアップして供給するトレイ型の供給装置でもよい。また、供給部100は、テープ型とトレイ型との両方、あるいはそれ以外の供給装置を備えた構成でもよい。
装着部102は、装着ヘッド(図2参照)112と、移動装置(図2参照)114とを有している。装着ヘッド112は、電子部品96を吸着保持するための吸着ノズル(図6参照)118を有する。吸着ノズル118は、正負圧供給装置(図示省略)から負圧が供給されることで、エアの吸引により電子部品96を吸着保持する。そして、正負圧供給装置から僅かな正圧が供給されることで、電子部品96を離脱する。また、移動装置114は、テープフィーダ110による電子部品96の供給位置と、基台60に載置された基板70との間で、装着ヘッド112を移動させる。これにより、装着部102では、テープフィーダ110から供給された電子部品96が、吸着ノズル118により保持され、その吸着ノズル118によって保持された電子部品96が、基板70に装着される。
また、制御装置27は、図2に示すように、コントローラ120と、複数の駆動回路122とを備えている。複数の駆動回路122は、上記電磁モータ38,56、保持装置62、昇降装置64、インクジェットヘッド76、レーザ照射装置78、インクジェットヘッド88、平坦化装置90、照射装置92、テープフィーダ110、装着ヘッド112、移動装置114に接続されている。コントローラ120は、CPU,ROM,RAM等を備え、コンピュータを主体とするものであり、複数の駆動回路122に接続されている。これにより、搬送装置20、第1造形ユニット22、第2造形ユニット24、装着ユニット26の作動が、コントローラ120によって制御される。
回路形成装置の作動
回路形成装置10では、上述した構成によって、基板70上に電子部品96が装着されることで、回路が形成される。具体的には、ステージ52の基台60に基板70がセットされ、そのステージ52が、第2造形ユニット24の下方に移動される。そして、第2造形ユニット24において、図3に示すように、基板70の上に樹脂積層体130が形成される。樹脂積層体130は、電子部品96を装着するためのキャビティ132を有しており、インクジェットヘッド88からの紫外線硬化樹脂の吐出と、吐出された紫外線硬化樹脂への照射装置92による紫外線の照射とが繰り返されることにより形成される。
詳しくは、第2造形ユニット24の第2印刷部84において、インクジェットヘッド88が、基板70の上面に紫外線硬化樹脂を薄膜状に吐出する。この際、インクジェットヘッド88は、基板70の上面の所定の部分が概して矩形に露出するように、紫外線硬化樹脂を吐出する。続いて、紫外線硬化樹脂が薄膜状に吐出されると、硬化部86において、紫外線硬化樹脂の膜厚が均一となるように、紫外線硬化樹脂が平坦化装置90によって平坦化される。そして、照射装置92が、その薄膜状の紫外線硬化樹脂に紫外線を照射する。これにより、基板70の上に薄膜状の樹脂層133が形成される。
続いて、インクジェットヘッド88が、その薄膜状の樹脂層133の上の部分にのみ紫外線硬化樹脂を薄膜状に吐出する。つまり、インクジェットヘッド88は、基板70の上面の所定の部分が概して矩形に露出するように、薄膜状の樹脂層133の上に紫外線硬化樹脂を薄膜状に吐出する。そして、平坦化装置90によって薄膜状の紫外線硬化樹脂が平坦化され、照射装置92が、その薄膜状に吐出された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射することで、薄膜状の樹脂層133の上に薄膜状の樹脂層133が積層される。このように、基板70の上面の概して矩形の部分を除いた薄膜状の樹脂層133の上への紫外線硬化樹脂の吐出と、紫外線の照射とが繰り返され、複数の樹脂層133が積層されることで、キャビティ132を有する樹脂積層体130が形成される。
上述した手順により樹脂積層体130が形成されると、図4及び図5に示すように、基板70への電子部品96の装着予定位置(図5参照)136に、インクジェットヘッド88によって紫外線硬化樹脂137が吐出される。詳しくは、樹脂積層体130のキャビティ132の内部、つまり、キャビティ132の底面として露出している基板70の所定の位置が、電子部品96の装着予定位置136とされており、その装着予定位置136に紫外線硬化樹脂137が吐出される。この際、紫外線硬化樹脂137の吐出量は、後に詳しく説明するが、セルフアライメント効果により電子部品96を装着予定位置136に適切に装着するべく、電子部品96のサイズおよび重量に応じた量とされている。なお、装着予定位置136に吐出される紫外線硬化樹脂137の上方からの視点における形状、つまり、紫外線硬化樹脂137の吐出パターンは、吐出量の調整によって、装着予定位置136より僅かに大きくされており、吐出された紫外線硬化樹脂137の外縁が、装着予定位置136の外縁から等距離とされている。つまり、紫外線硬化樹脂137の吐出パターンは、基板70に装着される際の電子部品96の装着面と同形状であり、その装着面より僅かに大きなサイズとされている。
続いて、樹脂積層体130のキャビティ132の内部に、紫外線硬化樹脂137が吐出されると、ステージ52が装着ユニット26の下方に移動される。装着ユニット26では、テープフィーダ110により電子部品96が供給され、その電子部品96が装着ヘッド112の吸着ノズル118によって、保持される。そして、装着ヘッド112が、移動装置114によって移動され、吸着ノズル118により保持された電子部品96が、図6に示すように、樹脂積層体130のキャビティ132の内部において、吐出された紫外線硬化樹脂137の上に載置される。なお、樹脂積層体130の高さ寸法と、電子部品96の高さ寸法とは略同じとされている。
装着予定位置136に吐出された紫外線硬化樹脂137の上に電子部品96が載置される際に、図7に示すように、電子部品96が、装着予定位置136からズレた位置に載置される場合がある。このような場合には、電子部品96は、セルフアライメント効果により、装着予定位置136に向かって移動する。つまり、電子部品96の載置位置が、セルフアライメント効果により装着予定位置136に補正される。詳しくは、セルフアライメント効果とは、電子部品96の装着面の外縁からはみ出る紫外線硬化樹脂137の量が同じになろうとする力が、紫外線硬化樹脂137の表面張力によって電子部品96を移動させる効果である。また、上述したように、紫外線硬化樹脂137は装着予定位置136より大きくされており、紫外線硬化樹脂137の外縁は、装着予定位置136の外縁から等距離とされている。このため、装着予定位置136からズレた位置に載置された電子部品96は、図8に示すように、自身の外縁と紫外線硬化樹脂137の外縁との間の距離が同じとなるように移動する。これにより、電子部品96の載置位置が、装着予定位置136に補正される。
ただし、紫外線硬化樹脂137の量が少なすぎると、紫外線硬化樹脂137の表面張力が弱くなり、表面張力によって電子部品96を移動させることができない虞がある。つまり、セルフアライメント効果によって電子部品96の載置位置を適切に補正できない虞がある。一方、紫外線硬化樹脂137の量が多すぎると、電子部品96が紫外線硬化樹脂137の上で浮いた状態となり、ステージ52が移動される際に、電子部品96が浮動し、装着予定位置136からズレる虞がある。このようなことに鑑みて、電子部品96の重量を考慮して、電子部品96を表面張力によって適切に移動させるとともに、電子部品96の浮動を抑制可能な紫外線硬化樹脂137の量が演算されており、その量の紫外線硬化樹脂137が、装着予定位置136に吐出されている。
続いて、紫外線硬化樹脂137の上に電子部品96が載置されると、ステージ52が第2造形ユニット24の下方に移動され、硬化部86において、電子部品96が載置された紫外線硬化樹脂137に紫外線が、照射装置92によって照射される。これにより、紫外線硬化樹脂137が硬化し、電子部品96が固定される。詳しくは、電子部品96が載置された紫外線硬化樹脂137は、図6に示すように、電子部品96の重量によって、電子部品96の装着面の下方において薄膜状とされ、外縁において電子部品96の側面の下端を取り囲むように盛り上がっている。この際、紫外線硬化樹脂137に紫外線が照射され、紫外線硬化樹脂137が硬化することで僅かに収縮し、電子部品96が、硬化した紫外線硬化樹脂137によって、電子部品96の側面の下端において固定的に挟持される。また、紫外線硬化樹脂137は、ある程度、粘着性があるため、電子部品96の装着面において粘着力により固定的に保持される。これにより、電子部品96は、キャビティ132の内部において固定される。なお、紫外線照射により硬化した紫外線硬化樹脂137は、電子部品96を固定するため、固定層137と記載する場合がある。
次に、電子部品96がキャビティ132の内部において固定されると、図9に示すように、キャビティ132の電子部品96が固定されている個所以外の隙間に、樹脂積層体150が形成される。詳しくは、第2造形ユニット24の第2印刷部84において、インクジェットヘッド88が、キャビティ132の内部において露出している基板70の上面、つまり、キャビティ132の内壁面と固定層137との間に紫外線硬化樹脂を薄膜状に吐出する。続いて、紫外線硬化樹脂が薄膜状に吐出されると、照射装置92が、その薄膜状の紫外線硬化樹脂に紫外線を照射する。これにより、キャビティ132の電子部品96が固定されている個所以外の隙間に、薄膜状の樹脂層152が形成される。
続いて、インクジェットヘッド88が、その薄膜状の樹脂層152の上の部分にキャビティ132の電子部品96が固定されている個所以外の隙間を覆うように、紫外線硬化樹脂を薄膜状に吐出する。そして、照射装置92が、その薄膜状に吐出された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射することで、薄膜状の樹脂層152の上に薄膜状の樹脂層152が積層される。このように、キャビティ132の電子部品96が固定されている個所以外の隙間への紫外線硬化樹脂の吐出と、紫外線の照射とが繰り返されることで、複数の樹脂層152が積層され、キャビティ132の電子部品96が固定されている個所以外の隙間に、樹脂積層体150が形成される。なお、樹脂積層体150の高さ寸法は、樹脂積層体130の高さ寸法と略同じとされている。これにより、樹脂積層体130の上面と樹脂積層体150の上面とが、面一とされる。
次に、キャビティ132の電子部品96が固定されている個所以外の隙間に、樹脂積層体150が形成されると、図10に示すように、樹脂積層体130の上面と樹脂積層体150の上面とに渡って、樹脂層160が形成される。詳しくは、後の工程において、基板70に装着された電子部品96の電極166と、他の電極(図示省略)とを電気的に接続する配線168が形成されるが、この配線168の形成予定位置に、インクジェットヘッド88が、紫外線硬化樹脂を薄膜状に吐出する。つまり、配線168の形成予定位置において、樹脂積層体130の上面と樹脂積層体150の上面とに渡って、紫外線硬化樹脂が薄膜状に吐出される。そして、照射装置92が、その薄膜状の紫外線硬化樹脂に紫外線を照射する。これにより、配線168の形成予定位置において、樹脂積層体130の上面と樹脂積層体150の上面とに渡って、薄膜状の樹脂層160が形成される。
続いて、樹脂積層体130の上面と樹脂積層体150の上面とに渡って樹脂層160が形成されると、第1造形ユニット22の下方にステージ52が移動される。そして、第1印刷部72において、インクジェットヘッド76が、金属インクを樹脂層160の上に、回路パターンに応じて線状に吐出する。この際、金属インクは、電子部品96の電極166と、他の電極(図示省略)とを繋ぐように、線状に吐出される。続いて、焼成部74において、吐出された金属インクに、レーザ照射装置78によってレーザが照射される。これにより、金属インクが焼成し、図11に示すように、電子部品96の電極166と、他の電極とを繋ぐ配線168が形成される。
このように、回路形成装置10では、電子部品96が基板70に固定される際に、紫外線硬化樹脂によって固定されている。一方、従来の回路形成装置では、接着剤を吐出するディスペンサヘッドが設けられており、そのディスペンサヘッドにより吐出される接着剤によって、電子部品96が基板70に固定されていた。つまり、従来の回路形成装置では、ディスペンサヘッドを配設する必要があり、ディスペンサヘッドの配設コスト,配設スペース等の問題があった。また、接着剤により電子部品96を固定する際には、電気炉等において、接着剤を熱により硬化させる必要があり、スループットが低下するという問題があった。
このようなことに鑑みて、回路形成装置10では、樹脂積層体130等を形成するための紫外線硬化樹脂を用いて、電子部品96が基板70に固定される。つまり、樹脂積層体130等を形成するための工程と、電子部品96を固定するための工程とにおいて、紫外線硬化樹脂を吐出するインクジェットヘッド88が共用されている。これにより、配設コスト,配設スペース等の問題を解消することが可能となる。また、紫外線硬化樹脂によって電子部品96を固定する際には、紫外線硬化樹脂に紫外線を照射すればよい。これにより、スループットの低下を防止することが可能となる。
また、回路形成装置10では、配線168の形成予定位置に、樹脂層160が形成され、その樹脂層160の上に配線168が形成されている。一方、従来の回路形成装置では、配線168が、樹脂積層体130の上面と樹脂積層体150の上面とに渡って形成される。ただし、樹脂積層体130の上面への紫外線の照射量と、樹脂積層体150の上面への紫外線の照射量とは大きく異なるため、樹脂積層体130の上面と樹脂積層体150の上面との物性が大きく異なる。このような、物性の異なる樹脂積層体130の上面と樹脂積層体150の上面とに渡って、配線168を形成するためには、金属インクの焼成条件を調整する必要があり、非常に手間である。
詳しくは、樹脂積層体150は、上述したように、複数の樹脂層152が積層されることで形成されており、樹脂積層体150の上面は、それら複数の樹脂層152のうちの最後に積層された樹脂層152の上面である。このため、樹脂積層体150の上面には、その最後に積層された樹脂層152の形成時にのみ、紫外線が照射されている。一方、樹脂積層体130は、上述したように、複数の樹脂層133が積層されることで形成されており、樹脂積層体130の上面は、それら複数の樹脂層133のうちの最後に積層された樹脂層133の上面である。このため、樹脂積層体130の形成時において、樹脂積層体130の上面には、その最後に積層された樹脂層133の形成時にのみ、紫外線が照射されている。しかしながら、樹脂積層体130が形成された後に、その樹脂積層体130に隣接した状態で、樹脂積層体150が形成されており、樹脂積層体150の形成箇所にのみ、つまり、キャビティ132の電子部品96が固定されている個所以外の隙間にのみ、紫外線を照射することはできず、樹脂積層体130の上面にも、紫外線が照射される。このため、樹脂積層体130の上面には、樹脂積層体150の形成時に複数の樹脂層152が形成される毎に、紫外線が照射される。つまり、樹脂積層体130の上面には、樹脂積層体150の上面と比較して、非常に多くの量の紫外線が照射される。このため、樹脂積層体130の上面の濡れ性,硬度等の物性は、樹脂積層体150の上面の濡れ性,硬度等の物性と大きく異なる。このように、物性の異なる樹脂積層体130の上面と樹脂積層体150の上面とに渡って、金属インクを吐出し、その金属インクを適切に焼成するためには、樹脂積層体130の上面に吐出された金属インクを焼成するための焼成条件と、樹脂積層体150の上面に吐出された金属インクを焼成するための焼成条件とを変更する必要がある。つまり、従来の回路形成装置では、金属インクの部位に応じて焼成条件を変更しなければ、適切に配線168を形成することができない。
一方、回路形成装置10では、上述したように、配線168の形成予定位置に、樹脂積層体130の上面と樹脂積層体150の上面とに渡って、樹脂層160が形成されている。そして、その樹脂層160への紫外線の照射量は、樹脂層160の全域にわたって略均一とされており、樹脂層160の物性は、樹脂層160の全域にわたって略均一となる。このため、その樹脂層160の上に金属インクが吐出され、その金属インクが焼成される際の焼成条件は、吐出された金属インクの全域において同一にすることが可能である。これにより、回路形成装置10では、金属インクの部位に応じて焼成条件を変更することなく、適切に配線168を形成することが可能となる。
第2実施例
第1実施例の回路形成装置10では、キャビティ132の底面に、装着予定の電子部品96のサイズ及び重量に応じた量の紫外線硬化樹脂が吐出され、その紫外線硬化樹脂によって電子部品96が固定されているが、第2実施例の回路形成装置10では、キャビティ132の底面の全体に渡って紫外線硬化樹脂が吐出され、その紫外線硬化樹脂によって電子部品96が固定される。
具体的には、第2実施例の回路形成装置10においても、第1実施例の回路形成装置10と同様に、基板70の上に、キャビティ132を有する樹脂積層体130が形成される。そして、図12に示すように、樹脂積層体130のキャビティ132の内部、つまり、キャビティ132の底面として露出している基板70の全体に渡って、紫外線硬化樹脂170がインクジェットヘッド88によって吐出される。そして、その吐出された紫外線硬化樹脂170に、照射装置92によって紫外線が照射される。この際、紫外線硬化樹脂170に照射される紫外線照射量は、紫外線硬化樹脂170を完全に硬化させるために必要な紫外線照射量の10%以下とされる。このため、紫外線を照射された紫外線硬化樹脂170は、硬化することなく、粘度が上昇した状態となる。なお、紫外線照射量は、紫外線露光量,紫外線積算光量と記載してもよく、単位時間当たりの照射量(紫外線照度,紫外線強度)に照射時間を乗じたものである。また、紫外線硬化樹脂170を硬化させることなく、粘度を上昇させるための紫外線照射量は、紫外線硬化樹脂を構成する素材によって異なる。
次に、紫外線硬化樹脂170への紫外線の照射により粘度が上昇されると、ステージ52が装着ユニット26の下方に移動される。装着ユニット26では、テープフィーダ110により電子部品96が供給され、その電子部品96が装着ヘッド112の吸着ノズル118によって、保持される。そして、装着ヘッド112が、移動装置114によって移動され、吸着ノズル118により保持された電子部品96が、キャビティ132の底面全体に吐出された紫外線硬化樹脂170の上の所定の位置、つまり、電子部品96の装着予定位置に載置される。
続いて、電子部品96が紫外線硬化樹脂170の上に載置されると、ステージ52が第2造形ユニット24の下方に移動され、硬化部86において、電子部品96が載置された紫外線硬化樹脂170に紫外線が、照射装置92によって照射される。この際、先に照射された紫外線照射量と積算して、紫外線硬化樹脂170を完全に硬化させるために必要な紫外線照射量を超えるように、紫外線硬化樹脂170に紫外線が照射される。これにより、紫外線硬化樹脂170が硬化し、電子部品96が固定される。詳しくは、電子部品96が載置された紫外線硬化樹脂170は、図13に示すように、電子部品96の重量によって、電子部品96の装着面の下方において薄膜状とされており、紫外線硬化樹脂170の電子部品96の装着面の下方以外の上面は、電子部品96の装着面より上方に位置する。このため、電子部品96の側面の下端が紫外線硬化樹脂170によって取り囲まれている。この際、紫外線硬化樹脂170に紫外線が照射され、紫外線硬化樹脂170が硬化することで僅かに収縮し、電子部品96が、硬化した紫外線硬化樹脂170によって、電子部品96の側面の下端において固定的に挟持される。また、粘度の上昇した紫外線硬化樹脂170によって、電子部品96は、装着面において粘着力により固定的に保持される。これにより、電子部品96は、キャビティ132の内部において固定される。なお、紫外線照射により硬化した紫外線硬化樹脂170は、電子部品96を固定するため、固定層170と記載する場合がある。
次に、電子部品96がキャビティ132の内部において固定されると、図14に示すように、キャビティ132の電子部品96が固定されている個所以外の隙間、つまり、露出している固定層170の上面に、樹脂積層体180が形成される。詳しくは、第2造形ユニット24の第2印刷部84において、インクジェットヘッド88が、キャビティ132の内部において露出している固定層170の上面に紫外線硬化樹脂を薄膜状に吐出する。続いて、紫外線硬化樹脂が薄膜状に吐出されると、照射装置92が、その薄膜状の紫外線硬化樹脂に紫外線を照射する。これにより、露出している固定層170の上面に、薄膜状の樹脂層182が形成される。
続いて、インクジェットヘッド88が、その薄膜状の樹脂層182の上にキャビティ132の電子部品96が固定されている個所以外の隙間を覆うように、紫外線硬化樹脂を薄膜状に吐出する。そして、照射装置92が、その薄膜状に吐出された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射することで、薄膜状の樹脂層182の上に薄膜状の樹脂層182が積層される。このように、紫外線硬化樹脂の吐出と、紫外線の照射とが繰り返されることで、複数の樹脂層182が積層され、キャビティ132の電子部品96が固定されている個所以外の隙間に、樹脂積層体180が形成される。なお、樹脂積層体180の高さ寸法は、樹脂積層体130の高さ寸法と略同じとされている。これにより、樹脂積層体130の上面と樹脂積層体180の上面とが、面一とされる。
次に、キャビティ132の電子部品96が固定されている個所以外の隙間に樹脂積層体180が形成されると、配線の形成予定位置に、その樹脂積層体180の上面と樹脂積層体130の上面とに渡って樹脂層が形成される。そして、その樹脂層の上に、配線が形成される。ただし、配線の形成予定位置への樹脂層の形成手法および、その樹脂層の上への配線の形成手法は、第1実施例における形成手法と同様であるため、説明を省略する。
このように、第2実施例の回路形成装置10においても、紫外線硬化樹脂によって電子部品96を固定するとともに、樹脂積層体180の上面と樹脂積層体130の上面とに渡って形成された樹脂層の上に配線が形成されることで、第1実施例の回路形成装置10と同様の効果を奏することが可能となる。
また、第2実施例の回路形成装置10では、電子部品96が載置される前の紫外線硬化樹脂170に紫外線が照射されることで、紫外線硬化樹脂170の粘度が上昇されている。これにより、硬化する前の紫外線硬化樹脂170による電子部品96の保持力が高くなり、紫外線硬化樹脂170が硬化する前に、ステージ52が移動された場合であっても、電子部品96の位置ズレ等を防止することが可能となる。
さらに言えば、第2実施例の回路形成装置10では、キャビティ132の底面全体に渡って、紫外線硬化樹脂170が吐出されており、その紫外線硬化樹脂170が硬化されることで、紫外線硬化樹脂170が硬化し、電子部品96が固定される。そして、硬化した紫外線硬化樹脂170、つまり、固定層170の上に、複数の樹脂層182が積層されることで、樹脂積層体180が形成される。これにより、第2実施例の回路形成装置10では、電子部品96を固定するための固定層170が形成される際に、樹脂積層体180の最下層が形成される。つまり、電子部品96を固定するための固定層170が、樹脂積層体180の最下層となっている。このため、樹脂積層体180の形成時間を短縮することが可能となり、スループットが向上する。
なお、制御装置27のコントローラ120は、図2に示すように、吐出部200と、載置部202と、固定部204と、樹脂層積層部206と、樹脂層形成部208と、配線形成部210と、粘度上昇部212とを有している。吐出部200は、キャビティ132の内部に紫外線硬化樹脂137若しくは、紫外線硬化樹脂170を吐出するための機能部である。載置部202は、紫外線硬化樹脂137若しくは、紫外線硬化樹脂170の上に電子部品96を載置するための機能部である。固定部204は、紫外線硬化樹脂137若しくは、紫外線硬化樹脂170を硬化させ、電子部品96を固定させるための機能部である。樹脂層積層部206は、キャビティ132の電子部品96が固定されている個所以外の隙間に、樹脂層152若しくは、樹脂層182を積層させ、樹脂積層体150若しくは、樹脂積層体180を形成するための機能部である。樹脂層形成部208は、樹脂積層体130の上面と樹脂積層体150の上面とに渡って樹脂層160を形成するための機能部、若しくは、樹脂積層体130の上面と樹脂積層体180の上面とに渡って樹脂層を形成するための機能部である。配線形成部210は、樹脂層形成部208により形成された樹脂層160の上に配線168を形成するための機能部である。粘度上昇部212は、紫外線硬化樹脂170に紫外線を照射し、紫外線硬化樹脂170の粘度を上昇させるための機能部である。
ちなみに、上記実施例において、基板70は、基板の一例である。インクジェットヘッド88は、吐出装置の一例である。電子部品96は、部品の一例である。キャビティ132は、キャビティの一例である。また、吐出部200により実行される工程が、吐出工程の一例である。載置部202により実行される工程が、載置工程の一例である。固定部204により実行される工程が、固定工程の一例である。樹脂層積層部206により実行される工程が、樹脂層積層工程の一例である。樹脂層形成部208により実行される工程が、樹脂層形成工程の一例である。配線形成部210により実行される工程が、配線形成工程の一例である。粘度上昇部212により実行される工程が、紫外線照射工程の一例である。
なお、本発明は、上記実施例に限定されるものではなく、当業者の知識に基づいて種々の変更、改良を施した種々の態様で実施することが可能である。例えば、上記実施例では、キャビティ132の内部において、電子部品96が装着されているが、キャビティ132以外の箇所に電子部品96が装着される場合についても、紫外線硬化樹脂によって電子部品96が固定されてもよい。
また、上記実施例では、金属インクがレーザの照射により焼結され、配線が形成されているが、金属インクをフラッシュランプ光,電気炉等の熱により焼成し、配線を形成してもよい。
また、上記実施例では、紫外線硬化樹脂によって電子部品96が固定された後に、キャビティ132の電子部品96が固定されている個所以外の隙間が樹脂積層体150等により充填され、樹脂積層体130及び樹脂積層体150等の上面に樹脂層160が形成され、その樹脂層160の上に配線168が形成されているが、接着剤等によって電子部品96が固定された後に、キャビティ132の電子部品96が固定されている個所以外の隙間が樹脂積層体150等により充填され、樹脂積層体130及び樹脂積層体150等の上面に樹脂層160が形成され、その樹脂層160の上に配線168が形成されてもよい。つまり、樹脂積層体130及び樹脂積層体150等の上面に樹脂層160が形成され、その樹脂層160の上に配線168が形成される技術では、紫外線硬化樹脂によって電子部品96が固定される工程は必須でなく、どのような手法によって電子部品96を固定してもよい。
70:基板 88:インクジェットヘッド(吐出装置) 96:電子部品(部品) 132:キャビティ 200 吐出部(吐出工程) 202 載置部(載置工程) 204 固定部(固定工程) 206 樹脂層積層部(樹脂層積層工程) 208 樹脂層形成部(樹脂層形成工程) 210 配線形成部(配線形成工程) 212 粘度上昇部(紫外線照射工程)

Claims (5)

  1. 吐出装置によって吐出された紫外線硬化樹脂を硬化させた樹脂層を用いて、基板に部品が装着された回路を形成する回路形成方法であって、
    前記部品の装着予定位置に、前記部品のサイズと重量との少なくとも一方に応じた量の紫外線硬化樹脂を前記吐出装置によって吐出する吐出工程と、
    前記吐出工程において吐出された紫外線硬化樹脂の上に前記部品を載置する載置工程と、
    前記吐出工程において吐出された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射することで、前記載置工程において載置された前記部品を固定する固定工程と
    を含む回路形成方法。
  2. 前記部品の装着予定位置が、前記基板に形成されたキャビティの内部である請求項1に記載の回路形成方法。
  3. 吐出装置によって吐出された紫外線硬化樹脂を硬化させた樹脂層を用いて、基板に形成されたキャビティの内部に部品が装着された回路を形成する回路形成方法であって、
    前記キャビティの底面の全体に、紫外線硬化樹脂を前記吐出装置によって吐出する吐出工程と、
    前記吐出工程において吐出された紫外線硬化樹脂の上の所定の位置に前記部品を載置する載置工程と、
    前記吐出工程において吐出された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射することで、前記載置工程において載置された前記部品を固定する固定工程と
    を含む回路形成方法。
  4. 前記キャビティの前記部品が固定されている個所以外に、前記樹脂層を前記キャビティの上端に連続する面と同じ高さとなるまで積層させる樹脂層積層工程と、
    前記樹脂層積層工程において積層された樹脂層の上面と、前記キャビティの上端に連続する面とに渡って前記樹脂層を形成する樹脂層形成工程と、
    前記樹脂層形成工程において形成された樹脂層の上面に、金属微粒子を含有する金属含有液を線状に吐出し、その金属含有液を焼成することで配線を形成する配線形成工程と
    を更に含む請求項1ないし請求項3のいずれか1つに記載の回路形成方法。
  5. 前記吐出工程において吐出された紫外線硬化樹脂に、前記載置工程において前記部品が載置される前に、紫外線を照射することで紫外線硬化樹脂の粘度を上昇させる紫外線照射工程を更に含み、
    前記載置工程が、
    前記紫外線照射工程における紫外線の照射により粘度の上昇した紫外線硬化樹脂の上に、前記部品を載置する請求項1ないし請求項4のいずれか1つに記載の回路形成方法。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6967138B2 (ja) * 2018-03-16 2021-11-17 株式会社Fuji キャビティの形成方法
JP7130875B2 (ja) * 2019-07-30 2022-09-05 株式会社Fuji スタック部品の製造方法
CN112687656B (zh) * 2021-03-17 2021-06-11 浙江铖昌科技股份有限公司 半导体封装结构及其制备方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003110245A (ja) * 2001-09-28 2003-04-11 Ibiden Co Ltd 光学素子実装用基板の製造方法、光学素子実装用基板及び光学素子
JP2006332094A (ja) * 2005-05-23 2006-12-07 Seiko Epson Corp 電子基板の製造方法及び半導体装置の製造方法並びに電子機器の製造方法
JP2012079876A (ja) * 2010-09-30 2012-04-19 Fujitsu Ltd 電子装置の製造方法及び電子装置
JP2012256769A (ja) * 2011-06-10 2012-12-27 Fuji Mach Mfg Co Ltd 半導体装置及びその製造方法
JP2014183179A (ja) * 2013-03-19 2014-09-29 Tdk Corp 多層基板及びその製造方法
WO2016042657A1 (ja) * 2014-09-19 2016-03-24 富士機械製造株式会社 製造装置及び製造方法

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0378233B1 (en) * 1989-01-13 1994-12-28 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. An adhesive composition for use in the mounting of electronic parts and a method for mounting electronic parts on a printed circuit board by the use of the same
DE4242408C2 (de) * 1991-12-11 1998-02-26 Mitsubishi Electric Corp Verfahren zum Verbinden eines Schaltkreissubstrates mit einem Halbleiterteil
JP2707979B2 (ja) 1994-09-16 1998-02-04 日本電気株式会社 ハイブリッドic及びその製造方法
EP0926729A3 (en) * 1997-12-10 1999-12-08 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Semiconductor plastic package and process for the production thereof
CN1143373C (zh) * 1998-07-01 2004-03-24 精工爱普生株式会社 半导体装置及其制造方法、电路基板和电子装置
JP2003298005A (ja) 2002-02-04 2003-10-17 Casio Comput Co Ltd 半導体装置およびその製造方法
JP2005101125A (ja) * 2003-09-24 2005-04-14 Seiko Epson Corp 半導体装置の製造方法及び半導体装置、回路基板並びに電子機器
JP3928638B2 (ja) * 2004-09-28 2007-06-13 セイコーエプソン株式会社 配線基板の製造方法、及び電子機器
JP2008004570A (ja) * 2006-06-20 2008-01-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 樹脂封止型半導体装置の製造方法、樹脂封止型半導体装置の製造装置、および樹脂封止型半導体装置
JP2008117997A (ja) 2006-11-07 2008-05-22 Seiko Epson Corp 電子基板の製造方法
US8425716B2 (en) * 2009-06-23 2013-04-23 Global Oled Technology Llc Applying chiplets to substrates
JP5418367B2 (ja) * 2010-03-30 2014-02-19 富士通株式会社 プリント配線板ユニットおよび電子機器
KR20120004777A (ko) * 2010-07-07 2012-01-13 삼성전기주식회사 전자 부품 모듈 및 이의 제조방법
DE102010042567B3 (de) * 2010-10-18 2012-03-29 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zum Herstellen eines Chip-Package und Chip-Package
US8963313B2 (en) 2011-12-22 2015-02-24 Raytheon Company Heterogeneous chip integration with low loss interconnection through adaptive patterning
US9122968B2 (en) * 2012-04-03 2015-09-01 X-Card Holdings, Llc Information carrying card comprising a cross-linked polymer composition, and method of making the same
US9318473B2 (en) * 2012-04-20 2016-04-19 Infineon Technologies Ag Semiconductor device including a polymer disposed on a carrier
KR102167597B1 (ko) * 2014-01-22 2020-10-19 엘지이노텍 주식회사 임베디드 인쇄회로기판
JP2016207940A (ja) * 2015-04-27 2016-12-08 イビデン株式会社 電子部品内蔵配線板及びその製造方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003110245A (ja) * 2001-09-28 2003-04-11 Ibiden Co Ltd 光学素子実装用基板の製造方法、光学素子実装用基板及び光学素子
JP2006332094A (ja) * 2005-05-23 2006-12-07 Seiko Epson Corp 電子基板の製造方法及び半導体装置の製造方法並びに電子機器の製造方法
JP2012079876A (ja) * 2010-09-30 2012-04-19 Fujitsu Ltd 電子装置の製造方法及び電子装置
JP2012256769A (ja) * 2011-06-10 2012-12-27 Fuji Mach Mfg Co Ltd 半導体装置及びその製造方法
JP2014183179A (ja) * 2013-03-19 2014-09-29 Tdk Corp 多層基板及びその製造方法
WO2016042657A1 (ja) * 2014-09-19 2016-03-24 富士機械製造株式会社 製造装置及び製造方法

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