JP6987975B2 - 3次元構造物形成方法、および3次元構造物形成装置 - Google Patents
3次元構造物形成方法、および3次元構造物形成装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6987975B2 JP6987975B2 JP2020512129A JP2020512129A JP6987975B2 JP 6987975 B2 JP6987975 B2 JP 6987975B2 JP 2020512129 A JP2020512129 A JP 2020512129A JP 2020512129 A JP2020512129 A JP 2020512129A JP 6987975 B2 JP6987975 B2 JP 6987975B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plate
- shaped structure
- curable resin
- forming
- hole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 24
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 126
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 126
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 34
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 23
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 16
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 15
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 8
- 238000013016 damping Methods 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 21
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 21
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 8
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 5
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/56—Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/18—High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
Description
Claims (6)
- 3次元構造物形成装置の内部に配設された第1形成装置において、硬化性樹脂により第1の板状構造物を形成する第1形成工程と、
前記第1の板状構造物を、前記3次元構造物形成装置の内部に配設されたストック部にストックする第1ストック工程と、
前記3次元構造物形成装置の内部に配設された第2形成装置において、前記硬化性樹脂により穴部を有する第2の板状構造物を形成する第2形成工程と、
前記第2の板状構造物を、前記ストック部にストックする第2ストック工程と、
前記ストック部にストックされている前記第1の板状構造物と前記第2の板状構造物とを保持装置により前記ストック部から運び出して、前記第1の板状構造物の面と、前記第2の板状構造物の前記穴部が開口する面との少なくとも一方の面に、前記硬化性樹脂を塗布する塗布工程と、
前記第2の板状構造物の前記穴部の開口を前記第1の板状構造物により塞ぎ、前記穴部を密閉するように、前記第1の板状構造物と前記第2の板状構造物とを積層させる積層工程と、
前記塗布工程において塗布された前記硬化性樹脂を硬化させる硬化工程と
を含む3次元構造物形成方法。 - 前記3次元構造物形成方法が、
前記積層工程において前記穴部が密閉される前に、前記穴部に部品を収容する収容工程を含み、
前記積層工程が、
前記収容工程において前記穴部に前記部品が収容された後に、前記第1の板状構造物と前記第2の板状構造物とを積層する請求項1に記載の3次元構造物形成方法。 - 前記3次元構造物形成方法が、
前記積層工程において前記穴部が密閉される前に、前記穴部に制振材を収容する収容工程を含み、
前記積層工程が、
前記収容工程において前記穴部に前記制振材が収容された後に、前記第1の板状構造物と前記第2の板状構造物とを積層する請求項1に記載の3次元構造物形成方法。 - 前記硬化性樹脂が、紫外線の照射により硬化する紫外線硬化樹脂である請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の3次元構造物形成方法。
- 前記第1形成工程と前記第2形成工程との各々は、
薄膜状に印刷された前記硬化性樹脂を硬化させることで形成される樹脂層を、複数、積層させることで、前記板状構造物を形成する請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載の3次元構造物形成方法。 - 硬化性樹脂により第1の板状構造物を形成する第1形成装置と、
前記硬化性樹脂により穴部を有する第2の板状構造物を形成する第2形成装置と、
前記第1の板状構造物と前記第2の板状構造物とをストックするストック部と、
前記ストック部にストックされている前記第1の板状構造物と前記第2の板状構造物とを保持して前記ストック部から運び出す保持装置と、
前記第1の板状構造物の面と、前記第2の板状構造物の前記穴部が開口する面との少なくとも一方の面に、前記硬化性樹脂を塗布する塗布装置と、
前記第2の板状構造物の前記穴部の開口を前記第1の板状構造物により塞ぎ、前記穴部を密閉するように、前記第1の板状構造物と前記第2の板状構造物とを積層させる積層装置と、
前記塗布装置により塗布された前記硬化性樹脂を硬化させる硬化装置と
を含む3次元構造物形成装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2018/014234 WO2019193644A1 (ja) | 2018-04-03 | 2018-04-03 | 3次元構造物形成方法、および3次元構造物形成装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2019193644A1 JPWO2019193644A1 (ja) | 2020-12-03 |
JP6987975B2 true JP6987975B2 (ja) | 2022-01-05 |
Family
ID=68100591
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020512129A Active JP6987975B2 (ja) | 2018-04-03 | 2018-04-03 | 3次元構造物形成方法、および3次元構造物形成装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6987975B2 (ja) |
WO (1) | WO2019193644A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7411452B2 (ja) * | 2020-03-05 | 2024-01-11 | 株式会社Fuji | 回路形成方法 |
JP7316742B2 (ja) * | 2020-03-11 | 2023-07-28 | 株式会社Fuji | 3次元積層造形による実装基板の製造方法 |
JP7549006B2 (ja) * | 2020-04-20 | 2024-09-10 | 株式会社Fuji | 回路形成方法、および回路形成装置 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4813693B2 (ja) * | 2001-06-18 | 2011-11-09 | セイコーインスツル株式会社 | 気密封止icパッケージの製造方法 |
JP2008010589A (ja) * | 2006-06-28 | 2008-01-17 | Kobe Steel Ltd | ガラス状炭素製ウェハボートおよびその製造方法 |
JP5933989B2 (ja) * | 2012-02-28 | 2016-06-15 | 京セラ株式会社 | 部品内蔵基板 |
JP6533112B2 (ja) * | 2015-07-21 | 2019-06-19 | 株式会社Fuji | 回路形成方法 |
-
2018
- 2018-04-03 WO PCT/JP2018/014234 patent/WO2019193644A1/ja active Application Filing
- 2018-04-03 JP JP2020512129A patent/JP6987975B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2019193644A1 (ja) | 2019-10-10 |
JPWO2019193644A1 (ja) | 2020-12-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6947842B2 (ja) | 3次元積層電子デバイスの製造方法 | |
JP6987975B2 (ja) | 3次元構造物形成方法、および3次元構造物形成装置 | |
JP7053832B2 (ja) | 回路形成方法、および回路形成装置 | |
JP6714109B2 (ja) | 回路形成方法、および回路形成装置 | |
JP6811770B2 (ja) | 回路形成方法 | |
WO2017009922A1 (ja) | 配線形成方法および配線形成装置 | |
WO2016189577A1 (ja) | 配線形成方法 | |
WO2021214813A1 (ja) | 回路形成方法、および回路形成装置 | |
JP6663516B2 (ja) | 回路形成方法、および回路形成装置 | |
WO2022113186A1 (ja) | 電気回路形成方法 | |
WO2021075051A1 (ja) | 部品装着方法、および部品装着装置 | |
JP7055897B2 (ja) | 回路形成方法 | |
JP6987972B2 (ja) | 回路形成方法、および回路形成装置 | |
WO2022101965A1 (ja) | 回路形成方法 | |
JP7213361B2 (ja) | 積層ユニットの接着方法 | |
JP7075481B2 (ja) | プリント基板形成方法、およびプリント基板形成装置 | |
WO2024057475A1 (ja) | 樹脂積層体形成装置、および樹脂積層体形成方法 | |
JP7411452B2 (ja) | 回路形成方法 | |
WO2021199421A1 (ja) | 回路形成方法および回路形成装置 | |
WO2023209960A1 (ja) | 設計方法、設計プログラム、および回路基板作製方法 | |
WO2024057474A1 (ja) | 樹脂積層体形成装置、回路基板、および回路基板形成方法 | |
WO2023058111A1 (ja) | 吐出装置、および検出方法 | |
WO2021186539A1 (ja) | 造形方法 | |
WO2023079607A1 (ja) | 回路形成方法、および回路形成装置 | |
WO2021176498A1 (ja) | 配線形成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200319 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210427 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210623 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20211116 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20211201 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6987975 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |