JP6987972B2 - 回路形成方法、および回路形成装置 - Google Patents

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Description

本発明は、硬化性樹脂により形成される樹脂積層体のキャビティに電子部品が載置され、その電子部品が電気的に接続される回路を形成する回路形成方法、および回路形成装置に関する。
近年、下記特許文献に記載されている技術を利用して、硬化性樹脂により形成される樹脂積層体のキャビティに電子部品が載置され、その電子部品が電気的に接続される回路を形成する装置などが開発されている。
特開平7−040445号公報
樹脂積層体のキャビティに載置された電子部品を電気的に接続する配線の適切な形成を課題とする。
上記課題を解決するために、本明細書は、薄膜状に吐出された硬化性樹脂を硬化させた樹脂層を、複数、積層することで、キャビティを有する樹脂積層体を形成する樹脂積層体形成工程と、前記樹脂積層体の前記キャビティに、電極が上方を向いた状態の電子部品を載置する載置工程と、前記キャビティに載置された前記電子部品の電極に導電性ペーストを、当該導電性ペーストの高さ寸法が少なくとも前記電子部品の寸法公差の半分より大きくなるように塗布することで、前記電極と前記導電性ペーストとにより構成される導電部を形成する導電部形成工程と、前記導電部が形成された後に、薄膜状に吐出された硬化性樹脂を硬化させた樹脂層を、複数、積層することで、前記キャビティに載置された前記電子部品を被覆する被覆体を形成する被覆体形成工程と、前記被覆体により被覆された前記電子部品の前記電極により構成される導電部が露出するように、前記被覆体の表面を除去する除去工程と、前記被覆体の表面の除去により露出した前記電子部品の前記導電部と電気的に接続される配線を、金属微粒子を含有する金属含有液を線状に吐出し、レーザ照射により前記金属含有液を焼成することで形成する配線形成工程とを含む回路形成方法を開示する。
また、上記課題を解決するために、本明細書は、薄膜状に吐出された硬化性樹脂を硬化させた樹脂層を、複数、積層することで、キャビティを有する樹脂積層体を形成する樹脂積層体形成装置と、前記樹脂積層体の前記キャビティに、電極が上方を向いた状態の電子部品を載置する載置装置と、前記キャビティに載置された前記電子部品の電極に導電性ペーストを、当該導電性ペーストの高さ寸法が少なくとも前記電子部品の寸法公差の半分より大きくなるように塗布することで、前記電極と前記導電性ペーストとにより構成される導電部を形成する導電部形成装置と、前記導電部が形成された後に、薄膜状に吐出された硬化性樹脂を硬化させた樹脂層を、複数、積層することで、前記キャビティに載置された前記電子部品を被覆する被覆体を形成する被覆体形成装置と、前記被覆体により被覆された前記電子部品の前記電極により構成される導電部が露出するように、前記被覆体の表面を除去する除去装置と、前記被覆体の表面の除去により露出した前記電子部品の前記導電部と電気的に接続される配線を、金属微粒子を含有する金属含有液を線状に吐出し、レーザ照射により前記金属含有液を焼成することで形成する配線形成装置とを備える回路形成装置を開示する。
本開示によれば、例えば、配線の形成面を平坦にすることが可能となり、電子部品を電気的に接続する配線の適切な形成が担保される。
回路形成装置を示す図である。 制御装置を示すブロック図である。 キャビティを有する樹脂積層体を示す断面図である。 キャビティ内部に電子部品が装着された状態の回路を示す断面図である。 キャビティと電子部品との間に樹脂積層体が形成された状態の回路を示す断面図である。 樹脂積層体及び電子部品の上面に配線が形成された状態の回路を示す断面図である。 キャビティ内部に電子部品が装着された状態の回路を示す断面図である。 キャビティ内部に電子部品が装着された状態の回路を示す断面図である。 キャビティと電子部品との間に樹脂積層体が形成された状態の回路を示す断面図である。 電子部品の電極の上面に導電性ペーストが吐出された状態の回路を示す断面図である。 キャビティの隙間と樹脂積層体と電子部品を覆う樹脂積層体が形成された状態の回路を示す断面図である。 樹脂積層体の表面が研磨された状態の回路を示す断面図である。 研磨された樹脂積層体及び電子部品の上面に配線が形成された状態の回路を示す断面図である。
図1に回路形成装置10を示す。回路形成装置10は、搬送装置20と、第1造形ユニット22と、第2造形ユニット24と、装着ユニット25と、除去ユニット26と、制御装置(図2参照)27を備える。それら搬送装置20と第1造形ユニット22と第2造形ユニット24と装着ユニット25と除去ユニット26とは、回路形成装置10のベース28の上に配置されている。ベース28は、概して長方形状をなしており、以下の説明では、ベース28の長手方向をX軸方向、ベース28の短手方向をY軸方向、X軸方向及びY軸方向の両方に直交する方向をZ軸方向と称して説明する。
搬送装置20は、X軸スライド機構30と、Y軸スライド機構32とを備えている。そのX軸スライド機構30は、X軸スライドレール34とX軸スライダ36とを有している。X軸スライドレール34は、X軸方向に延びるように、ベース28の上に配設されている。X軸スライダ36は、X軸スライドレール34によって、X軸方向にスライド可能に保持されている。さらに、X軸スライド機構30は、電磁モータ(図2参照)38を有しており、電磁モータ38の駆動により、X軸スライダ36がX軸方向の任意の位置に移動する。また、Y軸スライド機構32は、Y軸スライドレール50とステージ52とを有している。Y軸スライドレール50は、Y軸方向に延びるように、ベース28の上に配設されており、X軸方向に移動可能とされている。そして、Y軸スライドレール50の一端部が、X軸スライダ36に連結されている。そのY軸スライドレール50には、ステージ52が、Y軸方向にスライド可能に保持されている。さらに、Y軸スライド機構32は、電磁モータ(図2参照)56を有しており、電磁モータ56の駆動により、ステージ52がY軸方向の任意の位置に移動する。これにより、ステージ52は、X軸スライド機構30及びY軸スライド機構32の駆動により、ベース28上の任意の位置に移動する。
ステージ52は、基台60と、保持装置62と、昇降装置64とを有している。基台60は、平板状に形成され、上面に基板が載置される。保持装置62は、基台60のX軸方向の両側部に設けられている。そして、基台60に載置された基板のX軸方向の両縁部が、保持装置62によって挟まれることで、基板が固定的に保持される。また、昇降装置64は、基台60の下方に配設されており、基台60を昇降させる。
第1造形ユニット22は、ステージ52の基台60に載置された基板(図3参照)70の上に配線を造形するユニットであり、第1印刷部72と、焼成部74とを有している。第1印刷部72は、インクジェットヘッド(図2参照)76を有しており、基台60に載置された基板70の上に、金属インクを線状に吐出する。金属インクは、金属の微粒子が溶剤中に分散されたものである。なお、インクジェットヘッド76は、例えば、圧電素子を用いたピエゾ方式によって複数のノズルから金属インクを吐出する。
焼成部74は、レーザ照射装置(図2参照)78を有している。レーザ照射装置78は、基板70の上に吐出された金属インクにレーザを照射する装置であり、レーザが照射された金属インクは焼成し、配線が形成される。なお、金属インクの焼成とは、エネルギーを付与することによって、溶媒の気化や金属微粒子保護膜の分解等が行われ、金属微粒子が接触または融着をすることで、導電率が高くなる現象である。そして、金属インクが焼成することで、金属製の配線が形成される。
また、第2造形ユニット24は、ステージ52の基台60に載置された基板70の上に樹脂層を造形するユニットであり、第2印刷部84と、吐出部85と、硬化部86とを有している。第2印刷部84は、インクジェットヘッド(図2参照)88を有しており、基台60に載置された基板70の上に紫外線硬化樹脂を吐出する。紫外線硬化樹脂は、紫外線の照射により硬化する樹脂である。なお、インクジェットヘッド88は、例えば、圧電素子を用いたピエゾ方式でもよく、樹脂を加熱して気泡を発生させ複数のノズルから吐出するサーマル方式でもよい。
吐出部85は、ディスペンスヘッド(図2参照)89を有しており、基台60に載置された基板70の上に導電性紫外線硬化樹脂を吐出する。導電性紫外線硬化樹脂は、紫外線の照射により硬化する樹脂に、金属微粒子が分散されたものである。そして、紫外線の照射により樹脂が硬化し、収縮することで、金属微粒子が密着し、導電性紫外線硬化樹脂が導電性を発揮する。なお、導電性紫外線硬化樹脂の粘度は、金属インクと比較して、比較的高いため、ディスペンスヘッド89は、インクジェットヘッド76のノズルの径より大きな径の1個のノズルから導電性紫外線硬化樹脂を吐出する。なお、ディスペンスヘッド89は、例えば、スタンプにてペースト転写する転写ヘッドでもよく、導電性紫外線硬化樹脂は、例えば、導電性熱硬化性樹脂でもよい。
硬化部86は、照射装置(図2参照)92を有している。照射装置92は、光源として水銀ランプもしくはLEDを備えており、吐出された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射する。これにより、吐出された紫外線硬化樹脂が硬化し、樹脂層が形成される。また、照射装置92は、吐出された導電性紫外線硬化樹脂に紫外線を照射する。これにより、導電性紫外線硬化樹脂が硬化し、配線が形成される。
また、装着ユニット25は、ステージ52の基台60に載置された基板70の上に電子部品(図4参照)96を装着するユニットであり、供給部100と、装着部102とを有している。供給部100は、テーピング化された電子部品96を1つずつ送り出すテープフィーダ(図2参照)110を複数有しており、供給位置において、電子部品96を供給する。なお、供給部100は、テープフィーダ110に限らず、トレイから電子部品96をピックアップして供給するトレイ型の供給装置でもよい。また、供給部100は、テープ型とトレイ型との両方、あるいはそれ以外の供給装置を備えた構成でもよい。
装着部102は、装着ヘッド(図2参照)112と、移動装置(図2参照)114とを有している。装着ヘッド112は、電子部品96を吸着保持するための吸着ノズル(図4参照)118を有する。吸着ノズル118は、正負圧供給装置(図示省略)から負圧が供給されることで、エアの吸引により電子部品96を吸着保持する。そして、正負圧供給装置から僅かな正圧が供給されることで、電子部品96を離脱する。また、移動装置114は、テープフィーダ110による電子部品96の供給位置と、基台60に載置された基板70との間で、装着ヘッド112を移動させる。これにより、装着部102では、テープフィーダ110から供給された電子部品96が、吸着ノズル118により保持され、その吸着ノズル118によって保持された電子部品96が、基板70に装着される。
また、除去ユニット26は、グラインダ(図2参照)119を有しており、紫外線の照射により形成された樹脂層の表面が、グラインダ119により研磨されることで、除去される。
また、制御装置27は、図2に示すように、コントローラ120と、複数の駆動回路122とを備えている。複数の駆動回路122は、上記電磁モータ38,56、保持装置62、昇降装置64、インクジェットヘッド76、レーザ照射装置78、インクジェットヘッド88、ディスペンスヘッド89、照射装置92、テープフィーダ110、装着ヘッド112、移動装置114、グラインダ119に接続されている。コントローラ120は、CPU,ROM,RAM等を備え、コンピュータを主体とするものであり、複数の駆動回路122に接続されている。これにより、搬送装置20、第1造形ユニット22、第2造形ユニット24、装着ユニット25、除去ユニット26の作動が、コントローラ120によって制御される。
回路形成装置10では、上述した構成によって、基板70上に電子部品96が装着され、配線が形成されることで、回路が形成されるが、従来の手法では、適切に回路を形成できない虞がある。具体的には、従来の手法において回路が形成される際に、ステージ52の基台60に基板70がセットされ、そのステージ52が、第2造形ユニット24の下方に移動される。そして、第2造形ユニット24において、図3に示すように、基板70の上に樹脂積層体130が形成される。樹脂積層体130は、電子部品96を装着するためのキャビティ132を有しており、インクジェットヘッド88からの紫外線硬化樹脂の吐出と、吐出された紫外線硬化樹脂への照射装置92による紫外線の照射とが繰り返されることにより形成される。
詳しくは、第2造形ユニット24の第2印刷部84において、インクジェットヘッド88が、基板70の上面に紫外線硬化樹脂を薄膜状に吐出する。この際、インクジェットヘッド88は、基板70の上面の所定の部分が概して矩形に露出するように、紫外線硬化樹脂を吐出する。続いて、紫外線硬化樹脂が薄膜状に吐出されると、硬化部86において、照射装置92が、その薄膜状の紫外線硬化樹脂に紫外線を照射する。これにより、基板70の上に薄膜状の樹脂層133が形成される。
続いて、インクジェットヘッド88が、その薄膜状の樹脂層133の上の部分にのみ紫外線硬化樹脂を薄膜状に吐出する。つまり、インクジェットヘッド88は、基板70の上面の所定の部分が概して矩形に露出するように、薄膜状の樹脂層133の上に紫外線硬化樹脂を薄膜状に吐出する。そして、照射装置92が、その薄膜状に吐出された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射することで、薄膜状の樹脂層133の上に薄膜状の樹脂層133が積層される。このように、基板70の上面の概して矩形の部分を除いた薄膜状の樹脂層133の上への紫外線硬化樹脂の吐出と、紫外線の照射とが繰り返され、複数の樹脂層133が積層されることで、キャビティ132を有する樹脂積層体130が形成される。
上述した手順により樹脂積層体130が形成されると、ステージ52が装着ユニット25の下方に移動される。装着ユニット25では、テープフィーダ110により電子部品96が供給され、その電子部品96が装着ヘッド112の吸着ノズル118によって、保持される。そして、装着ヘッド112が、移動装置114によって移動され、吸着ノズル118により保持された電子部品96が、図4に示すように、樹脂積層体130のキャビティ132の内部に載置される。この際、電子部品96は、電極162が上方を向いた状態でキャビティ132の内部に載置される。
電子部品96がキャビティ132の内部に装着されると、ステージ52が第2造形ユニット24の下方に移動され、図5に示すように、キャビティ132の隙間、つまり、キャビティ132を区画する内壁面と電子部品96との間に、樹脂積層体150が形成される。なお、樹脂積層体150は、樹脂積層体130と同様に、インクジェットヘッド88による紫外線硬化樹脂の吐出と、照射装置92による紫外線の照射とが繰り返されることで、形成される。
次に、キャビティ132の隙間に樹脂積層体150が形成されると、ステージ52は第1造形ユニット22の下方に移動される。そして、第1印刷部72において、インクジェットヘッド76によって、金属インクが樹脂積層体130,150の上に、回路パターンに応じて線状に吐出される。この際、図6に示すように、金属インク160は、電子部品96の電極162と、他の電極(図示省略)とを繋ぐように、線状に吐出される。続いて、焼成部74において、吐出された金属インク160に、レーザ照射装置78によってレーザが照射される。これにより、金属インク160が焼成し、電極間を繋ぐ配線166が形成される。
このように、従来の手法では、樹脂積層体130のキャビティ132に電子部品96が載置され、キャビティ132の隙間に樹脂積層体150が形成されることで、電子部品96が、電極162を露出された状態で、樹脂積層体130,150に埋め込まれる。そして、樹脂積層体130,150及び電子部品96の上面に、金属インク160が線状に吐出され、レーザ照射により焼成することで、電子部品96の電極162が配線166により電気的に接続される。
しかしながら、電子部品96の寸法公差,樹脂積層体130,150の表面の平坦度,樹脂積層体150の形成時の電極への濡れ上がり等により、配線166を適切に形成できない虞がある。具体的には、例えば、電子部品96の寸法が基準寸法より小さい場合に、図7に示すように、電子部品96の上面が樹脂積層体130の上面より下方に位置する。そして、キャビティ132の隙間に樹脂積層体150が形成されても、電子部品96の上面と樹脂積層体130の上面との高低差により、配線166が適切に形成されず、断線する虞がある。また、電子部品96の寸法が基準寸法より大きい場合は、図8に示すように、電子部品96の上面が樹脂積層体130の上面より上方に位置し、電子部品96の上面と樹脂積層体130の上面との高低差により、配線166が適切に形成されず、断線する虞がある。
また、樹脂積層体130,150の形成時に、樹脂積層体130,150の表面が均一な平坦面であれば、樹脂積層体130,150の表面に適切に配線166を形成することができるが、樹脂積層体130,150の表面に凹凸,うねり等が有ると、配線166が適切に形成されず、断線する虞がある。さらに言えば、キャビティ132の隙間に樹脂積層体150が形成される際に、キャビティ132の隙間に吐出された金属インクが電子部品96の上面に濡れ上がり、図9に示すように、電子部品96の電極162が樹脂積層体150により覆われる場合がある。このような場合には、電子部品96の電極162を電気的に接続する配線166を形成することができない。
このようなことに鑑みて、回路形成装置10では、グラインダ119の研磨により、樹脂積層体の表面が均一な平坦面とされ、その均一な平坦面の上に、電子部品96の電極162を電気的に接続する配線166が形成される。詳しくは、図7に示すように、電子部品96がキャビティ132の内部に装着されると、ステージ52が第2造形ユニット24の下方に移動される。そして、図10に示すように、電子部品96の電極162の上面に、ディスペンスヘッド89が導電性紫外線硬化樹脂170を吐出する。この際、導電性紫外線硬化樹脂170の高さ寸法が、少なくとも電子部品96の寸法公差の半分より大きくなるように、ディスペンスヘッド89は導電性紫外線硬化樹脂170を吐出する。これにより、寸法公差の最小の電子部品96であっても、導電性紫外線硬化樹脂170の上端が樹脂積層体130の上面より上方に突出する。そして、照射装置92によって、導電性紫外線硬化樹脂170に紫外線が照射されることで、導電性紫外線硬化樹脂170が導電性を発揮する。
電子部品96の電極162の上面に導電性紫外線硬化樹脂170が吐出され、紫外線が照射されると、図11に示すように、キャビティ132の隙間と、樹脂積層体130の上面と、電子部品96とを覆うように、樹脂積層体180が形成される。なお、樹脂積層体180は、樹脂積層体130と同様に、インクジェットヘッド88による紫外線硬化樹脂の吐出と、照射装置92による紫外線の照射とが繰り返されることで、形成される。この際、樹脂積層体180の樹脂積層体130の上面からの厚さ寸法が、少なくとも電子部品96の寸法公差の半分より大きくなるように、樹脂積層体180が形成される。これにより、寸法公差の最大の電子部品96であっても、電子部品96の上面が樹脂積層体180によって覆われる。
次に、樹脂積層体180が形成されると、ステージ52が除去ユニット26の下方に移動される。そして、図12に示すように、樹脂積層体180の表面が、グラインダ119によって、導電性紫外線硬化樹脂170が露出するように研磨され、均一な平坦面とされる。なお、樹脂積層体180の研磨量、つまり、研磨される厚さ寸法は、導電性紫外線硬化樹脂170の高さ寸法,樹脂積層体180の樹脂積層体130の上面からの厚さ寸法等に基づいて決定される。
続いて、樹脂積層体180の上面が研磨され、導電性紫外線硬化樹脂170が露出すると、ステージ52が第1造形ユニット22の下方に移動され、図13に示すように、樹脂積層体180の上面に、導電性紫外線硬化樹脂170に電気的に接続される配線186が形成される。つまり、金属インクが、導電性紫外線硬化樹脂170に接続されるように吐出され、金属インクへのレーザ照射により焼成する。これにより、樹脂積層体180の上面に配線186が形成され、電子部品96が、導電性紫外線硬化樹脂170と配線186とを介して、電気的に接続される。
このように、回路形成装置10では、樹脂積層体130のキャビティ132に載置された電子部品96の電極162の上面に、導電性紫外線硬化樹脂170が形成された後に、キャビティ132の隙間と、樹脂積層体130の上面と、電子部品96とを覆うように、樹脂積層体180が形成される。そして、導電性紫外線硬化樹脂170が露出するように樹脂積層体180の表面が研磨されると、その研磨された樹脂積層体180の表面に、導電性紫外線硬化樹脂170と電気的に接続される配線186が形成される。これにより、電子部品96の寸法公差,樹脂積層体130,150の表面の平坦度,樹脂積層体150の形成時の電極への濡れ上がり等に関わらず、研磨により均一な平坦面とされた樹脂積層体180の表面に、配線186を形成することが可能となり、適切な配線形成が担保される。
なお、制御装置27のコントローラ120は、図2に示すように、第1積層体形成部200と、部品載置部202と、導電部形成部203と、第2積層体形成部204と、研磨部206と、配線形成部208とを有している。第1積層体形成部200は、樹脂積層体130を形成するための機能部である。部品載置部202は、樹脂積層体130のキャビティ132に電子部品96を載置するための機能部である。導電部形成部203は、電子部品96の電極162の上面に導電性紫外線硬化樹脂170を塗布し、紫外線を照射することで、電極162と導電性紫外線硬化樹脂170とにより構成される導電部を形成するための機能部である。第2積層体形成部204は、キャビティ132の隙間と、樹脂積層体130の上面と、電子部品96とを覆うように、樹脂積層体180を形成するための機能部である。研磨部206は、導電性紫外線硬化樹脂170が露出するように、樹脂積層体180の表面を研磨するための機能部である。配線形成部208は、露出している導電性紫外線硬化樹脂170と電気的に接続される樹脂積層体180を形成するための機能部である。
また、上記実施例において、回路形成装置10は、回路形成装置の一例である。第1造形ユニット22は、配線形成装置の一例である。第2造形ユニット24は、樹脂積層体形成装置及び、被覆体形成装置の一例である。装着ユニット25は、載置装置の一例である。除去ユニット26は、除去装置の一例である。電子部品96は、電子部品の一例である。樹脂積層体130は、樹脂積層体の一例である。金属インク160は、金属含有液の一例である。電極162は、電極の一例である。導電性紫外線硬化樹脂170は、導電性ペーストの一例である。電極162と導電性紫外線硬化樹脂170とにより構成されるものは、導電部の一例である。樹脂積層体180は、被覆体の一例である。配線186は、配線の一例である。第1積層体形成部200により実行される工程は、樹脂積層体形成工程の一例である。部品載置部202により実行される工程は、載置工程の一例である。導電部形成部203により実行される工程は、導電部形成工程の一例である。第2積層体形成部204により実行される工程は、被覆体形成工程の一例である。研磨部206により実行される工程は、除去工程の一例である。配線形成部208により実行される工程は、配線形成工程の一例である。
なお、本発明は、上記実施例に限定されるものではなく、当業者の知識に基づいて種々の変更、改良を施した種々の態様で実施することが可能である。例えば、上記実施例では、電子部品96の電極162の上面に導電性紫外線硬化樹脂170が吐出されているが、導電性紫外線硬化樹脂170がなくても、配線の適切な形成を担保することが可能である。具体的には、例えば、バンプ等のように、電子部品の本体から突出する電極を備える電子部品であれば、導電性紫外線硬化樹脂170がなくても、電極が上方を向いた状態で電子部品がキャビティ132に載置されると、電極が上方に向かって突出する。そして、キャビティ132の隙間と、樹脂積層体130の上面と、電子部品とを覆うように、樹脂積層体180が形成されると、電極が露出するように、樹脂積層体180の表面が研磨される。これにより、均一な平坦面の上に、電子部品に電気的に接続される配線186を形成することができる。なお、この場合には、電極のみによって電子部品の導電部が構成される。
10:回路形成装置 22:第1造形ユニット(配線形成装置) 24:第2造形ユニット(樹脂積層体形成装置)(被覆体形成装置) 25:装着ユニット(載置装置) 26:除去ユニット(除去装置) 96:電子部品 130:樹脂積層体 160:金属インク(金属含有液) 162:電極(導電部) 170:導電性紫外線硬化樹脂(導電性ペースト)(導電部) 180:樹脂積層体(被覆体) 186:配線 200:第1積層体形成部(樹脂積層体形成部) 202:部品載置部(載置工程) 203:導電部形成部(導電部形成工程) 204:第2積層体形成部(被覆体形成工程) 206:研磨部(除去工程) 208:配線形成部(配線形成工程)

Claims (2)

  1. 薄膜状に吐出された硬化性樹脂を硬化させた樹脂層を、複数、積層することで、キャビティを有する樹脂積層体を形成する樹脂積層体形成工程と、
    前記樹脂積層体の前記キャビティに、電極が上方を向いた状態の電子部品を載置する載置工程と、
    前記キャビティに載置された前記電子部品の電極に導電性ペーストを、当該導電性ペーストの高さ寸法が少なくとも前記電子部品の寸法公差の半分より大きくなるように塗布することで、前記電極と前記導電性ペーストとにより構成される導電部を形成する導電部形成工程と、
    前記導電部が形成された後に、薄膜状に吐出された硬化性樹脂を硬化させた樹脂層を、複数、積層することで、前記キャビティに載置された前記電子部品を被覆する被覆体を形成する被覆体形成工程と、
    前記被覆体により被覆された前記電子部品の前記導電部が露出するように、前記被覆体の表面を除去する除去工程と、
    前記被覆体の表面の除去により露出した前記電子部品の前記導電部と電気的に接続される配線を、金属微粒子を含有する金属含有液を線状に吐出し、レーザ照射により前記金属含有液を焼成することで形成する配線形成工程と
    を含む回路形成方法。
  2. 薄膜状に吐出された硬化性樹脂を硬化させた樹脂層を、複数、積層することで、キャビティを有する樹脂積層体を形成する樹脂積層体形成装置と、
    前記樹脂積層体の前記キャビティに、電極が上方を向いた状態の電子部品を載置する載置装置と、
    前記キャビティに載置された前記電子部品の電極に導電性ペーストを、当該導電性ペーストの高さ寸法が少なくとも前記電子部品の寸法公差の半分より大きくなるように塗布することで、前記電極と前記導電性ペーストとにより構成される導電部を形成する導電部形成装置と、
    前記導電部が形成された後に、薄膜状に吐出された硬化性樹脂を硬化させた樹脂層を、複数、積層することで、前記キャビティに載置された前記電子部品を被覆する被覆体を形成する被覆体形成装置と、
    前記被覆体により被覆された前記電子部品の前記電極により構成される導電部が露出するように、前記被覆体の表面を除去する除去装置と、
    前記被覆体の表面の除去により露出した前記電子部品の前記導電部と電気的に接続される配線を、金属微粒子を含有する金属含有液を線状に吐出し、レーザ照射により前記金属含有液を焼成することで形成する配線形成装置と
    を備える回路形成装置。
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