JPWO2017183497A1 - 硬化性組成物、該組成物を用いる硬化膜およびオーバーコート膜 - Google Patents
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Abstract
[解決手段]本発明の硬化性組成物は、(成分A)式(A)で表される構造単位を少なくとも1つ有し、かつイミド結合およびアミド結合の少なくとも1方の結合を有する化合物、(成分B)硬化剤、および(成分C)有機溶媒を含有する。(成分A)が、(原料a)酸無水物基を有する3価および/または4価のポリカルボン酸誘導体、(原料b)式(2)で表されるポリオール、および(原料c)ポリイソシアネートを必須成分に用いて反応させて得られる化合物を含有する。
Description
(成分B)硬化剤、および
(成分C)有機溶媒
を含有することを特徴とする硬化性組成物。
[3](成分A)が、芳香環濃度が1.0〜6.0mmol/gである[1]または[2]に記載の硬化性組成物。
[4](成分A)が、(原料a)酸無水物基を有する3価及び/又は4価のポリカルボン酸誘導体、(原料b)下記一般式(1)、一般式(2)の少なくとも1方で表されるポリオール、(原料c)ポリイソシアネート、および(原料d)下記式(A2)及び/又は(A3)を原料に用いて反応させて得られる化合物を含有することを特徴とする[1]〜[3]のいずれかに記載の硬化性組成物。
即ち、[4]で規定される重合組成物は、その構造または特性をもって特定することが不可能であり、プロセス(製法)によって初めて特定することが可能となり、「出願時において当該物をその構造または特性により直接特定することが不可能またはおよそ非実際的である事情が存在すると考える。
[4'](成分A)が、(原料a)酸無水物基を有する3価及び/又は4価のポリカルボン酸誘導体、(原料b)下記一般式(1)、一般式(2)の少なくとも1方で表されるポリオール、(原料c)ポリイソシアネート、および(原料d)下記式(A2)及び/又は(A3)を原料からなる反応生成物を含有することを特徴とする[1]に記載の硬化性組成物。
[6](成分A)の酸価が10〜50mgKOH/gであることを特徴とする[1]〜[5]のいずれかに記載の硬化性組成物。
[7](成分B)が、1分子あたり2個以上のエポキシ基を有する化合物を含むことを特徴とする[1]〜[6]のいずれかに記載の硬化性組成物。
[8](成分C)が、エーテル系溶媒、エステル系溶媒、ケトン系溶媒、及び芳香族炭化水素系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも1種の有機溶媒であることを特徴とする[1]〜[7]のいずれかに記載の硬化性組成物。
[9]さらに、(成分D)無機微粒子および有機微粒子からなる群から選ばれる少なくとも1種の微粒子を含むことを特徴とする[1]〜[8]のいずれかに記載の硬化性組成物。
[10]成分(A)と成分(B)の合計量を100質量部としたとき、成分(B)を1〜55質量部含むことを特徴とする[1]〜[9]のいずれかに記載の硬化性組成物。
[11]成分(A)、成分(B)、成分(C)、および成分(D)の合計量(成分(D)を含まない場合は、成分(A)、成分(B)、および成分(C)の合計量)を100質量部としたとき、成分(C)を25〜75質量部含むことを特徴とする[1]〜[10]のいずれかに記載の硬化性組成物。
[13]前記[1]〜[11]のいずれかに記載の硬化性組成物をフレキシブル基板上に配線が形成されてなるフレキシブル配線板の、配線が形成されている表面の一部又は全部に塗布し硬化することによって得られるフレキシブル配線板用オーバーコート膜。
[14]フレキシブル基板上に配線が形成されてなるフレキシブル配線板の、配線が形成されている表面の一部又は全部が、前記[13]に記載のオーバーコート膜によって被覆されてなることを特徴とするフレキシブル配線板。
[15]配線が、錫メッキ銅配線であることを特徴とする[14]に記載のフレキシブル配線板。
[16]下記(工程1)および(工程3)と必要に応じて(工程2)とを含むことを特徴とする、オーバーコート膜によって被覆されたフレキシブル配線板の製造方法;
(工程1)
前記[1]〜[11]のいずれか1に記載の硬化性組成物を、フレキシブル配線板の配線パターン部の少なくとも一部に印刷することで該パターン上に印刷膜を形成する工程
(工程2)
工程1で得られた印刷膜を40〜100℃の雰囲気下におくことで印刷膜中の溶媒の一部または全量を蒸発させる工程
(工程3)
工程1で得られた印刷膜または工程2で得られた印刷膜を、100〜170℃で加熱することによって、硬化させ、オーバーコート膜を形成する工程。
[17]前記[12]に記載の硬化膜を有する電子部品。
なお、本明細書に記載の「(n+1)個のR1は、それぞれ独立に」という表現は、(n+1)個のR1は、すべて同じ構造であっても、一部が同じ構造であり、他の一部が異なる構造であっても、すべてが異なる構造であっても、いっこうに構わないことを意味する。また、本明細書に記載の「n個のR2は、それぞれ独立に」および「(m+1)個のR3は、それぞれ独立に」という表現も同様に、n個のR2および(m+1)個のR3、すべて同じ構造であっても、一部が同じ構造であり、他の一部が異なる構造であっても、すべてが異なる構造であっても、いっこうに構わないことを意味する。
硬化性組成物
本発明は、
(成分A)下記式(A)で表される構造単位を少なくとも1つ有し、かつイミド結合およびアミド結合の少なくとも1方の結合を有し、かつ硬化剤と反応する官能基を有する化合物、
(成分B)硬化剤、および
(成分C)有機溶媒
を含有することを特徴とする硬化性組成物である。
本発明の硬化性組成物の必須成分である(成分A)は、式(A)で表される構造単位を有し、かつイミド結合
(方法1)
(原料b)下記一般式(1)、一般式(2)の少なくとも1方で表されるポリオール
(原料c)ポリイソシアネートと(原料a)酸無水物基を有する3価および/または4価のポリカルボン酸誘導体とを反応させて、イミド結合およびアミド結合の少なくとも1方の結合を有し、末端にイソシアナト基を有するポリイソシアネートを得、これに、(原料b)前記一般式(1)、一般式(2)の少なくとも1方で表されるポリオール及び、(原料d)前記式(A2)及び/又は(A3)で表されるジオール化合物とを反応させる。
(原料c)ポリイソシアネートと(原料a)酸無水物基を有する3価および/または4価のポリカルボン酸誘導体とを反応させて、イミド結合およびアミド結合の少なくとも1方の結合を有しかつ末端に酸無水物基および/またはカルボキシル基を有する化合物を得、これに、(原料b)前記一般式(1)、一般式(2)の少なくとも1方で表されるポリオール及び(原料d)前記式(A2)及び/又は(A3)で表されるジオールを反応させる。
方法1の合成法では、まず、(原料b)前記一般式(1)、一般式(2)の少なくとも1方で表されるポリオール及び、(原料d) 前記式(A2)及び/又は式(A3)のジオール化合物を、(原料c)ポリイソシアネートと反応させて、ウレタン結合を有しかつ末端にイソシアナト基を有するポリイソシアネート化合物(以下「(A1−1)化合物」と記す。)を合成する。
式(1)中、(n+1)個のR1は、それぞれ独立に3〜36個の炭素を有するジオールから誘導される有機残基である。いいかえると、上記ジオールから誘導される有機残基とは、ジオールからヒドロキシ基が2個とれた2価の基である。
1,2−シクロペンタンジメタノール、1,3−シクロペンタンジメタノール及びビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5.2.1.0]デカン等の5員環ジオール、並びに、1,2−シクロヘキサンジオール、1,3−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジオール、1,2−シクロヘキサンジメタノール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、及び2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)−プロパン等の6員環ジオール等の脂環構造を有するジオール等を挙げることができる。R1はこれらのジオールから末端水酸基が外れた構造である。
1,2−シクロペンタンジメタノール、1,3−シクロペンタンジメタノール及びビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5.2.1.0]デカン等の5員環ジオール、並びに、1,2−シクロヘキサンジオール、1,3−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジオール、1,2−シクロヘキサンジメタノール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、及び2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)−プロパン等の6員環ジオール等の脂環構造を有するジオール等を挙げることができる。
(原料c)として、(原料b)および(原料d)と反応させるポリイソシアネートが使用される。(原料c)ポリイソシアネートとしては、イソシアナト基を2つ以上有する化合物であれば、特に制限はない。ポリイソシアネートの具体例としては、1,3−シクロヘキサンジイソシアネート、1,4−シクロヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、4,4'−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、1,3−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、ノルボルネンジイソシアネートおよびイソホロンジイソシアネートのビウレット体等の環状脂肪族ポリイソシアネート;
ジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート、3,2′−ジメチルジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート、3,3′−ジメチルジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート、4,2′−ジメチルジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート、4,3′−ジメチルジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート、5,2′−ジメチルジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート、5,3′−ジメチルジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート、6,2′−ジメチルジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート、6,3′−ジメチルジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート、3,2′−ジエチルジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート、3,3′−ジエチルジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート、4,2′−ジエチルジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート、4,3′−ジエチルジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート、5,2′−ジエチルジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート、5,3′−ジエチルジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート、6,2′−ジエチルジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート、6,3′−ジエチルジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート、3,2′−ジメトキシジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート、3,3′−ジメトキシジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート、4,2′−ジメトキシジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート、4,3′−ジメトキシジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート、5,2′−ジメトキシジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート、5,3′−ジメトキシジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート、6,2′−ジメトキシジフェニルメタン−2,4′−ジイ
ソシアネート、6,3′−ジメトキシジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート、4,4'−ジフェニルメタンジイソシアネート、ジフェニルメタン−3,3′−ジイソシアネート、ジフェニルメタン−3,4′−ジイソシアネート、ジフェニルエーテル−4,4′−ジイソシアネート、ベンゾフェノン−4,4′−ジイソシアネート、ジフェニルスルホン−4,4′−ジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、m−キシリレンジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、4,4′−[2,2ビス(4−フェノキシフェニル)プロパン]ジイソシアネート等の芳香環を有するポリイソシアネート;
ヘキサメチレンジイソシアネートのビウレット体、リシントリイソシアネート、リシンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートおよび2,2,4−トリメチルヘキサンメチレンジイソシアネート鎖状脂肪族ポリイソシアネート;イソホロンジイソシアネートのイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体等の複素環を有するポリイソシアネート等を挙げることができ、これらを単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
酸無水物基を有する3価のポリカルボン酸誘導体としては、コスト面等から、無水トリメリット酸が特に好ましい。
酸無水物基を有する4価のポリカルボン酸誘導体についても特に限定されないが、例えば、下記一般式(5)で表されるテトラカルボン酸二無水物を挙げることができる。これらは、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
末端にイソシアナト基を有する(A'−1)化合物と、(原料a)との混合比率は、最終的に生成する化合物が、ウレタン結合と、アミド結合および/またはイミド結合を有する範囲であれば特に制限されない。
(方法2)の合成法では、先ず、(原料c)ポリイソシアネートと(原料a)酸無水物基を有する3価および/または4価のポリカルボン酸誘導体酸とを反応させて、イミド結合およびアミド結合の少なくとも1方の結合を有するポリイソシアネート(以下、「(A2−1)」化合物と記す。)を合成する。これに、(原料b)前記一般式(1)、一般式(2)の少なくとも1方で表されるポリオール及び(原料d)前記式(A2)及び/又は(A3)で表されるジオール化合物を、反応させる。
(方法3)の合成法では、先ず、(原料c)ポリイソシアネートと(原料a)酸無水物基を有する3価および/または4価のポリカルボン酸誘導体酸とを反応させて、イミド結合およびアミド結合の少なくとも1方の結合を有しかつ末端に酸無水物基および/またはカルボキシル基を有する化合物(以下、「(A3−1)化合物」と記す。)を合成する。
上記非含窒素系極性溶媒は、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル及びトリエチレングリコールジエチルエーテル等のエーテル系溶媒;ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド、ジメチルスルホン及びスルホラン等の含硫黄系溶媒;γ−ブチロラクトン及び酢酸セロソルブ等のエステル系溶媒;シクロヘキサノン及びメチルエチルケトン等のケトン系溶媒;並びに、トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素系溶媒から選ばれる。これらは1種類を単独で又は2種類以上組み合わせて使用することができる。
(a)数平均分子量(Mn)
Mn=Σ(NiMi)/ΣNi=ΣXiMi
(Xi=分子量Miの分子のモル分率=Ni/ΣNi)
(b)質量平均分子量(Mw)
Mw=Σ(NiMi 2)/ΣNiMi=ΣWiMi
(Wi=分子量Miの分子の質量分率=NiMi/ΣNiMi)
(c)分子量分布(分散度)
分散度=Mw/Mn
ある。
装置名:日本分光株式会社製HPLCユニット HSS−2000
カラム:Shodex(登録商標)カラムLF−804×3本(直列)
移動相:テトラヒドロフラン
流速:1.0mL/min
検出器:日本分光株式会社製RI−2031Plus
温度:40.0℃
試料量:サンプルループ 100μリットル
試料濃度:0.1質量%前後に調整。
A=10×Vf×56.1/(Wp×I)・・・・・式(α)
により酸価を算出する。式(α)中、Aは酸価(mgKOH/g)を示し、Vfは0.1NのKOH溶液の滴定量(mL)を示し、Wpは(成分A)を含む溶液の質量(g)を示し、Iは(成分A)を含む溶液の不揮発分の割合(質量%)を示す。
本実施形態に係る硬化性組成物は、前記(成分A)を硬化させることのできる硬化剤を更に含有する。硬化剤としては、成分(A)の官能基と反応しうる官能基を1分子中に2個以上有する化合物である。成分(A)が、カルボキシル基、水酸基、酸無水物基、イソシアナト基、アミド基、アミノ基のいずれかを有するとき、成分(B)の硬化剤はそれらの官能基と反応するエポキシ基、イソシアナト基、水酸基、カルボキシル基を複数個有することが好ましい。
後述の本発明の硬化膜の長期電気絶縁性能を重視する場合には、1分子中に2個以上のエポキシ基を有しかつ芳香環構造および/または脂環構造を有する化合物の中で、ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテル(即ち、トリシクロ[5,2,1,02,6]デカン構造および芳香環構造を有しかつ2個以上のエポキシ基を有する化合物)、1,3−ビス(1−アダマンチル)−4,6−ビス(グリシジロイル)ベンゼン、1−[2′,4′−ビス(グリシジロイル)フェニル]アダマンタン、1,3−ビス(4′−グリシジロイルフェニル)アダマンタンおよび1,3−ビス[2′,4′−ビス(グリシジロイル)フェニル]アダマンタン等のアダマンタン構造を有するエポキシ樹脂(即ち、トリシクロ[3,3,1,13,7]デカン構造および芳香環構造を有しかつ2個以上のエポキシ基を有する化合物)等のトリシクロデカン構造および芳香環構造を有しかつ2個以上のエポキシ基を有する化合物が吸水率の低い硬化物を提供できるので好ましく、特に好ましくは、下記式(6)に記載の化合物である。
成分Cとして用いられる有機溶媒としては、(成分A)、および(成分B)を溶解できる溶剤であれば、特に制限はないが、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコ−ルジメチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メトキシプロピオン酸メチル、メトキシプロピオン酸エチル、エトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル、γ−ブチロラクトン等のエステル系溶媒、デカヒドロナフタリン等の炭化水素系溶媒、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒を挙げることができ、これらの溶媒を単独で用いても、2種類以上を併用しても良い。
また、本発明の硬化性組成物は、(成分D)として無機微粒子および有機微粒子からなる群から選ばれる少なくとも1種の微粒子を含むことが好ましい。
本発明の硬化性組成物に使用されるシリカ微粒子は、粉末状で物理的に被覆或いは有機化合物で化学的に表面処理されたな微粒子も含むものと定義する。
これらのアエロジルに代表されるシリカ微粒子は、スクリーン印刷時の印刷性を付与するために使用されることもあり、その場合にはチクソ性の付与を目的として使用される。
これらの無機微粒子および/または有機微粒子の平均粒子径は、好ましくは0.01〜10μm、さらに好ましくは0.1〜5μmである。
本発明の硬化性組成物において、(成分D)を分散させる方法としては、通常、塗料分野で行われているロール練り、ミキサー混合等が適用され、十分な分散が行われる方法であればよい。
さらに、本発明の硬化性組成物は、印刷の際の泡の発生を消す或いは抑制する目的で、消泡剤を含むことができ、かつ含むことが好ましい。
さらに、本発明の硬化性組成物は、硬化促進剤を含むことができ、かつ含むことが好ましい。硬化促進剤としては、エポキシ基とカルボキシル基の反応を促進する化合物であれば特に限定されるものではなく、例えば、メラミン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン、2,4−ジアミノ−6−メタクリロイルオキシエチル−S−トリアジン、2,4−メタクリロイルオキシエチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−ビニル−s−トリアジン、2,4−ジアミノー6−ビニル−s−トリアジン・イソシアヌル酸付加物等のトリアジン系化合物、イミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、1−ベンジルー2−メチルイミダゾール、2−フェニルー4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−アミノエチルー2−エチルー4−メチルイミダゾール、1−アミノエチル−2−メチルイミダゾール、1−(シアノエチルアミノエチル)−2−メチルイミダゾール、N−[2−(2−メチルー1−イミダゾリル)エチル]尿素、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾリウムトリメリテート、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテート、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾリウムトリメリテート、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテート、2,4−ジアミノ−6−[2′−メチルイミダゾリル−(1′)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2′−ウンデシルイミダゾリル−(1′)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2′−エチル−4′−メチルイミダゾリル−(1′)]−エチル−s−トリアジン、1−ドデシル−2−メチル−3−ベンジルイミダゾリウムクロライド、N,N′−ビス(2−メチル−1−イミダゾリルエチル)尿素、N,N′−ビス(2−メチル−1−イミダゾリルエチル)アジポアミド、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4.5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−メチルイミダゾール・イソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾール・イソシアヌル酸付加物、2,4−ジアミノ−6−[2′−メチルイミダゾリル−(1′)]−エチル−s−トリアジン・イソシアヌル酸付加物、2−メチルー4−フォルミルイミダゾール、2−エチルー4−メチルー5−フォルミルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルフォルミルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、1−(2−ヒドロキシエチル)イミダゾール、ビニルイミダゾール、1−メチルイミダゾール、1−アリルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−ブチルイミダゾール、2−ブチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンズイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール臭化水素塩、1−ドデシル−2−メチル−3−ベンジルイミダゾリウムクロライド等のイミダゾール化合物、1,5−ジアザビシクロ(4.3.0)ノネン−5およびその塩、1,8−ジアザビシクロ(5.4.0)ウンデセン−7およびその塩等のジアザビシクロアルケンなどのシクロアミジン化合物およびシクロアミジン化合物の誘導体、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等のアミン系化合物、トリフェニルホスフィン、ジフェニル(p−トリル)ホスフィン、トリス(アルキルフェニル)ホスフィン、トリス(アルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(アルキル・アルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(ジアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(トリアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(テトラアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(ジアルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(トリアルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(テトラアルコキシフェニル)ホスフィン、トリアルキルホスフィン、ジアルキルアリールホスフィン、アルキルジアリールホスフィン等のホスフィン系化合物、ジシアンジアジド等を挙げることができる。
これらの硬化促進剤の中で、硬化促進作用および電気絶縁性能を両立させることを考慮すると、好ましいものとしては、メラミン、イミダゾール化合物、シクロアミジン化合物、シクロアミジン化合物の誘導体、ホスフィン系化合物およびアミン系化合物であり、さらに好ましくは、メラミン、1,5−ジアザビシクロ(4.3.0)ノネン−5およびその塩、1,8−ジアザビシクロ(5.4.0)ウンデセン−7およびその塩である。
本発明の硬化膜は、本発明の硬化性組成物を硬化することで得ることができる硬化物を含む。また本発明の電子部品は上記硬化膜を有する。
さらに、本発明のフレキシブル配線板の製造方法は、下記の工程1'および工程2'を含む、オーバーコート膜によって被覆されたフレキシブル配線板の製造方法である。
(工程2')工程1'で得られた印刷膜、工程1'で得られた印刷膜を40〜100℃の雰囲気下におくことで印刷膜中の溶媒の一部を蒸発させた一部の溶媒が除去された印刷膜、または工程1'で得られた印刷膜を40〜100℃の雰囲気下におくことで印刷膜中の溶媒の全量を蒸発させた全量の溶媒が除去された印刷膜を、100〜170℃で加熱することによって硬化させ、オーバーコート膜を形成する工程。
(工程1)
本発明の硬化性組成物を、フレキシブル配線板の配線パターン部の少なくとも一部に印刷することで該パターン上に印刷膜を形成する工程
(工程2)
工程1で得られた印刷膜を40〜100℃の雰囲気下におくことで印刷膜中の溶媒の一部または全量を蒸発させる工程
(工程3)
工程1で得られた印刷膜または工程2で得られた印刷膜を、100〜170℃で加熱することによって、硬化させ、オーバーコート膜を形成する工程。
<酸価の測定>
本発明に使用する(成分A)を含む溶液を以下の方法によって酸価を測定し、式(α)を用いて、(成分A)の酸価を求めた。ただし、前記溶液に用いた溶媒には、酸価が「0」のものを用いる。
A=10×Vf×56.1/(Wp×I)・・・・・式(α)
により酸価を算出する。式(α)中、Aは酸価(mgKOH/g)を示し、Vfは0.1NのKOH溶液の滴定量(mL)を示し、Wpは(成分A)を含む溶液の質量(g)を示し、Iは(成分A)を含む溶液の成分(A)の割合(質量%)を示す。
JIS K0070に準拠して水酸基価を測定した。
<数平均分子量の測定>
数平均分子量はGPCで測定したポリスチレン換算の数平均分子量であり、GPCの測定条件は以下のとおりである。
装置名:日本分光株式会社製HPLCユニット HSS−2000
カラム:Shodex(登録商標)カラムLF−804×3本(直列)
移動相:テトラヒドロフラン
流速:1.0mL/min
検出器:日本分光株式会社製RI−2031Plus
温度:40.0℃
試料量:サンプルループ 100μリットル
試料濃度:0.1質量%前後に調整。
硬化性組成物のチクソトロピー指数を以下の方法により測定した。
硬化性組成物約0.8gを使用して、コーン/プレート型粘度計(Brookfield社製 型式;DV−II+Pro スピンドルの型番;CPE−52)を用いて、温度25.0℃、回転数10rpmの条件で測定開始から7分経過後の粘度を測定した。その後、温度25.0℃、回転数1rpmの条件で測定開始から7分経過後の粘度を測定した。
なお、チクソトロピー指数は以下の計算により求めた。
チクソトロピー指数の求め方:
チクソトロピー指数=[1rpmの粘度]÷[10rpmの粘度]
(参考合成例1) <ポリエステルジオール(α)>
攪拌装置、温度計および蒸留装置付きコンデンサーを備えた反応容器に、無水フタル酸1684.6g(11.56mol)、1,6−ヘキサンジオール1484.5g(12.55mol)を添加して、オイルバスを用いて反応容器の内温を140℃に昇温して、4時間撹拌を継続した。その後、撹拌を継続しながら、モノ−n−ブチル錫オキサイド2.96gを添加して、徐々に反応容器の内温を昇温して、真空ポンプを接続して、少しずつ反応容器内の圧力を減圧していき、水を反応容器外に減圧蒸留により除去していった。最終的には、内温を220℃まで昇温し、圧力を133.32Paまで減圧した。15時間経過して水が完全に留去しなくなったのを確認して反応を終了した。得られたポリエステルポリオール(以下、ポリエステルジオール(α)と記す。)は、前述の式(1)の構造を持ち、n=1〜20であった。その水酸基価を測定したところ、水酸基価は35.4mg−KOH/gであった。
(合成例1) <А−1溶液>
攪拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を装備した四つ口フラスコに、テトラカルボン酸二無水物として、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)270.7質量部と、溶剤としてγ−ブチロラクトン964.4質量部を加え、120℃にて撹拌、溶解した。そこへ、ジイソシアネート化合物として4,4'−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)142.6質量部を添加・撹拌し、ここに触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)0.1質量部を添加し、窒素気流下、120℃で3時間反応させた。その後、室温まで冷却することで固形分濃度30質量%の末端酸無水物基含有イミドプレポリマーを得た。
攪拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を装備した四つ口フラスコに、テトラカルボン酸二無水物として、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)270.7質量部と、溶剤としてγ−ブチロラクトン964.4質量部を加え、120℃にて撹拌、溶解した。そこへ、ジイソシアネート化合物として4,4'−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)142.6質量部を添加・撹拌し、ここに触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)0.1質量部を添加し、窒素気流下、120℃で3時間反応させた。その後、室温まで冷却することで固形分濃度30質量%の末端酸無水物基含有イミドプレポリマーを得た。
(※ 前述の式(1)の構造をもつポリエステルポリオールで、nの平均は12.0〜12.1)
攪拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を装備した四つ口フラスコに、テトラカルボン酸二無水物として、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)270.7質量部と、溶剤としてγ−ブチロラクトン863.2質量部を加え、120℃にて撹拌、溶解した。そこへ、ジイソシアネート化合物として2,4−トリレンジイソシアネートと2,6−トリレンジイソシアネートとの質量比80:20の混合物であるコスモネートT−80(三井化学ポリウレタン株式会社製)(TDI)99.3質量部を添加・撹拌し、ここに触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)0.1質量部を添加し、窒素気流下、120℃で3時間反応させた。その後、室温まで冷却することで固形分濃度30質量%の末端酸無水物基含有イミドプレポリマーを得た。
攪拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を装備した四つ口フラスコに、テトラカルボン酸二無水物として、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)270.7質量部と、溶剤としてγ−ブチロラクトン863.2質量部を加え、120℃にて撹拌、溶解した。そこへ、ジイソシアネート化合物として2,4−トリレンジイソシアネートと2,6−トリレンジイソシアネートとの質量比80:20の混合物であるコスモネートT−80(三井化学ポリウレタン株式会社製)(TDI)99.3質量部を添加・撹拌し、ここに触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)0.1質量部を添加し、窒素気流下、120℃で3時間反応させた。その後、室温まで冷却することで固形分濃度30質量%の末端酸無水物基含有イミドプレポリマーを得た。
攪拌装置、温度計、コンデンサーを備えた反応容器にポリエステルジオール(α)を567.4g(0.1mol)と9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレン(大阪ガスケミカル製、商品名:BPEF)34.65g(0.08mol)を入れ、4,4'−ジフェニルメタンジイソシアネートであるMILLIONATE MT(日本ポリウレタン工業株式会社製)53.65g(0.214mol)、及び、2,4−トリレンジイソシアネートと2,6−トリレンジイソシアネートとの質量比80:20の混合物であるコスモネートT−80(三井化学ポリウレタン株式会社製)24.89g(0.143mol)と、γ−ブチロラクトン1021gとを仕込み、150℃ですべての原料を溶解させ、ここに触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)0.1質量部を添加し、4時間反応させて、ウレタン結合を有するポリイソシアネートを生成させた。
得られた化合物(A−5)の数平均分子量は10500、分散度は3.1、固形分の酸価は24mgKOH/gであった、芳香環濃度は、4.7mmol/gであった。
攪拌装置、温度計、コンデンサーを備えた反応容器に3−メチル−1,5−ペンタンジオール:イソフタル酸のポリエステルポリオール(クラレ社製 商品名:クラレポリオールP−3030)567.4g(0.1mol)と9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレン(大阪ガスケミカル製、商品名:BPEF)34.65g(0.08mol)を入れ、4,4'−ジフェニルメタンジイソシアネートであるMILLIONATE MT(日本ポリウレタン工業株式会社製)53.65g(0.214mol)、及び、2,4−トリレンジイソシアネートと2,6−トリレンジイソシアネートとの質量比80:20の混合物であるコスモネートT−80(三井化学ポリウレタン株式会社製)24.89g(0.143mol)と、γ−ブチロラクトン1021gとを仕込み、150℃ですべての原料を溶解させ、ここに触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)0.1質量部を添加し、4時間反応させて、ウレタン結合を有するポリイソシアネートを生成させた。
得られた化合物(A−6)の数平均分子量は10500、分散度は3.1、固形分の酸価は24mgKOH/g、芳香環濃度は、4.7mmol/gであった。
攪拌装置、温度計、コンデンサーを備えた反応容器に、ポリエステルジオール(α)369.85g(0.117mol)と9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレン(大阪ガスケミカル製、商品名:BPEF)25.58g(0.058mok)、4,4'−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートであるデスモジュール−W(住化バイエルウレタン株式会社製)91.70g(0.350mol)と、溶媒であるγ−ブチロラクトン(三菱化学株式会社製)730.6gとを仕込み、150℃ですべての原料を溶解させ、ここに触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)0.1質量部を添加し、4時間反応させて、ウレタン結合を有するポリイソシアネートを生成させた。
攪拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を装備した四つ口フラスコに、テトラカルボン酸二無水物として、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)270.7質量部と、溶剤としてγ−ブチロラクトン964.4質量部を加え、120℃にて撹拌、溶解した。そこへ、ジイソシアネート化合物として4,4'−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)142.6質量部を添加・撹拌し、ここに触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)0.1質量部を添加し、窒素気流下、120℃で3時間反応させた。その後、室温まで冷却することで固形分濃度30質量%の末端酸無水物基含有イミドプレポリマーを得た。
(※ 前述の式(1)の構造をもつポリエステルポリオールで、nの平均は12.0〜12.1)
攪拌装置、温度計、コンデンサーを備えた反応容器に3−メチル−1,5−ペンタンジオール:1,6−ヘキサンジオールのポリカーボネートポリオール(クラレ社製 商品名:クラレポリオールC−3090)567.4g(0.1mol)と9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレン(大阪ガスケミカル製、商品名:BPEF)34.65g(0.08mol)を入れ、4,4'−ジフェニルメタンジイソシアネートであるMILLIONATE MT(日本ポリウレタン工業株式会社製)53.65g(0.214mol)、及び、2,4−トリレンジイソシアネートと2,6−トリレンジイソシアネートとの質量比80:20の混合物であるコスモネートT−80(三井化学ポリウレタン株式会社製)24.89g(0.143mol)と、γ−ブチロラクトン1021gとを仕込み、150℃ですべての原料を溶解させ、ここに触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)0.1質量部を添加し、4時間反応させて、ウレタン結合を有するポリイソシアネートを生成させた。
得られた化合物(A−9)の数平均分子量は10500、分散度は3.1、固形分の酸価は24mgKOH/g、芳香環濃度は、1.8mmol/gであった。
攪拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を装備した四つ口フラスコに、テトラカルボン酸二無水物として、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸無水物(製品名:リカシッドBT−100、新日本理化製)166.4質量部と、溶剤としてγ−ブチロラクトン398.4質量部を加え、120℃にて撹拌、溶解した。そこへ、ジイソシアネート化合物として2,4−トリレンジイソシアネートと2,6−トリレンジイソシアネートとの質量比80:20の混合物であるコスモネートT−80(三井化学ポリウレタン株式会社製)99.18質量部を添加・撹拌し、ここに触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)0.1質量部を添加し、窒素気流下、120℃で3時間反応させた。その後、室温まで冷却することで固形分濃度40質量%の末端酸無水物基含有イミドプレポリマーを得た。
攪拌装置、温度計、コンデンサーを備えた反応容器に、3−メチル−1,5−ペンタンジオール:1、6−ヘキサンジオールのポリカーボネートポリオール(クラレ社製 商品名:クラレポリオールC−3090)567.4g(0.179mol)を入れ、4,4'−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートであるデスモジュール−W(住化バイエルウレタン株式会社製)56.07g(0.214mol)、及び、1,3−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン(商品名:タケネート600、三井化学ポリウレタン株式会社製)27.77g(0.143mol)と、γ−ブチロラクトン976.9gとを仕込み、150℃ですべての原料を溶解させ、ここに触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)0.1質量部を添加し、4時間反応させて、ウレタン結合を有するポリイソシアネートを生成させた。
得られた化合物(CA−2)の数平均分子量は12200、分散度は3.1、固形分の酸価は14mgKOH/g、芳香環濃度は、0.6mmol/gであった。
攪拌装置、温度計、コンデンサーを備えた反応容器に、1,4−シクロヘキサンジメタノールに由来する構成単位と1,6−ヘキササンジオールに由来する構成単位とを3:1のモル比で含んでいるポリカーボネートジオール(UM―CARB90(3/1)、宇部興産株式会社製、平均分子量:約900)156.98g(0.175mol)と、4,4'−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートであるデスモジュール−W(住化バイエルウレタン株式会社製)91.70g(0.350mol)と、溶媒であるγ−ブチロラクトン(三菱化学株式会社製)165.80gとを仕込み、150℃ですべての原料を溶解させ、ここに触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)0.1質量部を添加し、4時間反応させて、ウレタン結合を有するポリイソシアネートを生成させた。
(主剤配合物1)
化合物(A−1)を160.0質量部、シリカ粉(日本アエロジル株式会社製,商品名:アエロジルR−974)6.3質量部、硬化促進剤としてメラミン(日産化学工業株式会社製)0.72質量部およびジエチレングリコールジエチルエーテル8.4質量部を混合し、三本ロールミル(株式会社井上製作所製,型式:S−4 3/4×11)を用いて、化合物(A−1)へのシリカ粉、硬化促進剤の混合を行った。その後、消泡剤(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製,商品名:TSA750S)2.0質量部を添加して、スパチュラを用いて混合した。この配合物を主剤配合物C1とした。
主剤配合物1と同様の方法によって、表1に示す配合組成に従って配合した。それぞれ主剤配合物2〜9、比較主剤配合物比1〜比3とした。
尚、表中の数値は「質量部」を表す。
(硬化剤溶液の配合例1) <B−1溶液>
撹拌機、温度計およびコンデンサーを備えた容器に、下記式(7)の構造を有するエポキシ樹脂(三菱化学社製,グレード名:JER604,エポキシ当量120g/eqv)16.85質量部、ジエチレングリコールジエチルエーテル18.25質量部を添加し、撹拌を開始した。
撹拌機、温度計およびコンデンサーを備えた容器に、N,N− ジグリシジル−4−(グリシジルオキシ)アニリンを主成分とするエポキシ樹脂(三菱化学株式会社製,グレード名:JER630,エポキシ当量98g/eqv)16.85質量部、ジエチレングリコールジエチルエーテル18.25質量部を添加し、撹拌を開始した。
(硬化性組成物の実施例1)
主剤配合物C1を88.71質量部と硬化剤溶液B−1を3.51質量部とをプラスチック容器に入れた。さらに、後述する他の配合例、比較配合例の硬化性組成物と粘度を合わせるために、溶媒としてジエチレングリコールジエチルエーテル3.0質量部およびジエチレングリコールエチルエーテルアセテート1.5質量部を添加した。混合は、スパーテルを用い、室温で5分間攪拌することで行い、硬化性組成物(以下、「硬化性組成物F1」と記す。)を得た。
硬化性組成物の実施例1と同様の方法によって、表1に示す配合組成に従って配合した。実施例2〜9で調製した配合物を、それぞれ主剤配合物F2〜F10、硬化性組成物の比較例1〜3で調製した配合物を、それぞれ比較主剤配合物G1〜G3とした。ここで、硬化性組成物F8、G3においては、さらに(成分B)に相当するBaxenden社製ブロックイソシアネート「7950」も配合した。尚、表中の数値は「質量部」を表す。
硬化性組成物F1〜F10、硬化性組成物G1〜G3を用いて、以下に説明する方法により、可撓性、断線抑制性、反り性の評価および長期電気絶縁信頼性の評価を行った。その結果を表4に記す。
フレキシブル銅張り積層板(住友金属鉱山株式会社製,グレード名:エスパーフレックス,銅厚:8μm、ポリイミド厚:38μm)の銅上に、幅75mm、長さ110mmの大きさ、硬化後の塗膜の厚み15μmになるように硬化性組成物F1を、スクリーン印刷により塗布し、10分間室温で保持し、120℃の熱風循環式乾燥機に60分間入れることにより硬化させた。作製した試験片の裏打ちの保護PETフィルムを剥離し、幅10mmの短冊状にカッターナイフで切り出した後、塗膜面が外側になる様に約180度折り曲げ、圧縮機を用いて0.5±0.2MPaで3秒間圧縮した。屈曲部を曲げた状態で30倍の顕微鏡で観察し、クラックの発生の有無を確認した。結果を表4に記す。
また、硬化性組成物F2〜F10、硬化性組成物G1〜G3を用いて、同様の評価を行った。それらの結果もあわせて表4に記す。
フレキシブル銅張り積層板(住友金属鉱山株式会社製,グレード名:エスパーフレックスUS,銅厚:8μm、ポリイミド厚:38μm)をエッチングして製造した、JPCA−ET01に記載の微細くし形パターン形状の基板(銅配線幅/銅配線間幅=15μm/15μm)に錫メッキ処理を施したフレキシブル配線板に、硬化性組成物F1を、スクリーン印刷法により、塗膜のポリイミド面からの厚みが10μmの厚さ(乾燥後)になるように塗布した。得られた塗膜形成配線板を、80℃の熱風循環式乾燥機に30分間入れ、その後、120℃の熱風循環式乾燥機に120分間入れることにより前記塗膜を硬化させた。
この試験片を用いて、JIS C−5016に記載のやり方で下記の試験条件で実施した。
試験機:テスター産業株式会社製 MITテスターBE202
折り曲げ速度:10回/分
荷重:200g
折り曲げ角度:±90°
つかみ具先端部の半径:0.5mm
上記試験条件で10回ずつ折り曲げ回数を増やしていき、目視にて配線のクラックの有無を観察し、クラックが発生したときの折り曲げ回数を記録した。結果を表4に記す。
また、硬化性組成物F2〜F10、硬化性組成物G1〜G3を用いて、同様の評価を行った。それらの結果についてもあわせて表4に記す。
硬化性組成物F1を、#180メッシュポリエステル版で、基板にスクリーン印刷により塗布し、該基板を80℃の熱風循環式乾燥機に30分間入れた。その後、前記基板を120℃の熱風循環式乾燥機に60分間入れることにより、塗布した硬化性組成物F1を硬化させた。前記基板としては、25μm厚ポリイミドフィルム〔カプトン(登録商標)100EN、東レ・デュポン株式会社製〕を用いた。
また、硬化性組成物F2〜F10、硬化性組成物G1〜G3を用いて、同様の評価を行った。それらの結果もあわせて表4に記す。
フレキシブル銅張り積層板(住友金属鉱山株式会社製,グレード名:エスパーフレックスUS,銅厚:8μm,ポリイミド厚:38μm)をエッチングして製造した、JPCA−ET01に記載の微細くし形パターン形状の基板(銅配線幅/銅配線間幅=15μm/15μm)に錫メッキ処理を施したフレキシブル配線板に、硬化性組成物F1を、スクリーン印刷法により、ポリイミド面からの厚みが15μmの厚さ(乾燥後)になるように塗布した。前記フレキシブル配線板を80℃の熱風循環式乾燥機に30分間入れ、その後、120℃の熱風循環式乾燥機に120分間入れることにより、塗布した硬化性組成物F1を硬化させた。
Claims (17)
- 前記硬化剤と反応する官能基が、カルボキシル基、水酸基、酸無水物基、イソシアナト基、アミド基、アミノ基の少なくとも1種であることを特徴とする請求項1に記載の硬化性組成物。
- (成分A)が、芳香環濃度が1.0〜6.0mmol/gである請求項1または2に記載の硬化性組成物。
- (成分A)が、(原料a)酸無水物基を有する3価及び/又は4価のポリカルボン酸誘導体、(原料b)下記一般式(1)、一般式(2)の少なくとも1方で表されるポリオール、(原料c)ポリイソシアネート、および(原料d)下記式(A2)及び/又は(A3)を原料に用いて反応させて得られる化合物を含有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の硬化性組成物。
- (成分A)が、前記式(A)で示される構造単位を有し、かつイミド結合およびアミド結合の少なくとも1方の結合を有し、さらにウレタン結合を有する化合物であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の硬化性組成物。
- (成分A)の酸価が10〜50mgKOH/gであることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の硬化性組成物。
- (成分B)が、1分子あたり2個以上のエポキシ基を有する化合物を含むことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の硬化性組成物。
- (成分C)が、エーテル系溶媒、エステル系溶媒、ケトン系溶媒、及び芳香族炭化水素系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも1種の有機溶媒であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の硬化性組成物。
- さらに、(成分D)無機微粒子および有機微粒子からなる群から選ばれる少なくとも1種の微粒子を含むことを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の硬化性組成物。
- 成分(A)と成分(B)の合計量を100質量部としたとき、成分(B)を1〜55質量部含むことを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の硬化性組成物。
- 成分(A)、成分(B)、成分(C)、および成分(D)の合計量(成分(D)を含まない場合は、成分(A)、成分(B)、および成分(C)の合計量)を100質量部としたとき、成分(C)を25〜75質量部含むことを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載の硬化性組成物。
- 請求項1〜11のいずれか1項に記載の硬化性組成物の硬化物を含む硬化膜。
- 請求項1〜11のいずれか1項に記載の硬化性組成物をフレキシブル基板上に配線が形成されてなるフレキシブル配線板の、配線が形成されている表面の一部又は全部に塗布し硬化することによって得られるフレキシブル配線板用オーバーコート膜。
- フレキシブル基板上に配線が形成されてなるフレキシブル配線板の、配線が形成されている表面の一部又は全部が、請求項13に記載のオーバーコート膜によって被覆されていることを特徴とするフレキシブル配線板。
- 配線が、錫メッキ銅配線であることを特徴とする請求項14に記載のフレキシブル配線板。
- 下記(工程1)および(工程3)と必要に応じて(工程2)とを含むことを特徴とする、オーバーコート膜によって被覆されたフレキシブル配線板の製造方法;
(工程1)
請求項1〜11のいずれか1項に記載の硬化性組成物を、フレキシブル配線板の配線パターン部の少なくとも一部に印刷することで該パターン上に印刷膜を形成する工程
(工程2)
工程1で得られた印刷膜を40〜100℃の雰囲気下におくことで印刷膜中の溶媒の一部または全量を蒸発させる工程
(工程3)
工程1で得られた印刷膜または工程2で得られた印刷膜を、100〜170℃で加熱することによって、硬化させ、オーバーコート膜を形成する工程。 - 請求項12に記載の硬化膜を有する電子部品。
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