JPWO2017065155A1 - 積層体の剥離装置及び剥離方法並びに電子デバイスの製造方法 - Google Patents

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Abstract

剥離開始形態において可動部材を把持し、剥離部材のリブの他端部側を、可撓プレートの他端部側に向けて押圧する。そうすると、支持部材によって支持された可撓プレートの他端部側を支点として、可撓プレートが剥離進行方向に沿って撓み変形していく。そして、この剥離動作に連動して、可撓プレートの通気性導電性シートに吸着保持されている補強板も可撓プレートとともに撓み変形し、基板2から剥離進行方向に沿って順次剥離されていく。

Description

本発明は、積層体の剥離装置及び剥離方法並びに電子デバイスの製造方法に関する。
表示パネル、太陽電池、薄膜二次電池等の電子デバイスの薄型化、軽量化に伴い、これらの電子デバイスに用いられるガラス板、樹脂板、金属板等の基板(第1基板)の薄板化が要望されている。
しかしながら、基板の厚さが薄くなると、基板のハンドリング性が悪化するため、基板の表面に電子デバイス用の機能層(薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)、カラーフィルタ(CF:Color Filter))を形成することが困難になる。
そこで、基板の裏面に補強板(第2基板)を貼合して積層体を構成した状態で、基板の表面に機能層を形成する電子デバイスの製造方法が提案されている。この製造方法では、基板のハンドリング性が向上するため、基板の表面に機能層を良好に形成できる。そして、補強板は、機能層の形成後に基板から剥離される(例えば、特許文献1)。
特許文献1に開示された補強板の剥離方法は、矩形状の積層体の対角線上に位置する2つの隅部の一端部側から他端部側に向けた剥離進行方向に沿って、補強板又は基板、或いはその双方を互いに離間させる方向に撓み変形させることにより行われる。この撓み変形は、一方を可撓性板で保持し、他方を保持部材で保持した状態で、可撓性板の上に固定された複数の可動体を独立に移動させて、可撓性板を剥離進行方向に沿って撓み変形させることにより行われる。
特許文献1の剥離装置は、可撓性板を撓み変形させる1本若しくは3本のサーボシリンダを有している。サーボシリンダは、その長手軸が剥離進行方向に沿って配置され、サーボシリンダのピストンの先端部が可撓性板の一端部側に支持されている。サーボシリンダのピストンを牽引動作させると、その動力が可撓性板の一端部側に伝達されて可撓性板が撓み変形を開始し、継続する可撓性板の撓み変形によって生じる曲げモーメントによって、基板と補強板の界面が剥離する。
一方、特許文献2には、プラスチックフィルム等の可撓性フィルムを補強板から剥離する剥離装置が開示されている。
特許文献2の剥離装置は、可撓性フィルム基板(可撓性フィルムと補強板との積層体)の非貼り付け面を保持する載置台、及び補強板を可撓性フィルムから剥離する剥離ユニットを有している。
剥離ユニットは、補強板を保持する保持部を有する回転体、回転体を回転させる回転部材、回転体を片持ちで回転自在に保持するフレーム、フレームを移動させる移動部材から構成される。また、保持部は補強板を湾曲して保持できるように、補強板を保持する保持面が曲面となっている。
特許文献2の剥離装置による補強板の剥離方法は、可撓性フィルム基板の可撓性フィルムを載置台に吸着保持する。次に、剥離ユニットの保持部の開始点が補強板の一端側の真上に位置決めされるように、フレームを移動部材によって水平移動させ、かつ回転体を回転部材によって回転させる。この後、載置台を保持部に向けて上昇移動させて、補強板の一端側と保持部の開始点とを所定の圧力で接触させる。この後、補強板の一端側を保持部の開始点に吸着保持し、フレームを移動部材によって他方側へ水平移動させ、かつ回転体を回転部材によって回転させる。これによって、補強板は、補強板の一端側から他端側に向けて順次湾曲されながら可撓性フィルムから剥離されていく。
日本国特開2014−159337号公報 日本国特開2004−142878号公報
しかしながら、特許文献1の剥離装置は、可撓性板を撓み変形させる部材としてサーボシリンダを備えているので高価になり、かつ重量物になるという問題があった。また、特許文献2の剥離装置は、フレームを移動させる移動部材と、回転体を回転させる回転部材を備えているので構造が複雑化し、かつ移動部材の移動と回転部材の回転を同期させる制御部材が必要になるので、装置が複雑化するという問題もあった。
本発明は、簡単な構造及び簡単な操作で第1基板と第2基板とを剥離できる積層体の剥離装置及び剥離方法並びに電子デバイスの製造方法の提供を目的とする。
本発明の積層体の剥離装置の一態様は、本発明の目的を達成するために、第1基板と第2基板とが貼合された積層体に対し、第1基板又は第2基板のうち一方の基板を撓み変形させることにより、第1基板と第2基板との界面を、積層体の一端部側から他端部側に向けた剥離進行方向に沿って順次剥離する積層体の剥離装置において、一方の基板を吸着面によって吸着保持する可撓性板と、可撓性板の吸着面とは反対側の反吸着面に対向して配置され、かつ反吸着面に対向する面が凸状面に構成された剥離部材であって、剥離部材の一端部側が可撓性板の一端部側に固定されるとともに凸状面の一部が反吸着面に当接されることにより、剥離部材の他端部側が反吸着面の他端部側に対して離間された剥離部材と、可撓性板の他端部側を支持して、可撓性板を片持ち支持する支持部材と、剥離部材の他端部側を反吸着面の他端部側に向けて移動させることにより、支持部材によって支持された可撓性板の他端部側を支点として、可撓性板を剥離進行方向に沿って撓み変形させる可動部材と、を備える。
本発明の積層体の剥離方法の一態様は、本発明の目的を達成するために、第1基板と第2基板とが貼合された積層体に対し、第1基板又は第2基板のうち一方の基板を撓み変形させることにより、第1基板と第2基板との界面を、積層体の一端部側から他端部側に向けた剥離進行方向に沿って順次剥離する積層体の剥離方法において、一方の基板を吸着面によって吸着保持する可撓性板と、可撓性板の吸着面とは反対側の反吸着面に対向して配置され、かつ反吸着面に対向する面が凸状面に構成された剥離部材であって、剥離部材の一端部側が可撓性板の一端部側に固定されるとともに凸状面の一部が反吸着面に当接されることにより、剥離部材の他端部側が反吸着面の他端部側に対して離間された剥離部材と、可撓性板の他端部側を支持して、可撓性板を片持ち支持する支持部材と、剥離部材の他端部側を反吸着面の他端部側に向けて移動させる可動部材と、を用い、一方の基板を可撓性板の吸着面によって吸着する吸着工程と、剥離部材の他端部側を可動部材によって反吸着面の他端部側に向けて移動させることにより、支持部材によって支持された可撓性板の他端部側を支点として、可撓性板を剥離進行方向に沿って撓み変形させる剥離工程と、を備える。
本発明の電子デバイスの製造方法の一態様は、本発明の目的を達成するために、第1基板と第2基板とが貼合された積層体に対し、第1基板の露出面に機能層を形成する機能層形成工程と、機能層が形成された第1基板から第2基板を分離する分離工程と、を有する電子デバイスの製造方法において、分離工程は、第1基板又は第2基板のうち一方の基板を吸着面によって吸着保持する可撓性板と、可撓性板の吸着面とは反対側の反吸着面に対向して配置され、かつ反吸着面に対向する面が凸状面に構成された剥離部材であって、剥離部材の一端部側が可撓性板の一端部側に固定されるとともに凸状面の一部が反吸着面に当接されることにより、剥離部材の他端部側が反吸着面の他端部側に対して離間された剥離部材と、可撓性板の他端部側を支持して、可撓性板を片持ち支持する支持部材と、剥離部材の他端部側を反吸着面の他端部側に向けて移動させる可動部材と、を用い、一方の基板を可撓性板の吸着面によって吸着する吸着工程と、剥離部材の他端部側を可動部材によって反吸着面の他端部側に向けて移動させることにより、支持部材によって支持された可撓性板の他端部側を支点として、可撓性板を剥離進行方向に沿って撓み変形させる剥離工程と、を備える。
本発明の一態様によれば、可撓性板、剥離部材、支持部材及び可動部材からなる簡単な構造の剥離装置を用いる。吸着工程では、積層体の一方の基板を可撓性板の吸着面で吸着する。次に、剥離工程では、剥離部材の他端部側を可動部材によって反吸着面の他端部側に向けて移動させる。このような簡単な剥離動作によって可撓性板は、支持部材によって支持された可撓性板の他端部側を支点として、剥離進行方向に沿って撓み変形する。これにより、可撓性板の吸着面に吸着された一方の基板が可撓性板とともに撓み変形するので、一方の基板を他方の基板から剥離できる。よって、本発明の一態様によれば、簡単な構造及び簡単な操作で第1基板と第2基板とを剥離できる。
本発明の可動部材とは、剥離部材の他端部側を可撓性板の反吸着面の他端部側に向けて移動させる動力を、剥離部材に伝達する部材を指す。その動力は電動、油圧、水圧等の動力源又は手動であってもよい。手動で実行することによって、動力源が不要になるので、剥離装置の構造がより簡単になり、また、簡単な操作で剥離動作を実施できる。
本発明の積層体の剥離装置の一態様によれば、剥離部材の凸状面は、剥離進行方向に沿った一定の又は連続的に変化する曲率半径の円弧状面であることが好ましい。
本発明の積層体の剥離方法の一態様によれば、剥離部材の凸状面は、剥離進行方向に沿った一定の又は連続的に変化する曲率半径の円弧状面であり、剥離工程における可撓性板は、剥離部材の円弧状面に当接されながら撓み変形されることが好ましい。
本発明の一態様によれば、剥離動作中の可撓性板は、剥離部材の円弧状面に沿って撓み変形する。剥離部材の円弧状面は、剥離進行方向に沿った一定の又は連続的に変化する曲率半径の円弧状面なので、可撓性板全体が一定の又は連続的に変化する曲率半径で撓み変形する。これにより、剥離動作中における第1基板の損傷、及び可撓性板の吸着面からの第1基板の剥がれを抑制できる。
本発明の積層体の剥離装置の一態様によれば、剥離部材の凸状面には、密着部材が設けられていることが好ましい。
本発明の積層体の剥離方法の一態様によれば、剥離部材の凸状面に密着部材を設け、剥離工程における可撓性板は、密着部材に密着されながら撓み変形されることが好ましい。
本発明の一態様によれば、剥離動作中の可撓性板は、剥離部材の密着部材に密着されながら撓み変形するので、可撓性板が剥離部材の凸状面により倣い易くなる。これにより、剥離動作中における第1基板の損傷、及び可撓性板の吸着面からの第1基板の剥がれをより一層抑制できる。
また、密着部材を備えることによって、より小さな力で第1基板の剥離が可能となる。更に、密着部材を可撓性板に予め密着させておく密着領域を備えることが好ましい。これにより、剥離動作時に密着領域が剥離進行方向に進展し易くなるので、剥離部材と可撓性板とを連続的に密着させ易くなる。更にまた、剥離完了後の状態で、可撓性板と密着部材との密着部分に、剥がれの起点ができるように密着部材を剥離部材に取り付けることが好ましい。これにより、剥離完了後、剥離部材を剥離開始位置に戻す動作によって、可撓性板から密着部材を容易に剥がすことができる。
本発明の積層体の剥離装置の一態様によれば、密着部材は、シート状の吸着部材又は粘着部材であることが好ましい。
本発明の一態様によれば、剥離動作中において、可撓性板はシート状の吸着部材又は粘着部材に密着されながら撓み変形する。これにより、可撓性板が剥離部材の凸状面に倣って撓み変形する。
本発明の積層体の剥離装置の一態様によれば、密着部材は、可撓性板の反吸着面に沿って設けられた複数の被嵌合部に嵌合される複数の嵌合部を備えることが好ましい。
本発明の一態様によれば、剥離動作中において、剥離部材の複数の嵌合部が可撓性板の複数の被嵌合部に嵌合されていく。これにより、可撓性板が剥離部材の凸状面に沿って撓み変形する。
本発明の積層体の剥離装置の一態様によれば、第1基板又は第2基板のうち他方の基板を保持する保持部材と、保持部材を他方の基板と平行な方向に滑動させる滑動部材と、を備えることが好ましい。
本発明の積層体の剥離方法の一態様によれば、剥離工程において、第1基板又は第2基板のうち他方の基板を、他方の基板と平行な方向に滑動させながら剥離することが好ましい。
本発明の一態様によれば、剥離動作中に第1基板が撓み変形することで生じる水平方向のズレを、滑動部材による保持部材の滑動によって吸収できる。
本発明の積層体の剥離装置の一態様によれば、滑動部材は、支持部材が設けられた基台と保持部材との連結部に備えられることが好ましい。
本発明の一態様によれば、基台と保持部材との連結部に滑動部材を設けることによって、保持部材を基台に対して滑動させる機構を提供できる。
本発明の積層体の剥離装置及び剥離方法並びに電子デバイスの製造方法によれば、簡単な構造及び簡単な操作で第1基板と第2基板とを剥離できる。
電子デバイスの製造工程に供される積層体の一例を示す要部拡大側面図 (A)〜(C)は、剥離開始部作成装置による剥離開始部作成方法を示した説明図 剥離開始部作成方法によって剥離開始部が作成された積層体の平面図 実施形態の剥離装置を示した全体斜視図 実施形態の剥離装置の平面図 実施形態の剥離装置の側面図 図5のVII−VII線に沿う可撓プレート及びテーブルの要部断面図 (A)〜(B)は剥離装置を用いた補強板の剥離方法を示した動作説明図 (A)〜(B)は剥離装置を用いた補強板の剥離方法を示した動作説明図 剥離部材の円弧状面の曲率半径が連続的に変化する一例を示した説明図 (A)〜(B)は密着部材の別形態を示した剥離装置の動作図 密着部材の別形態を示した剥離装置の動作図
以下、添付図面に従って、本発明の実施形態について説明する。
以下においては、本発明に係る積層体の剥離装置及び剥離方法を、電子デバイスの製造工程で使用する場合について説明する。
電子デバイスとは、半導体素子、表示パネル、太陽電池、薄膜二次電池等の電子部品をいう。表示パネルとしては、液晶ディスプレイパネル(LCD:Liquid Crystal Display)、プラズマディスプレイパネル(PDP:Plasma Display Panel)、及び有機ELディスプレイパネル(OELD:Organic Electro Luminescence Display)を例示できる。
〔電子デバイスの製造工程〕
電子デバイスは、ガラス製、樹脂製、金属製等の基板の表面に電子デバイス用の機能層(LCDであれば、薄膜トランジスタ(TFT)、カラーフィルタ(CF))を形成することにより製造される。
前記基板は、機能層の形成前に、その裏面が補強板に貼り付けられて積層体に構成される。その後、積層体の状態で基板の表面に機能層が形成される。そして、機能層の形成後、補強板が基板から剥離される。
すなわち、電子デバイスの製造工程には、積層体の状態で基板の露出面となる表面に機能層を形成する機能層形成工程、及び機能層が形成された基板から補強板を分離する分離工程が備えられる。この分離工程に、本発明に係る積層体の剥離装置及び剥離方法が適用される。
なお、本発明に係る積層体の剥離装置及び剥離方法は、電子デバイスの製造工程に限定されず、例えば焦点距離可変の液晶レンズを構成するガラスレンズの製造工程に適用してもよい。
〔積層体1〕
図1は、積層体1の一例を示した要部拡大側面図である。
積層体1は、機能層が形成される基板(第1基板)2と、その基板2を補強する補強板(第2基板)3とを備える。また、補強板3は、表面3aに吸着層としての樹脂層4が備えられ、樹脂層4に基板2の裏面2bが貼り付けられる。すなわち、基板2は、樹脂層4との間に作用するファンデルワールス力、又は樹脂層4の粘着力によって、補強板3に樹脂層4を介して剥離可能に貼り付けられる。また、積層体1としては、直径が約100〜200mmの円盤状のもの、又は一辺の長さが500mm以下の矩形状のものを例示するが、このような小サイズの積層体に限定されるものではなく、それ以上のサイズの積層体でもよい。
[基板2]
基板2は、その表面2aに機能層が形成される。基板2としては、ガラス基板、樹脂基板、金属基板、半導体基板を例示できる。半導体基板とは、シリコーンウェーハや化合物半導体ウェーハ等の半導体基板に複数の電子回路が形成された半導体基板であり、この半導体基板の場合、その裏面2bに電子回路が形成される。また、半導体基板は、その表面2aが研磨処理されることによって薄型化されている。具体的な半導体基板の厚さは、約20〜200μmである。
上述の基板のなかでも、ガラス基板は、耐薬品性、耐透湿性に優れ、かつ、線膨張係数が小さいので、電子デバイス用の基板2として好適である。また、線膨張係数が小さくなるに従い、高温下で形成される機能層のパターンが冷却時に、ずれ難くなる利点もある。
ガラス基板のガラスとしては、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、ソーダライムガラス、高シリカガラス、その他の酸化ケイ素を主な成分とする酸化物系ガラスを例示できる。酸化物系ガラスとしては、酸化物換算による酸化ケイ素の含有量が40〜90質量%のガラスが好ましい。
ガラス基板のガラスは、製造する電子デバイスの種類に適したガラス、その製造工程に適したガラスを選択して採用することが好ましい。例えば、液晶パネル用のガラス基板には、アルカリ金属成分を実質的に含まないガラス(無アルカリガラス)を採用することが好ましい。
基板2の厚さは、基板2の種類に応じて設定される。例えば、基板2にガラス基板を採用する場合、その厚さは、電子デバイスの軽量化、薄板化のため、好ましくは0.7mm以下、より好ましくは0.3mm以下、更に好ましくは0.1mm以下に設定される。厚さが0.3mm以下の場合、ガラス基板に良好なフレキシブル性を与えることができる。更に、厚さが0.1mm以下の場合、ガラス基板をロール状に巻き取ることができるが、ガラス基板の製造の観点、及びガラス基板の取り扱いの観点から、その厚さは0.03mm以上であることが好ましい。
なお、図1では基板2が1枚の基板で構成されているが、基板2は、複数枚の基板を積層して構成されたものでもよい。
[補強板3]
補強板3としては、ガラス基板、セラミックス基板、樹脂基板、金属基板、半導体基板を例示できるが、実施形態ではガラス基板が用いられる。
補強板3の厚さは、0.7mm以下に設定され、補強する基板2の種類、厚さ等に応じて設定される。なお、補強板3の厚さは、基板2よりも厚くてもよいし、薄くてもよいが、基板2を補強するため、0.4mm以上であることが好ましい。
なお、本例では補強板3が1枚の基板で構成されているが、補強板3は、複数枚の基板を積層した積層体で構成することもできる。
[樹脂層4]
樹脂層4は、樹脂層4と補強板3との間で剥離するのを防止するため、補強板3との間の結合力が、基板2との間の結合力よりも高く設定される。これにより、剥離工程では、樹脂層4と基板2との界面が剥離される。
樹脂層4を構成する樹脂は、特に限定されないが、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミドシリコーン樹脂を例示できる。いくつかの種類の樹脂を混合して用いることもできる。そのなかでも、耐熱性や剥離性の観点から、シリコーン樹脂、ポリイミドシリコーン樹脂が好ましい。実施形態では、樹脂層4としてシリコーン樹脂層を例示する。
樹脂層4の厚さは、特に限定されないが、好ましくは1〜50μmに設定され、より好ましくは4〜20μmに設定される。樹脂層4の厚さを1μm以上とすることにより、樹脂層4と基板2との間に気泡や異物が混入した際、樹脂層4の変形によって、気泡や異物の厚さを吸収できる。一方、樹脂層4の厚さを50μm以下とすることにより、樹脂層4の形成時間を短縮でき、更に樹脂層4の樹脂を必要以上に使用しないため経済的である。
なお、樹脂層4の外形は、補強板3が樹脂層4の全体を支持できるように、補強板3の外形と同一であるか、補強板3の外形よりも小さいことが好ましい。また、樹脂層4の外形は、樹脂層4が基板2の全体を密着できるように、基板2の外形と同一であるか、基板2の外形よりも大きいことが好ましい。
また、図1では樹脂層4が1層で構成されているが、樹脂層4は2層以上で構成することもできる。この場合、樹脂層4を構成する全ての層の合計の厚さが、樹脂層の厚さとなる。また、この場合、各層を構成する樹脂の種類は異なっていてもよい。
更に、実施形態では、吸着層として有機膜である樹脂層4を用いたが、樹脂層4に代えて無機層を用いてもよい。無機層を構成する無機膜は、例えばメタルシリサイド、窒化物、炭化物、及び炭窒化物からなる群から選択される少なくとも1種を含む。
更にまた、図1の積層体1は、吸着層として樹脂層4を備えているが、樹脂層4を無くして基板2と補強板3とからなる構成としてもよい。この場合には、基板2と補強板3との間に作用するファンデルワールス力等によって基板2と補強板3とが剥離可能に貼り付けられる。また、この場合には、ガラス基板である基板2とガラス板である補強板3とが高温で接着しないように、補強板3の表面3aに無機薄膜を形成することが好ましい。
〔剥離開始部作成装置10〕
図2は、剥離開始部作成装置10による剥離開始部作成方法を示した説明図であり、図2(A)は、積層体1とナイフNとの位置関係を示した説明図、図2(B)は、ナイフNによって界面24に剥離開始部26を作成する説明図、図2(C)は、界面24に剥離開始部26が作成された積層体1の説明図である。また、図3は、剥離開始部26が積層体1の一端部1A側に作成された積層体1の平面図である。
剥離開始部26の作成時において、積層体1は図2(A)の如く、基板2の表面2aがテーブル12に吸着保持されて水平方向(図中X軸方向)に支持される。
ナイフNは、積層体1の一端部1Aの端面に刃先が対向するように、ホルダ14によって水平に支持される。また、ナイフNは、高さ調整装置16によって、高さ方向(図中Z軸方向)の位置が調整される。更に、ナイフNと積層体1とは、ボールねじ装置等の送り装置18によって、水平方向に相対的に移動される。送り装置18は、ナイフNとテーブル12のうち、少なくとも一方を水平方向に移動すればよく、実施形態ではナイフNが移動される。更にまた、刺入前又は刺入中のナイフNの上面に、液体20を供給する液体供給装置22が、ナイフNの上方に配置される。
〔剥離開始部作成方法〕
初期状態において、ナイフNの刃先は、刺入位置である基板2と樹脂層4との界面24に対し、高さ方向(Z軸方向)にずれた位置に存在する。そこで、まず、図2(A)に示すように、ナイフNを高さ方向に移動させて、ナイフNの刃先の高さを界面24の高さに設定する。
この後、ナイフNを積層体1の一端部1Aに向けて水平方向に移動させ、図2(B)の如く、界面24にナイフNを所定量刺入する。また、ナイフNの刺入時又は刺入前において、液体供給装置22からナイフNの上面に液体20を供給する。これにより、一端部1Aの基板2が樹脂層4から剥離するので、図2(C)の如く剥離開始部26が界面24に作成される。
なお、ナイフNの刺入量は、積層体1のサイズに応じて、好ましくは7mm以上、より好ましくは15〜20mm程度に設定される。また、液体20の供給は必須ではないが、液体20を使用すれば、ナイフNを抜去した後にも液体20が剥離開始部26に残留するので、再付着不能な剥離開始部26を作成できる。
剥離開始部26が作成された積層体1は、剥離開始部作成装置10から取り出され、後述する剥離装置に搬送され、剥離装置によって界面24が順次剥離される。
剥離方法の詳細は後述するが、図3の矢印Aの如く、積層体1の補強板3を一端部1Aから一端部1Aに対向する他端部1Bに向けた剥離進行方向に沿って撓ませることにより、界面24が剥離開始部26を起点として剥離される。これにより、補強板3が基板2から剥離される。
〔剥離装置30〕
図4は、実施形態の剥離装置30を示した全体斜視図であり、図5は剥離装置30の平面図、図6は剥離装置30の側面図であり、図6においては積層体1を図示している。
実施形態の剥離装置30は、前述の小サイズの積層体1(図3参照)に対応させるために、小型化、軽量化を図るとともに、強度的にも剛性を担保した装置である。すなわち、剥離装置30を構成する主な部材は、軽量化と剛性を担保するためにアクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリプロピレン、ポリカーボネート等のプラスチック材によって構成されている。また、後述するが、積層体1の補強板3を吸着保持する可撓プレート(可撓性板)32を片持ち支持する支持部材34と、支持部材34を立設して支持する基台36とは、可撓プレート32の撓み動作を安定的に支持するために、プラスチック材に代えて高剛性の金属で構成することもできる。更に、実施形態の剥離装置30は、剥離部材38に設けた可動部材40に動力を付与して剥離部材38を剥離動作させるが、剥離動作をさせるために可動部材40に付与する動力は、剥離装置30の小型化、軽量化を図る目的で、作業者の人手による動力であることが好ましい。なお、電動、油圧、水圧等の動力源からの動力を可動部材40に付与してもよい。以下、剥離装置30の構成を説明する。
剥離装置30は、基板2と補強板3とが貼合された積層体1に対し、基板2又は補強板3のうち一方の板(実施形態では補強板3)を撓み変形させることにより、基板2と補強板3との界面24を、積層体1の一端部1A側から他端部1B側に向けた剥離進行方向に沿って順次剥離する装置である。なお、図4〜図6において、剥離進行方向を矢印Aで示す。すなわち、積層体1は、図3に示した矢印Aが図6に示した矢印Aと合致するように剥離装置30に装着される。
図4〜図6の如く剥離装置30は、可撓プレート32、支持部材34、剥離部材38、可動部材40を主たる構成部材とし、基台36、テーブル(保持部材)42、滑動部材44を備えて構成される。
〈可撓プレート32〉
平板状に構成された可撓プレート32は、補強板3を撓み変形させるため、補強板3を真空吸着保持する。なお、真空吸着に代えて、静電吸着又は磁気吸着してもよい。
可撓プレート32の裏面(下面)には、積層体1の補強板3を吸着保持する円形で多孔質の通気性導電性シート46が取り付けられる。この通気性導電性シート46が吸着面として機能する。
通気性導電性シート46の厚さは、剥離時に補強板3に発生する引張応力を低減させる目的で2mm以下、好ましくは1mm以下であり、実施形態では0.5mmのものが使用されている。通気性導電性シート46のヤング率は、1GPa以下であることが好ましい。ガラスや金属等の小さな異物が侵入した際に、異物が多孔質シートに埋まり補強板3のキズ発生を防止できる。
また、可撓プレート32の裏面には、通気性導電性シート46を、通気溝48を介して包囲し、かつ補強板3の外縁部が当接される環状の弾性体50が取り付けられる。また、弾性体50は、ショアE硬度が20度以上50度以下の独立気泡のスポンジであり、その厚さは、通気性導電性シート46の厚さに対して0.3mm〜0.6mm厚く構成されている。
ここで図7は、図5のVII−VII線に沿う可撓プレート32及びテーブル42の要部断面図である。
可撓プレート32に取り付けられた通気性導電性シート46と弾性体50との間には、前述の環状の通気溝48が備えられる。また、可撓プレート32には、図5の如く2つの通気穴52が開口されており、これらの通気穴52は、可撓プレート32に備えられた図7の通気路54を介して通気溝48に連通され、また、通気穴52は不図示の吸引管路を介して吸気源(例えば真空ポンプ)に接続されている。
したがって、前記吸気源が駆動されると、前記吸引管路、通気穴52、通気路54及び通気溝48の空気が矢印C方向に吸引されることにより、積層体1の補強板3が通気性導電性シート46に真空吸着保持されて可撓プレート32に支持される。また、補強板3の外縁部が弾性体50に押圧当接されるので、弾性体50によって囲まれる吸着空間の密閉性が高められる。
なお、積層体1の基板2を保持する平板状のテーブル42の表面(上面)にも、同様の通気性導電性シート46、通気溝48及び弾性体50が設けられ、同様の吸引動作によって基板2が通気性導電性シート46に真空吸着保持されてテーブル42に支持される。
可撓プレート32は、通気性導電性シート46及び弾性体50よりも曲げ剛性が高い。可撓プレート32の単位幅(1mm)あたりの曲げ剛性は、1000〜40000N・mm/mmであることが好ましい。例えば、可撓プレート32の幅が100mmの部分では、曲げ剛性は、100000〜4000000N・mmとなる。可撓プレート32の曲げ剛性を1000N・mm/mm以上とすることで、可撓プレート32に吸着保持される補強板3の折れ曲がりを防止できる。また、可撓プレート32の曲げ剛性を40000N・mm/mm以下とすることで、可撓プレート32に吸着保持される補強板3を適度に撓み変形させることができる。
可撓プレート32は、ヤング率が10GPa以下の樹脂製部材であり、例えばポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、アクリル樹脂、ポリアセタール樹脂等の樹脂製部材を例示できる。
〈剥離部材38〉
図4、図5の如く剥離部材38は、可撓プレート32の吸着面とは反対側の表面(反吸着面)に対向して配置される。また、剥離部材38は、反吸着面に対向する面が凸状面58Aとして構成された4枚の板状のリブ58を備える。なお、リブ58の枚数は4枚に限定されず、3枚以上であればよい。
リブ58の凸状面58Aは、矢印Aで示す剥離進行方向に沿った一定の曲率半径の円弧状面である。その曲率半径は、補強板3の剥離時において補強板3を円滑に撓み変形させるため500〜2000mmが好ましく、800〜1600mmであることが更に好ましい。なお、凸状面58Aは、一定の曲率半径の円弧状面に限定されるものではなく、曲率半径が連続的に変化する円弧状面であってもよい。
リブ58は、図6の如く剥離進行方向の始点側である一端部側57Aが可撓プレート32の一端部側33Aに複数本のボルト60によって固定される。また、リブ58は、凸状面58Aの一部である一端部側57Aが、可撓プレート32の表面に当接されることにより、リブ58の他端部側57Bが可撓プレート32の表面の他端部側33Bに対して上方位置に離間されている。すなわち、図4、図6で示した剥離部材38の姿勢が、剥離開始前の姿勢である。
上記構成の剥離部材38は、可撓プレート32に対して剛性が高く、可撓プレート32の撓み変形を支配する。
また、リブ58の凸状面58Aに、密着部材であるウレタンゴムシート(吸着部材又は粘着部材)62を貼り付けることが好ましい。ウレタンゴムシート62は、可撓プレート32の表面に対する吸着性又は粘着性を向上させるものであり、例えば厚さが1mmで表面が平滑であって、ショアA硬度50のものが適用される。ウレタンゴムシート62を使用することにより、剥離動作時において、可撓プレート32をリブ58の凸状面58Aに沿って円滑に撓み変形させることができる。
〈支持部材34〉
図5の如く支持部材34は、一対配置されるとともに基台36に立設される。また支持部材34は、可撓プレート32の他端部側33Bを、ヒンジ64を介して支持し、可撓プレート32を片持ち支持している。これにより、可撓プレート32は、支持部材34を支点として上下方向に傾動可能に支持される。
〈可動部材40〉
図4の如く可動部材40は、剥離部材38のリブ58の一端部側57A及び他端部側57Bに取り付けられた取手である。作業者は、可動部材40を把持し、リブ58の他端部側57Bを可撓プレート32の他端部側33Bに向けて移動させることにより、支持部材34によって支持された可撓プレート32の他端部側33Bを支点として、可撓プレート32を剥離進行方向に沿って撓み変形させることができる。
〈滑動部材44〉
滑動部材44は、基台36とテーブル42との連結部に備えられる。滑動部材44は、剥離進行方向に沿って配設されたガイドロッド66とガイドロッド66に沿って滑動する滑動部68とを備える。ガイドロッド66は、その両端が基台36の表面に固定された支持片69に固定されており、滑動部68はテーブル42の裏面に固定されている。このような滑動部材44は、好ましくは一対設けられており、また、滑動部材44としては、クロスローラガイド等の直線運動用軸受を適用することが好ましい。
滑動部材44を配置する理由について説明すると、撓み変形しながら剥離される補強板3の剥離動作中において、基板2には、補強板3から剥離進行方向とは逆方向の力を受ける。つまり、基板2を界面24と平行な方向にずらそうとする負荷が基板2にかかる。そこで、剥離装置30では、基台36とテーブル42とを滑動部材44を介して連結し、テーブル42を剥離進行方向とは逆方向に滑動させることにより、前記負荷を逃がしている。
逆方向に滑動中のテーブル42は、図6のバネ70の付勢力に抗して滑動される。そして、テーブル42は、補強板3が基板2から完全に剥離すると、補強板3から基板2に負荷される力が消滅するので、バネ70の付勢力によって元の位置に滑動する。バネ70は、基台36の表側にその軸を剥離進行方向に沿って配置され、バネ70を押圧する押圧片72がテーブル42の裏面に設けられている。また、剥離開始前において、押圧片72が当接されて押圧片を位置決めするストッパ73が基台36の表面に設けられている。
以上が、剥離装置30の構成である。なお、図4、図6の符号74はテーブル42の表面に立設されたスペーサであり、このスペーサ74の上面に可撓プレート32の裏面が当接されることによってテーブル42に対する可撓プレート32の高さ位置が規制されている。
〔剥離装置30による補強板3の剥離方法〕
図8(A)〜(B)、図9(A)〜(B)は、剥離装置30を用いた補強板3の剥離方法が時系列的に示されている。
〈吸着工程〉
図8(A)は、剥離装置30による剥離開始形態を示しているが、その前段階として、積層体1の基板2をテーブル42の通気性導電性シート46(図7参照)に吸着保持し、積層体1の補強板3を剥離部材38の通気性導電性シート46に吸着保持する吸着工程を備える。これにより、図8(A)の剥離開始形態となる。
〈剥離工程〉
図8(A)の剥離開始形態において可動部材40を把持し、剥離部材38のリブ58の他端部側57Bを、可撓プレート32の他端部側33Bに向けて矢印E方向に押圧(移動)する。そうすると、図8(A)〜(B)及び図9(A)の如く、支持部材34によって支持された可撓プレート32の他端部側33Bを支点として、可撓プレート32が矢印A方向の剥離進行方向に沿って撓み変形していく。そして、この剥離動作に連動して、可撓プレート32の通気性導電性シート46に吸着保持されている補強板3も可撓プレート32とともに撓み変形し、基板2から剥離進行方向に沿って順次剥離されていく。
ここで図8(B)は剥離動作の中間形態を示し、図9(A)は、剥離動作が終了し、補強板3が基板2から完全に剥離された剥離終了形態を示している。これらの図に示すように、可撓プレート32は、可撓プレート32の撓み変形を支配する剥離部材38のリブ58によって、かつリブ58の凸状面58Aの形状に追従しながら一定の曲率半径で撓み変形していく。そして、補強板3も同様に一定の曲率半径で撓み変形していき、図9(A)の如く基板2から完全に剥離する。以上の剥離動作によって基板2から補強板3を剥離できる。
この後、図9(B)の如く、ヒンジ64を利用して剥離部材38を基台36に対して起立させ、この状態で補強板3の吸着保持を解除し、剥離部材38の通気性導電性シート46から補強板3を取り外す。また、同様に基板2の吸着保持を解除し、テーブル42の通気性導電性シート46から基板2を取り外す。
〔効果〕
実施形態の剥離装置30によれば、可撓プレート32、剥離部材38、支持部材34及び可動部材40を主とする簡単な構造の剥離装置30を用いる。そして、吸着工程では、補強板3を可撓プレート32の通気性導電性シート46で吸着し、次工程の剥離工程では、剥離部材38のリブ58の他端部側57Bを可動部材40によって可撓プレート32の他端部側33Bに向けて移動させる。
このような簡単な剥離動作によって可撓プレート32は、支持部材34によって支持された可撓プレート32の他端部側33Bを支点として、剥離進行方向に沿って撓み変形し、補強板3が可撓プレート32とともに撓み変形するので、補強板3を基板2から剥離できる。
よって、実施形態の剥離装置30によれば、簡単な構造で、またいたって簡単な操作で補強板3を基板2から剥離できる。
実施形態の剥離装置30によれば、リブ58の凸状面58Aは、剥離進行方向に沿った一定の又は連続的に変化する曲率半径の円弧状面であることが好ましい。これにより、剥離工程における可撓プレート32は、リブ58の円弧状面に当接されながら円滑に撓み変形される。
ところで、サーボシリンダを使用する特許文献1の剥離装置は、サーボシリンダの牽引力を可撓性板の一端部側にかけて可撓性板を撓み変形させるため、可撓性板の一端部側が他の部分よりも極端に小さな曲率半径で撓み変形する場合がある。このような場合、可撓性板とともに撓み変形する第1基板が前記一端部側に対応する箇所で損傷したり、剥離中の第1基板が可撓性板の吸着面から剥がれたりするという問題がある。
これに対して実施形態の剥離装置30は、剥離動作中の可撓プレート32は、リブ58の凸状面58Aである円弧状面に沿って撓み変形する。その円弧状面は、剥離進行方向に沿った一定の又は連続的に変化する曲率半径の円弧状面なので、可撓プレート32の全体が一定の又は連続的に変化する曲率半径で撓み変形する。これにより、剥離動作中における補強板3の損傷、及び可撓プレート32からの補強板3の剥がれを抑制できる。
図10は、リブ58の円弧状面の曲率半径が連続的に変化する凸状面の一例を示した説明図である。図10によれば、リブ58の一端部側57Aから他端部側57Bまでの凸状面を三分割し、一端部側57Aからの第1エリアaの円弧状面58Bを曲率半径(R)1200mmとし、第1エリアaから第2エリアbの円弧状面58Cを1100mmとし、第2エリアbから他端部側57Bまでの第3エリアcの円弧状面58Dを1000mmとしている。このような形態の円弧状面であっても可撓プレート32を円滑に撓み変形させることができる。
実施形態の剥離装置30によれば、リブ58の凸状面58Aにウレタンゴムシート62を設け、可撓プレート32をウレタンゴムシート62に密着させながら撓み変形させることが好ましい。
剥離動作中の可撓プレート32は、剥離部材のウレタンゴムシート62に密着されながら撓み変形するので、可撓プレート32がリブ58の凸状面58Aにより倣い易くなる。これにより、剥離動作中における補強板3の損傷、及び可撓プレート32の通気性導電性シート46からの補強板3の剥がれをより一層抑制できる。
また、ウレタンゴムシート62を備えることによって、より小さな力で補強板3の剥離が可能となる。更に、図6の如く、ウレタンゴムシート62を可撓プレート32に予め密着させておく密着領域Dを備えることが好ましい。これにより、剥離動作時に密着領域Dが剥離進行方向に進展し易くなるので、剥離部材38と可撓プレート32とを連続的に密着させ易くなる。
更にまた、剥離完了後の状態で、可撓プレート32とウレタンゴムシート62との密着部分に、剥がれの起点ができるようにウレタンゴムシート62をリブ58に取り付けることが好ましい。これにより、剥離完了後、剥離部材38を図8(A)の剥離開始形態に戻す動作によって、可撓プレート32からウレタンゴムシート62を容易に剥がすことができる。
一方、実施形態では密着部材としてウレタンゴムシート62を例示したが、これに限定されるものではない。
図11(A)〜(B)、図12は、密着部材の別形態を示した剥離装置30の動作図である。図11(A)は剥離開始形態、図11(B)は剥離動作の中間形態、図12は剥離終了形態を示している。
リブ58の凸状面58Aに沿って設けられる密着部材は、可撓プレート32の表面に沿って設けられた複数の球状の被嵌合凹部(被嵌合部)76に嵌合される複数の球状の嵌合凸部(嵌合部)78を備えている。
この密着部材によれば、剥離動作中において、リブ58側の複数の嵌合凸部78が可撓プレート32の複数の被嵌合凹部76に順次嵌合されていく。これにより、可撓プレート32がリブ58の凸状面58Aに沿って撓み変形することができる。
また、実施形態の剥離装置30は、テーブル42を基台36に対して滑動させる滑動部材44を備えている。この滑動部材44は、剥離工程においてテーブル42を剥離進行方向とは逆方向に滑動させる。これにより、剥離動作中に補強板3が撓み変形することで生じる水平方向のズレを、滑動部材44によるテーブル42の滑動によって吸収できる。また、滑動部材44は、基台36とテーブル42との連結部に備えられているので、テーブル42を基台36に対して滑動させる機構を提供できる。
本発明は上記の実施形態に限定されるものではなく、実施形態の各構成を相互に組み合わせることや、明細書の記載、並びに周知の技術に基づいて、当業者が変更、応用することも本発明の予定するところであり、保護を求める範囲に含まれる。
本出願は、2015年10月16日出願の日本特許出願2015−204166に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
N ナイフ
1 積層体
2 基板
3 補強板
4 樹脂層
10 剥離開始部作成装置
12 テーブル
14 ホルダ
16 高さ調整装置
18 送り装置
20 液体
22 液体供給装置
24 界面
26 剥離開始部
30 剥離装置
32 可撓プレート
34 支持部材
36 基台
38 剥離部材
40 可動部材
42 テーブル
44 滑動部材
46 通気性導電性シート
48 通気溝
50 弾性体
52 通気穴
54 通気路
58 リブ
58A 凸状面
60 ボルト
62 ウレタンゴムシート
64 ヒンジ
66 ガイドロッド
68 滑動部
70 バネ
72 押圧片
73 ストッパ
74 スペーサ
76 被嵌合凹部
78 嵌合凸部

Claims (12)

  1. 第1基板と第2基板とが貼合された積層体に対し、前記第1基板又は前記第2基板のうち一方の基板を撓み変形させることにより、前記第1基板と前記第2基板との界面を、前記積層体の一端部側から他端部側に向けた剥離進行方向に沿って順次剥離する積層体の剥離装置において、
    前記一方の基板を吸着面によって吸着保持する可撓性板と、
    前記可撓性板の前記吸着面とは反対側の反吸着面に対向して配置され、かつ前記反吸着面に対向する面が凸状面に構成された剥離部材であって、前記剥離部材の一端部側が前記可撓性板の一端部側に固定されるとともに前記凸状面の一部が前記反吸着面に当接されることにより、前記剥離部材の他端部側が前記反吸着面の他端部側に対して離間された剥離部材と、
    前記可撓性板の他端部側を支持して、前記可撓性板を片持ち支持する支持部材と、
    前記剥離部材の他端部側を前記反吸着面の他端部側に向けて移動させることにより、前記支持部材によって支持された前記可撓性板の他端部側を支点として、前記可撓性板を前記剥離進行方向に沿って撓み変形させる可動部材と、
    を備える、積層体の剥離装置。
  2. 前記剥離部材の前記凸状面は、前記剥離進行方向に沿った一定の又は連続的に変化する曲率半径の円弧状面である、請求項1に記載の積層体の剥離装置。
  3. 前記剥離部材の前記凸状面には、密着部材が設けられている、請求項1又は2に記載の積層体の剥離装置。
  4. 前記密着部材は、シート状の吸着部材又は粘着部材である、請求項3に記載の積層体の剥離装置。
  5. 前記密着部材は、前記可撓性板の前記反吸着面に沿って設けられた複数の被嵌合部に嵌合される複数の嵌合部を備える、請求項3に記載の積層体の剥離装置。
  6. 前記第1基板又は前記第2基板のうち他方の基板を保持する保持部材と、
    前記保持部材を前記他方の基板と平行な方向に滑動させる滑動部材と、
    を備える、請求項1から5のいずれか1項に記載の積層体の剥離装置。
  7. 前記滑動部材は、前記支持部材が設けられた基台と前記保持部材との連結部に備えられる、請求項6に記載の積層体の剥離装置。
  8. 第1基板と第2基板とが貼合された積層体に対し、前記第1基板又は前記第2基板のうち一方の基板を撓み変形させることにより、前記第1基板と前記第2基板との界面を、前記積層体の一端部側から他端部側に向けた剥離進行方向に沿って順次剥離する積層体の剥離方法において、
    前記一方の基板を吸着面によって吸着保持する可撓性板と、
    前記可撓性板の前記吸着面とは反対側の反吸着面に対向して配置され、かつ前記反吸着面に対向する面が凸状面に構成された剥離部材であって、前記剥離部材の一端部側が前記可撓性板の一端部側に固定されるとともに前記凸状面の一部が前記反吸着面に当接されることにより、前記剥離部材の他端部側が前記反吸着面の他端部側に対して離間された剥離部材と、
    前記可撓性板の他端部側を支持して、前記可撓性板を片持ち支持する支持部材と、
    前記剥離部材の他端部側を前記反吸着面の他端部側に向けて移動させる可動部材と、
    を用い、
    前記一方の基板を前記可撓性板の吸着面によって吸着する吸着工程と、
    前記剥離部材の他端部側を前記可動部材によって前記反吸着面の他端部側に向けて移動させることにより、前記支持部材によって支持された前記可撓性板の他端部側を支点として、前記可撓性板を前記剥離進行方向に沿って撓み変形させる剥離工程と、
    を備える、積層体の剥離方法。
  9. 前記剥離部材の前記凸状面は、前記剥離進行方向に沿った一定の又は連続的に変化する曲率半径の円弧状面であり、
    前記剥離工程における前記可撓性板は、前記剥離部材の前記円弧状面に当接されながら撓み変形される、請求項8に記載の積層体の剥離方法。
  10. 前記剥離部材の前記凸状面に密着部材を設け、
    前記剥離工程における前記可撓性板は、前記密着部材に密着されながら撓み変形される、請求項8又は9に記載の積層体の剥離方法。
  11. 前記剥離工程において、前記第1基板又は前記第2基板のうち他方の基板を、前記他方の基板と平行な方向に滑動させながら剥離する、請求項8から10のいずれか1項に記載の積層体の剥離方法。
  12. 第1基板と第2基板とが貼合された積層体に対し、前記第1基板の露出面に機能層を形成する機能層形成工程と、前記機能層が形成された前記第1基板から前記第2基板を分離する分離工程と、を有する電子デバイスの製造方法において、
    前記分離工程は、
    前記第1基板又は第2基板のうち一方の基板を吸着面によって吸着保持する可撓性板と、
    前記可撓性板の前記吸着面とは反対側の反吸着面に対向して配置され、かつ前記反吸着面に対向する面が凸状面に構成された剥離部材であって、前記剥離部材の一端部側が前記可撓性板の一端部側に固定されるとともに前記凸状面の一部が前記反吸着面に当接されることにより、前記剥離部材の他端部側が前記反吸着面の他端部側に対して離間された剥離部材と、
    前記可撓性板の他端部側を支持して、前記可撓性板を片持ち支持する支持部材と、
    前記剥離部材の他端部側を前記反吸着面の他端部側に向けて移動させる可動部材と、
    を用い、
    前記一方の基板を前記可撓性板の吸着面によって吸着する吸着工程と、
    前記剥離部材の他端部側を前記可動部材によって前記反吸着面の他端部側に向けて移動させることにより、前記支持部材によって支持された前記可撓性板の他端部側を支点として、前記可撓性板を剥離進行方向に沿って撓み変形させる剥離工程と、
    を備える、電子デバイスの製造方法。
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