JPWO2017061328A1 - 被覆切削工具 - Google Patents
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- 238000005520 cutting process Methods 0.000 title claims abstract description 109
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 167
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 89
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 60
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 57
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims abstract description 48
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 26
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000011195 cermet Substances 0.000 claims description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 claims description 6
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 32
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 26
- 238000001883 metal evaporation Methods 0.000 description 17
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 10
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 8
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 8
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 8
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 description 4
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000445 field-emission scanning electron microscopy Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000997 High-speed steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010037 TiAlN Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910000816 inconels 718 Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 1
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23B—TURNING; BORING
- B23B27/00—Tools for turning or boring machines; Tools of a similar kind in general; Accessories therefor
- B23B27/14—Cutting tools of which the bits or tips or cutting inserts are of special material
- B23B27/148—Composition of the cutting inserts
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/021—Cleaning or etching treatments
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0641—Nitrides
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
- C23C14/325—Electric arc evaporation
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/541—Heating or cooling of the substrates
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
- C23C28/044—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material coatings specially adapted for cutting tools or wear applications
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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Abstract
Description
[1]基材と前記基材の表面に形成された被覆層とを含む被覆切削工具であって、前記被覆層は、少なくとも1層の所定の層を含み、前記所定の層は、下記式:
(AlxTiyM1−x―y)N
[式中、MはZr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、WおよびSiからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を表し、xはAl元素とTi元素とMで表される元素との合計に対するAl元素の原子比を表し、yはAl元素とTi元素とMで表される元素との合計に対するTi元素の原子比を表し、0.60≦x≦0.85、0≦y≦0.40、0.60≦x+y≦1.00を満足する。]
で表される組成を有する化合物を含有する層であり、前記所定の層の平均厚さは、1.4μm以上15μm以下であり、前記所定の層は、下記の条件(1)、(2)および(3)を満たす上部領域と下部領域とを有する、被覆切削工具。
条件(1):前記上部領域は、前記被覆切削工具の表面側の界面から前記基材に向かって0.5μm以上2.5μm以下の平均厚さであって、かつ前記所定の層の平均厚さ未満の平均厚さを有し、前記下部領域は、前記基材側の界面から前記被覆切削工具の表面に向かって0.5μm以上2.5μm以下の平均厚さであって、かつ前記所定の層の平均厚さ未満の平均厚さを有する。
条件(2):前記上部領域に含まれるAl元素の原子比は、前記下部領域に含まれるAl元素の原子比よりも、3原子%〜10原子%高い。
条件(3):前記上部領域における平均粒径が、前記下部領域における平均粒径よりも大きい。
[2]前記上部領域における平均粒径は、100nm以上500nm以下であり、前記下部領域における平均粒径は、10nm以上100nm以下である、[1]に記載の被覆切削工具。
[3]前記所定の層は、前記上部領域と前記下部領域との間に中間領域を有し、前記中間領域におけるAl元素の原子比は、前記上部領域よりも低く、かつ前記下部領域よりも高い、[1]または[2]に記載の被覆切削工具。
[4]前記中間領域における平均粒径は、60nm以上475nm以下であり、前記上部領域における平均粒径よりも小さく、かつ前記下部領域における平均粒径より大きい、[1]〜[3]のいずれか1つに記載の被覆切削工具。
[5]前記下部領域における平均粒径は、10nm以上80nm以下である、[1]〜[4]のいずれか1つに記載の被覆切削工具。
[6]前記所定の層は、前記被覆層において最も前記基材側に位置する層である、[1]〜[5]のいずれか1つに記載の被覆切削工具。
[7]前記被覆層は、前記所定の層の前記基材とは反対側に、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、SiおよびYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、C、N、OおよびBからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物を含む外部層を有し、前記外部層の平均厚さは、0.1μm以上3.5μm以下である、[1]〜[6]のいずれか1つに記載の被覆切削工具。
[8]前記被覆層の平均厚さは、1.5μm以上15μm以下である、[1]〜[7]のいずれか1つに記載の被覆切削工具。
[9]前記基材は、超硬合金、サーメット、セラミックスまたは立方晶窒化硼素焼結体のいずれかである、[1]〜[8]のいずれか1つに記載の被覆切削工具。
(AlxTiyM1−x―y)N
で表される組成を有する化合物を含有するため、耐酸化性に優れる。本実施形態の硬質層において上記式で表される組成を有する化合物は、立方晶、または立方晶と六方晶とを含むと好ましい。なお、上記式において、xはAl元素とTi元素とMで表される元素との合計に対するAl元素の原子比を表し、0.60≦x≦0.85を満足する。Al元素の原子比xは、0.60以上であると、Alの含有量が多くなることにより、耐酸化性の低下をさらに抑制でき、0.85以下であると、六方晶の存在比率をより低く抑えることにより、耐摩耗性の低下をさらに抑制できる。その中でも、xが0.60以上0.75以下であると、耐酸化性と耐摩耗性とのバランスにより優れるため、好ましい。yはAl元素とTi元素とMで表される元素との合計に対するTi元素の原子比を表し、0≦y≦0.40を満足する。Ti元素の原子比yは、0.40以下であると、相対的にAl元素の原子比が高くなることにより、耐酸化性の低下をさらに抑制できる。さらには、原子比xおよびyは、0.60≦x+y≦1.00を満足するものである。Mで表される元素は、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、WおよびSiからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素であると、耐摩耗性や耐欠損性がさらに向上するため、好ましい。同様の観点から、Mで表される元素は、Zr、Hf、V、Nb、Cr、Mo、WおよびSiからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素であるとより好ましい。
条件(1):上部領域は、硬質層の被覆切削工具の表面側の界面から基材に向かって0.5μm以上2.5μm以下の平均厚さであって、かつ硬質層の平均厚さ未満の平均厚さを有し、下部領域は、硬質層の基材側の界面から被覆切削工具の表面に向かって0.5μm以上2.5μm以下の平均厚さであって、かつ硬質層の平均厚さ未満の平均厚さを有する。
条件(2):上部領域に含まれるAl元素の原子比は、下部領域に含まれるAl元素の原子比よりも、3原子%〜10原子%高い。これにより、被覆切削工具の耐酸化性が向上するので、その結果、耐欠損性が向上する。同様の観点から、上部領域に含まれるAl元素の原子比は、下部領域に含まれるAl元素の原子比よりも、3原子%〜8原子%高いと好ましい。
条件(3):上部領域における平均粒径が、下部領域における平均粒径よりも大きい。これにより、被覆切削工具の耐摩耗性が向上する。また、下部領域の平均粒径が上部領域の平均粒径よりも小さいため、チッピングの面積をより小さくすることができる。特に、硬質層が、被覆層において最も基材側に位置する層(最下層)であると、切削加工における剥離面積が小さくなる傾向があるため、好ましい。同様の観点から、上部領域における平均粒径が、下部領域における平均粒径よりも、20nm以上大きいとより好ましく、30nm以上大きいと更に好ましい。それらの平均粒径の差の上限は特に限定されず、上部領域における平均粒径が、下部領域における平均粒径よりも、400nm以下大きくてもよい。
被削材:インコネル718、
被削材形状:φ120mm×400mmの円柱、
切削速度:60m/min、
送り:0.2mm/rev、
切り込み:1.0mm、
クーラント:有り、
評価項目:試料が欠損したとき、または試料の逃げ面摩耗幅または境界摩耗幅が0.3mmに至ったときを工具寿命とし、工具寿命に至るまでの加工時間を測定した。
[1]基材と前記基材の表面に形成された被覆層とを含む被覆切削工具であって、前記被覆層は、少なくとも1層の所定の層を含み、前記所定の層は、下記式:
(AlxTiyM1-x―y)N
[式中、MはZr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、WおよびSiからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を表し、xはAl元素とTi元素とMで表される元素との合計に対するAl元素の原子比を表し、yはAl元素とTi元素とMで表される元素との合計に対するTi元素の原子比を表し、0.60≦x≦0.85、0.10≦y≦0.40、0.60≦x+y≦1.00を満足する。]
で表される組成を有する化合物を含有する層であり、前記所定の層の平均厚さは、1.4μm以上15μm以下であり、前記所定の層は、下記の条件(1)、(2)および(3)を満たす上部領域と下部領域とを有する、被覆切削工具。
条件(1):前記上部領域は、前記被覆切削工具の表面側の界面から前記基材に向かって0.5μm以上2.5μm以下の平均厚さであって、かつ前記所定の層の平均厚さ未満の平均厚さを有し、前記下部領域は、前記基材側の界面から前記被覆切削工具の表面に向かって0.5μm以上2.5μm以下の平均厚さであって、かつ前記所定の層の平均厚さ未満の平均厚さを有する。
条件(2):前記上部領域に含まれるAl元素の原子比は、前記下部領域に含まれるAl元素の原子比よりも、3原子%〜10原子%高い。
条件(3):前記上部領域における平均粒径が、前記下部領域における平均粒径よりも大きい。
[2]前記上部領域における平均粒径は、100nm以上500nm以下であり、前記下部領域における平均粒径は、10nm以上100nm以下である、[1]に記載の被覆切削工具。
[3]前記所定の層は、前記上部領域と前記下部領域との間に中間領域を有し、前記中間領域におけるAl元素の原子比は、前記上部領域よりも低く、かつ前記下部領域よりも高い、[1]または[2]に記載の被覆切削工具。
[4]前記中間領域における平均粒径は、60nm以上475nm以下であり、前記上部領域における平均粒径よりも小さく、かつ前記下部領域における平均粒径より大きい、[1]〜[3]のいずれか1つに記載の被覆切削工具。
[5]前記下部領域における平均粒径は、10nm以上80nm以下である、[1]〜[4]のいずれか1つに記載の被覆切削工具。
[6]前記所定の層は、前記被覆層において最も前記基材側に位置する層である、[1]〜[5]のいずれか1つに記載の被覆切削工具。
[7]前記被覆層は、前記所定の層の前記基材とは反対側に、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、SiおよびYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、C、N、OおよびBからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物を含む外部層を有し、前記外部層の平均厚さは、0.1μm以上3.5μm以下である、[1]〜[6]のいずれか1つに記載の被覆切削工具。
[8]前記被覆層の平均厚さは、1.5μm以上15μm以下である、[1]〜[7]のいずれか1つに記載の被覆切削工具。
[9]前記基材は、超硬合金、サーメット、セラミックスまたは立方晶窒化硼素焼結体のいずれかである、[1]〜[8]のいずれか1つに記載の被覆切削工具。
[1]基材と前記基材の表面に形成された被覆層とを含む被覆切削工具であって、前記被覆層は、少なくとも1層の所定の層を含み、前記所定の層は、下記式:
(AlxTiyM1-x-y)N
[式中、MはZr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、WおよびSiからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を表し、xはAl元素とTi元素とMで表される元素との合計に対するAl元素の原子比を表し、yはAl元素とTi元素とMで表される元素との合計に対するTi元素の原子比を表し、0.60≦x≦0.85、0.10≦y≦0.40、0.60≦x+y≦1.00を満足する。]
で表される組成を有する化合物を含有する層であり、前記所定の層の平均厚さは、1.4μm以上15μm以下であり、前記所定の層は、下記の条件(1)、(2)および(3)を満たす上部領域と下部領域とを有する、被覆切削工具。
条件(1):前記上部領域は、前記被覆切削工具の表面側の界面から前記基材に向かって0.5μm以上2.5μm以下の平均厚さであって、かつ前記所定の層の平均厚さ未満の平均厚さを有し、前記下部領域は、前記基材側の界面から前記被覆切削工具の表面に向かって0.5μm以上2.5μm以下の平均厚さであって、かつ前記所定の層の平均厚さ未満の平均厚さを有する。
条件(2):前記上部領域に含まれるAl元素の原子比は、前記下部領域に含まれるAl元素の原子比よりも、3原子%〜10原子%高い。
条件(3):前記上部領域における平均粒径が、前記下部領域における平均粒径よりも大きい。
[2]前記上部領域における平均粒径は、100nm以上500nm以下であり、前記下部領域における平均粒径は、10nm以上100nm以下である、[1]に記載の被覆切削工具。
[3]前記所定の層は、前記上部領域と前記下部領域との間に中間領域を有し、前記中間領域におけるAl元素の原子比は、前記上部領域よりも低く、かつ前記下部領域よりも高い、[1]または[2]に記載の被覆切削工具。
[4]前記中間領域における平均粒径は、60nm以上475nm以下であり、前記上部領域における平均粒径よりも小さく、かつ前記下部領域における平均粒径より大きい、[1]〜[3]のいずれか1つに記載の被覆切削工具。
[5]前記下部領域における平均粒径は、10nm以上80nm以下である、[1]〜[4]のいずれか1つに記載の被覆切削工具。
[6]前記所定の層は、前記被覆層において最も前記基材側に位置する層である、[1]〜[5]のいずれか1つに記載の被覆切削工具。
[7]前記被覆層は、前記所定の層の前記基材とは反対側に、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、SiおよびYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、C、N、OおよびBからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物を含む外部層を有し、前記外部層の平均厚さは、0.1μm以上3.5μm以下である、[1]〜[6]のいずれか1つに記載の被覆切削工具。
[8]前記被覆層の平均厚さは、1.5μm以上15μm以下である、[1]〜[7]のいずれか1つに記載の被覆切削工具。
[9]前記基材は、超硬合金、サーメット、セラミックスまたは立方晶窒化硼素焼結体のいずれかである、[1]〜[8]のいずれか1つに記載の被覆切削工具。
Claims (9)
- 基材と前記基材の表面に形成された被覆層とを含む被覆切削工具であって、
前記被覆層は、少なくとも1層の所定の層を含み、
前記所定の層は、下記式:
(AlxTiyM1−x―y)N
[式中、MはZr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、WおよびSiからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を表し、xはAl元素とTi元素とMで表される元素との合計に対するAl元素の原子比を表し、yはAl元素とTi元素とMで表される元素との合計に対するTi元素の原子比を表し、0.60≦x≦0.85、0≦y≦0.40、0.60≦x+y≦1.00を満足する。]
で表される組成を有する化合物を含有する層であり、
前記所定の層の平均厚さは、1.4μm以上15μm以下であり、
前記所定の層は、下記の条件(1)、(2)および(3)を満たす上部領域と下部領域とを有する、被覆切削工具。
条件(1):前記上部領域は、前記被覆切削工具の表面側の界面から前記基材に向かって0.5μm以上2.5μm以下の平均厚さであって、かつ前記所定の層の平均厚さ未満の平均厚さを有し、前記下部領域は、前記基材側の界面から前記被覆切削工具の表面に向かって0.5μm以上2.5μm以下の平均厚さであって、かつ前記所定の層の平均厚さ未満の平均厚さを有する。
条件(2):前記上部領域に含まれるAl元素の原子比は、前記下部領域に含まれるAl元素の原子比よりも、3原子%〜10原子%高い。
条件(3):前記上部領域における平均粒径が、前記下部領域における平均粒径よりも大きい。 - 前記上部領域における平均粒径は、100nm以上500nm以下であり、
前記下部領域における平均粒径は、10nm以上100nm以下である、請求項1に記載の被覆切削工具。 - 前記所定の層は、前記上部領域と前記下部領域との間に中間領域を有し、
前記中間領域におけるAl元素の原子比は、前記上部領域よりも低く、かつ前記下部領域よりも高い、請求項1または2に記載の被覆切削工具。 - 前記中間領域における平均粒径は、60nm以上475nm以下であり、前記上部領域における平均粒径よりも小さく、かつ前記下部領域における平均粒径より大きい、請求項1〜3のいずれか1項に記載の被覆切削工具。
- 前記下部領域における平均粒径は、10nm以上80nm以下である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の被覆切削工具。
- 前記所定の層は、前記被覆層において最も前記基材側に位置する層である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の被覆切削工具。
- 前記被覆層は、前記所定の層の前記基材とは反対側に、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、SiおよびYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、C、N、OおよびBからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物を含む外部層を有し、
前記外部層の平均厚さは、0.1μm以上3.5μm以下である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の被覆切削工具。 - 前記被覆層の平均厚さは、1.5μm以上15μm以下である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の被覆切削工具。
- 前記基材は、超硬合金、サーメット、セラミックスまたは立方晶窒化硼素焼結体のいずれかである、請求項1〜8のいずれか1項に記載の被覆切削工具。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015199018 | 2015-10-07 | ||
JP2015199018 | 2015-10-07 | ||
PCT/JP2016/078947 WO2017061328A1 (ja) | 2015-10-07 | 2016-09-29 | 被覆切削工具 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2017061328A1 true JPWO2017061328A1 (ja) | 2017-10-05 |
JP6406592B2 JP6406592B2 (ja) | 2018-10-17 |
Family
ID=58487660
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017504843A Active JP6406592B2 (ja) | 2015-10-07 | 2016-09-29 | 被覆切削工具 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10654109B2 (ja) |
EP (1) | EP3360632B1 (ja) |
JP (1) | JP6406592B2 (ja) |
CN (1) | CN108136509B (ja) |
WO (1) | WO2017061328A1 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11313028B2 (en) * | 2017-08-31 | 2022-04-26 | Walter Ag | Wear resistant PVD tool coating containing TiAlN nanolayer films |
EP3903975B1 (en) * | 2018-12-27 | 2024-02-21 | Ntk Cutting Tools Co., Ltd. | Surface-coated cutting tool |
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WO2021006739A1 (en) * | 2019-07-11 | 2021-01-14 | Knight Acquisition B.V. | Saw blade or other cutting tool comprising a coating |
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JP6024981B2 (ja) * | 2012-03-09 | 2016-11-16 | 三菱マテリアル株式会社 | 高速断続切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具 |
JP6217216B2 (ja) | 2013-01-31 | 2017-10-25 | 三菱マテリアル株式会社 | 表面被覆切削工具とその製造方法 |
-
2016
- 2016-09-29 WO PCT/JP2016/078947 patent/WO2017061328A1/ja active Application Filing
- 2016-09-29 CN CN201680057164.5A patent/CN108136509B/zh active Active
- 2016-09-29 JP JP2017504843A patent/JP6406592B2/ja active Active
- 2016-09-29 EP EP16853482.4A patent/EP3360632B1/en active Active
- 2016-09-29 US US15/765,701 patent/US10654109B2/en active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3360632A1 (en) | 2018-08-15 |
EP3360632B1 (en) | 2021-12-22 |
WO2017061328A1 (ja) | 2017-04-13 |
CN108136509B (zh) | 2020-02-14 |
JP6406592B2 (ja) | 2018-10-17 |
US20180281077A1 (en) | 2018-10-04 |
US10654109B2 (en) | 2020-05-19 |
CN108136509A (zh) | 2018-06-08 |
EP3360632A4 (en) | 2019-04-10 |
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