JPWO2017018373A1 - 潜在指紋検出用組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の課題は、指頭分泌成分を含む潜在指紋が、平坦な指紋支持部材の表面に形成されている場合だけでなく、最表面に凸部又は凹部を有する指紋支持部材における凸部の表面のみに形成されている場合であっても、潜在指紋の変形又は消失が抑制されて、潜在指紋のパターンが保持され、光照射により潜在指紋の検出を効率よく行うことができる組成物を提供することである。
即ち、本発明は、2−シアノアクリレートと、シリコーンオイルとを含有し、シリコーンオイルの含有量は、2−シアノアクリレートの含有量を100質量部とした場合に700〜9000質量部である潜在指紋検出用組成物である。
本発明の潜在指紋検出用組成物は、更に、蛍光染料、安定剤等を含有することができる。
本発明においては、指頭分泌成分を含む潜在指紋が、平坦な指紋支持部材の表面に形成されている場合だけでなく、微細な凸部及び凹部が連続した表面を有する指紋支持部材(多孔質部材等)における凸部の表面のみに形成されており、例えば、潜在指紋のパターンが途切れ途切れになっている場合であっても、シリコーンオイルによる指紋支持部材の溶解、膨潤及び変質がなく、残存する潜在指紋の変形又は消失が抑制される。従って、指紋支持部材の表面形状に依存することなく、潜在指紋のパターンが保持され、潜在指紋の検出を効率よく行うことができる。
本発明の潜在指紋検出用組成物は、2−シアノアクリレートと、シリコーンオイルとを、特定の割合で含有する液体組成物である。
上記シアノアクリル酸アリールエステルとしては、フェニル−2−シアノアクリレート、ベンジル−2−シアノアクリレート等が挙げられる。
上記シアノアクリル酸アルケニルエステルとしては、アリル−2−シアノアクリレート等が挙げられる。
上記シアノアクリル酸アルキニルエステルとしては、プロパルギル−2−シアノアクリレート等が挙げられる。
上記シアノアクリル酸アルコキシアルキルエステルとしては、メトキシメチル−2−シアノアクリレート、メトキシエチル−2−シアノアクリレート、メトキシブチル−2−シアノアクリレート、エトキシエチル−2−シアノアクリレート等が挙げられる。
上記シアノアクリル酸ハロアルコキシアルキルエステルとしては、2−クロロエチル−2−シアノアクリレート、2−クロロエトキシエチル−2−シアノアクリレート、2,2,2−トリフルオロエチル−2−シアノアクリレート等が挙げられる。
鎖状化合物としては、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3−ジエチルテトラメチルジシロキサン、1,1,3,3−テトライソプロピルジシロキサン、ペンタメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、ペンタメチルヘキシルジシロキサン、1,3−ジオクチルテトラメチルジシロキサン、1,1,1,5,5,5−ヘキサメチルトリシロキサン、1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルトリシロキサン、1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、ヘプタメチルヘキシルトリシロキサン、ヘプタメチルヘプチルトリシロキサン、ヘプタメチルオクチルトリシロキサン、1,1,3,3,5,5,7,7−オクタメチルテトラシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、テトラデカメチルヘキサシロキサン、ヘキサデカメチルヘプタシロキサン、オクタデカメチルオクタシロキサン、エイコサメチルノナシロキサン、ドコサメチルデカシロキサン、トリス(トリメチルシロキシ)シラン、トリス(トリメチルシロキシメチル)シラン、テトラキス(トリメチルシロキシ)シラン等のアルキルシロキサン;ヘキサビニルジシロキサン、(3−グリシドキシプロピル)ペンタメチルジシロキサン、1,1,3,3−テトラエトキシ−1,3−ジメチルジシロキサン、1,3−ビス(グリシドキシプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3−ビス(ヒドロキシブチル)テトラメチルジシロキサン、1,3−ビス(ヒドロキシプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3−ビス(トリメチルシロキシ)−1,3−ジメチルジシロキサン、1,3−ジアリルテトラキス(トリメチルシロキシ)ジシロキサン、1,3−ジアリルテトラメチルジシロキサン、1,3−ジエチルテトラメチルジシロキサン、1,3−ジエチニルテトラメチルジシロキサン、1,3−ジメチルテトラメトキシジシロキサン、1,3−ジオクチルテトラメチルジシロキサン、1,3−ジビニルテトラエトキシジシロキサン、1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン、1−アリル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、ジビニルテトラキス(トリメチルシロキシ)ジシロキサン、トリス(トリメチルシロキシビニル)シラン、1,5−ジビニルヘキサメチルトリシロキサン、2−[メトキシ(ポリエチレンオキシ)プロピル]ヘプタメチルトリシロキサン、3−[ヒドロキシ(ポリエチレンオキシ)プロピル]ヘプタメチルトリシロキサン、3−オクチルヘプタメチルトリシロキサン等の変性アルキルシロキサン等が挙げられる。
また、環状化合物としては、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン、テトラデカメチルシクロヘプタシロキサン、ヘキサデカメチルシクロオクタシロキサン、オクタデカメチルシクロノナシロキサン、エイコサメチルシクロデカシロキサン等のシクロアルキルシロキサン;ビス[(ビシクロへプテニル)エチル]テトラメチルジシロキサン、ビス−2−[3,4−(エポキシシクロヘキシル)エチル]テトラメチルジシロキサン等の変性シクロアルキルシロキサン等が挙げられる。
上記蛍光染料は、上記2−シアノアクリレートの単独重合体の粉末の中に分散させて得られた試料に、400〜800nmの範囲の波長を有する電磁波(可視光線)を照射して蛍光を発するものであれば、特に限定されない。本発明においては、2−シアノアクリレートの重合体の中において安定であり、蛍光感度が高いことから、アントラキノン系染料、ナフタルイミド系染料等を用いることができる。本発明において用いられる蛍光染料は、1種のみであってよいし、2種以上の組み合わせであってもよい。
上記ナフタルイミド系染料としては、アルキルナフタルイミド、アルコキシナフタルイミド、アルコキシアルキルナフタルイミド、アミノナフタルイミド、アルキルアミノナフタルイミド、ニトロナフタルイミド、ハロゲン化ナフタルイミド、カルボニルナフタルイミド、フェニルチオナフタルイミド、シアノナフタルイミド、ヒドロキシナフタルイミド等が挙げられる。これらのうち、2−ブチル−6−(ブチルアミノ)−1H−ベンズ[de]イソキノリン−1,3(2H)−ジオン(SOLVENT YELLOW 43)等のアルキルアミノナフタルイミドが好ましい。
本発明の潜在指紋検出用組成物が安定剤を含有する場合、その含有量は、2−シアノアクリレートの含有量を100質量部とした場合に、0.0001〜1質量部であり、好ましくは0.001〜0.1質量部、より好ましくは0.001〜0.05質量部である。
上記のように、2−シアノアクリレートの重合により形成された硬化部は、通常、白色であるため、指紋支持部材の色によっては、その色と異なる色に発光する蛍光染料を含有する潜在指紋検出用組成物を用いることが好ましい。
本発明においては、潜在指紋の検出に際して、組成物の使用量を少量とすることができるだけでなく、大面積の検体に対して好適であることから、噴霧によることが好ましい。
組成物を検体に噴霧する場合、機械式噴霧器、電気式噴霧器、ポンプ式スプレー、トリガー式スプレー、エアゾール等の噴霧器を用いることができる。尚、検体の同一表面に対する噴霧回数は、特に限定されず、2−シアノアクリレートの噴霧量が好ましくは0.000015〜0.003ml/cm2の範囲となるものであればよい。尚、1回あたりの噴霧量は、好ましくは0.0005〜1ml/cm2、より好ましくは0.001〜0.1ml/cm2である。
また、検体を組成物に浸漬する場合、0℃〜40℃の組成物において検体を静止状態として、0.1〜5分間浸漬することが好ましい。
潜在指紋検出用組成物の製造に用いた原料は、以下の通りである。
安定剤として、亜硫酸ガス200質量ppm及びハイドロキノン600質量ppmを、予め、添加したエチル−2−シアノアクリレート(以下、「エチル−2−シアノアクリレート原料」という)を用いた。
1−2.蛍光染料
下記の2種の製品を精製処理に供したものを用いた。
(1)アントラキノン系染料
日本化薬社製2−フェノキシ−1−アミノ−4−ヒドロキシアントラセン−9,10−ジオン「Kayaset Red B」(商品名)
(2)ナフタルイミド系染料
日本化薬社製2−ブチル−6−(ブチルアミノ)−1H−ベンズ[de]イソキノリン−1,3(2H)−ジオン「Kayaset Flavine FG」(商品名)
<精製方法>
蛍光染料5gを、撹拌下の1質量%メタンスルホン酸のメタノール溶液50gに、徐々に添加して、添加完了後、更に5分間撹拌を継続した。次いで、濾別して、50℃で24時間減圧乾燥した。
(1)ヘキサメチルジシロキサン(1気圧における沸点:100℃)
(2)デカメチルテトラシロキサン(1気圧における沸点:194℃)
(3)デカメチルシクロペンタシロキサン(1気圧における沸点:210℃)
1−4.安定剤
亜硫酸ガス及びハイドロキノンを用いた。
1−5.有機溶剤
比較例のために、シリコーンオイルに代えて、アセトン、メチルエチルケトン、ベンゼン、ヘキサン又はクロロホルムを用いた。
上記の各原料を分割混合して、25℃で撹拌することにより、潜在指紋検出用組成物を製造した。得られた組成物の粘度を、JIS K 6833−1 5.4.1 b)方法2に準ずる方法により、温度25℃で測定した。
そして、市販のレンガの表面、市販のポリエチレン製袋の表面、及び、磁気切符の裏面(磁気面)に、手洗い後の指の腹を押し当てたものを検体とし、その表面全体に組成物を噴霧し、光照射により潜在指紋の検出が可能かどうかを調べた。
実施例1
エチル−2−シアノアクリレート原料3.7質量部と、ヘキサメチルジシロキサン96.3質量部と、アントラキノン系染料281.3×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、0.65mPa・sであった。
次に、得られた潜在指紋検出用組成物を、その表面に潜在指紋を有するレンガ(図1)に噴霧(噴霧量0.01〜0.02ml/cm2)した。これにより、組成物が指頭分泌成分に接触すると、エチル−2−シアノアクリレートの硬化による白色化が観察された。その後、噴霧した組成物を乾燥させ、Horiba Scientific社製犯罪捜査用光源装置「CRIMESCOPE CS−16−500」(商品名)により、白色固化部に波長415〜575nmの光を照射したところ、図2に示すように、潜在指紋の鮮明な発光を観察することができた。これらの結果を表1に示す。
エチル−2−シアノアクリレート原料5.5質量部と、ヘキサメチルジシロキサン94.5質量部と、アントラキノン系染料368.1×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、0.65mPa・sであった。
その後、実施例1と同様の操作を行い、光照射により、潜在指紋の鮮明な発光を観察することができた。これらの結果を表1に示す。
エチル−2−シアノアクリレート原料5.5質量部と、ヘキサメチルジシロキサン94.5質量部と、アントラキノン系染料36.8×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、0.65mPa・sであった。
その後、実施例1と同様の噴霧を7回行った後、光照射することにより、潜在指紋の鮮明な発光を観察することができた。これらの結果を表1に示すが、組成物の噴霧を複数回に渡って行った後、潜在指紋を検出したことから、判定を「△」とした。
エチル−2−シアノアクリレート原料3.7質量部と、オクタメチルトリシロキサン96.3質量部と、アントラキノン系染料281.3×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、1.0mPa・sであった。
その後、実施例1と同様の操作を行い、光照射により、潜在指紋の鮮明な発光を観察することができた。これらの結果を表1に示す。
エチル−2−シアノアクリレート原料5.5質量部と、オクタメチルトリシロキサン94.5質量部と、アントラキノン系染料368.1×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、1.0mPa・sであった。
その後、実施例1と同様の操作を行い、光照射により、潜在指紋の鮮明な発光を観察することができた。これらの結果を表1に示す。
エチル−2−シアノアクリレート原料5.5質量部と、デカメチルテトラシロキサン94.5質量部と、アントラキノン系染料368.1×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、1.5mPa・sであった。
その後、実施例1と同様の操作を行い、光照射により、潜在指紋の鮮明な発光を観察することができた。これらの結果を表1に示す。
エチル−2−シアノアクリレート原料5.5質量部と、デカメチルシクロペンタシロキサン94.5質量部と、アントラキノン系染料368.1×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、4.0mPa・sであった。
その後、実施例1と同様の操作を行い、光照射により、潜在指紋の鮮明な発光を観察することができた。これらの結果を表1に示す。
エチル−2−シアノアクリレート原料3.7質量部と、ヘキサメチルジシロキサン96.3質量部と、ナフタルイミド系染料140.6×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、0.65mPa・sであった。
その後、実施例1と同様の操作を行い、光照射により、潜在指紋の鮮明な発光を観察することができた。これらの結果を表1に示す。
エチル−2−シアノアクリレート原料5.5質量部と、ヘキサメチルジシロキサン94.5質量部と、ナフタルイミド系染料184.0×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、0.65mPa・sであった。
その後、実施例1と同様の操作を行い、光照射により、潜在指紋の鮮明な発光を観察することができた。これらの結果を表1に示す。
エチル−2−シアノアクリレート原料5.5質量部と、ヘキサメチルジシロキサン94.5質量部と、ナフタルイミド系染料18.4×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、0.65mPa・sであった。
その後、実施例1と同様の噴霧を5回行った後、光照射することにより、潜在指紋の鮮明な発光を観察することができた。これらの結果を表1に示すが、組成物の噴霧を複数回に渡って行った後、潜在指紋を検出したことから、判定を「△」とした。
エチル−2−シアノアクリレート原料3.7質量部と、オクタメチルトリシロキサン96.3質量部と、ナフタルイミド系染料140.6×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、1.0mPa・sであった。
その後、実施例1と同様の操作を行い、光照射により、潜在指紋の鮮明な発光を観察することができた。これらの結果を表1に示す。
エチル−2−シアノアクリレート原料5.5質量部と、オクタメチルトリシロキサン94.5質量部と、ナフタルイミド系染料184.0×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、1.0mPa・sであった。
その後、実施例1と同様の操作を行い、光照射により、潜在指紋の鮮明な発光を観察することができた。これらの結果を表1に示す。
エチル−2−シアノアクリレート原料5.5質量部と、アセトン94.5質量部と、アントラキノン系染料368.1×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、0.34mPa・sであった。
その後、実施例1と同様の操作を行い、光照射により、発光が観察されず、潜在指紋を検出することができなかった。これらの結果を表1に示す。
エチル−2−シアノアクリレート原料5.5質量部と、メチルエチルケトン94.5質量部と、アントラキノン系染料368.1×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、0.4mPa・sであった。
その後、実施例1と同様の操作を行い、光照射により、発光が観察されず、潜在指紋を検出することができなかった。これらの結果を表1に示す。
エチル−2−シアノアクリレート原料5.5質量部と、ベンゼン94.5質量部と、アントラキノン系染料368.1×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、0.65mPa・sであった。
その後、実施例1と同様の操作を行い、光照射により、発光が観察されず、潜在指紋を検出することができなかった。これらの結果を表1に示す。
エチル−2−シアノアクリレート原料5.5質量部と、ヘキサン94.5質量部と、アントラキノン系染料368.1×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、0.33mPa・sであった。
その後、実施例1と同様の操作を行い、光照射により、発光が観察されず、潜在指紋を検出することができなかった。これらの結果を表1に示す。
エチル−2−シアノアクリレート原料5.5質量部と、クロロホルム94.5質量部と、アントラキノン系染料368.1×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、0.57mPa・sであった。
その後、実施例1と同様の操作を行い、光照射により、発光が観察されず、潜在指紋を検出することができなかった。これらの結果を表1に示す。
実施例13
エチル−2−シアノアクリレート原料2.3質量部と、ヘキサメチルジシロキサン97.7質量部と、アントラキノン系染料133.2×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、0.65mPa・sであった。
次に、得られた潜在指紋検出用組成物を、その表面に潜在指紋を有する磁気切符の磁気面(図3)及びポリエチレン製袋(図5)の表面に噴霧(噴霧量0.01〜0.02ml/cm2)した。これにより、組成物が指頭分泌成分に接触すると、エチル−2−シアノアクリレートの硬化による白色化が観察された。その後、噴霧した組成物を乾燥させ、Horiba Scientific社製犯罪捜査用光源装置「CRIMESCOPE CS−16−500」(商品名)により、白色固化部に波長415〜575nmの光を照射したところ、図4及び図6に示すように、潜在指紋の鮮明な発光を観察することができた。これらの結果を表2に示す。
エチル−2−シアノアクリレート原料3.7質量部と、ヘキサメチルジシロキサン96.3質量部と、アントラキノン系染料187.5×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、0.65mPa・sであった。
その後、その表面に潜在指紋を有するポリエチレン製袋に対して、実施例13と同様の操作を行い、光照射により、潜在指紋の鮮明な発光を観察することができた。これらの結果を表2に示す。
エチル−2−シアノアクリレート原料3.7質量部と、ヘキサメチルジシロキサン96.3質量部と、アントラキノン系染料18.8×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、0.65mPa・sであった。
その後、その表面に潜在指紋を有するポリエチレン製袋に対して、実施例13と同様の噴霧を3回行った後、光照射することにより、潜在指紋の鮮明な発光を観察することができた。これらの結果を表2に示すが、組成物の噴霧を複数回に渡って行った後、潜在指紋を検出したことから、判定を「△」とした。
エチル−2−シアノアクリレート原料2.3質量部と、オクタメチルトリシロキサン97.7質量部と、アントラキノン系染料133.2×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、1.0mPa・sであった。
その後、その表面に潜在指紋を有するポリエチレン製袋に対して、実施例13と同様の操作を行い、光照射により、潜在指紋の鮮明な発光を観察することができた。これらの結果を表2に示す。
エチル−2−シアノアクリレート原料3.7質量部と、オクタメチルトリシロキサン96.3質量部と、アントラキノン系染料187.5×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、1.0mPa・sであった。
その後、その表面に潜在指紋を有するポリエチレン製袋に対して、実施例13と同様の操作を行い、光照射により、潜在指紋の鮮明な発光を観察することができた。これらの結果を表2に示す。
エチル−2−シアノアクリレート原料3.7質量部と、デカメチルテトラシロキサン96.3質量部と、アントラキノン系染料187.5×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、1.5mPa・sであった。
その後、その表面に潜在指紋を有するポリエチレン製袋に対して、実施例13と同様の操作を行い、光照射により、潜在指紋の鮮明な発光を観察することができた。これらの結果を表2に示す。
エチル−2−シアノアクリレート原料3.7質量部と、デカメチルシクロペンタシロキサン96.3質量部と、アントラキノン系染料187.5×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、4.0mPa・sであった。
その後、その表面に潜在指紋を有するポリエチレン製袋に対して、実施例13と同様の操作を行い、光照射により、潜在指紋の鮮明な発光を観察することができた。これらの結果を表2に示す。
エチル−2−シアノアクリレート原料2.3質量部と、ヘキサメチルジシロキサン97.7質量部と、ナフタルイミド系染料66.6×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、0.65mPa・sであった。
その後、その表面に潜在指紋を有するポリエチレン製袋に対して、実施例13と同様の操作を行い、光照射により、潜在指紋の鮮明な発光を観察することができた。これらの結果を表2に示す。
エチル−2−シアノアクリレート原料3.7質量部と、ヘキサメチルジシロキサン96.3質量部と、ナフタルイミド系染料93.8×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、0.65mPa・sであった。
その後、その表面に潜在指紋を有するポリエチレン製袋に対して、実施例13と同様の操作を行い、光照射により、潜在指紋の鮮明な発光を観察することができた。これらの結果を表2に示す。
エチル−2−シアノアクリレート原料3.7質量部と、ヘキサメチルジシロキサン96.3質量部と、ナフタルイミド系染料9.4×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、0.65mPa・sであった。
その後、その表面に潜在指紋を有するポリエチレン製袋に対して、実施例13と同様の噴霧を5回行った後、光照射することにより、潜在指紋の鮮明な発光を観察することができた。これらの結果を表2に示すが、組成物の噴霧を複数回に渡って行った後、潜在指紋を検出したことから、判定を「△」とした。
エチル−2−シアノアクリレート原料2.3質量部と、オクタメチルトリシロキサン97.7質量部と、ナフタルイミド系染料66.6×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、1.0mPa・sであった。
その後、その表面に潜在指紋を有するポリエチレン製袋に対して、実施例13と同様の操作を行い、光照射により、潜在指紋の鮮明な発光を観察することができた。これらの結果を表2に示す。
エチル−2−シアノアクリレート原料3.7質量部と、オクタメチルトリシロキサン96.3質量部と、ナフタルイミド系染料93.8×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、1.0mPa・sであった。
その後、その表面に潜在指紋を有するポリエチレン製袋に対して、実施例13と同様の操作を行い、光照射により、潜在指紋の鮮明な発光を観察することができた。これらの結果を表2に示す。
エチル−2−シアノアクリレート原料3.7質量部と、アセトン96.3質量部と、アントラキノン系染料187.5×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、0.34mPa・sであった。
その後、その表面に潜在指紋を有するポリエチレン製袋に対して、実施例13と同様の操作を行い、光照射により、発光が観察されず、潜在指紋を検出することができなかった。これらの結果を表2に示す。
エチル−2−シアノアクリレート原料3.7質量部と、メチルエチルケトン96.3質量部と、アントラキノン系染料187.5×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、0.4mPa・sであった。
その後、その表面に潜在指紋を有するポリエチレン製袋に対して、実施例13と同様の操作を行い、光照射により、発光が観察されず、潜在指紋を検出することができなかった。これらの結果を表2に示す。
エチル−2−シアノアクリレート原料3.7質量部と、ベンゼン96.3質量部と、アントラキノン系染料187.5×10−6質量部とからなる均一溶液(潜在指紋検出用組成物)を得た。粘度(25℃)は、0.65mPa・sであった。
その後、その表面に潜在指紋を有するポリエチレン製袋に対して、実施例13と同様の操作を行い、光照射により、発光が観察されず、潜在指紋を検出することができなかった。これらの結果を表2に示す。
Claims (6)
- 2−シアノアクリレートと、シリコーンオイルとを含有し、前記シリコーンオイルの含有量は、前記2−シアノアクリレートの含有量を100質量部とした場合に700〜9000質量部であることを特徴とする潜在指紋検出用組成物。
- 前記シリコーンオイルが、ケイ素原子数が2〜5のアルキルシロキサンである請求項1に記載の潜在指紋検出用組成物。
- 更に、蛍光染料を含有する請求項1に記載の潜在指紋検出用組成物。
- 前記蛍光染料が、アントラキノン系染料及びナフタルイミド系染料から選ばれた少なくとも1種である請求項3に記載の潜在指紋検出用組成物。
- 更に、安定剤を含有する請求項1に記載の潜在指紋検出用組成物。
- 前記安定剤が、亜硫酸ガス、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、HBF4、BF3エーテル錯塩、BF3酢酸錯塩、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾール、トリフルオロメタンスルホン酸及び二硫化炭素から選ばれた少なくとも1種である請求項5に記載の潜在指紋検出用組成物。
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