JPWO2016143824A1 - 組成物キット、積層体およびその製造方法、バンドパスフィルター - Google Patents

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Abstract

本発明は、角度依存性が低減されたバンドパスフィルターをより簡便に製造するために好適に用いられる組成物キット、積層体およびその製造方法、並びに、バンドパスフィルターを提供する。本発明の組成物キットは、重合性基を有する液晶化合物および右旋回性のキラル剤を含む第１組成物と、重合性基を有する液晶化合物および左旋回性のキラル剤を含む第２組成物と、色材を含む第３組成物と、を含む。

Description

本発明は、組成物キット、積層体およびその製造方法、並びに、バンドパスフィルターに関する。
従来から、特定の波長の光を選択的に透過および／または遮蔽するバンドパスフィルターが、光学部材として使用されている。このようなバンドパスフィルターの一例として、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層した積層体（多層膜）が挙げられる（特許文献１〜３参照）。
特開２０１２−２２５９９３号公報 特開２００８−０１５２３４号公報 特開２００４−３５４７０５号公報
上記特許文献に記載の積層体に含まれる高屈折率層および低屈折率層は蒸着により形成されるため、積層体の作製に時間と手間がかかり、高コストであった。また、原理的に、この積層体を観察する角度に依存して選択反射波長（遮蔽波長）がシフトする、という角度依存性の問題があった。
本発明は、上記実情に鑑みて、角度依存性が低減されたバンドパスフィルターをより簡便に製造するために好適に用いられる組成物キットを提供することを目的とする。
また、本発明は、角度依存性が低減されたバンドパスフィルターの形成に好適に用いられる積層体を提供することも目的とする。
さらに、本発明は、積層体の製造方法、および、バンドパスフィルターを提供することも目的とする。
本発明者は、上記課題を達成すべく鋭意研究した結果、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。
（１） 重合性基を有する液晶化合物および右旋回性のキラル剤を含む第１組成物と、
重合性基を有する液晶化合物および左旋回性のキラル剤を含む第２組成物と、
色材を含む第３組成物と、を含む組成物キット。
（２） 右旋回性のキラル剤の螺旋捩れ力が３０μｍ-1以上である、（１）に記載の組成物キット。
（３） 左旋回性のキラル剤の螺旋捩れ力が３０μｍ-1以上である、（１）または（２）に記載の組成物キット。
（４） 左旋回性のキラル剤が、後述する一般式（１）で表される化合物、および、後述する一般式（２）で表される化合物からなる群から選択される、（１）〜（３）のいずれかに記載の組成物キット。
（５） 左旋回性のキラル剤が、後述する一般式（３）で表される化合物、および、後述する一般式（４）で表される化合物からなる群から選択される、（１）〜（４）のいずれかに記載の組成物キット。
（６） 色材が顔料である、（１）〜（５）のいずれかに記載の組成物キット。
（７） 重合性基を有する液晶化合物の３０℃における屈折率異方性Δｎが０．２５以上である、（１）〜（６）のいずれかに記載の組成物キット。
（８） 重合性基を有する液晶化合物が、後述する一般式（５）で表される化合物である、（１）〜（７）のいずれかに記載の組成物キット。
（９） 第１組成物、および、第２組成物が、それぞれ、光重合開始剤をさらに含む、（１）〜（８）のいずれかに記載の組成物キット。
（１０） 第１組成物、および、第２組成物が、それぞれ、含フッ素化合物をさらに含む、（１）〜（９）のいずれかに記載の組成物キット。
（１１） 波長７３０ｎｍの吸光度に対する波長８３０ｎｍの吸光度の比が３以上であるバンドパスフィルターを形成するために用いられる、（１）〜（１０）のいずれかに記載の組成物キット。
（１２） 波長７３０ｎｍの吸光度に対する波長６３０ｎｍの吸光度の比が３以上であるバンドパスフィルターを形成するために用いられる、（１１）に記載の組成物キット。
（１３） 波長８５０ｎｍの吸光度に対する波長９５０ｎｍの吸光度の比が３以上であるバンドパスフィルターを形成するために用いられる、（１）〜（１０）のいずれかに記載の組成物キット。
（１４） 波長８５０ｎｍの吸光度に対する波長７５０ｎｍの吸光度の比が３以上であるバンドパスフィルターを形成するために用いられる、（１３）に記載の組成物キット。
（１５） 波長９４０ｎｍの吸光度に対する波長１０４０ｎｍの吸光度の比が３以上であるバンドパスフィルターを形成するために用いられる、（１）〜（１０）のいずれかに記載の組成物キット。
（１６） 波長９４０ｎｍの吸光度に対する波長８４０ｎｍの吸光度の比が３以上であるバンドパスフィルターを形成するために用いられる、（１５）に記載の組成物キット。
（１７） （１）〜（１０）のいずれかに記載の組成物キットを用いた積層体の製造方法であって、
第１組成物を用いて、右旋回性のコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層Ｘａを形成する工程と、
第２組成物を用いて、左旋回性のコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層Ｘｂを形成する工程と、
第３組成物を用いて、光吸収層を形成する工程と、を含む積層体の製造方法。
（１８） 互いに隣接して配置される複数の光反射層からなる反射積層膜、および、光吸収層を有し、
反射積層膜は、右旋回性のコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層Ｘａを少なくとも１層と、左旋回性のコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層Ｘｂを少なくとも１層とを含み、
光反射層Ｘａの少なくとも１層の選択反射波長と光反射層Ｘｂの少なくとも１層の選択反射波長とが等しく、
光吸収層は、色材を含む、積層体。
（１９） 光反射層Ｘａに、螺旋捩れ力が３０μｍ-1以上である右旋回性のキラル剤が含まれ、
光反射層Ｘｂに、螺旋捩れ力が３０μｍ-1以上である左旋回性のキラル剤が含まれる、（１８）に記載の積層体。
（２０） 左旋回性のキラル剤が、後述する一般式（１）で表される化合物、および、後述する一般式（２）で表される化合物からなる群から選択される、（１８）または（１９）に記載の積層体。
（２１） 左旋回性のキラル剤が、後述する一般式（３）で表される化合物、および、後述する一般式（４）で表される化合物からなる群から選択される、（１８）〜（２０）のいずれかに記載の積層体。
（２２） 色材が顔料を含む、（１８）〜（２１）のいずれかに記載の積層体。
（２３） 光反射層Ｘａおよび光反射層Ｘｂのうち少なくとも一方を２層以上有し、
光反射層Ｘａが複数ある場合、それぞれの光反射層Ｘａに含まれるキラル剤の種類が同一であり、
光反射層Ｘｂが複数ある場合、それぞれの光反射層Ｘｂに含まれるキラル剤の種類が同一である、（１８）〜（２２）のいずれかに記載の積層体。
（２４） 反射積層膜のヘイズが１％以下である、（１８）〜（２３）のいずれかに記載の積層体。
（２５） 波長７３０ｎｍの吸光度に対する波長８３０ｎｍの吸光度の比が３以上である、（１８）〜（２４）のいずれかに記載の積層体。
（２６） 波長７３０ｎｍの吸光度に対する波長６３０ｎｍの吸光度の比が３以上である、（２５）に記載の積層体。
（２７） 波長８５０ｎｍの吸光度に対する波長９５０ｎｍの吸光度の比が３以上である、（１８）〜（２４）のいずれかに記載の積層体。
（２８） 波長８５０ｎｍの吸光度に対する波長７５０ｎｍの吸光度の比が３以上である、（２７）に記載の積層体。
（２９） 波長９４０ｎｍの吸光度に対する波長１０４０ｎｍの吸光度の比が３以上である、（１８）〜（２４）のいずれかに記載の積層体。
（３０） 波長９４０ｎｍの吸光度に対する波長８４０ｎｍの吸光度の比が３以上である、（２９）に記載の積層体。
（３１） （１８）〜（３０）のいずれかに記載の積層体を有するバンドパスフィルター。
本発明によれば、角度依存性が低減されたバンドパスフィルターをより簡便に製造するために好適に用いられる組成物キットを提供することができる。
また、本発明によれば、角度依存性が低減されたバンドパスフィルターの形成に好適に用いられる積層体を提供することもできる。
さらに、本発明によれば、積層体の製造方法、および、バンドパスフィルターを提供することもできる。
積層体の一例を示す断面図である。 積層体の他の一例を示す断面図である。 積層体の他の一例を示す断面図である。 本発明の積層体を用いた固体撮像素子を適用した撮像装置の機能ブロック図である。 積層体（Ａ）の透過スペクトルを示すグラフである。 積層体（Ｂ）の透過スペクトルを示すグラフである。 積層体（Ｃ）の透過スペクトルを示すグラフである。 赤外線透過フィルムＡを有するガラス基板の透過スペクトルを示すグラフである。 赤外線透過フィルムＢを有するガラス基板の透過スペクトルを示すグラフである。 赤外線透過フィルムＣを有する基板の透過スペクトルを示すグラフである。 バンドパスフィルターＡの透過スペクトルを示すグラフである。 バンドパスフィルターＢの透過スペクトルを示すグラフである。 バンドパスフィルターＣの透過スペクトルを示すグラフである。 積層体（Ｇ１−１）、（Ｇ４）、（Ｇ５）、（Ｇ６）、（Ｇ７）、（Ｇ８）、（Ｇ９）、および、（Ｇ１０）の透過スペクトルを示すグラフである。 組合せ体（Ｇ１３）の透過スペクトルを示すグラフである。 バンドパスフィルターＤの透過スペクトルを示すグラフである。 バンドパスフィルターＥの透過スペクトルを示すグラフである。 バンドパスフィルターＦの透過スペクトルを示すグラフである。
以下、本発明の組成物キット、積層体（コレステリック液晶積層体）およびその製造方法、並びに、バンドパスフィルターの好適態様について詳述する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
本明細書に於ける基（原子団）の表記に於いて、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さないものとともに置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
なお、本明細書でいう「赤外線（赤外光）」とは、波長７００ｎｍ以上１ｍｍ程度の光を意図する。また、「可視光線（可視光）」とは、波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ未満程度の光を意図する。
以下では、まず、積層体の態様について詳述し、その後、組成物キットおよびバンドパスフィルターについて詳述する。
＜積層体＞
本発明の積層体の構成の一例を図面により説明する。ただし、本発明は図面により限定されるものではない。
以下の各図においては基板を有する構成を記載しているが、本発明の積層体は、基板を有する構成に限定されるものではない。
図１は、積層体１０の断面図であり、積層体１０は、基板１２と、反射積層膜１４と、光吸収層１６とをこの順で有する。反射積層膜１４は、互いに隣接して配置される複数の光反射層からなる膜であり、右旋回性のコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層Ｘａ（１８ａ）、および、左旋回性のコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層Ｘｂ（１８ｂ）を含む。図１に示すように、光反射層Ｘａ（１８ａ）および光反射層Ｘｂ（１８ｂ）は、互いに隣接して配置される。
また、光反射層Ｘａ（１８ａ）の選択反射波長と光反射層Ｘｂ（１８ｂ）の選択反射波長とは等しい。つまり、反射積層膜１４によって、同程度の波長の右円偏光および左円偏光のいずれも反射することができる。なお、光反射層Ｘａ（１８ａ）および光反射層Ｘｂ（１８ｂ）は、同程度の螺旋ピッチを有するとともに、互いに逆向きの旋回性を示している。
積層体１０は、いわゆる選択波長透過フィルター（バンドパスフィルター）に該当する。例えば、基板１２側から積層体１０に光が入射されると、まず、反射積層膜１４によって所定の波長の光が選択的に反射され、所定の波長の光のみが透過する。反射積層膜１４を透過した光の一部は、光吸収層１６によって吸収され、所定の波長の光のみが透過する。つまり、積層体１０は、反射積層膜１４によって所定の波長の光が反射され、光吸収層１６によって所定の波長の光が吸収される。そのため、反射積層膜１４および光吸収層１６の両方を透過可能な光のみが積層体１０を透過し、積層体１０は波長選択的なフィルターとして機能する。積層体１０を透過する光の帯域（透過帯域）は、反射積層膜１４の透過スペクトルと光吸収層１６の透過スペクトルとを重ね合わせて、両方の透過スペクトルにおいて透過している波長領域が該当する。
積層体の好適態様としては、反射積層膜１４によって赤外線領域の所定の範囲の光が選択的に反射され、かつ、赤外線領域の所定の範囲の光が透過され、光吸収層１６によって可視光線が吸収（遮蔽）される態様が挙げられる。
反射積層膜１４によって反射される赤外線の範囲は特に制限されないが、反射積層膜１４によって波長６５０〜１２００ｎｍの少なくとも一部の範囲の光が反射されることが好ましい。より具体的には、波長６５０〜１２００ｎｍのうち、特定の波長の外線（例：７３０ｎｍ±１００ｎｍ、８５０ｎｍ±１００ｎｍ、または、９４０ｎｍ±１００ｎｍ）の範囲の光を透過させ、他の領域の光を反射させることが好ましい。なお、上記透過とは、上記範囲における最大透過率が５０％以上のことを意図する。反射とは、上記範囲における最大透過率が３０％以下のことを意図する。
積層体１０においては、光反射層Ｘａ（１８ａ）および光反射層Ｘｂ（１８ｂ）が粘着材を用いずに互いに隣接して積層されているため、積層体１０の面状が良好である。また、後述するように、積層体１０は所定の組成物キットを用いることにより容易に作製することができる。また、積層体１０では光吸収層１６が含まれることにより、角度依存性も低減することができる。
光反射層Ｘａ（１８ａ）および光反射層Ｘｂ（１８ｂ）によって反射される波長（選択反射波長）とは、光反射層における透過率の極小値をＴｍｉｎ（％）とした場合、以下式で表される半値透過率：Ｔ1/2（％）を示す２つの波長の平均値のことをいう。
半値透過率を求める式： Ｔ1/2＝１００−（１００−Ｔｍｉｎ）÷２
より詳細には、光反射層１層あたりには前述の半値透過率を示す波長が長波側（λ１）と短波側（λ２）とに２つ存在し、選択反射波長の値は、λ１とλ２との平均値で表される。
また、上述したように、光反射層Ｘａ（１８ａ）の選択反射波長と光反射層Ｘｂ（１８ｂ）の選択反射波長とは等しい。２つの光反射層の選択反射波長同士が「等しい」とは、厳密に等しいことを意味するものではなく、光学的に影響のない範囲の誤差は許容される。本明細書中、２つの光反射層の選択反射波長同士が「等しい」とは、２つの光反射層の選択反射波長の差が２０ｎｍ以下であることを意図し、この差は１５ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがより好ましい。
選択反射波長が互いに等しく、左右異なる旋回性を有する２つの光反射層を積層することで、積層体の透過スペクトルは、この選択反射波長において１つの強いピークを示し、反射性能の観点から好ましい。
光反射層Ｘａ（１８ａ）には、螺旋捩れ力が３０μｍ-1以上である右旋回性のキラル剤が含まれることが好ましい。光反射層Ｘａ（１８ａ）に上記キラル剤が含まれることにより、より薄い厚みによって所定の選択反射波長を反射できる。
また、光反射層Ｘｂ（１８ｂ）には、螺旋捩れ力が３０μｍ-1以上である左旋回性のキラル剤が含まれることが好ましい。光反射層Ｘｂ（１８ｂ）に上記キラル剤が含まれることにより、より薄い厚みによって所定の選択反射波長を反射できる。
光反射層Ｘａ（１８ａ）および光反射層Ｘｂ（１８ｂ）のうち少なくとも１層は、６５０〜１２００ｎｍにおける反射率の極大値が４０％以上であることが好ましく、４５％以上であることがより好ましい。なお、光反射層Ｘａ（１８ａ）および光反射層Ｘｂ（１８ｂ）の両方の６５０〜１２００ｎｍにおける反射率の極大値が上記範囲内であることがさらに好ましい。
なお、図１の積層体１０においては、基板１２、光反射層Ｘａ（１８ａ）、および、光反射層Ｘｂ（１８ｂ）の順番に配置されているが、この態様に限定されず、基板１２、光反射層Ｘｂ（１８ｂ）、および、光反射層Ｘａ（１８ａ）の順番で配置されていてもよい。なお、積層体１０の面状がより良好となる点で、基板１２、光反射層Ｘａ（１８ａ）、および、光反射層Ｘｂ（１８ｂ）の順番に配置されることが好ましい。
また、図１において、光吸収層１６は反射積層膜１４の基板１２側とは反対側の表面上に配置されているが、この態様には限定されない。例えば、図２に積層体１０ａのように、光吸収層１６、基板１２、および、反射積層膜１４の順番で積層されていてもよい。
また、基板１２と反射積層膜１４との間には、他の層が配置されていてもよい。他の層としては、後述する、配向層、および、下塗り層等が挙げられる。
図１に示す積層体１０は、光反射層Ｘａ（１８ａ）および光反射層Ｘｂ（１８ｂ）をそれぞれ１層ずつ有するが、この態様には限定されず、積層体中には光反射層Ｘａおよび光反射層Ｘｂが複数層含まれていてもよい。
図３に、光反射層Ｘａおよび光反射層Ｘｂのうち少なくとも一方を２層以上有する場合の積層体の他の一例を示した断面図を示す。図３に示す積層体１０ｂでは、基板１２上に、右旋回性のコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層Ｘａ（２０ａ）、右旋回性のコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層Ｘａ（２２ａ）、左旋回性のコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層Ｘｂ（２０ｂ）、および、左旋回性のコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層Ｘｂ（２２ｂ）が積層されている。光反射層Ｘａ（２０ａ）と光反射層Ｘａ（２２ａ）とは互いに接して配置され、光反射層Ｘａ（２２ａ）と光反射層Ｘｂ（２０ｂ）とは互いに接して配置され、光反射層Ｘｂ（２０ｂ）と光反射層Ｘｂ（２２ｂ）とは互いに接して配置されている。
光反射層Ｘａ（２０ａ）および光反射層Ｘａ（２２ａ）はいずれも右円偏光を反射する層であり、それぞれの選択反射波長は異なる。より具体的には、光反射層Ｘａ（２２ａ）の選択反射波長は、光反射層Ｘａ（２０ａ）の選択反射波長よりも長波長側に位置する。
また、光反射層Ｘｂ（２０ｂ）および光反射層Ｘｂ（２２ｂ）はいずれも右円偏光を反射する層であり、それぞれの選択反射波長は異なる。より具体的には、光反射層Ｘｂ（２２ｂ）の選択反射波長は、光反射層Ｘｂ（２０ｂ）の選択反射波長よりも長波長側に位置する。
また、光反射層Ｘａ（２０ａ）および光反射層Ｘｂ（２０ｂ）は、概ね同一の螺旋ピッチを有し、両者の選択反射波長は等しい。また、光反射層Ｘａ（２２ａ）および光反射層Ｘｂ（２２ｂ）は、概ね同一の螺旋ピッチを有し、両者の選択反射波長は等しい。
このような態様の場合、光反射層Ｘａ（２０ａ）および光反射層Ｘｂ（２０ｂ）は、より短波長側の光を反射する役割を担い、光反射層Ｘａ（２２ａ）および光反射層Ｘｂ（２２ｂ）は、より長波長側の光を反射する役割を担う。すなわち、４層の光反射層を用いることによって相補的に幅広い波長範囲の光を反射する。
図３においては、積層体１０ｂ中には光反射層Ｘａおよび光反射層Ｘｂはそれぞれ２層ずつ含まれるが、この態様には限定されない。積層体中には、少なくとも１層の光反射層Ｘａおよび少なくとも１層の光反射層Ｘｂが含まれていればよい。
また、光反射層Ｘａおよび光反射層Ｘｂの積層順も特に制限されず、例えば、光反射層Ｘａ（２０ａ）、光反射層Ｘｂ（２０ｂ）、光反射層Ｘａ（２２ａ）、および、光反射層Ｘｂ（２２ｂ）の順で積層されていてもよい。
積層体中に含まれる光反射層Ｘａの総層数に特に制限はないが、例えば、１〜１０層とすることが好ましく、１〜５層とすることがより好ましく、１層とすることがさらに好ましい。
また、積層体中に含まれる光反射層Ｘｂの総層数に特に制限はないが、例えば、１〜１０層とすることが好ましく、１〜５層とすることがより好ましく、１層とすることがさらに好ましい。
光反射層Ｘａの総層数と光反射層Ｘｂの総層数は、互いに独立であり、同一であっても異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。
積層体は、１層の光反射層Ｘａおよび１層の光反射層Ｘｂからなる組をそれぞれ２組以上有していてもよい。このとき、各組にそれぞれ含まれる光反射層Ｘａの選択反射波長および光反射層Ｘｂの選択反射波長が互いに等しいことがより好ましい。
積層体に含まれる光反射層Ｘａが複数存在する場合は、各光反射層Ｘａの選択反射波長は互いに異なること好ましい。その理由としては、同じ選択反射波長の光反射層Ｘａが複数あっても反射効率は高くならないためである。ここで、２つの光反射層の選択反射波長が互いに異なるとは、２つの選択反射波長の差が少なくとも２０ｎｍを超えることを意図する。例えば、光反射層Ｘａが複数存在する場合は、各光反射層Ｘａ同士の選択反射波長の差は２０ｎｍを超えることが好ましく、３０ｎｍ以上とすることがより好ましく、４０ｎｍ以上とすることが特に好ましい。
また、積層体に含まれる光反射層Ｘｂが複数存在する場合は、各光反射層Ｘｂの選択反射波長は互いに異なることが同様に好ましい。光反射層Ｘｂが複数存在する場合は、各光反射層Ｘｂ同士の選択反射波長の差は２０ｎｍを超えることが好ましく、３０ｎｍ以上とすることがより好ましく、４０ｎｍ以上とすることが特に好ましい。
積層体が１層の光反射層Ｘａおよび１層の光反射層Ｘｂからなる組をそれぞれ２組以上有している場合、異なる組に含まれる光反射層Ｘａの選択反射波長が互いに異なることが好ましく、かつ、異なる組に含まれる光反射層Ｘｂの選択反射波長が互いに異なることが好ましい。
積層体は、１層の光反射層Ｘａおよび１層の光反射層Ｘｂからなる組をそれぞれ２組以上有し、かつ、各組にそれぞれ含まれる光反射層Ｘａおよび光反射層Ｘｂの選択反射波長が互いに等しく、かつ、異なる組に含まれる光反射層Ｘａの選択反射波長が互いに異なり、かつ、異なる組に含まれる光反射層Ｘｂの選択反射波長が互いに異なることがより好ましい。
積層体に光反射層Ｘａが２層以上含まれる場合、それぞれの光反射層Ｘａに含まれるキラル剤の種類が同一であることが好ましい。
また、積層体に光反射層Ｘｂが２層以上含まれる場合、それぞれの光反射層Ｘｂに含まれるキラル剤の種類が同一であることが好ましい。
上記態様であれば、部材の共通化により、コストが低減する。
また、各光反射層の厚みは特に制限されないが、１〜８μｍ程度（好ましくは２〜７μｍ程度）が好ましい。
積層体の好適態様の一つとしては、波長７３０ｎｍの吸光度に対する波長８３０ｎｍの吸光度の比（Ｒ１）が３以上である積層体Ｘが挙げられる。比（Ｒ１）は、３．５〜３０が好ましく、４〜２５がより好ましい。
積層体Ｘにおいては、さらに、波長７３０ｎｍの吸光度に対する波長６３０ｎｍの吸光度の比（Ｒ２）が３以上であることが好ましい。比（Ｒ２）は、３．５〜３０がより好ましく、４〜２５がさらに好ましい。
また、積層体の他の好適態様の一つとして、波長８５０ｎｍの吸光度に対する波長９５０ｎｍの吸光度の比（Ｒ３）が３以上である積層体Ｙが挙げられる。比（Ｒ３）は、３．５〜３０が好ましく、４〜２５がより好ましい。
積層体Ｙにおいては、さらに、波長８５０ｎｍの吸光度に対する波長７５０ｎｍの吸光度の比（Ｒ４）が３以上であることが好ましい。比（Ｒ４）は、３．５〜３０がより好ましく、４〜２５がさらに好ましい。
さらに、積層体の他の好適態様の一つとしては、波長９４０ｎｍの吸光度に対する波長１０４０ｎｍの吸光度の比（Ｒ５）が３以上である積層体Ｚが挙げられる。比（Ｒ５）は、３．５〜３０が好ましく、４〜２５がより好ましい。
積層体Ｚにおいては、さらに、波長９４０ｎｍの吸光度に対する波長８４０ｎｍの吸光度の比（Ｒ６）が３以上であることが好ましい。比（Ｒ６）は、３．５〜３０がより好ましく、４〜２５がさらに好ましい。
上記積層体Ｘ〜積層体Ｚにおいては、角度依存性がより低減され好ましい。
以下、積層体を構成する各層（多層反射膜、および、光吸収層等）について詳述する。
＜多層反射膜＞
多層反射膜は、互いに隣接して配置される複数の光反射層からなる膜である。上述したように、光反射層からなる多層反射膜によって、所定の波長の光が反射される。反射される光の種類は特に制限されないが、赤外線領域の光を反射することが好ましい。
多層反射膜は、右旋回性のコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層Ｘａを少なくとも１層と、左旋回性のコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層Ｘｂを少なくとも１層とを含み、上記光反射層Ｘａの少なくとも１層の選択反射波長と上記光反射層Ｘｂの少なくとも１層の選択反射波長とが等しい。
多層反射膜のヘイズ値は特に制限されないが、１％以下であることが好ましく、０．５％以下であることがより好ましく、０．４％以下であることがさらに好ましい。
各光反射層の形成に用いる材料（主には、液晶化合物およびキラル剤）の種類およびその濃度等を調整することで、所望の螺旋ピッチの各光反射層を形成することができる。また各光反射層の厚みは、塗布量を調整することで所望の範囲とすることができる。光反射層の厚みを薄くすることで、意図的に反射率を低下させ、光の一部の透過させることが可能である。
各光反射層の形成方法は特に制限されないが、光反射層の厚みおよび螺旋ピッチを調整しやすい点から、重合性基を有する液晶化合物およびキラル剤を含む組成物（重合性液晶組成物）を用いて光反射層を形成する方法が好ましい。より具体的には、重合性基を有する液晶化合物およびキラル剤を含む組成物を用いて塗膜を形成し、液晶化合物をコレステリック配向させた後、光重合によって固定化する方法が好ましく挙げられる。
なお、右旋回性のコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層Ｘａを形成する場合には、キラル剤として右旋回性のキラル剤を用い、左旋回性のコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層Ｘｂを形成する場合には、キラル剤として左旋回性のキラル剤を用いる。
また、上記組成物には、重合性基を有する液晶化合物およびキラル剤以外の他の成分が含まれていてもよい。他の成分としては、例えば、重合開始剤、溶剤、および、非重合性の液晶化合物等が挙げられる。また、液晶化合物の配向の均一性、組成物の塗布性、および、塗膜強度を向上させるために、水平配向剤、ムラ防止剤、ハジキ防止剤、および、重合性化合物等の種々の添加剤から選ばれる少なくとも１種が組成物には含まれていてもよい。さらに、必要に応じて、重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、色材、および、金属酸化物粒子等が、光学的性能を低下させない範囲で、組成物に含まれていてもよい。
なお、組成物中には、各成分が２種以上含まれていてもよい。
以下、上記組成物を用いて光反射層を形成する方法について詳述する。
まず、組成物に含まれる成分について詳述する。
（液晶化合物）
組成物には、重合性基を有する液晶化合物（以後、「重合性液晶化合物」とも称する）が含まれることが好ましい。液晶化合物としては、いわゆる棒状液晶化合物が好ましい。
棒状液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類、および、アルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましい。
なお、液晶化合物としては、低分子液晶性分子だけではなく、高分子液晶性分子も用いることができる。
重合性液晶化合物に含まれる重合性基の種類は特に制限されず、不飽和重合性基、エポキシ基、およびアジリジニル基が挙げられ、不飽和重合性基が好ましく、エチレン性不飽和重合性基（例えば、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基）がより好ましい。液晶化合物が有する重合性基の個数は、好ましくは１〜６個、より好ましくは１〜３個である。
重合性基を有する棒状液晶化合物（重合性棒状液晶化合物）としては、Ｍａｋｒｏｍｏｌ． Ｃｈｅｍ．， １９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許４６８３３２７号、同５６２２６４８号、同５７７０１０７号、ＷＯ９５／２２５８６号、同９５／２４４５５号、同９７／００６００号、同９８／２３５８０号、同９８／５２９０５号、特開平１−２７２５５１号、同６−１６６１６号、同７−１１０４６９号、同１１−８００８１号、および、特願２００１−６４６２７号等に記載の化合物が挙げられる。
光反射層により選択反射の帯域幅Δλは、用いられる重合性液晶化合物の屈折率異方性Δｎと、らせんピッチＰとを用いて、Δλ＝Δｎ×Ｐで表される。よって、広い帯域幅Δλを得るためには、高いΔｎを示す重合性液晶化合物を用いることが好ましい。具体的には、重合性液晶化合物の３０℃におけるΔｎは０．２５以上が好ましく、０．３以上がより好ましく、０．３５以上がさらに好ましい。上限は特に制限されないが、０．６以下の場合が多い。
屈折率異方性Δｎの測定方法としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善株式会社刊）２０２頁に記載の楔形液晶セルを用いた方法が一般的であり、結晶化しやすい化合物の場合は、他の液晶との混合物による評価を行い、その外挿値から見積もることもできる。
高いΔｎを示す重合性液晶化合物としては、例えば、米国特許６５１４５７８号公報、特許３９９９４００号公報、特許４１１７８３２号公報、特許４５１７４１６号公報、特許４８３６３３５号公報、特許５４１１７７０号公報、特許５４１１７７１号公報、特許５５１０３２１号公報、特許５７０５４６５号公報、特許５７２１４８４号公報、および、特許５７２３６４１号公報等に記載の化合物が挙げられる。
また、重合性棒状液晶化合物としては、下記一般式（Ｘ）にて表される重合性棒状液晶化合物が好ましい。
一般式（Ｘ） Ｑ1−Ｌ1−Ｃｙ1−Ｌ2−（Ｃｙ2−Ｌ3）ｎ−Ｃｙ3−Ｌ4−Ｑ2
（一般式（Ｘ）中、Ｑ1およびＱ2はそれぞれ独立に重合性基であり、Ｌ1およびＬ4はそれぞれ独立に二価の連結基であり、Ｌ2およびＬ3はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基であり、Ｃｙ1、Ｃｙ2およびＣｙ3は二価の環状基であり、ｎは０、１、２または３である。）
以下に、さらに一般式（Ｘ）で表される重合性棒状液晶化合物について説明する。
一般式（Ｘ）中、Ｑ1およびＱ2はそれぞれ独立に重合性基である。重合性基の重合形式は、付加重合（開環重合を含む）または縮合重合であることが好ましい。言い換えると、重合性基は、付加重合反応または縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。以下に重合性基の例を示す。
一般式（Ｘ）中、Ｌ1およびＬ4はそれぞれ独立に二価の連結基である。Ｌ1およびＬ4は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ−、−Ｃ＝Ｎ−、二価の鎖状基、二価の環状基、および、それらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒは、炭素数が１から７のアルキル基または水素原子である。Ｒは、炭素数１から４のアルキル基または水素原子であることが好ましく、メチル基、エチル基または水素原子であることがより好ましく、水素原子であることがさらに好ましい。
組み合わせからなる二価の連結基の例を以下に示す。ここで、左側がＱ（Ｑ1またはＱ2）に、右側がＣｙ（Ｃｙ1またはＣｙ3）に結合する。
Ｌ−１：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−
Ｌ−２：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−３：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−４：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−
Ｌ−５：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−６：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−７：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−
Ｌ−８：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−９：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１０：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−
Ｌ−１１：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−１２：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１３：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−二価の鎖状基−
Ｌ−１４：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−二価の鎖状基−ＣＯＯ−
Ｌ−１５：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１６：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−
Ｌ−１７：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−１８：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１９：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−
Ｌ−２０：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−２１：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
二価の鎖状基は、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、または、置換アルキニレン基を意味する。なかでも、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、または、置換アルケニレン基が好ましく、アルキレン基、または、アルケニレン基がより好ましい。
アルキレン基は、分岐を有していてもよい。アルキレン基の炭素数は、１〜１２であることが好ましく、２〜１０であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましい。
置換アルキレン基のアルキレン部分は、上記アルキレン基と同様である。置換基の例としては、ハロゲン原子が挙げられる。
アルケニレン基は、分岐を有していてもよい。アルケニレン基の炭素数は、２〜１２であることが好ましく、２〜１０であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましい。
置換アルキレン基のアルキレン部分は、上記アルキレン基と同様である。置換基の例としては、ハロゲン原子が挙げられる。
アルキニレン基は、分岐を有していてもよい。アルキニレン基の炭素数は、２〜１２であることが好ましく、２〜１０であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましい。
置換アルキニレン基のアルキニレン部分は、上記アルキニレン基と同様である。置換基の例としては、ハロゲン原子が挙げられる。
二価の鎖状基の具体例としては、エチレン、トリメチレン、プロピレン、テトラメチレン、２−メチル−テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、オクタメチレン、２−ブテニレン、および、２−ブチニレン等が挙げられる。
二価の環状基の定義および例は、後述するＣｙ1、Ｃｙ2およびＣｙ3の定義および例と同様である。
一般式（Ｘ）中、Ｌ2またはＬ3は、それぞれ独立に、単結合または二価の連結基である。Ｌ2およびＬ3は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ−、−Ｃ＝Ｎ−、二価の鎖状基、二価の環状基、および、それらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基または単結合であることが好ましい。上記Ｒは、炭素数が１から７のアルキル基または水素原子であり、炭素数１から４のアルキル基または水素原子であることが好ましく、メチル基、エチル基または水素原子であることがより好ましく、水素原子であることがさらに好ましい。二価の鎖状基、および、二価の環状基については、Ｌ1およびＬ4の定義と同義である。
Ｌ2またはＬ3として好ましい二価の連結基としては、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＯＣＯＮＲ−、−ＣＯＳ−、−ＳＣＯ−、−ＣＯＮＲ−、−ＮＲＣＯ−、−ＣＨ2ＣＨ2−、−Ｃ＝Ｃ−ＣＯＯ−、−Ｃ＝Ｎ−、および、−Ｃ＝Ｎ−Ｎ＝Ｃ−等が挙げられる。
一般式（Ｘ）において、ｎは０、１、２または３である。ｎが２または３の場合、２つのＬ3は同じであっても異なっていてもよく、２つのＣｙ2も同じであっても異なっていてもよい。ｎは１または２であることが好ましく、１であることがより好ましい。
一般式（Ｘ）において、Ｃｙ1、Ｃｙ2およびＣｙ3は、それぞれ独立に、二価の環状基である。
環状基に含まれる環は、５員環、６員環、または、７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがより好ましく、６員環であることがさらに好ましい。
環状基に含まれる環は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。
環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環、および、複素環のいずれでもよい。芳香族環の例としては、ベンゼン環およびナフタレン環が挙げられる。脂肪族環の例としては、シクロヘキサン環が挙げられる。複素環の例としては、ピリジン環およびピリミジン環が挙げられる。
ベンゼン環を有する環状基としては、１、４−フェニレンが好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１、５−ジイル、または、ナフタレン−２、６−ジイルが好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては、１、４−シクロへキシレンが好ましい。ピリジン環を有する環状基としては、ピリジン−２、５−ジイルが好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２、５−ジイルが好ましい。
環状基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数が１〜５のアルキル基、炭素数が１〜５のハロゲン置換アルキル基、炭素数が１〜５のアルコキシ基、炭素数が１〜５のアルキルチオ基、炭素数が２〜６のアシルオキシ基、炭素数が２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素数が２〜６のアルキル置換カルバモイル基、および、炭素数が２〜６のアシルアミノ基が挙げられる。
以下に、一般式（Ｘ）で表される重合性棒状液晶化合物の例を示す。本発明はこれらに限定されるものではない。
また、上記一般式（Ｘ）で表される重合性棒状液晶化合物に加え、少なくとも一種の下記一般式（Ｖ）で表される化合物を併用することが好ましい。
一般式（Ｖ）
Ｍ1−（Ｌ1）ｐ−Ｃｙ1−Ｌ2−（Ｃｙ2−Ｌ3）ｎ−Ｃｙ3−（Ｌ4）ｑ−Ｍ2
（一般式（Ｖ）中、Ｍ1およびＭ2はそれぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ハロゲン原子、−ＳＣＮ、−ＣＦ3、ニトロ基、または、Ｑ1を表すが、Ｍ1およびＭ2の少なくとも一つは、Ｑ1以外の基を表す。
ただし、Ｑ1、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3、Ｌ4、Ｃｙ1、Ｃｙ2、Ｃｙ3およびｎは上記一般式（Ｘ）で表される基と同義である。また、ｐおよびｑは０、または１である。）
Ｍ1およびＭ2がＱ1を表さない場合、Ｍ1およびＭ2は、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、または、シアノ基であることが好ましく、炭素数１〜４のアルキル基、または、フェニル基であることがより好ましい。
ｐおよびｑは、０であることが好ましい。
また、一般式（Ｘ）で表される重合性液晶化合物と、一般式（Ｖ）で表される化合物との混合物中における、一般式（Ｖ）で表される化合物の混合比率は、０．１〜４０％であることが好ましく、１％〜３０％であることがより好ましく、５〜２０％であることがさらに好ましい。
以下に、一般式（Ｖ）で表される化合物の好ましい例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
重合性基を有する液晶化合物の他の好適態様としては、一般式（５）で表される化合物が挙げられる。
Ａ1〜Ａ4は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい芳香族炭素環または複素環を表す。芳香族炭素環としては、ベンゼン環およびナフタレン環が挙げられる。複素環としては、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピロリン環、ピロリジン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、イミダゾリン環、イミダゾリジン環、ピラゾール環、ピラゾリン環、ピラゾリジン環、トリアゾール環、フラザン環、テトラゾール環、ピラン環、チイン環、ピリジン環、ピペリジン環、オキサジン環、モルホリン環、チアジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピペラジン環、および、トリアジン環が挙げられる。なかでも、Ａ1〜Ａ4は、芳香族炭素環であることが好ましく、ベンゼン環であることがより好ましい。
芳香族炭素環または複素環に置換してもよい置換基の種類は特に制限されず、例えば、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、ハロゲン置換アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキル置換カルバモイル基、および、炭素数が２〜６のアシルアミノ基が挙げられる。
Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＯＣＨ2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表す。なかでも、単結合、−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−が好ましい。
Ｙ1およびＹ2は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、または、−Ｃ≡Ｃ−を表す。なかでも、−Ｏ−が好ましい。
Ｓｐ1およびＳｐ2は、それぞれ独立に、単結合、または、炭素数１〜２５の炭素鎖を表す。炭素鎖は、直鎖状、分岐鎖状、および、環状のいずれもよい。炭素鎖としては、いわゆるアルキル基が好ましい。なかでも、炭素数１〜１０のアルキル基がより好ましい。
Ｐ1およびＰ2は、それぞれ独立に、水素原子または重合性基を表し、Ｐ1およびＰ2の少なくとも一方は重合性基を表す。重合性基としては、上述した重合性基を有する液晶化合物が有している重合性基が例示される。
ｎ1およびｎ2はそれぞれ独立に０〜２の整数を表し、ｎ1またはｎ2が２の場合、複数あるＡ1、Ａ2、Ｘ1およびＸ2は同じでもあっても異なっていてもよい。
（キラル剤）
キラル剤は、公知の種々のキラル剤（例えば、液晶デバイスハンドブック、第３章４−３項、ＴＮ（Twisted Nematic）、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第一４２委員会編、１９８９に記載）を用いることができる。キラル剤は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物または面性不斉化合物もキラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物または面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファン、および、これらの誘導体が含まれる。
なお、上述したように、光反射層Ｘａに含まれるキラル剤としては右旋回性のキラル剤が用いられ、光反射層Ｘｂに含まれるキラル剤としては左旋回性のキラル剤が挙げられる。
キラル剤は、重合性基を有していてもよい。キラル剤が重合性基を有する場合は、重合性基を有するキラル剤と重合性液晶化合物との重合反応により、液晶化合物から誘導される繰り返し単位と、キラル剤から誘導される繰り返し単位とを有するポリマーを形成することができる。この態様では、重合性基を有するキラル剤が有する重合性基は、重合性液晶化合物が有する重合性基と、同種の基であることが好ましい。従って、キラル剤の重合性基も、不飽和重合性基、エポキシ基またはアジリジニル基であることが好ましく、不飽和重合性基であることがより好ましく、エチレン性不飽和重合性基であることがさらに好ましい。
また、キラル剤は、液晶化合物であってもよい。
キラル剤の使用量は、併用される重合性液晶化合物に対して、１〜３０モル％であることが好ましい。キラル剤の使用量は、より少なくした方が液晶性に影響を及ぼさないことが多いため好まれる。従って、キラル剤として用いられる光学活性化合物は、少量でも所望の螺旋ピッチの捩れ配向を達成可能なように、強い捩り力のある化合物が好ましい。
この様な、強い捩れ力を示すキラル剤としては、例えば、特開２０１０−１８１８５２号公報、特開２００３−２８７６２３号公報、特開２００２−８０８５１号公報、特開２００２−８０４７８号公報、および、特開２００２−３０２４８７号公報に記載のキラル剤が挙げられ、本発明に好ましく用いることができる。さらに、これらの公開公報に記載されているイソソルビド化合物類については対応する構造のイソマンニド化合物類を用いることもでき、これらの公報に記載されているイソマンニド化合物類については対応する構造のイソソルビド化合物類を用いることもできる。
右旋回性のキラル剤としては、螺旋捩れ力（ＨＴＰ）が３０μｍ-1以上である右旋回性のキラル剤が好ましい。左旋回性のキラル剤としては、螺旋捩れ力（ＨＴＰ）が３０μｍ-1以上である左旋回性のキラル剤が好ましい。
なお、螺旋捩れ力（Ｈｅｌｉｃａｌ Ｔｗｉｓｔｉｎｇ Ｐｏｗｅｒ：ＨＴＰ）は、キラル剤の性能を表す指標として一般的に用いられており、下記式で表される螺旋配向能力を示すファクターである。詳しくは、『液晶ディスプレー用カラーフィルターのためのコレステリック液晶用光反応性キラル剤の開発』（湯本眞敏、市橋光芳）に説明がある。
ＨＴＰ＝１／（組成物の固形分（または、光反射層）中のキラル剤の質量％×らせんピッチ長）
ただし、らせんピッチ長＝選択反射波長／組成物の固形分（または、光反射層）の平均屈折率
ここで、捩れ力が強い右旋回性のキラル剤は、左旋回性のキラル剤よりも多く市場に提供されている。例えば、ＨＴＰが３０μｍ-1以上である右旋回性のキラル剤としては、ＬＣ７５６（ＢＡＳＦ社製）を本発明では好ましく用いることができる。
右旋回性のキラル剤のＨＴＰは、４０μｍ-1以上であることが好ましく、５０μｍ-1以上であることがより好ましい。
一方、ＨＴＰが３０μｍ-1以上である左旋回性のキラル剤としては、特に制限はなく、公知のものを用いても、後述の一般式（１）〜（４）で表される化合物（キラル剤）を用いてもよい。
左旋回性のキラル剤のＨＴＰは、３３μｍ-1以上であることが好ましく、３５μｍ-1以上であることがより好ましい。
左旋回性のキラル剤は、下記一般式（１）で表される化合物、または、下記一般式（２）で表される化合物であることが好ましく、下記一般式（３）で表される化合物、または、一般式（４）で表される化合物であることがより好ましい。

（一般式（１）中、Ｍはそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ1は以下に示す連結基のいずれかを表す。

ただし、＊は、それぞれ独立に、一般式（１）中の酸素原子との結合部位を表す。Ｒ3は、それぞれ独立に、炭素数１から３のアルキル基または炭素数６から１０のアリール基を表す。）

（一般式（２）中、Ｒ2は以下に示す置換基のいずれかを表し、２つのＲ2は互いに同じでも異なっていてもよい。

ただし、＊は、それぞれ独立に、一般式（２）中の酸素原子との結合部位を表す。Ｙ1はそれぞれ独立に単結合、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、または、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−を表し、Ｓｐ1はそれぞれ独立に単結合または炭素数１から８のアルキレン基を表し、Ｚ1はそれぞれ独立に水素原子または（メタ）アクリル基を表し、ｎは１以上の整数を表す。）

（一般式（３）中、Ｒaは以下に示す連結基のいずれかを表す。

ただし、＊は、それぞれ独立に一般式（３）中の酸素原子との結合部位を表す。）

（一般式（４）中、Ｒbは以下に示す置換基を表し、２つのＲbは互いに同じでも異なっていてもよい。

ただし、＊は一般式（４）中の酸素原子との結合部位を表し、Ｙ2は単結合、−Ｏ−、または、−ＯＣ（＝Ｏ）−を表し、Ｓｐ2は単結合または炭素数１から８のアルキレン基を表し、Ｚ2は水素原子または（メタ）アクリル基を表す。）
一般式（１）で表される化合物について説明する。
一般式（１）中、Ｍは、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。なかでも、Ｍとしては、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、アルキニル基、アルケニル基、または、アルキルオキシ基が好ましい。なお、各基の中のＣＨ2基は、それぞれ独立に、Ｏ、Ｓ、ＯＣＯ、ＣＯＯ、ＯＣＯＯ、ＣＯまたはフェニレン基で置換されてもよい。
ここで、炭素数１〜１２のアルキル基、アルキニル基、アルケニル基、または、アルキルオキシ基の中のＣＨ2基が、Ｏ、Ｓ、ＯＣＯ、ＣＯＯ、ＯＣＯＯ、ＣＯまたはフェニレン基で置換される場合、置換されるＣＨ2基の位置は、各基の末端であっても、各基の内部であってもよい。例えば、炭素数１のアルキル基がフェニレン基で置換されるとＭは実質的にフェニル基を表すこととなり、例えば、炭素数３のアルキル基がＣＯで置換されるとＭは実質的にエチルカルボニル基を表すこととなり、例えば、炭素数４のアルキル基がＳで置換されるとＭは実質的にプロピルチオ基を表すこととなるが、これらの置換基はいずれも一般式（１）を満たすＭに含まれる。
ＣＨ2基が置換されていない炭素数１〜１２のアルキル基としては、直鎖状、分岐状または環状のアルキル基が挙げられ、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、および、シクロヘキシル基が挙げられる。
ＣＨ2基がＯにより置換されている炭素数１〜１２のアルキル基としては、例えば、２−オキサプロピル（＝メトキシメチル）基、２−（＝エトキシメチル）または３−オキサブチル（＝２−メトキシエチル）基、２−、３−または４−オキサペンチル基、２−、３−、４−または５−オキサヘキシル基、２−、３−、４−、５−または６−オキサヘプチル基、２−、３−、４−、５−、６−または７−オキサオクチル基、２−、３−、４−、５−、６−、７−または８−オキサノニル基、および、２−、３−、４−、５−、６−、７−、８−または９−オキサデシル基が挙げられる。
ＣＨ2基がＳにより置換されている炭素数１〜１２のアルキル基としては、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基、ノニルチオ基、デシルチオ基、および、ウンデシルチオ基が挙げられる。
ＣＨ2基がＯＣＯまたはＣＯＯにより置換されている炭素数１〜１２のアルキル基としては、好ましくは、直鎖状であり、２〜６個のＣ原子を有する基である。具体的には、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、ペンタノイルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、アセチルオキシメチル基、プロピオニルオキシメチル基、ブチリルオキシメチル基、ペンタノイルオキシメチル基、２−アセチルオキシエチル基、２−プロピオニルオキシエチル基、２−ブチリルオキシエチル基、３−アセチルオキシプロピル基、３−プロピオニルオキシプロピル基、４−アセチルオキシブチル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペントキシカルボニル基、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、プロポキシカルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、２−（メトキシカルボニル）エチル基、２−（エトキシカルボニル）エチル基、２−（プロポキシカルボニル）エチル基、３−（メトキシカルボニル）プロピル基、３−（エトキシカルボニル）プロピル基、および、４−（メトキシカルボニル）−ブチル基が挙げられる。
ＣＨ2基がＯＣＯＯにより置換されている炭素数１〜１２のアルキル基としては、直鎖状であっても分枝状であってもよいが、直鎖状が好ましく、公知の基を用いることがきる。
ＣＨ2基がＣＯにより置換されている炭素数１〜１２のアルキル基としては、例えば、カルボニルメチル基、カルボニルエチル基、カルボニルプロピル基、カルボニルブチル基、カルボニルペンチル基、カルボニルヘキシル基、カルボニルヘプチル基、カルボニルオクチル基、カルボニルノニル基、カルボニルデシル基、および、カルボニルウンデシル基が挙げられる。
ＣＨ2基がフェニレンにより置換されている炭素数１〜１２のアルキル基としては、フェニル基が挙げられる。
また、炭素数１〜１２のアルキル基、アルキニル基、アルケニル基、または、アルキルオキシ基の中のＣＨ2基は、複数の同種または異種のＯ、Ｓ、ＯＣＯ、ＣＯＯ、ＯＣＯＯ、ＣＯまたはフェニレン基で置換されていてもよい。
ＣＨ2基が複数の同種または異種のＯ、Ｓ、ＯＣＯ、ＣＯＯ、ＯＣＯＯ、ＣＯまたはフェニレン基で置換されている炭素数１〜１２のアルキル基としては、例えば、アルキルフェニルカルボニル基、アルキルフェニルオキシカルボニル基、アルキルフェニルカルボニルオキシ基、アルコキシフェニルカルボニル基、アルコキシフェニルオキシカルボニル基、アルコキシフェニルカルボニルオキシ基、アルキルチオフェニルカルボニル基、アルキルチオフェニルオキシカルボニル基、および、アルキルチオフェニルカルボニルオキシ基が挙げられる。
ＣＨ2基が、Ｏ、Ｓ、ＯＣＯ、ＣＯＯ、ＯＣＯＯ、ＣＯまたはフェニレン基で置換されてもよい炭素数１〜１２のアルキニル基としては、例えば、エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、１−エチニル−２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基、ヘプチニル基、オクチニル基、ノニニル基、デシニル基、ウンデシニル基、ドデシニル基、および、シクロオクチニル基が挙げられ、三重結合上の水素を除いた基であることが好ましく、エチニル基、２−プロピニル基、３−ブチニル基、４−ペンチニル基、５−ヘキシニル基、６−ヘプチニル基、７−オクチニル基、８−ノニニル基、９−デシニル基、１０−ウンデシニル基、または、１１−ドデシニル基であることがより好ましい。
ＣＨ2基が、Ｏ、Ｓ、ＯＣＯ、ＣＯＯ、ＯＣＯＯ、ＣＯまたはフェニレン基で置換されてもよい炭素数１〜１２のアルケニル基としては、直鎖状であっても分枝状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、ビニル基、プロプ−１−またはプロプ−２−エニル基、ブト−１−、−２−またはブト−３−エニル基、ペント−１−、−２−、−３−またはペント−４−エニル基、ヘクス−１−、−２−、−３−、−４−またはヘクス−５−エニル基、ヘプト−１−、−２−、−３−、−４−、−５−またはヘプト−６−エニル基、オクト−１−、−２−、−３−、−４−、−５−、−６−またはオクト−７−エニル基、ノン−１−、−２−、−３−、−４−、−５−、−６−、−７−またはノン−８−エニル基、デク−１−、−２−、−３−、−４−、−５−、−６−、−７−、−８−またはデク−９−エニル基が挙げられる。また、Ｃ２〜Ｃ７−１Ｅ−アルケニル、Ｃ４〜Ｃ７−３Ｅ−アルケニル、Ｃ５〜Ｃ７−４−アルケニル、Ｃ６〜Ｃ７−５−アルケニル、および、Ｃ７−６−アルケニルが挙げられ、Ｃ２〜Ｃ７−１Ｅ−アルケニル、Ｃ４〜Ｃ７−３Ｅ−アルケニル、または、Ｃ５〜Ｃ７−４−アルケニルが好ましい。特に好ましいアルケニル基の例は、ビニル基、１Ｅ−プロペニル基、１Ｅ−ブテニル基、１Ｅ−ペンテニル基、１Ｅ−ヘキセニル基、１Ｅ−ヘプテニル基、３−ブテニル基、３Ｅ−ペンテニル基、３Ｅ−ヘキセニル基、３Ｅ−ヘプテニル基、４−ペンテニル基、４Ｚ−ヘキセニル基、４Ｅ−ヘキセニル基、４Ｚ−ヘプテニル基、５−ヘキセニル基、または、６−ヘプテニル基である。５個までのＣ原子を有する基が、一般的に好ましい。
炭素数１〜１２のアルキルオキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ基、オクトキシ基、ノノキシ基、デコキシ基、ウンデコキシ基、および、ドデコキシ基が挙げられる。
一般式（１）中、Ｍは互いに独立して水素原子、フッ素原子、臭素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、アルキニル基、アルケニル基、または、アルキルオキシ基であることが好ましく、水素原子、フッ素原子、臭素原子、炭素数１〜８のアルキル基、アルキニル基、アルケニル基、または、アルキルオキシ基であることがより好ましく、水素原子、フッ素原子、臭素原子、炭素数１〜４のアルキル基、アルキニル基、アルケニル基、または、アルキルオキシ基であることがさらに好ましい。
なお、上述したように、上記アルキル基、アルキニル基、アルケニル基、および、アルキルオキシ基は、その中のＣＨ2基はそれぞれ独立にＯ、Ｓ、ＯＣＯ、ＣＯＯ、ＯＣＯＯ、ＣＯまたはフェニレン基で置換されてもよい。
Ｍ中、水素原子以外の置換基の数は０〜４個であることが好ましく、０〜２個であることがより好ましく、０個であることがさらに好ましい。
一般式（１）中、Ｍがいずれも水素原子を示すことが、高いＨＴＰと合成容易性の両立の観点から好ましい。
一般式（１）中、Ｒ1は以下に示す連結基

（ただし、＊は、それぞれ独立に、一般式（１）中の酸素原子との結合部位を表す。Ｒ3はそれぞれ独立に炭素数１から３のアルキル基または炭素数６から１０のアリール基を表す）のいずれかを表し、この中でも、

を表すことが好ましい。
Ｒ3は、それぞれ独立に炭素数１から３のアルキル基またはフェニル基であることが好ましく、アルキル基、アリール基、または、アルケニル基であることがより好ましい。
一般式（１）で表される化合物は、下記記一般式（３）で表される化合物であることが好ましい。

（一般式（３）中、Ｒaは以下に示す連結基のいずれかを表す。

ただし＊はそれぞれ一般式（３）中の酸素原子との結合部位を表す。）
以下に一般式（１）で表される化合物の具体例を示すが、本発明は以下の具体例によって限定されるものではない。なお、以下に一般式（１）で表される化合物のＲ体のみまたはＳ体のみを例示することがあるが、対応するＳ体およびＲ体も本発明に用いることができる。一般式（１）で表される化合物は、左旋回性であることが好ましいが、一般式（１）で表される化合物はＲ体であってもＳ体であっても高いＨＴＰを示すため、右旋回性のキラル剤として用いてもよい。
一般式（１）で表される化合物は、公知の文献中に記載されている方法により、またはこれと同様にして合成することができる。例えば、Ｈｅｔｅｒｏａｔｏｍ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ， ２０１１ ｖｏｌ． ２２， ｐ．５６２に記載の方法により合成することが好ましい。
また、一般式（１）で表される化合物のＲ体とＳ体は、それぞれ原料としてＲ体のみまたはＳ体のみの原料を用いて、合成することができる。その他、公知の方法によりラセミ体を光学分割してもよい。
次に、下記一般式（２）で表される化合物について説明する。

一般式（２）中、Ｒ2は以下に示す置換基のいずれかを表し、２つのＲ2は互いに同じでも異なっていてもよい。

ただし、＊は、それぞれ独立に一般式（２）中の酸素原子との結合部位を表す。
Ｙ1は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、または、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−を表し、単結合、−Ｏ−、または、−ＯＣ（＝Ｏ）−であることが好ましく、−Ｏ−であることがより好ましい。
Ｓｐ1は、それぞれ独立に、単結合または炭素数１〜８のアルキレン基を表し、炭素数１〜５のアルキレン基であることが好ましく、炭素数２〜４のアルキレン基であることがより好ましい。
Ｚ1は、それぞれ独立に、水素原子または（メタ）アクリル基を表し、水素原子であることが好ましい。
ｎは１以上の整数を表し、１〜３であることが好ましく、１または２であることがより好ましく、１であることがさらに好ましい。
一般式（２）で表される化合物は、下記一般式（４）で表される化合物であることが好ましい。

一般式（４）中、Ｒbは以下に示す置換基を表し、２つのＲbは互いに同じでも異なっていてもよいが、同じであることが好ましい。

上記置換基中、＊は一般式（４）中の酸素原子との結合部位を表す。
Ｙ2は、単結合、−Ｏ−、または、−ＯＣ（＝Ｏ）−を表し、−Ｏ−であることが好ましい。
Ｓｐ2は単結合または炭素数１〜８のアルキレン基を表し、炭素数１〜８のアルキレン基であることが好ましく、炭素数１〜５のアルキレン基であることがより好ましく、炭素数２〜４のアルキレン基であることがさらに好ましい。
Ｚ2は水素原子または（メタ）アクリル基を表し、水素原子であることが好ましい。
以下に一般式（２）で表される化合物の具体例を示すが、本発明は以下の具体例によって限定されるものではない。
（配向制御剤）
組成物には、配向制御剤が含まれていてもよい。
配向制御剤の好ましい例としては、フッ素系配向制御剤が挙げられる。また、２種以上の配向制御剤を含んでいてもよい。フッ素系配向制御剤は、光反射層の空気界面において、液晶化合物の分子のチルト角を低減または実質的に水平配向させることができる。
なお、本明細書で「水平配向」とは、液晶分子長軸と膜面が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が２０度未満の配向を意味するものとする。液晶化合物が空気界面付近で水平配向する場合、配向欠陥が生じ難いため、可視光線領域での透明性が高くなり、また赤外線領域での反射率が増大する。一方、液晶化合物の分子が小さいチルト角で配向すると、コレステリック液晶相の螺旋軸が膜面法線からずれにくく、反射率の低下が抑制され、かつ、フィンガープリントパターンの発生も抑制される。
配向制御剤としては、特開２００５−９９２４８号公報の段落００９２および００９３中に例示されている化合物、特開２００２−１２９１６２号公報の段落００７６〜００７８および段落００８２〜００８５中に例示されている化合物、特開２００５−９９２４８号公報の段落００９４および００９５中に例示されている化合物、および、特開２００５−９９２４８号公報の段落００９６中に例示されている化合物が挙げられる。
フッ素系配向制御剤として、下記一般式（Ｉ）で表される化合物も好ましい。
一般式（Ｉ）において、Ｌ11、Ｌ13、Ｌ13、Ｌ14、Ｌ15、および、Ｌ16は、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＳ−、−ＳＣＯ−、−ＮＲＣＯ−、または、−ＣＯＮＲ−（Ｒは水素原子または炭素数が１〜６のアルキル基を表す）を表す。なかでも、−ＮＲＣＯ−および−ＣＯＮＲ−は溶解性を減ずる効果があり、膜作製時にヘイズ値が上昇する傾向があることから、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＳ−、または、−ＳＣＯ−が好ましく、化合物の安定性の観点から、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、または、−ＯＣＯ−がより好ましい。上記のＲがとりうるアルキル基は、直鎖状であっても分枝状であってもよい。アルキル基の炭素数は１〜３であることが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、および、ｎ−プロピル基が挙げられる。
Ｓｐ11、Ｓｐ12、Ｓｐ13、および、Ｓｐ14は、それぞれ独立して、単結合または炭素数１〜１０のアルキレン基を表し、単結合または炭素数１〜７のアルキレン基が好ましく、単結合または炭素数１〜４のアルキレン基がより好ましい。
但し、アルキレン基の水素原子はフッ素原子で置換されていてもよい。アルキレン基には、分枝があってもなくてもよいが、好ましいのは直鎖状のアルキレン基である。合成上の観点からは、Ｓｐ11とＳｐ14とが同一であり、かつ、Ｓｐ12とＳｐ13とが同一であることが好ましい。
Ａ11およびＡ12は、３価または４価の芳香族炭化水素である。３価または４価の芳香族炭化水素基の炭素数は、６〜２２であることが好ましく、６〜１４であることがより好ましく、６〜１０であることがさらに好ましく、６であることが特に好ましい。Ａ11およびＡ12で表される３価または４価の芳香族炭化水素基は、置換基を有していてもよい。そのような置換基としては、例えば、炭素数１〜８のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、または、エステル基が挙げられる。これらの基の説明と好ましい範囲については、下記のＴの対応する記載を参照することができる。Ａ11およびＡ12で表される３価または４価の芳香族炭化水素基に対する置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、臭素原子、塩素原子、および、シアノ基が挙げられる。パーフルオロアルキル部分を分子内に多く有する分子は、少ない添加量で液晶を配向させることができ、ヘイズ低下につながることから、分子内にパーフルオロアルキル基を多く有するようにＡ11およびＡ12は４価であることが好ましい。合成上の観点からは、Ａ11とＡ12は同一であることが好ましい。
Ｔ11は

で表される二価の基または二価の芳香族複素環基を表す（上記Ｔ11中に含まれるＸは、炭素数１〜８のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基またはエステル基を表し、Ｙａ、Ｙｂ、Ｙｃ、および、Ｙｄはそれぞれ独立して水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す）ことが好ましく、より好ましくは

であり、さらに好ましくは

であり、特に好ましくは、

である。
上記Ｔ11中に含まれるＸがとりうるアルキル基の炭素数は１〜８であり、１〜５であることが好ましく、１〜３であることがより好ましい。アルキル基は、直鎖状、分枝状、および、環状のいずれであってもよく、直鎖状または分枝状であることが好ましい。好ましいアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、および、イソプロピル基が挙げられ、メチル基が好ましい。上記Ｔ11中に含まれるＸがとりうるアルコキシ基のアルキル部分については、上記Ｔ11中に含まれるＸがとりうるアルキル基の説明と好ましい範囲を参照することができる。上記Ｔ11中に含まれるＸがとりうるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子が挙げられ、塩素原子、または、臭素原子が好ましい。上記Ｔ11中に含まれるＸがとりうるエステル基としては、Ｒ’ＣＯＯ−で表される基が挙げられる。Ｒ’としては、炭素数１〜８のアルキル基が挙げられる。Ｒ’がとりうるアルキル基の説明と好ましい範囲については、上記Ｔ11中に含まれるＸがとりうるアルキル基の説明と好ましい範囲を参照することができる。エステルの具体例として、ＣＨ3ＣＯＯ−、および、Ｃ2Ｈ5ＣＯＯ−が挙げられる。Ｙａ、Ｙｂ、Ｙｃ、および、Ｙｄがとりうる炭素数１〜４のアルキル基は、直鎖状であっても分枝状であってもよい。例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、および、イソプロピル基が挙げられる。
二価の芳香族複素環基は、５員、６員または７員の複素環を有することが好ましくい。なかでも、５員環または６員環がより好ましく、６員環がさらに好ましい。複素環を構成する複素原子としては、窒素原子、酸素原子、または、硫黄原子が好ましい。複素環は、芳香族性複素環であることが好ましい。芳香族性複素環は、一般に不飽和複素環である。最多二重結合を有する不飽和複素環がより好ましい。複素環としては、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピロリン環、ピロリジン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、イミダゾリン環、イミダゾリジン環、ピラゾール環、ピラゾリン環、ピラゾリジン環、トリアゾール環、フラザン環、テトラゾール環、ピラン環、チイン環、ピリジン環、ピペリジン環、オキサジン環、モルホリン環、チアジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピペラジン環、および、トリアジン環が挙げられる。二価の複素環基は置換基を有していてもよい。そのような置換基の例の説明と好ましい範囲については、上記のＡ1とＡ2の３価または４価の芳香族炭化水素が取り得る置換基に関する説明と記載を参照することができる。
Ｈｂ11は炭素数２〜３０のパーフルオロアルキル基を表し、炭素数３〜２０のパーフルオロアルキル基が好ましく、３〜１０のパーフルオロアルキル基がより好ましい。パーフルオロアルキル基は、直鎖状、分枝状、および、環状のいずれであってもよいが、直鎖状または分枝状であることが好ましく、直鎖状であることがより好ましい。
ｍ１１およびｎ１１は、それぞれ独立に０から３であり、かつ、ｍ１１＋ｎ１１≧１である。このとき複数存在する括弧内の構造は互いに同一であっても異なっていてもよいが、互いに同一であることが好ましい。一般式（Ｉ）のｍ１１およびｎ１１は、Ａ11およびＡ12の価数によって定まり、好ましい範囲もＡ11およびＡ12の価数の好ましい範囲によって定まる。
Ｔ11中に含まれるｏおよびｐは、それぞれ独立に０以上の整数であり、ｏおよびｐが２以上であるとき複数のＸは互いに同一であっても異なっていてもよい。Ｔ11中に含まれるｏは１または２であることが好ましい。Ｔ11中に含まれるｐは１〜４のいずれかの整数であることが好ましく、１または２であることがより好ましい。
一般式（Ｉ）で表される化合物は、分子構造が対称性を有するものであってもよいし、対称性を有しないものであってもよい。なお、ここでいう対称性とは、点対称、線対称、および、回転対称のいずれかに該当するものを意味し、非対称とは点対称、線対称、および、回転対称のいずれにも該当しないものを意味する。
一般式（Ｉ）で表される化合物は、以上述べたパーフルオロアルキル基（Ｈｂ11）、連結基−（−Ｓｐ11−Ｌ11−Ｓｐ12−Ｌ12）m11−Ａ11−Ｌ13−および−Ｌ14−Ａ12−（Ｌ15−Ｓｐ13−Ｌ16−Ｓｐ14−）n11−、ならびに好ましくは排除体積効果を持つ二価の基であるＴを組み合わせた化合物である。分子内に２つ存在するパーフルオロアルキル基（Ｈｂ11）は互いに同一であることが好ましく、分子内に存在する連結基−（−Ｓｐ11−Ｌ11−Ｓｐ12−Ｌ12）m11−Ａ11−Ｌ13−および−Ｌ14−Ａ12−（Ｌ15−Ｓｐ13−Ｌ16−Ｓｐ14−）n11−も互いに同一であることが好ましい。末端のＨｂ11−Ｓｐ11−Ｌ11−Ｓｐ12−および−Ｓｐ13−Ｌ16−Ｓｐ14−Ｈｂ11は、以下のいずれかの一般式で表される基であることが好ましい。
（ＣaＦ2a+1）−（ＣbＨ2b）−
（ＣaＦ2a+1）−（ＣbＨ2b）−Ｏ−（ＣrＨ2r）−
（ＣaＦ2a+1）−（ＣbＨ2b）−ＣＯＯ−（ＣrＨ2r）−
（ＣaＦ2a+1）−（ＣbＨ2b）−ＯＣＯ−（ＣrＨ2r）−
上式において、ａは２〜３０であることが好ましく、３〜２０であることがより好ましく、３〜１０であることがさらに好ましい。ｂは０〜２０であることが好ましく、０〜１０であることがより好ましく、０〜５であることがさらに好ましい。ａ＋ｂは３〜３０である。ｒは１〜１０であることが好ましく、１〜４であることがより好ましい。
また、一般式（Ｉ）の末端のＨｂ11−Ｓｐ11−Ｌ11−Ｓｐ12−Ｌ12−および−Ｌ14−Ｓｐ13−Ｌ16−Ｓｐ14−Ｈｂ11は、以下のいずれかの一般式で表される基であることが好ましい。
（ＣaＦ2a+1）−（ＣbＨ2b）−Ｏ
（ＣaＦ2a+1）−（ＣbＨ2b）−ＣＯＯ−
（ＣaＦ2a+1）−（ＣbＨ2b）−Ｏ−（ＣrＨ2r）−Ｏ−
（ＣaＦ2a+1）−（ＣbＨ2b）−ＣＯＯ−（ＣrＨ2r）−ＣＯＯ−
（ＣaＦ2a+1）−（ｖ）−ＯＣＯ−（ＣrＨ2r）−ＣＯＯ−
上式におけるａ、ｂおよびｒの定義は直上の定義と同じである。
組成物中における配向制御剤（特に、フッ素系水平配向剤）の含有量は、重合性液晶化合物に対して、０．０１〜１０質量％であることが好ましく、０．０１〜５質量％であることがより好ましく、０．０１〜１質量％であることがさらに好ましく、０．０１〜０．０９質量％であることが特に好ましく、０．０１〜０．０６質量％であることが最も好ましい。
なお、配向制御剤（特に、フッ素系水平配向剤）の含有量を上記範囲に抑える観点から、配向制御剤（特に、フッ素系水平配向剤）がパーフルオロアルキル基を含むことが好ましく、炭素数３〜１０のパーフルオロアルキル基を含むことがより好ましい。
（重合開始剤）
組成物には、重合開始剤が含まれていてもよい。
例えば、紫外線照射により硬化反応を進行させて光反射層を形成する態様では、使用する重合開始剤は、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であることが好ましい。光重合開始剤としては、例えば、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）、並びに、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３−４０７９９号公報、特公平５−２９２３４号公報、特開平１０−９５７８８号公報、特開平１０−２９９９７号公報記載）が挙げられる。
光重合開始剤の使用量は、組成物の全固形分に対して、０．１〜２０質量％であることが好ましく、１〜８質量％であることがより好ましい。
（溶剤）
組成物には、溶剤が含まれていてもよい。
溶剤としては、例えば、有機溶剤が好ましく用いられる。有機溶剤としては、アミド（例、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン）、および、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１、２−ジメトキシエタン）が挙げられる。なかでも、アルキルハライドおよびケトンが好ましい。２種類以上の有機溶剤を併用してもよい。
本発明において、金属含有量の少ない溶剤を用いることが好ましく、溶剤の金属含有量は、例えば、１０ｐｐｂ以下であることが好ましい。必要に応じてｐｐｔレベルの溶剤を用いてもよく、そのような高純度溶剤は、例えば、東洋合成社が提供している。
溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留または薄膜蒸留等）、および、フィルターを用いた濾過を挙げることができる。フィルターを用いたろ過におけるフィルター孔径としては、ポアサイズ１０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以下がより好ましく、３ｎｍ以下がさらに好ましい。フィルターとしては、ポリテトラフロロエチレン製、ポリエチレン製、または、ナイロン製のフィルターが好ましい。
溶剤は、異性体（同じ原子数で異なる構造の化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。
（その他の成分）
組成物には、上述した成分に加えて、他の添加剤（例えば、界面活性剤、アルコキシシリル基を有する化合物、セルロースエステル）が含まれていてもよい。
なお、界面活性剤およびアルコキシシリル基を有する化合物の具体的な種類としては、後述する（赤外線透過組成物の第１の実施の形態）に含まれる界面活性剤およびアルコキシシリル基を有する化合物で例示されるものが挙げられる。
（光反射層の形成方法）
光反射層（光反射層Ｘａおよび光反射層Ｘｂ）の形成方法は特に制限されないが、上述したように、重合性基を有する液晶化合物およびキラル剤を含む組成物を用いる方法が挙げられる。
以下は、上記組成物を用いた方法について詳述する。なお、光反射層Ｘａを形成する際にはキラル剤として右旋回性のキラル剤が用いられ、光反射層Ｘｂを形成する際にはキラル剤として左旋回性のキラル剤が用いられるが、以下の説明では、単に「キラル剤」と表記して説明を行う。
光反射層の形成方法は、以下の（１）および（２）の工程を有することが好ましい。
（１） 基板の表面に、重合性基を有する液晶化合物およびキラル剤を含む組成物を塗布して塗膜を形成し、その後、塗膜をコレステリック液晶相の状態にする工程
（２） 塗膜に対して光照射して硬化反応を進行させ、コレステリック液晶相を固定して光反射層を形成する工程
（１）および（２）の工程を、基板の一方の表面上で２回繰り返すことで図１に示す構成と同様の構成の積層体を作製することができる。
なお、コレステリック液晶相の旋回の方向は、用いる液晶の種類または添加されるキラル剤の種類によって調整でき、螺旋ピッチ（すなわち、選択反射波長）は、これらの材料の濃度によって任意に調整できる。また、各光反射層の反射する光の波長は、製造方法のさまざまな要因によってシフトさせることができ、キラル剤等の添加濃度のほか、コレステリック液晶相を固定するときの温度、照度、および、照射時間等の条件等でシフトさせることができる。
上記（１）工程では、まず、基板の表面に、重合性基を有する液晶化合物およびキラル剤を含む組成物を塗布する。
組成物の塗布は、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、および、スピンコート法等の種々の方法によって行うことができる。また、インクジェット装置を用いて、組成物をノズルから吐出して、塗膜を形成することもできる。
次に、基板表面に塗布され、塗膜となった組成物を、コレステリック液晶相の状態にする。組成物が溶剤を含む塗布液として調製されている態様では、塗膜を乾燥し、溶剤を除去することで、コレステリック液晶相の状態にすることができる場合がある。また、コレステリック液晶相への転移温度とするために、所望により、塗膜を加熱してもよい。例えば、一旦等方性相の温度まで加熱し、その後、コレステリック液晶相転移温度まで冷却する等によって、安定的にコレステリック液晶相の状態にすることができる。組成物の液晶相転移温度は、製造適性等の面から１０〜２５０℃の範囲内であることが好ましく、１０〜１５０℃の範囲内であることがより好ましい。液晶相転移温度が１０℃以上であると、冷却工程が不要となり、生産性に優れる。また、液晶相転移温度が２５０℃以内であると、熱エネルギーの浪費が抑制されるとともに、基板の変形および変質もより抑制される。
次に、（２）の工程では、コレステリック液晶相の状態となった塗膜に、光（例えば、紫外線）を照射して、硬化反応を進行させる。光照射としては、紫外線照射が好ましい。紫外線照射には、紫外線ランプ等の光源が利用される。この工程では、塗膜に対して光照射することによって、組成物の硬化反応が進行し、コレステリック液晶相が固定されて、光反射層が形成される。
紫外線の照射エネルギー量については特に制限はないが、一般的には、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2程度が好ましい。また、塗膜に紫外線を照射する時間については特に制限はないが、光反射層の充分な強度および生産性の双方の観点から決定される。
硬化反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。また、光照射時の温度は、コレステリック液晶相が乱れないように、コレステリック液晶相を呈する温度範囲に維持するのが好ましい。
また、光照射時の雰囲気の酸素濃度は、重合度に関与する場合がある。そのため、空気中で所望の重合度に達せず、膜強度が不十分の場合には、窒素置換等の方法により、雰囲気中の酸素濃度を低下させることが好ましい。酸素濃度としては、１０％以下が好ましく、７％以下がより好ましく、３％以下がさらに好ましい。光照射によって進行される硬化反応（例えば重合反応）の反応率は、光反射層の機械的強度の保持等および未反応物が層から流出するのを抑える等の観点から、７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。反応率を向上させるためには照射する光の照射量を増大する方法、および、窒素雰囲気下または加熱条件下での重合が効果的である。また、一旦重合させた後に、重合温度よりも高温状態で保持して熱重合反応によって反応をさらに推し進める方法、および、再度、光（例えば、紫外線）を照射する（ただし、本発明の条件を満足する条件で照射する）方法を用いることもできる。反応率の測定は反応性基（例えば重合性基）の赤外振動スペクトルの吸収強度を、反応進行の前後で比較することによって行うことができる。
上記工程では、コレステリック液晶相が固定されて、各光反射層が形成される。ここで、液晶相を「固定化した」状態は、コレステリック液晶相となっている液晶化合物の配向が保持された状態が最も典型的、且つ好ましい態様である。それだけには限定されず、具体的には、通常、０〜５０℃、より過酷な条件下では−３０〜７０℃の温度範囲において、この層に流動性が無く、また、外場および外力によって配向形態に変化を生じさせることなく、固定化された配向形態を安定に保ち続けることができる状態を意味するものとする。本発明では、紫外線照射によって進行する硬化反応により、コレステリック液晶相の配向状態を固定することが好ましい。
なお、本発明においては、コレステリック液晶相の光学的性質が層中において保持されていれば十分であり、最終的に各光反射層中の組成物がもはや液晶性を示す必要はない。例えば、組成物が、硬化反応により高分子量化して、もはや液晶性を失っていてもよい。
＜光吸収層＞
光吸収層は、色材を含んでいる。光吸収層は使用される色材の種類に応じて、所定の波長の光を吸収する層である。
色材（以後、「着色剤」とも称する）の種類は特に制限されず、公知の顔料および染料が挙げられる。なかでも、顔料が好ましい。
光吸収層はバインダーを含んでいてもよく、バインダーの種類は特に制限されず、公知のバインダーを用いることができる。バインダーとしては、例えば、（メタ）アクリル樹脂、スチレン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリカードネート樹脂等が挙げられる。
また、光吸収層に含まれるバインダーは、光吸収層形成用組成物中に重合性化合物を含ませ、この重合性化合物を重合させることにより合成してもよい。また、バインダーとしては、後述する顔料分散剤、および、アルカリ可溶性樹脂が含まれていてもよい。
光吸収層は、赤外線透過層であることが好ましい。
赤外線透過層とは、所定の波長の赤外線の透過率が高く、所定の波長の可視光線の透過率が低いフィルムをいう。赤外線透過層とは、言い換えれば、赤外線の透過率が高い可視光線吸収層ともいえる。
ここで、所定の波長の赤外線としては、波長７００ｎｍ以上の領域の電磁波が好ましく挙げられ、波長８００ｍｎ以上の領域の電磁波がより好ましく挙げられ、波長９００ｎｍ以上の領域の電磁波がさらに好ましく挙げられる。所定の波長の可視光線とは、波長７００ｎｍ未満の領域の電磁波がより好ましく挙げられる。なお、上記可視光線の領域の下限値としては、波長４００ｎｍ以上が好ましい。
透過率が高いとは、最大透過率が７０％以上であることを意図し、８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。透過率が低いとは、最大透過率が３０％以下であることを意図し、２０％以下が好ましく、１０％以下がより好ましい。
より具体的には、赤外線透過層としては、波長７００ｎｍ以上（好ましくは波長８００ｎｍ以上、より好ましくは波長９００ｎｍ以上）において最大透過率が７０％以下（好ましくは８０以上、より好ましくは９０％以上）を示し、波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ未満（好ましくは波長４００ｎｍ以上波長６５０ｎｍ以下）において最大透過率が３０％以下（好ましくは２０％以下、より好ましくは１０％以下）の赤外線透過層が好ましく挙げられる。
色材が有彩色である場合、色材としては、例えば、赤色着色剤、緑色着色剤、青色着色剤、黄色着色剤、紫色着色剤およびオレンジ色等が挙げられる。
また、色材が顔料である場合、有機顔料であることが好ましく、以下のものを挙げることができる。但し本発明は、これらに限定されるものではない。
カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １，２，３，４，５，６，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，２０，２４，３１，３２，３４，３５，３５：１，３６，３６：１，３７，３７：１，４０，４２，４３，５３，５５，６０，６１，６２，６３，６５，７３，７４，７７，８１，８３，８６，９３，９４，９５，９７，９８，１００，１０１，１０４，１０６，１０８，１０９，１１０，１１３，１１４，１１５，１１６，１１７，１１８，１１９，１２０，１２３，１２５，１２６，１２７，１２８，１２９，１３７，１３８，１３９，１４７，１４８，１５０，１５１，１５２，１５３，１５４，１５５，１５６，１６１，１６２，１６４，１６６，１６７，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７９，１８０，１８１，１８２，１８５，１８７，１８８，１９３，１９４，１９９，２１３，２１４等（以上、黄色顔料）、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｏｒａｎｇｅ ２，５，１３，１６，１７：１，３１，３４，３６，３８，４３，４６，４８，４９，５１，５２，５５，５９，６０，６１，６２，６４，７１，７３等（以上、オレンジ色顔料）、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ １，２，３，４，５，６，７，９，１０，１４，１７，２２，２３，３１，３８，４１，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５２：１，５２：２，５３：１，５７：１，６０：１，６３：１，６６，６７，８１：１，８１：２，８１：３，８３，８８，９０，１０５，１１２，１１９，１２２，１２３，１４４，１４６，１４９，１５０，１５５，１６６，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１６，２２０，２２４，２２６，２４２，２４６，２５４，２５５，２６４，２７０，２７２，２７９等（以上、赤色顔料）、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ ７，１０，３６，３７，５８，５９等（以上、緑色顔料）、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ １，１９，２３，２７，３２，３７，４２等（以上、紫色顔料）、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １，２，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，２２，６０，６４，６６，７９，８０等（以上、青色顔料）
これら有機顔料は、単独若しくは種々組合せて用いることができる。
また、上記以外にも色材としては、ジケトピロロピロール色素化合物、銅化合物、シアニン系色素化合物、フタロシアニン系化合物、イモニウム系化合物、チオール錯体系化合物、遷移金属酸化物系化合物、スクアリリウム系色素化合物、ナフタロシアニン系色素化合物、クオタリレン系色素化合物、ジチオール金属錯体系色素化合物、および、クロコニウム化合物等も挙げられる。
なお、色材としては、角度依存性をより低減できる点で、波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ未満の範囲に吸収極大を有する着色剤Ｘ（色材Ｘ）を用いることが好ましい。
また、角度依存性をより低減できる点で、上記着色剤Ｘとともに、波長８００〜９００ｎｍに範囲に極大吸収を有する着色剤Ｙ（色材Ｙ）を用いることがより好ましい。
なお、上記着色剤Ｘは１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
光吸収層における色材の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、光吸収層全質量に対して、１０〜８０質量％が好ましく、２０〜７０質量％がより好ましい。
光吸収層は、色材、および、必要に応じて添加される成分を含む光吸収層形成用組成物を用いて形成することができる。特に、光吸収層が上記赤外線透過層である場合、所定の成分を含む赤外線透過組成物を用いて形成することができる。
具体的には、基板上に後述する光吸収層形成用組成物を塗布して、必要に応じて硬化処理を施し、光吸収層を形成する方法が挙げられる。塗布の方法は特に制限されず、スピンコーター、ディップコーター、ダイコーター、スリットコーター、バーコーター、および、グラビアコーター等により塗布する方法が挙げられる。
光吸収層形成用組成物には、少なくとも色材が含まれ、必要に応じて、他の成分（例えば、重合性化合物、バインダー、重合開始剤、顔料分散剤、顔料誘導体、溶剤、界面活性剤、アルカリ可溶性樹脂、および、アルコキシシリル基を有する化合物等）が含まれていてもよい。色材の種類に関しては、後述する（赤外線透過組成物の第１の実施の形態）〜（赤外線透過組成物の第９の実施の形態）で述べる色材が挙げられる。また、他の成分に関しても、後述する（赤外線透過組成物の第１の実施の形態）〜（赤外線透過組成物の第９の実施の形態）で述べる成分が挙げられる。
また、後段では（赤外線透過組成物の第１の実施の形態）〜（赤外線透過組成物の第９の実施の形態）について述べるが、（赤外線透過組成物の第１の実施の形態）〜（赤外線透過組成物の第９の実施の形態）から選択される少なくとも２種以上の組成物を混合して、光吸収層形成用組成物として用いてもよい。
色材として顔料が用いられる場合、一旦、顔料分散液を製造後、重合性化合物等の成分を顔料分散液に加えて光吸収層形成用組成物を製造してもよい。
顔料分散液を得る際の顔料を分散させるプロセスとしては、分散に用いる機械力として圧縮、圧搾、衝撃、剪断、または、キャビテーション等を使用するプロセスが挙げられる。これらプロセスの具体例としては、ビーズミル、サンドミル、ロールミル、ボールミル、ペイントシェーカー、マイクロフルイダイザー、高速インペラー、サンドグラインダー、フロージェットミキサー、高圧湿式微粒化、および、超音波分散等が挙げられる。また、サンドミル（ビーズミル）における顔料の粉砕においては、径の小さいビーズを使用する、ビーズの充填率を大きくする事等により粉砕効率を高めた条件で処理することが好ましく、粉砕処理後に濾過、遠心分離等で素粒子を除去することがより好ましい。
また、「分散技術大全、株式会社情報機構発行、2005年7月15日」や「サスペンション(固/液分散系)を中心とした分散技術と工業的応用の実際 総合資料集、経営開発センター出版部発行、１９７８年１０月１０日」、特開２０１５−１５７８９３号公報の段落００２２に記載のプロセスおよび分散機を好適に使用できる。
また、顔料分散プロセスにおいては、ソルトミリング工程による顔料の微細化処理を行ってもよい。ソルトミリング工程に用いられる素材、機器、および、処理条件等は、例えば、特開２０１５−１９４５２１号公報、および、特開２０１２−０４６６２９号公報に記載のものを使用することができる。
以下、赤外線透過組成物の好適態様を挙げる。本発明がこれらに限定されるものではないことは言うまでもない。
（赤外線透過組成物の第１の実施の形態）
第１の実施の形態の赤外線透過組成物は、一般式（Ａ１）で表される染料と、重合性化合物と、重合開始剤とを含む。赤外線透過組成物は、一般式（Ａ１）で表される染料以外の他の着色剤を含んでいてもよい。また、赤外線透過組成物が顔料を含む場合、顔料分散剤、溶剤、および、顔料誘導体等とともに顔料を分散して、顔料分散液を調製し、得られた顔料分散液を一般式（Ａ１）で表される染料と、重合開始剤と、重合性化合物と混合してもよい。また、赤外線透過組成物は、上記成分以外の他の成分（アルカリ可溶性樹脂、界面活性剤、アルコキシシリル基を有する化合物等）をさらに含んでいてもよい。
一般式（Ａ１）
一般式（Ａ１）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、置換基を有するカルボニル基、アルキル基、アリール基、または、複素環基を表す。Ｒ３は、水素原子、窒素原子、アルキル基、アリール基、または、複素環基を表す。Ｒ３は、Ａの置換基と環を形成してもよく、Ｒ３が窒素原子を表す場合、Ａの置換基と環を形成する。Ｒ３Ａは、水素原子、アルキル基、または、アリール基を表す。Ａは、複素５員環または複素６員環を表す。Ｍは、金属原子を表す。ｎは、２または３を表す。
赤外線透過組成物中の一般式（Ａ１）で表される染料の含有量の合計は、１５〜８５質量％が好ましく、２０〜８０質量％がより好ましい。
赤外線透過組成物の全着色剤中、一般式（Ａ１）で表される染料の含有量の合計は、４〜５０質量％であることが好ましく、７〜４０質量％であることがより好ましい。
赤外線透過組成物中、一般式（Ａ１）で表される染料は、１種のみ含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
一般式（Ａ１）で表される染料以外の他の着色剤としては、顔料および染料を挙げることができる。他の着色剤は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。他の着色剤は、例えば、特開２０１３−０６４９９９号公報の段落００１９〜００２５の記載の例を参酌でき、この内容は本願明細書に組み込まれる。特に、青色顔料としては、ＰＢ１５：６が例示される。黄色顔料としては、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １３９が例示される。紫色顔料としては、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ２３が例示される。
赤外線透過組成物は、他の着色剤として黄色顔料と、青色顔料と、紫色顔料とを含むことが好ましい。この場合、赤外線透過組成物中、黄色顔料の全顔料に対する質量比が０．１〜０．２であり、青色顔料の全顔料に対する質量比が０．２５〜０．５５であり、紫色顔料の全顔料に対する質量比が０．０５〜０．１５であることが好ましい。また、一般式（Ａ１）で表される染料と黄色顔料との質量比は、８５：１５〜５０：５０であることが好ましく、一般式（Ａ１）で表される染料と黄色顔料との合計質量と、青色顔料と紫色顔料との合計質量の質量比が、６０：４０〜４０：６０であることがより好ましい。
重合性化合物は、例えば、特開２０１２−２０８４９４号公報の段落０４６６〜０４９４の記載の例を参酌でき、この内容は本願明細書に組み込まれる。重合性化合物は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
重合性化合物は、モノマー、ポリマーのいずれの形態であってもよいが、モノマーが好ましい。モノマータイプの重合性化合物は、分子量が２００〜３０００であることが好ましい。分子量の上限は、２５００以下がより好ましく、２０００以下が更に好ましい。分子量の下限は、２５０以上がより好ましく、３００以上が更に好ましい。
重合性化合物の例としては、特開２０１３−２５３２２４号公報の段落番号００３３〜００３４の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。上記化合物としては、エチレンオキシ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、ＮＫエステルＡＴＭ−３５Ｅ；新中村化学工業（株）製）、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３３０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３２０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としては ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３１０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製、Ａ−ＤＰＨ−１２Ｅ；新中村化学工業（株）製）、およびこれらの（メタ）アクリロイル基がエチレングリコール、プロピレングリコール残基を介して結合している構造を有する化合物が好ましい。また、これらのオリゴマータイプも使用できる。また、特開２０１３−２５３２２４号公報の段落番号００３４〜００３８の重合性化合物の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、特開２０１２−２０８４９４号公報の段落番号０４７７（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の［０５８５］）に記載の重合性モノマー等が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
また、重合性化合物として、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としては Ｍ−４６０；東亞合成（株）製）が好ましい。ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製、Ａ−ＴＭＭＴ）、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＤＤＡ）も好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。例えば、ＲＰ−１０４０（日本化薬（株）製）などが挙げられる。
重合性化合物は、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基等の酸基を有していてもよい。酸基を有する重合性化合物は、多官能アルコールの一部のヒドロキシ基を（メタ）アクリレート化し、残ったヒドロキシ基に酸無水物を付加反応させてカルボキシル基とするなどの方法で得られる。また、上述のヒドロキシ基に、非芳香族カルボン酸無水物などを反応させて酸基を導入してもよい。非芳香族カルボン酸無水物の具体例としては、無水テトラヒドロフタル酸、アルキル化無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、アルキル化無水ヘキサヒドロフタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸が挙げられる。
酸基を有する重合性化合物は、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルが好ましく、脂肪族ポリヒドロキシ化合物の未反応のヒドロキシ基に非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を付加した重合性化合物がより好ましく、上述のエステルにおいて、脂肪族ポリヒドロキシ化合物がペンタエリスリトールおよびジペンタエリスリトールのうちの少なくとも一方である化合物がさらに好ましい。市販品としては、アロニックス Ｍ−５１０、Ｍ−５２０（東亞合成（株）製）、ＣＢＸ−０、ＣＢＸ−１（新中村化学工業（株）製）などが挙げられる。酸基を有する重合性化合物の酸価は、０．１〜４０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。上限は、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。
重合性化合物は、カプロラクトン構造を有する化合物も好ましい態様である。カプロラクトン構造を有する化合物としては、分子内にカプロラクトン構造を有する限り特に限定されるものではないが、例えば、トリメチロールエタン、ジトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセロール、トリメチロールメラミン等の多価アルコールと、（メタ）アクリル酸およびε−カプロラクトンをエステル化することにより得られる、ε−カプロラクトン変性多官能（メタ）アクリレートを挙げることができる。カプロラクトン構造を有する化合物としては、特開２０１３−２５３２２４号公報の段落番号００４２〜００４５の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。カプロラクトン構造を有する化合物としては、例えば、日本化薬（株）からＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡシリーズとして市販されている、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−３０、ＤＰＣＡ−６０、ＤＰＣＡ−１２０等、サートマー社製のエチレンオキシ鎖を４個有する４官能アクリレートであるＳＲ−４９４、イソブチレンオキシ鎖を３個有する３官能アクリレートであるＴＰＡ−３３０などが挙げられる。
重合性化合物としては、特公昭４８−４１７０８号公報、特開昭５１−３７１９３号公報、特公平２−３２２９３号公報、特公平２−１６７６５号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８−４９８６０号公報、特公昭５６−１７６５４号公報、特公昭６２−３９４１７号公報、特公昭６２−３９４１８号公報の記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。また、特開昭６３−２７７６５３号公報、特開昭６３−２６０９０９号公報、特開平１−１０５２３８号公報に記載されている、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることができる。
市販品としては、ウレタンオリゴマーＵＡＳ−１０、ＵＡＢ−１４０（山陽国策パルプ社製）、ＵＡ−７２００（新中村化学社製）、ＤＰＨＡ−４０Ｈ（日本化薬社製）、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ、ＡＨ−６００、Ｔ−６００、ＡＩ−６００、ライトアクリレートＤＣＰ―Ａ（共栄社化学（株）製）などが挙げられる。
また、重合性化合物として、アロニックス Ｍ−２１５、Ｍ−３０５、Ｍ−３１３、Ｍ−３１５、ＴＯ−２３４９（東亞合成（株）製）、ＳＲ−３６８(サートマー社製)、Ａ−９３００（新中村化学工業（株）製）などのイソシアヌル酸エチレンオキシ（ＥＯ）変性モノマーを好ましく用いることができる。
重合性化合物が赤外線透過組成物に含まれる場合、重合性化合物の含有量は、赤外線透過組成物の固形分に対して、０．１〜９０質量％が好ましく、２〜５０質量％がより好ましい。
重合開始剤は、例えば、特開２０１２−２０８４９４号公報の段落０５００〜０５４７の記載の例を参酌でき、この内容は本願明細書に組み込まれる。
重合開始剤としては、オキシム化合物が好ましい。オキシム化合物の具体例としては、特開２００１−２３３８４２号公報記載の化合物、特開２０００−８００６８号公報記載の化合物、および、特開２００６−３４２１６６号公報記載の化合物が挙げられる。市販品では、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ−ＰＢＧ−３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカアークルズＮＣＩ−８３１、アデカアークルズＮＣＩ−９３０（ＡＤＥＫＡ社製）等が挙げられる。
オキシム化合物として、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることもできる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３−１１４２４９号公報の段落００３１〜００４７、特開２０１４−１３７４６６号公報の段落０００８〜００１２、００７０〜００７９に記載されている化合物、特許４２２３０７１号公報の段落０００７〜００２５に記載されている化合物、および、アデカアークルズＮＣＩ−８３１（ＡＤＥＫＡ社製）が挙げられる。
重合開始剤は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
重合開始剤が赤外線透過組成物に含まれる場合、重合開始剤の含有量は、赤外線透過組成物の固形分に対して、０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜５質量％がより好ましい。さらに本発明では、光重合開始剤として、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０−２６２０２８号公報記載の化合物、特表２０１４−５００８５２号公報記載の化合物２４、３６〜４０、特開２０１３−１６４４７１号公報記載の化合物（Ｃ−３）等が挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれることとする。
顔料分散剤（以後、分散剤とも称する）としては、例えば、特開２０１２−２０８４９４号公報の段落０４０４〜０４６５の記載の例を参酌でき、この内容は本願明細書に組み込まれる。顔料分散剤は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
顔料分散剤が用いられる場合、その使用量は、顔料１００質量部に対して、１〜８０質量部であることが好ましく、５〜７０質量部であることがより好ましく、１０〜６０質量部であることがさらに好ましい。
顔料誘導体としては、例えば、特開２００９−２０３４６２号公報の段落０１２４〜０１２６の記載の例を参酌でき、この内容は本願明細書に組み込まれる。顔料誘導体は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
顔料誘導体が用いられる場合、その使用量は、顔料１００質量部に対して、１〜３０質量部であることが好ましく、３〜２０質量部であることがより好ましく、５〜１５質量部であることがさらに好ましい。
分散剤としては、上記以外にも、酸性分散剤（酸性樹脂）、塩基性分散剤（塩基性樹脂）が挙げられる。分散剤は、酸性分散剤を少なくとも含むことが好ましく、酸性分散剤のみであることがより好ましい。分散剤が、酸性分散剤を少なくとも含むことにより、顔料の分散性が向上し、優れた現像性が得られるので、フォトリソグラフィにて、好適にパターン形成を行うことができる。なお、分散剤が酸性分散剤のみであるとは、例えば、分散剤の全質量中における、酸性分散剤の含有量が９９質量％以上であることが好ましく、９９．９質量％以上であることがより好ましい。
ここで、酸性分散剤（酸性樹脂）とは、酸基の量が塩基性基の量よりも多い樹脂を表す。酸性分散剤（酸性樹脂）は、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、酸基の量が７０モル％以上を占める樹脂が好ましく、実質的に酸基のみからなる樹脂がより好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）が有する酸基は、カルボキシル基が好ましい。
また、塩基性分散剤（塩基性樹脂）とは、塩基性基の量が酸基の量よりも多い樹脂を表す。塩基性分散剤（塩基性樹脂）は、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、塩基性基の量が５０モル％以上を占める樹脂が好ましい。塩基性分散剤が有する塩基性基は、アミンが好ましい。
酸性分散剤（酸性樹脂）の酸価は、４０〜１０５ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、５０〜１０５ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、６０〜１０５ｍｇＫＯＨ／ｇがさらに好ましい。
分散剤として用いる樹脂は、酸基を有する繰り返し単位を含むことが好ましい。樹脂が酸基を有する繰り返し単位を含むことにより、フォトリソグラフィによりパターンを形成する際、画素の下地に発生する残渣をより低減することができる。
また、分散剤として用いる樹脂は、グラフト共重合体であることも好ましい。グラフト共重合体は、グラフト鎖によって溶剤との親和性を有するために、顔料の分散性、および、経時後の分散安定性に優れる。また、組成物においては、グラフト鎖の存在により重合性化合物またはアルカリ可溶性樹脂などとの親和性を有するので、アルカリ現像で残渣を生じにくくできる。グラフト共重合体は、式（１）〜式（４）のいずれかで表される繰り返し単位を含む樹脂が挙げられる。例えば、下記の樹脂が挙げられる。また、以下の樹脂はアルカリ可溶性樹脂として用いることもできる。
式（１）〜式（４）において、Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３、およびＷ４はそれぞれ独立に酸素原子、または、ＮＨを表し、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、およびＸ５はそれぞれ独立に水素原子、１価の基を表し、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、およびＹ４はそれぞれ独立に２価の連結基を表し、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、およびＺ４はそれぞれ独立に１価の基を表し、Ｒ３はアルキレン基を表し、Ｒ４は水素原子又は１価の基を表し、ｎ、ｍ、ｐ、およびｑはそれぞれ独立に１〜５００の整数を表し、ｊおよびｋはそれぞれ独立に２〜８の整数を表す。式（３）において、ｐが２〜５００のとき、複数存在するＲ３は互いに同じであっても異なっていてもよい。式（４）において、ｑが２〜５００のとき、複数存在するＸ５およびＲ４は互いに同じであっても異なっていてもよい。
Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３、およびＷ４は、酸素原子であることが好ましい。
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、およびＸ５は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜１２のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、メチル基がさらに好ましい。
Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、およびＹ４は、それぞれ独立に、２価の連結基を表す。２価の連結基としては、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、アルキレン基、アリーレン基およびこれらの組み合わせからなる基が挙げられる。
Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、およびＺ４が表す１価の基の構造は、特に限定されない。例えば、アルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオエーテル基、アリールチオエーテル基、ヘテロアリールチオエーテル基、およびアミノ基などが挙げられる。
式（１）〜式（４）において、ｎ、ｍ、ｐ、およびｑは、それぞれ独立に、１〜５００の整数である。また、式（１）および式（２）において、ｊおよびｋは、それぞれ独立に、２〜８の整数を表す。式（１）および式（２）におけるｊおよびｋは、分散安定性、現像性の観点から、４〜６の整数が好ましく、５が最も好ましい。
式（３）中、Ｒ３はアルキレン基を表し、炭素数１〜１０のアルキレン基が好ましく、炭素数２又は３のアルキレン基がより好ましい。ｐが２〜５００のとき、複数存在するＲ３は互いに同じであっても異なっていてもよい。
式（４）中、Ｒ４は水素原子又は１価の基を表す。Ｒ４は、水素原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロアリール基が好ましく、水素原子、またはアルキル基がより好ましい。式（４）において、ｑが２〜５００のとき、複数存在するＸ５およびＲ４は互いに同じであっても異なっていてもよい。
上記の式の詳細については、特開２０１２−２５５１２８号公報の段落番号００２５〜００６９の記載を参酌でき、本明細書には上記内容が組み込まれることとする。
分散剤は、主鎖および側鎖の少なくとも一方に窒素原子を含むオリゴイミン系樹脂を用いることもできる。オリゴイミン系樹脂は、ｐＫａ１４以下の官能基を有する部分構造を有する基Ｘを有する繰り返し単位と、原子数４０〜１０，０００の側鎖Ｙを含む側鎖とを有し、かつ主鎖および側鎖の少なくとも一方に塩基性窒素原子を有する樹脂が好ましい。塩基性窒素原子とは、塩基性を呈する窒素原子であれば特に制限はない。
オリゴイミン系樹脂は、例えば、式（Ｉ−１）で表される繰り返し単位と、式（Ｉ−２）で表される繰り返し単位、および、式（Ｉ−２ａ）で表される繰り返し単位のうちの少なくともいずれかを含む樹脂などが挙げられる。
Ｒ１およびＲ２は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基（炭素数１〜６が好ましい）を表す。ａは、各々独立に、１〜５の整数を表す。＊は繰り返し単位間の連結部を表す。
Ｒ８およびＲ９はＲ１と同義の基である。
Ｌは単結合、アルキレン基（炭素数１〜６が好ましい）、アルケニレン基（炭素数２〜６が好ましい）、アリーレン基（炭素数６〜２４が好ましい）、ヘテロアリーレン基（炭素数１〜６が好ましい）、イミノ基（炭素数０〜６が好ましい）、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、またはこれらの組合せに係る連結基である。なかでも、単結合または−ＣＲ５Ｒ６−ＮＲ７−（イミノ基がＸもしくはＹの方になる）であることが好ましい。ここで、Ｒ５およびＲ６は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基（炭素数１〜６が好ましい）を表す。Ｒ７は水素原子または炭素数１〜６のアルキル基である。
Ｌａは、ＣＲ８ＣＲ９とＮとともに環構造形成する構造部位であり、ＣＲ８ＣＲ９の炭素原子と合わせて炭素数３〜７の非芳香族複素環を形成する構造部位であることが好ましい。より好ましくは、ＣＲ８ＣＲ９の炭素原子およびＮ（窒素原子）を合わせて５〜７員の非芳香族複素環を形成する構造部位であり、さらに好ましくは５員の非芳香族複素環を形成する構造部位であり、特に好ましくはピロリジンを形成する構造部位である。この構造部位はさらにアルキル基等の置換基を有していてもよい。
ＸはｐＫａ１４以下の官能基を有する部分構造を有する基を表す。
Ｙは原子数４０〜１０，０００の側鎖を表す。
上記樹脂（オリゴイミン系樹脂）は、さらに式（Ｉ−３）、式（Ｉ−４）、および、式（Ｉ−５）で表される繰り返し単位から選ばれる１種以上を共重合成分として含有していてもよい。上記樹脂が、このような繰り返し単位を含むことで、顔料の分散性能を更に向上させることができる。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ８、Ｒ９、Ｌ、Ｌａ、ａおよび＊は式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、（Ｉ−２ａ）における規定と同義である。
Ｙａはアニオン基を有する原子数４０〜１０，０００の側鎖を表す。式（Ｉ−３）で表される繰り返し単位は、主鎖部に一級又は二級アミノ基を有する樹脂に、アミンと反応して塩を形成する基を有するオリゴマー又はポリマーを添加して反応させることで形成することが可能である。
上述したオリゴイミン系樹脂については、特開２０１２−２５５１２８号公報の段落番号０１０２〜０１６６の記載を参酌でき、本明細書には上記内容が組み込まれることとする。オリゴイミン系樹脂の具体例としては、例えば、以下が挙げられる。また、特開２０１２−２５５１２８号公報の段落番号０１６８〜０１７４に記載の樹脂を用いることができる。
溶剤としては、例えば、特開２０１２−２０８４９４号公報の段落０４９６〜０４９９の記載の例を参酌でき、この内容は本願明細書に組み込まれる。溶剤は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
本発明において、金属含有量の少ない溶剤を用いることが好ましく、溶剤の金属含有量は、例えば１０ｐｐｂ以下であることが好ましい。必要に応じてｐｐｔレベルの溶剤を用いてもよく、そのような高純度溶剤は、例えば、東洋合成社が提供している。
溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留または薄膜蒸留等）、および、フィルターを用いた濾過を挙げることができる。フィルターを用いたろ過におけるフィルター孔径としては、ポアサイズ１０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以下がより好ましく、３ｎｍ以下がさらに好ましい。フィルターとしては、ポリテトラフロロエチレン製、ポリエチレン製、または、ナイロン製のフィルターが好ましい。
溶剤は、異性体（同じ原子数で異なる構造の化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。
溶剤の配合量は、組成物の固形分濃度が５〜８０質量％となる濃度が好ましい。
アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、特開２０１２−２０８４９４号公報の段落０５５８〜０５７２の記載の例を参酌でき、この内容は本願明細書に組み込まれる。
アルカリ可溶性樹脂としては、下記一般式（ＥＤ）で示される化合物および／または下記一般式（ＥＤ２）で表される化合物（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。）を必須とする単量体成分を重合してなるポリマー（ａ）が好ましく挙げられる。
一般式（ＥＤ）中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１〜２５の炭化水素基を表す。
一般式（ＥＤ２）

一般式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子または炭素数１〜３０の有機基を表す。一般式（ＥＤ２）の具体例としては、特開２０１０−１６８５３９号公報の記載を参酌できる。
アルカリ可溶性樹脂は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
アルカリ可溶性樹脂が赤外線透過組成物に含まれる場合、アルカリ可溶性樹脂の含有量は、赤外線透過組成物の固形分に対して、１〜１５質量％が好ましい。
アルカリ可溶性樹脂の具体例としては、以下が挙げられる。
アルカリ可溶性樹脂は、特開２０１２−２０８４９４号公報の段落番号０５５８〜０５７１（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の［０６８５］〜［０７００］）の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、特開２０１２−３２７６７号公報の段落番号００２９〜００６３に記載の共重合体（Ｂ）および実施例で用いられているアルカリ可溶性樹脂、特開２０１２−２０８４７４号公報の段落番号００８８〜００９８に記載のバインダー樹脂および実施例で用いられているバインダー樹脂、特開２０１２−１３７５３１号公報の段落番号００２２〜００３２に記載のバインダー樹脂および実施例で用いられているバインダー樹脂、特開２０１３−０２４９３４号公報の段落番号０１３２〜０１４３に記載のバインダー樹脂および実施例で用いられているバインダー樹脂、特開２０１１−２４２７５２号公報の段落番号００９２〜００９８に記載のバインダー樹脂および実施例で用いられているバインダー樹脂、特開２０１２−０３２７７０号公報の段落番号００３０〜００７２に記載のバインダー樹脂を用いることもできる。これらの内容は本明細書に組み込まれる。
アルカリ可溶性樹脂には、重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂を使用してもよい。重合性基としては、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基等が挙げられる。重合性基を有したアルカリ可溶性樹脂は、重合性基を側鎖に含有したアルカリ可溶性樹脂等が有用である。重合性基を含有するアルカリ可溶性樹脂としては、ダイヤナ−ルＮＲシリーズ（三菱レイヨン（株）製）、Ｐｈｏｔｏｍｅｒ６１７３（ＣＯＯＨ含有 ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ ａｃｒｙｌｉｃ ｏｌｉｇｏｍｅｒ．Ｄｉａｍｏｎｄ Ｓｈａｍｒｏｃｋ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）、ビスコートＲ−２６４、ＫＳレジスト１０６（いずれも大阪有機化学工業（株）製）、サイクロマーＰシリーズ（例えば、ＡＣＡ２３０ＡＡ）、プラクセル ＣＦ２００シリーズ（いずれも（株）ダイセル製）、Ｅｂｅｃｒｙｌ３８００（ダイセルユーシービー（株）製）、アクリキュアーＲＤ−Ｆ８（日本触媒（株）製）などが挙げられる。
界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。
フッ素系界面活性剤を用いることで、組成物を調製したときの液特性（特に、流動性）がより向上し、塗布厚の均一性および省液性をより改善することができる。即ち、フッ素系界面活性剤を含有する組成物を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と組成物との界面張力が低下して、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布性が向上する。このため、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行うことができる。
フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、３〜４０質量％が好適であり、より好ましくは５〜３０質量％であり、さらに好ましくは７〜２５質量％である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性および省液性の点で効果的であり、組成物中における溶解性も良好である。
フッ素系界面活性剤として具体的には、特開２０１４−４１３１８号公報の段落００６０〜００６４（対応する国際公開ＷＯ２０１４／１７６６９号パンフレットの段落００６０〜００６４）等に記載の界面活性剤、特開２０１１−１３２５０３号公報の段落０１１７〜０１３２に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７６、同Ｆ１７７、同Ｆ１４１、同Ｆ１４２、同Ｆ１４３、同Ｆ１４４、同Ｒ３０、同Ｆ４３７、同Ｆ４７５、同Ｆ４７９、同Ｆ４８２、同Ｆ５５４、同Ｆ７８０、ＲＳ−７２−Ｋ（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１、同ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ１０６８、同ＳＣ−３８１、同ＳＣ−３８３、同Ｓ３９３、同ＫＨ−４０（以上、旭硝子（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。
フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもでき、具体例としては、例えば特開２０１１−８９０９０号公報に記載された化合物が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができ、下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。
上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは３，０００〜５０，０００であり、例えば、１４，０００である。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す％は質量％である。
フッ素系界面活性剤としては、フッ素原子の官能基を持つ分子構造で、熱を加えると官能基の部分が切れてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。フッ素原子の官能基を持つ分子構造で、熱を加えると官能基の部分が切れてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物としてはＤＩＣ社製のメガファックＤＳシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月２２日）（日経産業新聞、２０１６年２月２３日）、例えばメガファックＤＳ−２１を用いてもよい。
界面活性剤の例としては、例えば、特開２０１２−２０８４９４号公報の段落０５４９〜０５５７の記載の例を参酌でき、この内容は本願明細書に組み込まれる。また、界面活性剤の他の例としては、特許５８０９７９４号公報の段落０１１７〜０１３２に記載の例を参酌でき、この内容は本願明細書に組み込まれる。
界面活性剤は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
界面活性剤が赤外線透過組成物に含まれる場合、界面活性剤の含有量は、赤外線透過組成物の固形分に対して、０．００１〜２．０質量％が好ましい。
アルコキシシリル基を有する化合物は、架橋性化合物として機能する。アルコキシシリル基におけるアルコキシ基の炭素数は、１〜５が好ましく、１〜３がより好ましく、１または２がさらに好ましい。アルコキシシリル基は、一分子中に２個以上有することが好ましく、２〜３個有することがより好ましい。アルコキシシリル基を有する化合物の具体例としては、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、１，６−ビス（トリメトキシシリル）ヘキサン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（ビニルベンジル）−２−アミノエチル−３−アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩、トリス−（トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド、および、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。また、上記以外にアルコキシオリゴマーを用いることができる。また、下記化合物を用いることもできる。
市販品としては、信越シリコーン社製のＫＢＭ−１３、ＫＢＭ−２２、ＫＢＭ−１０３、ＫＢＥ−１３、ＫＢＥ−２２、ＫＢＥ−１０３、ＫＢＭ−３０３３、ＫＢＥ−３０３３、ＫＢＭ−３０６３、ＫＢＭ−３０６６、ＫＢＭ−３０８６、ＫＢＥ−３０６３、ＫＢＥ−３０８３、ＫＢＭ−３１０３、ＫＢＭ−３０６６、ＫＢＭ−７１０３、ＳＺ−３１、ＫＰＮ−３５０４、ＫＢＭ−１００３、ＫＢＥ−１００３、ＫＢＭ−３０３、ＫＢＭ−４０２、ＫＢＭ−４０３、ＫＢＥ−４０２、ＫＢＥ−４０３、ＫＢＭ−１４０３、ＫＢＭ−５０２、ＫＢＭ−５０３、ＫＢＥ−５０２、ＫＢＥ−５０３、ＫＢＭ−５１０３、ＫＢＭ−６０２、ＫＢＭ−６０３、ＫＢＭ−９０３、ＫＢＥ−９０３、ＫＢＥ−９１０３、ＫＢＭ−５７３、ＫＢＭ−５７５、ＫＢＭ−９６５９、ＫＢＥ−５８５、ＫＢＭ−８０２、ＫＢＭ−８０３、ＫＢＥ−８４６、ＫＢＥ−９００７、Ｘ−４０−１０５３、Ｘ−４１−１０５９Ａ、Ｘ−４１−１０５６、Ｘ−４１−１８０５、Ｘ−４１−１８１８、Ｘ−４１−１８１０、Ｘ−４０−２６５１、Ｘ−４０−２６５５Ａ、ＫＲ−５１３，ＫＣ−８９Ｓ，ＫＲ−５００、Ｘ−４０−９２２５、Ｘ−４０−９２４６、Ｘ−４０−９２５０、ＫＲ−
４０１Ｎ、Ｘ−４０−９２２７、Ｘ−４０−９２４７、ＫＲ−５１０、ＫＲ−９２１８、ＫＲ−２１３、Ｘ−４０−２３０８、Ｘ−４０−９２３８等が挙げられる。
また、アルコキシシリル基を有する化合物は、アルコキシシリル基を側鎖に有するポリマーを用いることもできる。
アルコキシシリル基を有する化合物が赤外線透過組成物に含まれる場合、アルコキシシリル基を有する化合物の含有量は、赤外線透過組成物の固形分に対して、０．１〜３０質量％が好ましい。
（赤外線透過組成物の第２の実施の形態）
第２の実施の形態の赤外線透過組成物は、着色剤およびアルカリ可溶性樹脂を含み、着色剤中に、少なくとも赤色顔料と、一般式（Ａ２）または一般式（Ａ３）で表される青色顔料の少なくとも１種とを含み、全着色剤中、赤色顔料の含有量が２０〜５０質量％、青色顔料の含有量が２５〜５５質量％である。
赤外線透過組成物は、上記青色顔料および赤色顔料以外の他の着色剤を含むことが好ましい。また、赤外線透過組成物は、上記成分以外の他の成分をさらに含んでいてもよい。
青色顔料は、一般式（Ａ２）または一般式（Ａ３）で表される化合物である。
一般式（Ａ２）

一般式（Ａ２）中、Ｘ１〜Ｘ４はそれぞれ独立して、置換基を表す。Ｒ０Ａは、水素原子または１価の置換基を表す。ｍ１〜ｍ４は、それぞれ独立して０〜４の整数を表す。ｍ１〜ｍ４が２以上のとき、Ｘ１〜Ｘ４はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
一般式（Ａ３）

一般式（Ａ３）中、Ｘ５〜Ｘ１２はそれぞれ独立して、置換基を表す。Ｒ０Ｂは二価の置換基を表す。ｍ５〜ｍ１２は、それぞれ独立して０〜４の整数を表す。ｍ５〜ｍ１２が２以上のとき、Ｘ５〜Ｘ１２はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
赤色顔料は、対称構造の赤色顔料と非対称構造の赤色顔料を含むことが好ましい。
特に、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ２５４と、一般式（Ａ４）で表される化合物であってＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ２５４ではない化合物を含むことが好ましい。
一般式（Ａ４）

一般式（Ａ４）中、ＡおよびＢは、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基、−ＣＦ3、または、−ＣＯＮ（Ｒ1）Ｒ2を表す。Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、または、フェニル基を表す。
赤色顔料として、対称構造の化合物と非対称構造の化合物とを含む場合、対称構造の化合物と非対称構造の化合物との質量比は、９９：１〜８０：１５が好ましく、９８：２〜９０：１０がより好ましい。
他の着色剤としては、上述した第１の実施の形態の他の着色剤を用いることができる。
赤外線透過組成物の全着色剤中、赤色顔料および上記青色顔料以外の着色剤の含有量の合計は、５〜４５質量％が好ましく、１５〜３５質量％がより好ましい。
アルカリ可溶性樹脂は、第１の実施の形態で説明したアルカリ可溶性樹脂を用いることができ、好ましい範囲も同様である。
上記以外の他の成分としては、第１の実施の形態で説明した、重合性化合物、重合開始剤、顔料分散剤、顔料誘導体、溶剤、界面活性剤、および、アルコキシシリル基を有する化合物等を用いることができる。これらの好ましい範囲も第一の実施の形態と同様である。
（赤外線透過組成物の第３の実施の形態）
第３の実施の形態の赤外線透過組成物は、着色剤と樹脂とを含み、波長４００〜８３０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａと、波長１０００〜１３００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ｂとの比であるＡ／Ｂが、４．５以上である。
上記吸光度の条件は、どのような手段によって達成されてもよいが、例えば、赤外線透過組成物に、波長８００〜９００ｎｍの範囲に吸収極大を有する第１の着色剤を１種類以上と、波長４００〜７００ｎｍの範囲に吸収極大を有する第２の着色剤を２種類以上含有させるとともに、各着色剤の種類および含有量を調整することにより、上記吸光度の条件を好適に達成できる。
赤外線透過組成物は、第１の着色剤および第２の着色剤以外の着色剤（第３の着色剤）を含んでいてもよい。
また、赤外線透過組成物は、着色剤および樹脂以外の他の成分をさらに含んでいてもよい。
第１の着色剤としては、例えば、ジケトピロロピロール色素化合物、銅化合物、シアニン系色素化合物、フタロシアニン系化合物、イモニウム系化合物、チオール錯体系化合物、遷移金属酸化物系化合物、スクアリリウム系色素化合物、ナフタロシアニン系色素化合物、クオタリレン系色素化合物、ジチオール金属錯体系色素化合物、および、クロコニウム化合物等が挙げられる。
ジケトピロロピロール色素化合物は、顔料でも染料でもよいが、耐熱性に優れた膜を形成できる赤外線透過組成物が得られやすいという理由から顔料が好ましい。ジケトピロロピロール色素化合物は、下記一般式（Ａ５）で表される化合物が好ましい。
一般式（Ａ５）

一般式（Ａ５）中、Ｒ１ａおよびＲ１ｂは、それぞれ独立にアルキル基、アリール基、または、ヘテロアリール基を表し、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ２およびＲ３の少なくとも一方は電子吸引性基であり、Ｒ２およびＲ３は互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ４は、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、置換ホウ素、または、金属原子を表し、Ｒ４は、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂおよびＲ３から選ばれる１以上と共有結合または配位結合してもよい。
一般式（Ａ５）で表される化合物は、例えば、特開２００９−２６３６１４号公報の段落００１６〜００５８の記載の例を参酌でき、この内容は本願明細書に組み込まれる。
赤外線透過組成物において、第１の着色剤の含有量は、赤外線透過組成物の全固形分に対して、０〜６０質量％であることが好ましく、１０〜４０質量％であることがより好ましい。
赤外線透過組成物において、第１の着色剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上併用してもよい。２種以上併用する場合は、合計が上記範囲であることが好ましい。
第２の着色剤は、顔料であってもよく、染料であってもよいが、顔料であることが好ましい。第２の着色剤は、赤色着色剤、黄色着色剤、青色着色剤、および、紫色着色剤から選ばれる２種以上の着色剤を含むことが好ましい。第２の着色剤は、上述した第１の実施の形態で説明した他の着色剤を用いることができる。
第２の着色剤が、赤色着色剤と、黄色着色剤と、青色着色剤と、紫色着色剤とを組み合わせてなる場合、赤色着色剤の、第２の着色剤全量に対する質量比が０．１〜０．４であり、黄色着色剤の、第２の着色剤全量に対する質量比が０．１〜０．４であり、青色着色剤の、第２の着色剤全量に対する質量比が０．２０〜０．６０であり、紫色着色剤の、第２の着色剤全量に対する質量比が０．０１〜０．３０であることが好ましい。
第２の着色剤の含有量は、赤外線透過組成物の全固形分の１０〜６０質量％であることが好ましく、３０〜５０質量％であることがより好ましい。
赤外線透過組成物において、第１の着色剤と第２の着色剤の合計量は、赤外線透過組成物の全固形分に対して、１〜８０質量％であることが好ましく、２０〜７０質量％であることがより好ましく、３０〜７０質量％であることがさらに好ましい。
第３の着色剤としては、波長４００〜７００ｎｍの範囲、および、波長８００〜９００ｎｍの範囲以外に吸収極大を有する着色剤を用いることができる。
赤外線透過組成物が含む樹脂としては、顔料分散剤、および、アルカリ可溶性樹脂等が挙げられる。顔料分散剤およびアルカリ可溶性樹脂は、第１の実施の形態で説明した顔料分散剤およびアルカリ可溶性樹脂を用いることができる。
他の成分としては、第１の実施の形態で説明した、重合性化合物、重合開始剤、顔料誘導体、溶剤、界面活性剤、および、アルコキシシリル基を有する化合物等を用いることができる。これらの好ましい範囲も第一の実施の形態と同様である。
（赤外線透過組成物の第４の実施の形態）
第４の実施の形態の赤外線透過組成物は、着色剤と重合性化合物とを含み、重合性化合物が、アルキレンオキシ基を繰り返し単位として２以上含む鎖（以下、アルキレンオキシ鎖ともいう）を有する重合性化合物を含み、赤外線透過組成物の、波長４００ｎｍ以上５８０ｎｍ未満の範囲における吸光度の最小値Ａと、波長５８０ｎｍ以上７７０ｎｍ以下の範囲における吸光度の最小値Ｂとの比率Ａ／Ｂが０．３〜３であり、波長４００ｎｍ以上７５０ｎｍ以下の範囲における吸光度の最小値Ｃと、波長８５０ｎｍ以上１３００ｎｍ以下の範囲における吸光度の最大値Ｄとの比率Ｃ／Ｄが５以上である。
赤外線透過組成物は、着色剤および重合性化合物以外の他の成分をさらに含んでいてもよい。
着色剤は、上述した第１の実施の形態の他の着色剤と同義である。顔料の含有量は、着色剤の全量に対して、９５質量％以上であることが好ましく、９７質量％以上であることがより好ましく、９９質量％以上であることがさらに好ましい。
重合性化合物は、アルキレンオキシ鎖を有する重合性化合物を含む。アルキレンオキシ鎖を有する重合性化合物は、下記一般式（Ａ７）で表される部分構造を有することが好ましい。式中の＊は連結手である。
一般式（Ａ７）
一般式（Ａ７）で表される部分構造を有する重合性化合物としては、例えば、下記一般式（Ａ８）で表される重合性化合物が挙げられる。
一般式（Ａ８）

一般式（Ａ８）において、Ｘ１〜Ｘ３は、それぞれ独立に水素原子または重合性基を表し、Ｘ１〜Ｘ３の少なくとも一つは、重合性基を表す。
Ｌ１は（１＋ｎ１）価の連結基を表し、Ｌ２は（１＋ｎ２）価を表し、Ｌ３は（１＋ｎ３）価を表し、Ｌ１〜Ｌ３の少なくとも１つは−（（ＣＨ２）ａ−Ｏ）ｂ−を含む連結基を表す。ａは２以上の整数を表し、ｂは２以上の整数を表す。一般式（Ａ８）において、ｎ１〜ｎ３は、それぞれ独立に、１以上の整数を表し、１または２が好ましい。
Ｌ１〜Ｌ３の少なくとも１つが有する−（（ＣＨ２）ａ−Ｏ）ｂ−を含む連結基は、好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基であることが好ましい。
アルキレンオキシ鎖を有する重合性化合物としては、第１の実施の形態で説明した重合性化合物を用いることもできる。
他の成分としては、第１の実施の形態で説明した、重合開始剤、顔料分散剤、顔料誘導体、溶剤、アルカリ可溶性樹脂、界面活性剤、および、アルコキシシリル基を有する化合物等を用いることができる。これらの好ましい範囲も第一の実施の形態と同様である。
（赤外線透過組成物の第５の実施の形態）
第５の実施の形態の赤外線透過組成物は、着色剤と重合性化合物とを含み、重合性化合物は、アルキレンオキシ基を繰り返し単位として２以上含む鎖を有する重合性化合物を含み、着色剤は、赤色着色剤および紫色着色剤から選ばれる１種以上の着色剤Ａと、黄色着色剤と、青色着色剤と、を少なくとも含み、赤色着色剤および紫色着色剤から選ばれる着色剤Ａの着色剤全量に対する質量比である着色剤Ａ／全着色剤が、０．０１〜０．７であり、黄色着色剤の着色剤全量に対する質量比である黄色着色剤／全着色剤が０．０５〜０．５であり、青色着色剤の着色剤全量に対する質量比である青色着色剤／全着色剤が０．０５〜０．６である。
赤外線透過組成物は、着色剤および重合性化合物以外の他の成分をさらに含んでいてもよい。
着色剤は、上述した第１の実施の形態の他の着色剤と同義である。
重合性化合物は、第４の実施の形態で説明したアルキレンオキシ鎖を有する重合性化合物と同義である。
他の成分としては、第１の実施の形態で説明した、重合開始剤、顔料分散剤、顔料誘導体、溶剤、アルカリ可溶性樹脂、界面活性剤、および、アルコキシシリル基を有する化合物等を用いることができる。これらの好ましい範囲も第一の実施の形態と同様である。
（赤外線透過組成物の第６の実施の形態）
第６の実施の形態の赤外線透過組成物は、着色剤と重合性化合物とを含み、着色剤の質量Ｐと重合性化合物の質量Ｍとの比率Ｐ／Ｍが、０．０５〜０．３５であり、赤外線透過組成物の全固形分中における重合性化合物の含有量が２５〜６５質量％であり、赤外線透過組成物の、波長４００ｎｍ以上５８０ｎｍ未満の範囲における吸光度の最小値Ａと、波長５８０ｎｍ以上７７０ｎｍ以下の範囲における吸光度の最小値Ｂとの比率Ａ／Ｂが０．３〜３であり、波長４００ｎｍ以上７５０ｎｍ以下の範囲における吸光度の最小値Ｃと、波長８５０ｎｍ以上１３００ｎｍ以下の範囲における吸光度の最大値Ｄとの比率Ｃ／Ｄが５以上である。
赤外線透過組成物は、着色剤および重合性化合物以外の他の成分をさらに含んでいてもよい。
着色剤および重合性化合物は、上述した第１の実施の形態の他の着色剤および重合性化合物とそれぞれ同義である。
他の成分としては、第１の実施の形態で説明した、重合開始剤、顔料分散剤、顔料誘導体、溶剤、アルカリ可溶性樹脂、界面活性剤、および、アルコキシシリル基を有する化合物等を用いることができる。これらの好ましい範囲も第一の実施の形態と同様である。
（赤外線透過組成物の第７の実施の形態）
第７の実施の形態の赤外線透過組成物は、着色剤と重合性化合物とを含み、着色剤の質量Ｐと重合性化合物の質量Ｍとの比率Ｐ／Ｍが、０．０５〜０．３５であり、赤外線透過組成物の全固形分中における重合性化合物の含有量が２５〜６５質量％であり、着色剤は、黄色着色剤と青色着色剤とを少なくとも含み、黄色着色剤の着色剤全量に対する質量比である黄色着色剤／全着色剤が０．１〜０．５であり、青色着色剤の着色剤全量に対する質量比である青色着色剤／全着色剤が０．１〜０．６である。
赤外線透過組成物は、着色剤および重合性化合物以外の他の成分をさらに含んでいてもよい。
着色剤および重合性化合物は、上述した第１の実施の形態の他の着色剤および重合性化合物とそれぞれ同義である。
他の成分としては、第１の実施の形態で説明した、重合開始剤、顔料分散剤、顔料誘導体、溶剤、アルカリ可溶性樹脂、界面活性剤、および、アルコキシシリル基を有する化合物等を用いることができる。これらの好ましい範囲も第一の実施の形態と同様である。
（赤外線透過組成物の第８の実施の形態）
第８の実施の形態の赤外線透過組成物は、膜厚１μｍの膜を形成した際に、膜の厚み方向の光透過率の、波長４００〜７５０ｎｍの範囲における最大値が２０％以下であり、膜の厚み方向の光透過率の、波長９００〜１３００ｎｍの範囲における最小値が９０％以上となる組成物である。
膜の分光特性、膜厚等の測定方法を以下に示す。
組成物をガラス基板上にスピンコート等の方法により、乾燥後の膜厚が１μｍとなるように組成物を塗布し、膜を設け、得られた膜を１００℃にて１２０秒間ホットプレートで乾燥する。
膜の膜厚は、膜を有する乾燥後の基板を、触針式表面形状測定器（ＵＬＶＡＣ社製 ＤＥＫＴＡＫ１５０）を用いて測定する。
この膜を有する乾燥後の基板を、紫外可視近赤外分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製 Ｕ−４１００）の分光光度計（ｒｅｆ．ガラス基板）を用いて、波長３００〜１３００ｎｍの範囲において透過率を測定する。
光透過率の条件は、どのような手段によって達成されてもよいが、例えば、組成物に顔料を２種以上含ませるとともに、各顔料の種類および含有量を調整することにより、上記光透過率の条件を好適に達成できる。
赤外線透過組成物は、着色剤および着色剤以外の他の成分をさらに含んでいてもよい。
着色剤は、上述した第１の実施の形態の他の着色剤と同義である。
他の成分としては、第１の実施の形態で説明した、重合性化合物、重合開始剤、顔料分散剤、顔料誘導体、溶剤、アルカリ可溶性樹脂、界面活性剤、および、アルコキシシリル基を有する化合物等を用いることができる。これらの好ましい範囲も第一の実施の形態と同様である。
（赤外線透過組成物の第９の実施の形態）
第９の実施の形態の赤外線透過組成物は、顔料、光重合開始剤、および重合性化合物を含み、波長６００ｎｍにおける分光透過率が３０％である赤外線透過層を形成した場合に、赤外線透過層が、下記（１）〜（５）の条件を満足する組成物である。
（１）４００ｎｍにおける分光透過率が２０％以下である。
（２）５５０ｎｍにおける分光透過率が１０％以下である。
（３）７００ｎｍにおける分光透過率が７０％以上である。
（４）分光透過率５０％を示す波長が、６５０ｎｍ〜６８０ｎｍの範囲である。
（５）赤外線透過層が０．５５μｍ〜１．８μｍの範囲の膜厚を有する。
赤外線透過組成物の詳細は、例えば、特開２０１３−０７７００９号公報の段落００２０〜０２３０の記載の例を参酌でき、この内容は本願明細書に組み込まれる。
＜その他の層＞
積層体は、上述した多層反射膜および光吸収層以外の他の層を含んでいてもよい。
積層体は、例えば、基板、易接着層、ハードコート層、紫外線吸収層、粘着層、および、表面保護層のうち少なくとも１つをさらに有することが好ましい。
以下、上記他の層について詳述する。
（基板）
積層体は、基板を有していてもよい。
基板の種類は特に制限されず、公知の基板（好ましくは、透明基板）を使用することができる。例えば、ガラス基板、樹脂基板を好適に使用することができる。
（易接着層）
積層体は、一方または両方の最外層として、易接着層を有していてもよい。易接着層は、例えば、積層体と合わせガラス用中間膜との接着性を改善する機能を有する。より具体的には、易接着層は、光反射層および／または基板と、合わせガラス用中間膜との接着性を改善する機能を有する。
易接着層の形成に利用可能な材料としては、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂が挙げられる。ポリビニルブチラール樹脂は、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）とブチルアルデヒドとを酸触媒で反応させて生成するポリビニルアセタールの一種であり、下記構造の繰り返し単位を有する樹脂である。
易接着層は、塗布により形成するのが好ましい。例えば、光反射層の表面および／または基板の裏面（光反射層が形成されていない側の面）に、塗布により形成してもよい。より具体的には、ポリビニルブチラール樹脂の１種を有機溶剤に溶解して塗布液を調製し、塗布液を、光反射層の表面および／または基板の裏面に塗布して、所望により加熱して乾燥し、易接着層を形成することができる。塗布液の調製に用いる溶剤としては、例えば、メトキシプロピルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、および、イソプロパノール（ＩＰＡ）等が挙げられる。
塗布方法としては、公知の種々の方法を利用することができる。乾燥時の温度は、塗布液の調製に用いた材料によって好ましい範囲が異なるが、一般的には、１４０〜１６０℃程度が好ましい。乾燥時間についても特に制限はないが、一般的には、５〜１０分程度である。
また、易接着層は、いわゆるアンダーコート層といわれる、アクリル樹脂、スチレン／アクリル樹脂、ウレタン樹脂、または、ポリエステル樹脂等からなる層であってもよい。これらの材料からなる易接着層も塗布により形成することができる。なお、市販されているポリマーフィルムの中には、アンダーコート層が付与されているものもあるので、それらの市販品を基板として利用することもできる。
なお、易接着層の厚みは、０．１〜２．０μｍが好ましい。
（下塗り層）
積層体は、光反射層と基板との間に下塗り層を有していてもよい。光反射層と基板との密着力が弱いと、光反射層を積層して製造する際の工程で剥離故障が起きる場合、および、合わせガラスにした際の強度（耐衝撃性）低下を引き起こす場合がある。よって、下塗り層として、光反射層と基板との接着性を向上させることができる層を用いることができる。一方で、積層体から基板または基板と下塗り層とを剥離して、得られた光反射層と中間膜シート等の部材とを一体化する場合は、基板と下塗り層、または、下塗り層と光反射層との界面には、剥離可能な程度の接着性の弱さが必要である。この場合、後工程の点を考慮すると、下塗り層と基板との界面で剥離する方が好ましい。
下塗り層の材料としては、例えば、アクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、スチレンブタジエンゴム（ＳＢＲ）、および、水性ポリエステル等が挙げられる。また、下塗り層の表面を中間膜と接着する態様では、下塗り層と中間膜との接着性が良好であるのが好ましい。その観点では、下塗り層は、上記材料とともに、ポリビニルブチラール樹脂も含むことが好ましい。
また、下塗り層は、上記したように密着力を適度に調節する必要があるので、グルタルアルデヒド、２、３−ジヒドロキシ−１、４−ジオキサン等のジアルデヒド類またはホウ酸等の硬膜剤を適宜用いて硬膜させることが好ましい。硬膜剤の添加量は、下塗り層の乾燥質量に対して、０．２〜３．０質量％が好ましい。
下塗り層の厚みは、０．０５〜０．５μｍが好ましい。
（配向層）
積層体は、光反射層と基板との間に配向層を有していてもよい。配向層は、光反射層中の液晶化合物の配向方向をより精密に規定する機能を有する。配向層は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、および、マイクログルーブを有する層の形成等の手段で設けることができる。さらには、電場の付与、磁場の付与、または、光照射により配向機能が生じる配向層も知られている。配向層は、光照射により配向が生じるものが好ましく、公知のものを好適に用いることができる。
配向層は、光反射層と隣接することが好ましいので、光反射層と基板または下塗り層との間に設けるのが好ましい。但し、下塗り層が配向層の機能を有していてもよい。
配向層は、隣接する、光反射層および下塗り層（または基板）のいずれに対しても、ある程度の密着力を有することが好ましい。
配向層として用いられる材料としては、ポリマーが好ましく、それ自体が架橋可能なポリマー、または、架橋剤により架橋されるポリマーがよく用いられる。当然、双方の機能を有するポリマーも用いられる。
ポリマーの例としては、ポリメチルメタクリレ−ト、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコ−ルおよび変性ポリビニルアルコ−ル、ポリ（Ｎ−メチロ−ルアクリルアミド）、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロ−ス、ゼラチン、ポリエチレン、ポリプロピレン、および、ポリカーボネート等が挙げられる。ポリマーとしては、ポリ（Ｎ−メチロ−ルアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロ−ス、ゼラチン、ポリビルアルコールおよび変性ポリビニルアルコール等の水溶性ポリマーが好ましく、ゼラチン、ポリビルアルコール、または、変性ポリビニルアルコールがより好ましく、ポリビルアルコール、または、変性ポリビニルアルコールがさらに好ましい。
また、配向層の表面を中間膜と接着する態様では、配向層と中間膜との接着性が良好であるのが好ましい。その観点では、配向層は、上記材料とともに、ポリビニルブチラール樹脂も含むことが好ましい。
上記配向層の厚みは、０．１〜２．０μｍが好ましい。
（ハードコート層）
積層体は、ハードコート層を有していてもよい。ハードコート層は、通常、積層体に耐擦傷性を付加するために用いられ、積層体の最外面側に配置される場合が多い。
ハードコート層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜その種類も形成方法も選択することができる。ハードコート層を形成するために用いられる樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、および、フッ素系樹脂等の熱硬化型または光硬化型樹脂等が挙げられる。
なお、ハードコート層には、金属酸化物粒子が含まれていてもよい。
ハードコート層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１〜５０μｍが好ましい。
ハードコート層上にさらに防眩層を形成すると、耐擦傷性に加え、防眩性を有する積層体が得られる。
（紫外線吸収層）
積層体は、紫外線吸収剤を含む層（紫外線吸収層）を有していてもよい。
紫外線吸収剤を含む層は、目的に応じて適宜選択することができるが、紫外線吸収剤の種類によっては液晶の配向に影響を与えるため、光反射層以外の部材（層、基板等）に添加するのが好ましい。本発明の実施態様は、種々の形態をとり得るが、光反射層と比較して、より先に光が入射する部材中に添加することが好ましい。例えば、屋外側に配置されるガラス板と、光反射層との間に配置される層中に紫外線吸収剤を添加するのが好ましい。または、屋外側に配置されるガラス板に接着させられる中間膜、および、屋外側に配置されるガラス板そのものに、紫外線吸収剤を含ませることも好ましい。
紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、ベンゾジチオール系、クマリン系、ベンゾフェノン系、サリチル酸エステル系、シアノアクリレート系等の紫外線吸収剤；酸化チタン、酸化亜鉛等が挙げられる。好ましい紫外線吸収剤の例には、Ｔｉｎｕｖｉｎ３２６、３２８、４７９（いずれもチバ・ジャパン社製）等が含まれる。また、紫外線吸収剤の種類および配合量は特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。特に、紫外線吸収剤を含む部材が、波長３８０ｎｍ以下の紫外線の透過率を０．１％以下にする作用があると、光反射層の劣化を顕著に軽減でき、紫外線による積層体の黄変を格段に軽減できるので好ましい。
また、紫外線吸収剤は、アミノジエン系、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、アクリロニトリル系、トリアジン系等の紫外線吸収剤を用いることができ、具体例としては特開２０１３−６８８１４号に記載の化合物が挙げられる。ベンゾトリアゾール系としてはミヨシ油脂製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）を用いてもよい。
（粘着剤層）
積層体は、粘着剤層（以下、粘着層ともいう）を有していてもよい。
粘着層の材料としては特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、アクリル樹脂、スチレン／アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、および、シリコーン樹脂等が挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの材料からなる粘着層は、塗布により形成することができる。
さらに、粘着層には、必要に応じて、紫外線吸収剤、帯電防止剤、滑剤、または、ブロッキング防止剤等が含まれていてもよい。
粘着層の厚みとしては、０．１〜１０μｍが好ましい。
（反射防止層）
積層体は、反射防止層を有していてもよい。反射防止層は、積層体中の最外側（最表面側）に配置されることが好ましい。積層体が反射防止層を有することにより、積層体の透過部の透過率を向上させることができ好ましい。
反射防止層は透過したい波長域での屈折率がその下の層と空気との間の値であることが好ましく、屈折率が１．１〜１．５であるものが好ましい。
反射防止層に用いる材料は特に制限が無く、公知のものを好適に用いることができる。
＜積層体の製造方法＞
積層体は、上述したように多層反射膜および光吸収層を有しており、各層は上述した方法により製造することができる。
なかでも、積層体をより簡便に製造できる点で、重合性基を有する液晶化合物および右旋回性のキラル剤を含む第１組成物と、重合性基を有する液晶化合物および左旋回性のキラル剤を含む第２組成物と、色材を含む第３組成物と、を含む組成物キットを用いることが好ましい。なお、この組成物キットは、後述するように、バンドパスフィルター形成用に好適に用いられる。
第１組成物は、重合性基を有する液晶化合物および右旋回性のキラル剤を含む。重合性基を有する液晶化合物および右旋回性のキラル剤の説明は、上述の通りである。
第２組成物は、重合性基を有する液晶化合物および左旋回性のキラル剤を含む。重合性基を有する液晶化合物および左旋回性のキラル剤の説明は、上述の通りである
第３組成物は、色材を含む。色材の定義は、上述の通りであり、顔料が好ましい。第３組成物には、必要に応じて、他の成分（例えば、重合性化合物、バインダー、重合開始剤、顔料分散剤、顔料誘導体、溶剤、界面活性剤、アルカリ可溶性樹脂、および、アルコキシシリル基を有する化合物等）が含まれていてもよい。他の成分としては、上述した（赤外線透過組成物の第１の実施の形態）で説明した各種成分が挙げられる。また、第３組成物は、（赤外線透過組成物の第１の実施の形態）〜（赤外線透過組成物の第９の実施の形態）からなる群から選択されてもよい。
第１組成物、および、第２組成物には、それぞれ、光重合開始剤が含まれていることが好ましい。
また、第１組成物、および、第２組成物には、それぞれ、含フッ素化合物が含まれていることが好ましい。含フッ素化合物とは、フッ素原子が含まれる化合物であり、例えば、上述したフッ素系配向制御剤が挙げられる。
上記組成物キットを用いて積層体を製造する方法は特に制限されないが、第１組成物を用いて、右旋回性のコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層Ｘａを形成する工程と、第２組成物を用いて、左旋回性のコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層Ｘｂを形成する工程と、第３組成物を用いて、光吸収層を形成する工程とを有することが好ましい。
より具体的には、第１組成物を塗布して塗膜を形成し、必要に応じて塗膜に熱を加えて、塗膜をコレステリック液晶相の状態とし、塗膜に光照射（活性放射線照射）してコレステリック液晶相を固定して光反射層Ｘａを形成する工程と、第２組成物を塗布して塗膜を形成し、必要に応じて塗膜に熱を加えて、塗膜をコレステリック液晶相の状態とし、塗膜に光照射（活性放射線照射）してコレステリック液晶相を固定して光反射層Ｘｂを形成する工程と、第３組成物を塗布して、必要に応じて硬化処理を施し、光吸収層を形成する工程とを有する。
なお、上記製造方法においては、光反射層Ｘａを形成する工程、および、光反射層Ｘｂを形成する工程を複数回実施してもよい。
また、上記製造方法においては、光反射層同士が互いに接するように、第１組成物および／または第２組成物を光反射層上に塗布する。つまり、光反射層Ｘａを形成する工程、および、光反射層Ｘｂを形成する工程を含む多層反射膜形成工程を実施した後に、光吸収層を形成する工程を実施するか、上記多層反射膜形成工程を実施する前に、光吸収層を形成する工程を実施する。
なお、光反射層Ｘａを形成する工程、および、光反射層Ｘｂを形成する工程の実施する順番は特に制限されない。
＜用途＞
上述した積層体は、いわゆるバンドパスフィルターとして好適に用いることができる。特に、上記積層体は、コレステリック液晶相を固定してなる光反射層を有しているため、より少ない層数において選択波長のみを透過することができる。また、色材を含む光吸収層を含むことにより、角度依存性の点も改良されている。
（バンドパスフィルター）
本発明のバンドパスフィルターの選択透過波長については特に制限はなく、任意の帯域の光を透過する構成とすることができる。また、本発明のバンドパスフィルター中に含まれる、光反射層の数は特に制限はなく、光を反射する帯域に応じて決定することができる。
なお、バンドパスフィルターの好適態様としては、波長７３０ｎｍの吸光度に対する波長８３０ｎｍの吸光度の比（Ｒ１）が３以上であるバンドパスフィルターＸが挙げられる。
バンドパスフィルターＸにおいては、さらに、波長７３０ｎｍの吸光度に対する波長６３０ｎｍの吸光度の比（Ｒ２）が３以上であることが好ましい。
また、バンドパスフィルターの他の好適態様の一つとして、波長８５０ｎｍの吸光度に対する波長９５０ｎｍの吸光度の比（Ｒ３）が３以上であるバンドパスフィルターＹが挙げられる。
バンドパスフィルターＹにおいては、さらに、波長８５０ｎｍの吸光度に対する波長７５０ｎｍの吸光度の比（Ｒ４）が３以上であることが好ましい。
さらに、バンドパスフィルターの他の好適態様の一つとしては、波長９４０ｎｍの吸光度に対する波長１０４０ｎｍの吸光度の比（Ｒ５）が３以上であるバンドパスフィルターＺが挙げられる。
バンドパスフィルターＺにおいては、さらに、波長９４０ｎｍの吸光度に対する波長８４０ｎｍの吸光度の比（Ｒ６）が３以上であることが好ましい。
上記バンドパスフィルターＸ〜バンドパスフィルターＺにおいては、角度依存性がより低減され好ましい。
なお、上記比（Ｒ１）〜比（Ｒ６）の好適範囲は、積層体の好適態様で述べた比（Ｒ１）〜比（Ｒ６）の好適範囲と同じである。
（赤外線センサ）
本発明のバンドパスフィルターは、特定の波長領域の光のみを透過させることができるので、センサ、特に、赤外線センサに好ましく用いることができる。
赤外線センサの構成としては、本発明の積層体を有し、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はない。
赤外線センサの具体的な構成としては、基板と、基板上に配置された固体撮像素子（ＣＣＤ（Charge-Coupled Device）センサ、ＣＭＯＳ（Complementary Metal Oxide Semiconductor）センサ、有機ＣＭＯＳセンサ等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等からなる転送電極と、フォトダイオードおよび転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等からなる遮光膜と、遮光膜上に遮光膜全面およびフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜と、デバイス保護膜上に本発明の積層体を有するバンドパスフィルターと、を有する構成が例示される。
さらに、デバイス保護膜上であって本発明の積層体の下（基板に近い側）や上に、集光手段（例えば、マイクロレンズ等）を有する構成等であってもよい。
なお、有機ＣＭＯＳセンサは、光電変換層として薄膜のパンクロ感光性有機光電変換膜とＣＭＯＳ信号読み出し基板を含んで構成される。上記有機ＣＭＯＳセンサにおいては、光を捕捉しそれを電気信号に変換する役割を有機材料が担い、電気信号を外部に取り出す役割を無機材料が担う２層構成のハイブリッド構造であり、原理的には入射光に対して開口率を１００％にすることができる。有機光電変換膜は構造フリーの連続膜でＣＭＯＳ信号読みだし基板上に敷設できるので、高価な微細加工プロセスを必要とせず、画素微細化に適している。
（撮像装置）
次に、本発明の赤外線センサを適用した例として撮像装置について説明する。撮像装置としては、カメラモジュール等が挙げられる。
図４は、撮像装置の機能ブロック図である。撮像装置は、レンズ光学系１と、固体撮像素子１１０と、信号処理部１２０と、信号切替部１３０と、制御部１４０と、信号蓄積部１５０と、発光制御部１６０と、赤外光を発光する発光素子の赤外ＬＥＤ１７０と、画像出力部１８０および１８１とを備える。なお、固体撮像素子１１０としては、上述した赤外線センサを用いることができる。また、固体撮像素子１１０とレンズ光学系１以外の構成は、そのすべてが、または、その一部が、同一の半導体基板に形成することもできる。撮像装置の各構成については、特開２０１１−２３３９８３号公報の段落００３２〜００３６の記載の例を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
以下に実施例および比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、および、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
＜塗布液（Ｒ１）の調製＞
化合物１、化合物群Ｂ中の化合物２、フッ素系水平配向剤、キラル剤、重合開始剤、および、溶剤を混合し、下記組成の塗布液（Ｒ１）を調製した。
・下記化合物１ ８０質量部
・下記化合物群Ｂ中の化合物２ ２０質量部
・下記フッ素系水平配向剤１ ０．１質量部
・下記フッ素系水平配向剤２ ０．００７質量部
・右旋回性キラル剤ＬＣ７５６（ＢＡＳＦ社製）
２．４質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製）
４質量部
・溶剤（シクロヘキサノン） 溶質濃度が４０質量％となる量
＜塗布液（Ｒ２）の調製＞
化合物１、化合物群Ｂ中の化合物２、フッ素系水平配向剤、キラル剤、重合開始剤、および、溶剤を混合し、下記組成の塗布液（Ｒ２）を調製した。
・下記化合物１ ８０質量部
・下記化合物群Ｂ中の化合物２ ２０質量部
・下記フッ素系水平配向剤１ ０．１質量部
・下記フッ素系水平配向剤２ ０．００７質量部
・右旋回性キラル剤ＬＣ７５６（ＢＡＳＦ社製）
２．５質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製）
４質量部
・溶剤（シクロヘキサノン） 溶質濃度が４０質量％となる量
＜塗布液（Ｒ３）の調製＞
化合物１、化合物群Ｂ中の化合物２、フッ素系水平配向剤、キラル剤、重合開始剤、および、溶剤を混合し、下記組成の塗布液（Ｒ３）を調製した。
・下記化合物１ ８０質量部
・下記化合物群Ｂ中の化合物２ ２０質量部
・下記フッ素系水平配向剤１ ０．１質量部
・下記フッ素系水平配向剤２ ０．００７質量部
・右旋回性キラル剤ＬＣ７５６（ＢＡＳＦ社製） ２．６質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製）
４質量部
・溶剤（シクロヘキサノン） 溶質濃度が４０質量％となる量
＜塗布液（Ｌ１）の調製＞
化合物１、化合物群Ｂ中の化合物２、フッ素系水平配向剤、キラル剤、重合開始剤、および、溶剤を混合し、下記組成の塗布液（Ｌ１）を調製した。
・上記化合物１ ８０質量部
・上記化合物群Ｂ中の化合物２ ２０質量部
・上記フッ素系水平配向剤１ ０．１質量部
・上記フッ素系水平配向剤２ ０．００７質量部
・下記左旋回性キラル剤（Ａ） ４．５質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製）
４質量部
・溶剤（シクロヘキサノン） 溶質濃度が４０質量％となる量
＜塗布液（Ｌ２）の調製＞
化合物１、化合物群Ｂ中の化合物２、フッ素系水平配向剤、キラル剤、重合開始剤、および、溶剤を混合し、下記組成の塗布液（Ｌ２）を調製した。
・上記化合物１ ８０質量部
・上記化合物群Ｂ中の化合物２ ２０質量部
・上記フッ素系水平配向剤１ ０．１質量部
・上記フッ素系水平配向剤２ ０．００７質量部
・下記左旋回性キラル剤（Ａ） ５質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製）
４質量部
・溶剤（シクロヘキサノン） 溶質濃度が４０質量％となる量
＜塗布液（Ｌ３）の調製＞
化合物１、化合物群Ｂ中の化合物２、フッ素系水平配向剤、キラル剤、重合開始剤、および、溶剤を混合し、下記組成の塗布液（Ｌ３）を調製した。
・上記化合物１ ８０質量部
・上記化合物群Ｂ中の化合物２ ２０質量部
・上記フッ素系水平配向剤１ ０．１質量部
・上記フッ素系水平配向剤２ ０．００７質量部
・下記左旋回性キラル剤（Ａ） ５．５質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製）
４質量部
・溶剤（シクロヘキサノン） 溶質濃度が４０質量％となる量
＜フィルムの作製＞
（１）スピンコーターを用いて、乾燥後の塗膜の厚みが５μｍになるように、塗布液（Ｒ１）をガラス基板上に室温にて塗布して、塗膜を形成した。
（２）塗膜を有するガラス基板を室温にて３０秒間乾燥させて、塗膜から溶剤を除去した。次に、塗膜を有するガラス基板を９０℃で２分間加熱し、コレステリック液晶相を形成した。次に、フージョンＵＶシステムズ（株）製無電極ランプ「Ｄバルブ」（９０ｍＷ／ｃｍ２）を用いて、出力６０％で６〜１２秒間、塗膜にＵＶ（紫外線）照射し、コレステリック液晶相を固定してなるフィルム（Ｆ１）をガラス基板上に作製した。
また、塗布液（Ｒ１）の代わりに塗布液（Ｌ１）を用いた以外は上記と同様の方法で、フィルム（Ｆ１ｂ）を作製した。
＜積層体の作製（その１）＞
（１）スピンコーターを用いて、乾燥後の塗膜の厚みが５μｍになるように、塗布液（Ｌ１）をフィルム（Ｆ１）上に室温にて塗布して、塗膜を形成した。
（２）塗膜を有するフィルム（Ｆ１）を室温にて３０秒間乾燥させて、塗膜から溶剤を除去した。次に、塗膜を有するフィルム（Ｆ１）を９０℃で２分間加熱し、その後、塗膜の加熱温度を３５℃にて、コレステリック液晶相を形成した。次に、フージョンＵＶシステムズ（株）製無電極ランプ「Ｄバルブ」（９０ｍＷ／ｃｍ２）を用いて、出力６０％で６〜１２秒間、塗膜にＵＶ照射し、コレステリック液晶相を固定し、ガラス基板上にコレステリック液晶相を固定してなるフィルムを２層積層した積層体（Ａ）を作製した。作製した積層体（Ａ）には、顕著な欠陥およびスジがなく面状は良好であった。
＜フィルムおよび積層体の評価＞
フィルム（Ｆ１）および（Ｆ１ｂ）の透過スペクトルを測定したところ、それぞれ選択反射波長は１０７５ｎｍおよび１０７０ｎｍであった。また、積層体（Ａ）の透過スペクトルを測定したところ、１０７０ｎｍ付近に１つの強いピークが観測された。このことから、塗布液（Ｒ１）を用いて形成されるフィルム（光反射層）と、塗布液（Ｌ１）を用いて形成されるフィルム（光反射層）とは、互いに等しい選択反射波長を有することがわかった。
次に、積層体（Ａ）のヘイズ値をヘイズメーターにより測定したところ、３回測定した平均値が０．３（％）であった。
さらに、塗布液（Ｒ１）および塗布液（Ｌ１）に用いたキラル剤のＨＴＰを次式に従って算出した結果、それぞれ５５μｍ-1および３７μｍ-1であり、どちらもＨＴＰは３０μｍ-1以上であった。
式：ＨＴＰ＝１÷｛（らせんピッチ長（μｍ））×（塗布液に含まれる固形分中のキラル剤の質量％濃度）｝
（ただし、らせんピッチ長（μｍ）は（選択反射波長（μｍ））÷（塗布液に含まれる固形分の平均屈折率）で算出され、固形分の平均屈折率は１．５と仮定して算出した。）
なお、上記固形分は、塗布液に含まれる成分のうちフィルムを構成し得る成分を意図して、溶剤は含まれない。また、成分が液状であっても、フィルムを構成し得る場合は、固形分とする。
＜積層体の作製（その２）＞
塗布液（Ｒ１）の代わりに塗布液（Ｒ２）、塗布液（Ｒ３）、塗布液（Ｌ２）、および、塗布液（Ｌ３）をそれぞれ用いた以外は、フィルム（Ｆ１）を作製した方法と同様の方法で、フィルム（Ｆ２）、（Ｆ３）、（Ｆ２ｂ）、および、（Ｆ３ｂ）をそれぞれ作製した。
左旋回性のキラル剤を含むフィルム（Ｆ２ｂ）、および（Ｆ３ｂ）の選択反射波長は、右旋回性のキラル剤を含むフィルム（Ｆ２）、および（Ｆ３）の選択反射波長とそれぞれ互いに等しかった。
前述の積層体（Ａ）の作製法と同様に、積層体（Ａ）上にフィルム（Ｆ２）とフィルム（Ｆ２ｂ）を積層し、積層体（Ｂ）を作製した。
さらに、積層体（Ｂ）上にフィルム（Ｆ３）とフィルム（Ｆ３ｂ）を積層することで、積層体（Ｃ）を作製した。
紫外可視近赤外分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製 Ｕ−４１００）の分光光度計（ｒｅｆ．ガラス基板）を用いて、積層体（Ａ）、積層体（Ｂ）、および、積層体（Ｃ）の波長４００〜１１００ｎｍの範囲における透過率を測定した。積層体（Ａ）、積層体（Ｂ）、および、積層体（Ｃ）の測定結果を、それぞれ図５〜７に示す。
＜顔料分散液１−１の調製＞
下記表１に示す組成の混合液を、０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製））で、ＩＲ（赤外線）着色剤が表１に示す平均粒子径となるまで、混合して、顔料分散液を調製した。表には、該当する成分の使用量（単位：質量部）を示す。
顔料分散液中の顔料の平均粒子径は、日機装（株）製のＭＩＣＲＯＴＲＡＣＵＰＡ １５０を用いて、体積基準で測定した。
＜顔料分散液２−１〜２−４の調製＞
下記表１に示す組成の混合液を、０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製））で、３時間混合して、顔料分散液を調製した。表には、該当する成分の使用量（単位：質量部）を示す。
表中の各成分の略語は以下である。
［ＩＲ着色剤］
・ジケトピロロピロール顔料１：下記構造（特開２００９−２６３６１４号公報に記載の方法で合成した）（波長８００〜９００ｎｍの範囲に吸収極大を有する着色剤）
［第２の着色剤（波長４００〜７００ｎｍの範囲に吸収極大を有する着色剤）］
・ＰＲ２５４ ： Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ２５４
・ＰＢ１５：６ ： Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６
・ＰＹ１３９ ： Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １３９
・ＰＶ２３ ： Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ２３
［樹脂］
・分散樹脂１：ＢＹＫ−１１１（ＢＹＫ社製）
・分散樹脂２：下記構造（重量平均分子量（Ｍｗ）：７９５０）
・分散樹脂３：下記構造（Ｍｗ：３００００）

・アルカリ可溶性樹脂１：下記構造
＜赤外線透過組成物Ａの調製＞
下記表２に示す成分を下記表２に示す割合（単位は質量部）で混合して、赤外線透過組成物Ａを調製した。

・重合性化合物１：Ｍ−３０５（トリアクリレートが５５〜６３質量％）（東亜合成社製） 下記構造

・光重合開始剤１：Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製） 下記構造

・界面活性剤１：含フッ素系界面活性剤
・重合禁止剤１：ｐ−メトキシフェノール
・有機溶剤１：プロピレングリコールメチルエーテルアセテート
＜赤外線透過フィルムＡの作製＞
赤外線透過組成物Ａを、ガラス基板上にスピンコートにて塗布した。次に、赤外線透過組成物Ａが塗布されたガラス基板を、ホットプレートを用いて、１００℃で１２０秒間乾燥し、さらに、２００℃で３００秒間加熱処理（ポストベーク）を行い、赤外線透過フィルムＡ（膜厚３．０μｍ）を得た。
紫外可視近赤外分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製 Ｕ−４１００）の分光光度計（ｒｅｆ．ガラス基板）を用いて、赤外線透過フィルムＡを有するガラス基板の波長４００〜１１００ｎｍの範囲における透過率を測定した。図８に、その結果を示す。
＜顔料分散液Ｂ−１の調製＞
下記組成の混合液を、０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製））で、３時間混合して、顔料分散液Ｂ−１を調製した。
・赤色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ２５４）および黄色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １３９）からなる混合顔料
１１．８質量部
・分散剤：ＢＹＫ社製 ＢＹＫ−１１１ ９．１質量部
・有機溶剤：プロピレングリコールメチルエーテルアセテート
７９．１質量部
＜顔料分散液Ｂ−２の調製＞
下記組成の混合液を、０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製））で、３時間混合して、顔料分散液Ｂ−２を調製した。
・青色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６）および紫色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ２３）からなる混合顔料
１２．６質量部
・分散剤：ＢＹＫ社製 ＢＹＫ−１１１ ２．０質量部
・下記分散樹脂４ ３．３質量部
・有機溶剤：シクロヘキサノン ３１．２質量部
・有機溶剤：プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ） ５０．９質量部
・分散樹脂４（なお、各繰り返し単位における比はモル比である）
＜赤外線透過組成物Ｂの調製＞
下記の成分を混合して、赤外線透過組成物Ｂを調製した。
・顔料分散液Ｂ−１ ４６．５質量部
・顔料分散液Ｂ−２ ３７．１質量部
・上記アルカリ可溶性樹脂１ １．１質量部
・下記重合性化合物２ １．８質量部
・下記重合性化合物３ ０．６質量部
・光重合開始剤：下記光重合開始剤２ ０．９質量部
・界面活性剤１：含フッ素系界面活性剤 ４．２質量部
・重合禁止剤：ｐ−メトキシフェノール ０．００１質量部
・有機溶剤１：ＰＧＭＥＡ ７．８質量部
・重合性化合物２：左側化合物と右側化合物のモル比は７：３である。
・重合性化合物３
・光重合開始剤２
＜赤外線透過フィルムＢの作製＞
赤外線透過組成物Ｂを、ガラス基板上にスピンコートにて塗布した。次に、赤外線透過組成物Ｂが塗布されたガラス基板を、ホットプレートを用いて、１００℃で１２０秒間乾燥し、さらに、２００℃で３００秒間加熱処理（ポストベーク）を行い、赤外線透過フィルムＢ（膜厚１．０μｍ）を得た。
紫外可視近赤外分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製 Ｕ−４１００）の分光光度計（ｒｅｆ．ガラス基板）を用いて、赤外線透過フィルムＢを有するガラス基板の波長４００〜１１００ｎｍの範囲における透過率を測定した。図９に、その結果を示す。
＜赤外線透過フィルムＣの作製＞
特開２０１３−０７７００９号公報の段落０２５５〜０２５９の記載（実施例１）に従ってカラーフィルター（赤外線透過フィルムＣ）を作製した。
紫外可視近赤外分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製 Ｕ−４１００）の分光光度計（ｒｅｆ．ガラス基板）を用いて、赤外線透過フィルムＣを有する基板の波長４００〜１１００ｎｍの範囲における透過率を測定した。図１０に、その結果を示す。
［実施例１：バンドパスフィルターＡ］
上記積層体（Ａ）の作製手順（＜積層体の作製（その１）＞）、および、上記赤外線透過フィルムＡの作製手順（上記＜赤外線透過フィルムＡの作製＞）に従って、基板上に積層体（Ａ）および赤外線透過フィルムＡをこの順で形成し、バンドパスフィルターＡを作製した。
紫外可視近赤外分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製 Ｕ−４１００）の分光光度計（ｒｅｆ．ガラス基板）を用いて、バンドパスフィルターＡの波長４００〜１１００ｎｍの範囲における透過率を測定した。図１１に、その結果を示す。
［実施例２：バンドパスフィルターＢ］
上記積層体（Ｂ）の作製手順（＜積層体の作製（その２）＞）、および、上記赤外線透過フィルムＢの作製手順（上記＜赤外線透過フィルムＢの作製＞）に従って、基板上に積層体（Ｂ）および赤外線透過フィルムＢを形成し、バンドパスフィルターＢを作製した。
紫外可視近赤外分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製 Ｕ−４１００）の分光光度計（ｒｅｆ．ガラス基板）を用いて、バンドパスフィルターＢの波長４００〜１１００ｎｍの範囲における透過率を測定した。図１２に、その結果を示す。
［実施例３：バンドパスフィルターＣ］
上記積層体（Ｃ）の作製手順（＜積層体の作製（その２）＞）、および、上記赤外線透過フィルムＣの作製手順（上記＜赤外線透過フィルムＣの作製＞）に従って、基板上に積層体（Ｃ）および赤外線透過フィルムＣを形成し、バンドパスフィルターＣを作製した。
紫外可視近赤外分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製 Ｕ−４１００）の分光光度計（ｒｅｆ．ガラス基板）を用いて、バンドパスフィルターＣの波長４００〜１１００ｎｍの範囲における透過率を測定した。図１３に、その結果を示す。
［比較例１：蒸着積層体］
蒸着法により、基板上にＴｉＯ2からなる高屈折率層とＳｉＯ2からなる低屈折率層とを交互に配置して、透過波長が８５０ｎｍであるバンドパスフィルターを作製した。
［比較例２］
＜塗布液の調製＞
化合物１、化合物群Ｂ中の化合物２、フッ素系水平配向剤、重合開始剤、および、溶剤を下記のとおり混合し、さらにキラル剤の種類と濃度を下記表３のとおりに混合した各種塗布液を調製した。
・上記化合物１ ８０質量部
・上記化合物群Ｂ中の化合物２ ２０質量部
・上記フッ素系水平配向剤１ ０．１質量部
・上記フッ素系水平配向剤２ ０．００３質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） ３質量部
・溶剤（メチルエチルケトン） 溶質濃度が３０質量％となる量
＜積層体の作製＞
ＰＥＴ（Polyethylene Terephthalate）フィルム（下塗り層無し、富士フイルム（株）製、厚み：５０μｍ、大きさ３２０ｍｍ×４００ｍｍ）の表面上に直接、ラビング処理（レーヨン布、圧力：０．１ｋｇｆ、回転数：１０００ｒｐｍ、搬送速度：１０ｍ／ｍｉｎ、回数：１往復）を施し、次いで、塗布液（Ｒ４）を用い、下記の手順にてコレステリック液晶相を固定し、さらに塗布液（Ｌ４）を用いて、コレステリック液晶相を固定してなる層を二層積層してなる液晶膜を製造した。この液晶膜は、可視光線反射層として機能する。
（１）乾燥後の塗膜の厚みが５μｍになるように、ワイヤーバーを用いて、塗布液（Ｒ４）をＰＥＴフィルム上に室温にて塗布し、塗膜を形成した。
（２）塗膜が配置されたＰＥＴフィルムを室温にて３０秒間乾燥させて、塗膜から溶剤を除去した。次に、塗膜が配置されたＰＥＴフィルムを９０℃で２分間加熱し、その後、塗膜の加熱温度を３５℃にて、コレステリック液晶相を形成した。次に、フージョンＵＶシステムズ（株）製無電極ランプ「Ｄバルブ」（９０ｍＷ／ｃｍ２）を用いて、出力６０％で６〜１２秒間、塗膜にＵＶ照射し、コレステリック液晶相を固定してなるフィルム（Ｆ４）をＰＥＴフィルム上に作製した。
（３）乾燥後の塗膜の厚みが５μｍになるように、ワイヤーバーを用いて、塗布液（Ｌ４）を上記（２）で作製したフィルム（Ｆ４）上に、室温にて塗布し、塗膜を形成した。
（４）塗膜が配置されたＰＥＴフィルムを室温にて３０秒間乾燥させて、塗膜から溶剤を除去した。次に、塗膜が配置されたＰＥＴフィルムを９０℃で２分間加熱し、その後、塗膜の加熱温度を３５℃にて、コレステリック液晶相を形成した。次に、フージョンＵＶシステムズ（株）製無電極ランプ「Ｄバルブ」（９０ｍＷ／ｃｍ２）を用いて、出力６０％で６〜１２秒間、塗膜にＵＶ照射し、コレステリック液晶相を固定し、ＰＥＴフィルム上にコレステリック液晶相を固定してなるフィルムを２層積層した積層体（Ｇ４）を作製した。作製した積層体（Ｇ４）には、顕著な欠陥およびスジがなく面状は良好であった。また、積層体（Ｇ４）を黒い紙の上におくと強い選択反射色が確認された。
また、塗布液（Ｒ４）を塗布液（Ｌ４）に変更した以外は上記（１）および（２）の工程と同様にして、フィルム（Ｆ４ｂ）を作製した。
また、塗布液（Ｒ４）を塗布液（Ｒ１−１）、（Ｒ５）〜（Ｒ１０）に変更した以外は上記（１）および（２）の工程と同様にして、フィルム（Ｆ１−１）、（Ｆ５）〜（Ｆ１０）をそれぞれ作製した。
また、フィルム（Ｆ４ｂ）の作製において、塗布液（Ｌ４）を塗布液（Ｌ１−１）、（Ｌ５）〜（Ｌ１０）に変更した以外はフィルム（Ｆ４ｂ）の作製と同様にして、フィルム（Ｆ１−１ｂ）、（Ｆ５ｂ）〜（Ｆ１０ｂ）を作製した。
また、１層目塗布液と２層目塗布液を下記表３に記載のものに変更した以外は、上記（１）〜（４）の工程と同様にして、積層体（Ｇ１−１）、（Ｇ５）〜（Ｇ１０）を作製した。
作製した積層体（Ｇ１−１）、（Ｇ４）〜（Ｇ１０）には、顕著な欠陥およびスジがなく面状は良好であった。また、積層体（Ｇ１−１）、（Ｇ４）〜（Ｇ７）をそれぞれ黒い紙上に置くと、強い選択反射色が確認された。
また、積層体（Ｇ１−１）、（Ｇ４）〜（Ｇ１０）のヘイズ値をヘイズメーターにより測定し、３回測定した平均値を以下表４に示す。
なお、左旋回性のキラル剤を含むフィルム（Ｆ１−１ｂ）、（Ｆ５ｂ）〜（Ｆ１０ｂ）の選択反射波長は、右旋回性のキラル剤を含むフィルム（Ｆ１−１）、（Ｆ５）〜（Ｆ１０）の選択反射波長とそれぞれ互いに等しいことを確認した。
＜透過スペクトル評価＞
積層体（Ｇ１−１）、（Ｇ４）〜（Ｇ１０）の透過スペクトルを測定した結果を図１４に示した。積層体（Ｇ４）〜（Ｇ７）を構成するそれぞれ２つのフィルムは互いに等しい選択反射波長であるため、積層体の透過スペクトルは表４に示す選択反射波長において１つの強いピークが観測され、高い反射性能を有することがわかった。
＜組合せ体Ｇ１３の作製＞
積層体（Ｇ１−１）の上に両面粘着シート（ＰＤＳ−１、リンテック社製）を貼り、もう一方の粘着面にＰＥＴフィルム上の積層体（Ｇ４）を貼り合わせ、ＰＥＴフィルムを剥がして積層フィルムを作製した。さらに、同様の方法で、積層体（Ｇ５）〜（Ｇ１０）を貼り合わせて、組合せ体（Ｇ１３）を作製した。
組合せ体（Ｇ１３）の透過スペクトルを測定した結果を図１５に示す。
（比較例の液晶のみのバンドパスフィルターの作製）
上記で作製した組合せ体（Ｇ１３）と積層体（Ｂ）とを組み合わせることにより、８５０ｎｍのバンドパスフィルターを作製した。層数は２０層であった。
［評価］
上記で作製された各バンドパスフィルターを用いて、以下の評価を実施した。
（作製容易性）
形成されたバンドパスフィルターの層数が１０層以下である場合を「Ａ」、１０層超である場合を「Ｂ」とした。
（角度依存性）
各実施例および比較例にて得られたバンドパスフィルターを用いて、バンドパスフィルターの表面に対する入射角を垂直（角度０度）と３０度とにして、透過帯域の半値波長のシフト量を、下記基準に従って評価した。なお、上記シフト量とは、より具体的には、垂直方向から入射した際の半値波長Ｘと、斜め方向から入射した際の半値波長Ｙとの差を意図する。
２：５ｎｍ未満
１：５ｎｍ以上
なお、透過帯域の半値波長とは、透過帯域中の最大透過率（Ｔｍａｘ）に対して、透過率が５０％（（Ｔｍａｘ）×０．５）となるときの波長を意味し、半値波長のうち短波長側の半値波長を半値波長Ａ、長波長側の半値波長を半値波長Ｂとがある。
本評価においては、半値波長Ａを用いた上記評価が「２」であった場合を「Ａ」とし、「１」であった場合を「Ｂ」とする。
また、バンドパスフィルターＡ〜Ｃの透過波長の吸光度、（透過波長−１００ｎｍ）における吸光度、および、（透過波長＋１００ｎｍ）における吸光度を表６に示す。
＜塗布液（Ｒ１−２）の調製＞
化合物２−１１、下記フッ素系水平配向剤、キラル剤、重合開始剤、および、溶剤を混合し、下記組成の塗布液（Ｒ１−２）を調製した。なお、以下の化合物２−１１の屈折率異方性Δｎは、０．３７５であった。
・化合物２−１１ １００質量部
・上記フッ素系水平配向剤１ ０．１質量部
・上記フッ素系水平配向剤２ ０．００７質量部
・右旋回性キラル剤ＬＣ７５６（ＢＡＳＦ社製） ２．２質量部
・重合開始剤：アデカクルーズＮＣＩ−８３１（ＡＤＥＫＡ社製）４質量部
・溶剤（シクロヘキサノン） 溶質濃度が４０質量％となる量
また、右旋回性キラル剤ＬＣ７５６の量を２．２質量部から２．５質量部に代えた以外は、上記塗布液（Ｒ１−２）と同様にして、塗布液（Ｒ２−２）を調製した。
また、右旋回性キラル剤ＬＣ７５６の量を２．２質量部から３．０質量部に代えた以外は、上記塗布液（Ｒ１−２）と同様にして、塗布液（Ｒ３−２）を調製した。
＜塗布液（Ｌ１−２）の調製＞
化合物２−１１、下記フッ素系水平配向剤、キラル剤、重合開始剤、および、溶剤を混合し、下記組成の塗布液（Ｌ１−２）を調製した。
・上記化合物２−１１ １００質量部
・上記フッ素系水平配向剤１ ０．１質量部
・上記フッ素系水平配向剤２ ０．００７質量部
・下記左旋回性キラル剤（Ａ） ３．３質量部
・重合開始剤：アデカクルーズＮＣＩ−８３１（ＡＤＥＫＡ社製）４質量部
・溶剤（シクロヘキサノン） 溶質濃度が４０質量％となる量
また、左旋回性キラル剤（Ａ）の量を３．３質量部から３．８質量部に代えた以外は、上記塗布液（Ｒ１−２）と同様にして、塗布液（Ｌ２−２）を調製した。
また、左旋回性キラル剤（Ａ）の量を３．３質量部から４．５質量部に代えた以外は、上記塗布液（Ｒ１−２）と同様にして、塗布液（Ｌ３−２）を調製した。
＜積層体の作製（その３）＞
塗布液（Ｒ１）の代わりに塗布液（Ｒ２）、（Ｒ３）、（Ｒ１−２）、（Ｒ２−２）、（Ｒ３−２）、（Ｌ２）、（Ｌ３）、（Ｌ１−２）、（Ｌ２−２）、および、（Ｌ３−２）をそれぞれ用いた以外は、フィルム（Ｆ１）を作製した方法と同様の方法で、フィルム（Ｆ２）、（Ｆ３）、（Ｆ１−２）、（Ｆ２−２）、（Ｆ３−２）、（Ｆ２ｂ）、（Ｆ３ｂ）、（Ｆ１−２ｂ）、（Ｆ２−２ｂ）、および、（Ｆ３−２ｂ）をそれぞれ作製した。
左旋回性のキラル剤を含むフィルム（Ｆ２ｂ）、（Ｆ３ｂ）、（Ｆ１−２ｂ）、（Ｆ２−２ｂ）、および、（Ｆ３−２ｂ）の選択反射波長は、右旋回性のキラル剤を含むフィルム（Ｆ２）、（Ｆ３）、（Ｒ１−２）、（Ｒ２−２）、および、（Ｒ３−２）の選択反射波長とそれぞれ互いに等しかった。
前述の積層体（Ａ）の作製法と同様に、積層体（Ａ）上にフィルム（Ｆ２）とフィルム（Ｆ２ｂ）を積層し、積層体（Ｂ）を作製した。
さらに、積層体（Ｂ）上にフィルム（Ｆ３）とフィルム（Ｆ３ｂ）を積層することで、積層体（Ｃ）を作製した。
さらに、積層体（Ｃ）上にフィルム（Ｆ１−２）とフィルム（Ｆ１−２ｂ）を積層することで、積層体（Ｄ）を作製した。
さらに、積層体（Ｄ）上にフィルム（Ｆ２−２）とフィルム（Ｆ２−２ｂ）を積層することで、積層体（Ｅ）を作製した。
さらに、積層体（Ｅ）上にフィルム（Ｆ３−２）とフィルム（Ｆ３−２ｂ）を積層することで、積層体（Ｆ）を作製した。
［実施例４：バンドパスフィルターＤ］
上記積層体（Ｄ）の作製手順（＜積層体の作製（その３）＞）、および、上記赤外線透過フィルムＡの作製手順（上記＜赤外線透過フィルムＡの作製＞）に従って、基板上に積層体（Ｄ）および赤外線透過フィルムＡを形成し、バンドパスフィルターＤを作製した。
紫外可視近赤外分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製 Ｕ−４１００）の分光光度計（ｒｅｆ．ガラス基板）を用いて、バンドパスフィルターＡの波長４００〜１１００ｎｍの範囲における透過率を測定した。図１６に、その結果を示す。
［実施例５：バンドパスフィルターＥ］
上記積層体（Ｅ）の作製手順（＜積層体の作製（その３）＞）、および、上記赤外線透過フィルムＢの作製手順（上記＜赤外線透過フィルムＢの作製＞）に従って、基板上に積層体（Ｅ）および赤外線透過フィルムＢを形成し、バンドパスフィルターＥを作製した。
紫外可視近赤外分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製 Ｕ−４１００）の分光光度計（ｒｅｆ．ガラス基板）を用いて、バンドパスフィルターＢの波長４００〜１１００ｎｍの範囲における透過率を測定した。図１７に、その結果を示す。
［実施例３：バンドパスフィルターＦ］
上記積層体（Ｆ）の作製手順（＜積層体の作製（その３）＞）、および、上記赤外線透過フィルムＣの作製手順（上記＜赤外線透過フィルムＣの作製＞）に従って、基板上に積層体（Ｆ）および赤外線透過フィルムＣを形成し、バンドパスフィルターＦを作製した。
紫外可視近赤外分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製 Ｕ−４１００）の分光光度計（ｒｅｆ．ガラス基板）を用いて、バンドパスフィルターＣの波長４００〜１１００ｎｍの範囲における透過率を測定した。図１８に、その結果を示す。
得られたバンドパスフィルターＤ〜Ｆを用いて、上述した各種評価を実施した。結果を表７および８にまとめて示す。
上記結果に示すように、本発明の組成物キットおよび積層体によれば、所望の効果が得られることが確認された。
なお、一般式（１）で表される化合物で表される化合物を用いた場合も、実施例１と同様の結果が得られた。
１ レンズ光学系
１０，１０ａ，１０ｂ 積層体
１２ 基板
１４ 多層反射膜
１６ 光吸収層
１８ａ，２０ａ，２２ａ 光反射層Ｘａ
１８ｂ，２０ｂ，２２ｂ 光反射層Ｘｂ
１１０ 固体撮像素子
１２０ 信号処理部
１３０ 信号切替部
１４０ 制御部
１５０ 信号蓄積部
１６０ 発光制御部
１７０ 赤外ＬＥＤ
１８０、１８１：画像出力部

Claims (31)

  1. 重合性基を有する液晶化合物および右旋回性のキラル剤を含む第１組成物と、
    重合性基を有する液晶化合物および左旋回性のキラル剤を含む第２組成物と、
    色材を含む第３組成物と、を含む組成物キット。
  2. 前記右旋回性のキラル剤の螺旋捩れ力が３０μｍ-1以上である、請求項１に記載の組成物キット。
  3. 前記左旋回性のキラル剤の螺旋捩れ力が３０μｍ-1以上である、請求項１または２に記載の組成物キット。
  4. 前記左旋回性のキラル剤が、一般式（１）で表される化合物、および、一般式（２）で表される化合物からなる群から選択される、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物キット。

    一般式（１）中、Ｍは、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。Ｒ1は以下に示す連結基のいずれかを表す。

    ただし、＊は、それぞれ独立に、一般式（１）中の酸素原子との結合部位を表す。Ｒ3は、それぞれ独立に、炭素数１から３のアルキル基または炭素数６から１０のアリール基を表す。

    一般式（２）中、Ｒ2は以下に示す置換基のいずれかを表し、２つのＲ2は互いに同じでも異なっていてもよい。

    ただし、＊は、それぞれ独立に、一般式（２）中の酸素原子との結合部位を表す。Ｙ1は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、または、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−を表す。Ｓｐ1は、それぞれ独立に、単結合または炭素数１から８のアルキレン基を表す。Ｚ1は、それぞれ独立に、水素原子または（メタ）アクリル基を表す。ｎは１以上の整数を表す。
  5. 前記左旋回性のキラル剤が、一般式（３）で表される化合物、および、一般式（４）で表される化合物からなる群から選択される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の組成物キット。

    一般式（３）中、Ｒaは以下に示す連結基のいずれかを表す。

    ただし、＊は、一般式（３）中の酸素原子との結合部位を表す。

    一般式（４）中、Ｒbは以下に示す置換基を表し、２つのＲbは互いに同じでも異なっていてもよい。

    ただし、＊は、一般式（４）中の酸素原子との結合部位を表す。Ｙ2は、単結合、−Ｏ−、または、−ＯＣ（＝Ｏ）−を表す。Ｓｐ2は、単結合または炭素数１から８のアルキレン基を表す。Ｚ2は、水素原子または（メタ）アクリル基を表す。
  6. 前記色材が顔料である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の組成物キット。
  7. 前記重合性基を有する液晶化合物の３０℃における屈折率異方性Δｎが０．２５以上である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の組成物キット。
  8. 前記重合性基を有する液晶化合物が、一般式（５）で表される化合物である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の組成物キット。

    一般式（５）中、Ａ1〜Ａ4は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい芳香族炭素環または複素環を表す。Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＯＣＨ2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、または、−Ｃ≡Ｃ−を表す。Ｙ1およびＹ2は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、または、−Ｃ≡Ｃ−を表す。Ｓｐ1およびＳｐ2は、それぞれ独立に、単結合、または、炭素数１〜２５の炭素鎖を表す。Ｐ1およびＰ2は、それぞれ独立に、水素原子または重合性基を表し、Ｐ1およびＰ2の少なくとも一方は重合性基を表す。ｎ1およびｎ2はそれぞれ独立に０〜２の整数を表し、ｎ1またはｎ2が２の場合、複数あるＡ1、Ａ2、Ｘ1およびＸ2は同じでもあっても異なっていてもよい。
  9. 前記第１組成物、および、前記第２組成物が、それぞれ、光重合開始剤をさらに含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の組成物キット。
  10. 前記第１組成物、および、前記第２組成物が、それぞれ、含フッ素化合物をさらに含む、請求項１〜９のいずれか１項に記載の組成物キット。
  11. 波長７３０ｎｍの吸光度に対する波長８３０ｎｍの吸光度の比が３以上であるバンドパスフィルターを形成するために用いられる、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の組成物キット。
  12. 波長７３０ｎｍの吸光度に対する波長６３０ｎｍの吸光度の比が３以上であるバンドパスフィルターを形成するために用いられる、請求項１１に記載の組成物キット。
  13. 波長８５０ｎｍの吸光度に対する波長９５０ｎｍの吸光度の比が３以上であるバンドパスフィルターを形成するために用いられる、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の組成物キット。
  14. 波長８５０ｎｍの吸光度に対する波長７５０ｎｍの吸光度の比が３以上であるバンドパスフィルターを形成するために用いられる、請求項１３に記載の組成物キット。
  15. 波長９４０ｎｍの吸光度に対する波長１０４０ｎｍの吸光度の比が３以上であるバンドパスフィルターを形成するために用いられる、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の組成物キット。
  16. 波長９４０ｎｍの吸光度に対する波長８４０ｎｍの吸光度の比が３以上であるバンドパスフィルターを形成するために用いられる、請求項１５に記載の組成物キット。
  17. 請求項１〜１０のいずれか１項に記載の組成物キットを用いた積層体の製造方法であって、
    前記第１組成物を用いて、右旋回性のコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層Ｘａを形成する工程と、
    前記第２組成物を用いて、左旋回性のコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層Ｘｂを形成する工程と、
    前記第３組成物を用いて、光吸収層を形成する工程と、を含む積層体の製造方法。
  18. 互いに隣接して配置される複数の光反射層からなる反射積層膜、および、光吸収層を有し、
    前記反射積層膜は、右旋回性のコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層Ｘａを少なくとも１層と、左旋回性のコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層Ｘｂを少なくとも１層とを含み、
    前記光反射層Ｘａの少なくとも１層の選択反射波長と前記光反射層Ｘｂの少なくとも１層の選択反射波長とが等しく、
    前記光吸収層は、色材を含む、積層体。
  19. 前記光反射層Ｘａに、螺旋捩れ力が３０μｍ-1以上である右旋回性のキラル剤が含まれ、
    前記光反射層Ｘｂに、螺旋捩れ力が３０μｍ-1以上である左旋回性のキラル剤が含まれる、請求項１８に記載の積層体。
  20. 前記左旋回性のキラル剤が、一般式（１）で表される化合物、および、一般式（２）で表される化合物からなる群から選択される、請求項１８または１９に記載の積層体。

    一般式（１）中、Ｍは、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。Ｒ1は以下に示す連結基のいずれかを表す。

    ただし、＊は、それぞれ独立に、一般式（１）中の酸素原子との結合部位を表す。Ｒ3は、それぞれ独立に、炭素数１から３のアルキル基または炭素数６から１０のアリール基を表す。

    一般式（２）中、Ｒ2は以下に示す置換基のいずれかを表し、２つのＲ2は互いに同じでも異なっていてもよい。

    ただし、＊は、それぞれ独立に、一般式（２）中の酸素原子との結合部位を表す。Ｙ1は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、または、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−を表す。Ｓｐ1は、それぞれ独立に、単結合または炭素数１から８のアルキレン基を表す。Ｚ1は、それぞれ独立に、水素原子または（メタ）アクリル基を表す。ｎは１以上の整数を表す。
  21. 前記左旋回性のキラル剤が、一般式（３）で表される化合物、および、一般式（４）で表される化合物からなる群から選択される、請求項１８〜２０のいずれか１項に記載の積層体。

    一般式（３）中、Ｒaは以下に示す連結基のいずれかを表す。

    ただし、＊は、一般式（３）中の酸素原子との結合部位を表す。

    一般式（４）中、Ｒbは以下に示す置換基を表し、２つのＲbは互いに同じでも異なっていてもよい。

    ただし、＊は、一般式（４）中の酸素原子との結合部位を表す。Ｙ2は、単結合、−Ｏ−、または、−ＯＣ（＝Ｏ）−を表す。Ｓｐ2は、単結合または炭素数１から８のアルキレン基を表す。Ｚ2は、水素原子または（メタ）アクリル基を表す。
  22. 前記色材が顔料を含む、請求項１８〜２１のいずれか１項に記載の積層体。
  23. 前記光反射層Ｘａおよび前記光反射層Ｘｂのうち少なくとも一方を２層以上有し、
    前記光反射層Ｘａが複数ある場合、それぞれの前記光反射層Ｘａに含まれる前記キラル剤の種類が同一であり、
    前記光反射層Ｘｂが複数ある場合、それぞれの前記光反射層Ｘｂに含まれる前記キラル剤の種類が同一である、請求項１８〜２２のいずれか１項に記載の積層体。
  24. 前記反射積層膜のヘイズが１％以下である、請求項１８〜２３のいずれか１項に記載の積層体。
  25. 波長７３０ｎｍの吸光度に対する波長８３０ｎｍの吸光度の比が３以上である、請求項１８〜２４のいずれか１項に記載の積層体。
  26. 波長７３０ｎｍの吸光度に対する波長６３０ｎｍの吸光度の比が３以上である、請求項２５に記載の積層体。
  27. 波長８５０ｎｍの吸光度に対する波長９５０ｎｍの吸光度の比が３以上である、請求項１８〜２４のいずれか１項に記載の積層体。
  28. 波長８５０ｎｍの吸光度に対する波長７５０ｎｍの吸光度の比が３以上である、請求項２７に記載の積層体。
  29. 波長９４０ｎｍの吸光度に対する波長１０４０ｎｍの吸光度の比が３以上である、請求項１８〜２４のいずれか１項に記載の積層体。
  30. 波長９４０ｎｍの吸光度に対する波長８４０ｎｍの吸光度の比が３以上である、請求項２９に記載の積層体。
  31. 請求項１８〜３０のいずれか１項に記載の積層体を有するバンドパスフィルター。

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