JPWO2016067769A1 - 回転型可変抵抗器およびその製造方法 - Google Patents

回転型可変抵抗器およびその製造方法 Download PDF

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浩幸 岸下
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Abstract

回転型可変抵抗器は、絶縁基板と、絶縁基板上に設けられる抵抗体パターンおよび集電体パターンと、絶縁基板に回転可能に取り付けられる回転子と、回転子に取り付けられ、抵抗体パターンおよび集電体パターンに摺接して抵抗体パターンと集電体パターンとを導通する摺動子とを備える。抵抗体パターンの可変抵抗として有効な最大寸法をZ[mm]とし、電気的直線度をL[%]としたとき、Z≦4.0、かつ、Z×L<10を満たす。

Description

本発明は、回転型可変抵抗器およびその製造方法に関する。
従来、回転型可変抵抗器としては、特開平2−170403号公報(特許文献1)に記載されたものがある。この回転型可変抵抗器は、樹脂フィルムと、樹脂フィルム上に設けられた抵抗体パターンおよび集電体パターンと、抵抗体パターンおよび集電体パターンに摺接する摺動子とを有する。抵抗体パターンおよび集電体パターンは、樹脂フィルム上に印刷されている。
特開平2−170403号公報
ところで、前記従来の回転型可変抵抗器では、小型化を行うと、電気的直線度(リニアリティ)が悪化するおそれがある。この理由を検討すると、小型化を行うことで抵抗体パターンのサイズが小さくなるため、抵抗体パターンの膜厚のばらつきの影響が大きくなって、電気的直線度が悪化する。特に、抵抗体パターンを印刷により形成すると、電気的直線度の悪化が顕著となることがわかった。
そこで、本発明の課題は、小型化と高精度化の両立を実現することができる回転型可変抵抗器およびその製造方法を提供することにある。
本発明の回転型可変抵抗器は、
絶縁基板と、
前記絶縁基板上に設けられ、互いに離隔して配置される抵抗体パターンおよび集電体パターンと、
前記絶縁基板に回転可能に取り付けられる回転子と、
前記回転子と共に回転可能となるように前記回転子に取り付けられ、前記抵抗体パターンおよび前記集電体パターンに摺接して前記抵抗体パターンと前記集電体パターンとを導通する摺動子と
を備え、
前記抵抗体パターンの可変抵抗として有効な最大寸法をZ[mm]とし、電気的直線度をL[%]としたとき、Z≦4.0、かつ、Z×L<10を満たす。
ここで、抵抗体パターンの最大寸法Zとは、例えば、抵抗体パターンの外形が円形であるときの直径をいい、抵抗体パターンの外形が長方形であるときの長辺をいう。電気的直線度Lとは、回転子の回転角度と出力電圧比との関係において、実測した出力電圧比の理想直線からの最大垂直偏差をいう。
本発明の回転型可変抵抗器によれば、Z≦4.0を満たすので、回転型可変抵抗器を小型にできる。Z×L<10を満たすので、電気的直線度を向上できる。したがって、小型化と高精度化の両立を実現することができる。
また、一実施形態の回転型可変抵抗器では、前記抵抗体パターンおよび前記集電体パターンは、前記絶縁基板上にスクリーン印刷することで、構成される。
前記実施形態の回転型可変抵抗器によれば、抵抗体パターンおよび集電体パターンは、絶縁基板上にスクリーン印刷することで、構成される。したがって、最も安価で効率的なスクリーン印刷を用いており、低コストを図ることができる。
また、本発明の回転型可変抵抗器は、
絶縁基板と、
前記絶縁基板上に設けられ、互いに離隔して配置される抵抗体パターンおよび集電体パターンと、
前記絶縁基板に回転可能に取り付けられる回転子と、
前記回転子と共に回転可能となるように前記回転子に取り付けられ、前記抵抗体パターンおよび前記集電体パターンに摺接して前記抵抗体パターンと前記集電体パターンとを導通する摺動子と
を備え、
前記抵抗体パターンは、前記絶縁基板上に第1方向にスクリーン印刷することで、構成され、
前記第1方向に平行でかつ前記回転子の回転軸を通過する第1直線上で前記抵抗体パターンにおける前記第1方向に直交する方向の長さが最大となる側の幅の中点を通過すると共に前記第1直線に直交する断面において、中央部の膜厚をt1とし、最大膜厚をt2としたとき、1.0≦(t2/t1)<1.2を満たす。
ここで、第1方向とは、印刷方向をいい、スクリーン膜上でペーストをスキージで搬送する方向をいう。
本発明の回転型可変抵抗器によれば、1.0≦(t2/t1)<1.2を満たすので、抵抗体パターンの膜厚のばらつきは小さくなって、電気的直線度を向上できる。したがって、小型の回転型可変抵抗器においても、高精度化を実現することができる。
また、抵抗体パターンは、絶縁基板上にスクリーン印刷することで、構成されるので、最も安価で効率的なスクリーン印刷を用いており、低コストを図ることができる。
また、一実施形態の回転型可変抵抗器では、前記抵抗体パターンの可変抵抗として有効な最大寸法をZ[mm]とし、電気的直線度をL[%]としたとき、Z≦4.0、かつ、Z×L<10を満たす。
前記実施形態の回転型可変抵抗器によれば、Z≦4.0を満たすので、回転型可変抵抗器を小型にできる。Z×L<10を満たすので、電気的直線度を向上できる。したがって、小型化と高精度化の両立を実現することができる。
また、一実施形態の回転型可変抵抗器では、前記抵抗体パターンおよび前記集電体パターンは、同一材料から構成される。
前記実施形態の回転型可変抵抗器によれば、抵抗体パターンおよび集電体パターンは、同一材料から構成されるので、低コストを図ることができる。
また、一実施形態の回転型可変抵抗器では、
前記絶縁基板内に設けられ、前記絶縁基板上から露出する露出電極と、
前記絶縁基板上に設けられ、前記抵抗体パターンと前記露出電極との間に位置する電極パターンと
を有し、
前記抵抗体パターンと前記露出電極とは、前記電極パターンを介して、導通する。
前記実施形態の回転型可変抵抗器によれば、抵抗体パターンと露出電極とは、電極パターンを介して、導通する。これにより、抵抗体パターンと露出電極とが直接的に導通することが困難である場合、電極パターンを介することで、抵抗体パターンと露出電極とが間接的に導通することが可能となり、高い信頼性を確保できる。
また、一実施形態の回転型可変抵抗器では、
前記回転子は、
樹脂からなる本体部と、
前記本体部に固定された金属部材と
を有し、
前記摺動子は、前記金属部材に係止されて、前記回転子に取り付けられる。
前記実施形態の回転型可変抵抗器によれば、摺動子は、本体部に固定された金属部材に係止されて、回転子に取り付けられるので、リフローはんだ熱による摺動子と回転子とのがたつきの発生が少なくなる。これにより、抵抗体パターンおよび集電体パターンへの摺動子の接点圧の変動がなく、抵抗体パターンおよび集電体パターンと摺動子との安定した接触が得られる。
また、一実施形態の回転型可変抵抗器では、前記摺動子は、前記金属部材のカシメにより、前記金属部材に係止される。
前記実施形態の回転型可変抵抗器によれば、摺動子は、金属部材のカシメにより、金属部材に係止されるので、摺動子を回転子に容易に取り付けることができる。
また、一実施形態の回転型可変抵抗器では、前記金属部材は、インサート成形により、前記本体部に固定される。
前記実施形態の回転型可変抵抗器によれば、金属部材は、インサート成形により、本体部に固定されるので、金属部材を本体部に容易に固定することができる。
また、本発明の回転型可変抵抗器の製造方法は、
抵抗体パターンおよび集電体パターンに対応する孔部を有するスクリーン膜を、絶縁基板上に間隔をあけて配置するスクリーン膜配置工程と、
前記スクリーン膜上にペーストを載置するペースト載置工程と、
スキージで前記スクリーン膜を押圧しながら前記スクリーン膜上で前記ペーストを第1方向に搬送して、前記ペーストを前記スクリーン膜の前記孔部から押し出し、前記絶縁基板上に前記抵抗体パターンおよび前記集電体パターンを形成するパターン形成工程と
を備え、
前記パターン形成工程では、前記スキージで前記スクリーン膜を前記絶縁基板に接触させるように押圧しながら、前記絶縁基板上に前記抵抗体パターンおよび前記集電体パターンを形成する。
本発明の回転型可変抵抗器の製造方法によれば、パターン形成工程では、スキージでスクリーン膜を絶縁基板に接触させるように押圧しながら、絶縁基板上に抵抗体パターンおよび集電体パターンを形成する。このように、スキージでスクリーン膜を十分に押し込みながら抵抗体パターンおよび集電体パターンを印刷するので、抵抗体パターンおよび集電体パターンの厚みを、スクリーン膜の孔部の厚みでコントロールすることができる。したがって、スクリーン膜の孔部の開口の大きさに関わらず、抵抗体パターンおよび集電体パターンの厚みを略一定とできる。したがって、抵抗体パターンの膜厚のばらつきは小さくなって、電気的直線度を向上できる。したがって、小型の回転型可変抵抗器を製造する場合においても、高精度化を実現することができる。
本発明の回転型可変抵抗器によれば、小型化および高精度化の両立を実現することができる。
本発明の回転型可変抵抗器の製造方法によれば、小型化および高精度化を満たす回転型可変抵抗器を製造することができる。
本発明の第1実施形態の回転型可変抵抗器を示す斜視図である。 本発明の回転型可変抵抗器の下方からみた分解斜視図である。 本発明の回転型可変抵抗器の上方からみた分解斜視図である。 本発明の回転型可変抵抗器のキャップ、回転子および摺動子を取り除いた状態を示す平面図である。 本発明の回転型可変抵抗器の動作を説明する説明図である。 本発明の出力電圧比と回転角度との関係を示すグラフである。 本発明の回転型可変抵抗器の頂部の第1方向に直交する平面における断面図である。 本発明の回転型可変抵抗器の製造方法について説明する説明図である。 本発明の回転型可変抵抗器の製造方法について説明する説明図である。 本発明の回転型可変抵抗器の製造方法について説明する説明図である。 本発明の抵抗体パターンの頂部の製造方法を説明する説明図である。 本発明の抵抗体パターンの頂部の製造方法を説明する説明図である。 本発明の抵抗体パターンの側部の製造方法を説明する説明図である。 本発明の抵抗体パターンの側部の製造方法を説明する説明図である。 従来の抵抗体パターンの頂部の製造方法を説明する説明図である。 従来の抵抗体パターンの頂部の製造方法を説明する説明図である。 従来の抵抗体パターンの側部の製造方法を説明する説明図である。 従来の抵抗体パターンの側部の製造方法を説明する説明図である。 本発明の抵抗体パターンの頂部の膜厚を示すグラフである。 従来の抵抗体パターンの頂部の膜厚を示すグラフである。 本発明と従来との抵抗体パターンの径方向の膜厚を示すグラフである。 本発明の第2実施形態の回転子および摺動子を示す下方からみた平面図である。 摺動子の回転子への固定方法を説明する説明図である。 摺動子の回転子への固定方法を説明する説明図である。 本発明の第3実施形態の回転子および摺動子を示す下方からみた平面図である。 回転子および摺動子を示す側面図である。 回転子および摺動子を分解した状態を示す平面図である。 摺動子の回転子への固定方法を説明する説明図である。 摺動子の回転子への固定方法を説明する説明図である。
以下、本発明を図示の実施の形態により詳細に説明する。
(第1実施形態)
図1は、本発明の一実施形態の回転型可変抵抗器を示す斜視図である。図2Aは、回転型可変抵抗器の下方からみた分解斜視図である。図2Bは、回転型可変抵抗器の上方からみた分解斜視図である。
図1と図2Aと図2Bに示すように、回転型可変抵抗器1は、絶縁基板2と、絶縁基板2上に設けられた抵抗体パターン5および集電体パターン6と、絶縁基板2に回転可能に取り付けられた回転子3と、回転子3と共に回転可能となるように回転子3に取り付けられた摺動子4とを有する。
絶縁基板2には、第1と第2と第3端子11,12,13が設けられている。第1端子11は、絶縁基板2内に設けられ絶縁基板2上から露出する露出電極11aを有する。同様に、第2端子12は、露出電極12aを有し、第3端子13は、露出電極13aを有する。
絶縁基板2上には、電極パターン7が設けられている。電極パターン7は、抵抗体パターン5および集電体パターン6と露出電極11a,12a,13aとの間に位置する。抵抗体パターン5および集電体パターン6と露出電極11a,12a,13aとは、電極パターン7を介して、導通する。このように、抵抗体パターン5と露出電極11a,12a,13aとが直接的に導通することが困難である場合、電極パターン7を介することで、抵抗体パターン5と露出電極11a,12a,13aとが間接的に導通することが可能となり、高い信頼性を確保できる。
絶縁基板2には、キャップ10が着脱自在に取り付けられている。キャップ10は、回転子3、摺動子4、抵抗体パターン5、集電体パターン6および電極パターン7を覆う。
図3は、回転型可変抵抗器1のキャップ10、回転子3および摺動子4を取り除いた状態を示す平面図である。図2Aと図2Bと図3に示すように、絶縁基板2は、平面視、矩形状である。絶縁基板2には、孔部21が設けられている。絶縁基板2の孔部21には、回転子3のボス部31が嵌め込まれている。回転子3は、回転軸Cを中心として回転する。絶縁基板2および回転子3は、例えば、樹脂から構成される。
抵抗体パターン5および集電体パターン6は、互いに離隔して配置される。抵抗体パターン5は、回転軸Cを中心とした環状を一部切り欠いた形状である。抵抗体パターン5は、第1端部51と第2端部52とを有する。集電体パターン6は、回転軸Cを中心とした環状である。集電体パターン6は、抵抗体パターン5の内側に位置している。抵抗体パターン5および集電体パターン6は、同一材料から構成され、例えば、フェノール系樹脂にカーボンブラックを含浸した材料から構成される。
摺動子4は、回転子3のボス部31および2つの突部32に取り付けられて、位置決めされる。摺動子4は、略環状に形成される。摺動子4は、第1突部41と第2突部42とを有する。第1突部41と第2突部42とは、導通している。摺動子4は、抵抗体パターン5および集電体パターン6に摺接して、抵抗体パターン5と集電体パターン6とを導通する。つまり、第1突部41は、抵抗体パターン5に摺接し、第2突部42は、集電体パターン6に摺接して、抵抗体パターン5と集電体パターン6とは、導通される。摺動子4は、例えば、金属から構成される。
電極パターン7は、第1電極部71と第2電極部72と第3電極部73とを有する。第1電極部71は、抵抗体パターン5の第1端部51に重なって接触する。第2電極部72は、抵抗体パターン5の第2端部52に重なって接触する。第3電極部73は、環状に形成されている。第3電極部73は、集電体パターン6に重なって接触する。電極パターン7は、例えば、金属から構成される。
第1端子11および第2端子12の一部は、絶縁基板2の第1辺から引き出されている。第3端子13の一部は、絶縁基板2の第1辺と対向する第2辺から引き出されている。第1端子11の露出電極11aは、第1電極部71に重なって接触する。第2端子12の露出電極12aは、第2電極部72に重なって接触する。第3端子13の露出電極13aは、第3電極部73に重なって接触する。第1と第2と第3端子11,12,13は、例えば、金属から構成される。
抵抗体パターン5の第1端部51と第1端子11の露出電極11aとは、第1電極部71を介して、導通する。抵抗体パターン5の第2端部52と第2端子12の露出電極12aとは、第2電極部72を介して、導通する。集電体パターン6と第3端子13の露出電極13aとは、第3電極部73を介して、導通する。
図4は、回転型可変抵抗器1の動作を説明する説明図である。図4では、摺動子4を単純な形状で示す。図4に示すように、第1端子11と第2端子12との間には、一定の電圧Vccが印加されている。摺動子4の回転により、第1端子11と第3端子13との間の電圧V13が変化する。つまり、摺動子4の回転角度に応じて電圧V13が変化する。そして、この電圧V13を測定することにより、摺動子4(回転子3)の回転角度を容易に検出することができる。
図4において、回転軸Cを中心として、抵抗体パターン5における第1端部51と第2端部52との間の中心位置を、中心角度0°とする。中心角度0°を基準として、第2端部52側の回転角度を正の値とし、第1端部51側の回転角度を負の値とする。図4では、正の値を(+)として示し、負の値を(−)として示す。
図5は、出力電圧比と回転角度との関係を示すグラフである。縦軸に、出力電圧比[%]を示し、横軸に、摺動子4(回転子3)の回転角度[°]を示す。出力電圧比は、(V13/Vcc×100)である。図5に示すように、理想値を(仮想線に示す)理想直線Rとし、実測値を(実線に示す)実測曲線Wとする。理想直線Rの傾きは、例えば、100[%]/333.3[°]である。理想直線Rと実測曲線Wとは、回転角度0°と出力電圧比50%との交点で重なる。
実測曲線Wの理想直線Rからの最大垂直偏差Hを、電気的直線度(リニアリティ)L[%]という。電気的直線度Lの値が小さいほど、直線性が良好となる。具体的には、L=ずれ量/Vcc×100である。ずれ量とは、最大垂直偏差Hに対応する電圧差をいう。図5において、電気的直線度Lが保証される回転角度の範囲は、−160°以上であり、かつ、+160°以下である。
図3に示すように、抵抗体パターン5の可変抵抗として有効な最大寸法をZ[mm]とする。最大寸法Zは、抵抗体パターン5の外形の最大寸法をいう。抵抗体パターン5の可変抵抗として有効な部分とは、抵抗体パターン5のうちの抵抗体として機能する部分であり、抵抗体パターン5のうちの電極パターン71,72と重ならない部分をいう。抵抗体パターン5の最大寸法Zとは、例えば、抵抗体パターン5の外形が円形であるときの直径をいい、抵抗体パターン5の外形が長方形であるときの長辺をいう。
ここで、最大寸法Z[mm]と電気的直線度L[%]との関係において、Z≦4.0、かつ、Z×L<10を満たす。したがって、Z≦4.0を満たすので、回転型可変抵抗器1を小型にできる。Z×L<10を満たすので、電気的直線度を向上できる。したがって、小型化と高精度化の両立を実現することができる。これに対して、Z>4.0を満たすと、回転型可変抵抗器1が大型になり、Z×L≧10を満たすと、電気的直線度が悪化する。
図3に示すように、抵抗体パターン5および集電体パターン6は、絶縁基板2上に第1方向Xにスクリーン印刷することで、構成される。第1方向Xとは、印刷方向をいい、後述するが、スクリーン膜上でペーストをスキージで搬送する方向をいう。
通常、抵抗体パターン5において、第1方向Xに直交する方向の長さが最大となる部分の膜厚は、ばらつきやすい。このため、本願発明者は、この部分に着目し、この部分の膜厚のばらつきが所定範囲にあれば、抵抗体パターン5の全体の膜厚のばらつきは、小さくなることを、見出した。
具体的に述べると、抵抗体パターン5は、第1方向Xの下流側の部分(以下、頂部55という)と、第1方向Xの中央側の部分(以下、側部56)とを有する。頂部55は、抵抗体パターン5における第1方向Xに直交する方向の長さが最大となる部分側に位置する。後述するが、スクリーン膜は、抵抗体パターン5に対応する孔部を有している。孔部の頂部55に対応する開口の大きさは、孔部の側部56に対応する開口の大きさよりも、大きい。このため、従来では、孔部の頂部55に対応する部分と孔部の側部56に対応する部分とで、スキージによる押し込み量に差が生じていた。特に、スクリーン膜の孔部の頂部55に対応する部分が、大きく押し込まれて、頂部55の膜厚のばらつきが大きくなっていた。したがって、本願発明者は、頂部55の膜厚に着目し、頂部55の膜厚のばらつきが所定範囲にあれば、抵抗体パターン5の全体の膜厚のばらつきは、小さくなることを、見出した。
要するに、回転軸Cに沿った方向からみて、第1方向Xに平行でかつ回転軸Cを通過する直線を第1直線M1とする。第1直線M1上で抵抗体パターン5における第1方向Xに直交する方向の長さが最大となる部分側の幅(頂部55の幅)の中央に位置する点を中点M0とする。抵抗体パターン5の第1方向Xに直交する方向の最大長さとは、第1直線M1と抵抗体パターン5の内周との交点で第1直線M1と直交する位置での長さDである。中点M0を通過すると共に第1直線M1に直交する直線を第2直線M2とする。第2直線M2での抵抗体パターン5の断面において、図6に示すように、第2直線M2に沿った方向の中央部の膜厚をt1とし、最大膜厚をt2としたとき、1.0≦(t2/t1)<1.2を満たす。抵抗体パターン5の上面は、凹面であるため、最大膜厚t2は、第2直線M2に沿った方向の端部の膜厚となる。なお、抵抗体パターン5の側部56についても同様である。
したがって、1.0≦(t2/t1)<1.2を満たすので、抵抗体パターン5の膜厚のばらつきは小さくなって、電気的直線度を向上できる。したがって、小型の回転型可変抵抗器1においても、高精度化を実現することができる。これに対して、1.2≦(t2/t1)を満たすと、電気的直線度が悪化する。
また、抵抗体パターン5は、絶縁基板2上にスクリーン印刷することで、構成されるので、最も安価で効率的なスクリーン印刷を用いており、低コストを図ることができる。また、抵抗体パターン5および集電体パターン6は、同一材料から構成されるので、低コストを図ることができる。
次に、回転型可変抵抗器1の製造方法について説明する。
まず、図7Aに示すように、スクリーン膜8を絶縁基板2上に間隔をあけて配置する。これを、スクリーン膜配置工程という。スクリーン膜8は、抵抗体パターン5および集電体パターン6に対応する孔部81を有する。スクリーン膜8には、エマルジョン82が取り付けられ、エマルジョン82は、スクリーン膜8と絶縁基板2との間を一定の間隔に保つ。エマルジョン82は、例えば、樹脂から構成される。エマルジョン82は、孔部81の周囲に配置される。
その後、スクリーン膜8上にペーストPを載置する。これを、ペースト載置工程という。ペーストPは、抵抗体パターン5および集電体パターン6の材料である。
その後、図7Bに示すように、スキージ9でスクリーン膜8を絶縁基板2側(第2方向Y)に押圧しながら、スクリーン膜8上でペーストPを第1方向Xに搬送して、ペーストPをスクリーン膜8の孔部81から押し出していく。そして、図7Cに示すように、孔部81から押し出されたペーストPにより、絶縁基板2上に抵抗体パターン5および集電体パターン6を形成する。これを、パターン形成工程という。その後、ペーストPを加熱硬化して、回転型可変抵抗器1を製造する。
パターン形成工程では、図8Aに示すように、スキージ9でスクリーン膜8を絶縁基板2に接触させるように第2方向Yに押圧しながら、図8Bに示すように、絶縁基板2上に抵抗体パターン5を形成する。図8Aと図8Bでは、抵抗体パターン5の頂部55について説明するが、集電体パターン6についても同様である。このように、スクリーン膜8を十分に押し込むことで、スクリーン膜8の孔部81の開口の大きさに関係なく、スクリーン膜8の厚みt3で印刷して、頂部55において略一定の膜厚t1,t2を得ることができる。通常、スクリーン印刷では、スクリーン膜8を絶縁基板2に接触させない。しかし、本願発明者は、スクリーン膜8を絶縁基板2に接触させることで、膜厚のばらつきを抑制できることを見出した。
抵抗体パターン5の側部56についても同様である。つまり、図9Aに示すように、スキージ9でスクリーン膜8を絶縁基板2に接触させるように第2方向Yに押圧しながら、図9Bに示すように、絶縁基板2上に抵抗体パターン5を形成する。このように、スクリーン膜8を十分に押し込むことで、スクリーン膜8の厚みt3で印刷して、側部56において略一定の膜厚t4,t5を得ることができる。側部56の中央部の膜厚t4は、頂部55の中央部の膜厚t1と略同じであり、側部56の端部の膜厚t5は、頂部55の端部の膜厚t2と略同じである。
したがって、スキージ9でスクリーン膜8を十分に押し込みながら抵抗体パターン5および集電体パターン6を印刷するので、抵抗体パターン5および集電体パターン6の厚みを、スクリーン膜8の孔部81の厚みでコントロールすることができる。したがって、スクリーン膜8の孔部81の開口の大きさに関わらず、抵抗体パターン5および集電体パターン6の厚みを略一定とできる。したがって、抵抗体パターン5の膜厚のばらつきは小さくなって、電気的直線度を向上できる。したがって、小型の回転型可変抵抗器1を製造する場合においても、高精度化を実現することができる。
このように、本願発明では、スクリーン膜8の孔部81の開口の大きさが、印刷方向(第1方向X)において変化する場合に、特に顕著に、略一定の厚みを有する印刷を施すことができる。
また、エマルジョン82は、本来、ペースト量をコントロールする役割を有するが、本願発明では、絶縁基板2の粗さまたはうねりを干渉するための役割を有する。このため、エマルジョン82の厚みを、粗さ等の干渉に必要な厚みまで落とすことができる。スクリーン膜8においては、伸びを助長するために粗い番手を使用することができる。
ここで、抵抗体パターン5の電気的直線度は、多くの要因で決定されるが、支配的なものは、抵抗体パターン5の膜厚のばらつきである。抵抗体パターン5の抵抗値は、膜厚の断面積に反比例しており(R=ρ×L/S(ρは比抵抗であり、Lは長さであり、Sは断面積である))、断面積のばらつきをいかに小さく抑えることができるかが、重要となる。
従来の印刷方法では、図10Aと図10Bに示すように、抵抗体パターン105の頂部155において、図10Aに示すように、スクリーン膜108の孔部181の開口は大きいため、スキージによる押し込み量が大きくなる。この結果、図10Bに示すように、中央部の膜厚t1と端部の膜厚t2との差は大きくなる。
一方、図11Aと図11Bに示すように、抵抗体パターン105の側部156において、図11Aに示すように、スクリーン膜108の孔部181の開口は小さいため、スキージによる押し込み量が小さくなる。この結果、図11Bに示すように、中央部の膜厚t4と端部の膜厚t5との差は小さくなる。しかし、図10Bと図11Bに示すように、頂部155の中央部の膜厚t1と側部156の中央部の膜厚t4との差は大きくなる。
したがって、抵抗体パターン105の膜厚にばらつきが生じ、電気的直線度が悪化していた。このように、従来の方法では、スクリーン膜108の孔部181の厚みでなくエマルジョン182の厚みにより、ペーストPの量をコントロールしていた。
次に、抵抗体パターンの頂部の膜厚について、本発明と従来の実施例を説明する。
図12Aに示すように、本発明では、中央部の膜厚t1と最大膜厚t2とは、略等しくなっている。一方、図12Bに示すように、従来では、中央部の膜厚t1と最大膜厚t2との差は、大きくなっており、約2μmである。図12Aと図12Bでは、横軸に、頂部の断面の幅方向(図3に示す、第2直線M2に沿った方向)を示し、縦軸に、膜厚[μm]を示す。
次に、抵抗体パターンの径方向の膜厚について、本発明と従来の実施例を説明する。
図13では、横軸に、角度[°]を示し、縦軸に、平均膜厚[μm]を示す。角度は、図4にて説明した回転角度に一致する。平均膜厚は、抵抗体パターンの径方向の膜厚の平均値である。
図13に示すように、本発明では、実線に示すように、抵抗体パターンの径方向の膜厚のばらつきは、角度によらず、小さい。一方、従来では、仮想線に示すように、抵抗体パターンの径方向の膜厚のばらつきは、角度によって、大きくなっている。つまり、頂部の膜厚と側部の膜厚との差が大きい。
次に、回転型可変抵抗器1の実施例を説明する。
絶縁基板は、PPS樹脂(DIC:FZ−3600)から構成されている。第1〜第3端子は、黄銅から構成され、NiとAgのめっき処理を施されている。第1〜第3端子は、絶縁基板にインサート成型されている。
抵抗体パターンの最大寸法Zは、φ3.58mmである。抵抗体パターンおよび集電体パターンは、フェノール系樹脂にカーボンブラックが含浸された材料から構成され、絶縁基板にスクリーン印刷されている。電極パターンは、Agペーストから構成され、絶縁基板にスクリーン印刷されている。
回転子は、LCP樹脂(ポリプラ:ラぺロスE130G)から構成されている。摺動子は、洋白から構成され、NiとAgのめっき処理を施されている。摺動子は、回転子にインサート成型されている。キャップは、SUS304から構成されている。
(第2実施形態)
図14は、本発明の第2実施形態の回転子および摺動子を示す下方からみた平面図である。図14に示すように、回転子3Aは、樹脂からなる本体部130と、本体部130に固定された金属部材135とを有する。摺動子4Aは、金属部材135に係止されて、回転子3Aに取り付けられる。摺動子4Aは、金属部材135のカシメにより、金属部材135に係止される。金属部材135は、インサート成形により、本体部130に固定される。
具体的に述べると、本体部130は、ボス部31を有する。本体部130の外形は、平面視、摺動子4Aの外形と略同一の大きさである。金属部材135は、帯状の金属板である。2つの金属部材135は、インサート成形により、本体部130に固定される。金属部材135の一端部は、本体部130に埋め込まれ、金属部材135の他端部は、本体部130から露出している。金属部材135の他端部は、摺動子4Aの孔部140に挿入されカシメられている。摺動子4Aは、金属部材135の他端部のカシメにより、金属部材135に係止される。
次に、摺動子4Aの回転子3Aへの固定方法を説明する。図15Aに示すように、摺動子4Aを回転子3Aの本体部130に設置する。このとき、回転子3Aの金属部材135の他端部を摺動子4Aの孔部140に挿入し、金属部材135の他端部を僅かに折り曲げて、摺動子4Aを金属部材135に仮止めする。その後、図15Bに示すように、金属部材135の他端部を折り曲げながらカシメて、摺動子4Aを金属部材135に固定する。
前記第2実施形態によれば、摺動子4Aは、本体部130に固定された金属部材135に係止されて、回転子3Aに取り付けられるので、リフローはんだ熱による摺動子4Aと回転子3Aとのがたつきの発生が少なくなる。これにより、抵抗体パターンおよび集電体パターンへの摺動子4Aの接点圧の変動がなく、抵抗体パターンおよび集電体パターンと摺動子4Aとの安定した接触が得られる。また、耐候性に強いものとなる。
これに対して、摺動子を回転子の本体部の突部に挿入し、樹脂からなる突部を溶着して、摺動子と回転子とを一体化させる場合、リフローはんだ熱により突部が溶融するおそれがある。このとき、摺動子と回転子とに緩みが発生して、摺動子ががたつく。これにより、抵抗体パターンおよび集電体パターンへの摺動子の接点圧が変動して、抵抗体パターンおよび集電体パターンと摺動子との安定した接触が得られない。
前記第2実施形態によれば、摺動子4Aは、金属部材135のカシメにより、金属部材135に係止されるので、摺動子4Aを回転子3Aに容易に取り付けることができる。
また、金属部材135は、インサート成形により、本体部130に固定されるので、金属部材135を本体部130に容易に固定することができる。
(第3実施形態)
図16は、本発明の第3実施形態の回転子および摺動子を示す下方からみた平面図である。図17は、回転子および摺動子を示す側面図である。図18は、回転子および摺動子を分解した状態を示す平面図である。第3実施形態では、第2実施形態と比較すると、金属部材の構成が相違する。
図16と図17と図18に示すように、回転子3Bは、ボス部31を含む樹脂製の本体部230と、本体部230に固定された金属部材235とを有する。摺動子4Bは、金属部材235に係止されて、回転子3Bに取り付けられる。摺動子4Bは、金属部材235のカシメにより、金属部材235に係止される。金属部材235は、インサート成形により、本体部230に固定される。
具体的に述べると、金属部材235は、円盤状の金属板である。金属部材235の外形は、平面視、摺動子4Bの外形と略同一の大きさである。金属部材235は、インサート成形により、本体部230に固定される。金属部材235は、2つの突部235aを有する。金属部材235の突部235aは、摺動子4Bの孔部240に挿入されカシメられている。摺動子4Bは、金属部材235の突部235aのカシメにより、金属部材235に係止される。
次に、摺動子4Bの回転子3Bへの固定方法を説明する。図19Aに示すように、摺動子4Bを回転子3Bの金属部材235に設置する。このとき、回転子3Bの金属部材235の突部235aを摺動子4Bの孔部240に挿入する。その後、図19Bに示すように、金属部材235の突部235aを押し潰しながらカシメて、摺動子4Bを金属部材235に固定する。
前記第3実施形態によれば、前記第2実施形態と同様の効果を奏する。さらに、摺動子4Bと略同じ大きさの金属部材235を本体部230に固定することができ、金属部材235の本体部230への固定が安定する。これにより、摺動子4Bの回転子3Bへの固定が安定する。
なお、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で設計変更可能である。
前記実施形態では、抵抗体パターンの外形が、円形である場合を示しているが、抵抗体パターンの外形が、楕円や四角形やその他の多角形であってもよい。
前記実施形態では、スクリーン膜の孔部の開口の大きさが、印刷方向(第1方向X)において変化しているが、スクリーン膜の孔部の開口の大きさが、印刷方向において一定であってもよい。
前記実施形態では、絶縁基板の上面が平坦であり、かつ、抵抗体パターンの上面が凹面となっているが、絶縁基板の上面が凸面であり、かつ、抵抗体パターンの上面が平坦面となっていてもよい。
前記実施形態では、抵抗体パターンの頂部において、1.0≦(t2/t1)<1.2を満たしているが、抵抗体パターンの側部において、1.0≦(t5/t4)<1.2を満たしていてもよい。
前記実施形態では、Z≦4.0、かつ、Z×L<10を満たし、かつ、1.0≦(t2/t1)<1.2を満たしているが、何れか一方を満たすようにしてもよい。
前記実施形態では、抵抗体パターンおよび集電体パターンは、同一材料から構成されているが、異なる材料から構成されていてもよい。
前記実施形態では、電極パターンを設けているが、電極パターンを省略するようにしてもよい。
前記実施形態では、印刷方向(第1方向)を、図4に示す0°方向としているが、+90°方向や、−90°方向としてもよい。この場合、図3の側部が頂部となり、図3の頂部が側部となる。また、印刷方向を第1方向と逆方向としてもよく、この場合、印刷方向の上流側が、抵抗体パターンにおける第1方向に直交する方向の長さが最大となる側となる。
前記第2、前記第3実施形態では、摺動子を金属部材のカシメにより金属部材に係止しているが、金属部材のカシメによらずに、摺動子を金属部材に係止するようにしてもよい。また、金属部材をインサート成形により本体部に固定しているが、インサート成形によらずに、金属部材を本体部に固定してもよい。
1 回転型可変抵抗器
2 絶縁基板
3,3A,3B 回転子
130,230 本体部
135,235 金属部材
235a 突部
4,4A,4B 摺動子
140,240 孔部
5 抵抗体パターン
55 頂部(抵抗体パターンにおける第1方向に直交する方向の長さが最大となる側の部分)
56 側部
6 集電体パターン
7 電極パターン
8 スクリーン膜
81 孔部
9 スキージ
10 キャップ
11 第1端子
11a 露出電極
12 第2端子
12a 露出電極
13 第3端子
13a 露出電極
C 回転軸
M0 中点
M1 第1直線
M2 第2直線
P ペースト
X 第1方向
Y 第2方向

Claims (10)

  1. 絶縁基板と、
    前記絶縁基板上に設けられ、互いに離隔して配置される抵抗体パターンおよび集電体パターンと、
    前記絶縁基板に回転可能に取り付けられる回転子と、
    前記回転子と共に回転可能となるように前記回転子に取り付けられ、前記抵抗体パターンおよび前記集電体パターンに摺接して前記抵抗体パターンと前記集電体パターンとを導通する摺動子と
    を備え、
    前記抵抗体パターンの可変抵抗として有効な最大寸法をZ[mm]とし、電気的直線度をL[%]としたとき、Z≦4.0、かつ、Z×L<10を満たす、回転型可変抵抗器。
  2. 前記抵抗体パターンおよび前記集電体パターンは、前記絶縁基板上にスクリーン印刷することで、構成される、請求項1に記載の回転型可変抵抗器。
  3. 絶縁基板と、
    前記絶縁基板上に設けられ、互いに離隔して配置される抵抗体パターンおよび集電体パターンと、
    前記絶縁基板に回転可能に取り付けられる回転子と、
    前記回転子と共に回転可能となるように前記回転子に取り付けられ、前記抵抗体パターンおよび前記集電体パターンに摺接して前記抵抗体パターンと前記集電体パターンとを導通する摺動子と
    を備え、
    前記抵抗体パターンは、前記絶縁基板上に第1方向にスクリーン印刷することで、構成され、
    前記第1方向に平行でかつ前記回転子の回転軸を通過する第1直線上で前記抵抗体パターンにおける前記第1方向に直交する方向の長さが最大となる側の幅の中点を通過すると共に前記第1直線に直交する断面において、中央部の膜厚をt1とし、最大膜厚をt2としたとき、1.0≦(t2/t1)<1.2を満たす、回転型可変抵抗器。
  4. 前記抵抗体パターンの可変抵抗として有効な最大寸法をZ[mm]とし、電気的直線度をL[%]としたとき、Z≦4.0、かつ、Z×L<10を満たす、請求項3に記載の回転型可変抵抗器。
  5. 前記抵抗体パターンおよび前記集電体パターンは、同一材料から構成される、請求項1から4の何れか一つに記載の回転型可変抵抗器。
  6. 前記絶縁基板内に設けられ、前記絶縁基板上から露出する露出電極と、
    前記絶縁基板上に設けられ、前記抵抗体パターンと前記露出電極との間に位置する電極パターンと
    を有し、
    前記抵抗体パターンと前記露出電極とは、前記電極パターンを介して、導通する、請求項1から5の何れか一つに記載の回転型可変抵抗器。
  7. 前記回転子は、
    樹脂からなる本体部と、
    前記本体部に固定された金属部材と
    を有し、
    前記摺動子は、前記金属部材に係止されて、前記回転子に取り付けられる、請求項1から6の何れか一つに記載の回転型可変抵抗器。
  8. 前記摺動子は、前記金属部材のカシメにより、前記金属部材に係止される、請求項7に記載の回転型可変抵抗器。
  9. 前記金属部材は、インサート成形により、前記本体部に固定される、請求項7または8に記載の回転型可変抵抗器。
  10. 抵抗体パターンおよび集電体パターンに対応する孔部を有するスクリーン膜を、絶縁基板上に間隔をあけて配置するスクリーン膜配置工程と、
    前記スクリーン膜上にペーストを載置するペースト載置工程と、
    スキージで前記スクリーン膜を押圧しながら前記スクリーン膜上で前記ペーストを第1方向に搬送して、前記ペーストを前記スクリーン膜の前記孔部から押し出し、前記絶縁基板上に前記抵抗体パターンおよび前記集電体パターンを形成するパターン形成工程と
    を備え、
    前記パターン形成工程では、前記スキージで前記スクリーン膜を前記絶縁基板に接触させるように押圧しながら、前記絶縁基板上に前記抵抗体パターンおよび前記集電体パターンを形成する、回転型可変抵抗器の製造方法。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI731558B (zh) * 2019-03-25 2021-06-21 日商阿爾卑斯阿爾派股份有限公司 可變電阻器
CN110364322A (zh) * 2019-07-17 2019-10-22 东莞福哥电子有限公司 一种接触式滑动电阻片的制作方法
JP7472271B2 (ja) * 2020-03-30 2024-04-22 東京コスモス電機株式会社 可動接点、可変抵抗器および可動接点の製造方法
CN116735930B (zh) * 2023-08-15 2023-10-24 江苏华鹏智能仪表科技股份有限公司 一种集中器辅助工具

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01110704A (ja) * 1987-10-23 1989-04-27 Murata Mfg Co Ltd 可変抵抗器
JPH0488078U (ja) * 1990-12-14 1992-07-30
JP2001185405A (ja) * 1999-12-24 2001-07-06 Teikoku Tsushin Kogyo Co Ltd 抵抗体パターン及びその形成方法
JP2002299108A (ja) * 2001-04-02 2002-10-11 Murata Mfg Co Ltd 可変抵抗器
JP2002299106A (ja) * 2001-04-02 2002-10-11 Murata Mfg Co Ltd 可変抵抗器
JP2003124009A (ja) * 2001-10-18 2003-04-25 Murata Mfg Co Ltd 可変抵抗器
JP2004335543A (ja) * 2003-04-30 2004-11-25 Alps Electric Co Ltd 抵抗基板とその製造方法および抵抗基板用印刷マスク
JP2013161890A (ja) * 2012-02-02 2013-08-19 Alps Electric Co Ltd 抵抗基板およびその製造方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2932714C2 (de) * 1979-08-13 1982-08-12 Vdo Adolf Schindling Ag, 6000 Frankfurt Einstellbarer Drehwiderstand in Dickschichttechnik
JPS62274701A (ja) * 1986-05-23 1987-11-28 アイシン精機株式会社 可変抵抗器
JPH02170403A (ja) 1988-12-22 1990-07-02 Teikoku Tsushin Kogyo Co Ltd 電子部品
US5243318A (en) * 1991-04-11 1993-09-07 Beltone Electronics Corporation Low noise precision resistor
JPH1126212A (ja) * 1997-07-01 1999-01-29 Alps Electric Co Ltd 回転型電気部品およびこの回転型電気部品の製造方法
JP3503547B2 (ja) * 1999-11-08 2004-03-08 株式会社村田製作所 可変抵抗器
JP2002141210A (ja) * 2000-10-31 2002-05-17 Alps Electric Co Ltd 抵抗体及びそれを用いた可変抵抗器
JP2004288924A (ja) * 2003-03-24 2004-10-14 Alps Electric Co Ltd 可変抵抗器
JP2005150275A (ja) * 2003-11-13 2005-06-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd 回転操作型可変抵抗器
JP2005217207A (ja) * 2004-01-30 2005-08-11 Alps Electric Co Ltd 可変抵抗器
JP4821229B2 (ja) * 2005-09-21 2011-11-24 パナソニック株式会社 回転型可変抵抗器
US7583177B1 (en) * 2008-07-25 2009-09-01 Men-Tech Industrial Co., Ltd. Variable resistor without rotation angle limitation and having regular changes in resistance value
WO2010079692A1 (ja) * 2009-01-08 2010-07-15 アルプス電気株式会社 抵抗基板の製造方法
JP5630768B2 (ja) * 2011-06-20 2014-11-26 アルプス電気株式会社 回転型センサ

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01110704A (ja) * 1987-10-23 1989-04-27 Murata Mfg Co Ltd 可変抵抗器
JPH0488078U (ja) * 1990-12-14 1992-07-30
JP2001185405A (ja) * 1999-12-24 2001-07-06 Teikoku Tsushin Kogyo Co Ltd 抵抗体パターン及びその形成方法
JP2002299108A (ja) * 2001-04-02 2002-10-11 Murata Mfg Co Ltd 可変抵抗器
JP2002299106A (ja) * 2001-04-02 2002-10-11 Murata Mfg Co Ltd 可変抵抗器
JP2003124009A (ja) * 2001-10-18 2003-04-25 Murata Mfg Co Ltd 可変抵抗器
JP2004335543A (ja) * 2003-04-30 2004-11-25 Alps Electric Co Ltd 抵抗基板とその製造方法および抵抗基板用印刷マスク
JP2013161890A (ja) * 2012-02-02 2013-08-19 Alps Electric Co Ltd 抵抗基板およびその製造方法

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