JPWO2016047550A1 - アリールアミジン化合物を含有する農園芸用殺菌剤 - Google Patents

Abstract

式（II）（式（II）中、ＸおよびＺはそれぞれ独立にアルキレン基を示し、Ｙは二価の環状アミン残基を示し、Ｒ1〜Ｒ7はそれぞれ独立に水素原子、アルコキシカルボニル基などを示し、Ｒ8は、ハロゲノ基、アルキル基などを示し、ｎは０〜４のいずれかの整数を示す。）などで表される化合物およびその塩からなる群より選ばれる少なくとも一つを含有する農園芸用殺菌剤。【化１】

Description

本発明は、農園芸用殺菌剤に関する。より詳細に、本発明は、殺菌活性に優れ、安全性に優れ、且つ工業的に有利に合成できるアリールアミジン化合物を含有する農園芸用殺菌剤に関する。
本願は、２０１４年９月２４日に日本に出願された特願２０１４−１９４４５５号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

特許文献１には、二価のピペラジン残基などを有するアリールアミジン化合物が、ヒトおよび動物の真菌性疾患の予防や治療に有効であるとの記載がある。

特開２００５−９７２９９号公報

本発明の目的は、殺菌活性に優れ、安全性に優れ、且つ工業的に有利に合成できるアリールアミジン化合物を有効成分として含有する農園芸用殺菌剤を提供することである。

上記目的を達成するために検討した結果、以下の形態を包含する本発明を完成するに至った。

〔１〕式（I）で表される化合物およびその塩（以下、これらを「アリールアミジン化合物（I）」ということがある。）からなる群より選ばれる少なくともひとつを含有する、農園芸用殺菌剤。

式（I）中、
ＸおよびＺは、それぞれ独立に、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基を示し、
Ｙは、無置換の若しくは置換基を有する二価の環状アミン残基を示し、
Ｗは、

を示し、
Ｒ¹⁰およびＲ¹¹は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、無置換の若しくは置換基を有するアルキル基、無置換のアミノ基、または保護基若しくは置換基を有するアミノ基を示し、
Ｑは、水素原子、または

を示し、
＊は、結合位置を示し、
Ｒ¹〜Ｒ⁷は、それぞれ独立に、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、または無置換の若しくは置換基を有するアミノ基を示し、
Ｒ⁸は、ハロゲノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキル基、無置換の若しくは置換基を有するシクロアルキル基、または無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基を示し、ｎは、Ｒ⁸の置換数を示し且つ０〜４のいずれかの整数を示す。ｎが２以上の場合、各Ｒ⁸は、同一でも相違してもよい。

〔２〕Ｑが

であり、
Ｗが

である、〔１〕に記載の農園芸用殺菌剤。

〔３〕Ｙが

である、〔１〕または〔２〕に記載の農園芸用殺菌剤。

〔４〕式（III）で表される化合物またはその塩（以下、これらを「アリールアミジン化合物（III）」ということがある。）。

式（III）中、
ＸおよびＺは、それぞれ独立に、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基を示し、
Ｇ¹およびＧ²は、それぞれ独立に、ＣＨまたは窒素原子を示す。ただし、Ｇ¹がＣＨのときＧ²は窒素原子を示し、Ｇ¹が窒素原子のときＧ²はＣＨを示す。
ｍは、０または１の整数を示す。
Ｒ¹〜Ｒ⁷は、それぞれ独立に、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、または無置換の若しくは置換基を有するアミノ基を示す。
Ｒ⁸は、ハロゲノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキル基、無置換の若しくは置換基を有するシクロアルキル基、または無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基を示し、ｎは、Ｒ⁸の置換数を示し、かつ、０〜４のいずれかの整数を示す。ｎが２以上の場合、各Ｒ⁸は、同一でも相違してもよい。

〔５〕植物に対して、〔１〕、〔２〕または〔３〕に記載の農園芸用殺菌剤を適用することからなる、植物病害を防除する方法。

本発明の農園芸用殺菌剤は、殺菌活性に優れ、安全性に優れ、特に、リンゴ黒星病、キュウリ灰色かび病、コムギうどんこ病、トマト疫病、コムギ赤さび病などの植物病害の防除価に優れている。本発明の農園芸用殺菌剤の有効成分であるアリールアミジン化合物（I）は、工業的に有利に合成することができる。

本発明の農園芸用殺菌剤は、式（I）で表される化合物およびその塩からなる群より選ばれる少なくとも一つを含有するものである。

式（I）中、
ＸおよびＺは、それぞれ独立に、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基を示し、
Ｙは、無置換の若しくは置換基を有する二価の環状アミン残基を示し、
Ｗは、

を示し、
Ｒ¹⁰およびＲ¹¹は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、無置換の若しくは置換基を有するアルキル基、無置換のアミノ基、または保護基若しくは置換基を有するアミノ基を示し、
Ｑは、水素原子、または

を示し、
＊は、結合位置を示し、
Ｒ¹〜Ｒ⁷は、それぞれ独立に、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、または無置換の若しくは置換基を有するアミノ基を示し、
Ｒ⁸は、ハロゲノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキル基、無置換の若しくは置換基を有するシクロアルキル基、または無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基を示し、ｎは、Ｒ⁸の置換数を示し且つ０〜４のいずれかの整数を示す。ｎが２以上の場合、各Ｒ⁸は、同一でも相違してもよい。

本明細書において使われる「無置換の」の用語は、母核となる基のみであることを意味する。「置換基を有する」との記載がなく母核となる基の名称のみで記載しているときは、別段の断りがない限り「無置換の」の意味である。
一方、「置換基を有する」の用語は、母核となる基のいずれかの水素原子が、母核と同一または異なる構造の基で置換されていることを意味する。従って、「置換基」は、母核となる基に結合した他の基である。置換基は１つであってもよいし、２つ以上であってもよい。２つ以上の置換基は同一であってもよいし、異なるものであってもよい。
「Ｃ１〜６」などの用語は、母核となる基の炭素原子数が１〜６個などであることを表している。この炭素原子数には、置換基の中にある炭素原子の数を含まない。例えば、置換基としてエトキシ基を有するブチル基は、Ｃ２アルコキシＣ４アルキル基に分類する。

「置換基」は化学的に許容され、本発明の効果を有する限りにおいて特に制限されない。以下に「置換基」となり得る基を例示する。
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基などのＣ１〜６アルキル基；
ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基（アリル基）、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−メチル−２−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基などのＣ２〜６アルケニル基；
エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、１−メチル−２−プロピニル基などのＣ２〜６アルキニル基；
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのＣ３〜８シクロアルキル基；
２−シクロペンテニル基、３−シクロヘキセニル基、４−シクロオクテニル基などのＣ４〜８シクロアルケニル基；

フェニル基、ナフチル基などのＣ６〜１０アリール基；
ベンジル基、フェネチル基などのＣ７〜１１アラルキル基；
３〜６員ヘテロシクリル基；
ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基、シクロヘキシルカルボニル基などのＣ１〜７アシル基；

水酸基；
メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などのＣ１〜６アルコキシ基；
ビニルオキシ基、アリルオキシ基、プロペニルオキシ基、ブテニルオキシ基などのＣ２〜６アルケニルオキシ基；
エチニルオキシ基、プロパルギルオキシ基などのＣ２〜６アルキニルオキシ基；
フェノキシ基、ナフトキシ基などのＣ６〜１０アリールオキシ基；
ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基などのＣ７〜１１アラルキルオキシ基；

ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基などのＣ１〜７アシルオキシ基；
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基などのＣ１〜６アルコキシカルボニル基；
メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｎ−プロポキシカルボニルオキシ基、ｉ−プロポキシカルボニルオキシ基、ｎ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ基などのＣ１〜６アルコキシカルボニルオキシ基；
カルボキシル基；

フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、イオド基などのハロゲノ基；
クロロメチル基、クロロエチル基、トリフルオロメチル基、１，２−ジクロロ−ｎ−プロピル基、１−フルオロ−ｎ−ブチル基、パーフルオロ−ｎ−ペンチル基などのＣ１〜６ハロアルキル基；
２−クロロ−１−プロペニル基、２−フルオロ−１−ブテニル基などのＣ２〜６ハロアルケニル基；
４，４−ジクロロ−１−ブチニル基、４−フルオロ−１−ペンチニル基、５−ブロモ−２−ペンチニル基などのＣ２〜６ハロアルキニル基；
４−クロロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基などのＣ６〜１０ハロアリール基；
トリフルオロメトキシ基、２−クロロ−ｎ−プロポキシ基、２，３−ジクロロブトキシ基などのＣ１〜６ハロアルコキシ基；
２−クロロプロペニルオキシ基、３−ブロモブテニルオキシ基などのＣ２〜６ハロアルケニルオキシ基；
４−フルオロフェニルオキシ基、４−クロロ−１−ナフトキシ基などのＣ６〜１０ハロアリールオキシ基；
クロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、トリクロロアセチル基、４−クロロベンゾイル基などのＣ１〜７ハロアシル基；

アミノ基（ＮＨ₂で表される基）；
メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基などのＣ１〜６アルキル置換アミノ基；
アニリノ基、ナフチルアミノ基などのＣ６〜１０アリールアミノ基；
ベンジルアミノ基、フェネチルアミノ基などのＣ７〜１１アラルキルアミノ基；
ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、ブチリルアミノ基、ｉ−プロピルカルボニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などのＣ１〜７アシルアミノ基；
メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｎ−プロポキシカルボニルアミノ基、ｉ−プロポキシカルボニルアミノ基などのＣ１〜６アルコキシカルボニルアミノ基；
アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、Ｎ−フェニル−Ｎ−メチルアミノカルボニル基などの無置換の若しくは置換基を有するアミノカルボニル基；
イミノメチル基、（１−イミノ）エチル基、（１−イミノ）−ｎ−プロピル基などのイミノＣ１〜６アルキル基；
Ｎ−ヒドロキシ−イミノメチル基、（１−（Ｎ−ヒドロキシ）−イミノ）エチル基、（１−（Ｎ−ヒドロキシ）−イミノ）プロピル基、Ｎ−メトキシ−イミノメチル基、（１−（Ｎ−メトキシ）−イミノ）エチル基などの無置換の若しくは置換基を有するＮ−ヒドロキシイミノＣ１〜６アルキル基；

メルカプト基；
メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｉ−ブチルチオ基、ｓ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基などのＣ１〜６アルキルチオ基；
フェニルチオ基、ナフチルチオ基などのＣ６〜１０アリールチオ基；
チアゾリルチオ基、ピリジルチオ基などのヘテロアリールチオ基；
ベンジルチオ基、フェネチルチオ基などのＣ７〜１１アラルキルチオ基；
メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ｔ−ブチルスルフィニル基などのＣ１〜６アルキルスルフィニル基；
フェニルスルフィニル基などのＣ６〜１０アリールスルフィニル基；
チアゾリルスルフィニル基、ピリジルスルフィニル基などのヘテロアリールスルフィニル基；
ベンジルスルフィニル基、フェネチルスルフィニル基などのＣ７〜１１アラルキルスルフィニル基；
メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｔ−ブチルスルホニル基などのＣ１〜６アルキルスルホニル基；
フェニルスルホニル基などのＣ６〜１０アリールスルホニル基；
チアゾリルスルホニル基、ピリジルスルホニル基などのヘテロアリールスルホニル基；
ベンジルスルホニル基、フェネチルスルホニル基などのＣ７〜１１アラルキルスルホニル基；
アミノカルボニルオキシ基；
エチルアミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基などのＣ１〜６アルキル置換アミノカルボニルオキシ基；

トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基などのトリＣ１〜６アルキル置換シリル基；
トリフェニルシリル基などのトリアリール置換シリル基；
シアノ基；ニトロ基；オキソ基；
また、これらの「置換基」は、当該置換基中のいずれかの水素原子が、異なる構造の基で置換されていてもよい。

また、上記の「３〜６員ヘテロシクリル基」とは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を環の構成原子として含むものである。ヘテロシクリル基は、単環および多環のいずれであってもよい。多環ヘテロシクリル基は、少なくとも一つの環がヘテロ環であれば、残りの環が飽和脂環、不飽和脂環または芳香環のいずれであってもよい。「３〜６員ヘテロシクリル基」としては、３〜６員飽和ヘテロシクリル基、５〜６員ヘテロアリール基、５〜６員部分不飽和ヘテロシクリル基などを挙げることができる。

３〜６員飽和ヘテロシクリル基としては、アジリジニル基、エポキシ基、ピロリジニル基、テトラヒドロフラニル基、チアゾリジニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基などを挙げることができる。

５員ヘテロアリール基としては、ピロリル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、テトラゾリル基などを挙げることができる。
６員ヘテロアリール基としては、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダニジル基、トリアジニル基などを挙げることができる。

式（I）中のＸおよびＺは、それぞれ独立に、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基を示す。
「アルキレン基」としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基（別名：トリメチレン基）、プロパン−１，２−ジイル基（別名：プロピレン基）、ブタン−１，４−ジイル基、ブタン−１，３−ジイル基、ブタン−１，２−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基、ヘプタン−１，７−ジイル基、オクタン−１，８−ジイル基などを挙げることができる。アルキレン基は炭素原子数が１〜１２個のものが好ましく、３〜８個のものがより好ましい。

「アルキレン基」上の置換基としては、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ６〜１０アリール基、ヒドロキシル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ６〜１０アリールオキシ基、カルボキシル基、ハロゲノ基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ６〜１０ハロアリール基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、アミノ基（ＮＨ₂で表される基）、Ｃ１〜６アルキル置換アミノ基、Ｃ６〜１０アリールアミノ基、Ｃ１〜７アシルアミノ基、Ｃ１〜６アルキルチオ基、Ｃ６〜１０アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、Ｃ１〜６アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜６アルキルスルホニル基、Ｃ６〜１０アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、シアノ基、オキソ基などが好ましい。

式（I）中のＹは、無置換の若しくは置換基を有する二価の環状アミン残基を示す。
「二価の環状アミン残基」は、環状アミン中の水素原子２個が抜けて形成される基である。環状アミンの具体例としては、アジリジン、アゼチジン、２−ピロリン、３−ピロリン、ピロリジン、インドリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、キヌクリジン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、イミダゾリン、イミダゾリジンなどを挙げることができる。これらのうち、ピペラジン、ピロリジン、ピペリジンが好ましい。二価のピペラジン残基としては、下記（１）で表す構造が好ましい。二価のピペリジン残基としては、下記（２）で表す構造が好ましい。二価のピロリジン残基としては、下記（３）で表す構造が好ましい。

「二価の環状アミン残基」上の置換基としては、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ６〜１０アリール基、ヒドロキシル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ６〜１０アリールオキシ基、カルボキシル基、ハロゲノ基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ６〜１０ハロアリール基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、アミノ基（ＮＨ₂で表される基）、Ｃ１〜６アルキル置換アミノ基、Ｃ６〜１０アリールアミノ基、Ｃ１〜７アシルアミノ基、Ｃ１〜６アルキルチオ基、Ｃ６〜１０アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、Ｃ１〜６アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜６アルキルスルホニル基、Ｃ６〜１０アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、シアノ基、オキソ基などが好ましい。

Ｙは、式（IV）で表される構造のものがより好ましい。

式（IV）中、Ｇ¹およびＧ²は、それぞれ独立に、ＣＨまたは窒素原子を示す。ただし、Ｇ¹がＣＨのときＧ²は窒素原子を示し、Ｇ¹が窒素原子のときＧ²はＣＨを示す。ｍは、０または１の整数を示し、好ましくは１である。＊は、ＸまたはＺとの結合位置を示す。

式（I）中のＷは、

を示す。
Ｒ¹⁰およびＲ¹¹は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、無置換の若しくは置換基を有するアルキル基、無置換のアミノ基、または保護基若しくは置換基を有するアミノ基を示す。＊は、結合位置を示す。Ｒ⁵は、後述するとおりのものである。これらのうち、Ｗは、

が好ましい。

「アルキル基」は、直鎖であってもよいし、炭素数が３以上であれば分岐鎖であってもよい。アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｉ−ペンチル基、ネオペンチル基、２−メチルブチル基、２，２−ジメチルプロピル基、ｉ−ヘキシル基などのＣ１〜６アルキル基が挙げられる。

「置換基を有するアルキル基」の具体例としては、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ジフルオロメチル基、ジクロロメチル基、ジブロモメチル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチル基、１−クロロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、ペンタフルオロエチル基、４−フルオロブチル基、４−クロロブチル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，２−トリフルオロ−１−トリフルオロメチルエチル基、パーフロロヘキシル基、パークロロヘキシル基、２，４，６−トリクロロヘキシル基などのハロＣ１〜６アルキル基；メトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシ−ｎ−プロピル基、ｎ−プロポキシメチル基、ｉ−プロポキシエチル基、ｓ−ブトキシメチル基、ｔ−ブトキシエチル基などのＣ１〜６アルコキシＣ１〜６アルキル基；ベンジル基、フェネチル基などのＣ６〜１０アリールＣ１〜６アルキル基；シクロプロピルメチル基、２−シクロプロピルエチル基、シクロペンチルメチル基、２−シクロヘキシルエチル基、２−シクロオクチルエチル基などのＣ３〜８シクロアルキルＣ１〜６アルキル基； などが挙げられる。

「置換基を有するアミノ基」としては、メチルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基などのＣ１〜６アルキルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基などのジＣ１〜６アルキルアミノ基等が挙げられる。
アミノ基に有してもよい保護基は、アミノ基に反応しやすい化合物が、アミノ基と反応するのを阻害して他の官能基と反応するようにするために、アミノ基に導入される基である。該保護基は、他の官能基との反応が完了した後に、脱離（脱保護）させやすいものであることが好ましい。該保護基としては、ｔ−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基などのカルバメート系保護基；トリフルオロアセチル基などのアミド系保護基；フタロイル基などのイミド系保護基；ｐ−トルエンスルホニル基、２−ニトロベンゼンスルホニル基などのスルホンアミド系保護基などが挙げられる。

式（I）中のＱは、水素原子または

を示す。Ｒ⁶およびＲ⁷は後述するとおりのものである。＊は、結合位置を示す。

式（I）中のＲ¹〜Ｒ⁷は、それぞれ独立に、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、または無置換の若しくは置換基を有するアミノ基を示す。これらの中でも、Ｒ¹〜Ｒ⁷は、それぞれ独立に、水素原子、又は、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基であることが好ましい。

無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基は、炭化水素化合物中の水素原子１個が抜けて形成される基である。炭化水素化合物としては、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンなどの飽和炭化水素化合物、エチレン、アセチレン、プロピレンなどの不飽和炭化水素化合物、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘキセンなどの脂環式炭化水素化合物、ベンゼン、ナフタレンなどの芳香族炭化水素化合物などを挙げることができる。

無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基は、窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を環の構成原子として含む複素環式化合物中の水素原子１個が抜けて形成される基であり、３〜６員ヘテロシクリル基であることが好ましい。ヘテロシクリル基としては、アジリジニル基、エポキシ基、ピロリジニル基、テトラヒドロフラニル基、チアゾリジニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基；ピロリル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、テトラゾリル基；ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダニジル基、トリアジニル基などを挙げることができる。

無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などのＣ１〜６アルコキシ基を挙げることができる。

無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｓ−ブトキシカルボニル基、ｉ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基などのＣ１〜６アルコキシカルボニル基を挙げることができる。

無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基としては、フェノキシ基、ナフトキシ基などのＣ６〜１０アリールオキシ基を挙げることができる。

無置換の若しくは置換基を有するアミノ基としては、アミノ基（ＮＨ₂で表される基）、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基などのＣ１〜６アルキル置換アミノ基；アニリノ基、ナフチルアミノ基などのＣ６〜１０アリールアミノ基；ベンジルアミノ基、フェネチルアミノ基などのＣ７〜１１アラルキルアミノ基；ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、ブチリルアミノ基、ｉ−プロピルカルボニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などのＣ１〜７アシルアミノ基；メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｎ−プロポキシカルボニルアミノ基、ｉ−プロポキシカルボニルアミノ基などのＣ１〜６アルコキシカルボニルアミノ基などを挙げることができる。

式（I）中のＲ⁸は、ハロゲノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキル基、無置換の若しくは置換基を有するシクロアルキル基、または無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基を示す。ｎは、Ｒ⁸の置換数を示し且つ０〜４のいずれかの整数を示し、好ましくは０を示す。ｎが２以上の場合、各Ｒ⁸は、同一でも相違してもよい。

無置換の若しくは置換基を有するアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基などのＣ１〜６アルキル基を挙げることができる。

無置換の若しくは置換基を有するシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等のＣ３〜８シクロアルキル基を挙げることができる。

無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などのＣ１〜６アルコキシ基を挙げることができる。

本発明に用いられるアリールアミジン化合物（I）は、殺菌効果などの観点から、好ましくは式（II）で表される化合物またはその塩、より好ましくは式（III）で表される化合物またはその塩である。

式（II）中、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ¹〜Ｒ⁷、Ｒ⁸およびｎは、前述したとおりのものである。

式（III）中、Ｘ、Ｚ、Ｇ¹、Ｇ²、ｍ、Ｒ¹〜Ｒ^７、Ｒ⁸およびｎは、前述したとおのものである。

本発明に用いられるアリールアミジン化合物（I）には、水和物、各種溶媒和物や結晶多形などが含まれる。さらに、本発明に係るアリールアミジン化合物（I）は、不斉炭素原子、二重結合などに基づく立体異性体およびそれらの混合物を包含する。
本発明に用いられる式（I）で表される化合物の塩は、農園芸学的に許容される塩であれば、特に制限されない。例えば、塩酸、硫酸などの無機酸の塩；酢酸、乳酸などの有機酸の塩；リチウム、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属の塩；カルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土類金属の塩；鉄、銅などの遷移金属の塩；トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジンなどの有機塩基の塩；アンモニア、ヒドラジンなどの無機塩基の塩などを挙げることができる式（I）で表される化合物の塩は、公知の手法によって得ることができる。

本発明に用いられるアリールアミジン化合物（I）は、その製造方法によって特に限定されない。本発明に用いられるアリールアミジン化合物（I）は、例えば、特許文献１に記載されている公知の方法や、他の公知の方法を組み合わせることにより合成することができる。

本発明に用いられるアリールアミジン化合物（I）は、例えば、次のような合成方法によって得ることができる。

〔合成方法１〕
化合物（１）と化合物（２）の脱離基Ｌを反応させて化合物（３）を得ることができる。化合物（３）の脱離基Ｌとピペラジン（４）を反応させて、化合物（７）を得ることができる。グアニジン化合物（４）とアルコール（５）を光延反応させて得られる化合物（６）と、前記化合物（７）を反応させることで化合物（８）を得ることができる。化合物（８）の保護基を脱保護することで、本発明に係るアリールアミジン化合物（II−１）を得ることができる。

式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁸、ｎ、ＸおよびＺは、前述のとおりのものである。Ｌは脱離基を示し、Ｐ¹、Ｐ²およびＰ³は、それぞれ独立に、水素原子または保護基を示す。ただし、Ｐ¹、Ｐ²およびＰ³のうち1つ以上は保護基である。

〔合成方法２〕
ハロピリジン化合物（９）と化合物（１０）を薗頭カップリングし、化合物（１１）を得ることができる。化合物（１１）の三重結合とピリジン環を還元し、ピペリジン化合物（１２）を得ることができる。アミノ基を保護基Ｐ⁴で保護して化合物（１３）とした後、化合物（１３）の水酸基を脱離基Ｌへと変換して化合物（１４）を得ることができる。化合物（１４）と、グアニジン化合物（１５）を反応させて化合物（１６）を得た後、保護基Ｐ⁴を脱保護して生じた２級アミンと前記化合物（３）をカップリングして、化合物（１７）を得ることができる。化合物（１７）の保護基Ｐ⁵，Ｐ⁶を脱保護することにより、本発明に係るアリールアミジン化合物（III−２）を得ることができる。

式中、Ｚ、Ｘ、Ｒ⁸、ｎ、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³は、前述したとおりのものである。Ｌは脱離基を示し、Ｐ⁴、Ｐ⁵およびＰ⁶は、保護基を示し、Ｈａｌはハロゲン原子を示し、Ｚ¹は、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基を示す。（１２）と（１３）との対比からも明らかなとおり、Ｚは、Ｚ¹の末端にジメチレン基が繋がった構造のアルキレン基である。

合成反応終了後は、有機合成化学における通常の後処理操作、および、必要により従来公知の分離精製手段を施すことによって、目的物を効率よく単離することができる。
目的物の構造は、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、マススペクトルの測定や、元素分析などにより、同定・確認することができる。

本発明の農園芸用殺菌剤に含有されるアリールアミジン化合物（I）の量は、農園芸用殺菌剤の総重量に対して、好ましくは０．０１〜９０重量％、より好ましくは０．０５〜８５重量％である。

本発明の農園芸用殺菌剤は、農薬としてとり得る形態、即ち、水和剤、粒剤、粉剤、乳剤、水溶剤、懸濁剤、顆粒水和剤などの農薬製剤の形態で使用することができる。
固体の製剤に用いられる添加剤および担体としては、大豆粉、小麦粉などの植物性粉末、珪藻土、燐灰石、石こう、タルク、ベントナイト、パイロフィライト、クレーなどの鉱物性微粉末、安息香酸ソーダ、尿素、芒硝などの有機および無機化合物などを挙げることができる。
液体の製剤に用いられる溶剤としては、ケロシン、キシレンおよび石油系の芳香族炭化水素、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アルコール、アセトン、トリクロロエチレン、メチルイソブチルケトン、鉱物油、植物油、水などを挙げることができる。

さらに、これらの製剤において均一かつ安定な形態をとるために、必要に応じ界面活性剤を添加することができる。
添加することができる界面活性剤は特に限定されない。例えば、ポリオキシエチレンが付加したアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンが付加したアルキルエーテル、ポリオキシエチレンが付加した高級脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンが付加したソルビタン高級脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンが付加したトリスチリルフェニルエーテルなどの非イオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンが付加したアルキルフェニルエーテルの硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、高級アルコールの硫酸エステル塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ポリカルボン酸塩、リグニンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩のホルムアルデヒド縮合物、イソブチレン−無水マレイン酸共重合体などを挙げることができる。

このようにして得られる、水和剤、乳剤、フロアブル剤、水溶剤、若しくは顆粒水和剤は水で所定の濃度に希釈して、溶解液、懸濁液あるいは乳濁液として植物に散布する方法で使用される。また、粉剤・粒剤はそのまま植物に散布する方法で使用される。

本発明の農園芸用殺菌剤は、花卉、芝、牧草を含む農園芸作物の栽培に際し発生する種々の植物病害の防除のために、植物に対して有効量適用することができる。
本発明の農園芸用殺菌剤は、種子処理、茎葉散布、土壌施用または水面施用などにより使用することができる。

本発明の農園芸用殺菌剤の施用量は、気象条件、製剤形態、施用時期、施用方法、施用場所、防除対象病害、対象作物などにより異なるが、通常１ヘクタール当たり有効成分量にして好ましくは１〜１，０００ｇ、より好ましくは１０〜１００ｇである。
水和剤、乳剤、懸濁剤、水溶剤、顆粒水和剤などを水で希釈して施用する場合、その施用濃度は好ましくは１〜１，０００ｐｐｍ、より好ましくは１０〜５００ｐｐｍ、より更に好ましくは１０〜２５０ｐｐｍである。

本発明の農園芸用殺菌剤は、広範囲の種類の糸状菌、例えば、藻菌類（Oomycetes）、子のう（嚢）菌類（Ascomycetes），不完全菌類（Deuteromycetes）、担子菌類（Basidiomycetes）、接合菌類（Zygomycetes）に属する菌に由来する植物病害の防除に使用できる。

防除の対象となる植物病害と病原菌の例を以下に示す。
テンサイ：褐斑病（Cercospora beticola）、黒根病（Aphanomyces cochlloides）、根腐病（Thanatephorus cucumeris）、葉腐病（Thanatephorus cucumeris）など
ラッカセイ：褐斑病（Mycosphaerella arachidis）、汚斑病（Ascochyta sp.）、さび病（Puccinia arachidis）、立枯病（Pythium debaryanum）、さび斑病（Alternaria alternata）、白絹病（Sclerotium rolfsii）黒渋病（Mycosphaerella berkeleyi）など
キュウリ：うどんこ病（Sphaerotheca fuliginea）、べと病（Pseudoperonospora cubensis）、つる枯病（Mycosphaerella melonis）、つる割病（Fusarium oxysporum）、菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）、灰色かび病（Botrytis cinerea）、炭そ病（Colletotrichum orbiculare）、黒星病（Cladosporium cucumerinum）、褐斑病（Corynespora cassicola）、苗立枯病（Pythium debaryanam、Rhizoctonia solani Kuhn）、ホモプシス根腐病（Phomopsis sp.）斑点細菌病（Pseudomonas syringae pv. Lecrymans）など
トマト：灰色かび病（Botrytis cinerea）、葉かび病（Cladosporium fulvum）、疫病（Phytophthora infestans）、半身萎凋病（Verticillium albo-atrum）、うどんこ病（Oidium neolycopersici）、輪紋病（Alternaria solani）、すすかび病（Pseudocercospora fuligena）など
ナス：灰色かび病（Botrytis cinerea）、黒枯病（Corynespora melongenae）、うどんこ病（Erysiphe cichoracearum）、すすかび病（Mycovellosiella nattrassii）、菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）など
イチゴ：灰色かび病（Botrytis cinerea）、うどんこ病（Sohaerotheca humuli）、炭そ病（Colletotrichum acutatum、Colletotrichum fragariae）、疫病（Phytophthora cactorum）、軟腐病（Rhizopus stolonifer）、萎黄病（Fusarium oxysporum）など
タマネギ：灰色腐敗病（Botrytis allii）、灰色かび病（Botrytis cinerea）、白斑葉枯病（Botrytis squamosa）、べと病（Peronospora destructor）、白色疫病（Phytophthora porri）など
キャベツ：根こぶ病（Plasmodiophora brassicae）、軟腐病（Erwinia carotovora）、黒腐病（Xanthomonas campesrtis pv. campestris）、黒斑細菌病（Pseudomonas syringae pv. maculicala、Pseudomonas syringae pv. alisalensis）、べと病（Peronospora parasitica）、菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）、黒すす病（Alternaria brassicicola）、灰色かび病（Botrytis cinerea）など
インゲン：菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）、灰色かび病（Botrytis cinerea）、炭疽病（Colletotrichum lindemuthianum）、角斑病（Phaeoisariopsis griseola）など

リンゴ：うどんこ病（Podosphaera leucotricha）、黒星病（Venturia inaequalis）、モニリア病（Monilinia mali）、黒点病（Mycosphaerella pomi）、腐らん病（Valsa mali）、斑点落葉病（Alternaria mali）、赤星病（Gymnosporangium yamadae）、輪紋病（Botryosphaeria berengeriana）、炭そ病（Glomerella cingulata、Colletotrichum acutatum）、褐斑病（Diplocarpon mali）、すす点病（Zygophiala jamaicensis）、すす斑病（Gloeodes pomigena）、紫紋羽病（Helicobasidium mompa）、灰色かび病（Botrytis cinerea）など
ウメ：黒星病（Cladosporium carpophilum）、灰色かび病（Botrytis cinerea）、灰星病（Monilinia mumecola）など
カキ：うどんこ病（Phyllactinia kakicola）、炭そ病（Gloeosporium kaki）、角斑落葉病（Cercospora kaki）など
モモ：灰星病（Monilinia fructicola）、黒星病（Cladosporium carpophilum）、ホモプシス腐敗病（Phomopsis sp.）、穿孔細菌病（Xanthomonas campestris pv. pruni）など
アーモンド：灰星病（Monilinia laxa）、斑点病（Stigmina carpophila）、黒星病（Cladosporium carpophilum）、葉ぶくれ病（Polystigma rubrum）、斑点落葉病（Alternaria alternata）、炭疽病（Colletotrichum gloeospoides）など
オウトウ：灰星病（Monilinia fructicola）、炭そ病（Colletotrichum acutatum）、黒斑病（Alternaria sp.）、幼果菌核病（Monilinia kusanoi）など
ブドウ：灰色かび病（Botrytis cinerea）、うどんこ病（Uncinula necator）、晩腐病（Glomerella cingulata、Colletotrichum acutatum）、べと病（Plasmopara viticola）、黒とう病（Elsinoe ampelina）、褐斑病（Pseudocercospora vitis）、黒腐病（Guignardia bidwellii）、白腐病（Coniella castaneicola）など
ナシ：黒星病（Venturia nashicola）、赤星病（Gymnosporangium asiaticum）、黒斑病（Alternaria kikuchiana）、輪紋病（Botryosphaeria berengeriana）、うどんこ病（Phyllactinia mali）、胴枯病（Phomopsis fukushii）、褐色斑点病（Stemphylium vesicarium）、炭そ病（Glomerella cingulata）など
チャ：輪斑病（Pestalotia theae）、炭そ病（Colletotrichum theae-sinensis）など
カンキツ：そうか病（Elsinoe fawcetti）、青かび病（Penicillium italicum）、緑かび病（Penicillium digitatum）、灰色かび病（Botrytis cinerea）、黒点病（Diaporthe citri）、かいよう病（Xanthomonas campestris pv.Citri）、うどんこ病（Oidium sp.）など

コムギ：うどんこ病（Erysiphe graminis f.sｐ.Tritici）、赤かび病（Gibberella zeae）、赤さび病（Puccinia recondita）、褐色雪腐病（Pythium iwayamai）、紅色雪腐病（Monographella nivalis）、眼紋病（Pseudocercosporella herpotrichoides）、葉枯病（Septoria tritici）、ふ枯病（Leptosphaeria nodorum）、雪腐小粒菌核病（Typhula incarnata）、雪腐大粒菌核病（Myriosclerotinia borealis）、立枯病（Gaeumanomyces graminis）、麦角病（Claviceps purpurea）、なまぐさ黒穂病（Tilletia caries）、裸黒穂病（Ustilago nuda）など
オオムギ：斑葉病（Pyrenophora graminea）、網斑病（Pyrenophora teres）、雲形病（Rhynchosporium secalis）、裸黒穂病（Ustilago tritici、U.nuda）など
イネ：いもち病（Pyricularia oryzae）、紋枯病（Rhizoctonia solani）、馬鹿苗病（Gibberella fujikuroi）、ごま葉枯病（Cochliobolus miyabeanus）、苗立枯病（Pythium graminicolum）、白葉枯病（Xanthomonas oryzae）、苗立枯細菌病（Burkholderia plantarii）、褐条病（Acidovorax avenae）、もみ枯細菌病（Burkholderia glumae）、すじ葉枯病（Cercospora oryzae）、稲こうじ病（Ustilaginoidea virens）、褐色米（Alternaria alternata、Curvularia intermedia）、腹黒米（Alternaria padwickii）、紅変米（Epicoccam purpurascenns）など
タバコ：菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）、うどんこ病（Erysiphe cichoracearum）、疫病（Phytophthora nicotianae）、など
チューリップ：灰色かび病（Botrytis cinerea）など
ヒマワリ：べと病（Plasmopara halstedii）、菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）など
ベントグラス：雪腐大粒菌核病（Sclerotinia borealis）、ラージパッチ（Rhizoctonia solani）、ダラースポット（Sclerotinia homoeocarpa）、いもち病（Pyricularia sp.）、赤焼病（Pythium aphanidermatum）、炭そ病(Colletotrichum graminicola)など
オーチャードグラス：うどんこ病（Erysiphe graminis）など
ダイズ：紫斑病（Cercospora kikuchii）、べと病（Peronospora manshurica）、茎疫病（Phytophthora sojae）、さび病（Phakopsora pachyrhizi）、菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）、炭そ病（Colletotrichum truncatum）、灰色かび病（Botrytis cinerea）など
ジャガイモ：疫病（Phytophthora infestans）、夏疫病（Aleternaria solani）、黒あざ病（Thanatephorus cucumeris）など
バナナ：パナマ病（Fusarium oxysporum）、シガトカ病（Mycosphaerella fijiensis、Mycosphaerella musicola）など
ナタネ：菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）、根朽病（Phoma lingam）、黒斑病（Alternaria brassicae）など
コーヒー：さび病（Hemileia vastatrix）、炭疽病（Colletotrichum coffeanum）、褐眼病（Cercospora coffeicola）など
サトウキビ：褐さび病（Puccinia melanocephala）など
トウモロコシ：ひょう紋病（Gloecercospora sorghi）、さび病（Puccinia sorghi）、南方さび病（Puccinia polysora）、黒穂病（Ustilago maydis）、ごま葉枯病（Cochliobolus heterostrophus）、すす紋病（Setophaeria turcica）など
ワタ：苗立枯病（Pythium sp）、さび病（Phakopsora gossypii）、白かび病（Mycosphaerella areola）、炭疽病（Glomerella gossypii）など
本発明の農園芸用殺菌剤は薬害が少なく、魚類や温血動物への毒性が低く、安全性の高い薬剤である。

本発明の農園芸用殺菌剤は、殺菌、殺虫・殺ダニ、殺線虫、殺土壌害虫などの効果を有する他の農園芸用薬剤；植物生長調節剤、共力剤、肥料、土壌改良剤、動物用飼料などと混用または併用してもよい。
以下にその一例を示す。

殺菌剤：
（１）核酸生合成阻害剤：
（ａ）RNAポリメラーゼＩ阻害剤： ベナラキシル、ベナラキシル-M、フララキシル、メタラキシル、メタラキシル-M；オキサジキシル；クロジラコン、オフレース；
（ｂ）アデノシンデアミナーゼ阻害剤： ブピリメート、ジメチリモール、エチリモール；
（ｃ）DNA/RNA合成阻害剤： ハイメキサゾール、オクチリノン；
（ｄ）DNAトポイソメラーゼII阻害剤： オキソリン酸；

（２）有糸核分裂阻害剤および細胞分裂阻害剤：
（ａ）β−チューブリン重合阻害剤： ベノミル、カルベンダジム、クロルフェナゾール、フベリダゾール、チアベンダゾール；チオファネート、チオファネートメチル（thiophanate-methyl）；ジエトフェンカルブ；ゾキサミド；エタボキサム；
（ｂ）細胞分裂阻害剤： ペンシクロン；
（ｃ）スペクトリン様タンパク質の非局在化阻害剤： フルオピコリド；

（３）呼吸阻害剤：
（ａ）複合体I NADH酸化還元酵素阻害剤： ジフルメトリム；トルフェンピラド；
（ｂ）複合体IIコハク酸脱水素酵素阻害剤： ベノダニル、フルトラニル、メプロニル；イソフェタミド；フルオピラム；フェンフラム、フルメシクロックス；カルボキシン、オキシカルボキシン；チフルザミド；ベンゾビンジフルピル、ビキサフェン、フルキサピロキサド、フラメトピル、イソピラザム、ペンフルフェン、ペンチオピラド、セダキサン；ボスカリド；
（ｃ）複合体IIIユビキノールオキシダーゼQo阻害剤： アゾキシストロビン、クモキシストロビン、クメトキシストロビン、エノキサストロビン、フルフェノキシストロビン、ピクオキシストロビン、ピラオキシストロビン；ピラクロストロビン、ピラメトストロビン、トリクロピリカルブ；クレソキシム-メチル、トリフロキシストロビン；ジモキシストロビン、フェナミンストロビン、メトミノストロビン、オリサストロビン；ファモキサドン；フルオキサストロビン；フェンアミドン；ピリベンカルブ；
（ｄ）複合体IIIユビキノール還元酵素Qi阻害剤： シアゾファミド；アミスルブロム；
（ｅ）酸化的リン酸化の脱共役剤： ビナパクリル、メプチルジノカップ、ジノカップ；フルアジナム；フェリムゾン；
（ｆ）酸化的リン酸化阻害剤（ATP 合成酵素の阻害剤）： フェンチンアセテート、塩化フェンチン、水酸化フェンチン；
（ｇ）ATP生産阻害剤： シルチオファム；
（ｈ）複合体III：チロクロームbc1(ユビキノン還元酵素)のQx(未知)阻害剤： アメトクトラジン；

（４）アミノ酸およびタンパク質合成阻害剤
（ａ）メチオニン生合成阻害剤： アンドプリム、シプロジニル、メパニピリム、ピリメタニル；
（ｂ）タンパク質合成阻害剤： ブラストサイジン-Ｓ；カスガマイシン、カスガマイシン塩酸塩；ストレプトマイシン；オキシテトラサイクリン；

（５）シグナル伝達阻害剤：
（ａ）シグナル伝達阻害剤： キノキシフェン、プロキナジド；
（ｂ）浸透圧シグナル伝達におけるMAP・ヒスチジンキナーゼ阻害剤： フェンピクロニル、フルジオキソニル；クロゾリメート、イプロジオン、プロシミドン、ビンクロゾリン；

（６）脂質および細胞膜合成阻害剤：
（ａ）りん脂質生合成、メチルトランス-フェラーゼ阻害剤： エジフェンホス、イプロベンホス、ピラゾホス；イソプロチオラン；
（ｂ）脂質の過酸化剤： ビフェニル、クロロネブ、ジクロラン、キンドゼン、テクナゼン、トルクロホスメチル；エトリジアゾール；
（ｃ）細胞膜に作用する剤： ヨードカルブ、プロパモカルブ、プロパモカルブ塩酸塩、プロパモカルブホセチレート、プロチオカルブ；
（ｄ）病原菌細胞膜を撹乱する微生物： バチルスズブチリス菌、バチルス ズブチリスQST713 株、バチルス ズブチリスFZB24 株、バチルス ズブチリスMBI600 株、バチルス ズブチリスD747株；
（ｅ）細胞膜を撹乱する剤： ゴセイカユプテ(ティーツリー)の抽出物；

（７）細胞膜のステロール生合成阻害剤：
（ａ）ステロール生合成におけるC14位の脱メチル化阻害剤： トリホリン；ピリフェノックス、ピリイソキサゾール；フェナリモル、フルルプリミドール、ヌアリモル；イマザリル、イマザリル硫酸塩、オキスポコナゾール、ペフラゾエート、プロクロラズ、トリフルミゾール、ビニコナゾール；
アザコナゾール、ビテルタノール、ブロムコナゾール、シプロコナゾール、ジクロブトラゾール、ジフェノコナゾール、ジニコナゾール、ジニコナゾール-M、エポキシコナゾール、エタコナゾール、フェンブコナゾール、フルキンコナゾール、フルシラゾール、フルトリアホール）、フルコナゾール、フルコナゾール−シス、ヘキサコナゾール、イミベンコナゾール、イプコナゾール、メトコナゾール、ミクロブタニル、ペンコナゾール、プロピコナゾール、キンコナゾール、シメコナゾール、テブコナゾール、テトラコナゾール、トリアジメホン、トリアジメノール、トリチコナゾール；プロチオコナゾール、ボリコナゾール；
（ｂ）ステロール生合成におけるΔ14還元酵素およびΔ8→Δ7−イソメラーゼの阻害剤：
アルジモルフ、ドデモルフ、ドデモルフ酢酸塩、フェンプロピモルフ、トリデモルフ；フェンプロピジン、ピペラリン；スピロキサミン；
（ｃ）ステロール生合成系のC4位脱メチル化における3-ケト還元酵素阻害剤： フェンヘキサミド；フェンピラザミン；
（ｄ）ステロール生合成系のスクワレンエポキシダーゼ阻害剤： ピリブチカルブ；ナフチフェン、テルビナフィン；

（８）細胞壁合成阻害
（ａ）トレハラーゼ阻害剤： バリダマイシン；
（ｂ）キチン合成酵素阻害剤： ポリオキシン、ポリオクソリム；
（ｃ）セルロース合成酵素阻害剤： ジメトモルフ、フルモルフ、ピリモルフ；ベンチアバリカルブ、イプロバリカルブ、トルプロカルブ、バリフェナレート；マンジプロパミド；

（９）メラニン生合成阻害剤
（ａ）メラニン生合成の還元酵素阻害剤： フサライド；ピロキロン；トリシクラゾール；
（ｂ）メラニン生合成の脱水酵素阻害剤： カルプロパミド；ジクロシメット；フェノキサニル；

（１０）宿主植物の抵抗性誘導剤：
（ａ）サリチル酸合成経路に作用する剤： アシベンゾラル-S-メチル；
（ｂ）その他： プロベナゾール；チアジニル；イソチアニル；ラミナリン；オオイタドリ抽出液；

（１１）作用性が不明な剤： シモキサニル、ホセチルアルミニウム、リン酸（リン酸塩）、テクロフタラム、トリアゾキシド、フルスルファミド、ジクロメジン、メタスルホカルブ、シフルフェナミド、メトラフェノン、ピリオフェノン、ドジン、ドジン遊離塩基、フルチアニル；

（１２）多作用点を有する剤： 銅（銅塩）、ボルドー液、水酸化銅、銅ナフタレート、酸化銅、オキシ塩化銅、硫酸銅、硫黄、硫黄製品、多硫化カルシウム；ファーバム、マンコゼブ、マネブ、マンカッパー、メチラム、ポリカーバメート、プロピネブ、チラム、ジネブ、ジラム；キャプタン、カプタホール、フォルペット；クロロタロニル；ジクロフルアニド、トリルフルアニド；グアザチン、イミノクタジン酢酸塩、イミノクタジンアルベシル酸塩；アニラジン；ジチアノン；キノメチオネート；フルオルイミド；

（１３）その他の剤： DBEDC、フルオロフォルペット、グアザチンアセテート、ビス（8-キノリノラト）銅（II）、プロパミジン、クロロピクリン、シプロフラム、アグロバクテリウム、ベトキサジン、ジフェニルアミン、メチルイソチアネート（MITC）、ミルデオマイシン、カプサイシン、クフラネブ、シプロスルファミド、ダゾメット、デバカルブ、ジクロロフェン、ジフェンゾクワット、ジフェンゾクワットメチルスルホネート、フルメトベル、ホセチルカルシウム、ホセチルナトリウム、イルママイシン、ナタマイシン、ニトロタールイソプロピル、オキサモカルブ、プロパモシンナトリウム、ピロールニトリン、テブフロキン、トルニファニド、ザリラミド、アルゴフェーズ（Algophase）、アミカルチアゾール（Amicarthiazol）、オキサチアピプロリン（Oxathiapiprolin）、メチラム亜鉛、ベンチアゾール、トリクラミド、ユニコナゾール、ミルデオマイシン、オキシフェンチイン（Oxyfenthiin）、ピカルブトラゾクス（picarbutrazox）；

殺虫・殺ダニ剤、殺線虫剤、殺土壌害虫剤：
（１）アセチルコリンエステラーゼ阻害剤：
（ａ）カーバメート系： アラニカルブ、アルジカルブ、ベンジオカルブ、ベンフラカルブ、ブトカルボキシム、ブトキシカルボキシム、カルバリル、カルボフラン、カルボスルファン、エチオフェンカルブ、フェノブカルブ、ホルメタネート、フラチオカルブ、イソプロカルブ、メチオカルブ、メソミル、オキサミル、ピリミカルブ、プロポキサル、チオジカルブ、チオファノックス、トリアザメート、トリメタカルブ、XMC、キシリルカルブ；フェノチオカルブ、MIPC、MPMC、MTMC、アルドキシカルブ、アリキシカルブ、アミノカルブ、ブフェンカルブ、クロエトカルブ、メタム・ナトリウム、プロメカルブ；

（ｂ）有機リン系： アセフェート、アザメチホス、アジンホス-エチル、アジンホス-メチル、カズサホス、クロルエトキシホス、クロルフェンビンホス、クロルメホス、クロルピリホス、クロルピリホス-メチル、クマホス、シアノホス、ジメトン-S-メチル、ダイアジノン、ジクロルボス/DDVP、ジクロトホス、ジメトエート、ジメチルビンホス、ジスルホトン、EPN、エチオン、エトプロホス、ファムフール、フェナミホス、フェニトロチオン、フェンチオン、ホスチアゼート、ヘプテノホス、イミシアホス、イソフェンホス、イソカルボホス、イソキサチオン、マラチオン、メカルバム、メタミドホス、メチダチオン、メビンホス、モノクロトホス、ナレド、オメトエート、オキシジメトン-メチル、パラチオン、パラチオン-メチル、フェントエート、ホレート、ホサロン、ホスメット、ホスファミドン、ホキシム、ピリミホス-メチル、プロフェノホス、プロペタムホス、プロチオホス、ピラクロホス、ピリダフェンチオン、キナルホス、スルホテップ、テブピリンホス、テメホス、テルブホス、テトラクロルビンホス、チオメトン、トリアゾホス、トリクロルホン、バミドチオン；ブロモホス・エチル、BRP、カルボフェノチオン、シアノフェンホス、CYAP、ジメトン-Ｓ-メチルスルホン、ジアリホス、ジクロフェンチオン、ジオキサベンゾホス、エトリムホス、フェンスルホチオン、フルピラゾホス、ホノホス、ホルモチオン、ホスメチラン、イサゾホス、ヨードフェンホス、メタクリホス、ピリミホス−エチル、ホスホカルブ、プロパホス、プロトエート、スルプロホス；

（２）GABA-作動性塩素イオンチャネルアンタゴニスト： クロルデン、エンドスルファン、エチプロール、フィプロニル、ピラフルプロール、ピリプロール；カンフェクロル、ヘプタクロル、ジエノクロル；
（３）ナトリウムチャンネルモジュレーター： アクリナトリン、d-シス-トランス アレスリン、d-トランスアレスリン、ビフェントリン、ビオアレスリン、ビオアレスリンS-シクロペンチル異性体、ビオレスメトリン、シクロプロトリン、シフルトリン、ベータ-シフルトリン、シハロトリン、ラムダ-シハロトリン、ガンマ-シハロトリン、シペルメトリン、アルファ-シペルメトリン、ベータ-シペルメトリン、シータ-シペルメトリン、ゼータ-シペルメトリン、シフェノトリン［(1R)-トランス異性体］、デルタメトリン、エンペントリン［（EZ）-(1R)-異性体］、エスフェンバレレート、エトフェンプロックス、フェンプロパトリン、フェンバレレート、フルシトリネート、フルメトリン、タウ-フルバリネート、ハルフェンプロックス、イミプリトリン、カデスリン、ペルメトリン、フェノトリン［（1R）-トランス異性体］、プラレトリン、ピレスラム、レスメトリン、シラフルオフェン、テフルスリン、テトラメスリン、テトラメトリン［（1R）-異性体］、トラロメトリン、トランスフルトリン；アレスリン、ピレトリン、ピレトリンI、ピレトリンII、プロフルトリン、ジメフルトリン、ビオエタノメトリン、ビオペルメトリン、トランスペルメトリン、フェンフルトリン、フェンピリトリン、フルブロシトリネート、フルフェンプロックス、メトフルトリン、プロトリフェンブト、ピレスメトリン、テラレトリン；

（４）ニコチン性アセチルコリン受容体アゴニスト： アセタミプリド、クロチアニジン、ジノテフラン、イミダクロプリド、ニテンピラム、ニチアジン、チアクロプリド、チアメトキサム、スルフォキサフロール、ニコチン；フルピラジフロン；
（５）ニコチン性アセチルコリン受容体アロステリックモジュレーター： スピネトラム、スピノサド；
（６）クロライドチャンネル活性化剤： アバメクチン、エマメクチン安息香酸塩、レピメクチン、ミルベメクチン；イベルメクチン、セラメクチン、ドラメクチン、エプリノメクチン、モキシデクチン、ミルベマイシン、ミルベマイシンオキシム；
（７）幼若ホルモン様物質： ヒドロプレン、キノプレン、メソプレン、フェノキシカルブ、ピリプロキシフェン；ジオフェノラン、エポフェノナン、トリプレン；
（８）その他非特異的阻害剤： 臭化メチル、クロルピクリン、フッ化スルフリル、ホウ砂、吐酒石；
（９）同翅目選択的摂食阻害剤： フロニカミド、ピメトロジン、ピリフルキナゾン；

（１０）ダニ類生育阻害剤： クロフェンテジン、ジフロビダジン、ヘキシチアゾクス、エトキサゾール；
（１１）微生物由来昆虫中腸内膜破壊剤： バチルス・チューリンゲンシス亜種イスラエレンシ、バチルス・スファエリクス、バチルス・チューリンゲンシス亜種アイザワイ、バチルス・チューリンゲンシス亜種クルスタキ、バチルス・チューリンゲンシス亜種テネブリオニス、Ｂｔ作物タンパク質：Cry1Ab、Cry1Ac、Cry1Fa、Cry1A.105、Cry2Ab、Vip3A、mCry3A、Cry3Ab、Cry3Bb、Cry34Ab1/Cry35Ab1；
（１２）ミトコンドリアATP生合成酵素阻害剤： ジアフェンチウロン、アゾシクロチン、シヘキサチン、酸化フェンブタスズ、プロパルギット、テトラジホン；
（１３）酸化的リン酸化脱共役剤： クロルフェナピル、スルフラミド、DNOC；ビナパクリル、ジノブトン、ジノカップ；
（１４）ニコチン性アセチルコリン受容体チャンネルブロッカー： ベンスルタップ、カルタップ塩酸塩；ネライストキシン；チオスルタップ一ナトリウム塩、チオシクラム；
（１５）キチン合成阻害剤： ビストリフルロン、クロルフルアズロン、ジフルベンズロン、フルシクロクスロン、フルフェノクスロン、ヘキサフルムロン、ルフェヌロン、ノバルロン、ノビフルムロン、テフルベンズロン、トリフルムロン、ブプロフェジン、フルアズロン；
（１６）双翅目脱皮かく乱剤： シロマジン；
（１７）脱皮ホルモン受容体アゴニスト： クロマフェノジド、ハロフェノジド、メトキシフェノジド、テブフェノジド；
（１８）オクトパミン受容体アゴニスト： アミトラズ、デミジトラズ、クロルジメホルム；
（１９）ミトコンドリア電子伝達系複合体III阻害剤： アセキノシル、フルアクリピリム、ヒドラメチルノン；
（２０）ミトコンドリア電子伝達系複合体I阻害剤： フェナザキン、フェンプロキシメート、ピリミジフェン、ピリダベン、テブフェンピラド、トルフェンピラド、ロテノン；

（２１）電位依存性ナトリウムチャネルブロッカー： インドキサカルブ、メタフルミゾン；
（２２）アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤： スピロジクロフェン、スピロメシフェン、スピロテトラマト；
（２３）ミトコンドリア電子伝達系複合体IV阻害剤： リン化アルミニウム、リン化カルシウム、ホスフィン、リン化亜鉛、シアニド；
（２４）ミトコンドリア電子伝達系複合体II阻害剤： シエノピラフェン、シフルメトフェン、ピフルブミド；
（２５）リアノジン受容体モジュレーター： クロラントラニリプロール、シアントラニプロール、フルベンジアミド、シクラニリプロール、テトラニリプロール；
（２６）混合機能オキシダーゼ阻害剤化合物： ピペロニルブトキシド；
（２７）ラトロフィリン受容体作用薬： デプシペプチド、環状デプシペプチド、24員環状デプシペプチド、エモデプシド；
（２８）その他の剤（作用機構が未知）： アザジラクチン、ベンゾキシメート、ビフェナゼート、ブロモプロピレート、キノメチオネート、クリオライト、ジコホル、ピリダリル、；ベンクロチアズ、硫黄、アミドフルメット、1,3−ジクロロプロペン、DCIP、フェニソブロモレート、ベンゾメート、メタアルデヒド、クロルベンジレート、クロチアゾベン、ジシクラニル、フェノキサクリム、フェントリファニル、フルベンジミン、フルフェナジン、ゴシップルア、ジャポニルア、メトキサジアゾン、石油、オレイン酸カリウム、テトラスル、トリアラセン；アフィドピロペン（afidopyropen）、フロメトキン、フルフィプロル（flufiprole）、フルエンスルフォン、メペルフルスリン、テトラメチルフルスリン、トラロピリル、ジメフルスリン、メチルネオデカンアミド；フルララネル、アフォキソラネル、フルキサメタミド、５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）ベンゾニトリル（CAS:943137-49-3）、ブロフラニリド、その他のメタジアミド類。

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明する。なお、本発明は以下の実施例によって制限を受けるものではなく、本発明の趣旨に適合し得る範囲で適宜に変更を加えて実施することが勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。

実施例１
（工程１）ｔ−ブチル Ｎ−［４−（３−ブロモプロポキシ）ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメートの合成

ｔ−ブチル Ｎ−（４−ヒドロキシベンゼンカルボキシイミドイル）カルバメート（１．１８ｇ）をアセトニトリル（１５ｍＬ）に溶解させ、炭酸カリウム（６８８ｍｇ）および１，３−ジブロモプロパン（５．０２ｇ）を加え加熱還流した。室温まで冷却後、反応混合物を水に注ぎ入れ酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせ無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物を１．１８ｇ、収率６６％で得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）： δ １．５５（ｓ，９Ｈ），２．３３（ｔｔ，２Ｈ），３．６０（ｔ，２Ｈ），４．１５（ｔ，２Ｈ），６．９２（ｄｄ，２Ｈ），７．８３（ｄ，２Ｈ）．

（工程２） ｔ−ブチル Ｎ−[４−（３−ピペラジン−１−イルプロポキシ）ベンゼンカルボキシイミドイル]カルバメートの合成

工程１で得られたｔ−ブチル Ｎ−[４−（３−ブロモプロポキシ）ベンゼンカルボキシイミドイル]カルバメート（２８７ｍｇ）のエタノール（５ｍＬ）溶液に、炭酸カリウム（２２２ｍｇ）およびピペラジン（２０７ｍｇ）を室温で加え加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却しエタノールを留去した。得られた残渣を酢酸エチルに溶解させ水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物を１８３．５ｍｇ、収率６３％で得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）： δ １．５５（ｓ，９Ｈ），１．９８（ｔｔ，２Ｈ），２．３５−２．６１（ｍ，６Ｈ），２．８９（ｔ，４Ｈ），４．０６（ｔ，２Ｈ），６．８５−６．９９（ｍ，２Ｈ），７．８３（ｄ，２Ｈ）．

（工程３） ｔ−ブチル Ｎ−（Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル）−Ｎ−（８−ブロモオクチル）カルバメートの合成

８−ブロモ−１−オクタノール（１．００ｇ）をテトラヒドロフラン（１５ｍＬ）に溶解させ、０℃でトリフェニルホスフィン（１．１１ｇ）、アゾジカルボン酸ジイソプロピル（１．０６ｇ）、およびＮ，Ｎ’，Ｎ”−トリ−ｔ−ブトキシカルボニル−グアニジン（１．８９ｇ）を加えた。反応混合物を室温に昇温させ、同温で４時間撹拌した。反応混合物を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物を１．８０ｇ、収率６８％で得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）： δ １．２２−１．３６（ｍ，８Ｈ），１．４５−１．５３（ｍ，２７Ｈ），１．６０−１．６９（ｍ，２Ｈ），１．８５（ｔｔ，２Ｈ），３．４０（ｔ，２Ｈ），３．４９（ｄｄ，１Ｈ），３．７６（ｄｄ，１Ｈ）．

（工程４）ｔ−ブチル Ｎ−[Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル]−Ｎ−[８−[４−[３−[４−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ] プロピル]ピペラジン−１−イル]オクチル]カルバメートの合成

工程３で得られたｔ−ブチル Ｎ−（Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル）−Ｎ−（８−ブロモオクチル）カルバメート（０．５９ｇ）をジメチルホルムアミド（５ｍＬ）に溶解させ、室温で、工程２と同様の方法で得られたｔ−ブチル Ｎ−［４−（３−ピペラジン−１−イルプロポキシ）ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（０．３０ｇ）と炭酸カリウム（０．２３ｇ）を加え、同温で５時間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過し、次いで減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する事で表題化合物（化合物番号１）を０．１７ｇ、収率２５％で得た。

実施例２
４−［３−［４−（８−グアニジノオクチル）ピペラジン−１−イル］プロポキシ］ベンズアミジン ４塩酸塩の合成

実施例１工程４で得られたｔ−ブチル Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］−Ｎ−［８−［４−［３−［４−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］プロピル］ピペラジン−１−イル］オクチル］カルバメート（０．１７ｇ）をジクロロメタン（２ｍＬ）に溶解させ、室温で水（０．２ｍＬ）、およびトリフルオロ酢酸（２ｍＬ）を加え、同温で一晩撹拌した。反応混合物を減圧濃縮し、得られた残渣をメタノールとジクロメタンの混合溶媒（１：２）（２ｍＬ）に溶解させ、室温で１０％水酸化ナトリウム水溶液（２ｍＬ）を加え、同温で１．５時間撹拌した。反応混合物に水を加え、メタノールとジクロメタンの混合溶媒（１：２）で抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過し、次いで減圧濃縮した。得られた残渣をメタノール（３ｍＬ）に溶解させた。室温で塩化水素のジオキサン溶液（４Ｎ）（０．５ｍＬ）を加え、同温で１時間撹拌した。反応混合物を減圧濃縮することで表題化合物（化合物番号２）を０．１１ｇ、収率９５％で得た。

実施例３〜４
実施例１または２と同様の手法にて、本発明に係る化合物を合成した。合成した化合物の一部について、その構造およびＮＭＲ測定データを表１に示す。

表１中、Ｂｏｃはｔ−ブトキシカルボニル基を示す。

実施例５
（工程１） ６−［１，３−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）グアニジン−２−イル]−１−ブロモへキサンの合成

１，３−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）グアニジン（２．６０ｇ）および１，６−ジブロモヘキサン（７．３２ｇ）をジメチルホルムアミド（３０ｍＬ）に溶解させ、炭酸カリウム（１．３９ｇ）を加え、５０℃で６時間反応させた。反応液を室温に冷却した後、水に注ぎ入れ、酢酸エチルで抽出した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物を３．１６ｇ、収率７５％で得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）： δ １．３３（ｔｔ，２Ｈ），１．４１−１．６２（ｍ，２２Ｈ），１．７７−１．９５（ｍ，２Ｈ），３．４１（ｔ，２Ｈ），３．８９（ｔ，２Ｈ），９．２３（ｂｒ．ｓ，１Ｈ，ＮＨ），９．３７（ｂｒ．ｓ，１Ｈ，ＮＨ）．

（工程２） ｔ−ブチル Ｎ−［４−［３−［４−［６−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］へキシル］ピペラジン−１−イル］プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメートの合成

実施例５工程１で得られた６−［１，３−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）グアニジン−２−イル]−１−ブロモへキサン（０．６０ｇ）および実施例１工程２と同様の方法で得られたｔ−ブチル Ｎ−[４−（３−ピペラジン−１−イルプロポキシ）ベンゼンカルボキシイミドイル]カルバメート（０．５６ｇ）をジメチルホルムアミド（６ｍＬ）に溶解させ、炭酸カリウム（０．４０ｇ）を加え、室温で一晩攪拌した。その後、反応混合物を水に注ぎ入れ、酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、表題化合物（化合物番号５）を０．３４ｇ、収率３４％で得た。

実施例６
４−［３−［４−（６−グアニジノヘキシル）ピペラジン−１−イル］プロポキシ］ベンズアミジン ４塩酸塩の合成

実施例５で得られたｔ−ブチル Ｎ−［４−［３−［４−［６−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］へキシル］ピペラジン−１−イル］プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（０．３４ｇ）をジクロロメタン（１０ｍＬ）に溶解させ、室温でトリフルオロ酢酸（７．５ｍＬ）を加えて一晩攪拌した。溶媒と過剰のトリフルオロ酢酸を減圧下留去し、得られた残渣をメタノール（５ｍＬ）で溶解させた。そこへ４Ｍ塩化水素ジオキサン溶液（１０ｍＬ）を加え、２時間攪拌した。その後、減圧濃縮することで表題化合物（化合物番号６）を定量的に得た。

実施例５、６で合成した化合物について、その構造を表２に示す。

表２中Ｂｏｃは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示す。

実施例７
（工程１） ６−（４−ピペリジル）へキサン−１−オールの合成

４−ブロモピリジン臭化水素塩（５．００ｇ）に１０％水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチル１００ｍＬで３回抽出した。有機層を合わせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過、減圧濃縮した。得られた残渣をトリエチルアミン１０ｍＬに溶解させ、１−ヘキシン−６−オール（２．８ｍＬ）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（II）ジクロリド（２００ｍｇ）、ヨウ化銅（I）（１００ｍｇ）を加え、反応容器内を窒素ガスで置換し、攪拌しながら３０分加熱還流した。その後、室温まで冷却し、水に注ぎ入れ、酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過した。ろ液を減圧濃縮することで粗生成物を得た。この粗生成物の酢酸（２５ｍＬ）溶液、酸化白金(IV)（１．００ｇ）をオートクレーブ中、水素下（約１ＭＰａ）で反応させた。反応後、反応混合物を酢酸と酢酸エチルで洗いながらセライト（登録商標）でろ過した。ろ液を減圧濃縮し、残渣をアミノシリカを用いたカラムクロマトグラフィーにより精製することで、表題化合物を２．８１ｇ、収率５９％で得た。
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）： δ １．０６（ｄｄｄ，２Ｈ），１．１５−１．４４（ｍ，７Ｈ），１．４７−１．９１（ｍ，６Ｈ），２．５６（ｄｔ，２Ｈ），２．９７−３．１２（ｍ，２Ｈ），３．５６−３．６８（ｍ，２Ｈ）．

（工程２） ベンジル ４−（６−ヒドロキシヘキシル）ピペリジン−１−カルボキシレートの合成

工程１で得られた６−（４−ピペリジニル）ヘキサン−１−オール（２．８１ｇ）をアセトニトリル（２３ｍＬ）に溶解させ、トリエチルアミン（１．８９ｇ）を加え、反応容器内を窒素置換した。これを０℃に冷却し、クロロ蟻酸ベンジル（２．４ｍＬ）を加えた。反応液を徐々に室温まで昇温しながら終夜で攪拌した。その後、反応混合物を水に注ぎ入れ、酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、表題化合物を３．７９ｇ、収率７８％で得た。
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）： δ ０．９７−１．１７（ｍ，２Ｈ），１．１７−１．４７（ｍ，９Ｈ），１．４８−１．８０（ｍ，４Ｈ），２．５４−２．９２（ｍ，２Ｈ），３．６４（ｔ，２Ｈ），４．０１−４．３０（ｍ，２Ｈ），５．１２（ｓ，２Ｈ），７．２７−７．４０（ｍ，５Ｈ）．

（工程３） ベンジル ４−（６−ブロモヘキシル）ピペリジン−１−カルボキシレートの合成

工程２で得られたベンジル ４−（６−ヒドロキシヘキシル）ピペリジン−１−カルボキシレート（３．７９ｇ）をジクロロメタン（５２ｍＬ）に溶解させ、攪拌しながら四臭化炭素（７．８７ｇ）を加えた。これを０℃に冷却し、トリフェニルホスフィン（６．２３ｇ）のジクロロメタン（１５ｍＬ）溶液を滴下した。徐々に室温まで昇温しながら終夜で攪拌した。その後、反応混合物を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、表題化合物を４．３２ｇ、収率９５％で得た。
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）： δ ０．９９−１．１７（ｍ，２Ｈ），１．１７−１．５２（ｍ，９Ｈ），１．５６−１．７５（ｍ，２Ｈ），１．８５（ｄｔ，２Ｈ），２．６０−２．９０（ｍ，２Ｈ），３．４１（ｔ，２Ｈ），３．９３−４．３３（ｍ，２Ｈ），５．１２（ｓ，２Ｈ），７．２７−７．４０（ｍ，５Ｈ）．

（工程４） ベンジル ４−［６−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘキシル］ピペリジン−１−カルボキシレートの合成

工程３で得られたベンジル ４−（６−ブロモヘキシル）ピペリジン−１−カルボキシレート（４．３２ｇ）および１，３−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）グアニジン（３．２２ｇ）をジメチルホルムアミド（３７ｍＬ）に溶解させ、炭酸カリウム（１．７２ｇ）を加えた。これを５０℃で一晩攪拌し、その後室温まで冷却し、セライト（登録商標）でろ過した。残渣を酢酸エチルで洗い、ろ液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、表題化合物を４．８３ｇ、収率７６％で得た。
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）： δ ０．９８−１．１７（ｍ，２Ｈ），１．１７−１．４４（ｍ，１０Ｈ），１．４４−１．８９（ｍ，２１Ｈ），２．６０−２．８９（ｍ，２Ｈ），３．８８（ｔ，２Ｈ），４．０４−４．３１（ｍ，２Ｈ），５．１２（ｓ，２Ｈ），７．２７−７．４１（ｍ，５Ｈ），９．０４−９．６４（ｍ，２Ｈ，ＮＨ）．

（工程５） ｔ−ブチル Ｎ−［（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−［６−（４−ピペリジル）ヘキシルアミノ］メチレン］カルバメートの合成

工程４で得られたベンジル ４−［６−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘキシル］ピペリジン−１−カルボキシレート（４．８３ｇ）をエタノール（４３ｍＬ）に溶解させ、１０％パラジウム炭素（ｗｅｔ、０．５ｇ）を加えた。バルーンで反応容器内に水素を充満させ、室温で３日間攪拌した。その後、反応混合物をセライト（登録商標）でろ過し、残渣をクロロホルムで洗浄した。ろ液を減圧濃縮して得られた残渣をアミノシリカを用いたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物を３．７５ｇ、定量的な収率で得た。
¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）： δ １．０４（ｄｄｄ，２Ｈ），１．１５−１．４１（ｍ，１０Ｈ），１．４１−１．６０（ｍ，１９Ｈ），１．６５（ｄ，２Ｈ），２．５６（ｄｔ，２Ｈ），２．９３−３．１６（ｍ，２Ｈ），３．８９（ｔ，２Ｈ），９．２５（ｂｒ．ｓ，１Ｈ，ＮＨ），９．３８（ｂｒ．ｓ，１Ｈ，ＮＨ）．

（工程６） ｔ−ブチル Ｎ−［４−［４−［４−［６−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘキシル］−１−ピペリジル］ブトキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメートの合成

工程５で得られたｔ−ブチル Ｎ−［（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−［６−（４−ピペリジル）ヘキシルアミノ］メチレン］カルバメート（１．００ｇ）およびｔ−ブチル Ｎ−［４−（４−ブロモブトキシ）ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（０．９６ｇ）をジメチルホルムアミド（１２ｍＬ）に溶解させ、室温で攪拌した。そこへ炭酸カリウム（０．３６ｇ）を加え、５０℃で一晩攪拌した。その後、反応混合物を室温まで冷却し、セライト（登録商標）でろ過した。残渣を酢酸エチルで洗浄し、ろ液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（化合物番号７）を１．１８ｇ、収率７０％で得た。

実施例８
４−［４−［４−（６−グアニジノヘキシル）−１−ピペリジル］ブトキシ］ベンズアミジン ３塩酸塩の合成

実施例７工程６で得られたｔ−ブチル Ｎ−［４−［４−［４−［６−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘキシル］−１−ピペリジル］ブトキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（０．９３ｇ）をジクロロメタン（３９ｍＬ）に溶解させた。そこに室温でトリフルオロ酢酸（１３ｍＬ）を加え、８時間撹拌した。その後、溶媒と過剰のトリフルオロ酢酸を減圧下で留去し、残渣をメタノール（５ｍＬ）に溶解させた。そこに４Ｍ塩化水素ジオキサン溶液（１０ｍＬ）を加え、室温で１時間半撹拌した。その後、溶媒と過剰の４Ｍ塩化水素ジオキサン溶液を減圧下で留去することで表題化合物（化合物番号８）を０．６９ｇ、定量的な収率で得た。

実施例９〜１０
実施例７または８と同様の手法にて、本発明に係る化合物を合成した。合成した化合物の一部について、その構造を表３に示す。

表３中Ｂｏｃは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示す。

実施例１１
（工程１） ベンジル ４−［３−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］プロピル］ピペリジン−１−カルボキシレートの合成

ｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−（４−ヒドロキシベンゼンカルボキシイミドイル）カルバメート（１．９５ｇ）及びベンジル ４−（３−ヒドロキシプロピル）ピペリジン−１−カルボキシレート（１．９１ｇ）をトルエン（６０ｍＬ）及びテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に溶解させ、トリブチルホスフィン（１．９５ｇ）のテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）溶液及び１，１'−（アゾジカルボニル）ジピペリジン（２．４３ｇ）を順次加えた。この溶液を室温で終夜撹拌した後、水に注ぎ入れクロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過した後、ろ液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物２．４６ｇ（収率７２％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：１．０４−１．２３（ｍ，２Ｈ），１．３６−１．４９（ｍ，３Ｈ），１．５５（ｓ，９Ｈ），１．６５−１．７６（ｍ，２Ｈ），１．７６−１．８９（ｍ，２Ｈ），２．６２−２．９２（ｍ，２Ｈ），３．９８（ｄｄ，２Ｈ），４．０６−４．３５（ｍ，２Ｈ），５．１２（ｓ，２Ｈ），６．８９（ｄ，２Ｈ），７．２８−７．４１（ｍ，５Ｈ），７．８３（ｄ，２Ｈ）．

（工程２）ｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［４−［３−（４−ピペリジル）プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメートの合成

実施例１１工程１で得られたベンジル ４−［３−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］プロピル］ピペリジン−１−カルボキシレート（２．４６ｇ）をエタノール（３０ｍＬ）に溶解させた。そこにパラジウム炭素（１．００ｇ，１０％ｗｅｔ）を加え、水素雰囲気下で４日間反応させた。反応液をメタノールで洗浄しながらセライト（登録商標）でろ過した。ろ液を減圧濃縮し、残渣をアミノシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物１．１６ｇ（収率６５％）で得た。
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：１．０８−１．２４（ｍ，２Ｈ），１．３５−１．４８（ｍ，３Ｈ），１．５５（ｓ，９Ｈ），１．６５−１．８８（ｍ，４Ｈ），２．５５−２．６８（ｍ，２Ｈ），３．０５−３．１５（ｍ，２Ｈ），３．９８（ｄｄ，２Ｈ），６．９０（ｄ，２Ｈ），７．８２（ｄ，２Ｈ）．

（工程３）ｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［４−［３−［１−［６−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘキシル］−４−ピペリジル］プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメートの合成

実施例１１工程２で得られたｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［４−［３−（４−ピペリジル）プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（１．１６ｇ）及びｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［（６−ブロモヘキシルアミノ）−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレン］カルバメート（１．６４ｇ）をジメチルホルムアミド（３２ｍＬ）に溶解させた。炭酸カリウム（０．５４ｇ）を添加し、５０℃にて一晩撹拌した。その後、反応混合物を室温まで冷却し、水に注ぎ入れ、クロロホルムで抽出した。有機層を合わせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過した。ろ液を減圧下濃縮し、得られた残渣をアミノシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、表題化合物（化合物番号１１）を１．７５ ｇ（収率７８％）で得た。
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：１．２０−１．４４（ｍ，１０Ｈ），１．４４−１．６１（ｍ，２９Ｈ），１．６３−１．７４（ｍ，２Ｈ），１．７５−１．９５（ｍ，４Ｈ），２．２９（ｄｄ，２Ｈ），２．８５−２．９８（ｍ，２Ｈ），３．８８（ｄｄ，２Ｈ），３．９８（ｄｄ，２Ｈ），６．９０（ｄ，２Ｈ），７．８３（ｄ，２Ｈ）．

実施例１２
４−［３−［１−（６−グアニジノヘキシル）−４−ピペリジル］プロポキシ］ベンズアミジン ３塩酸塩の合成

実施例１１工程３で得られたｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［４−［３−［１−［６−［［Ｎ，Ｎ'−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘキシル］−４−ピペリジル］プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（１．１７ｇ）をジクロロメタン（２０ｍＬ）に溶解させた。反応液にトリフルオロ酢酸（２０ｍＬ）を添加し、一晩撹拌した。その後、反応液を減圧濃縮し、残渣をメタノール（１０ｍＬ）に溶解させ、塩化水素／１，４−ジオキサン溶液（２０ｍＬ，４Ｍ）を加えた。反応液を５時間撹拌した後、減圧濃縮することで、表題化合物（化合物番号：１２）を１．０６ｇ（定量的）を得た。
融点（ｍｐ）２３９−２４３℃

製剤実施例（乳剤）
本発明化合物 ５．６２ 質量部
界面活性剤 ４．４９ 質量部
ジメチルホルムアミド ８９．８９ 質量部
以上を混合溶解して、有効成分５．６２質量％の乳剤を得た。

（リンゴ黒星病防除試験）
前記製剤実施例の配合処方で調製された乳剤を有効成分１２５ｐｐｍになるように水で希釈した。素焼きポットで栽培したリンゴ幼苗（品種「王林」、３〜４葉期）に、前記乳剤を散布した。室温で自然乾燥させた。その後、リンゴ黒星病菌（Venturia inaequalis）の分生胞子を接種し、明暗を１２時間毎に繰り返す２０℃、高湿度の室内に２週間保持した。葉上の病斑出現状態を無処理と比較し防除効果を調べた。

化合物４、６、８、１０および１２について前記リンゴ黒星病防除試験を行った。いずれの化合物も７５％以上の防除価を示した。

（キュウリ灰色かび病防除試験）
前記製剤実施例の配合処方で調製された乳剤を有効成分１２５ｐｐｍになるように水で希釈した。素焼きポットで栽培したキュウリ幼苗（品種「ときわ地這」、子葉期）に、前記乳剤を散布した。室温で自然乾燥させた。その後、キュウリ灰色かび病菌（Botrytis cinerea）の分生胞子懸濁液を滴下接種し、暗所、２０℃、高湿度の室内に４日間保持した。葉上の病斑出現状態を無処理と比較調査し、防除効果を求めた。

化合物２、４、６、８、１０および１２について前記キュウリ灰色かび病防除試験を行った。いずれの化合物も７５％以上の防除価を示した。

（コムギうどんこ病防除試験）
前記製剤実施例の配合処方で調製された乳剤を有効成分１２５ｐｐｍになるように水で希釈した。素焼きポットで栽培したコムギ幼苗（品種「チホク」、１．０〜１．２葉期）に前記乳剤を散布した。葉を風乾させた。その後、コムギうどんこ病菌（Erysiphe graminis f.sp.tritici）の分生胞子を振り払い接種し、２２〜２５℃の温室で７日間保持した。葉上の病斑出現状態を無処理と比較調査し、防除効果を求めた。

化合物４、６、８および１２について前記コムギうどんこ病防除試験を行った。いずれの化合物も７５％以上の防除価を示した。

（トマト疫病防除試験）
前記製剤実施例の配合処方で調製された乳剤を有効成分１２５ｐｐｍになるように水で希釈した。素焼きポットで栽培したトマト幼苗（品種「レジナ」、４〜５葉期）に、前記乳剤を散布した。葉を風乾させた後、トマト疫病菌（Phytophthora infestans）の遊走子嚢懸濁液を噴霧接種し、明暗を１２時間毎に繰り返す高湿度の恒温室（２０℃）に４日間保持した。葉上の病斑出現状態を無処理と比較調査し、防除価を求めた。

化合物６および１２について前記トマト疫病防除試験を行った。該化合物は７５％以上の防除価を示した。

（コムギ赤さび病防除試験）
前記製剤実施例の配合処方で調製された乳剤を有効成分１２５ｐｐｍになるように水で希釈した。素焼きポットで栽培したコムギ幼苗（品種「農林６１号」、１．０〜１．２葉期）に前記乳剤を散布した。葉を風乾させた後、コムギ赤さび病菌（Puccinia recondita）の夏胞子を振り払い接種し、２２〜２５℃の温室で１０日間保持した。葉上の病斑出現状態を無処理と比較調査し、防除効果を求めた。

化合物４、８、１０および１２について前記コムギ赤さび病防除試験を行った。いずれの化合物も７５％以上の防除価を示した。

（キュウリ灰色かび病温室残効試験）
本発明化合物を４００ｐｐｍ、界面活性剤０．０１質量％、およびメタノール０．２質量％を含有する薬液を調製した。
素焼きポットで栽培したキュウリ幼苗（品種「ときわ地這」、子葉期）に、前記薬液を散布した。室温で自然乾燥させた。その後、２５〜３０℃の温室で７日間保持した。次いでキュウリ灰色かび病菌（Botrytis cinerea）の分生胞子懸濁液を滴下接種し、暗所、２０℃、高湿度の室内に４日間保持した。葉上の病斑出現状態を無処理と比較調査し、防除価を求めた。

化合物４、６、８、および１０について前記キュウリ灰色かび病温室残効試験を行った。いずれの化合物も７５％以上の防除価を示した。

菌活性に優れ、安全性に優れた農園芸用殺菌剤が提供される。当該農園芸用殺菌剤の有効成分であるアリールアミジン化合物（I）は、工業的に有利に合成することができる。

Claims (5)

1. 下記式（I）で表される化合物およびその塩からなる群より選ばれる少なくとも一つを含有する農園芸用殺菌剤。
   

   

   式（I）中、
   ＸおよびＺは、それぞれ独立に、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基を示し、
   Ｙは、無置換の若しくは置換基を有する二価の環状アミン残基を示し、
   Ｗは、
   

   

   を示し、
   Ｒ¹⁰およびＲ¹¹は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、無置換の若しくは置換基を有するアルキル基、無置換のアミノ基、または保護基若しくは置換基を有するアミノ基を示し、
   Ｑは、水素原子、または
   

   

   を示し、
   ＊は、結合位置を示し、
   Ｒ¹〜Ｒ⁷は、それぞれ独立に、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、または無置換の若しくは置換基を有するアミノ基を示し、
   Ｒ⁸は、ハロゲノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキル基、無置換の若しくは置換基を有するシクロアルキル基、または無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基を示し、ｎは、Ｒ⁸の置換数を示し且つ０〜４のいずれかの整数を示し、ｎが２以上の場合、各Ｒ⁸は、同一でも相違してもよい。
2. 前記Ｑが
   

   

   であり、
   前記Ｗが
   

   

   である、請求項１に記載の農園芸用殺菌剤。
3. 前記Ｙが
   

   

   である、請求項１または２に記載の農園芸用殺菌剤。
4. 下記式（III）で表される化合物またはその塩。
   

   

   式（III）中、
   ＸおよびＺは、それぞれ独立に、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基を示し、
   Ｇ¹およびＧ²は、それぞれ独立に、ＣＨまたは窒素原子を示す。ただし、Ｇ¹がＣＨのときＧ²は窒素原子を示し、Ｇ¹が窒素原子のときＧ²はＣＨを示す。
   ｍは、０または１の整数を示す。
   Ｒ¹〜Ｒ⁷は、それぞれ独立に、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、または無置換の若しくは置換基を有するアミノ基を示す。
   Ｒ⁸は、ハロゲノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキル基、無置換の若しくは置換基を有するシクロアルキル基、または無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基を示し、ｎは、Ｒ⁸の置換数を示し、かつ、０〜４のいずれかの整数を示し、ｎが２以上の場合、各Ｒ⁸は、同一でも相違してもよい。
5. 植物に対して、請求項１〜３のいずれか一項に記載の農園芸用殺菌剤を適用することからなる、植物病害を防除する方法。