JPWO2016039190A1 - 電解式二酸化塩素ガス製造装置 - Google Patents
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Abstract
Description
すなわち、本発明は、二酸化塩素ガス製造装置であって、前記装置は、電解室、液面レベル測定室、および、バブリングガス供給装置を備え、前記電解室と前記液面レベル測定室には、それぞれ電解液およびガスが含まれており、ここで、電解液は、亜塩素酸塩水溶液を含み、前記電解室と前記液面レベル測定室は、各室に含まれる電解液の高さが実質的に等しくなるように、それぞれの液面の上方においてガス配管を通して相互に連結され、かつ、それぞれの液面の下方において電解液配管を通して相互に連結されており、前記電解室は、陰極と陽極とを備え、ここで、前記陰極と陽極は、スペーサーに固定されており、前記電解室は、前記電解室中の電解液に対し前記電解室の外からガスをバブリングにより供給するためのバブリングガス供給部を電解液中に備えており、ここで、前記バブリングガス供給部は配管を通して、前記電解室の外に配置された前記バブリングガス供給装置に接続されており、前記液面レベル測定室は、液面レベルを測定するための手段を有している、ことを特徴とする、二酸化塩素ガス製造装置を提供する。
なお、本明細書における「バブリングガス供給部」は、バブリングガス供給装置から供給されるガスを排出する部位でもあるため、そのような観点からは「バブリングガス排出部」と呼ぶこともある。
前記電解室は、電解液供給管を通じて、前記電解液供給タンクに接続されていることを特徴とする。
前記電解室および/または液面レベル測定室は、液面より下方において電解液排出管を通じて、前記電解液排出タンクに接続されていることを特徴とする。
(1) ClO2 − → ClO2 + e−
(2) 2Cl− → Cl2 + 2e−
(3) 2ClO2 − +Cl2 → 2ClO2 + 2Cl−
上記の(2)〜(3)はpHが上がるにつれて反応効率が低下するため、電解液のpHが9.0以上の状態で電気分解を行うと、全体として二酸化塩素の発生効率が低下する。
なお、本明細書において、「液面レベルを測定する」という言葉は、「液面レベルを検出する」という意味で用いられることがある。また、本明細書において、「液面レベル検出用電極」という用語は「液面レベル測定用電極」と呼ぶことがある。
図1は、本発明の一実施形態である、二酸化塩素ガス製造装置の内部構造の模式図である。図1に示すとおり、二酸化塩素ガス製造装置は、電解室2および液面レベル測定室3を含む、電解室部1を備え、電解室2および液面レベル測定室3は、電解室部1内の電解液の液面の上方において、ガス配管6を通じて連結されており、電解液の液面の下方において、電解液配管10によって連結されている。電解室2は電気分解用の陽極18および陰極19を備え、液面レベル測定室3は液面レベル検出用の電極20を備える。電気分解用の陽極18および陰極19は、スペーサー11によって固定される。電解室2はさらに、電解室中の電解液に対し、電解室の外からガスをバブリングにより供給するためのバブリングガス供給部5を電解液中に備えており、バブリングガス供給部5は、配管を通して、電解室2の外に配置されたバブリングガス供給装置4に接続される。電気分解によって電解液中に発生した二酸化塩素は、バブリングによって電解液中から空気中に取り出され、ガス配管6を通して、送風ファン21から装置の外へ放出される。電解液は電解液供給タンク12から電解液供給管7を通して電解室部1へ供給され、電解液排出管7’を通して電解液排出タンク13へ排出される。電解液供給管7は、電解液供給タンク12中の電解液を電解室部1へと供給するための給液ポンプ14、および、電解室部1へ供給された電解液の量を測定するための積算流量計16を備える。電解液排出管7’は、電解室部1の電解液を電解液排出タンク13へと排出するための排液ポンプ15、および、電解液排出タンク13へと排出された電解液の量を測定するための積算流量計16を備える。電気分解用の陽極18および陰極19で測定した電解電流値、および/または、積算流量計16で測定した値を、装置外枠22に設置されたインジケータ17へ表示する。さらに、電解室部1の外側へ漏れだした微量の二酸化塩素ガスは、装置外枠22へ設置された空気循環ファン8によって装置外部へ排出される。その際、二酸化塩素ガスは活性炭フィルター9によって吸着される。
図2は、本発明の一実施形態である、二室式の二酸化塩素ガス製造装置の電解室部1の模式図である。二室式の二酸化塩素ガス製造装置においては、電解室2および液面レベル測定室3を電解室部1に含み、バブリングガス供給部5は電気分解用の陽極18および陰極19の下方に設置される。さらに、スペーサー11は、バブリングされたガスが陽極18および陰極19に近づくことを阻害するように構成される。
図3は、本発明の一実施形態である、三室式の二酸化塩素ガス製造装置の電解室部1の模式図である。三室式の二酸化塩素ガス製造装置においては、電解室2、液面レベル測定室3、および、バブリング室23を電解室部1に含む。バブリングガス供給部5は電気分解用の陽極18および陰極19の下方、および、バブリング室23に設置される。
図4は、本発明の一実施形態である、バブリング室23が電解室部1から隔離されるタイプの二酸化塩素ガス製造装置の電解室部1およびバブリング室23の模式図である。バブリング室23は電解室部1から隔離された位置に設けられるが、ガス配管6および電解液配管10によって、電解室2および/または液面レベル測定室3に連結する。その他の構成は、製造例3と同様である。
図5〜7は、本発明において用いられるスペーサー11の一実施形態を示した図である。スペーサー11は、電気分解用の陽極18および陰極19を把持することにより固定する。さらに、スペーサー11は、電解室中において、電解液が供給される部位から電解液が排出される部位の方向へ、電解液の流れを阻害しないように構成され(図6)、さらに、バブリングされたガスが電解室の陰極および陽極に近づくことを阻害するように構成される(図7)。
図2をもとに製作した二酸化塩素ガス製造装置により、二酸化塩素発生の実験を行った。
上記の実施例において、液面レベル測定室を設けず、液面レベル検出用電極を電解室内に入れた装置で同様の実験を行ったところ、およそ1日で、バブリングの泡によるチャタリングが発生したことにより、液面レベル検出用電極に連動する液面リレーが動作しなくなり、ガス配管(発生したガスの排出管)から電解液が溢流し、発生効率を測定することができなかった。
2 電解室
3 液面レベル測定室
4 バブリングガス供給装置
5 バブリングガス供給部
6 ガス配管
7 電解液供給管
7’電解液排出管
8 空気循環ファン
9 活性炭フィルター
10 電解液配管
11 スペーサー
12 電解液供給タンク
13 電解液排出タンク
14 給液ポンプ
15 排液ポンプ
16 積算流量計
17 インジケータ
18 陽極
19 陰極
20 液面レベル検出用電極
21 二酸化塩素ガス送風ファン
22 装置外枠
23 バブリング室
Claims (18)
- 二酸化塩素ガス製造装置であって、
前記装置は、電解室、液面レベル測定室、および、バブリングガス供給装置を備え、
前記電解室と前記液面レベル測定室には、それぞれ電解液およびガスが含まれており、ここで、電解液は、亜塩素酸塩水溶液を含み、
前記電解室と前記液面レベル測定室は、各室に含まれる電解液の高さが実質的に等しくなるように、それぞれの液面の上方においてガス配管を通して相互に連結され、かつ、それぞれの液面の下方において電解液配管を通して相互に連結されており、
前記電解室は、陰極と陽極とを備え、ここで、前記陰極と陽極は、スペーサーに固定されており、
前記電解室は、前記電解室中の電解液に対し前記電解室の外からガスをバブリングにより供給するためのバブリングガス供給部を電解液中に備えており、ここで、前記バブリングガス供給部は配管を通して、前記電解室の外に配置された前記バブリングガス供給装置に接続されており、
前記液面レベル測定室は、液面レベルを測定するための手段を有している、
ことを特徴とする、
二酸化塩素ガス製造装置。 - 請求項1に記載の二酸化塩素ガス製造装置であって、
前記バブリングガス供給部は、前記スペーサーよりも下方に配置され、
前記スペーサーは、その下部において、バブリングされたガスが前記陰極および前記陽極に近づくことを阻害するように構成されていることを特徴とする、
二酸化塩素ガス製造装置。 - 請求項1または請求項2に記載の二酸化塩素ガス製造装置であって、
前記スペーサーは、前記陰極と前記陽極との間を所定の間隔に保つことを特徴とする、
二酸化塩素ガス製造装置。 - 請求項3に記載の二酸化塩素ガス製造装置であって、
前記所定の間隔が、1mm〜50mmであることを特徴とする、
二酸化塩素ガス製造装置。 - 請求項1〜4のいずれか1項に記載の二酸化塩素ガス製造装置であって、
前記液面レベルを測定するための手段は、相互に長さの異なる少なくとも2本以上の電極、および、当該異なる電極間の電流を測定することにより、各電極が液面に対し露出しているか否かを確認するための装置を含むことを特徴とする、
二酸化塩素ガス製造装置。 - 請求項1〜5のいずれか1項に記載の二酸化塩素ガス製造装置であって、
前記製造装置は、さらに、電解液供給タンクを備え、
前記電解室は、電解液供給管を通じて、前記電解液供給タンクに接続されていることを特徴とする、
二酸化塩素ガス製造装置。 - 請求項1〜6のいずれか1項に記載の二酸化塩素ガス製造装置であって、
前記製造装置は、さらに、電解液排出タンクを備え、
前記電解室および/または液面レベル測定室は、液面より下方において電解液排出管を通じて、前記電解液排出タンクに接続されていることを特徴とする、
二酸化塩素ガス製造装置。 - 請求項1〜7のいずれか1項に記載の二酸化塩素ガス製造装置であって、
前記製造装置は、さらに、二酸化塩素ガス送風ファンを備え、
前記電解室および/または液面レベル測定室は、液面より上方において二酸化塩素ガス放出管を通じて、前記二酸化塩素ガス送風ファンに接続されていることを特徴とする、
二酸化塩素ガス製造装置。 - 二酸化塩素ガス製造装置であって、
前記装置は、電解室、液面レベル測定室、バブリング室、および、バブリングガス供給装置を備え、
前記電解室、前記液面レベル測定室、および、前記バブリング室には、それぞれ電解液およびガスが含まれており、ここで、電解液は、亜塩素酸塩水溶液を含み、
前記電解室、前記液面レベル測定室、および、前記バブリング室は、各室に含まれる電解液の高さが実質的に等しくなるように、それぞれの液面の上方においてガス配管を通して相互に直接的または間接的に連結され、かつ、それぞれの液面の下方において電解液配管を通して相互に直接的または間接的に連結されており、
前記電解室は、陰極と陽極とを備え、ここで、前記陰極と陽極は、スペーサーに固定されており、
前記バブリング室は、前記バブリング室中の電解液に対し前記バブリング室の外からガスをバブリングにより供給するためのバブリングガス供給部を電解液中に備えており、ここで、前記バブリングガス供給部は配管を通して、前記バブリング室の外に配置された前記バブリングガス供給装置に接続されており、
前記液面レベル測定室は、液面レベルを測定するための手段を有している、
ことを特徴とする、
二酸化塩素ガス製造装置。 - 請求項9に記載の二酸化塩素ガス製造装置であって、
前記スペーサーは、前記陰極と前記陽極との間を所定の間隔に保つことを特徴とする、
二酸化塩素ガス製造装置。 - 請求項10に記載の二酸化塩素ガス製造装置であって、
前記所定の間隔が、1mm〜50mmであることを特徴とする、
二酸化塩素ガス製造装置。 - 請求項9〜11のいずれか1項に記載の二酸化塩素ガス製造装置であって、
前記液面レベルを測定するための手段は、相互に長さの異なる少なくとも2本以上の電極、および、当該異なる電極間の電流を測定することにより、各電極が液面に対し露出しているか否かを確認するための装置を含むことを特徴とする、
二酸化塩素ガス製造装置。 - 請求項9〜12のいずれか1項に記載の二酸化塩素ガス製造装置であって、
前記製造装置は、さらに、電解液供給タンクを備え、
前記電解室は、電解液供給管を通じて、前記電解液供給タンクに接続されていることを特徴とする、
二酸化塩素ガス製造装置。 - 請求項9〜13のいずれか1項に記載の二酸化塩素ガス製造装置であって、
前記製造装置は、さらに、電解液排出タンクを備え、
前記電解室、液面レベル測定室、および、前記バブリング室の少なくともいずれか1つは、液面より下方において電解液排出管を通じて、前記電解液排出タンクに接続されていることを特徴とする、
二酸化塩素ガス製造装置。 - 請求項9〜14のいずれか1項に記載の二酸化塩素ガス製造装置であって、
前記製造装置は、さらに、二酸化塩素ガス送風ファンを備え、
前記電解室、液面レベル測定室、および、前記バブリング室の少なくともいずれか1つは、液面より上方において二酸化塩素ガス放出管を通じて、前記二酸化塩素ガス送風ファンに接続されていることを特徴とする、
二酸化塩素ガス製造装置。 - 請求項9〜15のいずれか1項に記載の二酸化塩素ガス製造装置であって、
さらに、前記電解室が、前記電解室中の電解液に対し前記電解室の外からガスをバブリングにより供給するためのバブリングガス供給部を電解液中に備えており、ここで、前記バブリングガス供給部は配管を通して、前記電解室の外に配置された前記バブリングガス供給装置に接続されている、
ことを特徴とする、
二酸化塩素ガス製造装置。 - 請求項16に記載の二酸化塩素ガス製造装置であって、
前記電解室に備えられた前記バブリングガス供給部は、前記スペーサーよりも下方に配置され、
前記スペーサーは、その下部において、前記電解室に備えられた前記バブリングガス供給部からバブリングされたガスが前記陰極および前記陽極に近づくことを阻害するように構成されていることを特徴とする、
二酸化塩素ガス製造装置。 - 請求項1〜17のいずれか1項に記載の二酸化塩素ガス製造装置であって、
前記陰極と前記陽極との間に隔膜が存在しないことを特徴とする、
二酸化塩素ガス製造装置。
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