JPWO2015182706A1 - 水蒸気透過度測定装置の校正用標準フィルム及びその製造方法、並びに校正用標準フィルムセット及びそれを利用した校正方法 - Google Patents
水蒸気透過度測定装置の校正用標準フィルム及びその製造方法、並びに校正用標準フィルムセット及びそれを利用した校正方法 Download PDFInfo
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Abstract
Description
(校正用標準フィルムの作製)
厚さ100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを樹脂製フィルムとし、厚さ30μmのアルミニウム箔をバリア層として接着材を用いて貼り合わせたフィルムを校正用標準フィルムAとした。校正用標準フィルムのバリア層には、円形状の小孔をウェットエッチングによって1個設けた。校正用標準フィルムAの小孔の開口面積を表1に、円相当半径を表2に示す。なお、小孔の開口面積測定位置は、バリア層の最下部(すなわち、バリア層の樹脂製フィルム側の表面であって、本実験例では接着材露出面)とした。このときの水蒸気透過度は、温度40℃及び相対湿度90%RHの条件で、約1×10−4g/m2/dayであった。
校正用標準フィルム(補正用多穴試料)は円形状の小孔を2個、5個、10個設けた3種類のフィルムを作製し、それぞれ校正用標準フィルムB,C,Dとした。これらのフィルムを校正用標準フィルムAと合わせて校正用標準フィルムセットとした。校正用標準フィルムB,C,Dの小孔の開口面積を表1に、円相当半径を表2に示す。
各校正用標準フィルムについて、API−MS又はCRDS(Cavity Ring Down Spectroscopy)を検出器として使用した水蒸気透過度測定装置によってWVTRを測定した。測定条件は温度40℃、水蒸気供給側の相対湿度90%とした。校正用標準フィルムA〜Dについて水蒸気透過度と開口面積とをプロットしたグラフg4を図7に示す。図7に示すように、小孔を1個、2個、5個、10個と変化させた校正用標準フィルムでは傾きが0.97であり、傾き1に対して誤差±5%の範囲内で水蒸気透過度と開口面積の比例関係を確認した。また、本校正用標準フィルムを使用することによって約1×10−4g/m2/dayまでの水蒸気透過度の校正が確立した。
R/Lと、水蒸気透過度及び小孔の開口面積の比例関係との関係を確認した。厚さ100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを樹脂製フィルムとし、厚さ30μmのアルミニウム箔をバリア層として接着材を用いて貼り合わせ、バリア層に円形状の大孔を1個ずつ設けた6種類の試料を用意した。各フィルムの大孔の円相当半径は、それぞれ116.79μm、209.14μm、575.08μm、988.45μm、2468.59μm、4821.95μmであった。この6種類の試料についてWVTRを測定した。測定条件は温度40℃、水蒸気供給側の相対湿度90%とした。大孔を1個ずつ設けた6種類のフィルムについて水蒸気透過度と開口面積とをプロットしたグラフg5を図7に示す。図7に示すように、開口面積が大きい領域では水蒸気透過度と開口面積とが両対数グラフにおいて傾き1±5%の比例関係があること、開口面積が小さくなると両対数グラフにおいて傾き1±5%の比例関係からずれてくることが確認された。さらに、R/L≦5では、比例関係がずれてくることが確認された。比例関係がずれてくるのは基材の樹脂フィルムの材質に拘わらずR/Lで決まる。
校正用標準フィルムAの作製において、レジストに設ける開口部の半径を50μmとしてウェットエッチングを行った以外は校正用標準フィルムAと同様にして校正用標準フィルムを得た。得られた校正用標準フィルムの小孔を含む表面領域を、レーザー顕微鏡を用いて倍率1080倍で観察したところ、小孔の開口面積は、7.5928×10−9m2であり、円相当半径は49.16μmであった。小孔の開口面積測定位置は、実験例1−1と同様とした。また、この校正用標準フィルムの水蒸気透過度は温度40℃及び相対湿度90%RHの条件で、約6×10−5g/m2/dayであった。
第一実施形態に係る校正用標準フィルムの製造方法で、校正用標準フィルムを作製した。
まず、樹脂製フィルムとして厚さ100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)シート上に、フォトリソグラフィ技術を用いて、半径50μm、高さ56μmの円柱形のレジストパターンを形成した。具体的には、フィルムタイプのフォトレジストを貼り付け、開口部をパターニングしたマスクを通した紫外光を、露光装置を用いて照射した。水酸化ナトリウム水溶液を用いて、未露光部分を溶解することでマスキングした。
マスキング工程で得たレジストパターンが形成された樹脂性フィルム上に、樹脂製フィルム側から順に、Tiからなる層(厚さ0.1μm)及びCuからなる層(厚さ0.3μm)が配置された2層構造のシード層を形成した。具体的にはイオンプレーティング装置内に蒸着材(Ti(純度99.9%)、Cu(純度99.99%))および樹脂製フィルムを入れ、10−3〜10−4Pa程度の高真空状態にした後、Arガスを導入した。その後、電子銃にて蒸着材を加熱し、樹脂製フィルムにバイアス電圧を印加し、Ti(成膜レート0.1nm/sec)、Cu(成膜レート1nm/sec)の順に成膜した。
レジストを、レジスト上のシード層とともにリフトオフして除去した。具体的には、水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬することでレジストを溶解又は膨張させて除去した。レジスト上に形成されたシード層は上記工程において同時に除去された。
リフトオフ工程で得られた積層体のシード層上にメッキ処理を施してCuからなるメッキ層(厚さ20μm)を形成して校正用標準フィルムを得た。具体的には、硫酸銅メッキ浴を使用し、処理条件は室温で電流値:1.5A/dm2で、処理時間は60分とした。
第二実施形態に係る校正用標準フィルムの製造方法で、校正用標準フィルムを作製した。
マスキング工程で得たレジストパターンが形成された樹脂性フィルム上に、樹脂製フィルム側から順に、Tiからなる層(厚さ0.1μm)及びCuからなる層(厚さ0.3μm)が配置された2層構造のシード層を形成した。具体的にはイオンプレーティング装置内に蒸着材(Ti(純度99.9%)、Cu(純度99.99%))および樹脂製フィルムを入れ、10−3〜10−4Pa程度の高真空状態にした後、Arガスを導入した。その後、電子銃にて蒸着材を加熱し、樹脂製フィルムにバイアス電圧を印加し、Ti(成膜レート0.1nm/sec)、Cu(成膜レート1nm/sec)の順に成膜した。
シード層上に、フォトリソグラフィ技術を用いて、半径50μm、高さ56μmの円柱形のレジストパターンを形成した。具体的には、フィルムタイプのフォトレジストを貼り付け、開口部をパターニングしたマスクを通した紫外光を、露光装置を用いて照射した。水酸化ナトリウム水溶液を用いて、未露光部分を溶解することでマスキングした。
シード層上にメッキ処理を施してCuからなるメッキ層(厚さ20μm)を形成した。具体的には、硫酸銅メッキ浴を使用し、処理条件は室温で電流値:1.5A/dm2で、処理時間は60分とした。
小孔形成領域に形成されたレジストを除去した。具体的には、水酸化ナトリウム水溶液中に、浸漬することでレジストを溶解又は膨張させて除去した。
レジストの除去で露出したシード層をエッチングで除去した。具体的には、常温で40質量%の塩化第二鉄液に1分間浸漬することで、Cu層をエッチングした。その後、50℃に加熱した過酸化水素エッチング液(ADEKA社製、アデカテックW)に5分間浸漬することで、Ti層をエッチングした。
実験例3−1のマスキング工程において、レジストパターンを、半径10μm、高さ30μmの円柱形のレジストパターンに変更した以外は、実験例3−1と同様にして校正用標準フィルムを得た。
11 基材
12 バリア層
13 小孔
20 校正用標準フィルム(補正用多穴試料)
21 基材
22 バリア層
23 小孔
30,40 校正用標準フィルム
31,41 樹脂製フィルム
32,42 バリア層(メッキ層)
33,43 小孔
33a,43a 小孔形成領域
34,44 レジスト
35(35a,35b),45 シード層
Claims (13)
- 樹脂製フィルム上にバリア層を備え、該バリア層が少なくとも1個の小孔を有し、10−3g/m2/day以下の水蒸気透過度を測定する水蒸気透過度測定装置の校正用標準フィルムであって、
前記小孔の円相当半径をR[μm]、前記樹脂製フィルムの厚さをL[μm]としたとき、R/L≦5であることを特徴とする校正用標準フィルム。 - 前記樹脂製フィルムの厚さLが5〜500μmであることを特徴とする請求項1に記載の校正用標準フィルム。
- 前記バリア層は、金属、金属酸化物若しくは酸化ケイ素の蒸着層、金属箔又はメッキ層であることを特徴とする請求項1又は2記載の校正用標準フィルム。
- 前記小孔はエッチング、エレクトロフォーミング、レーザー加工又は研磨によって設けられることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つ記載の校正用標準フィルム。
- 前記小孔を複数個有し、前記各小孔の円相当半径のうち最小値が最大値の70%以上の範囲にあることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の校正用標準フィルム。
- 隣り合う小孔同士の縁における間隔は2L以上であることを特徴とする請求項5に記載の校正用標準フィルム。
- 請求項1〜6のいずれか一つに記載の校正用標準フィルムを複数枚備え、
該複数枚の校正用標準フィルムは、被験面内に有する小孔の個数が相互に異なるフィルムの組み合わせであり、かつ、前記複数枚の校正用標準フィルムに設けられた各小孔の円相当半径のうち最小値が最大値の70%以上の範囲にあることを特徴とする校正用標準フィルムセット。 - 前記複数枚の校正用標準フィルムのうち少なくとも1枚は、水蒸気透過度の絶対値が判明しているフィルムであることを特徴とする請求項7に記載の校正用標準フィルムセット。
- 請求項7又は8に記載の校正用標準フィルムセットを用いたことを特徴とする校正方法であって、
前記各校正用標準フィルムの水蒸気透過度を測定する工程と、
前記各校正用標準フィルムの小孔の開口面積[m2]と水蒸気透過度[g/m2/day]とを両対数グラフ上にプロットする工程と、
各プロットが傾き1±5%の直線上にあることを確認する工程と、を含むことを特徴とする校正方法。 - 樹脂製フィルム上にバリア層を備え、該バリア層が少なくとも1個の小孔を有し、10−3g/m2/day以下の水蒸気透過度を測定する水蒸気透過度測定装置の校正用標準フィルムの製造方法であって、
前記樹脂製フィルムの表面上にシード層を設ける工程1bと、
該シード層の表面上の小孔形成予定領域をレジストでマスキングする工程2bと、
前記シード層の前記小孔形成予定領域以外の表面上にメッキ処理を施し、前記バリア層としてメッキ層を設ける工程3bと、
前記小孔形成予定領域に設けられたレジスト及び該レジストの直下の前記シード層を除去する工程4bと、を有し、
前記小孔の円相当半径が、100μm未満であることを特徴とする校正用標準フィルムの製造方法。 - 前記工程1bのシード層が、無電解メッキ層であることを特徴とする請求項10に記載の校正用標準フィルムの製造方法。
- 樹脂製フィルム上にバリア層を備え、該バリア層が少なくとも1個の小孔を有し、10−3g/m2/day以下の水蒸気透過度を測定する水蒸気透過度測定装置の校正用標準フィルムの製造方法であって、
前記樹脂製フィルムの表面上の小孔形成領域をレジストでマスキングする工程1aと、
該レジストの表面上及び該レジストの周囲の前記樹脂製フィルムの表面上にシード層を設ける工程2aと、
前記レジストを、該レジストの表面上のシード層とともにリフトオフして除去する工程3aと、
前記樹脂製フィルムの表面上に残った前記シード層の表面上にメッキ処理を施し、前記バリア層として小孔を有するメッキ層を設ける工程4aと、を有し、
前記小孔の円相当半径が、100μm未満であることを特徴とする校正用標準フィルムの製造方法。 - 前記小孔の円相当半径をR[μm]、前記メッキ層の厚さをT[μm]としたとき、R/T<3であることを特徴とする請求項10〜12のいずれか一つに記載の校正用標準フィルムの製造方法。
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