JPWO2015105115A1 - 画像投影装置、調整方法、および制御方法 - Google Patents
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Abstract
Description
また、特許文献1および特許文献2では、レーザ光の光軸ずれを検出するために、専用の受光素子若しくは受光器を付加した構成であり、装置のコストが高くなってしまう。
X=(S−D)・tan(2・θ(t))+D/tan(45−θ(t))
により表される。
X=(S−(L・tan(tan−1(Ds/F))−Ds))・tan(2・θ(t)+tan−1(Ds/F))+(L・tan(tan−1(Ds/F))−Ds)/tan(45−θ(t))
により表される。
実施の形態1.
図1は、実施の形態1に係る画像投影装置1の構成を概略的に示すブロック図である。画像投影装置1は、入力された画像信号Iに基づいて光ビームを被投影面上でラスタ走査することによって、被投影面上に画像を投影する装置である。画像投影装置1は、例えば、透過型スクリーンの背面側から光を投影して画像を表示するリアプロジェクションテレビである。ただし、画像投影装置1は、これに限られず、フロントプロジェクタ、ヘッドアップディスプレイ、ヘッドマウントディスプレイ又はプロジェクションマッピング装置などでもよい。
θ(t)=θa・sin(2π・fh・t) …(1)
X=S・tan(2・θ)
=S・tan(2・θa・sin(2π・fh・t)) …(2)
Xi=S・tan(2・θa・sin(2π・fh・i・Δt)) …(3)
t=f(X) …(4)
tn=f(Xn) …(5)
Xn=−M・ΔX+n・ΔX …(6)
X=(S−D)・tan(2・θ)+D/tan(45−θ)
=(S−D)・tan(2・θa・sin(2π・fh・t))+D/tan(45−θa・sin(2π・fh・t)) …(7)
なお、上記の説明では、青色の光ビームが光軸ずれを有する場合を例示したが、他の色についても同様である。すなわち、赤色の光ビームおよび緑色の光ビームについても同様である。
t=f1(X,D) …(8)
tbn=f1(Xn,Db) …(9b)
trn=f1(Xn,Dr) …(9r)
tgn=f1(Xn,Dg) …(9g)
走査ミラー21の非駆動時に、赤色レーザ11(光源11)に光ビームを出射させる。そして、スクリーン30上における光ビームの照射位置Xrを測定する。下記式(10)から赤色の位置ずれ量Drを求める。式(10)は、式(7)にX=Xr、θ=0、D=Drを代入することで得られる。
Xr=Dr …(10)
以下、実施の形態2に係る画像投影装置2について説明する。この画像投影装置2は、実施の形態1に係る画像投影装置1に対し、走査ミラーの角度ずれを考慮して出射タイミングを決定する点で異なり、その他の部分については同様である。以下の説明では、実施の形態1と同様の部分については説明を省略または簡略化し、実施の形態1と同一または対応する要素については同一の符号を付す。
X=(S−D)・tan(2・(θ0+θ))+D/tan(45−θ0−θ)
=(S−D)・tan(2・(θ0+θa・sin(2π・fh・t)))+D/tan(45−θ0−θa・sin(2π・fh・t)) …(11)
なお、上記の説明では、青色の光ビームが光軸ずれを有する場合を例示したが、他の色の光ビームについても同様である。すなわち、赤色の光ビームおよび緑色の光ビームについても同様である。
t=f2(X,D,θ0) …(12)
tbn=f2(Xn,Db,θm) …(13b)
trn=f2(Xn,Dr,θm) …(13r)
tgn=f2(Xn,Dg,θm) …(13g)
θ0=(θ1−90)/2 …(14)
θ0=θ2/2 …(15)
X1=S・tan(2・θ0) …(16)
走査ミラー21の非駆動時に、赤色レーザ11(光源11)に光ビームを出射させる。スクリーン30上における光ビームの照射位置Xrを測定する。下記式(17)から赤色の光ビームの位置ずれ量Drを求める。式(17)は、式(11)にX=Xr、θ=0及びD=Drを代入することで得られる。
Xr=(S−Dr)・tan(2・θ0)+Dr/tan(45−θ0) …(17)
図7は、実施の形態3に係る画像投影装置3の構成を概略的に示すブロック図である。以下、図7を参照して、画像投影装置3について説明する。以下の説明では、実施の形態1と同様の部分については説明を省略または簡略化し、実施の形態1と同一または対応する要素については同一の符号を付す。
図11は、実施の形態4に係る画像投影装置4の構成を概略的に示すブロック図である。この画像投影装置4は、実施の形態2に係る画像投影装置に実施の形態3の特徴を組み合わせたものである。以下の説明では、実施の形態2または3と同様の部分については説明を省略または簡略化し、実施の形態2または3と同一または対応する要素については同一の符号を付す。
以上説明した本実施の形態4によれば、実施の形態2および3と同様の効果が得られる。
以下、実施の形態5に係る画像投影装置5について説明する。この画像投影装置5は、実施の形態1に係る画像投影装置1に対し、光ビーム走査光学系の構成、位置ずれの種類、および使用する関数が異なる。そして、画像投影装置5は、その他の部分については、画像投影装置1と同様である。以下の説明では、実施の形態1と同様の部分については説明を省略または簡略化し、実施の形態1と同一または対応する要素については同一の符号を付す。
図12において、光ビーム走査光学系580は、実施の形態1と同様に、走査ミラー部20およびスクリーン30を有する。また、実施の形態1と同様に、回転軸AHに直交する基準光軸A1が設定されている。
φ=tan−1(Ds/F) …(18)
X=(S−(L・tan(φ)−Ds))・tan(2・θ+φ)+(L・tan(φ)−Ds)/tan(45−θ)、φ=tan−1(Ds/F)、θ=θa・sin(2π・fh・t) …(19)
t=f3(X,Ds) …(20)
また、本実施の形態5における光学系および関数は、実施の形態3に適用されてもよい。すなわち、実施の形態3において、図3の光ビーム走査光学系80の代わりに図12の光ビーム走査光学系580が用いられ、関数t=f1(X,D)の代わりに関数t=f3(X,Ds)が用いられてもよい。この場合、例えば、実施の形態3と同様の方法で、緑色の光ビームを基準として、赤色の光ビームおよび青色の光ビームのパラメータ値が調整される。
以下、実施の形態6に係る画像投影装置6について説明する。この画像投影装置6は、実施の形態5に係る画像投影装置5に対し、走査ミラーの角度ずれを考慮して出射タイミングを決定する点で異なり、その他の部分については同様である。以下の説明では、実施の形態5と同様の部分については説明を省略または簡略化し、実施の形態5と同一または対応する要素については同一の符号を付す。
X=(S−(L・tan(φ)−Ds))・tan(2・(θ0+θ)+φ)+(L・tan(φ)−Ds)/tan(45−θ0−θ)、φ=tan−1(Ds/F)、θ=θa・sin(2π・fh・t) …(21)
t=f4(X,Ds,θ0) …(22)
以上説明した本実施の形態6によれば、実施の形態2および5と同様の効果が得られる。
Claims (18)
- 光ビームを出射する光源と、
前記光源から出射された光ビームを反射する走査ミラーを有し、前記走査ミラーを駆動して前記光ビームを走査することにより被投影面上に画像を投影する走査ミラー部と、
前記光源からの光ビームの出射タイミングを制御する制御部であって、前記走査ミラーに対する前記光ビームの位置ずれ量と、前記光源からの光ビームの出射タイミングと、当該出射タイミングで前記光源から出射された光ビームが照射される前記被投影面上の照射位置との関係を表す関数に基づき、予め得られた前記位置ずれ量の値と、前記光源からの光ビームが照射されるべき前記被投影面上の目標照射位置とから、前記目標照射位置に対応する光ビームの出射タイミングを決定する制御部と
を備え、
前記走査ミラー部は、前記走査ミラーを回転軸回りに回転させることによって前記光ビームを走査し、
前記光源からの光ビームは、前記回転軸に直交する基準光軸と平行な方向から前記走査ミラーに入射し、
前記位置ずれ量は、前記回転軸と前記基準光軸とに直交する方向における、前記走査ミラーに入射する光ビームの光軸の前記基準光軸からの位置ずれ量であり、
前記回転軸方向から見た場合において、
前記走査ミラー部は、前記被投影面上で前記基準光軸と平行な走査方向に前記光ビームを走査し、
前記走査ミラーの非駆動時における前記走査ミラーの法線と前記基準光軸とのなす角は45度であり、
前記回転軸から前記被投影面までの距離をS、
前記位置ずれ量をD、
前記光源からの光ビームの出射タイミングをt、
前記出射タイミングtにおける前記走査ミラーの非駆動時における回転位置からの回転角をθ(t)、
前記出射タイミングtで出射された光ビームが照射される前記被投影面上の前記走査方向における照射位置をXとしたとき、
前記関数は、
X=(S−D)・tan(2・θ(t))+D/tan(45−θ(t))
により表されることを特徴とする画像投影装置。 - 光ビームを出射する光源と、
前記光源から出射された光ビームを反射する走査ミラーを有し、前記走査ミラーを駆動して前記光ビームを走査することにより被投影面上に画像を投影する走査ミラー部と、
前記光源と前記走査ミラーとの間に配置され、前記光源から出射された光ビームの拡散角を変換するコリメータレンズと、
前記光源からの光ビームの出射タイミングを制御する制御部であって、前記走査ミラーに対する前記光源の位置ずれ量と、前記光源からの光ビームの出射タイミングと、当該出射タイミングで前記光源から出射された光ビームが照射される前記被投影面上の照射位置との関係を表す関数に基づき、予め得られた前記位置ずれ量の値と、前記光源からの光ビームが照射されるべき前記被投影面上の目標照射位置とから、前記目標照射位置に対応する光ビームの出射タイミングを決定する制御部と
を備え、
前記走査ミラー部は、前記走査ミラーを回転軸回りに回転させることによって前記光ビームを走査し、
前記コリメータレンズは、前記回転軸に直交する基準光軸と一致する光軸を有し、
前記位置ずれ量は、前記回転軸と前記基準光軸とに直交する方向における、前記光源の前記基準光軸からの位置ずれ量であり、
前記回転軸方向から見た場合において、
前記走査ミラー部は、前記被投影面上で前記基準光軸と平行な走査方向に前記光ビームを走査し、
前記走査ミラーの非駆動時における前記走査ミラーの法線と前記基準光軸とのなす角は45度であり、
前記回転軸から前記被投影面までの距離をS、
前記位置ずれ量をDs、
前記光源からの光ビームの出射タイミングをt、
前記出射タイミングtにおける前記走査ミラーの非駆動時における回転位置からの回転角をθ(t)、
前記基準光軸と平行な方向における前記回転軸と前記光源との距離をL、
前記基準光軸と平行な方向における前記コリメータレンズと前記光源との距離をF、
前記出射タイミングtで出射された光ビームが照射される前記被投影面上の前記走査方向における照射位置をXとしたとき、
前記関数は、
X=(S−(L・tan(tan−1(Ds/F))−Ds))・tan(2・θ(t)+tan−1(Ds/F))+(L・tan(tan−1(Ds/F))−Ds)/tan(45−θ(t))
により表されることを特徴とする画像投影装置。 - 光ビームを出射する光源と、
前記光源から出射された光ビームを反射する走査ミラーを有し、前記走査ミラーを駆動して前記光ビームを走査することにより被投影面上に画像を投影する走査ミラー部と、
前記光源からの光ビームの出射タイミングを制御する制御部であって、前記走査ミラーに対する前記光ビームまたは前記光源の位置ずれ量と、前記光源からの光ビームの出射タイミングと、当該出射タイミングで前記光源から出射された光ビームが照射される前記被投影面上の照射位置との関係を表す関数に基づき、予め得られた前記位置ずれ量の値と、前記光源からの光ビームが照射されるべき前記被投影面上の目標照射位置とから、前記目標照射位置に対応する光ビームの出射タイミングを決定する制御部と
を備え、
前記制御部は、前記被投影面上に投影すべき投影対象画像を示す画像信号を受け、当該画像信号に基づき、前記投影対象画像の各画素に対応する光ビームを前記光源から出射させ、前記各画素の前記被投影面上の位置を前記目標照射位置として、前記各画素に対応する光ビームの出射タイミングを決定し、
前記走査ミラー部は、前記走査ミラーを回転軸回りに回転させることによって前記光ビームを走査し、
前記関数は、前記位置ずれ量と、前記出射タイミングと、前記照射位置と、前記走査ミラーの予め定められた基準回転位置からのずれ角との関係を表し、
前記制御部は、前記関数に基づき、予め得られた前記位置ずれ量の値と、予め得られた前記ずれ角の値と、前記目標照射位置とから、前記目標照射位置に対応する光ビームの出射タイミングを決定することを特徴とする画像投影装置。 - 前記光源からの光ビームは、前記回転軸に直交する基準光軸と平行な方向から前記走査ミラーに入射し、
前記位置ずれ量は、前記回転軸と前記基準光軸とに直交する方向における、前記走査ミラーに入射する光ビームの光軸の前記基準光軸からの位置ずれ量であり、
前記基準回転位置は、前記走査ミラーの法線と前記基準光軸とのなす角が予め定められた基準角度となる回転位置であり、
前記ずれ角は、前記走査ミラーの非駆動時における回転位置の前記基準回転位置からのずれ角であることを特徴とする請求項3に記載の画像投影装置。 - 前記回転軸方向から見た場合において、
前記走査ミラー部は、前記被投影面上で前記基準光軸と平行な走査方向に前記光ビームを走査し、
前記基準角度は45度であり、
前記回転軸から前記被投影面までの距離をS、
前記位置ずれ量をD、
前記ずれ角をθ0、
前記光源からの光ビームの出射タイミングをt、
前記出射タイミングtにおける前記走査ミラーの非駆動時における回転位置からの回転角をθ(t)、
前記出射タイミングtで出射された光ビームが照射される前記被投影面上の前記走査方向における照射位置をXとしたとき、
前記関数は、
X=(S−D)・tan(2・(θ0+θ(t))+D/tan(45−θ0−θ(t))
により表されることを特徴とする請求項4に記載の画像投影装置。 - 前記光源と前記走査ミラーとの間に配置され、前記光源から出射された光ビームの拡散角を変換するコリメータレンズをさらに備え、
前記コリメータレンズは、前記回転軸に直交する基準光軸と一致する光軸を有し、
前記位置ずれ量は、前記回転軸と前記基準光軸とに直交する方向における、前記光源の前記基準光軸からの位置ずれ量であり、
前記基準回転位置は、前記走査ミラーの法線と前記基準光軸とのなす角が予め定められた基準角度となる回転位置であり、
前記ずれ角は、前記走査ミラーの非駆動時における回転位置の前記基準回転位置からのずれ角であることを特徴とする請求項3に記載の画像投影装置。 - 前記回転軸方向から見た場合において、
前記走査ミラー部は、前記被投影面上で前記基準光軸と平行な走査方向に前記光ビームを走査し、
前記基準角度は45度であり、
前記回転軸から前記被投影面までの距離をS、
前記位置ずれ量をDs、
前記ずれ角をθ0、
前記光源からの光ビームの出射タイミングをt、
前記出射タイミングtにおける前記走査ミラーの非駆動時における回転位置からの回転角をθ(t)、
前記基準光軸と平行な方向における前記回転軸と前記光源との距離をL、
前記基準光軸と平行な方向における前記コリメータレンズと前記光源との距離をF、
前記出射タイミングtで出射された光ビームが照射される前記被投影面上の前記走査方向における照射位置をXとしたとき、
前記関数は、
X=(S−(L・tan(tan−1(Ds/F))−Ds))・tan(2・(θ0+θ(t))+tan−1(Ds/F))+(L・tan(tan−1(Ds/F))−Ds)/tan(45−θ0−θ(t))
により表されることを特徴とする請求項6に記載の画像投影装置。 - 互いに波長の異なる光ビームを出射する複数の光源を有する光源部と、
前記各光源から出射された光ビームを反射する走査ミラーを有し、前記走査ミラーを駆動して前記各光源からの光ビームを走査することにより被投影面上に画像を投影する走査ミラー部と、
前記各光源からの光ビームの出射タイミングを制御する制御部であって、前記光源毎に、前記走査ミラーに対する当該光源からの光ビームまたは当該光源の位置ずれ量と、当該光源からの光ビームの出射タイミングと、当該出射タイミングで当該光源から出射された光ビームが照射される前記被投影面上の照射位置との関係を表す関数に基づき、予め得られた前記位置ずれ量の値と、当該光源からの光ビームが照射されるべき前記被投影面上の目標照射位置とから、前記目標照射位置に対応する光ビームの出射タイミングを決定する制御部と
を備え、
前記走査ミラー部は、前記走査ミラーを回転軸回りに回転させることによって前記各光源からの光ビームを走査し、
前記関数は、前記位置ずれ量と、前記出射タイミングと、前記照射位置と、前記走査ミラーの予め定められた基準回転位置からのずれ角との関係を表し、
前記制御部は、前記光源毎に、前記関数に基づき、予め得られた前記位置ずれ量の値と、予め得られた前記ずれ角の値と、前記目標照射位置とから、前記目標照射位置に対応する光ビームの出射タイミングを決定することを特徴とする画像投影装置。 - 互いに波長の異なる光ビームを出射する第1および第2の光源を有する光源部と、
前記各光源から出射された光ビームを反射する走査ミラーを有し、前記走査ミラーを駆動して前記各光源からの光ビームを走査することにより被投影面上に画像を投影する走査ミラー部と、
前記各光源からの光ビームの出射タイミングを制御する制御部であって、
前記第1の光源からの光ビームの出射タイミングと、当該出射タイミングで前記第1の光源から出射された光ビームが照射される前記被投影面上の照射位置との関係を表す第1の関数に基づき、前記第1の光源からの光ビームが照射されるべき前記被投影面上の目標照射位置から、前記目標照射位置に対応する前記第1の光源からの光ビームの出射タイミングを決定し、
前記走査ミラーに対する前記第2の光源からの光ビームまたは前記第2の光源の位置ずれ量と、前記第2の光源からの光ビームの出射タイミングと、当該出射タイミングで前記第2の光源から出射された光ビームが照射される前記被投影面上の照射位置との関係を表す第2の関数に基づき、前記位置ずれ量として調整可能なパラメータ値を用いて、前記第2の光源からの光ビームが照射されるべき前記被投影面上の目標照射位置から、前記目標照射位置に対応する前記第2の光源からの光ビームの出射タイミングを決定する制御部と、
前記制御部により用いられる前記パラメータ値を調整する調整部と
を備えることを特徴とする画像投影装置。 - 前記走査ミラー部は、前記走査ミラーを回転軸回りに回転させることによって前記各光源からの光ビームを走査し、
前記第2の関数は、前記位置ずれ量と、前記出射タイミングと、前記照射位置と、前記走査ミラーの予め定められた基準回転位置からのずれ角との関係を表し、
前記制御部は、前記第2の関数に基づき、前記パラメータ値と、予め得られた前記ずれ角の値と、前記目標照射位置とから、前記目標照射位置に対応する前記第2の光源からの光ビームの出射タイミングを決定することを特徴とする請求項9に記載の画像投影装置。 - 前記調整部は、前記被投影面上の同一の目標照射位置について、前記第2の光源からの光ビームが照射される前記被投影面上の照射位置が、前記第1の光源からの光ビームが照射される前記被投影面上の照射位置と一致するように、前記パラメータ値を調整することを特徴とする請求項9または10に記載の画像投影装置。
- 前記制御部は、前記被投影面上に投影すべき投影対象画像を示す画像信号を受け、当該画像信号に基づき、前記投影対象画像の各画素に対応する光ビームを前記各光源から出射させ、前記各画素の前記被投影面上の位置を前記目標照射位置として、前記各画素に対応する前記各光源からの光ビームの出射タイミングを決定し、
前記調整部は、前記画像信号として、前記第1の光源と前記第2の光源とで投影すべきパターンが同じである調整用画像を表す画像信号が用いられる場合に、前記被投影面上で前記第2の光源により投影されるパターンが前記第1の光源により投影されるパターンと一致するように、前記パラメータ値を調整することを特徴とする請求項9または10に記載の画像投影装置。 - 前記走査ミラー部は、前記被投影面上で互いに直交する第1および第2の走査方向に前記各光源からの光ビームを走査し、
前記第2の光源から出射された光ビームが照射される前記被投影面上の照射位置は、前記位置ずれ量の変化に応じて前記第1の走査方向に移動し、
前記調整用画像の前記パターンは、前記第2の走査方向に延びる直線パターンを含むことを特徴とする請求項12に記載の画像投影装置。 - 互いに波長の異なる光ビームを出射する第1および第2の光源を有する光源部と、
前記各光源から出射された光ビームを反射する走査ミラーを有し、前記走査ミラーを駆動して前記各光源からの光ビームを走査することにより被投影面上に画像を投影する走査ミラー部と、
前記各光源からの光ビームの出射タイミングを制御する制御部であって、
前記第1の光源からの光ビームの出射タイミングと、当該出射タイミングで前記第1の光源から出射された光ビームが照射される前記被投影面上の照射位置との関係を表す第1の関数に基づき、前記第1の光源からの光ビームが照射されるべき前記被投影面上の目標照射位置から、前記目標照射位置に対応する前記第1の光源からの光ビームの出射タイミングを決定し、
前記走査ミラーに対する前記第2の光源からの光ビームまたは前記第2の光源の位置ずれ量と、前記第2の光源からの光ビームの出射タイミングと、当該出射タイミングで前記第2の光源から出射された光ビームが照射される前記被投影面上の照射位置との関係を表す第2の関数に基づき、前記位置ずれ量として調整可能なパラメータ値を用いて、前記第2の光源からの光ビームが照射されるべき前記被投影面上の目標照射位置から、前記目標照射位置に対応する前記第2の光源からの光ビームの出射タイミングを決定する制御部と
を備える画像投影装置の調整方法であって、
前記制御部が、前記被投影面上の同一の目標照射位置に対応する光ビームを前記第1および第2の光源から出射させる出射工程と、
前記第2の光源からの光ビームが照射される前記被投影面上の照射位置が、前記第1の光源からの光ビームが照射される前記被投影面上の照射位置と一致するように、前記パラメータ値を調整する調整工程と
を含むことを特徴とする画像投影装置の調整方法。 - 前記制御部は、前記被投影面上に投影すべき投影対象画像を示す画像信号を受け、当該画像信号に基づき、前記投影対象画像の各画素に対応する光ビームを前記各光源から出射させ、前記各画素の前記被投影面上の位置を前記目標照射位置として、前記各画素に対応する前記各光源からの光ビームの出射タイミングを決定し、
前記出射工程では、前記制御部は、前記画像信号として、前記第1の光源と前記第2の光源とで投影すべきパターンが同じである調整用画像を表す画像信号を用いて、前記調整用画像の各画素に対応する光ビームを前記第1および第2の光源から出射させ、
前記調整工程では、前記被投影面上で前記第2の光源により投影されるパターンが前記第1の光源により投影されるパターンと一致するように、前記パラメータ値を調整することを特徴とする請求項14に記載の画像投影装置の調整方法。 - 光ビームを出射する光源と、
前記光源から出射された光ビームを反射する走査ミラーを有し、前記走査ミラーを駆動して前記光ビームを走査することにより被投影面上に画像を投影する走査ミラー部と
を備える画像投影装置の制御方法であって、
前記光源からの光ビームの出射タイミングを制御する制御工程であって、前記走査ミラーに対する前記光ビームまたは前記光源の位置ずれ量と、前記光源からの光ビームの出射タイミングと、当該出射タイミングで前記光源から出射された光ビームが照射される前記被投影面上の照射位置との関係を表す関数に基づき、予め得られた前記位置ずれ量の値と、前記光源からの光ビームが照射されるべき前記被投影面上の目標照射位置とから、前記目標照射位置に対応する光ビームの出射タイミングを決定する制御工程を含むことを特徴とする画像投影装置の制御方法。 - 互いに波長の異なる光ビームを出射する複数の光源を有する光源部と、
前記各光源から出射された光ビームを反射する走査ミラーを有し、前記走査ミラーを駆動して前記各光源からの光ビームを走査することにより被投影面上に画像を投影する走査ミラー部と
を備える画像投影装置の制御方法であって、
前記各光源からの光ビームの出射タイミングを制御する制御工程であって、前記光源毎に、前記走査ミラーに対する当該光源からの光ビームまたは当該光源の位置ずれ量と、当該光源からの光ビームの出射タイミングと、当該出射タイミングで当該光源から出射された光ビームが照射される前記被投影面上の照射位置との関係を表す関数に基づき、予め得られた前記位置ずれ量の値と、当該光源からの光ビームが照射されるべき前記被投影面上の目標照射位置とから、前記目標照射位置に対応する光ビームの出射タイミングを決定する制御工程を含むことを特徴とする画像投影装置の制御方法。 - 互いに波長の異なる光ビームを出射する第1および第2の光源を有する光源部と、
前記各光源から出射された光ビームを反射する走査ミラーを有し、前記走査ミラーを駆動して前記各光源からの光ビームを走査することにより被投影面上に画像を投影する走査ミラー部と
を備える画像投影装置の制御方法であって、
前記各光源からの光ビームの出射タイミングを制御する制御工程であって、
前記第1の光源からの光ビームの出射タイミングと、当該出射タイミングで前記第1の光源から出射された光ビームが照射される前記被投影面上の照射位置との関係を表す第1の関数に基づき、前記第1の光源からの光ビームが照射されるべき前記被投影面上の目標照射位置から、前記目標照射位置に対応する前記第1の光源からの光ビームの出射タイミングを決定し、
前記走査ミラーに対する前記第2の光源からの光ビームまたは前記第2の光源の位置ずれ量と、前記第2の光源からの光ビームの出射タイミングと、当該出射タイミングで前記第2の光源から出射された光ビームが照射される前記被投影面上の照射位置との関係を表す第2の関数に基づき、前記位置ずれ量として調整可能なパラメータ値を用いて、前記第2の光源からの光ビームが照射されるべき前記被投影面上の目標照射位置から、前記目標照射位置に対応する前記第2の光源からの光ビームの出射タイミングを決定する制御工程と、
前記制御工程で用いられる前記パラメータ値を調整する調整工程と
を含むことを特徴とする画像投影装置の制御方法。
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