JPWO2015098647A1 - シート状封止材、封止シート、電子デバイス封止体および有機el素子 - Google Patents
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Abstract
Description
しかし、有機EL素子には、時間の経過とともに、発光輝度、発光効率、発光均一性等の発光特性が低下し易いという問題があった。
有機EL素子の発光特性が低下する原因としては、酸素や水分等が有機EL素子の内部に浸入し、電極や有機層を劣化させることが考えられる。そして、この問題を解決すべく、封止材を用いる方法がいくつか提案されている。
例えば、特許文献1には、ガラス基板上に薄膜状の透明電極及び背面電極によって挟持された有機EL層を、耐湿性を有する光硬化性樹脂層(封止材)で被覆した有機EL素子が開示されている。また、特許文献2には、防湿性高分子フィルムと接着層により形成された封止フィルムを用いて、有機EL素子を封止する方法が開示されている。
例えば、特許文献3には、有機ELディスプレイ用の封止材料として、紫外線硬化機能と室温硬化機能を有するアクリル系接着剤が開示されている。
また、特許文献4には、熱履歴を受けた後であっても、有機EL表示素子による光を、優れた伝播効率でディスプレイ表面に伝播することができる粘着剤層を形成し得る粘着剤として、アクリル系粘着剤が開示されている。
(1)1又は2以上の封止樹脂層からなるシート状封止材であって、前記シート状封止材の、温度40℃、相対湿度90%における、50μm厚に換算したときの水蒸気透過率が、20g/(m2・day)以下であり、前記シート状封止材の、JIS Z 8729−1994に規定されるCIE L*a*b*表色系におけるb*値が、−2〜2%であり、かつ、前記シート状封止材の、波長370nmにおける光線透過率が1%以下、波長420nmにおける光線透過率が85%以上であることを特徴とする、シート状封止材。
(2)前記シート状封止材の厚みが、0.1〜100μmである、(1)に記載のシート状封止材。
(3)前記シート状封止材の、温度23℃、相対湿度50%の環境下での、ガラスに対する接着力が、3N/25mm以上である、(1)に記載のシート状封止材。
(4)前記封止樹脂層は、ゴム系ポリマー、(メタ)アクリル系ポリマー、ポリオレフィン系ポリマー、ポリエステル系ポリマー、スチレン系熱可塑性エラストマー及びシリコーン系ポリマーからなる群から選ばれる少なくとも1種を含む封止樹脂を含有する層である、(1)に記載のシート状封止材。
(5)前記封止樹脂層の少なくとも1層が、紫外線吸収剤を含有するものである、(1)に記載のシート状封止材。
(6)前記紫外線吸収剤が、330〜370nmの範囲内に最大吸収波長を有するものである、(5)に記載のシート状封止材。
(7)電子デバイスの封止に用いられる、(1)に記載のシート状封止材。
(8)1又は2以上の封止樹脂層からなるシート状封止材とガスバリア層とを有する封止シートであって、前記シート状封止材が、(1)に記載のシート状封止材であることを特徴とする封止シート。
(9)前記シート状封止材と、基材フィルム上に、直接又はその他の層を介して、前記ガスバリア層が形成されてなるガスバリアフィルムとを有するものである、前記(8)に記載の封止シート。
(10)電子デバイスの封止に用いられる、(8)に記載の封止シート。
(11)前記(1)に記載のシート状封止材、又は前記(8)に記載の封止シートによって、電子デバイスが封止されてなる電子デバイス封止体。
(12)透明基板上に、第1の電極、有機EL層、第2の電極、1又は2以上の封止樹脂層からなるシート状封止材、封止基材をこの順で有する有機EL素子であって、前記シート状封止材が、(1)に記載のシート状封止材であることを特徴とする有機EL素子。
本発明のシート状封止材は、1又は2以上の封止樹脂層からなるシート状封止材であって、前記シート状封止材の、温度40℃、相対湿度90%における、50μm厚に換算したときの水蒸気透過率が、20g/(m2・day)以下であり、前記シート状封止材の、JIS Z 8729−1994に規定されるCIE L*a*b*表色系におけるb*値が、−2〜2%であり、かつ、前記シート状封止材の、波長370nmにおける光線透過率が1%以下、波長420nmにおける光線透過率が85%以上であることを特徴とするものである。
この水蒸気透過率が、このような範囲にあることで、水分の浸入を十分に抑制することができる。このようなシート状封止材は、電子デバイス用の封止材として好適に用いられる。
水蒸気透過率は、実施例に記載の方法により測定することができる。
b*値は、色を数値化したときの、黄みと青みの程度を表すものである。b*値が正の値であれば、黄みを帯びていることを、負の値であれば、青みを帯びていることを表す。
b*値が上記範囲にあることで、そのシート状封止材はより無色に近いものとなる。このようなシート状封止材は、発光デバイスの封止材として好適に用いられる。
具体的には、後述するように、波長420nmにおける光線透過率を指標として、用いる紫外線吸収剤を選択し、さらに、含有量、シート状封止材の厚み等を適宜決定することで、b*値を制御することができる。
a*値は、色を数値化したときの、赤みと緑みの程度を表すものであり、a*値が正の値であれば、赤みを帯びていることを、負の値であれば、緑みを帯びていることを表す。
a*値が上記範囲にあることで、そのシート状封止材はより無色に近いものとなる。このようなシート状封止材は、発光デバイスの封止材として好適に用いられる。
a*値は、用いる封止樹脂やその他の成分を適宜選択することで、制御することができる。
JIS Z 8729−1994に規定されるCIE L*a*b*表色系におけるb*値やa*値は、実施例に記載の方法により測定することができる。
波長420nmにおける光線透過率は、例えば、紫外線吸収剤等の可視光を吸収する恐れのある添加剤を用いる場合、その含有量やシート状封止材の厚みを適宜決定することで、85%以上に制御することができる。
シート状封止材の厚みが上記範囲内であることで、水分遮断性、耐光性及び無色透明性のバランスが取れた封止材が得られ易くなる。
このようなシート状封止材であれば、封止したときに、被封止体との界面から水分等が浸入することを十分に防ぐことができる。
封止樹脂は、本発明の効果が得られるものである限り、特に限定されない。
封止樹脂としては、ゴム系ポリマー、(メタ)アクリル系ポリマー、ポリオレフィン系ポリマー、ポリエステル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、スチレン系熱可塑性エラストマー、等が挙げられる。
イソブチレン系重合体は、主鎖及び/又は側鎖に、イソブチレン由来の繰り返し単位を有する重合体をいう。イソブチレン由来の繰り返し単位の量は、50質量%以上が好ましく、60質量%以上がより好ましく、70〜99質量%がさらに好ましい。
イソブチレン系重合体としては、イソブチレンの単独重合体(ポリイソブチレン)、イソブチレンとイソプレンの共重合体(ブチルゴム)、イソブチレンとn−ブテンの共重合体、イソブチレンとブタジエンの共重合体、及びこれら重合体を臭素化又は塩素化して得られるハロゲン化重合体等のイソブチレン系重合体、等が挙げられる。これらの中でも、イソブチレンとイソプレンの共重合体(ブチルゴム)が好ましい。
(メタ)アクリル系ポリマーにおける(メタ)アクリル系モノマー由来の繰り返し単位の量は、50質量%以上が好ましく、60質量%以上がより好ましく、70〜99質量%がさらに好ましい。
(メタ)アクリル系モノマーとしては、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル等のアルキル基の炭素数が1から20の(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシメチル等の反応性官能基を有する(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。
オレフィン系モノマーとしては、エチレン;プロピレン、1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン、3−メチル−1−ブテン、1−ヘキセン、1−オクテン等の炭素数3〜20のα−オレフィン;シクロブテン、テトラシクロドデセン、ノルボルネン等の炭素数4〜20の環状オレフィン;又はこれらを変性したもの等が挙げられる。
多価カルボン酸としては、テレフタル酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、トリメリット酸等が挙げられる。ポリオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール等の脂肪族アルコールや、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリエーテルポリオールが挙げられる。
シリコーン系ポリマーとしては、ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン等が挙げられる。
これらの中でも、水蒸気透過率が低いシート状封止材が得られ易いことから、封止樹脂としては、ゴム系ポリマー又はポリオレフィン系ポリマーが好ましい。
封止樹脂の数平均分子量(Mn)が上記範囲内であることで、水蒸気透過率が低いシート状封止材が得られ易くなる。
封止樹脂の数平均分子量(Mn)は、テトラヒドロフランを溶媒として用いてゲルパーミエーションクロマトグラフィーを行い、標準ポリスチレン換算値として求めることができる。
封止樹脂層中に架橋構造を形成する際は、接着剤等における公知の架橋構造形成方法を利用することができる。
イソシアネート系架橋剤としては、トリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の芳香族ポリイソシアネート;ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ポリイソシアネート;イソホロンジイソシアネート、水素添加ジフェニルメタンジイソシアネート等の脂環式ポリイソシアネート;これらの化合物のビウレット体、イソシアヌレート体、さらにはエチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、トリメチロールプロパン、ヒマシ油等の低分子活性水素含有化合物との反応物であるアダクト体;等が挙げられる。
エポキシ系架橋剤としては、1,3−ビス(N,N’−ジグリシジジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−m−キシリレンジアミン、エチレングリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、ジグリシジルアニリン、ジグリシジルアミン等が挙げられる。
アジリジン系架橋剤はとしては、ジフェニルメタン−4,4’−ビス(1−アジリジンカーボキサミド)、トリメチロールプロパントリ−β−アジリジニルプロピオネート、テトラメチロールメタントリ−β−アジリジニルプロピオネート、トルエン−2,4−ビス(1−アジリジンカーボキサミド)、トリエチレンメラミン、ビスイソフタロイル−1−(2−メチルアジリジン)、トリス−1−(2−メチルアジリジン)フォスフィン、トリメチロールプロパントリ−β−(2−メチルアジリジン)プロピオネート等が挙げられる。
アルミニウムキレート化合物としては、ジイソプロポキシアルミニウムモノオレイルアセトアセテート、モノイソプロポキシアルミニウムビスオレイルアセトアセテート、モノイソプロポキシアルミニウムモノオレエートモノエチルアセトアセテート、ジイソプロポキシアルミニウムモノラウリルアセトアセテート、ジイソプロポキシアルミニウムモノステアリルアセトアセテート、ジイソプロポキシアルミニウムモノイソステアリルアセトアセテート等が挙げられる。
これらの架橋剤を用いて架橋構造を形成する場合、その使用量は、架橋剤の架橋性基(金属キレート系架橋剤の場合は、金属キレート系架橋剤)が、封止樹脂の水酸基及びカルボキシル基に対して、0.1〜5当量となる量が好ましく、0.2〜3当量となる量がより好ましい。
これらの重合開始剤を用いて架橋構造を形成する場合、その使用量は、封止樹脂100質量部に対して、0.1〜100質量部が好ましく、1〜100質量部がより好ましい。
紫外線吸収剤の最大吸収波長や、吸光係数を考慮して、その含有量やシート状封止材の厚みを適宜決定することで、シート状封止材の波長370nmにおける光線透過率を1%以下に制御し易くなる。
紫外線吸収剤の最大吸収波長(λmax)が330nm未満の場合は、波長370nmにおける光線透過率が1%以下に制御することが困難となるおそれがある。一方、紫外線吸収剤の最大吸収波長(λmax)が370nmを超えると、波長420nmにおける光線透過率が85%以上であるシート状封止材が得られ難くなるおそれがある。
紫外線吸収剤は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
封止樹脂層に粘着付与剤を含有させることで、水分遮断性により優れ、かつ、粘着力により優れるシート状封止材が得られ易くなる。
粘着付与剤は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
粘着付与剤の軟化点は、好ましくは、50〜160℃、より好ましくは60〜140℃、さらに好ましくは70〜130℃である。
その他の成分としては、シランカップリング剤、帯電防止剤、光安定剤、酸化防止剤、樹脂安定剤、充填剤、顔料、増量剤、軟化剤等の添加剤が挙げられる。
これらは、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
封止樹脂層がその他の成分を含有する場合、その含有量は、それぞれ、封止樹脂層全体に対して、0.01〜5質量%が好ましく、0.01〜2質量%がより好ましい。
本発明のシート状封止材が、2以上の封止樹脂層からなるものである場合、そのようなシート状封止材としては、同じ封止樹脂層を2層以上積層させたものであってもよく、異なる封止樹脂層を2層以上積層させたものであってもよい。
異なる封止樹脂層としては、封止樹脂が異なる層、封止樹脂以外の成分や、その含有量が異なる層等が挙げられる。
また、封止樹脂層中に紫外線吸収剤を過剰に含有させると、接着力が低下することがある。このような場合、シート状封止材を、2以上の封止樹脂層からなる積層体にすることで、接着性の低下を抑制することができる。例えば、両最外層と中間層からなる3層構造のシート状封止材において、中間層のみに紫外線吸収剤を含有させることで、紫外線吸収剤の添加による接着性の低下を防ぐことができる。
上記のように、封止樹脂層を2層以上積層することで、接着性を低下させることなく、水分遮断性、耐光性及び無色透明性のすべてに優れるシート状封止材を効率よく得ることができる。
剥離シート用の基材としては、グラシン紙、コート紙、上質紙等の紙基材;これらの紙基材にポリエチレン等の熱可塑性樹脂をラミネートしたラミネート紙;ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレン樹脂等のプラスチックフィルム;等が挙げられる。
剥離剤としては、シリコーン系樹脂、オレフィン系樹脂、イソプレン系樹脂、ブタジエン系樹脂等のゴム系エラストマー、長鎖アルキル系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等が挙げられる。
本発明のシート状封止材を、キャスト法により製造する場合、例えば、封止樹脂等の所定の成分を含有する樹脂組成物を調製し、この樹脂組成物を、公知の方法により、剥離シートの剥離処理面に塗工し、得られた塗膜を乾燥することで、剥離シート付封止樹脂層(剥離シート付の本発明のシート状封止材)を形成することができる。
溶媒としては、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒;シクロペンタン、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素系溶媒;等が挙げられる。
これらの溶媒は、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
塗膜を乾燥するときの乾燥条件としては、例えば80〜150℃で30秒〜5分間が挙げられる。
乾燥処理を行った後、そのまま1週間程度静置し、封止樹脂層を養生させてもよい。封止樹脂層を養生させることで、架橋構造を十分に形成することができる。
また、2以上の封止樹脂層からなるシート状封止材は、複数の封止樹脂層を形成し、これを、その封止樹脂層同士が対向するように積層させることで、得ることができる。
また、封止樹脂層の形成後に、その封止樹脂層上に樹脂組成物を塗工し、得られた塗膜を乾燥する方法によっても、2以上の封止樹脂層からなるシート状封止材を得ることができる。
このとき、多層押出製膜法により製膜することで、2以上の封止樹脂層からなシート状封止材を得ることができる。
本発明のシート状封止材を、多層押出製膜法により製造する場合は、共押出多層フィルムを製造する際に用いられる公知の方法を利用することができる。
本発明の封止シートは、1又は2以上の封止樹脂層からなるシート状封止材とガスバリア層とを有する封止シートであって、前記シート状封止材が、本発明のシート状封止材であるものである。
無機蒸着膜としては、無機化合物や金属の蒸着膜が挙げられる。
無機化合物の蒸着膜の原料としては、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化スズ等の無機酸化物;窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化チタン等の無機窒化物;無機炭化物;無機硫化物;酸化窒化ケイ素等の無機酸化窒化物;無機酸化炭化物;無機窒化炭化物;無機酸化窒化炭化物等が挙げられる。
金属の蒸着膜の原料としては、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、及びスズ等が挙げられる。
これらは1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの中では、ガスバリア性の観点から、無機酸化物、無機窒化物又は金属を原料とする無機蒸着膜が好ましく、さらに、透明性の観点から、無機酸化物又は無機窒化物を原料とする無機蒸着膜が好ましい。
これらの中でも、優れたガスバリア性を有するガスバリア層を形成できる観点から、ケイ素含有高分子化合物が好ましい。ケイ素含有高分子化合物としては、公知のものを用いることができる。例えば、ポリシラザン化合物、ポリカルボシラン化合物、ポリシラン化合物、及びポリオルガノシロキサン化合物等が挙げられる。これらの中でも、ポリシラザン化合物が好ましい。
ポリシラザン系化合物は、ガラスコーティング材等として市販されている市販品をそのまま使用することもできる。
ポリシラザン系化合物は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
メタン、エタン等のアルカン系ガス類のイオン;エチレン、プロピレン等のアルケン系ガス類のイオン;ペンタジエン、ブタジエン等のアルカジエン系ガス類のイオン;アセチレン等のアルキン系ガス類のイオン;ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系ガス類のイオン;シクロプロパン等のシクロアルカン系ガス類のイオン;シクロペンテン等のシクロアルケン系ガス類のイオン;金属のイオン;有機ケイ素化合物のイオン;等が挙げられる。
これらのイオンは1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの中でも、より簡便にイオンを注入することができ、特に優れたガスバリア性を有するガスバリア層が得られることから、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン等の希ガスのイオンが好ましい。
また、ガスバリア層の配置位置は特に限定されず、封止樹脂層上に直接形成されていてもよいし、その他の層を介して形成されていてもよい。
ガスバリアフィルムは、基材フィルム上に、直接又はその他の層を介して、ガスバリア層が形成されてなるものである。
1又は2以上の封止樹脂層からなるシート状封止材とガスバリアフィルムとを有する封止シートにおいては、ガスバリアフィルムのガスバリア層側の面にシート状封止材が積層されていることが好ましい。
基材フィルムの厚みは、特に制限はないが、取り扱い易さの観点から、好ましくは0.5〜500μm、より好ましくは1〜200μm、さらに好ましくは5〜100μmである。
ガスバリア層は、単層であっても、複数層であってもよい。
水蒸気透過率が0.1g/(m2・day)以下であることで、シート状封止材の上下面を通過する水分量を十分に低下させることができる。
ガスバリアフィルムの水蒸気の透過率は、公知のガス透過率測定装置を使用して測定することができる。
ガスバリアフィルムの全光線透過率が80%以上であることで、本発明の封止シートを、透明性が要求される、透明基板上に形成された素子の封止材として好適に用いることができる。
先ず、剥離シートを用意し、該剥離シートの剥離処理面上に、封止樹脂層形成用の樹脂組成物を塗工し、得られた塗膜を乾燥して、シート状封止材を形成することで、剥離シート付シート状封止材(剥離シート付の、本発明のシート状封止材)を得る。次いで、得られた剥離シート付シート状封止材とガスバリアフィルムを積層することで、剥離シート付の封止シートを得ることができる。
剥離シート付シート状封止材とガスバリアフィルムの積層方法は特に限定されない。例えば、剥離シート付シート状封止材とガスバリアフィルムとを重ね合わせ、ローラー等を用いて押圧することでこれらを積層することができる。押圧する際は、室温で行ってもよいし、加熱しながら行ってもよい。加熱しながら押圧する場合、温度は特に限定されないが、通常、150℃以下である。
先ず、ガスバリアフィルムを用意し、このガスバリアフィルムのガスバリア層上に、封止樹脂層形成用の樹脂組成物を公知の方法により塗工し、得られた塗膜を乾燥して、シート状封止材を形成することで、目的とする封止シートを得ることができる。また、封止シートを形成した後、得られた封止シートのシート状封止材を保護するために、該シート状封止材上に剥離シートを積層することにより、剥離シート付の封止シートを得ることができる。
また、本発明のシート状封止材の製造方法で示したものと同様の方法により、複数の封止樹脂層を有するシート状封止材を形成してもよい。
本発明の電子デバイス封止体は、本発明のシート状封止材、又は、本発明の封止シートによって、電子デバイスが封止されてなるものである。
透明基板上に形成される素子の、種類や大きさ、形状、個数等は、特に制限されない。
透明基板の厚さは特に制限されず、光の透過率や、素子内外を遮断する性能を勘案して、適宜選択することができる。
透明導電層を形成する材料としては、公知の材料を用いることができる、具体的には、インジウム−スズ複合酸化物(ITO)、フッ素がドープされた酸化スズ(IV)SnO2(FTO)、酸化スズ(IV)SnO2、酸化亜鉛(II)ZnO、インジウム−亜鉛複合酸化物(IZO)等が挙げられる。
これらの材料は、一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明の有機EL素子は、透明基板上に、第1の電極、有機EL層、第2の電極、1又は2以上の封止樹脂層からなるシート状封止材、封止基材をこの順で有する有機EL素子であって、前記シート状封止材が本発明のシート状封止材であることを特徴とするものである。
本発明の有機EL素子は、前述した本発明のシート状封止材又は封止シートを用いて形成することができる。
各例中の部及び%は、特に断りのない限り、質量基準である。
各例で用いた化合物や材料を以下に示す。
封止樹脂(1):イソブチレンとイソプレンの共重合体(日本ブチル社製、Exxon Butyl 268、数平均分子量260,000、イソプレンの含有率1.7モル%)
封止樹脂(2):無水マレイン酸変性ポリオレフィン樹脂(三井化学社製、AdmerSE731)
封止樹脂(3):アクリル酸ブチルとアクリル酸の共重合体(アクリル酸ブチル90モル%:アクリル酸10モル%、重量平均分子量650,000)
装置:東ソー社製、HLC−8020
カラム:東ソー社製、TSK guard column HXL−H、TSK gel GMHXL(×2)、TSK gel G2000HXL
カラム温度:40℃
展開溶媒:テトラヒドロフラン
流速:1.0mL/min
紫外線吸収剤(1):ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(BASF社製、Tinuvin900、最大吸収波長348nm、吸光度1.7)
紫外線吸収剤(2):ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(BASF社製、Tinuvin326、最大吸収波長355nm、吸光度2.1)
紫外線吸収剤(3):ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(BASF社製、Tinuvin460、最大吸収波長349nm、吸光度4.1)
紫外線吸収剤(4):ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(BASF社製、Tinuvin CarboProtect、最大吸収波長378nm、吸光度1.2)
剥離シート(1):シリコーン剥離処理したポリエチレンテレフタレートフィルム(リンテック社製、SP−PET381130、厚み38μm)
剥離シート(2):シリコーン剥離処理したポリエチレンテレフタレートフィルム(リンテック社製、SP−PET38T103−1、厚み38μm)
なお、上記の吸光度は、紫外線吸収剤を封止樹脂に対して2%添加し、膜厚20μmとした際の最大吸光度である。このとき、ブランクとして、紫外線吸収剤未添加の樹脂を使用した。
基材フィルムとして、ポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡績社製、コスモシャインA4100、厚さ50μm)を用い、この基材フィルム上に、ポリシラザン化合物(ペルヒドロポリシラザンを主成分とするコーティング材(クラリアントジャパン社製、アクアミカNL110−20)をスピンコート法により塗布し、得られた塗膜を120℃で1分間加熱して、厚さ150nmの、ペルヒドロポリシラザンを含むポリシラザン層を形成した。次に、プラズマイオン注入装置を用いてポリシラザン層の表面に、下記の条件にて、アルゴン(Ar)をプラズマイオン注入して、ガスバリア層を形成して、ガスバリアフィルムを作製した。
(プラズマイオン注入装置)
RF電源:日本電子社製、型番号「RF」56000
高電圧パルス電源:栗田製作所社製、「PV−3−HSHV−0835」
(プラズマイオン注入条件)
プラズマ生成ガス:Ar
ガス流量:100sccm
Duty比:0.5%
印加電圧:−15kV
RF電源:周波数 13.56MHz、印加電力 1000W
チャンバー内圧:0.2Pa
パルス幅:5μsec
処理時間(イオン注入時間):200秒
封止樹脂(1)100部、紫外線吸収剤(1)6部をトルエンに溶解し、固形分濃度20%の樹脂組成物Aを得た。
樹脂組成物Aを、剥離シート(1)の剥離処理面上に、乾燥後の厚みが20μmになるように塗工し、得られた塗膜を120℃で2分間乾燥し、封止樹脂層を形成した。次いで、剥離シート(2)を、その剥離処理面で貼り合せて、剥離シート付シート状封止材を得た。
各成分とその配合量及び乾燥後の厚みを、第1表に記載のものに変更したことを除き、実施例1と同様にして、剥離シート付シート状封止材を得た。
封止樹脂(2)100部、紫外線吸収剤(1)3部をドライブレンドし、押出製膜法にて厚み40μmのシート状封止材を得た。
封止樹脂(3)100部に、イソシアネート化合物(1)1.5部、及び紫外線吸収材(1)3部を添加し、トルエンを加えることで、固形分濃度20%の樹脂組成物を得た。この樹脂組成物を用いたことを除き、実施例1と同様にして、剥離シート付シート状封止材を得た。
紫外線吸収剤(1)を配合しないで調製した樹脂組成物を用いたことを除き、実施例1と同様にして、樹脂組成物Bを得た。
樹脂組成物Bを、剥離シート(1)の剥離処理面上に、乾燥後の厚みが5μmになるように塗工し、得られた塗膜を120℃で2分間乾燥し、封止樹脂層を形成した。なお、以下の積層工程においては、この封止樹脂層を2枚用いるため、これらを封止樹脂層1、封止樹脂層3と表す。
また、各成分とその配合量及び乾燥後の厚みを、第3表に記載のものに変更したことを除き、実施例1と同様の方法により、剥離シート(1)の剥離処理面上に、乾燥後の厚みが40μmになるように塗工し、得られた塗膜を120℃で2分間乾燥し、封止樹脂層2を形成した。次いで、剥離シート(2)を、その剥離処理面で貼り合せて、剥離シート付封止樹脂層2を得た。
剥離シート付封止樹脂層2の一方の剥離シート(1)を剥離し、封止樹脂層2を露出させ、この露出面と、封止樹脂層1を重ねて貼合した。次いで、もう一枚の剥離シート(2)を剥離し、封止樹脂層2を露出させ、この露出面と、封止樹脂層3とを重ねて貼合することで、封止樹脂層1(厚み5μm)/封止樹脂層2(厚み40μm)/封止樹脂層3(厚み5μm)、の3層構造のシート状封止材を得た。
封止樹脂(2)100部、紫外線吸収剤(1)3部をドライブレンドした。その一方で、封止樹脂(2)のみを用意し、多層押出製膜法にて、封止樹脂層1(厚み5μm、封止樹脂(2)のみからなる層)/封止樹脂層2(厚み40μm、封止樹脂(2)及び紫外線吸収剤(1)からなる層)/封止樹脂層3(厚み5μm、封止樹脂(2)のみからなる層)、の3層構造のシート状封止材を得た。
(水蒸気透過率測定)
剥離シートを剥離したシート状封止材(実施例7、9においては、得られたシート状封止材)を2枚のポリエチレンテレフタレートフィルム(三菱樹脂社製、厚さ6μm)で挟むことで、水蒸気透過率測定用のサンプルを得た。次いで、水蒸気透過率測定装置(LYSSY社製、L80−5000)を用いて、温度40℃、相対湿度90%における、封止材の水蒸気透過率を測定した。
測定結果に対して、下記の計算を行い、厚みが50μmのときの水蒸気透過率を算出した。得られた、厚みが50μmのときの水蒸気透過率を第1表〜第3表に示す。
剥離シートを剥離したシート状封止材(実施例7、9においては、得られたシート状封止材)をガラス板(エヌ・エス・ジー・プレシジョン社製、コーニングガラスイーグルXG、150mm×70mm×2mm)に加熱しながら貼付し、シート状封止材とガラス板からなる測定用サンプルを得た。
このサンプルの光線透過率を、可視光透過率測定装置(島津製作所社製、UV−3101PC)を用いて測定した。
370nm及び420nmにおける光線透過率を第1表〜第3表に示す。
可視光透過率の測定用サンプルの作製法と同様の方法により、測定用サンプルを得た。
このサンプルの、CIE1976L*a*b*表色系により規定される色彩値b*を、JIS Z 8729−1994に準拠し、分光光度計(島津製作所社製、MPC3100)を用いて測定した。
測定結果を第1表〜第3表に示す。
剥離シートを剥離したシート状封止材(実施例7、10においては、得られたシート状封止材)をポリエチレンテレフタレートシートに貼付し、次いで、これを25mm×300mmの大きさに裁断した。このものを、温度23℃、相対湿度50%の環境下で、ガラス板(ソーダライムガラス、日本板硝子社製)に加熱しながら貼付し、圧着して測定用サンプルを得た。
圧着後、測定用サンプルを、温度23℃、相対湿度50%の環境下に24時間静置した後、同環境下で、引張試験機(オリエンテック社製、テンシロン)を用いて、剥離速度300mm/分、剥離角度180°の条件で剥離試験を行い、接着力(N/25mm)を測定した。
測定結果を第1表〜第3表に示す。
剥離シートを剥離したシート状封止材(実施例7、10においては、得られたシート状封止材)を、2枚のガラス板で挟み、測定用サンプルを得た。このものを、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に載置し、ポリエチレンテレフタレートフィルム/ガラス板/シート状封止材/ガラス板、の順の層構造を有する積層体とした。
次いで、促進耐候性試験機(岩崎電気社製、アイ スーパーUVテスター SUV−13)を用いて、温度63℃、相対湿度70%の条件で、ガラス板側から、紫外線(照度900W/m2)を100時間照射した。
紫外線照射後に、上記の色相評価における測定と同様の測定により、ポリエチレンテレフタレートの色彩値b*を測定し、以下の基準により耐候性を評価した。評価結果を第1表〜第3表に示す。
○:b*が2未満
×:b*が2以上
ガラス基板を溶媒で洗浄し、次いでUV/オゾン処理を行った後、その表面に、アルミニウム(Al)(高純度化学研究所社製)を0.1nm/sの速度で100nm蒸着させて陰極を形成した。
得られた陰極(Al膜)上に、(8−ヒドロキシ−キノリノレート)リチウム(Luminescence Technology社製)を10nm、2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(Luminescence Technology社製)を10nm、トリス(8−ヒドロキシ−キノリネート)アルミニウム(Luminescence Technology社製)を40nm、N,N’−ビス(ナフタレン−1−イル)−N,N’−ビス(フェニル)−ベンジデン)(Luminescence Technology社製)を60nm、0.1〜0.2nm/sの速度で順次蒸着させ、発光層を形成した。
得られた発光層上に、酸化インジウムスズ(ITO)膜(厚さ:100nm、シート抵抗:50Ω/□)をスパッタリング法により形成して陽極を作製し、有機EL素子を得た。なお、蒸着時の真空度は、全て1×10−4Pa以下である。
次いで、ガラス基板上に形成された有機EL素子を覆うように、シート状封止材を載置し、その上にガスバリアフィルムを載置し、常温(実施例1〜6、比較例1〜5)、又は100℃(実施例7,9)で圧着して、有機EL素子を封止し、トップエミッション型の電子デバイスを得た。
次いで、有機EL素子を、温度23℃、相対湿度50%の環境下で50時間放置した後、有機EL素子を起動させ、ダークスポット(非発光箇所)の有無を観察し、以下の基準で評価した。評価結果を第1表〜第3表に示す。
○:ダークスポットが発光面積の10%未満
×:ダークスポットが発光面積の10%以上
本願実施例1〜9のシート状封止材は、水蒸気透過率が、20g/(m2・day)以下であり、b*が−2〜2%の範囲の値であり、かつ、波長370nmにおける光線透過率が1%以下、波長420nmにおける光線透過率が85%以上の値である。したがって、水分遮断性、耐光性及び無色透明性のすべてに優れる。また、十分な接着力を有し、耐光性、有機EL素子の耐久性にも優れている。
一方、比較例1,2のシート状封止材は、耐光性に劣っている。
比較例3のシート状封止材は、紫外線吸収剤の量が多すぎて分散ができず、膜を形成することができなかった。
比較例4のシート状封止材は、b*が大きな値であり、黄色味を強く帯びている。
比較例5のシート状封止材は、有機EL素子の耐久性に劣っている。
Claims (12)
- 1又は2以上の封止樹脂層からなるシート状封止材であって、
前記シート状封止材の、温度40℃、相対湿度90%における、50μm厚に換算したときの水蒸気透過率が、20g/(m2・day)以下であり、
前記シート状封止材の、JIS Z 8729−1994に規定されるCIE L*a*b*表色系におけるb*値が、−2〜2%であり、かつ、
前記シート状封止材の、波長370nmにおける光線透過率が1%以下、波長420nmにおける光線透過率が85%以上であることを特徴とする、シート状封止材。 - 前記シート状封止材の厚みが、0.1〜100μmである、請求項1に記載のシート状封止材。
- 前記シート状封止材の、温度23℃、相対湿度50%の環境下での、ガラスに対する接着力が、3N/25mm以上である、請求項1に記載のシート状封止材。
- 前記封止樹脂層は、ゴム系ポリマー、(メタ)アクリル系ポリマー、ポリオレフィン系ポリマー、ポリエステル系ポリマー、スチレン系熱可塑性エラストマー及びシリコーン系ポリマーからなる群から選ばれる少なくとも1種を含む封止樹脂を含有する層である、請求項1に記載のシート状封止材。
- 前記封止樹脂層の少なくとも1層が、紫外線吸収剤を含有するものである、請求項1に記載のシート状封止材。
- 前記紫外線吸収剤が、330〜370nmの範囲内に最大吸収波長を有するものである、請求項5に記載のシート状封止材。
- 電子デバイスの封止に用いられる、請求項1に記載のシート状封止材。
- 1又は2以上の封止樹脂層からなるシート状封止材とガスバリア層とを有する封止シートであって、
前記シート状封止材が、請求項1に記載のシート状封止材であることを特徴とする封止シート。 - 前記シート状封止材と、基材フィルム上に、直接又はその他の層を介して、前記ガスバリア層が形成されてなるガスバリアフィルムとを有するものである、請求項8に記載の封止シート。
- 電子デバイスの封止に用いられる、請求項8に記載の封止シート。
- 請求項1に記載のシート状封止材、又は請求項8に記載の封止シートによって、電子デバイスが封止されてなる電子デバイス封止体。
- 透明基板上に、第1の電極、有機EL層、第2の電極、1又は2以上の封止樹脂層からなるシート状封止材、封止基材をこの順で有する有機EL素子であって、
前記シート状封止材が、請求項1に記載のシート状封止材であることを特徴とする有機EL素子。
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