JPWO2015093237A1 - フルオロポリエーテル化合物、これを含有する潤滑剤ならびに磁気ディスク - Google Patents
フルオロポリエーテル化合物、これを含有する潤滑剤ならびに磁気ディスク Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2015093237A1 JPWO2015093237A1 JP2015553445A JP2015553445A JPWO2015093237A1 JP WO2015093237 A1 JPWO2015093237 A1 JP WO2015093237A1 JP 2015553445 A JP2015553445 A JP 2015553445A JP 2015553445 A JP2015553445 A JP 2015553445A JP WO2015093237 A1 JPWO2015093237 A1 JP WO2015093237A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- och
- magnetic disk
- ppm
- integer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C43/00—Ethers; Compounds having groups, groups or groups
- C07C43/02—Ethers
- C07C43/20—Ethers having an ether-oxygen atom bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C43/23—Ethers having an ether-oxygen atom bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring containing hydroxy or O-metal groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C43/00—Ethers; Compounds having groups, groups or groups
- C07C43/02—Ethers
- C07C43/03—Ethers having all ether-oxygen atoms bound to acyclic carbon atoms
- C07C43/04—Saturated ethers
- C07C43/13—Saturated ethers containing hydroxy or O-metal groups
- C07C43/137—Saturated ethers containing hydroxy or O-metal groups containing halogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C43/00—Ethers; Compounds having groups, groups or groups
- C07C43/02—Ethers
- C07C43/20—Ethers having an ether-oxygen atom bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C43/225—Ethers having an ether-oxygen atom bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring containing halogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M105/00—Lubricating compositions characterised by the base-material being a non-macromolecular organic compound
- C10M105/50—Lubricating compositions characterised by the base-material being a non-macromolecular organic compound containing halogen
- C10M105/54—Lubricating compositions characterised by the base-material being a non-macromolecular organic compound containing halogen containing carbon, hydrogen, halogen and oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M107/00—Lubricating compositions characterised by the base-material being a macromolecular compound
- C10M107/38—Lubricating compositions characterised by the base-material being a macromolecular compound containing halogen
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/725—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing a lubricant, e.g. organic compounds
- G11B5/7253—Fluorocarbon lubricant
- G11B5/7257—Perfluoropolyether lubricant
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M2211/00—Organic non-macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions
- C10M2211/04—Organic non-macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions containing carbon, hydrogen, halogen, and oxygen
- C10M2211/042—Alcohols; Ethers; Aldehydes; Ketones
- C10M2211/0425—Alcohols; Ethers; Aldehydes; Ketones used as base material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M2213/00—Organic macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions
- C10M2213/04—Organic macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions obtained from monomers containing carbon, hydrogen, halogen and oxygen
- C10M2213/043—Organic macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions obtained from monomers containing carbon, hydrogen, halogen and oxygen used as base material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
- C10N2030/00—Specified physical or chemical properties which is improved by the additive characterising the lubricating composition, e.g. multifunctional additives
- C10N2030/06—Oiliness; Film-strength; Anti-wear; Resistance to extreme pressure
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
- C10N2040/00—Specified use or application for which the lubricating composition is intended
- C10N2040/14—Electric or magnetic purposes
- C10N2040/18—Electric or magnetic purposes in connection with recordings on magnetic tape or disc
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Lubricants (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
Description
1.式(1):
C6H6−i−[O−(CH2)n−O−CH2―R−CH2−X]i (1)
(式中、nは2〜6の整数であり、iは2または3の整数であり、Xは−OH、−O−(CH2)m−OH、−OCH2CH(OH)CH2OH、−OCH2CH(OH)CH2O−C6H5、または−OCH2CH(OH)CH2O−C6H4−OCH3で表される基である。mは1〜6の整数である。Rは、−(CF2)pO(CF2O)x(CF2CF2O)y(CF2CF2CF2O)z(CF2CF2CF2CF2O)w(CF2)p−である。x及びyは、それぞれ0〜30の実数である。zは0〜30の実数である。wは0〜20の実数である。pは1〜3の整数である。)
で表される化合物。
2.式(1)で表される化合物を含有する潤滑剤。
3.支持体上に少なくとも記録層及び保護層を形成し、その表面に潤滑層を有する磁気ディスクにおいて、該潤滑層が式(1)で表される化合物を含有する磁気ディスク。
C6H6−i−[O−(CH2)n−Y]i (2)
(式中、nは2〜6の整数であり、iは2または3の整数であり、Yは塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲンを示す。)で表される2つまたは3つのハロゲン化アルコキシ基を有するベンゼン(b)とを、触媒又はアルカリ金属の存在下で反応させる。
C6H3−[O−(CH2)3−O−CH2―R−CH2−OH]3(化合物1)の合成
Rは−CF2CF2CF2O(CF2CF2CF2CF2O)wCF2CF2CF2−である。
で表される化合物(7g)と水素化ナトリウム(3g)を加えて、70℃で4日間攪拌した。その後、混合物を水で洗浄し、テトラブチルアンモニウムフルオリドの1Mテトラヒドロフラン溶液(52ml)を混合させた後、カラムクロマトグラフィーにより精製することにより、化合物1を20g得た。
δ=−83.5ppm
〔30F,−OCF 2 CF2CF2CF 2 O−、−OCF 2 CF2CF2CH2OH、(−OCF 2 CF2CF2CH2OCH2CH2CH2O)3−C6H3〕,
δ=−120.3ppm
〔6F,(−OCF2CF2CF 2CH2OCH2CH2CH2O)3−C6H3〕,〔6F,−OCF2CF2CF 2CH2OH〕,
δ=−123.1ppm
〔6F,−OCF2CF2CF 2CH2OH〕,
δ=−125.8ppm
〔18F,−OCF2CF 2 CF 2 CF2O−〕,
δ=−127.4ppm
〔12F,−OCF2CF 2 CF2CH2OH,(−OCF2CF 2 CF2CH2OCH 2CH2CH2O)3−C6H3〕,
w=1.5
δ=1.9ppm
〔6H,(−OCF2CF2CF2CH2OCH2CH 2 CH2O)3−C6H3〕,δ=3.2〜3.8ppm
〔27H,HOCH 2 CF2CF2CF2O−、(−OCF2CF2CF2CH 2 OCH 2 CH2CH 2 O)3−C6H3〕,
δ=6.1ppm
〔3H,(−OCF2CF2CF2CH2OCH2CH2CH2O)3−C6 H 3 〕
C6H3−[O−(CH2)3−O−CH2―R−CH2−OH]3(化合物2)の合成
Rは−CF2O(CF2O)x(CF2CF2O)yCF2−である。
δ=−52.1ppm、−53.7ppm、−55.4ppm
〔32F,−OCF 2O−〕,
δ=−78.0ppm、−80.0ppm
〔6F,(−OCF 2CH2OCH2CH2CH2O)3−C6H3〕,
δ=−81.0,−83.0ppm
〔6F,−CF 2CH2OH〕,
δ=−89.1ppm、−90.7ppm
〔67F,−OCF 2CF 2O−〕
x=5.4
y=5.6
δ=1.9ppm
〔6H,(−OCF2CH2OCH2CH 2 CH2O)3−C6H3〕,
δ=3.0〜4.0ppm
〔27H,HOCH 2 CF2O−、(−OCF2CH 2 OCH 2 CH2CH 2 O)3−C 6H3〕,
δ=6.1ppm
〔3H,(−OCF2CH2OCH2CH2CH2O)3−C6 H 3 〕
C6H3−[O−(CH2)3−O−CH2−R−CH2−OH]3(化合物3)の合成
Rは−CF2CF2O(CF2CF2CF2O)zCF2CF2−である。
〔88F,−OCF 2 CF2CF 2 O−〕
δ=−86.4ppm
〔12F,−OCF 2 CF2CH2OH,(−OCF 2 CF2CH2OCH2CH2CH 2O)3−C6H3〕
δ=−124.3ppm
〔6F,(−OCF2CF 2 CH2OCH2CH2CH2O)3−C6H3〕
δ=−127.5ppm
〔6F,−OCF2CF 2CH2OH〕,
δ=−129.7ppm
〔44F,−OCF2CF 2 CF2O−〕
z=7.3
δ=1.9ppm
〔6H,(−OCF2CF2CH2OCH2CH 2 CH2O)3−C6H3〕,
δ=2.8〜4.2ppm
〔27H,HOCH 2 CF2CF2O−、(−OCF2CF2CH 2 OCH 2 CH2CH 2 O)3−C6H3〕,
δ=6.1ppm
〔3H,(−OCF2CF2CH2OCH2CH2CH2O)3−C6 H 3 〕
C6H4−[O−(CH2)2−O−CH2−R−CH2−OH]2(化合物4)の合成
Rは−CF2CF2O(CF2CF2CF2O)zCF2CF2−である。
で表される化合物(10g)と水素化ナトリウム(3g)を加えて、70℃で4日間攪拌した。その後、混合物を水で洗浄し、テトラブチルアンモニウムフルオリドの1Mテトラヒドロフラン溶液(52ml)を混合させた後、カラムクロマトグラフィーにより精製することにより、化合物4を32g得た。
〔57F,−OCF 2 CF2CF 2 O−〕
δ=−86.4ppm
〔8F,−OCF 2 CF2CH2OH,(−OCF 2 CF2CH2OCH2CH2O)2−C6H4〕
δ=−124.3ppm
〔4F,(−OCF2CF 2 CH2OCH2CH2O)2−C6H4〕
δ=−127.5ppm
〔4F,−OCF2CF 2CH2OH〕,
δ=−129.7ppm
〔28F,−OCF2CF 2 CF2O−〕
z=7.1
δ=3.2〜3.8ppm
〔18H,HOCH 2 CF2CF2O−、(−OCF2CF2CH 2 OCH 2 CH 2 O) 2−C6H4〕,
δ=6.8ppm
〔4H,(−OCF2CF2CH2OCH2CH2O)2−C6 H 4 〕
C6H4−[O−(CH2)2−O−CH2−R−CH2−OCH2CH(OH)CH2OH]2(化合物5)の合成
Rは−CF2CF2O(CF2CF2CF2O)zCF2CF2−である。
〔55F,−OCF 2 CF2CF 2 O−〕
δ=−86.4ppm
〔8F,−OCF 2 CF2CH2OCH2CH(OH)CH2OH,(−OCF 2 CF2CH2OCH2CH2O)2−C6H4〕
δ=−124.3ppm
〔8F,−OCF2CF 2CH2OCH2CH(OH)CH2OH,(−OCF2CF 2 CH2OCH2CH2O)2−C6H4〕
δ=−129.7ppm
〔28F,−OCF2CF 2 CF2O−〕
z=6.9
δ=3.2〜3.8ppm
〔26H,HOCH 2 CH(OH)CH 2 CF2CF2O−、(−OCF2CF2CH 2 OCH 2 CH 2 O)2−C6H4〕,
δ=6.8ppm
〔4H,(−OCF2CF2CH2OCH2CH2O)2−C6 H 4 〕
(HO−CH2−R2−CH2O−CH2)3−R1
ここでR1は下記式(a):
潤滑剤(化合物1〜6)に、それぞれ20重量%のAl2O3を入れ、強く振とうしたのち超音波でさらに良く混合することにより、耐分解性評価用の試料を調製した。耐分解性の評価は、熱分析装置(TG/TDA)を用いて、250℃で100分間加熱した後の潤滑剤の重量減少率を測定することにより行った。試料は20mg、測定は窒素雰囲気下で行った。得られた結果を表1に示す。
潤滑剤(化合物1、2、5及び6)をDuPont製Vertrel−XFに溶解した。この溶液中の潤滑剤の濃度は0.05重量%であった。直径2.5インチの磁気ディスクをこの溶液に1分間浸漬し、速度2mm/sで引き上げた。この後、磁気ディスクを185nmの波長を含む低圧水銀ランプに20秒照射し、FT−IRで磁気ディスク上の化合物の平均膜厚を測定した。この膜厚をhÅとする。次に、温度30〜40℃、湿度80〜90RH%の環境下、5400rpmで潤滑剤を塗布した磁気ディスクを4週間高速回転させた。この後、磁気ディスク上に残った化合物の平均膜厚をFT−IRで測定した。この膜厚をcÅとする。高速回転下での磁気ディスクとの吸着性の強弱を示す指標として、潤滑剤保持率を下記式より算出した。
潤滑剤保持率(%)=100×c/h
試験例3(単分子膜厚の測定)
磁気ディスク上に塗布された潤滑剤の単分子膜厚(一分子あたりの膜厚)は、JOURNAL of TRIBOLOGY,OCTOBER 2004,VOL.126,PAGE751に記載されているように、ディスク上での潤滑剤の拡散挙動をエリプソメーターで観察する際に確認される。単分子膜厚は、潤滑剤被膜のテラス部位の膜厚として得られる。
2 記録層
3 保護層
4 潤滑層
Claims (3)
- 式(1):
C6H6−i−[O−(CH2)n−O−CH2―R−CH2−X]i (1)
(式中、nは2〜6の整数であり、iは2または3の整数であり、Xは−OH、−O−(CH2)m−OH、−OCH2CH(OH)CH2OH、−OCH2CH(OH)CH2O−C6H5、または−OCH2CH(OH)CH2O−C6H4−OCH3で表される基である。mは1〜6の整数である。Rは、−(CF2)pO(CF2O)x(CF2CF2O)y(CF2CF2CF2O)z(CF2CF2CF2CF2O)w(CF2)p−である。x及びyは、それぞれ0〜30の実数である。zは0〜30の実数である。wは0〜20の実数である。pは1〜3の整数である。)
で表される化合物。 - 式(1):
C6H6−i−[O−(CH2)n−O−CH2―R−CH2−X]i (1)
(式中、nは2〜6の整数であり、iは2または3の整数であり、Xは−OH、−O−(CH2)m−OH、−OCH2CH(OH)CH2OH、−OCH2CH(OH)CH2O−C6H5、または−OCH2CH(OH)CH2O−C6H4−OCH3で表される基である。mは1〜6の整数である。Rは、−(CF2)pO(CF2O)x(CF2CF2O)y(CF2CF2CF2O)z(CF2CF2CF2CF2O)w(CF2)p−である。x及びyは、それぞれ0〜30の実数である。zは0〜30の実数である。wは0〜20の実数である。pは1〜3の整数である。)
で表される化合物を含有する潤滑剤。 - 支持体上に少なくとも記録層及び保護層を形成し、その表面に潤滑層を有する磁気ディスクにおいて、該潤滑層が下記式(1):
C6H6−i−[O−(CH2)n−O−CH2―R−CH2−X]i (1)
(式中、nは2〜6の整数であり、iは2または3の整数であり、Xは−OH、−O−(CH2)m−OH、−OCH2CH(OH)CH2OH、−OCH2CH(OH)CH2O−C6H5、または−OCH2CH(OH)CH2O−C6H4−OCH3で表される基である。mは1〜6の整数である。Rは、−(CF2)pO(CF2O)x(CF2CF2O)y(CF2CF2CF2O)z(CF2CF2CF2CF2O)w(CF2)p−である。x及びyは、それぞれ0〜30の実数である。zは0〜30の実数である。wは0〜20の実数である。pは1〜3の整数である。)
で表される化合物を含有する磁気ディスク。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013260353 | 2013-12-17 | ||
JP2013260353 | 2013-12-17 | ||
PCT/JP2014/081072 WO2015093237A1 (ja) | 2013-12-17 | 2014-11-25 | フルオロポリエーテル化合物、これを含有する潤滑剤ならびに磁気ディスク |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2015093237A1 true JPWO2015093237A1 (ja) | 2017-03-16 |
JP6198848B2 JP6198848B2 (ja) | 2017-09-20 |
Family
ID=53402590
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015553445A Expired - Fee Related JP6198848B2 (ja) | 2013-12-17 | 2014-11-25 | フルオロポリエーテル化合物、これを含有する潤滑剤ならびに磁気ディスク |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9950980B2 (ja) |
EP (1) | EP3085684A4 (ja) |
JP (1) | JP6198848B2 (ja) |
WO (1) | WO2015093237A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10529364B2 (en) | 2017-02-15 | 2020-01-07 | Seagate Technology Llc | Heat-assisted removal of head contamination |
US10373632B2 (en) * | 2017-02-15 | 2019-08-06 | Seagate Technology Llc | Heat-assisted removal of head contamination |
JP7126488B2 (ja) * | 2017-03-02 | 2022-08-26 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体、含フッ素エーテル化合物および磁気記録媒体用潤滑剤 |
US11639330B2 (en) | 2017-08-21 | 2023-05-02 | Showa Denko K.K. | Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium |
US11879109B2 (en) | 2019-09-18 | 2024-01-23 | Resonac Corporation | Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium |
WO2021065380A1 (ja) * | 2019-10-01 | 2021-04-08 | 昭和電工株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体 |
WO2021132252A1 (ja) | 2019-12-26 | 2021-07-01 | 昭和電工株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体 |
JP7012807B2 (ja) * | 2020-12-02 | 2022-02-14 | 昭和電工株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006117928A (ja) * | 2004-09-27 | 2006-05-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 潤滑剤組成物およびトリアジン環含有化合物 |
WO2008038799A1 (fr) * | 2006-09-29 | 2008-04-03 | Hoya Corporation | Lubrifiant pour disque magnétique, procédé de fabrication afférent et disque magnétique |
JP2009270093A (ja) * | 2008-04-09 | 2009-11-19 | Moresco Corp | パーフルオロポリエーテル化合物、これを含有する潤滑剤ならびに磁気ディスク |
JP2013018961A (ja) * | 2011-06-13 | 2013-01-31 | Moresco Corp | フルオロポリエーテル化合物、これを含有する潤滑剤ならびに磁気ディスク |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4629390B2 (ja) | 2004-09-02 | 2011-02-09 | 富士通株式会社 | 潤滑剤、磁気記録媒体およびヘッドスライダ |
US20060068998A1 (en) | 2004-09-27 | 2006-03-30 | Fuji Photo Film Co. Ltd. | Lubricant composition and triazine ring-containing compound |
WO2009010533A1 (en) | 2007-07-18 | 2009-01-22 | Solvay Solexis S.P.A. | Aromatic hydrogenated polymers containing fluorine |
US8841008B2 (en) * | 2011-02-28 | 2014-09-23 | Seagate Technology Llc | Lubricant for heat assisted magnetic recording |
US8668995B2 (en) * | 2011-06-13 | 2014-03-11 | Moresco Corporation | Fluoropolyether compound, lubricant and magnetic disk each containing the same |
-
2014
- 2014-11-25 EP EP14872372.9A patent/EP3085684A4/en not_active Withdrawn
- 2014-11-25 US US14/913,012 patent/US9950980B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2014-11-25 JP JP2015553445A patent/JP6198848B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2014-11-25 WO PCT/JP2014/081072 patent/WO2015093237A1/ja active Application Filing
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006117928A (ja) * | 2004-09-27 | 2006-05-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 潤滑剤組成物およびトリアジン環含有化合物 |
WO2008038799A1 (fr) * | 2006-09-29 | 2008-04-03 | Hoya Corporation | Lubrifiant pour disque magnétique, procédé de fabrication afférent et disque magnétique |
JP2009270093A (ja) * | 2008-04-09 | 2009-11-19 | Moresco Corp | パーフルオロポリエーテル化合物、これを含有する潤滑剤ならびに磁気ディスク |
JP2013018961A (ja) * | 2011-06-13 | 2013-01-31 | Moresco Corp | フルオロポリエーテル化合物、これを含有する潤滑剤ならびに磁気ディスク |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2015093237A1 (ja) | 2015-06-25 |
JP6198848B2 (ja) | 2017-09-20 |
US20160203839A1 (en) | 2016-07-14 |
US9950980B2 (en) | 2018-04-24 |
EP3085684A4 (en) | 2017-08-30 |
EP3085684A1 (en) | 2016-10-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6198848B2 (ja) | フルオロポリエーテル化合物、これを含有する潤滑剤ならびに磁気ディスク | |
JP5816919B2 (ja) | フルオロポリエーテル化合物、これを含有する潤滑剤ならびに磁気ディスク | |
JP5544520B2 (ja) | 潤滑剤及び磁気ディスク | |
US8668995B2 (en) | Fluoropolyether compound, lubricant and magnetic disk each containing the same | |
JP5613916B2 (ja) | パーフルオロポリエーテル化合物、その製造方法、該化合物を含有する潤滑剤、および磁気ディスク | |
JP5909837B2 (ja) | フルオロポリエーテル化合物、これを含有する潤滑剤ならびに磁気ディスク | |
EP3225612B1 (en) | Fluoropolyether compound, lubricant, magnetic disk, and method for producing same | |
JP6672146B2 (ja) | フルオロポリエーテル化合物、潤滑剤ならびに磁気ディスク | |
JP5327855B2 (ja) | パーフルオロポリエーテル化合物、これを含有する潤滑剤ならびに磁気ディスク | |
WO2011099131A1 (ja) | パーフルオロポリエーテル化合物、その製造方法、該化合物を含有する潤滑剤、および磁気ディスク | |
JP5771826B2 (ja) | シクロホスファゼン化合物、及びこれを用いた潤滑剤ならびに磁気ディスク | |
JP5382876B2 (ja) | パーフルオロポリエーテル化合物、これを含有する潤滑剤ならびに磁気ディスク | |
JP7447903B2 (ja) | 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体 | |
JP7185709B2 (ja) | フルオロポリエーテル化合物、これを用いた潤滑剤およびその利用 | |
WO2021157563A1 (ja) | 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体 | |
WO2021065380A1 (ja) | 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体 | |
JPWO2020116620A1 (ja) | フルオロポリエーテル化合物、潤滑剤および磁気ディスク | |
JP2014047190A (ja) | シクロホスファゼン化合物、これを含有する潤滑剤ならびに磁気ディスク | |
WO2022113854A1 (ja) | 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体 | |
JP2016222580A (ja) | フルオロポリエーテル基を有するグリコールウリル化合物、潤滑剤および磁気ディスク | |
JP2024090085A (ja) | 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170221 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170330 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170509 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170703 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170801 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170822 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6198848 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |