JP2009197210A - エーテル化合物および潤滑剤 - Google Patents
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Abstract
【課題】基材への定着性が高く、かつ塗膜としたときの表面の摩擦係数が低いエーテル化合物および潤滑剤を提供する。
【解決手段】（Ｘ２−）４Ｙで表される化合物および該化合物を含む潤滑剤。Ｘ２はＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−であり、Ｙは下式（Ｙ−１）で表される基であり、ｄは１〜２００の整数である。
［化１］
【選択図】なし
【解決手段】（Ｘ２−）４Ｙで表される化合物および該化合物を含む潤滑剤。Ｘ２はＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−であり、Ｙは下式（Ｙ−１）で表される基であり、ｄは１〜２００の整数である。
［化１］
【選択図】なし
Description
本発明は、潤滑剤等として有用なエーテル化合物に関する。
ペルフルオロ化されたポリエーテル構造を有する化合物（以下、ＰＦＰＥと記す。）は、磁気記録媒体の表面に適用する潤滑剤等として用いられている（非特許文献１）。
該潤滑剤としては、従来から分子の末端に２つのＣＨ２ＯＨ基を有するＰＦＰＥが汎用されている。
該潤滑剤としては、従来から分子の末端に２つのＣＨ２ＯＨ基を有するＰＦＰＥが汎用されている。
また、潤滑剤等として有用なＰＦＰＥまたはその組成物として、本出願人は下記のものを提案している。
（１）３つのＣＨ２ＯＨ基を有するＰＦＰＥ、または２つのＣＨ２ＯＨ基と１つのＣＦ３基とを有するＰＦＰＥ（特許文献１）。
（２）分子量の異なる２種のＰＦＰＥを含むエーテル組成物（特許文献２）。
（１）３つのＣＨ２ＯＨ基を有するＰＦＰＥ、または２つのＣＨ２ＯＨ基と１つのＣＦ３基とを有するＰＦＰＥ（特許文献１）。
（２）分子量の異なる２種のＰＦＰＥを含むエーテル組成物（特許文献２）。
近年、磁気記録媒体の記録密度の増大に伴い、磁気記録媒体と記録素子との間の空隙の狭化および磁気記録媒体の回転の高速化が進んでいる。そのため、磁気記録媒体の表面に塗布される潤滑剤の使用環境は、より厳しいものとなっている。そこで、該潤滑剤には、下記のことが要求されている。
（ｉ）磁気記録媒体の高速化に伴い、磁気記録媒体への定着性が高いこと。
（ii）磁気記録媒体に記録素子が接触した際の衝撃を分散するために、塗膜としたときの表面の摩擦係数が低いこと。
（ｉ）磁気記録媒体の高速化に伴い、磁気記録媒体への定着性が高いこと。
（ii）磁気記録媒体に記録素子が接触した際の衝撃を分散するために、塗膜としたときの表面の摩擦係数が低いこと。
しかし、従来提案されてきたＰＦＰＥは、上記の要求に対して、充分な性能を発揮するものではなかった。
「月刊トライボロジ」、１９９５年、第９９巻、１１月号、ｐ．３７−３８ 国際公開第２００５／０６８５３４号パンフレット
国際公開第２００７／０１３４１２号パンフレット
「月刊トライボロジ」、１９９５年、第９９巻、１１月号、ｐ．３７−３８
本発明は、基材への定着性が高く、かつ塗膜としたときの表面の摩擦係数が低いエーテル化合物および潤滑剤を提供する。
本発明のエーテル化合物は、下式（Ａ）で表される化合物である。
（Ｘ２−）４Ｙ ・・・（Ａ）。
ただし、Ｘ２は、下式（Ｘ２）で表される基であり、Ｙは、下式（Ｙ−１）で表される基（ただし、ｄは、１〜２００の整数である。）である。
ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− ・・・（Ｘ２）。
（Ｘ２−）４Ｙ ・・・（Ａ）。
ただし、Ｘ２は、下式（Ｘ２）で表される基であり、Ｙは、下式（Ｙ−１）で表される基（ただし、ｄは、１〜２００の整数である。）である。
ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− ・・・（Ｘ２）。
本発明の潤滑剤は、式（Ａ）で表される化合物を含むことを特徴とする。
本発明の潤滑剤は、式（Ａ）で表される化合物、および、式（Ａ）で表される化合物以外の含フッ素エーテル化合物を含むものであってもよい。
本発明の潤滑剤は、式（Ａ）で表される化合物、および、式（Ａ）で表される化合物以外の含フッ素エーテル化合物を含むものであってもよい。
式（Ａ）で表される化合物以外の含フッ素エーテル化合物は、下式（Ａ１６）で表される化合物であることが好ましい。
（Ｘ１−）４Ｙ ・・・（Ａ１６）。
ただし、Ｘ１は、下式（Ｘ１）で表される基であり、Ｙは、前記式（Ｙ−１）で表される基（ただし、ｄは、１〜２００の整数である。）である。
ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− ・・・（Ｘ１）。
化合物（Ａ）の量は、潤滑剤中に０．１〜１００質量％であることが好ましい。
（Ｘ１−）４Ｙ ・・・（Ａ１６）。
ただし、Ｘ１は、下式（Ｘ１）で表される基であり、Ｙは、前記式（Ｙ−１）で表される基（ただし、ｄは、１〜２００の整数である。）である。
ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− ・・・（Ｘ１）。
化合物（Ａ）の量は、潤滑剤中に０．１〜１００質量％であることが好ましい。
本発明のエーテル化合物は、基材への定着性が高く、かつ塗膜としたときの表面の摩擦係数が低い。
本発明の潤滑剤は、基材への定着性が高く、かつ塗膜としたときの表面の摩擦係数が低い。
本発明の潤滑剤は、基材への定着性が高く、かつ塗膜としたときの表面の摩擦係数が低い。
本明細書においては、式（Ａ）で表される化合物を化合物（Ａ）と記す。他の式で表される化合物も同様に記す。
また、式（Ｘ２）で表される基を基（Ｘ２）と記す。他の式で表される基も同様に記す。
また、式（Ｘ２）で表される基を基（Ｘ２）と記す。他の式で表される基も同様に記す。
本発明のエーテル化合物は、化合物（Ａ）である。
（Ｘ２−）４Ｙ ・・・（Ａ）。
（Ｘ２−）４Ｙ ・・・（Ａ）。
Ｘ２は、基（Ｘ２）である。基（Ｘ２）は、水酸基を２つ有するため、基材への定着性の向上に寄与する。特に、高湿環境下および長期の使用条件下における密着性およびその耐久性の点で優れる。
ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− ・・・（Ｘ２）。
ｄは、３〜１００の整数が好ましく、５〜５０の整数がより好ましい。
１分子中に複数の基（Ｘ２）が存在する場合、それぞれｄの数が同一である基であってもよく、ｄの数が異なる基であってもよい。
ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− ・・・（Ｘ２）。
ｄは、３〜１００の整数が好ましく、５〜５０の整数がより好ましい。
１分子中に複数の基（Ｘ２）が存在する場合、それぞれｄの数が同一である基であってもよく、ｄの数が異なる基であってもよい。
Ｙは、基（Ｙ−１）である。基（Ｙ−１）を有する化合物は、安価に入手可能なジグリセリンを出発原料とするため製造しやすい。また、基（Ｙ−１）自体が化学的に安定な構造であり、かつ、化合物の結晶性を低下させる構造である利点を有する。さらに基（Ｙ−１）に結合する基（Ｘ２）としてほぼ同一の基（Ｘ２）を有する化合物（Ａ）が得やすい利点がある。
化合物（Ａ）は、国際公開第２００５／０６８５３４号パンフレットに記載の方法によって化合物（Ａ１６）を得た後、化合物（Ａ１６）のＯＨ基に、２，３−エポキシ−１−プロパノールを反応させることにより製造できる。
化合物（Ａ１６）と２，３−エポキシ−１−プロパノールとの反応は、水酸基と２，３−エポキシ−１−プロパノールとの反応で用いられる公知の反応条件にしたがって実施できる。本発明においては、化合物（Ａ１６）中のＯＨ基の全てに２，３−エポキシ−１−プロパノールを反応させることが好ましいことから、化合物（Ａ１６）中のＯＨの総モル量に対する２，３−エポキシ−１−プロパノール量は、０．９〜１．２倍モルとするのが好ましく、０．９５〜１．０５倍モルとするのが好ましい。また反応においてはアルコキシド化触媒を存在させるのが好ましい。アルコキシド化触媒としては、アルカリ金属アルコキシドが好ましく、ｔ−ブトキシカリウムが特に好ましい。アルコキシド化触媒の量は、化合物（Ａ１６）中の水酸基の総モル量に対し０．２〜１．２倍モルとするのが好ましく、０．５〜１．０倍モルとするのが好ましい。
反応においては反応溶媒を存在させるのが好ましい。反応溶媒はこれらを溶解または懸濁する溶媒が好ましく、アルコキシド化触媒の溶解性の点からアルコール類が特に好ましい。さらに、アルコキシド化触媒としては、アルカリ金属アルコキシドを用いる場合には、アルカリ金属アルコキシドのアルコキシド部分が共通する構造であるアルコール類を用いるのが好ましい。たとえば、ｔ−ブトキシカリウムを用いる場合には、アルコール類としてｔ−プチルアルコールを用いるのが好ましい。
反応の温度は、５０〜８０℃が好ましい。反応時間は、２〜２４時間が好ましい。反応時間が長すぎる、または、反応条件が厳しすぎると、２，３−エポキシ−１−プロパノールが２モル以上付加した生成物を生じるおそれがある。よって、１モル付加反応が終了した後は、速やかに後処理を行い、反応生成物を得るのが好ましい。後処理としては、希塩酸水溶液で中和する方法が好ましく、該中和により、反応を停止させうる。
本発明の潤滑剤は、化合物（Ａ）を含む潤滑剤である。
本発明の潤滑剤は、化合物（Ａ）のみからなっていても、化合物（Ａ）と化合物（Ａ）以外の化合物（以下、他の化合物とも記す。）からなっていてもよい。化合物（Ａ）の量は、潤滑剤中に０．１〜１００質量％が好ましく、１〜９０質量％が特に好ましい。
本発明の潤滑剤は、化合物（Ａ）のみからなっていても、化合物（Ａ）と化合物（Ａ）以外の化合物（以下、他の化合物とも記す。）からなっていてもよい。化合物（Ａ）の量は、潤滑剤中に０．１〜１００質量％が好ましく、１〜９０質量％が特に好ましい。
他の化合物としては、含フッ素エーテル化合物が好ましい。すなわち、本発明の潤滑剤としては、化合物（Ａ）の１種からなる、または、化合物（Ａ）と化合物（Ａ）以外の含フッ素エーテル化合物（以下、他の含フッ素エーテル化合物とも記す。）の１種または２種以上からなる、のが好ましい。
他の含フッ素エーテル化合物としては、化合物（Ａ）中の基（Ｘ２）の一部または全部が、下記基（Ｘ１）である化合物が挙げられる。ただし、ｄは、１〜２００の整数であり、３〜１００の整数が好ましく、５〜５０の整数がより好ましい。
ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− ・・・（Ｘ１）。
ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− ・・・（Ｘ１）。
化合物（Ａ）中の基（Ｘ２）の一部または全部が、下記基（Ｘ１）である化合物としては、下記化合物（Ａ１３）、下記化合物（Ａ１４）、下記化合物（Ａ１５）および下記化合物（Ａ１６）が挙げられる（以下、これら４つの化合物をまとめて化合物（Ａ１３）〜（Ａ１６）と記す。）。
（Ｘ２−）３（Ｘ１−）Ｙ ・・・（Ａ１３）、
（Ｘ２−）２（Ｘ１−）２Ｙ ・・・（Ａ１４）、
（Ｘ２−）（Ｘ１−）３Ｙ ・・・（Ａ１５）、
（Ｘ１−）４Ｙ ・・・（Ａ１６）。
ただし、Ｘ２は、基（Ｘ２）であり、Ｘ１は、基（Ｘ１）であり、Ｙは、基（Ｙ−１）である。
１分子中に基（Ｘ１）または基（Ｘ２）が複数存在する場合、それぞれｄの数が同一である基であってもよく、ｄの数が異なる基であってもよい。
化合物（Ａ１３）、化合物（Ａ１４）、および化合物（Ａ１５）は、化合物（Ａ）の製造工程において、化合物（Ａ）とともに生成しうる化合物である。
（Ｘ２−）３（Ｘ１−）Ｙ ・・・（Ａ１３）、
（Ｘ２−）２（Ｘ１−）２Ｙ ・・・（Ａ１４）、
（Ｘ２−）（Ｘ１−）３Ｙ ・・・（Ａ１５）、
（Ｘ１−）４Ｙ ・・・（Ａ１６）。
ただし、Ｘ２は、基（Ｘ２）であり、Ｘ１は、基（Ｘ１）であり、Ｙは、基（Ｙ−１）である。
１分子中に基（Ｘ１）または基（Ｘ２）が複数存在する場合、それぞれｄの数が同一である基であってもよく、ｄの数が異なる基であってもよい。
化合物（Ａ１３）、化合物（Ａ１４）、および化合物（Ａ１５）は、化合物（Ａ）の製造工程において、化合物（Ａ）とともに生成しうる化合物である。
他の含フッ素エーテル化合物の別の例としては、末端にＣＦ３基を有する含フッ素エーテル化合物であり、化合物（Ａ）の基（Ｘ２）の一部または全部が、末端にＣＦ３基を有する基に変わった化合物であり、残余の基（Ｘ２）が存在する場合においては、該基（Ｘ２）の一部または全部が、前記基（Ｘ１）に変わっていてもよい化合物が挙げられる。
末端にＣＦ３基を有する含フッ素エーテル化合物としては、下記化合物（Ａ２）、下記化合物（Ａ３）および下記化合物（Ａ４）が挙げられる。
（Ｘ−）３Ｙ−Ｚ ・・・（Ａ２）、
（Ｘ−）２Ｙ（−Ｚ）２ ・・・（Ａ３）、
Ｘ−Ｙ（−Ｚ）３ ・・・（Ａ４）。
ただし、Ｘは、基（Ｘ１）または基（Ｘ２）であり、Ｙは、基（Ｙ−１）であり、Ｚは、基（Ｚ）である。
ＣＦ３（ＣＦ２）ｓＯ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ− ・・・（Ｚ）。
（Ｘ−）３Ｙ−Ｚ ・・・（Ａ２）、
（Ｘ−）２Ｙ（−Ｚ）２ ・・・（Ａ３）、
Ｘ−Ｙ（−Ｚ）３ ・・・（Ａ４）。
ただし、Ｘは、基（Ｘ１）または基（Ｘ２）であり、Ｙは、基（Ｙ−１）であり、Ｚは、基（Ｚ）である。
ＣＦ３（ＣＦ２）ｓＯ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ− ・・・（Ｚ）。
基（Ｘ）について：
１分子中に複数の基（Ｘ）が存在する場合、それぞれ同一の基であってもよく、異なる基であってもよい。基（Ｘ）のうち少なくとも１つは基（Ｘ２）であることが好ましく、すべての基（Ｘ）が基（Ｘ２）であることが特に好ましい。
１分子中に複数の基（Ｘ）が存在する場合、それぞれ同一の基であってもよく、異なる基であってもよい。基（Ｘ）のうち少なくとも１つは基（Ｘ２）であることが好ましく、すべての基（Ｘ）が基（Ｘ２）であることが特に好ましい。
基（Ｚ）について：
ｓは、０〜１９の整数であり、０〜１５の整数が好ましく、０〜５の整数がより好ましい。
ｇは、３〜２００の整数であり、３〜１００の整数が好ましく、３〜７０の整数がより好ましく、５〜５０の整数が特に好ましい。
基（Ｚ）が同一の基であるとは、ｓの数が同一であり、ｇの数は同一であっても異なってもよい基をいう。基（Ｚ）は同一の基からなるのが好ましい。
ｓは、０〜１９の整数であり、０〜１５の整数が好ましく、０〜５の整数がより好ましい。
ｇは、３〜２００の整数であり、３〜１００の整数が好ましく、３〜７０の整数がより好ましく、５〜５０の整数が特に好ましい。
基（Ｚ）が同一の基であるとは、ｓの数が同一であり、ｇの数は同一であっても異なってもよい基をいう。基（Ｚ）は同一の基からなるのが好ましい。
基（Ｚ）は、摩擦係数の低下に寄与する基であり、ＣＦ３基の分子的な自由度が高くなる点から、ある程度の鎖長を有することが好ましく、基（Ｚ１）、基（Ｚ２）または基（Ｚ３）がより好ましい。
ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ− ・・・（Ｚ１）、
ＣＦ３（ＣＦ２）２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ− ・・・（Ｚ２）、
ＣＦ３（ＣＦ２）５Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ− ・・・（Ｚ３）。
ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ− ・・・（Ｚ１）、
ＣＦ３（ＣＦ２）２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ− ・・・（Ｚ２）、
ＣＦ３（ＣＦ２）５Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ− ・・・（Ｚ３）。
他の含フッ素エーテル化合物の別の例としては、潤滑剤（以下、他の潤滑剤という。）として使用されうる公知ないしは周知含フッ素エーテル化合物である。
他の潤滑剤としては、本発明者によるＷＯ２００４／０３５６５６号パンフレット、ＷＯ２００５／０６８５３４号パンフレット、ＷＯ２００７／０１３４１２号パンフレット、ＷＯ２００６／０１１３８７号パンフレット等に記載される含フッ素エーテル化合物および潤滑剤が挙げられる。
他の潤滑剤としては、本発明者によるＷＯ２００４／０３５６５６号パンフレット、ＷＯ２００５／０６８５３４号パンフレット、ＷＯ２００７／０１３４１２号パンフレット、ＷＯ２００６／０１１３８７号パンフレット等に記載される含フッ素エーテル化合物および潤滑剤が挙げられる。
また末端にＯＨ基を有する他の潤滑剤、末端に紫外線吸収基を有する他の潤滑剤として、つぎの例が挙げられる。
＜末端にＯＨ基を有する他のＰＦＰＥの例＞
ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ−ＤｉＯＬ、ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ−ＴｅｔｒａＯＬ、ＤＥＭＮＵＭ ＳＡ等。
＜末端に紫外線吸収基を有する他のＰＦＰＥの例＞
ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ−ＤＩＡＣ、ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ−ＤＥＡＬ、ＦＯＭＢＬＩＮ ＡＭ２００１、ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ−ＤＩＳＯＣ、ＤＥＭＮＵＭ ＳＨ、ＭｏｒｅｓｃｏＡ２０Ｈ等。
さらに、他の潤滑剤としては、数平均分子量が１０００〜１００００であるものを用いるのが好ましい。
＜末端にＯＨ基を有する他のＰＦＰＥの例＞
ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ−ＤｉＯＬ、ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ−ＴｅｔｒａＯＬ、ＤＥＭＮＵＭ ＳＡ等。
＜末端に紫外線吸収基を有する他のＰＦＰＥの例＞
ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ−ＤＩＡＣ、ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ−ＤＥＡＬ、ＦＯＭＢＬＩＮ ＡＭ２００１、ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ−ＤＩＳＯＣ、ＤＥＭＮＵＭ ＳＨ、ＭｏｒｅｓｃｏＡ２０Ｈ等。
さらに、他の潤滑剤としては、数平均分子量が１０００〜１００００であるものを用いるのが好ましい。
本発明の潤滑剤が、化合物（Ａ）を主たる潤滑成分として用いる場合の化合物（Ａ）の量は、潤滑剤中に５０〜１００質量％であるのが好ましく、７０〜１００質量％であるのが特に好ましい。
また、本発明の潤滑剤が、他の潤滑剤を主たる潤滑成分とし、これに化合物（Ａ）を添加することにより用いる場合の化合物（Ａ）量は特に限定されず、通常の場合には、潤滑剤中に０．１質量％以上とするのが好ましく、０．１〜５０質量％とするのが特に好ましい。
また、本発明の潤滑剤が、他の潤滑剤を主たる潤滑成分とし、これに化合物（Ａ）を添加することにより用いる場合の化合物（Ａ）量は特に限定されず、通常の場合には、潤滑剤中に０．１質量％以上とするのが好ましく、０．１〜５０質量％とするのが特に好ましい。
潤滑剤が他の含フッ素エーテル化合物を含む場合の該化合物としては、化合物（Ａ１６）が好ましい。また化合物（Ａ１６）とともに、少量の化合物（Ａ１３）〜（Ａ１５）および化合物（Ａ２）〜（Ａ４）を含むのが好ましい。これらの化合物は、それぞれ１種または２種以上の化合物からなっていてもよく、化合物（Ａ１３）〜（Ａ１６）および化合物（Ａ２）〜（Ａ４）はそれぞれ１種の化合物からなるのが好ましい。
他の含フッ素エーテル化合物の具体例を説明する。ただし、式中の記号の意味は前記と同じ意味を示す。
化合物（Ａ２）としては、化合物（Ａ２１）または化合物（Ａ２２）が好ましい。
｛ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−｝３Ｙ−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｇＯ（ＣＦ２）ｓＣＦ３ ・・・（Ａ２１）、
｛ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−｝３Ｙ−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｇＯ（ＣＦ２）ｓＣＦ３ ・・・（Ａ２２）。
化合物（Ａ２）としては、化合物（Ａ２１）または化合物（Ａ２２）が好ましい。
｛ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−｝３Ｙ−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｇＯ（ＣＦ２）ｓＣＦ３ ・・・（Ａ２１）、
｛ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−｝３Ｙ−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｇＯ（ＣＦ２）ｓＣＦ３ ・・・（Ａ２２）。
化合物（Ａ３）としては、化合物（Ａ３１）または化合物（Ａ３２）が好ましい。
｛ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−｝２Ｙ｛−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｇＯ（ＣＦ２）ｓＣＦ３｝２ ・・・（Ａ３１）、
｛ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−｝２Ｙ｛−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｇＯ（ＣＦ２）ｓＣＦ３｝２ ・・・（Ａ３２）。
｛ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−｝２Ｙ｛−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｇＯ（ＣＦ２）ｓＣＦ３｝２ ・・・（Ａ３１）、
｛ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−｝２Ｙ｛−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｇＯ（ＣＦ２）ｓＣＦ３｝２ ・・・（Ａ３２）。
化合物（Ａ４）としては、化合物（Ａ４１）または化合物（Ａ４２）が好ましい。
ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−Ｙ｛−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｇＯ（ＣＦ２）ｓＣＦ３｝３ ・・・（Ａ４１）、
ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−Ｙ｛−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｇＯ（ＣＦ２）ｓＣＦ３｝３ ・・・（Ａ４２）。
ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−Ｙ｛−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｇＯ（ＣＦ２）ｓＣＦ３｝３ ・・・（Ａ４１）、
ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−Ｙ｛−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｇＯ（ＣＦ２）ｓＣＦ３｝３ ・・・（Ａ４２）。
化合物（Ａ２）としては、化合物（Ａ２−１ａ）および／または化合物（Ａ２−１ｂ）から選ばれる化合物が好ましく、化合物（Ａ３）としては、化合物（Ａ３−１ａ）〜化合物（Ａ３−１ｄ）から選ばれる化合物が好ましく、化合物（Ａ４）としては、化合物（Ａ４−１ａ）および／または化合物（Ａ４−１ｂ）から選ばれる化合物が好ましい。
ただし、式中のＸおよびＺは、前記と同じ意味を示す。
さらに、本発明の潤滑剤が、末端にＣＦ３基を有する化合物を含む場合には、潤滑剤中のＣＦ３基とＯＨ基との割合を調節するこことにより、潤滑剤の摩擦係数と定着率を変化させうる。たとえば、本発明者らの知見によれば、末端にＣＦ３基を有する化合物の割合が大になるとブリードアウトしやすくなる傾向がある。また末端にＣＦ３基を有する化合物が少ないと潤滑財の摩擦係数が大になる傾向がある。
さらに、本発明の潤滑剤が、末端にＣＦ３基を有する化合物を含む場合には、潤滑剤中のＣＦ３基とＯＨ基との割合を調節するこことにより、潤滑剤の摩擦係数と定着率を変化させうる。たとえば、本発明者らの知見によれば、末端にＣＦ３基を有する化合物の割合が大になるとブリードアウトしやすくなる傾向がある。また末端にＣＦ３基を有する化合物が少ないと潤滑財の摩擦係数が大になる傾向がある。
本発明の潤滑剤が、他の含フッ素エーテル化合物を含む場合において、該化合物は、少なくとも末端に１以上の水酸基を有する化合物であるのが好ましい。たとえば、化合物（Ａ５）を含まないのが好ましい。化合物（Ａ５）は、ブリードアウトの原因となりうるだけでなく、潤滑剤として塗布した場合に、潤滑剤の膜圧の低下の原因となりうる。化合物（Ａ５）を含まないとは、全く含まれていないか、含まれていたとしても、高速液体クロマトグラフィ（以下、ＨＰＬＣと記す。）で定量する含有量が２．０質量％以下であることを意味する。
Ｙ（−Ｚ）４ ・・・（Ａ５）。
Ｙ（−Ｚ）４ ・・・（Ａ５）。
本発明の潤滑剤が化合物（Ａ５）を含まない場合には、ブリードアウトを抑制でき、基材に対する潤滑剤の定着性を高くできる。化合物（Ａ５）は、後述する精製方法により潤滑剤から除去することが好ましい。
本発明の潤滑剤の数平均分子量（以下、Ｍｎと記す。）は、５００〜１００００００が好ましく、５００〜１０００００がより好ましく、１０００〜２００００が特に好ましい。
本発明の潤滑剤の分子量分布（以下、Ｍｗ／Ｍｎと記す。）は、１．０１〜１．５が好ましく、１．０１〜１．２５がより好ましい。
ＭｎおよびＭｗ／Ｍｎが該範囲にあれば、粘度が低く、蒸発成分が少なく、溶媒に溶解した際の均一性に優れる。
Ｍｎは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（以下、ＧＰＣと記す。）により測定される。Ｍｗ／Ｍｎは、ＧＰＣにより測定されたＭｎおよびＭｗ（質量平均分子量）から求める。
本発明の潤滑剤の分子量分布（以下、Ｍｗ／Ｍｎと記す。）は、１．０１〜１．５が好ましく、１．０１〜１．２５がより好ましい。
ＭｎおよびＭｗ／Ｍｎが該範囲にあれば、粘度が低く、蒸発成分が少なく、溶媒に溶解した際の均一性に優れる。
Ｍｎは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（以下、ＧＰＣと記す。）により測定される。Ｍｗ／Ｍｎは、ＧＰＣにより測定されたＭｎおよびＭｗ（質量平均分子量）から求める。
他の含フッ素エーテル化合物の好ましい態様であり、かつ化合物（Ａ）の製造原料でもある化合物（Ａ１６）は、国際公開第２００５／０６８５３４号パンフレットに記載の方法における製造原料を化合物（Ａ１６）に対応する化学構造を有する原料に変更することにより製造できる。
具体的には、国際公開第２００５／０６８５３４号パンフレットに記載する、エステル化、液相フッ素化、エステル分解反応によって末端がＣＯＦである化合物を得る。つぎに、（方法１−１）該末端がＣＯＦである化合物を、アルコール類または水と反応させて末端をエステルまたはカルボン酸とした後に還元することによる方法；または（方法１−２）該末端がＣＯＦである化合物を、アルコール類とエステル交換することにより末端をエステル化した後に還元することによる方法または水と反応させて末端をエステルまたはカルボン酸とした後に還元することによる方法；により製造できる。このうち、本発明の化合物においては、方法１−２に記載するエステル交換による方法を採用するのが、生産効率の点から好ましい。
具体的には、国際公開第２００５／０６８５３４号パンフレットに記載する、エステル化、液相フッ素化、エステル分解反応によって末端がＣＯＦである化合物を得る。つぎに、（方法１−１）該末端がＣＯＦである化合物を、アルコール類または水と反応させて末端をエステルまたはカルボン酸とした後に還元することによる方法；または（方法１−２）該末端がＣＯＦである化合物を、アルコール類とエステル交換することにより末端をエステル化した後に還元することによる方法または水と反応させて末端をエステルまたはカルボン酸とした後に還元することによる方法；により製造できる。このうち、本発明の化合物においては、方法１−２に記載するエステル交換による方法を採用するのが、生産効率の点から好ましい。
また、化合物（Ａ１６）を製造する際の生成物は、化合物（Ａ１６）以外の化合物を副生成物として含む反応生成物であってもよい。たとえば、化合物（Ａ１６）を、液相フッ素化反応を経る方法により製造する場合で、かつ液相フッ素化反応の条件が厳しい場合、分子の末端の切断反応が起こり、基（Ｚ）と基（Ｘ１）を併有する化合物が生成することがある。
これらの副生成物を含むままで２，３−エポキシ−１−プロパノールを反応させた場合には、基（Ｘ１）のみを有する化合物からは、基（Ｘ２）のみを有する化合物とともに、基（Ｚ）と基（Ｘ１）を併有する化合物の基（Ｘ１）に、２，３−エポキシ−１−プロパノールが反応することにより、基（Ｚ）と基（Ｘ２）を併有する化合物（Ａ２）〜（Ａ４）が生成する。また、２，３−エポキシ−１−プロパノールが一部の基（Ｘ１）にのみ反応した場合には、基（Ｘ１）と基（Ｘ２）を併有する化合物と、基（Ｚ）と基（Ｘ２）と基（Ｘ１）を併有する化合物も生成しうる。
なお、液相フッ素化反応におけるフッ素ガス濃度が高濃度になると、基（Ｚ）の生成割合が高くなる傾向があるため、化合物（Ａ５）の生成を抑制したい場合には、フッ素ガス濃度は５．０〜５０体積％が好ましく、１０〜３０体積％がより好ましい。
これらの副生成物を含むままで２，３−エポキシ−１−プロパノールを反応させた場合には、基（Ｘ１）のみを有する化合物からは、基（Ｘ２）のみを有する化合物とともに、基（Ｚ）と基（Ｘ１）を併有する化合物の基（Ｘ１）に、２，３−エポキシ−１−プロパノールが反応することにより、基（Ｚ）と基（Ｘ２）を併有する化合物（Ａ２）〜（Ａ４）が生成する。また、２，３−エポキシ−１−プロパノールが一部の基（Ｘ１）にのみ反応した場合には、基（Ｘ１）と基（Ｘ２）を併有する化合物と、基（Ｚ）と基（Ｘ２）と基（Ｘ１）を併有する化合物も生成しうる。
なお、液相フッ素化反応におけるフッ素ガス濃度が高濃度になると、基（Ｚ）の生成割合が高くなる傾向があるため、化合物（Ａ５）の生成を抑制したい場合には、フッ素ガス濃度は５．０〜５０体積％が好ましく、１０〜３０体積％がより好ましい。
反応により生成した生成物は、必要により精製工程を行い、不用な化合物を精製により除くことが好ましい。
精製方法としては、イオン吸着ポリマーによって金属不純物、陰イオン不純物等を除去する方法、超臨界抽出法、カラムクロマトグラフィ法が挙げられ、これらを組み合わせた方法が好ましい。
精製方法としては、イオン吸着ポリマーによって金属不純物、陰イオン不純物等を除去する方法、超臨界抽出法、カラムクロマトグラフィ法が挙げられ、これらを組み合わせた方法が好ましい。
本発明の潤滑剤の使用においては、該潤滑剤を溶媒に溶解または分散させた溶媒組成物として用いることが好ましい。
溶媒としては、ペルフルオロアミン類（ペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミン等。）、ペルフルオロアルカン類（バートレルＸＦ（デュポン社製）等。）またはヒドロフルオロエーテル類（ＡＥ−３０００（旭硝子社製）等。）が好ましく、オゾン破壊係数が低い点から、ヒドロフルオロエーテル類がより好ましい。
溶媒としては、ペルフルオロアミン類（ペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミン等。）、ペルフルオロアルカン類（バートレルＸＦ（デュポン社製）等。）またはヒドロフルオロエーテル類（ＡＥ−３０００（旭硝子社製）等。）が好ましく、オゾン破壊係数が低い点から、ヒドロフルオロエーテル類がより好ましい。
溶媒組成物は、溶液、懸濁液または乳化液のいずれであってもよく、溶液が好ましい。
溶媒組成物中の本発明の潤滑剤の濃度は、０．００１〜５０質量％が好ましく、０．０１〜２０質量％がより好ましい。
溶媒組成物中の本発明の潤滑剤の濃度は、０．００１〜５０質量％が好ましく、０．０１〜２０質量％がより好ましい。
溶媒組成物には、本発明の潤滑剤および溶媒以外の成分（以下、他の成分と記す。）が含まれていてもよい。
溶媒組成物を潤滑剤として用いる場合の他の成分としては、ラジカルスカベンジャー（たとえば、Ｘ１ｐ（Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製）等。）等が挙げられる。
溶媒組成物を潤滑剤として用いる場合の他の成分としては、ラジカルスカベンジャー（たとえば、Ｘ１ｐ（Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製）等。）等が挙げられる。
溶媒組成物は、所望の性能を達成できないおそれがあることから、金属イオン類、陰イオン類、水分、低分子極性化合物等を含まないことが好ましい。
金属イオン類（Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ａｌ等。）は、陰イオンと結合してルイス酸触媒を生成し、ＰＦＰＥの分解反応を促進する場合がある。陰イオン類（Ｆ、Ｃｌ、ＮＯ２、ＮＯ３、ＰＯ４、ＳＯ４、Ｃ２Ｏ４等。）および水分は、基材の表面を腐食させる場合がある。よって、溶媒組成物中の含水率は、２０００ｐｐｍ以下が好ましい。低分子極性化合物（アルコール類；樹脂から溶出する可塑剤等。）は、基材と塗膜との接着性を低減させる場合がある。
金属イオン類（Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ａｌ等。）は、陰イオンと結合してルイス酸触媒を生成し、ＰＦＰＥの分解反応を促進する場合がある。陰イオン類（Ｆ、Ｃｌ、ＮＯ２、ＮＯ３、ＰＯ４、ＳＯ４、Ｃ２Ｏ４等。）および水分は、基材の表面を腐食させる場合がある。よって、溶媒組成物中の含水率は、２０００ｐｐｍ以下が好ましい。低分子極性化合物（アルコール類；樹脂から溶出する可塑剤等。）は、基材と塗膜との接着性を低減させる場合がある。
本発明の潤滑剤を、磁気ディスク用の潤滑剤として用いる場合には、公知の潤滑剤の使用方法を適用できる。たとえば、磁気ディスク用の基板表面への塗布方法としては、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法（浸漬法）、スピンコート法、水上キャスト法、ダイコート法、ラングミュア・プロジェット法、真空蒸着法等が挙げられ、ディップコート法、スピンコート法または真空蒸着法が好ましい。
基板としては、ＮｉＰメッキされた基板（アルミニウム、ガラス等。）上に、下地層、記録層、カーボン保護膜を順に有するものが挙げられる。
カーボン保護膜の厚さは、５．０ｎｍ以下が好ましく、カーボン保護膜の平均表面粗さ（Ｒａ）は、２．０ｎｍ以下が好ましい。
基板としては、ＮｉＰメッキされた基板（アルミニウム、ガラス等。）上に、下地層、記録層、カーボン保護膜を順に有するものが挙げられる。
カーボン保護膜の厚さは、５．０ｎｍ以下が好ましく、カーボン保護膜の平均表面粗さ（Ｒａ）は、２．０ｎｍ以下が好ましい。
潤滑剤を塗布して潤滑剤層を形成させた磁気ディスクにおいては、吸着処理を行い、潤滑剤をカーボン保護膜の表面に強固に吸着させるのが好ましい。
吸着処理としては、加熱処理、赤外線照射処理、紫外線照射処理、プラズマ処理等が挙げられ、加熱処理または紫外線照射処理が好ましく、加熱処理がより好ましい。さらに、吸着処理後の磁気ディスクを、付着物の除去、余剰の潤滑剤の除去を目的に、フッ素系溶媒にて洗浄してもよい。
吸着処理後の潤滑剤塗膜の表面は、高い撥水性を有することから、たとえ高温、高湿度下に置いたとしても、水分の磁気ディスク内部への侵入が防止され、長期間にわたり高い潤滑性を維持できる。
吸着処理としては、加熱処理、赤外線照射処理、紫外線照射処理、プラズマ処理等が挙げられ、加熱処理または紫外線照射処理が好ましく、加熱処理がより好ましい。さらに、吸着処理後の磁気ディスクを、付着物の除去、余剰の潤滑剤の除去を目的に、フッ素系溶媒にて洗浄してもよい。
吸着処理後の潤滑剤塗膜の表面は、高い撥水性を有することから、たとえ高温、高湿度下に置いたとしても、水分の磁気ディスク内部への侵入が防止され、長期間にわたり高い潤滑性を維持できる。
本発明の潤滑剤においては、吸着処理後の定着率は、６０％以上となりうる。該定着率は、６５％以上がより好ましく、７０％以上が特に好ましい。
また、本発明の潤滑剤で処理した磁気ディスクの表面における水の接触角（室温）は、８０°以上になりうる。該接触角は、８５°以上が特に好ましい。
また、本発明の潤滑剤で処理した磁気ディスクの表面における水の接触角（室温）は、８０°以上になりうる。該接触角は、８５°以上が特に好ましい。
本発明の潤滑剤から形成される塗膜の厚さは、記録密度の向上の点、耐久性の点から、５．０ｎｍ以下が好ましく、３．０ｎｍ以下がより好ましく、２．０ｎｍ以下が特に好ましい。
本発明の潤滑剤は、磁気ディスク用基板以外の潤滑剤として用いてもよい。
本発明の潤滑剤から得られた塗膜は、透明であり、屈折率が低く、または耐熱性もしくは耐薬品性に優れる。また、塗膜は、高い潤滑性を保持し、かつ自己修復性を有する。
本発明の潤滑剤から得られた塗膜は、透明であり、屈折率が低く、または耐熱性もしくは耐薬品性に優れる。また、塗膜は、高い潤滑性を保持し、かつ自己修復性を有する。
以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されない。例１〜１５は製造中間体の合成例および評価例であり、例１６〜２０は本発明の化合物（Ａ）および潤滑剤の合成例および評価例である。
なお、実施例において、
テトラメチルシランをＴＭＳ、
ＣＣｌ２ＦＣＣｌＦ２をＲ−１１３、
ジクロロペンタフルオロプロパンをＲ−２２５、
ＣＣｌＦ２ＣＣｌＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＣｌＦ２をＣＦＥ−４１９、
ヘキサフルオロイソプロピルアルコールをＨＦＩＰ、
イソプロピルアルコールをＩＰＡと略記する。
また、実施例における分析は、それぞれ室温（２５℃）にて行った。
なお、実施例において、
テトラメチルシランをＴＭＳ、
ＣＣｌ２ＦＣＣｌＦ２をＲ−１１３、
ジクロロペンタフルオロプロパンをＲ−２２５、
ＣＣｌＦ２ＣＣｌＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＣｌＦ２をＣＦＥ−４１９、
ヘキサフルオロイソプロピルアルコールをＨＦＩＰ、
イソプロピルアルコールをＩＰＡと略記する。
また、実施例における分析は、それぞれ室温（２５℃）にて行った。
（ＮＭＲ分析）
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ）の基準物質としては、ＴＭＳを用いた。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ）の基準物質としては、ＣＦＣｌ３を用いた。
溶媒としては、特に記載しない限り、Ｒ−１１３を用いた。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ）の基準物質としては、ＴＭＳを用いた。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ）の基準物質としては、ＣＦＣｌ３を用いた。
溶媒としては、特に記載しない限り、Ｒ−１１３を用いた。
（ＨＰＬＣ分析）
組成物に含まれる化合物の組成比を、ＨＰＬＣ装置（島津製作所社製、Ｐｒｏｍｉｎｅｎｃｅ）を用い、下記の条件にて測定した。具体的には、分析１サイクルにて、移動相中のＨＦＩＰの濃度を０％から１００％に徐々に増加させ、組成物に含まれる化合物を、ＯＨ基の数の少ない化合物から順に分離し、質量比を分析した。
分析カラム：順相系シリカゲルカラム（ワイエムシー社製、ＳＩＬ−ｇｅｌ）、
移動相：Ｒ−２２５（旭硝子社製、アサヒクリンＡＫ−２２５Ｇ）およびＨＦＩＰ、
移動相流速：１．０ｍＬ／分、
カラム温度：３７℃、
検出器：蒸発光散乱検出器。
組成物に含まれる化合物の組成比を、ＨＰＬＣ装置（島津製作所社製、Ｐｒｏｍｉｎｅｎｃｅ）を用い、下記の条件にて測定した。具体的には、分析１サイクルにて、移動相中のＨＦＩＰの濃度を０％から１００％に徐々に増加させ、組成物に含まれる化合物を、ＯＨ基の数の少ない化合物から順に分離し、質量比を分析した。
分析カラム：順相系シリカゲルカラム（ワイエムシー社製、ＳＩＬ−ｇｅｌ）、
移動相：Ｒ−２２５（旭硝子社製、アサヒクリンＡＫ−２２５Ｇ）およびＨＦＩＰ、
移動相流速：１．０ｍＬ／分、
カラム温度：３７℃、
検出器：蒸発光散乱検出器。
（ＧＰＣ分析）
特開２００１−２０８７３６号公報に記載の方法にしたがって、下記の条件にてＧＰＣによりＭｎおよびＭｗを測定し、Ｍｗ／Ｍｎを求めた。
移動相：Ｒ−２２５（旭硝子社製、アサヒクリンＡＫ−２２５ＳＥＣグレード１）とＨＦＩＰとの混合溶媒（Ｒ−２５５／ＨＦＩＰ＝９９／１体積比）、
分析カラム：ＰＬｇｅｌ ＭＩＸＥＤ−Ｅカラム（ポリマーラボラトリーズ社製）を２本直列に連結したもの、
分子量測定用標準試料：Ｍｗ／Ｍｎが１．１未満であり、分子量が２０００〜１００００のペルフルオロポリエーテルの４種およびＭｗ／Ｍｎが１．１以上であり、分子量が１３００のペルフルオロポリエーテルの１種、
移動相流速：１．０ｍＬ／分、
カラム温度：３７℃、
検出器：蒸発光散乱検出器。
特開２００１−２０８７３６号公報に記載の方法にしたがって、下記の条件にてＧＰＣによりＭｎおよびＭｗを測定し、Ｍｗ／Ｍｎを求めた。
移動相：Ｒ−２２５（旭硝子社製、アサヒクリンＡＫ−２２５ＳＥＣグレード１）とＨＦＩＰとの混合溶媒（Ｒ−２５５／ＨＦＩＰ＝９９／１体積比）、
分析カラム：ＰＬｇｅｌ ＭＩＸＥＤ−Ｅカラム（ポリマーラボラトリーズ社製）を２本直列に連結したもの、
分子量測定用標準試料：Ｍｗ／Ｍｎが１．１未満であり、分子量が２０００〜１００００のペルフルオロポリエーテルの４種およびＭｗ／Ｍｎが１．１以上であり、分子量が１３００のペルフルオロポリエーテルの１種、
移動相流速：１．０ｍＬ／分、
カラム温度：３７℃、
検出器：蒸発光散乱検出器。
（接触角）
潤滑剤塗膜の表面における接触角は、接触角計（Ｆａｃｅ社製、ＣＡ−Ｘ）を用いて測定した。潤滑剤塗膜の表面に、約２μＬの水滴またはヘキサデカンを５滴置き、接触角を測定し、５つの値の平均値を求めた。
潤滑剤塗膜の表面における接触角は、接触角計（Ｆａｃｅ社製、ＣＡ−Ｘ）を用いて測定した。潤滑剤塗膜の表面に、約２μＬの水滴またはヘキサデカンを５滴置き、接触角を測定し、５つの値の平均値を求めた。
（摩擦係数）
潤滑剤塗膜の表面の摩擦係数は、摩擦測定器（Ｈｅｉｄｏｎ社製、Ｔｒｉｂｏｇｅａｒ）を用いて測定した。接触子としてはφ１０ｍｍのＳＵＳ球を用い、荷重２ｇ、回転数２５ｒｐｍにて測定した。
潤滑剤塗膜の表面の摩擦係数は、摩擦測定器（Ｈｅｉｄｏｎ社製、Ｔｒｉｂｏｇｅａｒ）を用いて測定した。接触子としてはφ１０ｍｍのＳＵＳ球を用い、荷重２ｇ、回転数２５ｒｐｍにて測定した。
（付着性試験）
摩擦係数測定試験後の接触子表面を光学顕微鏡で観察した。接触部４箇所を確認し、潤滑剤付着の有無を確認し、つぎの基準で評価した。○は、付着が認められない；△は、１〜３箇所に付着がある；×は、４箇所に付着がある。
摩擦係数測定試験後の接触子表面を光学顕微鏡で観察した。接触部４箇所を確認し、潤滑剤付着の有無を確認し、つぎの基準で評価した。○は、付着が認められない；△は、１〜３箇所に付着がある；×は、４箇所に付着がある。
（金属イオン分析）
各画分の１．０ｇについて、灰化−誘導結合プラズマ質量分析法により金属イオンの含有量を測定した。
各画分の１．０ｇについて、灰化−誘導結合プラズマ質量分析法により金属イオンの含有量を測定した。
（陰イオン分析）
各画分の１．０ｇおよび超純水の３０ｇを、あらかじめ希水酸化ナトリウム水溶液で洗浄したポリテトラフルオロエチレン製のボトルに投入し、２４時間攪拌して調製した試料について、水抽出−イオンクロマトグラフ法により陰イオンの含有量を測定した。
各画分の１．０ｇおよび超純水の３０ｇを、あらかじめ希水酸化ナトリウム水溶液で洗浄したポリテトラフルオロエチレン製のボトルに投入し、２４時間攪拌して調製した試料について、水抽出−イオンクロマトグラフ法により陰イオンの含有量を測定した。
（含水率）
各画分の含水率を、カールフィッシャー電量滴定法にて測定した。
各画分の含水率を、カールフィッシャー電量滴定法にて測定した。
〔例１〕
国際公開第２００５／０６８５３４号パンフレットの実施例の例１１に記載の方法において、ポリオキシエチレングリセロールエーテル（日本油脂社製、ユニオックスＧ１２００）を、ジグリセリン開始ポリオキシエチレングリセロールエーテル（坂本薬品工業社製、ＳＣ−Ｅ１５００）に変更した以外は、同様に反応を実施した。ジグリセリン開始ポリオキシエチレングリセロールエーテルに、ＦＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２）３Ｆを反応させ、室温で液体の化合物（Ｂ−１）を得た。ＮＭＲ分析の結果、化合物（Ｂ−１）の（ｈ＋ｉ＋ｊ＋ｋ）の平均値は３７．０であり、Ｒｆは−ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３であり、Ｍｎは２６００であり、Ｍｗ／Ｍｎは１．１５であった。
国際公開第２００５／０６８５３４号パンフレットの実施例の例１１に記載の方法において、ポリオキシエチレングリセロールエーテル（日本油脂社製、ユニオックスＧ１２００）を、ジグリセリン開始ポリオキシエチレングリセロールエーテル（坂本薬品工業社製、ＳＣ−Ｅ１５００）に変更した以外は、同様に反応を実施した。ジグリセリン開始ポリオキシエチレングリセロールエーテルに、ＦＣＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２）３Ｆを反応させ、室温で液体の化合物（Ｂ−１）を得た。ＮＭＲ分析の結果、化合物（Ｂ−１）の（ｈ＋ｉ＋ｊ＋ｋ）の平均値は３７．０であり、Ｒｆは−ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３であり、Ｍｎは２６００であり、Ｍｗ／Ｍｎは１．１５であった。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：３．４〜３．８，４．５。
１９Ｆ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−７６．０〜−８１．０，−８１．０〜−８２．０，−８２．０〜−８２．５，−８２．５〜−８５．０，−１２８．０〜−１２９．２，−１３１．１，−１４４．７。
１９Ｆ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−７６．０〜−８１．０，−８１．０〜−８２．０，−８２．０〜−８２．５，−８２．５〜−８５．０，−１２８．０〜−１２９．２，−１３１．１，−１４４．７。
〔例２〕
国際公開第２００５／０６８５３４号パンフレットの実施例の例２−１に記載の方法において、Ｒ−１１３をＣＦＥ−４１９に変更し、液相に吹き込むガスに含まれるフッ素ガス濃度を２０体積％から、１０体積％に変更した以外は同様に液相フッ素化反応を行った。生成物は、化合物（Ｃ−１）を主成分とし、化合物（Ｂ−１）の水素原子の９９．９モル％以上がフッ素原子に置換された組成物（ｃ−２）であった。
組成物（ｃ−２）において測定したＮＭＲスペクトルは以下のとおりである。
国際公開第２００５／０６８５３４号パンフレットの実施例の例２−１に記載の方法において、Ｒ−１１３をＣＦＥ−４１９に変更し、液相に吹き込むガスに含まれるフッ素ガス濃度を２０体積％から、１０体積％に変更した以外は同様に液相フッ素化反応を行った。生成物は、化合物（Ｃ−１）を主成分とし、化合物（Ｂ−１）の水素原子の９９．９モル％以上がフッ素原子に置換された組成物（ｃ−２）であった。
組成物（ｃ−２）において測定したＮＭＲスペクトルは以下のとおりである。
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：５．９〜６．４。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−５５．８，−７７．５〜−８６．０，−８８．２〜−９２．０，−１２０．０〜−１３９．０，−１４２．０〜−１４６．０。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−５５．８，−７７．５〜−８６．０，−８８．２〜−９２．０，−１２０．０〜−１３９．０，−１４２．０〜−１４６．０。
〔例３〕
国際公開第２００５／０６８５３４号パンフレットの実施例の例３に記載の方法にしたがって、組成物（ｃ−２）においてエステル分解反応を行い、化合物（Ｄ−１）を主成分とする組成物（ｄ−２）を得た。
国際公開第２００５／０６８５３４号パンフレットの実施例の例３に記載の方法にしたがって、組成物（ｃ−２）においてエステル分解反応を行い、化合物（Ｄ−１）を主成分とする組成物（ｄ−２）を得た。
〔例４〕
〔例４−１〕
国際公開第２００５／０６８５３４号パンフレットの実施例の例４−１に記載の方法にしたがって、組成物（ｄ−２）とエタノールを反応させることによるエステル化反応を行った。化合物（Ｅ−１）を主成分とする組成物（ｅ−２）を得た。該組成物（ｅ−２）を例５の反応に用いた。
〔例４−１〕
国際公開第２００５／０６８５３４号パンフレットの実施例の例４−１に記載の方法にしたがって、組成物（ｄ−２）とエタノールを反応させることによるエステル化反応を行った。化合物（Ｅ−１）を主成分とする組成物（ｅ−２）を得た。該組成物（ｅ−２）を例５の反応に用いた。
〔例４−２〕
国際公開第２００５／０６８５３４号パンフレットの実施例の例４−２に記載の方法にしたがって、組成物（ｄ−２）とエタノールを反応させることによるエステル交換反応を行い、化合物（Ｅ−１）を主成分とする組成物を得た。
国際公開第２００５／０６８５３４号パンフレットの実施例の例４−２に記載の方法にしたがって、組成物（ｄ−２）とエタノールを反応させることによるエステル交換反応を行い、化合物（Ｅ−１）を主成分とする組成物を得た。
〔例５〕
国際公開第２００５／０６８５３４号パンフレットの実施例の例５に記載の方法において、組成物（ｅ−２）の還元反応を行い、化合物（Ａ１６−１）を主成分とする組成物（ａ−２）を得た。
ＮＭＲ分析およびＨＰＬＣ分析からは、得られた組成物（ａ−２）中には、
３つのＯＨ基末端と１つのＣＦ３基末端を有する化合物（Ａ２１−１ａ）および化合物（Ａ２１−１ｂ）から選ばれる少なくとも１種（以下、化合物（Ａ２１−１）と記す。）、
２つのＯＨ基末端と２つのＣＦ３基末端を有する化合物（Ａ３１−１ａ）、化合物（Ａ３１−１ｂ）、化合物（Ａ３１−１ｃ）および化合物（Ａ３１−１ｄ）から選ばれる少なくとも１種（以下、化合物（Ａ３１−１）と記す。）、および
１つのＯＨ基末端と３つのＣＦ３基末端を有する化合物（Ａ４１−１ａ）および化合物（Ａ４１−１ｂ）から選ばれる少なくとも１種（以下、化合物（Ａ４１−１）と記す。）が含まれていることが示された。
国際公開第２００５／０６８５３４号パンフレットの実施例の例５に記載の方法において、組成物（ｅ−２）の還元反応を行い、化合物（Ａ１６−１）を主成分とする組成物（ａ−２）を得た。
ＮＭＲ分析およびＨＰＬＣ分析からは、得られた組成物（ａ−２）中には、
３つのＯＨ基末端と１つのＣＦ３基末端を有する化合物（Ａ２１−１ａ）および化合物（Ａ２１−１ｂ）から選ばれる少なくとも１種（以下、化合物（Ａ２１−１）と記す。）、
２つのＯＨ基末端と２つのＣＦ３基末端を有する化合物（Ａ３１−１ａ）、化合物（Ａ３１−１ｂ）、化合物（Ａ３１−１ｃ）および化合物（Ａ３１−１ｄ）から選ばれる少なくとも１種（以下、化合物（Ａ３１−１）と記す。）、および
１つのＯＨ基末端と３つのＣＦ３基末端を有する化合物（Ａ４１−１ａ）および化合物（Ａ４１−１ｂ）から選ばれる少なくとも１種（以下、化合物（Ａ４１−１）と記す。）が含まれていることが示された。
組成物（ａ−２）のＮＭＲスペクトルのパターン：
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．９４。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−５４．０，−８０．１，−８８．２〜−９０．５，−１３５．０〜−１３９．０。
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．９４。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−５４．０，−８０．１，−８８．２〜−９０．５，−１３５．０〜−１３９．０。
組成物（ａ−２）について、ＮＭＲ分析により、分子の末端のＯＨ基と、分子の末端のＣＦ３基の比を求めた結果、ＣＦ３／（ＯＨ＋ＣＦ３）値＝（８／（９２＋８）＝０．０８であった。分子の末端のＯＨ基と、分子の末端のＣＦ３基の比は、１９Ｆ−ＮＭＲのＣＦ３基のフッ素原子に由来する−５４．０〜−５６．０ｐｐｍ付近のピーク面積と、−ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ基のＣＦ２基のフッ素原子に由来する−７５．０〜-８１．０ｐｐｍ付近のピーク面積との比により求めた。
また、ＧＰＣ分析により求めた組成物（ａ−２）のＭｎは２５００、Ｍｗ／Ｍｎは１．１２であった。ＨＰＬＣにより求めた組成比（質量比）は、化合物（Ａ４１−１）が１％、化合物（Ａ３１−１）が３％、化合物（Ａ２１−１）が２４％、化合物（Ａ１６−１）が７２％であり、化合物（Ａ５１−１）は含まれていなかった。
また、ＧＰＣ分析により求めた組成物（ａ−２）のＭｎは２５００、Ｍｗ／Ｍｎは１．１２であった。ＨＰＬＣにより求めた組成比（質量比）は、化合物（Ａ４１−１）が１％、化合物（Ａ３１−１）が３％、化合物（Ａ２１−１）が２４％、化合物（Ａ１６−１）が７２％であり、化合物（Ａ５１−１）は含まれていなかった。
〔例６〕
組成物（ａ−２）を下記のカラムクロマトグラフィ法により精製した。
粒状シリカゲル（エスアイテック社製、ＭＳ−Ｇｅｌ Ｄ７５−１２０Ａ）をＲ−２２５で希釈したものを、直径１５０ｍｍ、長さ５００ｍｍのカラムに充填し、高さ１００ｍｍのシリカゲル充填相を形成した。
組成物（ａ−２）の３００ｇをシリカゲル充填相に投入した後、抽出溶媒（Ｒ−２２５とＩＰＡとの混合溶媒）を用い、抽出溶媒中のＩＰＡの濃度を徐々に高めながら分画操作を行い、画分（ｐ１−１）〜（ｐ１−５）を得た。抽出溶媒の量、抽出溶媒中のＩＰＡ濃度および画分の量を表１に示す。このうち画分（ｐ１−４）を用いて、さらに精製を行うことにした。
組成物（ａ−２）を下記のカラムクロマトグラフィ法により精製した。
粒状シリカゲル（エスアイテック社製、ＭＳ−Ｇｅｌ Ｄ７５−１２０Ａ）をＲ−２２５で希釈したものを、直径１５０ｍｍ、長さ５００ｍｍのカラムに充填し、高さ１００ｍｍのシリカゲル充填相を形成した。
組成物（ａ−２）の３００ｇをシリカゲル充填相に投入した後、抽出溶媒（Ｒ−２２５とＩＰＡとの混合溶媒）を用い、抽出溶媒中のＩＰＡの濃度を徐々に高めながら分画操作を行い、画分（ｐ１−１）〜（ｐ１−５）を得た。抽出溶媒の量、抽出溶媒中のＩＰＡ濃度および画分の量を表１に示す。このうち画分（ｐ１−４）を用いて、さらに精製を行うことにした。
各画分について、ＨＰＬＣ分析およびＧＰＣ分析を行った。結果を表２に示す。
カラムクロマトグラフィ法による抽出では、極性の低い画分に化合物（Ａ３１−１）および化合物（Ａ４１−１）の割合が多く、極性の高いＩＰＡの画分に化合物（Ａ１６−１）および化合物（Ａ２１−１）の割合が多くなっていることから、末端の水酸基数の影響を受けた溶出パターンとなった。
〔例７〕
画分（ｐ１−４）を下記の超臨界抽出法により精製した。
入口および出口を有する肉厚のステンレス容器（内径φ３３ｍｍ×深さ４５ｍｍ）、超臨界二酸化炭素流体送液ポンプ（日本分光社製、ＳＣＦ−２０１）、自動圧力調整弁（日本分光社製、８８０−８１）、通常のカラムクロマトグラフィに用いるカラムオーブンを備えた装置を用意した。
画分（ｐ１−４）の７０ｇを容器内に注入し、超臨界二酸化炭素を液化二酸化炭素換算流量５．０ｃｃ／分で流した。容器内の温度を６０℃に固定し、容器内の圧力を時間経過で変化させて、各圧力段階で分画し、画分（ｐ２−１）〜（ｐ２−７）を得た。容器内の圧力、該圧力の保持時間および画分の量を表３に示す。
画分（ｐ１−４）を下記の超臨界抽出法により精製した。
入口および出口を有する肉厚のステンレス容器（内径φ３３ｍｍ×深さ４５ｍｍ）、超臨界二酸化炭素流体送液ポンプ（日本分光社製、ＳＣＦ−２０１）、自動圧力調整弁（日本分光社製、８８０−８１）、通常のカラムクロマトグラフィに用いるカラムオーブンを備えた装置を用意した。
画分（ｐ１−４）の７０ｇを容器内に注入し、超臨界二酸化炭素を液化二酸化炭素換算流量５．０ｃｃ／分で流した。容器内の温度を６０℃に固定し、容器内の圧力を時間経過で変化させて、各圧力段階で分画し、画分（ｐ２−１）〜（ｐ２−７）を得た。容器内の圧力、該圧力の保持時間および画分の量を表３に示す。
各画分について、ＨＰＬＣ分析、ＮＭＲ分析およびＧＰＣ分析を行った。結果を表４に示す。超臨界抽出法による抽出では、分子量の影響を受け、分子量の少ないものから順に抽出された。
各画分について、Ｒ−２２５、ＣＦ３（ＣＦＨ）２ＣＦ２ＣＦ３（デュポン社製、バートレルＸＦ）およびＣＦ２ＨＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ３（旭硝子社製、ＡＥ−３０００）に対する溶解性を調べた。画分の濃度が１質量％になるように画分と溶媒とをそれぞれ混合し、目視にて溶解性を確認した。結果、各画分は、すべて溶媒に溶解した。
〔例８〜１１（参考例）〕
カーボンをターゲットとして用い、Ａｒ雰囲気中で高周波マグネトロンスパッタにより、磁気ディスク用ガラスブランクス（旭硝子社製、２．５”ブランクス）にＤＬＣを蒸着させてカーボン保護膜を製膜し、模擬ディスクを作製した。Ａｒのガス圧は、０．００３Ｔｏｒｒであり、スパッタ中の投入電力密度は、ターゲット面積あたり３Ｗ／ｃｍ２であった。カーボン保護膜の厚さは、３０ｎｍとした。カーボン保護膜の表面の水接触角は、４０゜であった。
カーボンをターゲットとして用い、Ａｒ雰囲気中で高周波マグネトロンスパッタにより、磁気ディスク用ガラスブランクス（旭硝子社製、２．５”ブランクス）にＤＬＣを蒸着させてカーボン保護膜を製膜し、模擬ディスクを作製した。Ａｒのガス圧は、０．００３Ｔｏｒｒであり、スパッタ中の投入電力密度は、ターゲット面積あたり３Ｗ／ｃｍ２であった。カーボン保護膜の厚さは、３０ｎｍとした。カーボン保護膜の表面の水接触角は、４０゜であった。
例７で得た画分（ｐ２−１）、画分（ｐ２−３）、画分（ｐ２−４）、および画分（ｐ２−５）を、それぞれバートレルＸＦで希釈して、画分の濃度が０．０１質量％の溶媒組成物を調製した。
該溶媒組成物に模擬ディスクを３０秒間浸漬し、６ｍｍ／秒の一定速度で引き上げた。溶媒組成物が塗布された模擬ディスクを恒温炉にて１００℃で１時間熱処理し、潤滑剤塗膜を形成した。潤滑剤塗膜が形成されたディスクをバートレルＸＦに３０秒浸漬して洗浄した。洗浄前後において潤滑剤塗膜の厚さをエリプソメータにて測定し、定着率を求めた。また、潤滑剤塗膜の表面の接触角、摩擦係数を測定し、付着性を評価した。結果を表５に示す。
該溶媒組成物に模擬ディスクを３０秒間浸漬し、６ｍｍ／秒の一定速度で引き上げた。溶媒組成物が塗布された模擬ディスクを恒温炉にて１００℃で１時間熱処理し、潤滑剤塗膜を形成した。潤滑剤塗膜が形成されたディスクをバートレルＸＦに３０秒浸漬して洗浄した。洗浄前後において潤滑剤塗膜の厚さをエリプソメータにて測定し、定着率を求めた。また、潤滑剤塗膜の表面の接触角、摩擦係数を測定し、付着性を評価した。結果を表５に示す。
〔例１２〜１４（参考例）〕
画分（ｐ１−４）を、例７で得た画分（ｐ２−６）、ソルベイ社製ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ−ＴｅｔｒａＯＬ（下記化合物（Ｆ１）、ｉ／ii＝１．０である。Ｍｎ：３０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．２３）、同ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ−Ｄｉｏｌ（下記化合物（Ｆ２）、ｉ／ii＝１．０である。Ｍｎ：４０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．１）に変更したこと以外は、例８と同様にして模擬ディスクの表面に潤滑剤塗膜を形成し、例８と同様にして評価した。結果を表５に示す。
ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｉ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ii−ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＨ ・・・（Ｆ１）。
ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｉ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ii−ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ ・・・（Ｆ２）。
画分（ｐ１−４）を、例７で得た画分（ｐ２−６）、ソルベイ社製ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ−ＴｅｔｒａＯＬ（下記化合物（Ｆ１）、ｉ／ii＝１．０である。Ｍｎ：３０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．２３）、同ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ−Ｄｉｏｌ（下記化合物（Ｆ２）、ｉ／ii＝１．０である。Ｍｎ：４０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．１）に変更したこと以外は、例８と同様にして模擬ディスクの表面に潤滑剤塗膜を形成し、例８と同様にして評価した。結果を表５に示す。
ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｉ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ii−ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＨ ・・・（Ｆ１）。
ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｉ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ii−ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ ・・・（Ｆ２）。
〔例１５（参考例）〕
画分（ｐ２−１）、画分（ｐ２−３）、画分（ｐ２−４）および画分（ｐ２−５）について、金属イオン分析、陰イオン分析および含水率測定を行った。
画分（ｐ２−１）、画分（ｐ２−３）、画分（ｐ２−４）および画分（ｐ２−５）について、金属イオン分析、陰イオン分析および含水率測定を行った。
〔例１６〕
例１〜７を繰り返し行い、画分（ｐ２−３）を収集し、１００ｇ以上の画分（ｐ２−３）を得た。
窒素雰囲気下の丸底フラスコ（２５０ｍＬ）に、画分（ｐ２−３）の１００ｇ、および２−メチル−２−プロパノールの１００ｇを投入し、均一混合するまで撹拌した。丸底フラスコに、出口が２０℃に保持され、かつ窒素ガスで置換された還流管を設置した。
つぎに、ｔ−ブトキシドカリウムの１０ｇを丸底フラスコに投入し、７０℃に加熱して３０分間撹拌した。さらに内温を７０℃に保持して、２，３−エポキシ−１−プロパノールの６．６ｇを２時間かけて滴下し、１２時間撹拌した。丸底フラスコを２５℃に冷却し、窒素ガスで置換してから、０．２ｇ／Ｌの塩酸の５０ｍＬを滴下して２層分離液を得た。該液の有機層を回収し、Ｒ−２２５の５０ｍＬを加えた溶液を、重曹水の５００ｍＬで２回洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水してから、エバポレーターで溶媒を留去し、２５℃で液体の薄黄色の組成物（ａ−４）の１００．４ｇを得た。
例１〜７を繰り返し行い、画分（ｐ２−３）を収集し、１００ｇ以上の画分（ｐ２−３）を得た。
窒素雰囲気下の丸底フラスコ（２５０ｍＬ）に、画分（ｐ２−３）の１００ｇ、および２−メチル−２−プロパノールの１００ｇを投入し、均一混合するまで撹拌した。丸底フラスコに、出口が２０℃に保持され、かつ窒素ガスで置換された還流管を設置した。
つぎに、ｔ−ブトキシドカリウムの１０ｇを丸底フラスコに投入し、７０℃に加熱して３０分間撹拌した。さらに内温を７０℃に保持して、２，３−エポキシ−１−プロパノールの６．６ｇを２時間かけて滴下し、１２時間撹拌した。丸底フラスコを２５℃に冷却し、窒素ガスで置換してから、０．２ｇ／Ｌの塩酸の５０ｍＬを滴下して２層分離液を得た。該液の有機層を回収し、Ｒ−２２５の５０ｍＬを加えた溶液を、重曹水の５００ｍＬで２回洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水してから、エバポレーターで溶媒を留去し、２５℃で液体の薄黄色の組成物（ａ−４）の１００．４ｇを得た。
組成物（ａ−４）について、ＮＭＲ分析およびＨＰＬＣ分析を行った。
画分（ｐ２−３）中のＣＦ２ＣＨ２ＯＨ基（以下、基（ｘ−１）と記す。）の９８モル％が、ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＨ基（以下、基（ｘ−２）と記す。）に変換されたことが確認された。
組成物（ａ−４）中には、
すべての末端が基（ｘ−２）に変換された化合物（Ａ−１）、
１つの基（ｘ−１）が残存した化合物（Ａ１３−１ａ）および化合物（Ａ１３−１ｂ）から選ばれる少なくとも１種（以下、化合物（Ａ１３−１）と記す。）、
３つの基（ｘ−２）と１つのＣＦ３基末端を有する化合物（Ａ２２−１ａ）、および
化合物（Ａ２２−１ｂ）、
から選ばれる少なくとも１種（以下、化合物（Ａ２２−１）と記す。）が含まれていることが確認された。
画分（ｐ２−３）中のＣＦ２ＣＨ２ＯＨ基（以下、基（ｘ−１）と記す。）の９８モル％が、ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＨ基（以下、基（ｘ−２）と記す。）に変換されたことが確認された。
組成物（ａ−４）中には、
すべての末端が基（ｘ−２）に変換された化合物（Ａ−１）、
１つの基（ｘ−１）が残存した化合物（Ａ１３−１ａ）および化合物（Ａ１３−１ｂ）から選ばれる少なくとも１種（以下、化合物（Ａ１３−１）と記す。）、
３つの基（ｘ−２）と１つのＣＦ３基末端を有する化合物（Ａ２２−１ａ）、および
化合物（Ａ２２−１ｂ）、
から選ばれる少なくとも１種（以下、化合物（Ａ２２−１）と記す。）が含まれていることが確認された。
組成物（ａ−４）のＮＭＲスペクトルのパターン：
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．５〜３．８、３．８〜４．０、４．０〜４．１。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−５４．０〜５６．０，−７５．０〜−８１．０，−８８．２〜−９０．５，−１３５．０〜−１３９．０。
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．５〜３．８、３．８〜４．０、４．０〜４．１。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−５４．０〜５６．０，−７５．０〜−８１．０，−８８．２〜−９０．５，−１３５．０〜−１３９．０。
またＧＰＣ分析により求めた組成物（ａ−４）のＭｎは２５００、Ｍｗ／Ｍｎは１．１３であった。ＨＰＬＣにより求めた組成比（質量比）は、化合物（Ａ−１）が６７％、化合物（Ａ１３−１）が１８％、化合物（Ａ２２−１）が１５％であった。
〔例１７〕
組成物（ａ−４）を、例７と同様の超臨界抽出法により精製し、画分（ｐ３−１）〜（ｐ３−３）を得た。容器内の圧力、該圧力の保持時間および画分の量を表６に示す。
組成物（ａ−４）を、例７と同様の超臨界抽出法により精製し、画分（ｐ３−１）〜（ｐ３−３）を得た。容器内の圧力、該圧力の保持時間および画分の量を表６に示す。
各画分について、ＨＰＬＣ分析およびＧＰＣ分析を行った。結果を表７に示す。また、画分（ｐ３−３）について、ＮＭＲ分析を行った。
画分（ｐ３−３）のＮＭＲスペクトルのパターン：
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．５〜３．８、４．０〜４．１。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−５４．０〜５６．０，−７５．０〜−７９．０，−８８．２〜−９０．５，−１３５．０〜−１３９．０。
１Ｈ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：３．５〜３．８、４．０〜４．１。
１９Ｆ−ＮＭＲ δ（ｐｐｍ）：−５４．０〜５６．０，−７５．０〜−７９．０，−８８．２〜−９０．５，−１３５．０〜−１３９．０。
各画分について、Ｒ−２２５、ＣＦ３（ＣＦＨ）２ＣＦ２ＣＦ３（デュポン社製、バートレルＸＦ）およびＣＦ２ＨＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ３（旭硝子社製、ＡＥ−３０００）に対する溶解性を調べた。画分の濃度が１質量％になるように画分と溶媒とをそれぞれ混合し、目視にて溶解性を確認した。結果、各画分は、すべて溶媒に溶解した。
さらに、得られた画分（ｐ３−１）〜（ｐ３−３）について金属イオン分析、陰イオン分析および含水率測定を測定した結果を表８に示す。画分（ａ−４）は、超臨界抽出を行う前の画分である。
さらに、得られた画分（ｐ３−１）〜（ｐ３−３）について金属イオン分析、陰イオン分析および含水率測定を測定した結果を表８に示す。画分（ａ−４）は、超臨界抽出を行う前の画分である。
〔例１８〜２０（実施例）〕
画分（ｐ１−４）を、例１７で得た画分（ｐ３−１）、画分（ｐ３−２）および画分（ｐ３−３）に変更する以外は、例８と同様にして模擬ディスクの表面に潤滑剤塗膜を形成し、例８と同様にして評価した。
得られた潤滑剤塗膜は、定着率が約８０％以上となり、摩擦係数が約２以下となり、付着性試験は全てにおいて良好な結果を示した。また、高温高湿炉（６０℃、８０％湿度）に１２時間保管した後も、付着性の劣化は見られなかった。模擬ディスクの表面の水に対する接触角が約８５度以上であり、ヘキサデカンに対する接触角は約６０度以上であった。
画分（ｐ１−４）を、例１７で得た画分（ｐ３−１）、画分（ｐ３−２）および画分（ｐ３−３）に変更する以外は、例８と同様にして模擬ディスクの表面に潤滑剤塗膜を形成し、例８と同様にして評価した。
得られた潤滑剤塗膜は、定着率が約８０％以上となり、摩擦係数が約２以下となり、付着性試験は全てにおいて良好な結果を示した。また、高温高湿炉（６０℃、８０％湿度）に１２時間保管した後も、付着性の劣化は見られなかった。模擬ディスクの表面の水に対する接触角が約８５度以上であり、ヘキサデカンに対する接触角は約６０度以上であった。
本発明のエーテル化合物は、潤滑剤等として有用である。
Claims (5)
- 下式（Ａ）で表される化合物。
（Ｘ２−）４Ｙ ・・・（Ａ）。
ただし、
Ｘ２は、下式（Ｘ２）で表される基であり、
Ｙは、下式（Ｙ−１）で表される基（ただし、ｄは、１〜２００の整数である。）である。
ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− ・・・（Ｘ２）。
- 下式（Ａ）で表される化合物を含む、潤滑剤。
（Ｘ２−）４Ｙ ・・・（Ａ）。
ただし、
Ｘ２は、下式（Ｘ２）で表される基であり、
Ｙは、下式（Ｙ−１）で表される基（ただし、ｄは、１〜２００の整数である。）である。
ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− ・・・（Ｘ２）。
- 式（Ａ）で表される化合物、および、式（Ａ）で表される化合物以外の含フッ素エーテル化合物を含む、請求項２に記載の潤滑剤。
- 式（Ａ）で表される化合物以外の含フッ素エーテル化合物が、下式（Ａ１６）で表される化合物である、請求項３に記載の潤滑剤。
（Ｘ１−）４Ｙ ・・・（Ａ１６）。
ただし、
Ｘ１は、下式（Ｘ１）で表される基であり、
Ｙは、前記式（Ｙ−１）で表される基（ただし、ｄは１〜２００の整数である。）である。
ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ− ・・・（Ｘ１）。 - 化合物（Ａ）の量が、潤滑剤中に０．１〜１００質量％である、請求項２〜４のいずれかに記載の潤滑剤。
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