JPWO2015087859A1 - タッチセンサー用部材の製造方法及びタッチセンサー用部材 - Google Patents
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Abstract
Description
(1) 表示領域と、加飾領域と、に区分される基板において、上記表示領域上及び上記加飾領域上に感光性導電ペーストを塗布して導電塗布膜を得る、導電塗布膜形成工程と、上記表示領域上の上記導電塗布膜と、上記加飾領域上の上記導電塗布膜と、を一括して露光及び現像し、さらに100〜250℃で加熱又はキセノンフラッシュランプの光を照射して導電パターンを得る、導電パターン形成工程と、を備え、上記表示領域上の上記導電パターンの線幅が、2〜6μmであり、上記加飾領域上の上記導電パターンの線幅が、7〜100μmである、タッチセンサー用部材の製造方法。
(2) 表示領域と、加飾領域と、に区分される基板において、上記表示領域上に、感光性遮光ペーストを塗布して遮光塗布膜を得る、遮光塗布膜形成工程と、遮光塗布膜形成工程後に、上記表示領域上及び上記加飾領域上に感光性導電ペーストを塗布して導電塗布膜を得る、導電塗布膜形成工程と、上記表示領域上の上記遮光塗布膜及び上記導電塗布膜と、上記加飾領域上の上記導電塗布膜と、を一括して露光及び現像し、さらに100〜250℃で加熱又はキセノンフラッシュランプの光を照射して遮光層及び導電パターンを得る、遮光層及び導電パターン形成工程と、を備え、上記表示領域上の上記導電パターンの線幅が、2〜6μmであり、上記加飾領域上の上記導電パターンの線幅が、7〜100μmである、タッチセンサー用部材の製造方法。
(3) 上記表示領域上の上記導電塗布膜と、上記加飾領域上の上記導電塗布膜と、が含有する有機成分が同一である、上記(1)又は(2)に記載のタッチセンサー用部材の製造方法。
(4) 上記表示領域上の上記導電塗布膜と、上記加飾領域上の上記導電塗布膜と、の組成が同一である、上記(1)〜(3)のいずれかに記載のタッチセンサー用部材の製造方法。
(5) 上記導電塗布膜形成工程において、上記表示領域上及び上記加飾領域上に、一括して感光性導電ペーストを塗布する、上記(4)に記載のタッチセンサー用部材の製造方法。
(6) 表示領域と、加飾領域と、に区分される基板と、上記表示領域上に形成された、線幅が2〜6μmの導電パターンと、上記加飾領域上に形成された、線幅が7〜100μmの導電パターンと、を備え、上記線幅が2〜6μmの導電パターンと、上記線幅が7〜100μmの導電パターンと、の組成が同一である、タッチセンサー用部材。
(7) 上記表示領域と、上記線幅が2〜6μmの導電パターンと、の間に、遮光層を有する、上記(6)に記載のタッチセンサー用部材。
(合成例1 : 感光性有機化合物(1))
共重合比率(質量基準):エチルアクリレート(以下、「EA」)/メタクリル酸2−エチルヘキシル(以下、「2−EHMA」)/スチレン(以下、「St」)/グリシジルメタクリレート(以下、「GMA」)/アクリル酸(以下、「AA」)=20/40/20/5/15
窒素雰囲気の反応容器中に、150gのDMEAを仕込み、オイルバスを用いて80℃まで昇温した。これに、20gのEA、40gの2−EHMA、20gのSt、15gのAA、0.8gの2,2’−アゾビスイソブチロニトリル及び10gのジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートからなる混合物を、1時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに6時間重合反応を行った。その後、1gのハイドロキノンモノメチルエーテルを添加して、重合反応を停止した。引き続き、5gのGMA、1gのトリエチルベンジルアンモニウムクロライド及び10gのDMEAからなる混合物を、0.5時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに2時間付加反応を行った。得られた反応溶液をメタノールで精製することで未反応不純物を除去し、さらに24時間真空乾燥することで、感光性有機化合物(1)を得た。得られた感光性有機化合物(1)の酸価は103mgKOH/gであった。
共重合比率(質量基準)トリシクロデカンジメタノールジアクリレート(IRR214−K;ダイセル・サイテック(株)製)/変性ビスフェノールAジアクリレート(EBECRYL150;ダイセル・サイテック(株)製)/St/AA)=25/40/20/15
窒素雰囲気の反応容器中に、150gのDMEAを仕込み、オイルバスを用いて80℃まで昇温した。これに、25gのIRR214−K、40gのEBECRYL150、20gのSt、15gのAA、0.8gの2,2’−アゾビスイソブチロニトリル及び10gのDMEAからなる混合物を、1時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに6時間重合反応を行った。その後、1gのハイドロキノンモノメチルエーテル1gを添加して、重合反応を停止した。得られた反応溶液をメタノールで精製することで未反応不純物を除去し、さらに24時間真空乾燥することで、感光性有機化合物(2)を得た。得られた感光性有機化合物(2)の酸価は89mgKOH/gであった。
エポキシ樹脂(1)(アデカレジンEP−4530(エポキシ当量190);(株)ADEKA製)
エポキシ樹脂(2)(JER1001(エポキシ当量475);三菱化学(株)製)
フェノール樹脂(PSF−2808;群栄化学工業株式会社製)。
ライトアクリレートBP−4EA(共栄社化学株式会社製)
ライトアクリレートTMP−A(共栄社化学株式会社製)
[顔料]
Co3O4粒子(正同化学工業(株)製)
[導電性粒子]
体積平均粒子径が1μmのAg粒子
体積平均粒子径が0.3μmのAg粒子
体積平均粒子径が0.05μmのAg粒子
[光重合開始剤]
N−1919((株)ADEKA製)
[溶剤]
ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート:DMEA(東京化成工業(株)製)
[加飾用黒色インク]
MRX−HF(帝国インキ製造(株)製)
各感光性導電ペースト及び感光性遮光ペーストを、以下のとおり用意した。
100mLクリーンボトルに、17.5gの感光性有機化合物(2)、0.5gのN−1919、1.5gのエポキシ樹脂(1)、3.5gのライトアクリレートBP−4EA(共栄社化学株式会社製)を及び19.0gのDMEAを入れ、“あわとり錬太郎”(登録商標)(ARE−310;(株)シンキー製)で混合し、42.0gの樹脂溶液を得た。得られた42.0gの樹脂溶液と、62.3gの体積平均粒子径0.3μmのAg粒子とを混ぜ合わせ、3本ローラー(EXAKT M−50;EXAKT社製)を用いて混練した後に、さらにDMEAを7g再度加えて混合し111gの感光性導電ペーストAを得た。感光性導電ペーストAの粘度は、10,000mPa・sであった。
Ag粒子を体積平均粒子径が1μmのもの、エポキシ樹脂を(2)に変更した以外は、感光性導電ペーストAと同様の方法で、111gの感光性導電ペーストBを得た。感光性導電ペーストBの粘度は、13,000mPa・sであった。
エポキシ樹脂(1)をフェノール樹脂に変更した以外は、感光性導電ペーストBと同様の方法で、111gの感光性導電ペーストCを得た。感光性導電ペーストCの粘度は、20,000mPa・sであった。
Ag粒子を体積平均粒子径が0.05μmのものに変更し、エポキシ樹脂に代えてライトアクリレートTMP−Aとした以外は、感光性導電ペーストAと同様の方法で、111gの感光性導電ペーストDを得た。感光性導電ペーストDの粘度は、6,000mPa・sであった。
100mLクリーンボトルに、10.0gの感光性有機化合物(1)、0.5gのN−1919、1.0gのエポキシ樹脂(2)及び10.0gのDMEAを入れ、“あわとり錬太郎”(登録商標)(ARE−310;(株)シンキー製)で混合し、21.5gの樹脂溶液を得た。得られた21.5gの樹脂溶液と、2.0gの体積平均粒子径0.8μmのCo3O4粒子とを混ぜ合わせ、3本ローラー(EXAKT M−50;EXAKT社製)を用いて混練し、23.5gの感光性遮光ペーストを得た。感光性遮光ペーストの粘度は、12,000mPa・sであった。
ガラス基板の加飾領域上に、予め加飾用黒色インキをスクリーン印刷で塗布して、150℃のIR(遠赤外線)ヒーター炉内で1時間加熱して、加飾層を形成した。ガラス基板の表示領域上及び加飾領域上に、感光性導電ペーストAを、乾燥後の膜厚が1.5μmとなるようにスクリーン印刷で塗布して、導電塗布膜を得た。得られた導電塗布膜は、90℃のIRヒーター炉内で10分間乾燥した。次に、表示領域に対応する部分における開口部幅が3μm、ピッチ140μmのメッシュ形状であり、加飾領域に対応する部分における開口部幅が20μmである露光マスクを介して、露光装置(PEM−6M;ユニオン光学(株)製)を用いて露光量500mJ/cm2(波長365nm換算)で露光し、0.2質量%Na2CO3溶液で30秒間浸漬現像を行い、さらに超純水でリンスしてから、140℃のIRヒーター炉内で30分間加熱して、導電パターンを得た。
得られた導電パターンを光学顕微鏡により観察し、パターン太り線幅及びパターンの直進性を評価した。パターン太りについては、表示領域上に形成された導電パターンの線幅が2〜6μmであり、かつ加飾領域上に形成された導電パターンの線幅が7〜25μmであることが好ましい。表示領域上の導電パターンが2μm未満の場合、後工程で断線が生じやすいため不可である。またパターンの直進性については、導電パターンの蛇行及び目視での断線のいずれもがなければ「良好」とし、導電パターンの蛇行又は断線のいずれかがあれば「可」、蛇行及び断線のいずれもがあれば「不可」とした。
得られた導電パターンの端点から端点を抵抗測定用テスター(2407A;BKプレシジョン社製)端子でつないで、導通性を評価した。端点から端点の長さは2cmとした。抵抗値が1000Ω未満の場合を「良好」、抵抗値が1000〜2000Ωの場合を「可」、抵抗値が測定できなかった場合を「不可」とした。
得られた表示領域上の導電パターンを分光測色計(CM−2500d;コニカミノルタ製)を用いて、基板の裏側からL*値を測定し、L*値が36未満となるものを「良好」、L*値が36以上60以下となるものを「可」、L*値が60を超えるものを「不可」とした。なお、L*は輝度の指標であり、100が純白を、0が黒を表現する。
得られた表示領域上の導電パターンの基板を目から30cm〜50cm離し、白色電灯下、目視にて30秒間観察した。観察する人を10人準備した。30秒間に10人全ての人が導電パターンを確認できなければ「良好」、5人以上の人が導電パターンを確認できなければ「可」、10人全ての人が導電パターンを確認できれば「不可」とした。
ガラス基板の加飾領域上に、実施例1と同様に加飾層を形成した。ガラス基板上の表示領域上に、感光性遮光ペーストBを、乾燥後の膜厚が2μmとなるようにスクリーン印刷で塗布して、遮光塗布膜を得た。得られた遮光塗布膜は、90℃のIRヒーター炉内で10分間乾燥した。さらに、遮光塗布膜上及び加飾領域上に、感光性導電ペーストBを、乾燥後の膜厚が2μmとなるようにスクリーン印刷で塗布して、導電塗布膜を得た。得られた導電塗布膜は、90℃のIR炉内で5分間乾燥した。
感光性導電ペーストAを用いた以外は実施例2と同様にして、遮光塗布膜及び導電塗布膜を得た。
ガラス基板の加飾領域上に、加飾層を形成した。ガラス基板上の加飾領域上に感光性導電ペーストBを、表示領域上に感光性導電ペーストAを、いずれも乾燥後の膜厚が2μmとなるようにスクリーン印刷でそれぞれ塗布して、導電塗布膜を得た。得られた導電塗布膜を、実施例1と同様の方法で乾燥、露光、現像、リンス及び加熱して、導電パターンを得た。得られた導電パターンについて、実施例1と同様の評価をした。評価結果を表1に示す。
感光性導電ペーストDを用い、乾燥後の膜厚が1μm以下となるようにダイコーターで塗布する以外は、実施例1と同様にして、導電塗布膜を得た。得られた導電塗布膜を、表示領域に対応する部分における開口部幅を2μmに変え、加熱温度を180℃に変更した以外は、実施例1と同様の方法で乾燥、露光、現像、リンスして、導電パターンを得た。得られた導電パターンについて、実施例1と同様の評価をした。評価結果を表1に示す。
ガラス基板に代えてPETフィルム基板を、感光性導電ペーストAに代えて感光性導電ペーストCを、それぞれ用いた以外は、実施例4と同様にして、導電パターンを得た。得られた導電パターンについて、実施例1と同様の評価をした。評価結果を表1に示す。
加飾領域上に感光性導電ペーストAを用いた以外は実施例2と同様にして、遮光塗布膜及び導電塗布膜を得た。
ガラス基板に代えてPETフィルム基板を、感光性導電ペーストAに代えて感光性導電ペーストCを、それぞれ用いた。実施例4と同様の方法で乾燥、露光、現像、リンスした後、エネルギー量1.0J/cm2、照射時間0.3msec、の条件でキセノンフラッシュランプの光を照射して、導電パターンを得た。得られた導電パターンについて、実施例1と同様の評価をした。評価結果を表1に示す。
Claims (7)
- 表示領域と、加飾領域と、に区分される基板において、前記表示領域上及び前記加飾領域上に感光性導電ペーストを塗布して導電塗布膜を得る、導電塗布膜形成工程と、
前記表示領域上の前記導電塗布膜と、前記加飾領域上の前記導電塗布膜と、を一括して露光及び現像し、さらに100〜250℃で加熱又はキセノンフラッシュランプの光を照射して導電パターンを得る、導電パターン形成工程と、を備え、
前記表示領域上の前記導電パターンの線幅が、2〜6μmであり、
前記加飾領域上の前記導電パターンの線幅が、7〜100μmである、タッチセンサー用部材の製造方法。 - 表示領域と、加飾領域と、に区分される基板において、前記表示領域上に、感光性遮光ペーストを塗布して遮光塗布膜を得る、遮光塗布膜形成工程と、
遮光塗布膜形成工程後に、前記表示領域上及び前記加飾領域上に感光性導電ペーストを塗布して導電塗布膜を得る、導電塗布膜形成工程と、
前記表示領域上の前記遮光塗布膜及び前記導電塗布膜と、前記加飾領域上の前記導電塗布膜と、を一括して露光及び現像し、さらに100〜250℃で加熱又はキセノンフラッシュランプの光を照射して遮光層及び導電パターンを得る、遮光層及び導電パターン形成工程と、を備え、
前記表示領域上の前記導電パターンの線幅が、2〜6μmであり、
前記加飾領域上の前記導電パターンの線幅が、7〜100μmである、タッチセンサー用部材の製造方法。 - 前記表示領域上の前記導電塗布膜と、前記加飾領域上の前記導電塗布膜と、が含有する熱硬化性化合物が同一である、請求項1又は2記載のタッチセンサー用部材の製造方法。
- 前記表示領域上の前記導電塗布膜と、前記加飾領域上の前記導電塗布膜と、の組成が同一である、請求項1〜3のいずれか一項記載のタッチセンサー用部材の製造方法。
- 前記導電塗布膜形成工程において、前記表示領域上及び前記加飾領域上に、一括して感光性導電ペーストを塗布する、請求項4記載のタッチセンサー用部材の製造方法。
- 表示領域と、加飾領域と、に区分される基板と、
前記表示領域上に形成された、線幅が2〜6μmの導電パターンと、
前記加飾領域上に形成された、線幅が7〜100μmの導電パターンと、を備え、
前記線幅が2〜6μmの導電パターンと、前記線幅が7〜100μmの導電パターンと、の組成が同一である、タッチセンサー用部材。 - 前記表示領域と、前記線幅が2〜6μmの導電パターンと、の間に、遮光層を有する、請求項6記載のタッチセンサー用部材。
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