JPWO2015080083A1 - 洗浄・乾燥装置、スクリーニング装置、洗浄・乾燥方法、及びスクリーニング方法 - Google Patents

Abstract

洗浄機器及び乾燥機器の配置によっては、設置のための空間を有効に利用することができないおそれがある。バイオチップを有するプレート用の洗浄・乾燥装置３０は、前記プレート６０を洗浄する洗浄機器３１０と、前記プレート６０を乾燥する乾燥機器３２０と、を備え、前記乾燥機器３２０は前記洗浄機器３１０の上方に設けられている。

Description

本発明は、洗浄・乾燥装置、スクリーニング装置、洗浄・乾燥方法、及びスクリーニング方法に関する。

洗浄装置は、使用済マイクロプレートの供給部１１、洗浄部１２および洗浄済マイクロプレートの収納部１３を具え、収納部１３は供給部１１とほぼ同一のマイクロプレート保持搬送機構を具えている他に洗浄済マイクロプレートの乾燥をも行なうようになっている（例えば、特許文献１参照）。

特開昭６０−５３８５０号公報

洗浄機器及び乾燥機器の配置によっては、設置のための空間を有効に利用することができないおそれがある。

本発明の一態様は、バイオチップを有するプレート用の洗浄・乾燥装置であって、前記プレートを洗浄する洗浄部と、前記プレートを乾燥する乾燥部と、を備え、前記乾燥部は前記洗浄部の上方に設けられている。

本発明の他の一態様は、上記一態様において、前記洗浄部は、前記プレートを直立状態として洗浄し、前記乾燥部は、前記プレートを直立状態として乾燥する。

本発明の他の一態様は、上記一態様において、前記洗浄部で洗浄した前記プレートを前記乾燥部へ上方に搬送する搬送部を備える。

本発明の他の一態様は、上記一態様において、前記搬送部は、前記乾燥部を通過して洗浄前の前記プレートを前記洗浄部へ下方に搬送する。

本発明の他の一態様は、上記一態様において、前記搬送部は、前記プレートを前記洗浄部から上方の前記乾燥部へ鉛直方向に搬送する。

本発明の他の一態様は、上記一態様において、前記乾燥部は、前記洗浄部の鉛直上方に配置されている。

本発明の他の一態様は、上記一態様において、前記洗浄部において前記プレートの両面を洗浄し、前記乾燥部において前記プレートの両面を乾燥する。

本発明の他の一態様は、上記一態様において、前記乾燥部からの排気を濾過して再び乾燥のために利用可能とする循環機構を備える。

本発明の他の一態様は、上記一態様において、前記洗浄部の下部に廃液貯蔵部を有する。

本発明の他の一態様は、上記一態様において、前記洗浄部における洗浄位置と前記乾燥部における乾燥位置が水平方向に変位した位置である。

本発明の他の一態様は、上記一態様において、洗浄前の水平状態の前記プレートを回転して直立状態とし、乾燥後の直立状態の前記プレートを回転して再び水平状態とする回転動作部を備える。

本発明の一態様は、上記何れか一態様による洗浄・乾燥装置と、前記バイオチップ上に固定された生体分子と特異的に反応可能な標的を含む検体を、前記バイオチップを有するプレートに分注する分注装置と、前記標的と前記生体分子との親和性を検出する検出装置と、を備える、バイオチップのスクリーニング装置である。

本発明の他の一態様は、上記一態様において、前記プレートを前記分注装置から前記洗浄・乾燥装置へ水平方向に搬送し、前記プレートを前記洗浄・乾燥装置から前記検出装置へ水平方向に搬送する搬送装置を備える。

本発明の他の一態様は、上記一態様において、前記搬送装置は、前記プレートを水平状態として前記分注装置から前記洗浄・乾燥装置へ水平方向に搬送し、前記プレートを水平状態として前記洗浄・乾燥装置から前記検出装置へ水平方向に搬送する。

本発明の一態様は、バイオチップを有するプレートの洗浄・乾燥方法であって、前記プレートを洗浄位置に搬送する第１搬送工程と、前記洗浄位置において前記プレートを洗浄する洗浄工程と、洗浄後の前記プレートを、前記洗浄位置の上方に位置する乾燥位置に搬送する第２搬送工程と、前記乾燥位置において前記プレートを乾燥する乾燥工程と、を含む。

本発明の他の一態様は、上記一態様において、前記第１搬送工程は、前記プレートを直立状態として前記洗浄位置に搬送する工程であり、前記洗浄工程は、前記プレートを直立状態として洗浄する工程であり、前記第２搬送工程は、前記プレートを直立状態として前記乾燥位置に搬送する工程であり、前記乾燥工程は、前記プレートを直立状態として乾燥する工程である。

本発明の他の一態様は、上記一態様において、前記第１搬送工程は、前記プレートを、前記乾燥位置を通過して前記洗浄位置へ下方に搬送する下方搬送工程を含む。

本発明の他の一態様は、上記一態様において、前記洗浄工程において前記プレートの両面を洗浄し、前記乾燥工程において前記プレートの両面を乾燥する。

本発明の他の一態様は、上記一態様において、洗浄前の水平状態の前記プレートを回転して直立状態とする工程と、乾燥後の直立状態の前記プレートを回転して再び水平状態とする工程と、を含む。

本発明の一態様は、バイオチップを有するプレートを用いたスクリーニング方法であって、分注装置において、前記バイオチップ上に固定された生体分子と特異的に反応可能な標的を含む検体を、前記バイオチップを有するプレートに分注する分注工程と、洗浄・乾燥装置において、上記何れか一態様による洗浄・乾燥方法を実施するための前記各工程の何れかと、検出装置において、前記標的と前記生体分子との親和性を検出する検出工程と、を含む。

本発明の他の一態様は、上記一態様において、前記分注後のプレートを前記分注装置から前記洗浄・乾燥装置へ水平方向に搬送する工程と、前記洗浄・乾燥後のプレートを前記洗浄・乾燥装置から前記検出装置へ水平方向に搬送する工程と、を含む。

本発明の他の一態様は、上記一態様において、前記分注後のプレートは、水平状態で前記分注装置から前記洗浄・乾燥装置へ水平方向に搬送され、前記洗浄・乾燥後のプレートは、水平状態で前記洗浄・乾燥装置から前記検出装置へ水平方向に搬送される。

スクリーニング装置において用いられるプレートの斜視図である。 スクリーニング装置において用いられるプレートの断面図である。 スクリーニング装置の構成を模式的に示す図である。 洗浄・乾燥装置の構成を模式的に示す図である。 制御機器による洗浄機器、乾燥機器及び搬送機器に対する制御を説明するための図である。 制御機器による洗浄機器、乾燥機器及び搬送機器に対する制御の第１変形例を説明するための図である。 制御機器による洗浄機器、乾燥機器及び搬送機器に対する制御の第２変形例を説明するための図である。 制御機器による洗浄機器、乾燥機器及び搬送機器に対する制御の第３変形例を説明するための図である。 スクリーニング装置によるスクリーニング方法を示すフローチャートである。 洗浄・乾燥装置における洗浄・乾燥工程を示すフローチャートである。 スクリーニング装置の構成を模式的に示す図である。 スクリーニング装置の構成を模式的に示す図である。 スクリーニング装置の構成を模式的に示す図である。

以下、図面を参照しながら本発明の実施形態について詳しく説明する。

図１は、スクリーニング装置１０において用いられるプレート６０の斜視図である。プレート６０は、区画部材６２０と、板材６３０とを備えている。図１及び以下に述べる図２において、説明の便宜のため、プレート６０を構成する板材６３０の第２面６３０ｂに垂直な方向をｚ軸方向とし、プレート６０を構成する板材６３０の長辺に沿った方向をｘ軸方向とし、プレート６０を構成する板材６３０の短辺に沿った方向をｙ軸方向とする。ｘ軸、ｙ軸、及びｚ軸は互いに直交し、直交座標系を構成している。

区画部材６２０は、第１面６２０ａと、第２面６２０ｂとを有している。区画部材６２０の第１面６２０ａは、ｘｙ平面に平行な面である。区画部材６２０の第２面６２０ｂは、ｘｙ平面に平行な面である。区画部材６２０の第１面６２０ａは、区画部材６２０の第２面６２０ｂとはｚ軸方向において異なる位置に形成されている。区画部材６２０の第１面６２０ａは、区画部材６２０の第２面６２０ｂと平行である。区画６２１は、第１面６２０ａから第２面６２０ｂまでを貫通する貫通穴である。区画６２１は、略四角柱の形状をした空間である。ただし、区画６２１の形状は、これに限るものではなく、例えば円柱の形状であってもよい。

区画部材６２０は、隔壁６２２と、連結部６２４と、補強部６２６とを備えている。

隔壁６２２は、区画６２１を形成する部材である。区画部材６２０は、隔壁６２２によって形成された区画６２１を有している。

区画部材６２０は、第１隔壁６２２−１と、第２隔壁６２２−２と、第３隔壁６２２−３と、第４隔壁６２２−４と、第５隔壁６２２−５と、第６隔壁６２２−６と、第７隔壁６２２−７と、第８隔壁６２２−８と、第９隔壁６２２−９と、第１０隔壁６２２−１０と、第１１隔壁６２２−１１と、第１２隔壁６２２−１２と、第１３隔壁６２２−１３と、第１４隔壁６２２−１４と、第１５隔壁６２２−１５と、第１６隔壁６２２−１６と、第１７隔壁６２２−１７と、第１８隔壁６２２−１８と、第１９隔壁６２２−１９と、第２０隔壁６２２−２０と、第２１隔壁６２２−２１と、第２２隔壁６２２−２２と、第２３隔壁６２２−２３と、第２４隔壁６２２−２４とを隔壁６２２として含む。

よって、区画部材６２０は、第１隔壁６２２−１によって形成された区画６２１−１と、第２隔壁６２２−２によって形成された区画６２１−２と、第３隔壁６２２−３によって形成された区画６２１−３と、第４隔壁６２２−４によって形成された区画６２１−４と、第５隔壁６２２−５によって形成された区画６２１−５と、第６隔壁６２２−６によって形成された区画６２１−６と、第７隔壁６２２−７によって形成された区画６２１−７と、第８隔壁６２２−８によって形成された区画６２１−８と、第９隔壁６２２−９によって形成された区画６２１−９と、第１０隔壁６２２−１０によって形成された区画６２１−１０と、第１１隔壁６２２−１１によって形成された区画６２１−１１と、第１２隔壁６２２−１２によって形成された区画６２１−１２と、第１３隔壁６２２−１３によって形成された区画６２１−１３と、第１４隔壁６２２−１４によって形成された区画６２１−１４と、第１５隔壁６２２−１５によって形成された区画６２１−１５と、第１６隔壁６２２−１６によって形成された区画６２１−１６と、第１７隔壁６２２−１７によって形成された区画６２１−１７と、第１８隔壁６２２−１８によって形成された区画６２１−１８と、第１９隔壁６２２−１９によって形成された区画６２１−１９と、第２０隔壁６２２−２０によって形成された区画６２１−２０と、第２１隔壁６２２−２１によって形成された区画６２１−２１と、第２２隔壁６２２−２２によって形成された区画６２１−２２と、第２３隔壁６２２−２３によって形成された区画６２１−２３と、第２４隔壁６２２−２４によって形成された区画６２１−２４との計２４個の区画を区画６２１として有している。

区画６２１は、区画部材６２０において格子状に配列されている。一例として、区画６２１は、区画部材６２０の長辺方向に沿って複数配列され、区画部材６２０の短辺方向に沿って複数配列されている。すなわち、区画６２１は、ｘ軸とｙ軸とに沿って格子状に配列されている。図１は、区画部材６２０の長辺方向において６列、区画部材６２０の短辺方向に沿って４行の計２４個の区画が形成された区画部材６２０を示している。なお、図１では隔壁を２４個有する区画部材、すなわち区画を２４個有する区画部材を例に挙げて説明したが、区画部材６２０が有する隔壁の個数（区画の個数）は、これに限るものではない。なお、図１では隔壁が格子状に形成された区画部材６２０を例に挙げて説明したが、区画部材６２０における隔壁の配列（区画の配列）は、これに限るものでない。

隔壁６２２は、第１面６２２ａと、第２面６２２ｂと、第３面６２２ｃと、第４面６２２ｄとを有している。

隔壁６２２の第１面６２２ａは、ｘｙ平面に平行な面である。隔壁６２２の第１面６２２ａは、区画部材６２０の第１面６２０ａに含まれる。すなわち、隔壁６２２の第１面６２２ａは、区画部材６２０の第１面６２０ａとｚ軸方向において同じ位置に形成されている。隔壁６２２の第１面６２２ａは、区画部材６２０を板材６３０に接合してプレート６０を形成した場合、板材６３０の第２面６３０ｂと略平行な面である。

隔壁６２２の第２面６２２ｂは、ｘｙ平面に平行な面である。隔壁６２２の第２面６２２ｂは、隔壁６２２の第１面６２２ａとはｚ軸方向において異なる位置に形成されている。隔壁６２２の第２面６２２ｂは、隔壁６２２の第１面６２２ａと平行である。隔壁６２２の第１面６２２ａは、区画部材６２０を板材６３０に接合してプレート６０を形成した場合、隔壁６２２の第２面６２２ｂよりもｚ軸プラス方向側に位置する。隔壁６２２の第２面６２２ｂは、溶着により板材６３０と接合するための面である。後述する溶着部６２２ｆは、隔壁６２２の第２面６２２ｂを含む。

隔壁６２２の第３面６２２ｃは、隔壁６２２の第１面６２２ａの外縁と隔壁６２２の第２面６２２ｂの外縁とに沿って形成される面である。隔壁６２２の第３面６２２ｃは、ｙｚ平面に平行な面と、ｚｘ平面に平行な面とを含む。隔壁６２２の第３面６２２ｃは、隔壁６２２の内壁面である。隔壁６２２の第３面６２２ｃは、区画６２１を規定する面である。

隔壁６２２の第４面６２２ｄは、隔壁６２２の第１面６２２ａの外縁と隔壁６２２の第２面６２２ｂの外縁とに沿って形成される面である。隔壁６２２の第４面６２２ｄは、ｙｚ平面に平行な面と、ｚｘ平面に平行な面とを含む。隔壁６２２の第４面６２２ｄは、隔壁６２２の第３面６２２ｃとは反対側の面である。隔壁６２２の第４面６２２ｄは、隔壁６２２の外壁面である。

連結部６２４は、隔壁６２２を連結する部材である。一例として、連結部６２４は、第１隔壁６２２−１から第２４隔壁６２２−２４までの隔壁を連結する部材である。

第１隔壁６２２−１から第２４隔壁６２２−２４はそれぞれ、他の隔壁と連結部６２４により連結されている。一例として、第１隔壁６２２−１から第２４隔壁６２２−２４はそれぞれ、隣の隔壁と連結部６２４により連結されている。

一例として、第１隔壁６２２−１は、第２隔壁６２２−２と連結部６２４により連結されている。第１隔壁６２２−１は、第５隔壁６２２−５と連結部６２４により連結されている。よって、第１隔壁６２２−１は、第２隔壁６２２−２と第５隔壁６２２−５との２つの隔壁と連結部６２４により連結されている。

他の例として、第２隔壁６２２−２は、第１隔壁６２２−１と連結部６２４により連結されている。第２隔壁６２２−２は、第３隔壁６２２−３と連結部６２４により連結されている。第２隔壁６２２−２は、第６隔壁６２２−６と連結部６２４により連結されている。よって、第２隔壁６２２−２は、第１隔壁６２２−１と第３隔壁６２２−３と第６隔壁６２２−６との３つの隔壁と連結部６２４により連結されている。

他の例として、第６隔壁６２２−６は、第２隔壁６２２−２と連結部６２４により連結されている。第６隔壁６２２−６は、第５隔壁６２２−５と連結部６２４により連結されている。第６隔壁６２２−６は、第７隔壁６２２−７と連結部６２４により連結されている。第６隔壁６２２−６は、第１０隔壁６２２−１０と連結部６２４により連結されている。よって、第６隔壁６２２−６は、第２隔壁６２２−２と第５隔壁６２２−５と第７隔壁６２２−７と第１０隔壁６２２−１０との４つの隔壁と連結部６２４により連結されている。

一例として、第１隔壁６２２−１から第２４隔壁６２２−２４はそれぞれ、隣の隔壁に加えて、隣の隔壁以外の隔壁と連結部６２４により連結されている。一例として、第１隔壁６２２−１は、第２隔壁６２２−２から第２４隔壁６２２−２４までのいずれの隔壁とも連結部６２４により連結されている。このように、区画部材６２０は、複数の隔壁が連結部６２４によって連結されることで一体化され、区画６２１が形成されている。

連結部６２４は、第１面６２４ａと、第２面６２４ｂとを有している。

連結部６２４の第１面６２４ａは、ｘｙ平面に平行な面である。連結部６２４の第１面６２４ａは、区画部材６２０の第１面６２０ａに含まれる。すなわち、連結部６２４の第１面６２４ａは、区画部材６２０の第１面６２０ａとｚ軸方向において同じ位置に形成されている。連結部６２４の第１面６２４ａは、区画部材６２０を板材６３０に接合してプレート６０を形成した場合、板材６３０の第２面６３０ｂと略平行な面である。

連結部６２４の第２面６２４ｂは、ｘｙ平面に平行な面である。連結部６２４の第２面６２４ｂは、連結部６２４の第１面６２４ａとはｚ軸方向において異なる位置に形成されている。連結部６２４の第２面６２４ｂは、連結部６２４の第１面６２４ａと平行である。連結部６２４の第２面６２４ｂは、隔壁６２２の第２面６２２ｂとｚ軸方向において異なる位置に形成されている。一例として、連結部６２４の第２面６２４ｂは、ｚ軸方向において隔壁６２２の第１面６２２ａと隔壁６２２の第２面６２２ｂとの間に形成されている。

区画部材６２０において、隔壁６２２は、他の隔壁との間に空隙６２８を形成した状態で区画６２１を形成している。

第１隔壁６２２−１を例に挙げて説明する。

第１隔壁６２２−１の第４面６２２−１ｄは、第２隔壁６２２−２の第４面６２２−２ｄと離間している。第１隔壁６２２−１の第４面６２２−１ｄと第２隔壁６２２−２の第４面６２２−２ｄとは、連結部６２４が介在する分だけ離間している。すなわち、空隙６２８は、第１隔壁６２２−１の第４面６２２−１ｄと第２隔壁６２２−２の第４面６２２−２ｄと連結部６２４の第２面６２４ｂとで形成された空間を含む。

第１隔壁６２２−１の第４面６２２−１ｄは、第５隔壁６２２−５の第４面６２２−５ｄと離間している。第１隔壁６２２−１の第４面６２２−１ｄと第５隔壁６２２−５の第４面６２２−５ｄとは、連結部６２４が介在する分だけ離間している。すなわち、空隙６２８は、第１隔壁６２２−１の第４面６２２−１ｄと第５隔壁６２２−５の第４面６２２−５ｄと連結部６２４の第２面６２４ｂとで形成された空間を含む。

第１隔壁６２２−１の第４面６２２−１ｄは、第６隔壁６２２−６の第４面６２２−６ｄと離間している。第１隔壁６２２−１の第４面６２２−１ｄと第６隔壁６２２−６の第４面６２２−６ｄとは、連結部６２４が介在する分だけ離間している。すなわち、空隙６２８は、第１隔壁６２２−１の第４面６２２−１ｄと第６隔壁６２２−６の第４面６２２−６ｄと連結部６２４の第２面６２４ｂとで形成された空間を含む。

第１隔壁６２２−１は、連結部６２４により連結されている第２隔壁６２２−２と第５隔壁６２２−５と第６隔壁６２２−６とのいずれの隔壁との間にも空隙６２８を形成した状態で、区画６２１−１を形成している。

第２隔壁６２２−２を例に挙げて説明する。

第２隔壁６２２−２の第４面６２２−２ｄは、第１隔壁６２２−１の第４面６２２−１ｄと離間している。第２隔壁６２２−２の第４面６２２−２ｄと第１隔壁６２２−１の第４面６２２−１ｄとは、連結部６２４が介在する分だけ離間している。すなわち、空隙６２８は、第２隔壁６２２−２の第４面６２２−２ｄと第１隔壁６２２−１の第４面６２２−１ｄと連結部６２４の第２面６２４ｂとで形成された空間を含む。

第２隔壁６２２−２の第４面６２２−２ｄは、第３隔壁６２２−３の第４面６２２−３ｄと離間している。第２隔壁６２２−２の第４面６２２−２ｄと第３隔壁６２２−３の第４面６２２−３ｄとは、連結部６２４が介在する分だけ離間している。すなわち、空隙６２８は、第２隔壁６２２−２の第４面６２２−２ｄと第３隔壁６２２−３の第４面６２２−３ｄと連結部６２４の第２面６２４ｂとで形成された空間を含む。

第２隔壁６２２−２の第４面６２２−２ｄは、第５隔壁６２２−５の第４面６２２−５ｄと離間している。第２隔壁６２２−２の第４面６２２−２ｄと第５隔壁６２２−５の第４面６２２−５ｄとは、連結部６２４が介在する分だけ離間している。すなわち、空隙６２８は、第２隔壁６２２−２の第４面６２２−２ｄと第５隔壁６２２−５の第４面６２２−５ｄと連結部６２４の第２面６２４ｂとで形成された空間を含む。

第２隔壁６２２−２の第４面６２２−２ｄは、第６隔壁６２２−６の第４面６２２−６ｄと離間している。第２隔壁６２２−２の第４面６２２−２ｄと第６隔壁６２２−６の第４面６２２−６ｄとは、連結部６２４が介在する分だけ離間している。すなわち、空隙６２８は、第２隔壁６２２−２の第４面６２２−２ｄと第６隔壁６２２−６の第４面６２２−６ｄと連結部６２４の第２面６２４ｂとで形成された空間を含む。

第２隔壁６２２−２の第４面６２２−２ｄは、第７隔壁６２２−７の第４面６２２−７ｄと離間している。第２隔壁６２２−２の第４面６２２−２ｄと第７隔壁６２２−７の第４面６２２−７ｄとは、連結部６２４が介在する分だけ離間している。すなわち、空隙６２８は、第２隔壁６２２−２の第４面６２２−２ｄと第７隔壁６２２−７の第４面６２２−７ｄと連結部６２４の第２面６２４ｂとで形成された空間を含む。

第２隔壁６２２−２は、連結部６２４により連結されている第１隔壁６２２−１と第３隔壁６２２−３と第５隔壁６２２−５と第６隔壁６２２−６と第７隔壁６２２−７とのいずれの隔壁との間にも空隙６２８を形成した状態で、区画６２１−２を形成している。

第６隔壁６２２−６を例に挙げて説明する。

第６隔壁６２２−６の第４面６２２−６ｄは、第１隔壁６２２−１の第４面６２２−１ｄと離間している。第６隔壁６２２−６の第４面６２２−６ｄと第１隔壁６２２−１の第４面６２２−１ｄとは、連結部６２４が介在する分だけ離間している。すなわち、空隙６２８は、第６隔壁６２２−６の第４面６２２−６ｄと第１隔壁６２２−１の第４面６２２−１ｄと連結部６２４の第２面６２４ｂとで形成された空間を含む。

第６隔壁６２２−６の第４面６２２−６ｄは、第２隔壁６２２−２の第４面６２２−２ｄと離間している。第６隔壁６２２−６の第４面６２２−６ｄと第２隔壁６２２−２の第４面６２２−２ｄとは、連結部６２４が介在する分だけ離間している。すなわち、空隙６２８は、第６隔壁６２２−６の第４面６２２−６ｄと第２隔壁６２２−２の第４面６２２−２ｄと連結部６２４の第２面６２４ｂとで形成された空間を含む。

第６隔壁６２２−６の第４面６２２−６ｄは、第３隔壁６２２−３の第４面６２２−３ｄと離間している。第６隔壁６２２−６の第４面６２２−６ｄと第３隔壁６２２−３の第４面６２２−３ｄとは、連結部６２４が介在する分だけ離間している。すなわち、空隙６２８は、第６隔壁６２２−６の第４面６２２−６ｄと第３隔壁６２２−３の第４面６２２−３ｄと連結部６２４の第２面６２４ｂとで形成された空間を含む。

第６隔壁６２２−６の第４面６２２−６ｄは、第５隔壁６２２−５の第４面６２２−５ｄと離間している。第６隔壁６２２−６の第４面６２２−６ｄと第５隔壁６２２−５の第４面６２２−５ｄとは、連結部６２４が介在する分だけ離間している。すなわち、空隙６２８は、第６隔壁６２２−６の第４面６２２−６ｄと第５隔壁６２２−５の第４面６２２−５ｄと連結部６２４の第２面６２４ｂとで形成された空間を含む。

第６隔壁６２２−６の第４面６２２−６ｄは、第７隔壁６２２−７の第４面６２２−７ｄと離間している。第６隔壁６２２−６の第４面６２２−６ｄと第７隔壁６２２−７の第４面６２２−７ｄとは、連結部６２４が介在する分だけ離間している。すなわち、空隙６２８は、第６隔壁６２２−６の第４面６２２−６ｄと第７隔壁６２２−７の第４面６２２−７ｄと連結部６２４の第２面６２４ｂとで形成された空間を含む。

第６隔壁６２２−６の第４面６２２−６ｄは、第９隔壁６２２−９の第４面６２２−９ｄと離間している。第６隔壁６２２−６の第４面６２２−６ｄと第９隔壁６２２−９の第４面６２２−９ｄとは、連結部６２４が介在する分だけ離間している。すなわち、空隙６２８は、第６隔壁６２２−６の第４面６２２−６ｄと第９隔壁６２２−９の第４面６２２−９ｄと連結部６２４の第２面６２４ｂとで形成された空間を含む。

第６隔壁６２２−６の第４面６２２−６ｄは、第１０隔壁６２２−１０の第４面６２２−１０ｄと離間している。第６隔壁６２２−６の第４面６２２−６ｄと第１０隔壁６２２−１０の第４面６２２−１０ｄとは、連結部６２４が介在する分だけ離間している。すなわち、空隙６２８は、第６隔壁６２２−６の第４面６２２−６ｄと第１０隔壁６２２−１０の第４面６２２−１０ｄと連結部６２４の第２面６２４ｂとで形成された空間を含む。

第６隔壁６２２−６の第４面６２２−６ｄは、第１１隔壁６２２−１１の第４面６２２−１１ｄと離間している。第６隔壁６２２−６の第４面６２２−６ｄと第１１隔壁６２２−１１の第４面６２２−１１ｄとは、連結部６２４が介在する分だけ離間している。すなわち、空隙６２８は、第６隔壁６２２−６の第４面６２２−６ｄと第１１隔壁６２２−１１の第４面６２２−１１ｄと連結部６２４の第２面６２４ｂとで形成された空間を含む。

第６隔壁６２２−６は、連結部６２４により連結されている第１隔壁６２２−１と第２隔壁６２２−２と第３隔壁６２２−３と第５隔壁６２２−５と第７隔壁６２２−７と第９隔壁６２２−９と第１０隔壁６２２−１０と第１１隔壁６２２−１１とのいずれの隔壁との間にも空隙６２８を形成した状態で、区画６２１−６を形成している。

このように、空隙６２８は、一の隔壁と他の隔壁との間に形成された空間である。空隙６２８は、隔壁６２２と連結部６２４とによって囲まれた空間である。

補強部６２６は、区画部材６２０の機械的な強度を補う部材である。補強部材６２６は、区画部材６２０の外縁をなす部材である。補強部６２６は、区画部材６２０を構成している隔壁６２２のうち最外周に位置する隔壁と接続されている。補強部６２６は、最外周の隔壁にわたって延設されている。一例として、補強部６２６は、区画部材６２０の全周にわたって延設されている。図１において、補強部６２６は、第１隔壁６２２−１と第２隔壁６２２−２と第３隔壁６２２−３と第４隔壁６２２−４と第５隔壁６２２−５と第８隔壁６２２−８と第９隔壁６２２−９と第１２隔壁６２２−１２と第１３隔壁６２２−３と第１６隔壁６２２−１６と第１７隔壁６２２−１７と第２０隔壁６２２−２０と第２１隔壁６２２−２１と第２２隔壁６２２−２２と第２３隔壁６２２−２３と第２４隔壁６２２−２４とに接続されている。なお、補強部６２６は、区画部材６２０の全周ではなく、例えば、矩形形状である区画部材６２０の１つの長辺又は短辺に沿って設けることもできる。このように、区画部材６２０の外縁部分は、補強部６２６により機械的強度が補強されている。

補強部６２６は、第１隔壁６２２−１と第２隔壁６２２−２と第３隔壁６２２−３と第４隔壁６２２−４と第５隔壁６２２−５と第８隔壁６２２−８と第９隔壁６２２−９と第１２隔壁６２２−１２と第１３隔壁６２２−３と第１６隔壁６２２−１６と第１７隔壁６２２−１７と第２０隔壁６２２−２０と第２１隔壁６２２−２１と第２２隔壁６２２−２２と第２３隔壁６２２−２３と第２４隔壁６２２−２４とを連結する連結部材でもある。補強部６２６は、隔壁６２２を連結する連結部として機能する。

補強部６２６は、区画部材６２０における把持部材でもある。補強部６２６は、区画部材６２０を把持する際の把持部として機能する。

なお、区画部材６２０は、補強部６２６を有しない構成としてもよい。

区画部材６２０は、例えば樹脂で構成されている。一例として、区画部材６２０は、熱可塑性の樹脂で構成されている。区画部材６２０は、例えば透光性を有する部材である。一例として、区画部材６２０は、透明な部材である。区画部材６２０に用いる樹脂として、ポリメタクリル酸メチル樹脂（ｐｏｌｙ ｍｅｔｈｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）等のアクリル樹脂（ａｃｒｙｌｉｃ ｒｅｓｉｎ）、ポリカーボネート（ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ（ＰＣ））、環状オレフィンコポリマー（ｃｙｃｌｏｏｌｅｆｉｎ ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ（ＣＯＣ））、ポリスチレン（ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ（ＰＳ））等を例示することができる。

板材６３０は、板状の部材である。板材６３０は、第１面６３０ａと第２面６３０ｂとを有している。板材６３０の第１面６３０ａは、ｘｙ平面に平行な面である。板材６３０の第１面６３０ａは、所望の平坦性を確保するために、例えば数ミクロンの面精度で研磨されている。

板材６３０の第２面６３０ｂは、ｘｙ平面に平行な面である。板材６３０の第２面６３０ｂは、板材６３０の第１面６３０ａとはｚ軸方向において異なる位置に形成されている。板材６３０の第２面６３０ｂは、板材６３０の第１面６３０ａと平行である。板材６３０の第１面６３０ａは、板材６３０を区画部材６２０に接合した場合、板材６３０の第２面６３０ｂよりもｚプラス方向側に位置する。板材６３０の第２面６３０ｂは、所望の平坦性を確保するために、例えば数ミクロンの面精度で研磨されている。板材６３０の第２面６３０ｂは、区画部材６２０を板材６３０に接合してプレート６０を形成した場合、区画部材６２０の第１面６２０ａと略平行な面である。

板材６３０は、例えば樹脂で構成されている。一例として、板材６３０は、熱可塑性の樹脂で構成されている。板材６３０は、例えば透光性を有する部材である。一例として、板材６３０は、透明な部材である。板材６３０に用いる樹脂として、ポリメタクリル酸メチル樹脂（ｐｏｌｙ ｍｅｔｈｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）等のアクリル樹脂（ａｃｒｙｌｉｃ ｒｅｓｉｎ）、ポリカーボネート（ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ（ＰＣ））、環状オレフィンコポリマー（ｃｙｃｌｏｏｌｅｆｉｎ ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ（ＣＯＣ））、ポリスチレン（ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ（ＰＳ））を例示することができる。

板材６３０は、区画部材６２０と接合されている。一例として、板材６３０の第１面６３０ａは、区画部材６２０の第２面６２０ｂと接合されている。一例として、板材６３０の第１面６３０ａは、区画部材６２０の第２面６２０ｂ全体を覆うようにして、区画部材６２０の第２面６２０ｂと接合されている。区画部材６２０に構成されている区画６２１は、板材６３０の第１面６３０ａによって区画部材６２０の第２面６２０ｂ側から塞がれた状態で、区画部材６２０の第２面６２０ｂと板材６３０の第１面６３０ａとが接合される。

区画部材６２０と板材６３０の接合方法として、溶着接合を例示することができる。この場合、区画部材６２０と板材６３０は、熱可塑性樹脂で構成される。区画部材６２０と板材６３０は、区画部材６２０の接合箇所と板材６３０の接合箇所とに融点まで加熱し圧力を加えることによって、相互に接合される。区画部材６２０と板材６３０を溶着により接合する場合は、区画部材６２０と板材６３０を接着剤を用いて接合する場合と比較して、望ましくない化学成分の溶出を抑制することができる。区画部材６２０と板材６３０を溶着により接合する場合は、区画部材６２０と板材６３０を接着剤で接合する場合と比較して、接合の安定度を高めることができる。区画部材６２０は、区画部材６２０の第２面６２０ｂ全体で板材６３０と溶着されている。すなわち、区画部材６２０の第２面６２０ｂは、ウェル６１０を構成している隔壁６２２の第２面６２２ｂ全面にわたって、板材６３０の第１面６３０ａに溶着されている。隔壁６２２の第２面６２２ｂ全面で溶着したことにより、プレート６０には、ウェル６１０に収容された液状試料がウェル６１０から漏れ出さないようにする封止構造が形成されている。

区画部材６２０と板材６３０の溶着接合には、例えば超音波溶着を適用することができる。なお、区画部材６２０と板材６３０の溶着接合には、レーザ溶着や振動溶着等を適用してもよい。

区画部材６２０と板材６３０を溶着により接合する場合、区画部材６２０に用いる材料の融点は、板材６３０に用いる材料の融点と同じであることが望ましい。そのため、区画部材６２０に用いる材料は、板材６３０に用いる材料と同じであることが望ましい。

一例として、区画部材６２０の材料と板材６３０の材料とにはいずれも、ポリメタクリル酸メチル樹脂（ｐｏｌｙ ｍｅｔｈｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）を用いることが挙げられる。

他の例として、区画部材６２０の材料と板材６３０の材料とにはいずれも、ポリカーボネート（ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ（ＰＣ））を用いることが挙げられる。

他の例として、区画部材６２０の材料と板材６３０の材料とにはいずれも、環状オレフィンコポリマー（ｃｙｃｌｏｏｌｅｆｉｎ ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ（ＣＯＣ））を用いることが挙げられる。

他の例として、区画部材６２０の材料と板材６３０の材料とにはいずれも、ポリスチレン（ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ（ＰＳ））を用いることが挙げられる。

区画部材６２０と板材６３０を溶着により接合する場合、区画部材６２０に用いる材料の融点は、板材６３０に用いる材料の融点に近いことが望ましい。

一例として、区画部材６２０の材料としてポリメタクリル酸メチル樹脂（ｐｏｌｙ ｍｅｔｈｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）を用い、板材６３０の材料としてポリカーボネート（ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ（ＰＣ））を用いることが挙げられる。

他の例として、区画部材６２０の材料としてポリカーボネート（ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ（ＰＣ））を用い、板材６３０の材料としてポリメタクリル酸メチル樹脂（ｐｏｌｙ ｍｅｔｈｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）を用いることが挙げられる。

プレート６０は、区画部材６２０の隔壁６２２と板材６３０の第１面６３０ａとにより形成されたウェル６１０を有している。板材６３０の第１面６３０ａは、ウェル６１０の底面を構成している。ウェル６１０は、例えば液状の試料等を収容可能である。

プレート６０は、第１ウェル６１０−１と、第２ウェル６１０−２と、第３ウェル６１０−３と、第４ウェル６１０−４と、第５ウェル６１０−５と、第６ウェル６１０−６と、第７ウェル６１０−７と、第８ウェル６１０−８と、第９ウェル６１０−９と、第１０ウェル６１０−１０と、第１１ウェル６１０−１１と、第１２ウェル６１０−１２と、第１３ウェル６１０−１３と、第１４ウェル６１０−１４と、第１５ウェル６１０−１５と、第１６ウェル６１０−１６と、第１７ウェル６１０−１７と、第１８ウェル６１０−１８と、第１９ウェル６１０−１９と、第２０ウェル６１０−２０と、第２１ウェル６１０−２１と、第２２ウェル６１０−２２と、第２３ウェル６１０−２３と、第２４ウェル６１０−２４とをウェル６１０として含む。

第１ウェル６１０−１は、第１隔壁６２２−１と板材６３０により形成されている。一例として、第１ウェル６１０−１は、第１隔壁６２２−１の第３面６２２−１ｃと板材６３０の第１面６３０ａとにより形成されている。

第２ウェル６１０−２は、第２隔壁６２２−２と板材６３０により形成されている。一例として、第２ウェル６１０−２は、第２隔壁６２２−２の第３面６２２−２ｃと板材６３０の第１面６３０ａとにより形成されている。

第３ウェル６１０−３は、第３隔壁６２２−３と板材６３０により形成されている。一例として、第３ウェル６１０−３は、第３隔壁６２２−３の第３面６２２−３ｃと板材６３０の第１面６３０ａとにより形成されている。

第４ウェル６１０−４は、第４隔壁６２２−４と板材６３０により形成されている。一例として、第４ウェル６１０−４は、第４隔壁６２２−４の第３面６２２−４ｃと板材６３０の第１面６３０ａとにより形成されている。

第５ウェル６１０−５は、第５隔壁６２２−５と板材６３０により形成されている。一例として、第５ウェル６１０−５は、第５隔壁６２２−５の第３面６２２−５ｃと板材６３０の第１面６３０ａとにより形成されている。

第６ウェル６１０−６は、第６隔壁６２２−６と板材６３０により形成されている。一例として、第６ウェル６１０−６は、第６隔壁６２２−６の第３面６２２−６ｃと板材６３０の第１面６３０ａとにより形成されている。

第７ウェル６１０−７は、第７隔壁６２２−７と板材６３０により形成されている。一例として、第７ウェル６１０−７は、第７隔壁６２２−７の第３面６２２−７ｃと板材６３０の第１面６３０ａとにより形成されている。

第８ウェル６１０−８は、第８隔壁６２２−８と板材６３０により形成されている。一例として、第８ウェル６１０−８は、第８隔壁６２２−８の第３面６２２−８ｃと板材６３０の第１面６３０ａとにより形成されている。

第９ウェル６１０−９は、第９隔壁６２２−９と板材６３０により形成されている。一例として、第９ウェル６１０−９は、第９隔壁６２２−９の第３面６２２−９ｃと板材６３０の第１面６３０ａとにより形成されている。

第１０ウェル６１０−１０は、第１０隔壁６２２−１０と板材６３０により形成されている。一例として、第１０ウェル６１０−１０は、第１０隔壁６２２−１０の第３面６２２−１０ｃと板材６３０の第１面６３０ａとにより形成されている。

第１１ウェル６１０−１１は、第１１隔壁６２２−１１と板材６３０により形成されている。一例として、第１１ウェル６１０−１１は、第１１隔壁６２２−１１の第３面６２２−１１ｃと板材６３０の第１面６３０ａとにより形成されている。

第１２ウェル６１０−１２は、第１２隔壁６２２−１２と板材６３０により形成されている。一例として、第１２ウェル６１０−１２は、第１２隔壁６２２−１２の第３面６２２−１２ｃと板材６３０の第１面６３０ａとにより形成されている。

第１３ウェル６１０−１３は、第１３隔壁６２２−１３と板材６３０により形成されている。一例として、第１３ウェル６１０−１３は、第１３隔壁６２２−１３の第３面６２２−１３ｃと板材６３０の第１面６３０ａとにより形成されている。

第１４ウェル６１０−１４は、第１４隔壁６２２−１４と板材６３０により形成されている。一例として、第１４ウェル６１０−１４は、第１４隔壁６２２−１４の第３面６２２−１４ｃと板材６３０の第１面６３０ａとにより形成されている。

第１５ウェル６１０−１５は、第１５隔壁６２２−１５と板材６３０により形成されている。一例として、第１５ウェル６１０−１５は、第１５隔壁６２２−１５の第３面６２２−１５ｃと板材６３０の第１面６３０ａとにより形成されている。

第１６ウェル６１０−１６は、第１６隔壁６２２−１６と板材６３０により形成されている。一例として、第１６ウェル６１０−１６は、第１６隔壁６２２−１６の第３面６２２−１６ｃと板材６３０の第１面６３０ａとにより形成されている。

第１７ウェル６１０−１７は、第１７隔壁６２２−１７と板材６３０により形成されている。一例として、第１７ウェル６１０−１７は、第１７隔壁６２２−１７の第３面６２２−１７ｃと板材６３０の第１面６３０ａとにより形成されている。

第１８ウェル６１０−１８は、第１８隔壁６２２−１８と板材６３０により形成されている。一例として、第１８ウェル６１０−１８は、第１８隔壁６２２−１８の第３面６２２−１８ｃと板材６３０の第１面６３０ａとにより形成されている。

第１９ウェル６１０−１９は、第１９隔壁６２２−１９と板材６３０により形成されている。一例として、第１９ウェル６１０−１９は、第１９隔壁６２２−１９の第３面６２２−１９ｃと板材６３０の第１面６３０ａとにより形成されている。

第２０ウェル６１０−２０は、第２０隔壁６２２−２０と板材６３０により形成されている。一例として、第２０ウェル６１０−２０は、第２０隔壁６２２−２０の第３面６２２−２０ｃと板材６３０の第１面６３０ａとにより形成されている。

第２１ウェル６１０−２１は、第２１隔壁６２２−２１と板材６３０により形成されている。一例として、第２１ウェル６１０−２１は、第２１隔壁６２２−２１の第３面６２２−２１ｃと板材６３０の第１面６３０ａとにより形成されている。

第２２ウェル６１０−２２は、第２２隔壁６２２−２２と板材６３０により形成されている。一例として、第２２ウェル６１０−２２は、第２２隔壁６２２−２２の第３面６２２−２２ｃと板材６３０の第１面６３０ａとにより形成されている。

第２３ウェル６１０−２３は、第２３隔壁６２２−２３と板材６３０により形成されている。一例として、第２３ウェル６１０−２３は、第２３隔壁６２２−２３の第３面６２２−２３ｃと板材６３０の第１面６３０ａとにより形成されている。

第２４ウェル６１０−２４は、第２４隔壁６２２−２４と板材６３０により形成されている。一例として、第２４ウェル６１０−２４は、第２４隔壁６２２−２４の第３面６２２−２４ｃと板材６３０の第１面６３０ａとにより形成されている。

図２は、プレート６０の断面図である。図２は、図１の切断線Ａ−Ａに沿ってプレート６０を切断した断面を示す。プレート６０は、区画部材６２０の隔壁６２２と板材６３０とによって形成されたウェル６１０を有している。図２には、区画部材６２０の第１隔壁６２２−１と板材６３０の第１面６３０ａとによって形成された第１ウェル６１０−１、区画部材６２０の第２隔壁６２２−２と板材６３０の第１面６３０ａとによって形成された第２ウェル６１０−２、区画部材６２０の第３隔壁６２２−３と板材６３０の第１面６３０ａとによって形成された第３ウェル６１０−３、及び区画部材６２０の第４隔壁６２２−４と板材６３０の第１面６３０ａとによって形成された第４ウェル６１０−４の４つのウェルが示されている。隔壁６２２は、連結部６２４で連結されている。図２では、連結部６２４は、第１隔壁６２２−１と第２隔壁６２２−２の間、第２隔壁６２２−２と第３隔壁６２２−３の間、及び第３隔壁６２２−３と第４隔壁６２２−４の間に設けられている。一例として、隔壁６２２は、隔壁６２２のｚプラス方向側の上端部６２２ｅにおいて、すなわち区画部材６２０の第１面６２０ａ側において、連結部６２４により連結されている。隔壁６２２は、連結部６２４よりも下方側（ｚマイナス方向側）において離隔している。区画部材６２０は、連結部６２４よりも下方側（ｚマイナス方向側）に空隙６２８を有している。区画部材６２０において、空隙６２８は、隔壁６２２と連結部６２４とによって囲まれた空間である。プレート６０において、空隙６２８は、隔壁６２２と連結部６２４と板材６３０とによって囲まれた空間である。

空隙６２８が存在する場合における区画部材６２０の第２面６２０ｂ側でのウェル６１０の相対位置の自由度は、空隙６２８が存在しない場合と比べて、高くなっている。すなわち、図２に示されるように、区画部材６２０は、隣り合う隔壁（例えば第１隔壁６２２−１と第２隔壁６２２−２）の間に設けられた連結部６２４を支点として、隣り合う２つのウェル（例えば第１ウェル６１０−１と第２ウェル６１０−２）が互いに離れる又は近付くように矢印Ａの方向へ変位する自由度を持っている。

空隙６２８が形成されている区画部材６２０の剛性は、空隙６２８が形成されていない場合と比較して、低くなっている。そのため、区画部材６２０と板材６３０を接合する際に区画部材６２０を板材６３０に対して押圧しても、区画部材６２０自体が変形することにより、区画部材６２０からの押圧力が板材６３０に伝わりにくい。その結果、板材６３０に変形（例えば撓みや歪み）が生じることを抑制することができる。したがって、区画部材６２０と板材６３０を接合した後でも板材６３０を変形のない状態に保つことができる。これにより、プレート６０では、ウェル６１０内の試料に対して良好な精度で光学測定を実施することが可能となる。

区画部材６２０の剛性は、例えば、空隙６２８の深さ（ｚ方向における距離）や幅（ｙ方向における距離）に応じて変化する。例えば、空隙６２８が深いほど連結部材６２４は薄く形成されることになるので、区画部材６２０の剛性は低くなる。空隙６２８の幅が広いほど隔壁６２２の離隔が大きくなるので、区画部材６２０の剛性は低くなる。

このように、隔壁と他の隔壁との間に空隙を形成した状態で区画を形成した区画部材を用いてプレートを構成したので、プレートの面精度が低下することを抑制できる。プレート上の試料に対して光学測定を行う場合、良好な精度で光学測定を行うことができる。

図３は、本発明の一実施形態に係るスクリーニング装置１０の構成を模式的に示す図である。なお、説明の便宜のため、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸を定める。Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸は、直交座標系である。Ｘ軸方向及びＹ軸方向はいずれも、水平方向である。Ｚ軸方向は、鉛直方向である。スクリーニング装置１０は、分注装置２０と、洗浄・乾燥装置３０と、検出装置４０と、搬送装置５０とを備えている。分注装置２０、洗浄・乾燥装置３０及び検出装置４０は、分注装置２０、洗浄・乾燥装置３０、検出装置４０の順でＸ軸方向に沿って配置されている。

分注装置２０は、プレート６０に対して分注するための装置である。分注装置２０は、搬送機器２１０と、分注機器２２０と、制御機器２３０とを備えている。

搬送機器２１０は、プレート支持部２１１と、駆動部２１２とを備えている。プレート支持部２１１は、プレート６０を支持する部材である。プレート支持部２１１は、例えばプレート６０を載置するための載置台である。

駆動部２１２は、プレート支持部２１１を駆動する。一例として、駆動部２１２は、載置位置Ｐ１と受渡位置Ｐ３との間でプレート支持部２１１を駆動する。一例として、駆動部２１２は、載置位置Ｐ１から分注位置Ｐ２を経由して受渡位置Ｐ３までプレート支持部２１１をＸ軸に沿って駆動する。搬送機器２１０は、プレート６０を搬送するための搬送ラインである。

分注機器２２０は、分注部２２１を備えている。分注部２２１は、例えばノズルを含んで形成されている。分注機器２２０は、検体を分注部２２１から分注する。分注部２２１には、プレート６０に形成されたウェルと同数のノズルがプレート６０に形成されたウェルと同様の配列で設けられている。４行６列で配列された２４個のウェルが形成されたプレートを用いる場合、分注部２２１は、４行６列で配列された２４個のノズルで構成する。これにより、分注機器２２０は、１つのプレート６０の全ウェルに対して一括で分注を行うことができる。

なお、分注機器の構成は、これに限るものではない。ノズルがライン状に配列された分注機器を用いる場合、一列分のウェルに対して一括で分注を行い、順次、隣の列へと分注を進めていく方法をとることができる。ノズルを１つだけ有する分注機器を用いる場合、ウェルの１つ１つに順次分注を行っていく構成としてもよい。

制御機器２３０は、搬送機器２１０及び分注機器２２０それぞれの動作を制御する。

プレート６０は、載置位置Ｐ１に用意される。一例として、プレート６０は、載置位置Ｐ１に位置するプレート支持部２１１に例えば不図示のロボットにより載置される。これにより、プレート６０は、載置位置Ｐ１でプレート支持部２１１により支持される。プレート６０は、ウェルの開口が上方（Ｚ軸プラス方向）へ向いた状態でプレート支持部２１１により支持される。ウェルの開口が上方（Ｚ軸プラス方向）へ向いたプレート６０を、プレート６０が水平状態にあると呼ぶことがある。水平状態において、プレート６０のｘ軸（図１及び図２参照）は図３に示されたＹ軸に一致し、プレート６０のｙ軸（図１及び図２参照）は図３に示されたＸ軸に一致し、プレート６０のｚ軸（図１及び図２参照）は図３に示されたＺ軸に一致する。プレート６０は、後述するバイオチップの第１面が図３に示されたＸＹ平面と平行であるときが水平状態にあるということもできる。

載置位置Ｐ１でプレート支持部２１１によりプレート６０が支持されたら、制御機器２３０は、プレート６０を載置位置Ｐ１から分注位置Ｐ２まで移動し、プレート６０を分注位置Ｐ２で停止するように駆動部２１２を制御する。駆動部２１２は、プレート６０を載置位置Ｐ１から分注位置Ｐ２まで移動し、プレート６０を分注位置Ｐ２で停止するようプレート支持部２１１を駆動する。一例として、駆動部２１２は、載置位置Ｐ１から分注位置Ｐ２までプレート６０を水平状態のままＸ軸方向に沿って移動し、水平状態のままプレート６０を分注位置Ｐ２に停止するようプレート支持部２１１を駆動する。これにより、プレート６０は、水平状態で分注位置Ｐ２に位置することになる。

プレート支持部２１１により支持されたプレート６０が分注位置Ｐ２で停止したら、制御機器２３０は、プレート６０に対して分注を行うように分注機器２２０を制御する。分注機器２２０は、検体を分注部２２１から分注する。これにより、プレート６０は、検体がウェルに分注される。

検体がウェルに分注されたら、制御機器２３０は、プレート６０を分注位置Ｐ２から受渡位置Ｐ３まで移動し、プレート６０を受渡位置Ｐ３で停止するように駆動部２１２を制御する。駆動部２１２は、プレート６０を分注位置Ｐ２から受渡位置Ｐ３まで移動し、プレート６０を受渡位置Ｐ３で停止するようプレート支持部２１１を駆動する。一例として、駆動部２１２は、プレート６０を分注位置Ｐ２から受渡位置Ｐ３まで水平状態のままＸ軸方向に沿って移動し、水平状態のままプレート６０を受渡位置Ｐ３に停止するようプレート支持部を駆動する。これにより、プレート６０は、水平状態で受渡位置Ｐ３に位置することになる。

このように、プレート６０は、載置位置Ｐ１から分注位置Ｐ２を経由して受渡位置Ｐ３までの間、プレート支持部２１１により水平状態に支持されてＸ軸方向に沿って移動する。

受渡位置Ｐ３でプレート支持部２１１により支持されているプレート６０は、搬送装置５０により洗浄・乾燥装置３０へ搬送される。プレート支持部２１１は、支持していたプレート６０を搬送装置５０に受渡位置Ｐ３で受け渡すことになる。

制御機器２３０は、分注機器２２０により検体がプレート６０に分注されてからプレート６０が搬送装置５０に受け渡されるまでの間に、プレート支持部２１１を揺動するように駆動部２１２を制御してもよい。駆動部２１２は、分注機器２２０により検体がプレート６０に分注されてからプレート６０が搬送装置５０に受け渡されるまでの間に、プレート支持部２１１を揺動する。一例として、駆動部２１２は、分注位置Ｐ２を中心としてプレート支持部２１１を揺動する。プレート６０のウェルの底面には、バイオチップが支持されている。バイオチップは、基材と、生体分子とを備えている。基材は、例えば板状の部材である。生体分子（プローブ）は、検体に含まれ得る標的分子（ターゲット）（以下、標的という）と特異的に反応する。生体分子は、基材の表面（第１面）に固定されている。バイオチップは、マイクロアレイと呼ぶ場合がある。バイオチップは、生体分子が固定されている面（第１面）とは反対側の表面（第２面）でプレート６０（ウェルの底面）により支持されている。一例として、バイオチップとプレート６０（ウェルの底面）は、接着剤や両面テープ等により接着されることで固定されている。駆動部２１２がプレート支持部２１１を揺動させることで、バイオチップに固定された生体分子と検体内の標的との反応が促進する。

プレート支持部２１１により支持されたプレート６０へ熱を加える加熱機器を分注装置２０が備えている場合、制御機器２３０は、分注機器２２０により検体がプレート６０に分注されてからプレート６０が搬送装置５０に受け渡されるまでの間に、プレート支持部２１１を加熱するように加熱機器を制御してもよい。加熱機器は、バイオチップに固定された生体分子と検体内の標的との反応が好適に進行する温度となるようにプレート６０を加熱する。

洗浄・乾燥装置３０は、分注後のプレート６０を、検出装置４０での検出処理に備えて洗浄処理及び乾燥処理を行うための装置である。洗浄・乾燥装置３０は、洗浄機器３１０と、乾燥機器３２０と、搬送機器３３０と、制御機器３４０と、収容機器３５０と、廃液収集機器３６０とを備えている。洗浄・乾燥装置３０の詳しい構成については後で述べる。

検出装置４０は、洗浄処理及び乾燥処理がなされたバイオチップに対して生体分子と標的との親和性を検出する装置である。検出装置４０は、撮像機器４１０と、載置機器４２０とを備えている。

撮像機器４１０は、光源と、光学系と、撮像素子とを有している。光源は、プレート６０上のバイオチップを照明する。光学系は、バイオチップからの光を撮像素子へ結像する。撮像素子は、光学系によって結像した光に応じた電荷を発生してバイオチップの画像データを生成する。載置機器４２０は、プレート６０を載置するための機器である。載置機器４２０は、例えばステージ（載置台）である。

プレート６０は、搬送装置５０によって洗浄・乾燥装置３０から検出装置４０へ搬送される。一例として、プレート６０は、搬送装置５０によって検出装置４０の載置機器４２０に載置される。プレート６０は、載置機器４２０において、水平状態で載置される。撮像機器４１０は、載置機器４２０上に水平状態で載置されたプレート６０を撮像して、バイオチップの画像データを生成する。

検出装置４０による生体分子と標的との親和性の検出は、例えば、バイオチップの生体分子が発する蛍光を撮像機器４１０で撮像することによって行うことができる。バイオチップの生体分子は、検体中の標的と特異的に反応した箇所のみが、光源からの光を照射した時に蛍光を発する。よって、バイオチップを撮像して得られた画像データに基づく蛍光画像は、標的と反応した生体分子に対応する位置が蛍光により明るくなった画像となる。蛍光画像（蛍光の位置と明るさ）を画像解析することによって、検体中の標的がバイオチップ上のどの生体分子に対して親和性を有しているかを検出することができる。例えば、検出装置４０は、親和性の検出としてバイオチップから得られる蛍光を検出する。

図４は、洗浄・乾燥装置３０の構成を模式的に示す図である。洗浄・乾燥装置３０は、洗浄機器３１０と、乾燥機器３２０と、搬送機器３３０と、制御機器３４０と、収容機器３５０と、廃液収集機器３６０とを備えている。

洗浄機器３１０は、プレート６０を洗浄するための機器である。洗浄機器３１０は、プレート６０に対して洗浄処理を行う。

洗浄機器３１０は、洗浄液供給部３１１と、洗浄液ノズル３１２とを備えている。洗浄液ノズル３１２は、第１の洗浄液ノズル３１２ａと、第２の洗浄液ノズル３１２ｂと、第３の洗浄液ノズル３１２ｃと、第４の洗浄液ノズル３１２ｄと、第５の洗浄液ノズル３１２ｅと、第６の洗浄液ノズル３１２ｆと、第７の洗浄液ノズル３１２ｇと、第８の洗浄液ノズル３１２ｈと、第９の洗浄液ノズル３１２ｉと、第１０の洗浄液ノズル３１２ｊと、第１１の洗浄液ノズル３１２ｋと、第１２の洗浄液ノズル３１２ｌと、第１３の洗浄液ノズル３１２ｍと、第１４の洗浄液ノズル３１２ｎと、第１５の洗浄液ノズル３１２ｏと、第１６の洗浄液ノズル３１２ｐと、第１７の洗浄液ノズル３１２ｑと、第１８の洗浄液ノズル３１２ｒと、第１９の洗浄液ノズル３１２ｓと、第２０の洗浄液ノズル３１２ｔと、第２１の洗浄液ノズル３１２ｕと、第２２の洗浄液ノズル３１２ｖと、第２３の洗浄液ノズル３１２ｗと、第２４の洗浄液ノズル３１２ｘと、第２５の洗浄液ノズル３１２ｙと、第２６の洗浄液ノズル３１２ｚと、第２７の洗浄液ノズル３１２Ａと、第２８の洗浄液ノズル３１２Ｂと、第２９の洗浄液ノズル３１２Ｃと、第３０の洗浄液ノズル３１２Ｄと、第３１の洗浄液ノズル３１２Ｅと、第３２の洗浄液ノズル３１２Ｆと、第３３の洗浄液ノズル３１２Ｇと、第３４の洗浄液ノズル３１２Ｈと、第３５の洗浄液ノズル３１２Ｉと、第３６の洗浄液ノズル３１２Ｊと、第３７の洗浄液ノズル３１２Ｋと、第３８の洗浄液ノズル３１２Ｌと、第３９の洗浄液ノズル３１２Ｍと、第４０の洗浄液ノズル３１２Ｎと、第４１の洗浄液ノズル３１２Ｏと、第４２の洗浄液ノズル３１２Ｐとを含む。

洗浄液供給部３１１は、本体３１１ａと、洗浄液供給管３１１ｂとを有している。

本体３１１ａは、洗浄液を溜める容器３１１ｃを含んでいる。

洗浄液供給管３１１ｂは、第１の洗浄液供給管３１１ｄと、第２の洗浄液供給管３１１ｅと、第３の洗浄液供給管３１１ｆと、第４の洗浄液供給管３１１ｇと、第５の洗浄液供給管３１１ｈと、第６の洗浄液供給管３１１ｉと、第７の洗浄液供給管３１１ｊとを含んでいる。

第１の洗浄液供給管３１１ｄは、容器３１１ｃと接続している。第１の洗浄液供給管３１１ｄは、第１の洗浄液ノズル３１２ａと、第２の洗浄液ノズル３１２ｂと、第３の洗浄液ノズル３１２ｃと、第４の洗浄液ノズル３１２ｄと、第５の洗浄液ノズル３１２ｅと、第６の洗浄液ノズル３１２ｆとのそれぞれに、容器３１１ｃに溜められた洗浄液を供給する管である。第１の洗浄液供給管３１１ｄは、本体３１１ａからＹ軸プラス方向へ延伸して設けられている。

第２の洗浄液供給管３１１ｅは、容器３１１ｃと接続している。第２の洗浄液供給管３１１ｅは、第７の洗浄液ノズル３１２ｇと、第８の洗浄液ノズル３１２ｈと、第９の洗浄液ノズル３１２ｉと、第１０の洗浄液ノズル３１２ｊと、第１１の洗浄液ノズル３１２ｋと、第１２の洗浄液ノズル３１２ｌとのそれぞれに、容器３１１ｃに溜められた洗浄液を供給する管である。第２の洗浄液供給管３１１ｅは、本体３１１ａからＹ軸プラス方向へ延伸して設けられている。

第３の洗浄液供給管３１１ｆは、容器３１１ｃと接続している。第３の洗浄液供給管３１１ｆは、第１３の洗浄液ノズル３１２ｍと、第１４の洗浄液ノズル３１２ｎと、第１５の洗浄液ノズル３１２ｏと、第１６の洗浄液ノズル３１２ｐと、第１７の洗浄液ノズル３１２ｑと、第１８の洗浄液ノズル３１２ｒとのそれぞれに、容器３１１ｃに溜められた洗浄液を供給する管である。第３の洗浄液供給管３１１ｆは、本体３１１ａからＹ軸プラス方向へ延伸して設けられている。

第４の洗浄液供給管３１１ｇは、容器３１１ｃと接続している。第４の洗浄液供給管３１１ｇは、第１９の洗浄液ノズル３１２ｓと、第２０の洗浄液ノズル３１２ｔと、第２１の洗浄液ノズル３１２ｕと、第２２の洗浄液ノズル３１２ｖと、第２３の洗浄液ノズル３１２ｗと、第２４の洗浄液ノズル３１２ｘとのそれぞれに、容器３１１ｃに溜められた洗浄液を供給する管である。第４の洗浄液供給管３１１ｇは、本体３１１ａからＹ軸プラス方向へ延伸して設けられている。

第５の洗浄液供給管３１１ｈは、容器３１１ｃと接続している。第５の洗浄液供給管３１１ｈは、第２５の洗浄液ノズル３１２ｙと、第２６の洗浄液ノズル３１２ｚと、第２７の洗浄液ノズル３１２Ａと、第２８の洗浄液ノズル３１２Ｂと、第２９の洗浄液ノズル３１２Ｃと、第３０の洗浄液ノズル３１２Ｄとのそれぞれに、容器３１１ｃに溜められた洗浄液を供給する管である。第５の洗浄液供給管３１１ｈは、本体３１１ａからＹ軸プラス方向へ延伸して設けられている。

第６の洗浄液供給管３１１ｉは、容器３１１ｃと接続している。第６の洗浄液供給管３１１ｉは、第３１の洗浄液ノズル３１２Ｅと、第３２の洗浄液ノズル３１２Ｆと、第３３の洗浄液ノズル３１２Ｇと、第３４の洗浄液ノズル３１２Ｈと、第３５の洗浄液ノズル３１２Ｉと、第３６の洗浄液ノズル３１２Ｊとのそれぞれに、容器３１１ｃに溜められた洗浄液を供給する管である。第６の洗浄液供給管３１１ｉは、本体３１１ａからＹ軸プラス方向へ延伸して設けられている。

第７の洗浄液供給管３１１ｊは、容器３１１ｃと接続している。第７の洗浄液供給管３１１ｊは、第３７の洗浄液ノズル３１２Ｋと、第３８の洗浄液ノズル３１２Ｌと、第３９の洗浄液ノズル３１２Ｍと、第４０の洗浄液ノズル３１２Ｎと、第４１の洗浄液ノズル３１２Ｏと、第４２の洗浄液ノズル３１２Ｐとのそれぞれに、容器３１１ｃに溜められた洗浄液を供給する管である。第７の洗浄液供給管３１１ｊは、本体３１１ａからＹ軸プラス方向へ延伸して設けられている。

第１の洗浄液供給管３１１ｄと、第２の洗浄液供給管３１１ｅと、第３の洗浄液供給管３１１ｆと、第４の洗浄液供給管３１１ｇとは、鉛直方向に沿って配置されている。第１の洗浄液供給管３１１ｄと、第２の洗浄液供給管３１１ｅと、第３の洗浄液供給管３１１ｆと、第４の洗浄液供給管３１１ｇとは、Ｚ軸方向に沿って配置されている。

第５の洗浄液供給管３１１ｈと、第６の洗浄液供給管３１１ｉと、第７の洗浄液供給管３１１ｊとは、鉛直方向に沿って配置されている。第５の洗浄液供給管３１１ｈと、第６の洗浄液供給管３１１ｉと、第７の洗浄液供給管３１１ｊとは、Ｚ軸方向に沿って配置されている。

第１の洗浄液ノズル３１２ａと、第２の洗浄液ノズル３１２ｂと、第３の洗浄液ノズル３１２ｃと、第４の洗浄液ノズル３１２ｄと、第５の洗浄液ノズル３１２ｅと、第６の洗浄液ノズル３１２ｆと、第７の洗浄液ノズル３１２ｇと、第８の洗浄液ノズル３１２ｈと、第９の洗浄液ノズル３１２ｉと、第１０の洗浄液ノズル３１２ｊと、第１１の洗浄液ノズル３１２ｋと、第１２の洗浄液ノズル３１２ｌと、第１３の洗浄液ノズル３１２ｍと、第１４の洗浄液ノズル３１２ｎと、第１５の洗浄液ノズル３１２ｏと、第１６の洗浄液ノズル３１２ｐと、第１７の洗浄液ノズル３１２ｑと、第１８の洗浄液ノズル３１２ｒと、第１９の洗浄液ノズル３１２ｓと、第２０の洗浄液ノズル３１２ｔと、第２１の洗浄液ノズル３１２ｕと、第２２の洗浄液ノズル３１２ｖと、第２３の洗浄液ノズル３１２ｗと、第２４の洗浄液ノズル３１２ｘと、第２５の洗浄液ノズル３１２ｙと、第２６の洗浄液ノズル３１２ｚと、第２７の洗浄液ノズル３１２Ａと、第２８の洗浄液ノズル３１２Ｂと、第２９の洗浄液ノズル３１２Ｃと、第３０の洗浄液ノズル３１２Ｄと、第３１の洗浄液ノズル３１２Ｅと、第３２の洗浄液ノズル３１２Ｆと、第３３の洗浄液ノズル３１２Ｇと、第３４の洗浄液ノズル３１２Ｈと、第３５の洗浄液ノズル３１２Ｉと、第３６の洗浄液ノズル３１２Ｊと、第３７の洗浄液ノズル３１２Ｋと、第３８の洗浄液ノズル３１２Ｌと、第３９の洗浄液ノズル３１２Ｍと、第４０の洗浄液ノズル３１２Ｎと、第４１の洗浄液ノズル３１２Ｏと、第４２の洗浄液ノズル３１２Ｐとはいずれも、容器３１１ｃに溜められた洗浄液を吐出するための部材である。

第１の洗浄液ノズル３１２ａと、第２の洗浄液ノズル３１２ｂと、第３の洗浄液ノズル３１２ｃと、第４の洗浄液ノズル３１２ｄと、第５の洗浄液ノズル３１２ｅと、第６の洗浄液ノズル３１２ｆとはいずれも、第１の洗浄液供給管３１１ｄと接続している。第１の洗浄液ノズル３１２ａと、第２の洗浄液ノズル３１２ｂと、第３の洗浄液ノズル３１２ｃと、第４の洗浄液ノズル３１２ｄと、第５の洗浄液ノズル３１２ｅと、第６の洗浄液ノズル３１２ｆとはいずれも、Ｘ軸方向において、第２５の洗浄液ノズル３１２ｙから第４２の洗浄液ノズル３１２ＰよりもＸ軸マイナス方向に配置されている。第１の洗浄液ノズル３１２ａと、第２の洗浄液ノズル３１２ｂと、第３の洗浄液ノズル３１２ｃと、第４の洗浄液ノズル３１２ｄと、第５の洗浄液ノズル３１２ｅと、第６の洗浄液ノズル３１２ｆとは、Ｙ軸方向に沿って第１の洗浄液供給管３１１ｄに配置されている。第１の洗浄液ノズル３１２ａと、第２の洗浄液ノズル３１２ｂと、第３の洗浄液ノズル３１２ｃと、第４の洗浄液ノズル３１２ｄと、第５の洗浄液ノズル３１２ｅと、第６の洗浄液ノズル３１２ｆとはいずれも、例えばＸ軸プラス方向に向いた状態で第１の洗浄液供給管３１１ｄに固定されている。これにより、第１の洗浄液ノズル３１２ａと、第２の洗浄液ノズル３１２ｂと、第３の洗浄液ノズル３１２ｃと、第４の洗浄液ノズル３１２ｄと、第５の洗浄液ノズル３１２ｅと、第６の洗浄液ノズル３１２ｆとはいずれも、容器３１１ｃに溜められた洗浄液をＸ軸プラス方向に向けて吐出することができる。

第７の洗浄液ノズル３１２ｇと、第８の洗浄液ノズル３１２ｈと、第９の洗浄液ノズル３１２ｉと、第１０の洗浄液ノズル３１２ｊと、第１１の洗浄液ノズル３１２ｋと、第１２の洗浄液ノズル３１２ｌとはいずれも、第２の洗浄液供給管３１１ｅと接続している。第７の洗浄液ノズル３１２ｇと、第８の洗浄液ノズル３１２ｈと、第９の洗浄液ノズル３１２ｉと、第１０の洗浄液ノズル３１２ｊと、第１１の洗浄液ノズル３１２ｋと、第１２の洗浄液ノズル３１２ｌとはいずれも、Ｘ軸方向において、第２５の洗浄液ノズル３１２ｙから第４２の洗浄液ノズル３１２ＰよりもＸ軸マイナス方向に配置されている。第７の洗浄液ノズル３１２ｇと、第８の洗浄液ノズル３１２ｈと、第９の洗浄液ノズル３１２ｉと、第１０の洗浄液ノズル３１２ｊと、第１１の洗浄液ノズル３１２ｋと、第１２の洗浄液ノズル３１２ｌとは、Ｙ軸方向に沿って第２の洗浄液供給管３１１ｅに配置されている。第７の洗浄液ノズル３１２ｇと、第８の洗浄液ノズル３１２ｈと、第９の洗浄液ノズル３１２ｉと、第１０の洗浄液ノズル３１２ｊと、第１１の洗浄液ノズル３１２ｋと、第１２の洗浄液ノズル３１２ｌとはいずれも、例えばＸ軸プラス方向に向いた状態で第２の洗浄液供給管３１１ｅに固定されている。これにより、第７の洗浄液ノズル３１２ｇと、第８の洗浄液ノズル３１２ｈと、第９の洗浄液ノズル３１２ｉと、第１０の洗浄液ノズル３１２ｊと、第１１の洗浄液ノズル３１２ｋと、第１２の洗浄液ノズル３１２ｌとはいずれも、容器３１１ｃに溜められた洗浄液をＸ軸プラス方向に向けて吐出することができる。

第１３の洗浄液ノズル３１２ｍと、第１４の洗浄液ノズル３１２ｎと、第１５の洗浄液ノズル３１２ｏと、第１６の洗浄液ノズル３１２ｐと、第１７の洗浄液ノズル３１２ｑと、第１８の洗浄液ノズル３１２ｒとはいずれも、第３の洗浄液供給管３１１ｆと接続している。第１３の洗浄液ノズル３１２ｍと、第１４の洗浄液ノズル３１２ｎと、第１５の洗浄液ノズル３１２ｏと、第１６の洗浄液ノズル３１２ｐと、第１７の洗浄液ノズル３１２ｑと、第１８の洗浄液ノズル３１２ｒとはいずれも、Ｘ軸方向において、第２５の洗浄液ノズル３１２ｙから第４２の洗浄液ノズル３１２ＰよりもＸ軸マイナス方向に配置されている。第１３の洗浄液ノズル３１２ｍと、第１４の洗浄液ノズル３１２ｎと、第１５の洗浄液ノズル３１２ｏと、第１６の洗浄液ノズル３１２ｐと、第１７の洗浄液ノズル３１２ｑと、第１８の洗浄液ノズル３１２ｒとは、Ｙ軸方向に沿って第３の洗浄液供給管３１１ｆに配置されている。第１３の洗浄液ノズル３１２ｍと、第１４の洗浄液ノズル３１２ｎと、第１５の洗浄液ノズル３１２ｏと、第１６の洗浄液ノズル３１２ｐと、第１７の洗浄液ノズル３１２ｑと、第１８の洗浄液ノズル３１２ｒとはいずれも、例えばＸ軸プラス方向に向いた状態で第３の洗浄液供給管３１１ｆに固定されている。これにより、第１３の洗浄液ノズル３１２ｍと、第１４の洗浄液ノズル３１２ｎと、第１５の洗浄液ノズル３１２ｏと、第１６の洗浄液ノズル３１２ｐと、第１７の洗浄液ノズル３１２ｑと、第１８の洗浄液ノズル３１２ｒとはいずれも、容器３１１ｃに溜められた洗浄液をＸ軸プラス方向に向けて吐出することができる。

第１９の洗浄液ノズル３１２ｓと、第２０の洗浄液ノズル３１２ｔと、第２１の洗浄液ノズル３１２ｕと、第２２の洗浄液ノズル３１２ｖと、第２３の洗浄液ノズル３１２ｗと、第２４の洗浄液ノズル３１２ｘとはいずれも、第４の洗浄液供給管３１１ｇと接続している。第１９の洗浄液ノズル３１２ｓと、第２０の洗浄液ノズル３１２ｔと、第２１の洗浄液ノズル３１２ｕと、第２２の洗浄液ノズル３１２ｖと、第２３の洗浄液ノズル３１２ｗと、第２４の洗浄液ノズル３１２ｘとはいずれも、Ｘ軸方向において、第２５の洗浄液ノズル３１２ｙから第４２の洗浄液ノズル３１２ＰよりもＸ軸マイナス方向に配置されている。第１９の洗浄液ノズル３１２ｓと、第２０の洗浄液ノズル３１２ｔと、第２１の洗浄液ノズル３１２ｕと、第２２の洗浄液ノズル３１２ｖと、第２３の洗浄液ノズル３１２ｗと、第２４の洗浄液ノズル３１２ｘとは、Ｙ軸方向に沿って第４の洗浄液供給管３１１ｇに配置されている。第１９の洗浄液ノズル３１２ｓと、第２０の洗浄液ノズル３１２ｔと、第２１の洗浄液ノズル３１２ｕと、第２２の洗浄液ノズル３１２ｖと、第２３の洗浄液ノズル３１２ｗと、第２４の洗浄液ノズル３１２ｘとはいずれも、例えばＸ軸プラス方向に向いた状態で第４の洗浄液供給管３１１ｇに固定されている。これにより、第１９の洗浄液ノズル３１２ｓと、第２０の洗浄液ノズル３１２ｔと、第２１の洗浄液ノズル３１２ｕと、第２２の洗浄液ノズル３１２ｖと、第２３の洗浄液ノズル３１２ｗと、第２４の洗浄液ノズル３１２ｘとはいずれも、容器３１１ｃに溜められた洗浄液をＸ軸プラス方向に向けて吐出することができる。

第２５の洗浄液ノズル３１２ｙと、第２６の洗浄液ノズル３１２ｚと、第２７の洗浄液ノズル３１２Ａと、第２８の洗浄液ノズル３１２Ｂと、第２９の洗浄液ノズル３１２Ｃと、第３０の洗浄液ノズル３１２Ｄとはいずれも、第５の洗浄液供給管３１１ｈと接続している。第２５の洗浄液ノズル３１２ｙと、第２６の洗浄液ノズル３１２ｚと、第２７の洗浄液ノズル３１２Ａと、第２８の洗浄液ノズル３１２Ｂと、第２９の洗浄液ノズル３１２Ｃと、第３０の洗浄液ノズル３１２Ｄとはいずれも、Ｘ軸方向において、第１の洗浄液ノズル３１２ａから第２４の洗浄液ノズル３１２ｘよりもＸ軸プラス方向に配置されている。第２５の洗浄液ノズル３１２ｙと、第２６の洗浄液ノズル３１２ｚと、第２７の洗浄液ノズル３１２Ａと、第２８の洗浄液ノズル３１２Ｂと、第２９の洗浄液ノズル３１２Ｃと、第３０の洗浄液ノズル３１２Ｄとは、Ｙ軸方向に沿って第５の洗浄液供給管３１１ｈに配置されている。第２５の洗浄液ノズル３１２ｙと、第２６の洗浄液ノズル３１２ｚと、第２７の洗浄液ノズル３１２Ａと、第２８の洗浄液ノズル３１２Ｂと、第２９の洗浄液ノズル３１２Ｃと、第３０の洗浄液ノズル３１２Ｄとはいずれも、例えばＸ軸マイナス方向に向いた状態で第５の洗浄液供給管３１１ｈに固定されている。これにより、第２５の洗浄液ノズル３１２ｙと、第２６の洗浄液ノズル３１２ｚと、第２７の洗浄液ノズル３１２Ａと、第２８の洗浄液ノズル３１２Ｂと、第２９の洗浄液ノズル３１２Ｃと、第３０の洗浄液ノズル３１２Ｄとはいずれも、容器３１１ｃに溜められた洗浄液をＸ軸マイナス方向に向けて吐出することができる。

第３１の洗浄液ノズル３１２Ｅと、第３２の洗浄液ノズル３１２Ｆと、第３３の洗浄液ノズル３１２Ｇと、第３４の洗浄液ノズル３１２Ｈと、第３５の洗浄液ノズル３１２Ｉと、第３６の洗浄液ノズル３１２Ｊとはいずれも、第６の洗浄液供給管３１１ｉと接続している。第３１の洗浄液ノズル３１２Ｅと、第３２の洗浄液ノズル３１２Ｆと、第３３の洗浄液ノズル３１２Ｇと、第３４の洗浄液ノズル３１２Ｈと、第３５の洗浄液ノズル３１２Ｉと、第３６の洗浄液ノズル３１２Ｊとはいずれも、Ｘ軸方向において、第１の洗浄液ノズル３１２ａから第２４の洗浄液ノズル３１２ｘよりもＸ軸プラス方向に配置されている。第３１の洗浄液ノズル３１２Ｅと、第３２の洗浄液ノズル３１２Ｆと、第３３の洗浄液ノズル３１２Ｇと、第３４の洗浄液ノズル３１２Ｈと、第３５の洗浄液ノズル３１２Ｉと、第３６の洗浄液ノズル３１２Ｊとは、Ｙ軸方向に沿って第６の洗浄液供給管３１１ｉに配置されている。第３１の洗浄液ノズル３１２Ｅと、第３２の洗浄液ノズル３１２Ｆと、第３３の洗浄液ノズル３１２Ｇと、第３４の洗浄液ノズル３１２Ｈと、第３５の洗浄液ノズル３１２Ｉと、第３６の洗浄液ノズル３１２Ｊとはいずれも、例えばＸ軸マイナス方向に向いた状態で第６の洗浄液供給管３１１ｉに固定されている。これにより、第３１の洗浄液ノズル３１２Ｅと、第３２の洗浄液ノズル３１２Ｆと、第３３の洗浄液ノズル３１２Ｇと、第３４の洗浄液ノズル３１２Ｈと、第３５の洗浄液ノズル３１２Ｉと、第３６の洗浄液ノズル３１２Ｊとはいずれも、容器３１１ｃに溜められた洗浄液をＸ軸マイナス方向に向けて吐出することができる。

第３７の洗浄液ノズル３１２Ｋと、第３８の洗浄液ノズル３１２Ｌと、第３９の洗浄液ノズル３１２Ｍと、第４０の洗浄液ノズル３１２Ｎと、第４１の洗浄液ノズル３１２Ｏと、第４２の洗浄液ノズル３１２Ｐとはいずれも、第７の洗浄液供給管３１１ｊと接続している。第３７の洗浄液ノズル３１２Ｋと、第３８の洗浄液ノズル３１２Ｌと、第３９の洗浄液ノズル３１２Ｍと、第４０の洗浄液ノズル３１２Ｎと、第４１の洗浄液ノズル３１２Ｏと、第４２の洗浄液ノズル３１２Ｐとはいずれも、Ｘ軸方向において、第１の洗浄液ノズル３１２ａから第２４の洗浄液ノズル３１２ｘよりもＸ軸プラス方向に配置されている。第３７の洗浄液ノズル３１２Ｋと、第３８の洗浄液ノズル３１２Ｌと、第３９の洗浄液ノズル３１２Ｍと、第４０の洗浄液ノズル３１２Ｎと、第４１の洗浄液ノズル３１２Ｏと、第４２の洗浄液ノズル３１２Ｐとは、Ｙ軸方向に沿って第７の洗浄液供給管３１１ｊに配置されている。第３７の洗浄液ノズル３１２Ｋと、第３８の洗浄液ノズル３１２Ｌと、第３９の洗浄液ノズル３１２Ｍと、第４０の洗浄液ノズル３１２Ｎと、第４１の洗浄液ノズル３１２Ｏと、第４２の洗浄液ノズル３１２Ｐとはいずれも、例えばＸ軸マイナス方向に向いた状態で第７の洗浄液供給管３１１ｊに固定されている。これにより、第３７の洗浄液ノズル３１２Ｋと、第３８の洗浄液ノズル３１２Ｌと、第３９の洗浄液ノズル３１２Ｍと、第４０の洗浄液ノズル３１２Ｎと、第４１の洗浄液ノズル３１２Ｏと、第４２の洗浄液ノズル３１２Ｐとはいずれも、容器３１１ｃに溜められた洗浄液をＸ軸マイナス方向に向けて吐出することができる。

洗浄機器３１０において、Ｘ軸マイナス側に配置されている第１の洗浄液ノズル３１２ａから第２４の洗浄液ノズル３１２ｘと、Ｘ軸プラス側に配置されている第２５の洗浄液ノズル３１２ｙから第４２の洗浄液ノズル３１２Ｐとの間の空間は、洗浄位置Ｐ６である。プレート６０は、洗浄位置Ｐ６において洗浄される。例えば、プレート６０は、洗浄位置Ｐ６において直立状態に支持されて洗浄される。直立状態とは、プレート６０を構成する板材６３０の第２面６３０ｂがＸＹ平面に垂直となった状態である。直立状態において、プレート６０のｘ軸は図３に示されたＹ軸に一致し、プレート６０のｙ軸は図３に示されたＺ軸に一致し、プレート６０のｚ軸は図３に示されたＸ軸に一致する。プレート６０は、洗浄位置Ｐ６において、ウェルの開口がＸ軸マイナス方向へ向いた状態に支持される。あるいはまた、プレート６０は、洗浄位置Ｐ６において、ウェルの開口がＸ軸プラス方向へ向いた状態に支持される。プレートは、バイオチップの第１面が図３に示されたＹＺ平面と平行であるときが直立状態にあるということもできる。洗浄液ノズル３１２は、洗浄位置Ｐ６に支持されたプレート６０に対して、プレート６０の両側から洗浄液を吐出する。一例として、第１の洗浄液ノズル３１２ａから第２４の洗浄液ノズル３１２ｘは、プレート６０のＸ軸マイナス側からＸ軸プラス方向へ向けて洗浄液を吐出し、第２５の洗浄液ノズル３１２ｙから第４２の洗浄液ノズル３１２Ｐは、プレート６０のＸ軸プラス側からＸ軸マイナス方向へ向けて洗浄液を吐出する。これにより、プレート６０は、Ｘ軸マイナス側とＸ軸プラス側の両面、すなわちＸ軸マイナス側の部位とＸ軸プラス側の部位とを含むプレート全体を、効果的に洗浄されることが可能である。

なお、洗浄液ノズル３１２は、Ｘ軸マイナス側に第１の洗浄液ノズル３１２ａから第２４の洗浄液ノズル３１２ｘのみを有し、Ｘ軸プラス側の第２５の洗浄液ノズル３１２ｙから第４２の洗浄液ノズル３１２Ｐを省略した構成としてもよい。

洗浄液には、例えば脱イオン水（ＤＩＷ）等の純水を用いるのが好ましい。また洗浄液を、バイオチップ上の生体分子が熱で変質しない程度の温度、例えば３０℃程度の温度に温めて使用すれば、洗浄力を高めることができると共に、その後の乾燥処理の際に洗浄液が蒸発しやすく乾燥時間も短縮可能である。この場合、洗浄液供給部３１１は、通常の水道水を脱イオン処理して純水を製造し、これを３０℃程度に加熱した上で洗浄液供給管３１１ｂを介して洗浄液ノズル３１２へ温水として供給するように構成される。

洗浄液ノズル３１２は、洗浄液供給部３１１からこのように供給される温水をそのまま洗浄液ノズル３１２から吐出するだけでなく、温水を窒素等の不活性ガスと混ぜて霧状（スプレー状）にして洗浄液ノズル３１２から噴射するように構成されてもよい。これにより水の使用量を減らすことができる。不活性ガスを用いるのは、バイオチップ上の生体分子の酸化を防止するためである。

乾燥機器３２０は、プレート６０を乾燥するための機器である。乾燥機器３２０は、プレート６０に対して乾燥処理を行う。

乾燥機器３２０は、送風部３２１と、送風口３２２とを備えている。送風口３２２は、第１の送風口３２２ａと、第２の送風口３２２ｂと、第３の送風口３２２ｃと、第４の送風口３２２ｄとを含む。

送風部３２１は、本体３２１ａと、送風管３２１ｂとを有している。

本体３２１ａは、送風管３２１ｂを介して送風口３２２から風を送り出す。本体３２１ａは、例えば、不活性ガスを送風口３２２から送風する。不活性ガスの一例は、窒素である。不活性ガスを用いることで、バイオチップ上の生体分子の酸化を防止することができる。本体３２１ａは、送風口３２２から温風を送り出すように構成されてもよい。例えば、本体３２１ａは、３０℃〜４０℃に温度設定された不活性ガスを送風口３２２から送風する。

送風管３２１ｂは、第１の送風管３２１ｃと、第２の送風管３２１ｄと、第３の送風管３２１ｅと、第４の送風管３２１ｆとを含んでいる。

第１の送風管３２１ｃは、本体３２１ａと接続している。第１の送風管３２１ｃは、第１の送風口３２２ａに本体３２１ａからの風を供給する管である。第１の送風管３２１ｃは、本体３２１ａからＹ軸プラス方向へ延伸して設けられている。

第２の送風管３２１ｄは、本体３２１ａと接続している。第２の送風管３２１ｄは、第２の送風口３２２ｂに本体３２１ａからの風を供給する管である。第２の送風管３２１ｄは、本体３２１ａからＹ軸プラス方向へ延伸して設けられている。

第３の送風管３２１ｅは、本体３２１ａと接続している。第３の送風管３２１ｅは、第３の送風口３２２ｃに本体３２１ａからの風を供給する管である。第３の送風管３２１ｅは、本体３２１ａからＹ軸プラス方向へ延伸して設けられている。

第４の送風管３２１ｆは、本体３２１ａと接続している。第４の送風管３２１ｆは、第４の送風口３２２ｄに本体３２１ａからの風を供給する管である。第４の送風管３２１ｆは、本体３２１ａからＹ軸プラス方向へ延伸して設けられている。

第１の送風口３２２ａは、Ｙ軸方向に沿った開口である。開口のＹ軸方向長さは、例えばプレート６０の短辺の長さよりも長い。第１の送風口３２２ａは、第１の送風管３２１ｃと接続している。第１の送風口３２２ａは、Ｘ軸方向において、第３の送風口３２２ｃ及び第４の送風口３２２ｄよりもＸ軸マイナス方向に配置されている。第１の送風口３２２ａは、例えばＸ軸プラス方向に向いた状態で第１の送風管３２１ｃに接続されている。これにより、第１の送風口３２２ａは、Ｘ軸プラス方向に向けて風を吹き出すことができる。

第２の送風口３２２ｂは、Ｙ軸方向に沿った開口である。開口のＹ軸方向長さは、例えばプレート６０の短辺の長さよりも長い。第２の送風口３２２ｂは、第２の送風管３２１ｄと接続している。第２の送風口３２２ｂは、Ｘ軸方向において、第３の送風口３２２ｃ及び第４の送風口３２２ｄよりもＸ軸マイナス方向に配置されている。第２の送風口３２２ｂは、例えばＸ軸プラス方向に向いた状態で第２の送風管３２１ｄに接続されている。これにより、第２の送風口３２２ｂは、Ｘ軸プラス方向に向けて風を吹き出すことができる。

第３の送風口３２２ｃは、Ｙ軸方向に沿った開口である。開口のＹ軸方向長さは、例えばプレート６０の短辺の長さよりも長い。第３の送風口３２２ｃは、第３の送風管３２１ｅと接続している。第３の送風口３２２ｃは、Ｘ軸方向において、第１の送風口３２２ａ及び第２の送風口３２２ｂよりもＸ軸プラス方向に配置されている。第３の送風口３２２ｃは、例えばＸ軸マイナス方向に向いた状態で第３の送風管３２１ｅに接続されている。これにより、第３の送風口３２２ｃは、Ｘ軸マイナス方向に向けて風を吹き出すことができる。

第４の送風口３２２ｄは、Ｙ軸方向に沿った開口である。開口のＹ軸方向長さは、例えばプレート６０の短辺の長さよりも長い。第４の送風口３２２ｄは、第４の送風管３２１ｆと接続している。第４の送風口３２２ｄは、Ｘ軸方向において、第１の送風口３２２ａ及び第２の送風口３２２ｂよりもＸ軸プラス方向に配置されている。第４の送風口３２２ｄは、例えばＸ軸マイナス方向に向いた状態で第４の送風管３２１ｆに接続されている。これにより、第４の送風口３２２ｄは、Ｘ軸マイナス方向に向けて風を吹き出すことができる。

乾燥機器３２０において、Ｘ軸マイナス側に配置されている第１の送風口３２２ａ及び第２の送風口３２２ｂと、Ｘ軸プラス側に配置されている第３の送風口３２２ｃ及び第４の送風口３２２ｄとの間の空間は、乾燥位置Ｐ５である。プレート６０は、乾燥位置Ｐ５において乾燥される。例えば、プレート６０は、乾燥位置Ｐ５において直立状態に支持されて乾燥される。例えば、プレート６０は、乾燥位置Ｐ５において、ウェルの開口がＸ軸マイナス方向へ向いた状態に支持される。送風口３２２は、乾燥位置Ｐ５に支持されたプレート６０に対して、プレート６０の両側から送風する。一例として、第１の送風口３２２ａ及び第２の送風口３２２ｂは、プレート６０のＸ軸マイナス側からＸ軸プラス方向へ向けて送風し、第３の送風口３２２ｃ及び第４の送風口３２２ｄは、プレート６０のＸ軸プラス側からＸ軸マイナス方向へ向けて送風する。これにより、プレート６０は、Ｘ軸マイナス側とＸ軸プラス側の両面、すなわちＸ軸マイナス側の部位とＸ軸プラス側の部位とを含むプレート全体を、効果的に乾燥されることが可能である。

なお、送風口３２２は、Ｘ軸マイナス側に第１の送風口３２２ａ及び第２の送風口３２２ｂのみを有し、Ｘ軸プラス側の第３の送風口３２２ｃ及び第４の送風口３２２ｄを省略した構成としてもよい。

搬送機器３３０は、プレート支持部３３１と、駆動部３３２とを備えている。プレート支持部３３１は、プレート６０を支持する部材である。駆動部３３２は、プレート支持部３３１を駆動する。一例として、駆動部３３２は、受渡位置Ｐ４と、乾燥位置Ｐ５と、洗浄位置Ｐ６との間でプレート支持部３３１を駆動する。このように、搬送機器３３０は、プレート６０を搬送するための搬送ラインである。

制御機器３４０は、洗浄機器３１０、乾燥機器３２０及び搬送機器３３０それぞれの動作を制御する。制御機器３４０による制御の詳細については、図５から図８を参照して後述する。

収容機器３５０は、洗浄機器３１０、乾燥機器３２０及び搬送機器３３０を収容する。収容機器３５０は、容器３５１と、扉３５２とを備えている。

容器３５１は、洗浄機器３１０、乾燥機器３２０及び搬送機器３３０を収容するための空間を形成する。容器３５１は、例えば箱型の形状を有する筐体である。洗浄機器３１０、乾燥機器３２０及び搬送機器３３０はいずれも、容器３５１により形成された内部空間に配置される。容器３５１は、開口３５１ａと、排水口３５１ｂとを有している。

開口３５１ａは、プレート６０を容器３５１外部から容器３５１内部へ入れたり、プレート６０を容器３５１内部から容器３５１外部へ出したりするための出入り口である。搬送装置５０は、分注装置２０から受け取ったプレート６０を搬送機器３３０が有するプレート支持部３３１へ受け渡す場合や、搬送機器３３０が有するプレート支持部３３１により支持されたプレート６０を受け取る場合に、開口３５１ａを経由する。

排水口３５１ｂは、容器３５１内部の廃液を容器３５１外部へ排出するための開口である。洗浄機器３１０においてプレート６０の洗浄に用いられた後の洗浄液は、廃液である。この廃液は、排水口３５１ｂを通って容器３５１外部へ排出される。

扉３５２は、開口３５１ａを開けた状態である開状態と、開口３５１ａを閉じた状態である閉状態とを取り得る。搬送装置５０が分注装置２０から受け取ったプレート６０を搬送機器３３０が有するプレート支持部３３１へ受け渡す場合や、搬送機器３３０が有するプレート支持部３３１により支持されたプレート６０を搬送装置５０が受け取る場合は、扉３５２は、開状態にある。洗浄機器３１０がプレート６０の洗浄を行っている場合や、乾燥機器３２０がプレート６０の乾燥を行っている場合は、扉３５２は、閉状態にある。これにより、不活性ガスを有効に循環再利用することが可能となり、不活性ガスの使用量を減らすことができる。また、不活性ガスが容器３５１の内部空間から容器３５１の外部空間へ排出されることを抑制することができる。

なお、収容機器３５０内部の乾燥機器３２０の近傍には、送風口３２２から吹き出した不活性ガスを排気するための排気処理ユニット３７０が設置されてもよい。例えば、排気処理ユニット３７０（循環機構）は、排気中に含まれるゴミや異物を濾過し除去するためのフィルターを備えると共に、フィルターを通過後の排気すなわちきれいな不活性ガスを送風部３２１へ還流（循環）させるように構成される。

廃液収集機器３６０は、排水管３６１と、廃液貯蔵部３６２とを備えている。

排水管３６１は、排水口３５１ｂと廃液貯蔵部３６２とを接続する。一例として、排水管３６１は、容器３５１内部から排水口３５１ｂを介して排出された廃液を廃液貯蔵部３６２まで導くための管である。

廃液貯蔵部３６２は、排水管３６１により導かれた廃液を溜める容器である。廃液貯蔵部３６２は、例えば槽である。廃液貯蔵部３６２は、洗浄・乾燥装置３０に対して交換可能に構成されている。

洗浄機器３１０は、乾燥機器３２０の下方に配置されている。洗浄機器３１０は、Ｚ軸方向において乾燥機器３２０よりもＺ軸マイナス側に配置されている。

洗浄液ノズル３１２は、送風口３２２の下方に配置されている。洗浄液ノズル３１２は、Ｚ軸方向において送風口３２２よりもＺ軸マイナス側に配置されている。

洗浄液供給部３１１は、送風部３２１の下方に配置されている。洗浄液供給部３１１は、Ｚ軸方向において送風部３２１よりもＺ軸マイナス側に配置されている。

洗浄機器３１０は、例えば、分注装置２０の搬送機器２１０が配置されている高さよりも下方に配置されている。洗浄機器３１０は、例えば、Ｚ軸方向において、分注装置２０の搬送機器２１０が配置されている高さよりもＺ軸マイナス側に配置されている。

洗浄機器３１０は、例えば、検出装置４０の載置機器４２０が配置されている高さよりも下方に配置されている。洗浄機器３１０は、例えば、Ｚ軸方向において、検出装置４０の載置機器４２０が配置されている高さよりもＺ軸マイナス側に配置されている。

乾燥機器３２０は、洗浄機器３１０の上方に配置されている。乾燥機器３２０は、Ｚ軸方向において洗浄機器３１０よりもＺ軸プラス側に配置されている。

送風口３２２は、洗浄液ノズル３１２の上方に配置されている。送風口３２２は、Ｚ軸方向において洗浄液ノズル３１２よりもＺ軸プラス側に配置されている。

送風部３２１は、洗浄液供給部３１１の上方に配置されている。送風部３２１は、Ｚ軸方向において洗浄液供給部３１１よりもＺ軸プラス側に配置されている。

乾燥機器３２０は、例えば、分注装置２０の搬送機器２１０が配置されている高さよりも下方に配置されている。乾燥機器３２０は、例えば、Ｚ軸方向において、分注装置２０の搬送機器２１０が配置されている高さよりもＺ軸マイナス側に配置されている。

乾燥機器３２０は、例えば、検出装置４０の載置機器４２０が配置されている高さよりも下方に配置されている。乾燥機器３２０は、例えば、Ｚ軸方向において、検出装置４０の載置機器４２０が配置されている高さよりもＺ軸マイナス側に配置されている。

分注後に分注装置２０の受渡位置Ｐ３へ搬送されたプレート６０は、搬送装置５０のロボットアーム（不図示）によって把持され、洗浄・乾燥装置３０へ受け渡される。このとき、搬送装置５０のロボットアーム（回転動作部）は、分注装置２０のプレート支持部２１１上に載置されているプレート６０を水平状態で掴み取り、把持したプレート６０を９０°回転させて直立状態としてから、受渡位置Ｐ４において、洗浄・乾燥装置３０の搬送機器３３０のプレート支持部３３１に当該直立状態のプレート６０をセットする。例えば、プレート６０は、水平状態からＹ軸を回転軸として時計回り又は反時計回りに９０°回転して、直立状態とされる。

洗浄・乾燥装置３０は、搬送機器３３０のプレート支持部３３１にセットされた直立状態のプレート６０を、まず洗浄機器３１０の洗浄位置Ｐ６まで鉛直方向下方に（Ｚ軸マイナス方向に）搬送して洗浄機器３１０において洗浄し、次に乾燥機器３２０の乾燥位置Ｐ５まで鉛直方向上方に（Ｚ軸プラス方向に）搬送して乾燥機器３２０において乾燥する。プレート６０は下方に搬送される際に一旦乾燥機器３２０を通過することになるが、この時には乾燥機器３２０は作動させない。プレート６０は、搬送機器３３０によって直立状態に保持されたまま順次上記のように洗浄と乾燥を施され、その後、搬送機器３３０により洗浄・乾燥装置３０の受渡位置Ｐ４へと搬送される。

図５は、制御機器３４０による洗浄機器３１０、乾燥機器３２０及び搬送機器３３０に対する制御を説明するための図である。

図５（ａ）は、洗浄機器３１０と、乾燥機器３２０と、搬送機器３３０と、受渡位置Ｐ４と、乾燥位置Ｐ５と、洗浄位置Ｐ６とのそれぞれの位置関係を模式的に示した図である。図５（ａ）において、洗浄機器３１０は、乾燥機器３２０の下方（Ｚ軸マイナス側）に位置している。洗浄機器３１０は、その内部に洗浄位置Ｐ６を含んでいる。前述したように、洗浄位置Ｐ６は、第１の洗浄液ノズル３１２ａから第２４の洗浄液ノズル３１２ｘと、第２５の洗浄液ノズル３１２ｙから第４２の洗浄液ノズル３１２Ｐとの間の空間である。洗浄位置Ｐ６は、プレート６０が洗浄機器３１０内で洗浄される位置である。乾燥機器３２０は、その内部に乾燥位置Ｐ５を含んでいる。前述したように、乾燥位置Ｐ５は、第１の送風口３２２ａ及び第２の送風口３２２ｂと、第３の送風口３２２ｃ及び第４の送風口３２２ｄとの間の空間である。乾燥位置Ｐ５は、プレート６０が乾燥機器３２０内で乾燥される位置である。よって、洗浄位置Ｐ６は、乾燥位置Ｐ５の下方（Ｚ軸マイナス側）に位置している。受渡位置Ｐ４は、搬送装置５０が洗浄・乾燥装置３０の搬送機器３３０との間でプレート６０の受け渡しと受け取りを行う位置である。受渡位置Ｐ４は、乾燥位置Ｐ５の上方（Ｚ軸プラス側）に位置している。このように、受渡位置Ｐ４、乾燥位置Ｐ５及び洗浄位置Ｐ６は、上方から下方へ受渡位置Ｐ４、乾燥位置Ｐ５、洗浄位置Ｐ６の順に位置している。受渡位置Ｐ４、乾燥位置Ｐ５及び洗浄位置Ｐ６は、Ｚ軸に沿って一列に並んでいる。搬送機器３３０は、受渡位置Ｐ４、乾燥位置Ｐ５及び洗浄位置Ｐ６それぞれにプレート６０を搬送可能なように配置されている。前述したように、搬送機器３３０は、受渡位置Ｐ４と、乾燥位置Ｐ５と、洗浄位置Ｐ６との間でプレート６０を搬送する。

図５（ｂ）は、プレート６０が受渡位置Ｐ４にある状態を模式的に示している。プレート６０は、分注後に搬送装置５０から洗浄・乾燥装置３０の搬送機器３３０へ受け渡される時と、洗浄・乾燥後に洗浄・乾燥装置３０の搬送機器３３０から搬送装置５０へ受け渡される時に、受渡位置Ｐ４に位置する。受渡位置Ｐ４において、プレート６０は、例えば直立状態に支持される。

図５（ｃ）は、プレート６０が乾燥位置Ｐ５にある状態を模式的に示している。乾燥位置Ｐ５は、搬送機器３３０によってプレート６０が受渡位置Ｐ４と洗浄位置Ｐ６との間を移動する場合に経由する位置である。プレート６０は、乾燥機器３２０において乾燥が施されている間に、乾燥位置Ｐ５に位置する。乾燥位置Ｐ５において、プレート６０は、例えば直立状態に支持される。

図５（ｄ）は、プレート６０が洗浄位置Ｐ６にある状態を模式的に示している。洗浄位置Ｐ６は、搬送機器３３０によってプレート６０が受渡位置Ｐ４から乾燥位置Ｐ５を経由して到着する位置である。プレート６０は、洗浄機器３１０において洗浄を施されている間に、洗浄位置Ｐ６に位置する。洗浄位置Ｐ６において、プレート６０は、例えば直立状態に支持される。

制御機器３４０は、プレート６０が分注後に搬送装置５０から洗浄・乾燥装置３０の搬送機器３３０へ受け渡されて、図５（ｂ）の受渡位置Ｐ４にある状態において洗浄処理及び乾燥処理に関する制御を開始する。

まず、制御機器３４０は、プレート６０を下方に搬送するよう搬送機器３３０を制御する。一例として、制御機器３４０は、受渡位置Ｐ４にあるプレート６０を、受渡位置Ｐ４から乾燥位置Ｐ５を経由して洗浄位置Ｐ６まで搬送するよう搬送機器３３０を制御する。一例として、制御機器３４０は、受渡位置Ｐ４にあるプレート６０を、受渡位置Ｐ４から乾燥位置Ｐ５で停止することなく洗浄位置Ｐ６まで搬送するよう制御機器３４０を制御する。また、制御機器３４０は、プレート６０が乾燥位置Ｐ５を通過する際に乾燥機器３２０が乾燥動作を行わないよう乾燥機器３２０を制御する。制御機器３４０の制御に応じて、搬送機器３３０は、プレート６０を受渡位置Ｐ４から乾燥位置Ｐ５を経由して洗浄位置Ｐ６まで搬送する。制御機器３４０の制御に応じて、乾燥機器３２０は、搬送機器３３０によりプレート６０が受渡位置Ｐ４から乾燥位置Ｐ５を経由して洗浄位置Ｐ６まで搬送する間において乾燥動作の停止状態を維持する。これにより、プレート６０は、搬送機器３３０によって、受渡位置Ｐ４から乾燥位置Ｐ５を経由して洗浄位置Ｐ６まで搬送される。プレート６０は、例えば直立状態に支持されたまま、受渡位置Ｐ４から乾燥位置Ｐ５を経由して洗浄位置Ｐ６まで搬送機器３３０により搬送される。乾燥機器３２０は、プレート６０が乾燥機器３２０を通過するときにプレート６０に対する乾燥処理を行わない。乾燥機器３２０は、プレート６０が乾燥位置Ｐ５を通過するときにプレート６０に対する乾燥処理は行わない。こうして、プレート６０の位置は、図５（ｂ）に示された受渡位置Ｐ４にある状態から、図５（ｃ）に示された乾燥位置Ｐ５にある状態を経由して、図５（ｄ）に示された洗浄位置Ｐ６にある状態へと遷移する。

次に、制御機器３４０は、プレート６０を洗浄するよう洗浄機器３１０を制御する。また、制御機器３４０は、洗浄機器３１０の洗浄動作中にプレート６０を洗浄位置Ｐ６に停止させておくよう搬送機器３３０を制御する。制御機器３４０の制御に応じて、搬送機器３３０は、プレート６０を洗浄位置Ｐ６に保持し、洗浄機器３１０は、プレート６０を洗浄する。これにより、プレート６０は、洗浄位置Ｐ６において洗浄機器３１０によって洗浄される。プレート６０は、例えば直立状態に支持されたまま、洗浄位置Ｐ６において洗浄機器３１０によって洗浄される。この時点において、プレート６０の位置は、図５（ｄ）に示された洗浄位置Ｐ６にある状態を維持している。

次に、プレート６０の洗浄が完了すると、制御機器３４０は、プレート６０を上方に搬送するよう搬送機器３３０を制御する。一例として、制御機器３４０は、洗浄位置Ｐ６にあるプレート６０を、洗浄位置Ｐ６から乾燥位置Ｐ５まで搬送するよう搬送機器３３０を制御する。制御機器３４０の制御に応じて、搬送機器３３０は、プレート６０を洗浄位置Ｐ６から乾燥位置Ｐ５まで搬送する。これにより、プレート６０は、搬送機器３３０によって、洗浄位置Ｐ６から乾燥位置Ｐ５まで搬送される。プレート６０は、例えば直立状態に支持されたまま、洗浄位置Ｐ６から乾燥位置Ｐ５まで搬送される。こうして、プレート６０の位置は、図５（ｄ）に示された洗浄位置Ｐ６にある状態から、図５（ｃ）に示された乾燥位置Ｐ５にある状態へと遷移する。

次に、制御機器３４０は、プレート６０を乾燥するよう乾燥機器３２０を制御する。また、制御機器３４０は、乾燥機器３２０の乾燥動作中にプレート６０を乾燥位置Ｐ５に停止させておくよう搬送機器３３０を制御する。制御機器３４０の制御に応じて、搬送機器３３０は、プレート６０を乾燥位置Ｐ５に保持し、乾燥機器３２０は、プレート６０を乾燥する。これにより、プレート６０は、乾燥位置Ｐ５において乾燥機器３２０によって乾燥される。プレート６０は、例えば直立状態に支持されたまま、乾燥位置Ｐ５において乾燥機器３２０によって乾燥される。この時点において、プレート６０の位置は、図５（ｃ）に示された乾燥位置Ｐ５にある状態を維持している。

次に、プレート６０の乾燥が完了すると、制御機器３４０は、プレート６０を上方に搬送するよう搬送機器３３０を制御する。一例として、制御機器３４０は、乾燥位置Ｐ５にあるプレート６０を、乾燥位置Ｐ５から受渡位置Ｐ４まで搬送するよう搬送機器３３０を制御する。制御機器３４０の制御に応じて、搬送機器３３０は、プレート６０を乾燥位置Ｐ５から受渡位置Ｐ４まで搬送する。これにより、プレート６０は、搬送機器３３０によって、乾燥位置Ｐ５から受渡位置Ｐ４まで搬送される。プレート６０は、例えば直立状態に支持されたまま、乾燥位置Ｐ５から受渡位置Ｐ４まで搬送される。こうして、プレート６０の位置は、図５（ｃ）に示された乾燥位置Ｐ５にある状態から、図５（ｂ）に示された受渡位置Ｐ４にある状態へと遷移する。

洗浄処理及び乾燥処理されて受渡位置Ｐ４へと戻ったプレート６０は、搬送装置５０に受け取られて、検出装置４０へ搬送される。

図６は、制御機器３４０による洗浄機器３１０、乾燥機器３２０及び搬送機器３３０に対する制御の第１変形例を説明するための図である。

図６（ａ）は、洗浄機器３１０と、乾燥機器３２０と、搬送機器３３０と、受渡位置Ｐ４と、乾燥位置Ｐ５と、洗浄位置Ｐ６とのそれぞれの位置関係を模式的に示した図である。

洗浄機器３１０は、乾燥機器３２０の下方（Ｚ軸マイナス側）に位置している。洗浄機器３１０は、その内部に洗浄位置Ｐ６を含んでいる。前述したように、洗浄位置Ｐ６は、第１の洗浄液ノズル３１２ａから第２４の洗浄液ノズル３１２ｘと、第２５の洗浄液ノズル３１２ｙから第４２の洗浄液ノズル３１２Ｐとの間の空間である。洗浄位置Ｐ６は、第１洗浄位置Ｐ６ａと、第２洗浄位置Ｐ６ｂとを含む。第１洗浄位置Ｐ６ａは、洗浄位置Ｐ６のうちＸ軸マイナス側の空間である。第２洗浄位置Ｐ６ｂは、洗浄位置Ｐ６のうちＸ軸プラス側の空間である。第１洗浄位置Ｐ６ａは、プレート６０が洗浄機器３１０内で洗浄される位置である。

乾燥機器３２０は、その内部に乾燥位置Ｐ５を含んでいる。前述したように、乾燥位置Ｐ５は、第１の送風口３２２ａ及び第２の送風口３２２ｂと、第３の送風口３２２ｃ及び第４の送風口３２２ｄとの間の空間である。乾燥位置Ｐ５は、第１乾燥位置Ｐ５ａと、第２乾燥位置Ｐ５ｂとを含む。第１乾燥位置Ｐ５ａは、乾燥位置Ｐ５のうちＸ軸マイナス側の空間である。第２乾燥位置Ｐ５ｂは、乾燥位置Ｐ５のうちＸ軸プラス側の空間である。第１乾燥位置Ｐ５ａは、プレート６０が受渡位置Ｐ４から洗浄位置Ｐ６へ搬送される途中に通過する位置である。第２乾燥位置Ｐ５ｂは、プレート６０が乾燥機器３２０内で乾燥される位置である。

受渡位置Ｐ４は、搬送装置５０が洗浄・乾燥装置３０の搬送機器３３０との間でプレート６０の受け渡しと受け取りを行う位置である。受渡位置Ｐ４は、第１受渡位置Ｐ４ａと、第２受渡位置Ｐ４ｂとを含む。第１受渡位置Ｐ４ａは、受渡位置Ｐ４のうちＸ軸マイナス側の空間である。第２受渡位置Ｐ４ｂは、受渡位置Ｐ４のうちＸ軸プラス側の空間である。第１受渡位置Ｐ４ａは、搬送装置５０が分注後のプレート６０を洗浄・乾燥装置３０の搬送機器３３０に受け渡す位置である。第２受渡位置Ｐ４ｂは、搬送装置５０が洗浄・乾燥後のプレート６０を受け取るためにプレート６０が搬送される位置である。

洗浄位置Ｐ６は、乾燥位置Ｐ５の下方（Ｚ軸マイナス側）に位置している。受渡位置Ｐ４は、乾燥位置Ｐ５の上方（Ｚ軸プラス側）に位置している。受渡位置Ｐ４、乾燥位置Ｐ５及び洗浄位置Ｐ６は、上方から下方へ受渡位置Ｐ４、乾燥位置Ｐ５、洗浄位置Ｐ６の順に位置している。受渡位置Ｐ４、乾燥位置Ｐ５及び洗浄位置Ｐ６は、Ｚ軸に沿って一列に並んでいる。第１受渡位置Ｐ４ａ、第１乾燥位置Ｐ５ａ及び第１洗浄位置Ｐ６ａは、Ｚ軸に沿って一列に並んでいる。第２受渡位置Ｐ４ｂ、第２乾燥位置Ｐ５ｂ及び第２洗浄位置Ｐ６ｂは、Ｚ軸に沿って一列に並んでいる。

搬送機器３３０は、受渡位置Ｐ４、乾燥位置Ｐ５及び洗浄位置Ｐ６それぞれにプレート６０を搬送可能なように配置されている。前述したように、搬送機器３３０は、受渡位置Ｐ４と、乾燥位置Ｐ５と、洗浄位置Ｐ６との間でプレート６０を搬送する。一例として、搬送機器３３０は、プレート６０を、第１受渡位置Ｐ４ａから順次、第１乾燥位置Ｐ５ａ、第１洗浄位置Ｐ６ａ、第２洗浄位置Ｐ６ｂ及び第２乾燥位置Ｐ５ｂを経由して、第２受渡位置Ｐ４ｂまで搬送する。搬送機器３３０は、プレート支持部３３１を２つ有している。搬送機器３３０の駆動部３３２は、２つのプレート支持部３３１を独立に駆動することが可能に構成されている。搬送機器３３０は、２つのプレート支持部３３１により、２枚のプレート６０を並列で搬送することが可能である。

第１プレート６０−１、第２プレート６０−２及び第３プレート６０−３を例に挙げて説明する。

第１プレート６０−１は、第１プレート６０−１、第２プレート６０−２及び第３プレート６０−３のうち、洗浄機器３１０による洗浄処理が最も早く行われるプレートである。第１プレート６０−１は、第１プレート６０−１、第２プレート６０−２及び第３プレート６０−３のうち、乾燥機器３２０による乾燥処理が最も早く行われるプレートである。第１プレート６０−１は、第１プレート６０−１、第２プレート６０−２及び第３プレート６０−３のうち、洗浄機器３１０による洗浄処理及び乾燥機器３２０による乾燥処理が最も早く行われるプレートである。第１プレート６０−１は、洗浄機器３１０による洗浄処理及び乾燥機器３２０による乾燥処理が時間的に一番初めに行われるプレートである。

第２プレート６０−２は、洗浄機器３１０による洗浄処理が第１プレート６０−１の後に行われるプレートである。第２プレート６０−２は、乾燥機器３２０による乾燥処理が第１プレート６０−１の後に行われるプレートである。第２プレート６０−２は、洗浄機器３１０による洗浄処理及び乾燥機器３２０による乾燥処理が第１プレート６０−１の後に行われるプレートである。

第３プレート６０−３は、洗浄機器３１０による洗浄処理が第２プレート６０−２の後に行われるプレートである。第３プレート６０−３は、乾燥機器３２０による乾燥処理が第２プレート６０−２の後に行われるプレートである。第３プレート６０−３は、洗浄機器３１０による洗浄処理及び乾燥機器３２０による乾燥処理が第２プレート６０−２の後に行われるプレートである。

図６（ｂ）は、第１プレート６０−１が第１受渡位置Ｐ４ａにある状態を示している。第１プレート６０−１は、分注後に搬送装置５０から洗浄・乾燥装置３０の搬送機器３３０へ受け渡される時に、第１受渡位置Ｐ４ａに位置する。第１受渡位置Ｐ４ａにおいて、第１プレート６０−１は、例えば直立状態に支持される。

図６（ｃ）は、第１プレート６０−１が第１乾燥位置Ｐ５ａにある状態を示している。第１プレート６０−１は、搬送機器３３０によって第１受渡位置Ｐ４ａから第１洗浄位置Ｐ６ａへ搬送されていく途中に、第１乾燥位置Ｐ５ａに位置する。第１乾燥位置Ｐ５ａにおいて、第１プレート６０−１は、例えば直立状態に支持される。

図６（ｄ）は、第１プレート６０−１が第１洗浄位置Ｐ６ａにある状態を示している。第１プレート６０−１は、洗浄機器３１０において洗浄を施されている間に、第１洗浄位置Ｐ６ａに位置する。第１洗浄位置Ｐ６ａにおいて、第１プレート６０−１は、例えば直立状態に支持される。

図６（ｅ）は、第１プレート６０−１が第２洗浄位置Ｐ６ｂにあり、第２プレート６０−２が第１受渡位置Ｐ４ａにある状態を示している。第１プレート６０−１は、洗浄後に搬送機器３３０によって第１洗浄位置Ｐ６ａから搬送されて、第２洗浄位置Ｐ６ｂに位置する。第２洗浄位置Ｐ６ｂにおいて、第１プレート６０−１は、例えば直立状態に支持される。第２プレート６０−２は、分注後に搬送装置５０から洗浄・乾燥装置３０の搬送機器３３０へ受け渡される時に、第１受渡位置Ｐ４ａに位置する。第１受渡位置Ｐ４ａにおいて、第２プレート６０−２は、例えば直立状態に支持される。

図６（ｆ）は、第１プレート６０−１が第２乾燥位置Ｐ５ｂにあり、第２プレート６０−２が第１乾燥位置Ｐ５ａにある状態を示している。第２プレート６０−２は、搬送機器３３０によって第１受渡位置Ｐ４ａから第１洗浄位置Ｐ６ａへ搬送されていく途中に、第１乾燥位置Ｐ５ａに位置する。第２プレート６０−２が第１乾燥位置Ｐ５ａに位置する際、第１プレート６０−１は、第２乾燥位置Ｐ５ｂに位置する。第２乾燥位置Ｐ５ｂにおいて、第１プレート６０−１は、例えば直立状態に支持される。第１乾燥位置Ｐ５ａにおいて、第２プレート６０−２は、例えば直立状態に支持される。

図６（ｇ）は、第１プレート６０−１が第２乾燥位置Ｐ５ｂにあり、第２プレート６０−２が第１洗浄位置Ｐ６ａにある状態を示している。第１プレート６０−１は、乾燥機器３２０において乾燥を施されている間に、第２乾燥位置Ｐ５ｂに位置する。第２乾燥位置Ｐ５ｂにおいて、第１プレート６０−１は、例えば直立状態に支持される。第２プレート６０−２は、洗浄機器３１０において洗浄を施されている間に、第１洗浄位置Ｐ６ａに位置する。第１洗浄位置Ｐ６ａにおいて、第２プレート６０−２は、例えば直立状態に支持される。

図６（ｈ）は、第１プレート６０−１が第２受渡位置Ｐ４ｂにあり、第２プレート６０−２が第２洗浄位置Ｐ６ｂにあり、第３プレート６０−３が第１受渡位置Ｐ４ａにある状態を示している。第１プレート６０−１は、洗浄・乾燥後に洗浄・乾燥装置３０の搬送機器３３０から搬送装置５０へ受け渡される時に、第２受渡位置Ｐ４ｂに位置する。第２受渡位置Ｐ４ｂにおいて、プレート６０は、例えば直立状態に支持される。第２プレート６０−２は、洗浄後に搬送機器３３０によって第１洗浄位置Ｐ６ａから搬送されて、第２洗浄位置Ｐ６ｂに位置する。第２洗浄位置Ｐ６ｂにおいて、第２プレート６０−２は、例えば直立状態に支持される。第３プレート６０−３は、分注後に搬送装置５０から洗浄・乾燥装置３０の搬送機器３３０へ受け渡される時に、第１受渡位置Ｐ４ａに位置する。第１受渡位置Ｐ４ａにおいて、第３プレート６０−３は、例えば直立状態に支持される。

制御機器３４０は、第１プレート６０−１が分注後に搬送装置５０から洗浄・乾燥装置３０の搬送機器３３０へ受け渡されて、図６（ｂ）の第１受渡位置Ｐ４ａにある状態において洗浄処理及び乾燥処理に関する制御を開始する。

まず、制御機器３４０は、第１プレート６０−１を下方に搬送するよう搬送機器３３０を制御する。一例として、制御機器３４０は、第１受渡位置Ｐ４ａにある第１プレート６０−１を、第１受渡位置Ｐ４ａから第１乾燥位置Ｐ５ａを経由して第１洗浄位置Ｐ６ａまで搬送するよう搬送機器３３０を制御する。一例として、制御機器３４０は、第１受渡位置Ｐ４ａにある第１プレート６０−１を、第１受渡位置Ｐ４ａから第１乾燥位置Ｐ５ａで停止することなく第１洗浄位置Ｐ６ａまで搬送するよう搬送機器３３０を制御する。また、制御機器３４０は、第１プレート６０−１が第１乾燥位置Ｐ５ａを通過する際に乾燥機器３２０が乾燥動作を行わないよう乾燥機器３２０を制御する。制御機器３４０の制御に応じて、搬送機器３３０は、第１プレート６０−１を第１受渡位置Ｐ４ａから第１乾燥位置Ｐ５ａを経由して第１洗浄位置Ｐ６ａまで搬送する。制御機器３４０の制御に応じて、乾燥機器３２０は、搬送機器３３０により第１プレート６０−１が第１受渡位置Ｐ４ａから第１乾燥位置Ｐ５ａを経由して第１洗浄位置Ｐ６ａまで搬送する間において乾燥動作の停止状態を維持する。これにより、第１プレート６０−１は、搬送機器３３０によって、第１受渡位置Ｐ４ａから第１乾燥位置Ｐ５ａを経由して第１洗浄位置Ｐ６ａまで搬送される。第１プレート６０−１は、例えば直立状態に支持されたまま、第１受渡位置Ｐ４ａから第１乾燥位置Ｐ５ａを経由して第１洗浄位置Ｐ６ａまで搬送される。乾燥機器３２０は、第１プレート６０−１が乾燥機器３２０を通過するときに第１プレート６０−１に対する乾燥処理を行わない。乾燥機器３２０は、第１プレート６０−１が第１乾燥位置Ｐ５ａを通過するときに第１プレート６０−１に対する乾燥処理を行わない。こうして、第１プレート６０−１の位置は、図６（ｂ）に示された第１受渡位置Ｐ４ａにある状態から、図６（ｃ）に示された第１乾燥位置Ｐ５ａにある状態を経由して、図６（ｄ）に示された第１洗浄位置Ｐ６ａにある状態へと遷移する。

次に、制御機器３４０は、第１プレート６０−１を洗浄するよう洗浄機器３１０を制御する。また、制御機器３４０は、洗浄機器３１０の洗浄動作中に第１プレート６０−１を第１洗浄位置Ｐ６ａに停止させておくよう搬送機器３３０を制御する。制御機器３４０の制御に応じて、搬送機器３３０は、第１プレート６０−１を第１洗浄位置Ｐ６ａに保持し、洗浄機器３１０は、第１プレート６０−１を洗浄する。これにより、第１プレート６０−１は、第１洗浄位置Ｐ６ａにおいて洗浄機器３１０によって洗浄される。第１プレート６０−１は、例えば直立状態に支持されたまま、第１洗浄位置Ｐ６ａにおいて洗浄機器３１０によって洗浄される。この時点において、第１プレート６０−１の位置は、図６（ｄ）に示された第１洗浄位置Ｐ６ａにある状態を維持している。

次に、第１プレート６０−１の洗浄が完了すると、制御機器３４０は、第１プレート６０−１を第２方向に搬送するよう搬送機器３３０を制御する。一例として、制御機器３４０は、第１洗浄位置Ｐ６ａにある第１プレート６０−１を、第１洗浄位置Ｐ６ａから第２洗浄位置Ｐ６ｂまでプラスＸ軸方向に搬送するよう搬送機器３３０を制御する。制御機器３４０の制御に応じて、搬送機器３３０は、第１プレート６０−１を第１洗浄位置Ｐ６ａから第２洗浄位置Ｐ６ｂまでプラスＸ軸方向に搬送する。これにより、第１プレート６０−１は、搬送機器３３０によって、第１洗浄位置Ｐ６ａから第２洗浄位置Ｐ６ｂまでプラスＸ軸方向に搬送される。第１プレート６０−１は、例えば直立状態に支持されたまま、第１洗浄位置Ｐ６ａから第２洗浄位置Ｐ６ｂまでプラスＸ軸方向に搬送される。また、搬送機器３３０は、分注後の第２プレート６０−２を、第２受渡位置Ｐ４ａにおいて搬送装置５０から受け取る。こうして、第１プレート６０−１及び第２プレート６０−２の位置は、図６（ｅ）に示されるように、第１プレート６０−１が第２洗浄位置Ｐ６ｂにあり、第２プレート６０−２が第１受渡位置Ｐ４ａにある状態となる。

なお、洗浄機器３１０は、第２洗浄位置Ｐ６ｂへ搬送された第１プレート６０−１に対して洗浄処理を行うようにしてもよい。例えば、洗浄機器３１０は、第１洗浄位置Ｐ６ａにおいてのみ第１プレート６０−１に対して洗浄処理を行ってもよいし、第２洗浄位置Ｐ６ｂにおいてのみ第１プレート６０−１に対して洗浄処理をおこなってもよいし、第１洗浄位置Ｐ６ａと第２洗浄位置Ｐ６ｂの両方において第１プレート６０−１に対して洗浄処理を行ってもよい。第１洗浄位置Ｐ６ａと第２洗浄位置Ｐ６ｂの両方において第１プレート６０−１に対して洗浄処理を行う場合、第１プレート６０−１が第１洗浄位置Ｐ６ａから第２洗浄位置Ｐ６ｂまで移動する間にも洗浄処理を行うようにしてもよい。

次に、制御機器３４０は、第１プレート６０−１を上方に搬送し、第２プレート６０−２を下方に搬送するよう搬送機器３３０を制御する。制御機器３４０は、第１プレート６０−１を上方に搬送するとともに第２プレート６０−２を下方に搬送するよう搬送機器３３０を制御する。一例として、制御機器３４０は、第２洗浄位置Ｐ６ｂにある第１プレート６０−１を第２洗浄位置Ｐ６ｂから第２乾燥位置Ｐ５ｂまで搬送するとともに、第１受渡位置Ｐ４ａにある第２プレート６０−２を第１受渡位置Ｐ４ａから第１洗浄位置Ｐ６ａまで搬送するよう、搬送機器３３０を制御する。制御機器３４０の制御に応じて、搬送機器３３０は、第１プレート６０−１を第２洗浄位置Ｐ６ｂから第２乾燥位置Ｐ５ｂまで搬送する。これにより、第１プレート６０−１は、搬送機器３３０によって、第２洗浄位置Ｐ６ｂから第２乾燥位置Ｐ５ｂまで搬送される。第１プレート６０−１は、例えば直立状態に支持されたまま、第２洗浄位置Ｐ６ｂから第２乾燥位置Ｐ５ｂまで搬送される。

また、制御機器３４０の制御に応じて、搬送機器３３０は、第２プレート６０−２を第１受渡位置Ｐ４ａから第１洗浄位置Ｐ６ａまで搬送する。第１プレート６０−１が第２乾燥位置Ｐ５ｂまで搬送された時点において、第２プレート６０−２は、図６（ｆ）に示されるように、目的地である第１洗浄位置Ｐ６ａまでの行程の途中の、第１乾燥位置Ｐ５ａにある。言い換えると、第２プレート６０−２が目的地の第１洗浄位置Ｐ６ａに到達する前に、第１プレート６０−１は目的地の第２乾燥位置Ｐ５ｂに到達している。制御機器３４０は、第２プレート６０−２が第１乾燥位置Ｐ５ａを通過する際に乾燥機器３２０が乾燥動作を行わないよう、乾燥機器３２０を制御する。制御機器３４０の制御に応じて、乾燥機器３２０は、乾燥動作の停止状態を維持する。これにより、既に第１プレート６０−１は目的地である第２乾燥位置Ｐ５ｂに到達しているが、第２プレート６０−２が第１乾燥位置Ｐ５ａを通過する際に、乾燥機器３２０の乾燥動作は行われない。すなわち、第１プレート６０−１の乾燥は、一時的に待機される。第２プレート６０−２は、搬送機器３３０によって更に下方に搬送され、図６（ｇ）に示されるように、最終的に第１洗浄位置Ｐ６ａに到達する。第２プレート６０−２は、例えば直立状態に支持されたまま、第１受渡位置Ｐ４ａから第１洗浄位置Ｐ６ａまで搬送される。なお、第２プレート６０−２が第１洗浄位置Ｐ６ａに到達する前に、既に第２乾燥位置Ｐ５ｂに到達している第１プレート６０−１に対する乾燥処理を開始するようにしてもよい。例えば、第２プレート６０−２が第１乾燥位置Ｐ５ａを完全に通過し終えた後であって第１洗浄位置Ｐ６ａに到達する前に、制御機器３４０が、乾燥機器３２０に対して、第１プレート６０−１を乾燥する制御を開始するようにしてもよい。

こうして、第１プレート６０−１及び第２プレート６０−２の位置は、図６（ｅ）に示された状態から、図６（ｆ）に示された状態を経由して、図６（ｇ）に示された状態へと遷移する。

次に、制御機器３４０は、第１プレート６０−１を乾燥するよう乾燥機器３２０を制御するとともに第２プレート６０−２を洗浄するよう洗浄機器３１０を制御する。また、制御機器３４０は、乾燥機器３２０の乾燥動作中に第１プレート６０−１を第２乾燥位置Ｐ５ｂに停止させ、洗浄機器３１０の洗浄動作中に第２プレート６０−２を第１洗浄位置Ｐ６ａに停止させておくよう、搬送機器３３０を制御する。制御機器３４０の制御に応じて、搬送機器３３０は、第１プレート６０−１を第２乾燥位置Ｐ５ｂに保持し、乾燥機器３２０は、第１プレート６０−１を乾燥する。これにより、第１プレート６０−１は、第２乾燥位置Ｐ５ｂにおいて乾燥機器３２０によって乾燥される。第１プレート６０−１は、例えば直立状態に支持されたまま、第２乾燥位置Ｐ５ｂにおいて乾燥機器３２０によって乾燥される。また、制御機器３４０の制御に応じて、搬送機器３３０は、第２プレート６０−２を第１洗浄位置Ｐ６ａに保持し、洗浄機器３１０は、第２プレート６０−２を洗浄する。これにより、第２プレート６０−２は、第１洗浄位置Ｐ６ａにおいて洗浄機器３１０によって洗浄される。第２プレート６０−２は、例えば直立状態に支持されたまま、第１洗浄位置Ｐ６ａにおいて洗浄機器３１０によって洗浄される。この時点において、第１プレート６０−１及び第２プレート６０−２の位置は、図６（ｇ）に示された状態を維持している。

次に、第１プレート６０−１の乾燥及び第２プレート６０−２の洗浄が完了すると、制御機器３４０は、第１プレート６０−１を上方に搬送するとともに第２プレート６０−２をプラスＸ軸方向に搬送するよう搬送機器３３０を制御する。一例として、制御機器３４０は、第２乾燥位置Ｐ５ｂにある第１プレート６０−１を第２乾燥位置Ｐ５ｂから第２受渡位置Ｐ４ｂまで上方に搬送するとともに、第１洗浄位置Ｐ６ａにある第２プレート６０−２を第１洗浄位置Ｐ６ａから第２洗浄位置Ｐ６ｂまでプラスＸ軸方向に搬送するよう、搬送機器３３０を制御する。制御機器３４０の制御に応じて、搬送機器３３０は、第１プレート６０−１を第２乾燥位置Ｐ５ｂから第２受渡位置Ｐ４ｂまで搬送する。これにより、第１プレート６０−１は、搬送機器３３０によって、第２乾燥位置Ｐ５ｂから第２受渡位置Ｐ４ｂまで搬送される。第１プレート６０−１は、例えば直立状態に支持されたまま、第２乾燥位置Ｐ５ｂから第２受渡位置Ｐ４ｂまで搬送される。また、制御機器３４０の制御に応じて、搬送機器３３０は、第２プレート６０−２を第１洗浄位置Ｐ６ａから第２洗浄位置Ｐ６ｂまでプラスＸ軸方向に搬送する。これにより、第２プレート６０−２は、搬送機器３３０によって、第１洗浄位置Ｐ６ａから第２洗浄位置Ｐ６ｂまでプラスＸ軸方向に搬送される。第２プレート６０−２は、例えば直立状態に支持されたまま、第１洗浄位置Ｐ６ａから第２洗浄位置Ｐ６ｂまでプラスＸ軸方向に搬送される。また、搬送機器３３０は、分注後の第３プレート６０−３を、第１受渡位置Ｐ４ａにおいて搬送装置５０から受け取る。こうして、第１プレート６０−１、第２プレート６０−２及び第３プレート６０−３の位置は、図６（ｈ）に示された状態となる。

洗浄・乾燥されて第２受渡位置Ｐ４ｂへ搬送された第１プレート６０−１は、搬送装置５０に受け取られて、検出装置４０へ搬送される。以降、第２プレート６０−２及び第３プレート６０−３に対して、第１プレート６０−１及び第２プレート６０−２と同様の動作が行われる。

図７は、制御機器３４０による洗浄機器３１０、乾燥機器３２０及び搬送機器３３０に対する制御の第２変形例を説明するための図である。

図７（ａ）は、洗浄機器３１０と、乾燥機器３２０と、搬送機器３３０と、受渡位置Ｐ４と、乾燥位置Ｐ５と、洗浄位置Ｐ６とのそれぞれの位置関係を示している。

洗浄機器３１０は、乾燥機器３２０の下方（Ｚ軸マイナス側）に位置している。洗浄機器３１０は、その内部に洗浄位置Ｐ６を含んでいる。前述したように、洗浄位置Ｐ６は、第１の洗浄液ノズル３１２ａから第２４の洗浄液ノズル３１２ｘと、第２５の洗浄液ノズル３１２ｙから第４２の洗浄液ノズル３１２Ｐとの間の空間である。洗浄位置Ｐ６は、第１洗浄位置Ｐ６ａと、第２洗浄位置Ｐ６ｂとを含む。第１洗浄位置Ｐ６ａは、洗浄位置Ｐ６のうちＸ軸マイナス側の空間である。第２洗浄位置Ｐ６ｂは、洗浄位置Ｐ６のうちＸ軸プラス側の空間である。第１洗浄位置Ｐ６ａは、第１搬送ラインにおいてプレート６０が洗浄される位置である。第２洗浄位置Ｐ６ｂは、第２搬送ラインにおいてプレート６０が洗浄される位置である。

乾燥機器３２０は、その内部に乾燥位置Ｐ５を含んでいる。前述したように、乾燥位置Ｐ５は、第１の送風口３２２ａ及び第２の送風口３２２ｂと、第３の送風口３２２ｃ及び第４の送風口３２２ｄとの間の空間である。乾燥位置Ｐ５は、第１乾燥位置Ｐ５ａと、第２乾燥位置Ｐ５ｂとを含む。第１乾燥位置Ｐ５ａは、乾燥位置Ｐ５のうちＸ軸マイナス側の空間である。第２乾燥位置Ｐ５ｂは、乾燥位置Ｐ５のうちＸ軸プラス側の空間である。第１乾燥位置Ｐ５ａは、第１搬送ラインにおいてプレート６０が乾燥される位置である。第２乾燥位置Ｐ５ｂは、第２搬送ラインにおいてプレート６０が乾燥される位置である。

受渡位置Ｐ４は、搬送装置５０が洗浄・乾燥装置３０の搬送機器３３０との間でプレート６０の受け渡しと受け取りを行う位置である。受渡位置Ｐ４は、第１受渡位置Ｐ４ａと、第２受渡位置Ｐ４ｂとを含む。第１受渡位置Ｐ４ａは、受渡位置Ｐ４のうちＸ軸マイナス側の空間である。第２受渡位置Ｐ４ｂは、受渡位置Ｐ４のうちＸ軸プラス側の空間である。第１受渡位置Ｐ４ａは、第１搬送ラインにおいて搬送装置５０がプレート６０の受け渡しと受け取りを行う位置である。第２受渡位置Ｐ４ｂは、第２搬送ラインにおいて搬送装置５０がプレート６０の受け渡しと受け取りを行う位置である。

洗浄位置Ｐ６は、乾燥位置Ｐ５の下方（Ｚ軸マイナス側）に位置している。受渡位置Ｐ４は、乾燥位置Ｐ５の上方（Ｚ軸プラス側）に位置している。第１搬送ラインにおいて、第１受渡位置Ｐ４ａ、第１乾燥位置Ｐ５ａ及び第１洗浄位置Ｐ６ａは、上方から下方へ第１受渡位置Ｐ４ａ、第１乾燥位置Ｐ５ａ、第１洗浄位置Ｐ６ａの順に位置している。第１受渡位置Ｐ４ａ、第１乾燥位置Ｐ５ａ及び第１洗浄位置Ｐ６ａは、Ｚ軸に沿って一列に並んでいる。第２搬送ラインにおいて、第２受渡位置Ｐ４ｂ、第２乾燥位置Ｐ５ｂ及び第２洗浄位置Ｐ６ｂは、上方から下方へ第２受渡位置Ｐ４ｂ、第２乾燥位置Ｐ５ｂ、第２洗浄位置Ｐ６ｂの順に位置している。第２受渡位置Ｐ４ｂ、第２乾燥位置Ｐ５ｂ及び第２洗浄位置Ｐ６ｂは、Ｚ軸に沿って一列に並んでいる。

搬送機器３３０は、受渡位置Ｐ４、乾燥位置Ｐ５及び洗浄位置Ｐ６を含むように配置されている。前述したように、搬送機器３３０は、受渡位置Ｐ４と、乾燥位置Ｐ５と、洗浄位置Ｐ６との間でプレート６０を搬送する。より詳しくは、搬送機器３３０は、第１搬送ラインにおいて、プレート６０を、第１受渡位置Ｐ４ａと、第１乾燥位置Ｐ５ａと、第１洗浄位置Ｐ６ａとの間で搬送する。また、搬送機器３３０は、第２搬送ラインにおいて、プレート６０を、第２受渡位置Ｐ４ｂと、第２乾燥位置Ｐ５ｂと、第２洗浄位置Ｐ６ｂとの間で搬送する。搬送機器３３０は、第１搬送ラインと第２搬送ラインにおいて、プレート支持部３３１をそれぞれ１つ有している。搬送機器３３０の駆動部３３２は、２つのプレート支持部３３１を独立に駆動することが可能に構成されている。搬送機器３３０は、第１搬送ラインと第２搬送ラインの２つのプレート支持部３３１により、２枚のプレート６０を同時に搬送することが可能である。

図７（ｂ）は、第１搬送ラインにおいて第１プレート６０−１が第１乾燥位置Ｐ５ａにあり、第２搬送ラインにおいて第２プレート６０−２が第２洗浄位置Ｐ６ｂにある状態を示している。第１プレート６０−１は、乾燥機器３２０において乾燥を施されている間に、第１乾燥位置Ｐ５ａに位置する。第１乾燥位置Ｐ５ａにおいて、第１プレート６０−１は、例えば直立状態に支持される。第２プレート６０−２は、洗浄機器３１０において洗浄を施されている間に、第２洗浄位置Ｐ６ｂに位置する。第２洗浄位置Ｐ６ｂにおいて、第２プレート６０−２は、例えば直立状態に支持される。

図７（ｃ）は、第１搬送ラインにおいて第１プレート６０−１が第１受渡位置Ｐ４ａにあり、第２搬送ラインにおいて第２プレート６０−２が第２乾燥位置Ｐ５ｂにある状態を示している。第１プレート６０−１は、乾燥後に搬送機器３３０によって第１乾燥位置Ｐ５ａから搬送されて、第１受渡位置Ｐ４ａに位置する。第１受渡位置Ｐ４ａにおいて、第１プレート６０−１は、例えば直立状態に支持される。第２プレート６０−２は、洗浄後に搬送機器３３０によって第２洗浄位置Ｐ６ｂから搬送されて、第２乾燥位置Ｐ５ｂに位置する。第２乾燥位置Ｐ５ｂにおいて、第２プレート６０−２は、例えば直立状態に支持される。

図７（ｄ）は、第１搬送ラインにおいて第３プレート６０−３が第１受渡位置Ｐ４ａにあり、第２搬送ラインにおいて第２プレート６０−２が第２乾燥位置Ｐ５ｂにある状態を示している。第３プレート６０−３は、分注後に搬送装置５０から洗浄・乾燥装置３０の搬送機器３３０へ受け渡される時に、第１受渡位置Ｐ４ａに位置する。第１受渡位置Ｐ４ａにおいて、第３プレート６０−３は、例えば直立状態に支持される。第３プレート６０−３が第１受渡位置Ｐ４ａに位置する際、第２プレート６０−２は、第２乾燥位置Ｐ５ｂに位置する。

図７（ｅ）は、第１搬送ラインにおいて第３プレート６０−３が第１洗浄位置Ｐ６ａにあり、第２搬送ラインにおいて第２プレート６０−２が第２乾燥位置Ｐ５ｂにある状態を示している。第３プレート６０−３は、洗浄機器３１０において洗浄を施されている間に、第１洗浄位置Ｐ６ａに位置する。第１洗浄位置Ｐ６ａにおいて、第３プレート６０−３は、例えば直立状態に支持される。第２プレート６０−２は、乾燥機器３２０において乾燥を施されている間に、第２乾燥位置Ｐ５ｂに位置する。

図７（ｆ）は、第１搬送ラインにおいて第３プレート６０−３が第１乾燥位置Ｐ５ａにあり、第２搬送ラインにおいて第２プレート６０−２が第２受渡位置Ｐ４ｂにある状態を示している。第３プレート６０−３は、洗浄後に搬送機器３３０によって第１洗浄位置Ｐ６ａから搬送されて、第１乾燥位置Ｐ５ａに位置する。第１乾燥位置Ｐ５ａにおいて、第３プレート６０−３は、例えば直立状態に支持される。第２プレート６０−２は、乾燥後に搬送機器３３０によって第２乾燥位置Ｐ５ｂから搬送されて、第２受渡位置Ｐ４ｂに位置する。第２受渡位置Ｐ４ｂにおいて、第２プレート６０−２は、例えば直立状態に支持される。

図７（ｇ）は、第１搬送ラインにおいて第３プレート６０−３が第１乾燥位置Ｐ５ａにあり、第２搬送ラインにおいて第４プレート６０−４が第２受渡位置Ｐ４ｂにある状態を示している。第４プレート６０−４は、分注後に搬送装置５０から洗浄・乾燥装置３０の搬送機器３３０へ受け渡される時に、第２受渡位置Ｐ４ｂに位置する。第２受渡位置Ｐ４ｂにおいて、第４プレート６０−４は、例えば直立状態に支持される。第４プレート６０−４が第２受渡位置Ｐ４ｂに位置する際、第３プレート６０−３は、第１乾燥位置Ｐ５ａに位置する。

図７（ｈ）は、第１搬送ラインにおいて第３プレート６０−３が第１乾燥位置Ｐ５ａにあり、第２搬送ラインにおいて第４プレート６０−４が第２洗浄位置Ｐ６ｂにある状態を示している。第３プレート６０−３は、乾燥機器３２０において乾燥を施されている間に、第１乾燥位置Ｐ５ａに位置する。第４プレート６０−４は、洗浄機器３１０において洗浄を施されている間に、第２洗浄位置Ｐ６ｂに位置する。第２洗浄位置Ｐ６ｂにおいて、第４プレート６０−４は、例えば直立状態に支持される。

制御機器３４０は、図７（ｂ）に示された状態と図７（ｈ）に示された状態との間で制御を繰り返す。便宜上、図７（ｂ）に示された状態から、制御機器３４０の制御を説明する。

まず、制御機器３４０は、第１乾燥位置Ｐ５ａにある第１プレート６０−１を乾燥するよう乾燥機器３２０を制御する。また、制御機器３４０は、乾燥機器３２０の乾燥動作中に第１プレート６０−１を第１乾燥位置Ｐ５ａに停止させておくよう搬送機器３３０を制御する。制御機器３４０の制御に応じて、搬送機器３３０は、第１プレート６０−１を第１乾燥位置Ｐ５ａに保持し、乾燥機器３２０は、第１プレート６０−１を乾燥する。これにより、第１プレート６０−１は、第１乾燥位置Ｐ５ａにおいて乾燥機器３２０によって乾燥される。第１プレート６０−１は、例えば直立状態に支持されたまま、第１乾燥位置Ｐ５ａにおいて乾燥機器３２０によって乾燥される。さらに、制御機器３４０は、第２洗浄位置Ｐ６ｂにある第２プレート６０−２を洗浄するよう洗浄機器３１０を制御する。また、制御機器３４０は、洗浄機器３１０の洗浄動作中に第２プレート６０−２を第２洗浄位置Ｐ６ｂに停止させておくよう搬送機器３３０を制御する。制御機器３４０の制御に応じて、搬送機器３３０は、第２プレート６０−２を第２洗浄位置Ｐ６ｂに保持し、洗浄機器３１０は、第２プレート６０−２を洗浄する。これにより、第２プレート６０−２は、第２洗浄位置Ｐ６ｂにおいて洗浄機器３１０によって洗浄される。第２プレート６０−２は、例えば直立状態に支持されたまま、第２洗浄位置Ｐ６ｂにおいて洗浄機器３１０によって洗浄される。この時点において、第１プレート６０−１及び第２プレート６０−２の位置は、図７（ｂ）に示された状態となっている。

次に、第１プレート６０−１の乾燥及び第２プレート６０−２の洗浄が完了すると、制御機器３４０は、第１プレート６０−１を上方に搬送し、第２プレート６０−２を上方に搬送するよう搬送機器３３０を制御する。一例として、制御機器３４０は、第１乾燥位置Ｐ５ａにある第１プレート６０−１を、第１乾燥位置Ｐ５ａから第１受渡位置Ｐ４ａまで上方に搬送するとともに、第２洗浄位置Ｐ６ｂにある第２プレート６０−２を、第２洗浄位置Ｐ６ｂから第２乾燥位置Ｐ５ｂまで上方に搬送するよう、搬送機器３３０を制御する。制御機器３４０の制御に応じて、搬送機器３３０は、第１プレート６０−１を第１乾燥位置Ｐ５ａから第１受渡位置Ｐ４ａまで搬送する。これにより、第１プレート６０−１は、搬送機器３３０によって、第１乾燥位置Ｐ５ａから第１受渡位置Ｐ４ａまで搬送される。第１プレート６０−１は、例えば直立状態に支持されたまま、第１乾燥位置Ｐ５ａから第１受渡位置Ｐ４ａまで搬送される。また、制御機器３４０の制御に応じて、搬送機器３３０は、第２プレート６０−２を第２洗浄位置Ｐ６ｂから第２乾燥位置Ｐ５ｂまで搬送する。これにより、第２プレート６０−２は、搬送機器３３０によって、第２洗浄位置Ｐ６ｂから第２乾燥位置Ｐ５ｂまで搬送される。第２プレート６０−２は、例えば直立状態に支持されたまま、第２洗浄位置Ｐ６ｂから第２乾燥位置Ｐ５ｂまで搬送される。こうして、第１プレート６０−１及び第２プレート６０−２の位置は、図７（ｃ）に示された状態に遷移する。

次に、第１受渡位置Ｐ４ａへ搬送された第１プレート６０−１は、搬送装置５０に受け取られて、検出装置４０へ搬送される。また、第１プレート６０−１が搬送装置５０に受け取られた後、搬送機器３３０は、分注後の第３プレート６０−３を、第１受渡位置Ｐ４ａにおいて搬送装置５０から受け取る。これにより、第２プレート６０−２及び第３プレート６０−３の位置は、図７（ｄ）に示された状態となる。

次に、制御機器３４０は、第３プレート６０−３を下方に搬送するよう搬送機器３３０を制御する。一例として、制御機器３４０は、第１受渡位置Ｐ４ａにある第３プレート６０−３を、第１受渡位置Ｐ４ａから第１乾燥位置Ｐ５ａを経由して第１洗浄位置Ｐ６ａまで搬送するよう搬送機器３３０を制御する。また、制御機器３４０は、第３プレート６０−３が第１乾燥位置Ｐ５ａを通過する際に乾燥機器３２０が乾燥動作を行わないよう乾燥機器３２０を制御する。制御機器３４０の制御に応じて、搬送機器３３０は、第３プレート６０−３を第１受渡位置Ｐ４ａから第１乾燥位置Ｐ５ａを経由して第１洗浄位置Ｐ６ａまで搬送し、乾燥機器３２０は、乾燥動作の停止状態を維持する。これにより、第３プレート６０−３は、搬送機器３３０によって、第１受渡位置Ｐ４ａから第１乾燥位置Ｐ５ａを経由して第１洗浄位置Ｐ６ａまで搬送される。第３プレート６０−３は、例えば直立状態に支持されたまま、第１受渡位置Ｐ４ａから第１乾燥位置Ｐ５ａを経由して第１洗浄位置Ｐ６ａまで搬送される。第１乾燥位置Ｐ５ａを通過する際に、第２プレート６０−２及び第３プレート６０−３の乾燥は行われない。こうして、第２プレート６０−２及び第３プレート６０−３の位置は、図７（ｅ）に示された状態に遷移する。

次に、制御機器３４０は、第２プレート６０−２を乾燥するよう乾燥機器３２０を制御する。また、制御機器３４０は、乾燥機器３２０の乾燥動作中に第２プレート６０−２を第２乾燥位置Ｐ５ｂに停止させておくよう搬送機器３３０を制御する。制御機器３４０の制御に応じて、搬送機器３３０は、第２プレート６０−２を第２乾燥位置Ｐ５ｂに保持し、乾燥機器３２０は、第２プレート６０−２を乾燥する。これにより、第２プレート６０−２は、第２乾燥位置Ｐ５ｂにおいて乾燥機器３２０によって乾燥される。第２プレート６０−２は、例えば直立状態に支持されたまま、第２乾燥位置Ｐ５ｂにおいて乾燥機器３２０によって乾燥される。さらに、制御機器３４０は、第３プレート６０−３を洗浄するよう洗浄機器３１０を制御する。また、制御機器３４０は、洗浄機器３１０の洗浄動作中に第３プレート６０−３を第１洗浄位置Ｐ６ａに停止させておくよう搬送機器３３０を制御する。制御機器３４０の制御に応じて、搬送機器３３０は、第３プレート６０−３を第１洗浄位置Ｐ６ａに保持し、洗浄機器３１０は、第３プレート６０−３を洗浄する。これにより、第３プレート６０−３は、第１洗浄位置Ｐ６ａにおいて洗浄機器３１０によって洗浄される。第３プレート６０−３は、例えば直立状態に支持されたまま、第１洗浄位置Ｐ６ａにおいて洗浄機器３１０によって洗浄される。この時点において、第２プレート６０−２及び第３プレート６０−３の位置は、図７（ｅ）に示された状態を維持している。

次に、第２プレート６０−２の乾燥及び第３プレート６０−３の洗浄が完了すると、制御機器３４０は、第２プレート６０−２を上方に搬送し、第３プレート６０−３を上方に搬送するよう搬送機器３３０を制御する。一例として、制御機器３４０は、第２乾燥位置Ｐ５ｂにある第２プレート６０−２を、第２乾燥位置Ｐ５ｂから第２受渡位置Ｐ４ｂまで上方に搬送するとともに、第１洗浄位置Ｐ６ａにある第３プレート６０−３を、第１洗浄位置Ｐ６ａから第１乾燥位置Ｐ５ａまで上方に搬送するよう、搬送機器３３０を制御する。制御機器３４０の制御に応じて、搬送機器３３０は、第２プレート６０−２を第２乾燥位置Ｐ５ｂから第２受渡位置Ｐ４ｂまで搬送する。これにより、第２プレート６０−２は、搬送機器３３０によって、第２乾燥位置Ｐ５ｂから第２受渡位置Ｐ４ｂまで搬送される。第２プレート６０−２は、例えば直立状態に支持されたまま、第２乾燥位置Ｐ５ｂから第２受渡位置Ｐ４ｂまで搬送される。また、制御機器３４０の制御に応じて、搬送機器３３０は、第３プレート６０−３を第１洗浄位置Ｐ６ａから第１乾燥位置Ｐ５ａまで搬送する。これにより、第３プレート６０−３は、搬送機器３３０によって、第１洗浄位置Ｐ６ａから第１乾燥位置Ｐ５ａまで搬送される。第３プレート６０−３は、例えば直立状態に支持されたまま、第１洗浄位置Ｐ６ａから第１乾燥位置Ｐ５ａまで搬送される。こうして、第２プレート６０−２及び第３プレート６０−３の位置は、図７（ｆ）に示された状態に遷移する。

次に、第２受渡位置Ｐ４ｂへ搬送された第２プレート６０−２は、搬送装置５０に受け取られて、検出装置４０へ搬送される。また、第２プレート６０−２が搬送装置５０に受け取られた後、搬送機器３３０は、分注後の第４プレート６０−４を、第２受渡位置Ｐ４ｂにおいて搬送装置５０から受け取る。これにより、第３プレート６０−３及び第４プレート６０−４の位置は、図７（ｇ）に示された状態となる。

次に、制御機器３４０は、第４プレート６０−４を下方に搬送するよう搬送機器３３０を制御する。一例として、制御機器３４０は、第２受渡位置Ｐ４ｂにある第４プレート６０−４を、第２受渡位置Ｐ４ｂから第２乾燥位置Ｐ５ｂを経由して第２洗浄位置Ｐ６ｂまで搬送するよう搬送機器３３０を制御する。また、制御機器３４０は、第４プレート６０−４が第２乾燥位置Ｐ５ｂを通過する際に乾燥機器３２０が乾燥動作を行わないよう乾燥機器３２０を制御する。制御機器３４０の制御に応じて、搬送機器３３０は、第４プレート６０−４を第２受渡位置Ｐ４ｂから第２乾燥位置Ｐ５ｂを経由して第２洗浄位置Ｐ６ｂまで搬送し、乾燥機器３２０は、乾燥動作の停止状態を維持する。これにより、第４プレート６０−４は、搬送機器３３０によって、第２受渡位置Ｐ４ｂから第２乾燥位置Ｐ５ｂを経由して第２洗浄位置Ｐ６ｂまで搬送される。第４プレート６０−４は、例えば直立状態に支持されたまま、第２受渡位置Ｐ４ｂから第２乾燥位置Ｐ５ｂを経由して第２洗浄位置Ｐ６ｂまで搬送される。第２乾燥位置Ｐ５ｂを通過する際に、第３プレート６０−３及び第４プレート６０−４の乾燥は行われない。こうして、第３プレート６０−３及び第４プレート６０−４の位置は、図７（ｈ）に示された状態に遷移する。

以降、第３プレート６０−３及び第４プレート６０−４に対して、第１プレート６０−１及び第２プレート６０−２と同様の動作が行われる。

図８は、制御機器３４０による洗浄機器３１０、乾燥機器３２０及び搬送機器３３０に対する制御の第３変形例を説明するための図である。

図８（ａ）は、洗浄機器３１０と、乾燥機器３２０と、搬送機器３３０と、受渡位置Ｐ４と、乾燥位置Ｐ５と、洗浄位置Ｐ６とのそれぞれの位置関係を示している。

洗浄位置Ｐ６は、受渡位置Ｐ４の下方（Ｚ軸マイナス側）に位置している。乾燥位置Ｐ５は、受渡位置Ｐ４の上方（Ｚ軸プラス側）に位置している。洗浄位置Ｐ６は、乾燥位置Ｐ５の下方（Ｚ軸マイナス側）に位置している。受渡位置Ｐ４、乾燥位置Ｐ５及び洗浄位置Ｐ６は、上方から下方へ乾燥位置Ｐ５、受渡位置Ｐ４、洗浄位置Ｐ６の順に位置している。受渡位置Ｐ４、乾燥位置Ｐ５及び洗浄位置Ｐ６は、Ｚ軸に沿って一列に並んでいる。

洗浄機器３１０は、その内部に洗浄位置Ｐ６を含んでいる。前述したように、洗浄位置Ｐ６は、第１の洗浄液ノズル３１２ａから第２４の洗浄液ノズル３１２ｘと、第２５の洗浄液ノズル３１２ｙから第４２の洗浄液ノズル３１２Ｐとの間の空間である。洗浄位置Ｐ６は、プレート６０が洗浄機器３１０内で洗浄される位置である。乾燥機器３２０は、その内部に乾燥位置Ｐ５を含んでいる。前述したように、乾燥位置Ｐ５は、第１の送風口３２２ａ及び第２の送風口３２２ｂと、第３の送風口３２２ｃ及び第４の送風口３２２ｄとの間の空間である。乾燥位置Ｐ５は、プレート６０が乾燥機器３２０内で乾燥される位置である。受渡位置Ｐ４は、搬送装置５０が洗浄・乾燥装置３０の搬送機器３３０との間でプレート６０の受け渡しと受け取りを行う位置である。搬送機器３３０は、受渡位置Ｐ４、乾燥位置Ｐ５及び洗浄位置Ｐ６を含むように配置されている。前述したように、搬送機器３３０は、受渡位置Ｐ４と、乾燥位置Ｐ５と、洗浄位置Ｐ６との間でプレート６０を搬送する。

図８（ｂ）は、プレート６０が受渡位置Ｐ４にある状態を示している。プレート６０は、分注後に搬送装置５０から洗浄・乾燥装置３０の搬送機器３３０へ受け渡される時と、洗浄・乾燥後に洗浄・乾燥装置３０の搬送機器３３０から搬送装置５０へ受け渡される時と、搬送機器３３０によって洗浄位置Ｐ６から乾燥位置Ｐ５へ搬送されていく途中に、受渡位置Ｐ４に位置する。受渡位置Ｐ４において、プレート６０は、例えば直立状態に支持される。

図８（ｃ）は、プレート６０が乾燥位置Ｐ５にある状態を示している。プレート６０は、乾燥機器３２０において乾燥を施されている間に、乾燥位置Ｐ５に位置する。乾燥位置Ｐ５において、プレート６０は、例えば直立状態に支持される。

図８（ｄ）は、プレート６０が洗浄位置Ｐ６にある状態を示している。プレート６０は、洗浄機器３１０において洗浄を施されている間に、洗浄位置Ｐ６に位置する。洗浄位置Ｐ６において、プレート６０は、例えば直立状態に支持される。

制御機器３４０は、プレート６０が分注後に搬送装置５０から洗浄・乾燥装置３０の搬送機器３３０へ受け渡されて、図８（ｂ）の受渡位置Ｐ４にある状態において制御を開始する。

まず、制御機器３４０は、プレート６０を下方に搬送するよう搬送機器３３０を制御する。一例として、制御機器３４０は、受渡位置Ｐ４にあるプレート６０を、受渡位置Ｐ４から洗浄位置Ｐ６まで搬送するよう搬送機器３３０を制御する。制御機器３４０の制御に応じて、搬送機器３３０は、プレート６０を受渡位置Ｐ４から洗浄位置Ｐ６まで搬送する。これにより、プレート６０は、搬送機器３３０によって、受渡位置Ｐ４から洗浄位置Ｐ６まで搬送される。プレート６０は、例えば直立状態に支持されたまま、受渡位置Ｐ４から洗浄位置Ｐ６まで搬送される。こうして、プレート６０の位置は、図８（ｂ）に示された受渡位置Ｐ４にある状態から、図８（ｄ）に示された洗浄位置Ｐ６にある状態へと遷移する。

次に、制御機器３４０は、プレート６０を洗浄するよう洗浄機器３１０を制御する。また、制御機器３４０は、洗浄機器３１０の洗浄動作中にプレート６０を洗浄位置Ｐ６に停止させておくよう搬送機器３３０を制御する。制御機器３４０の制御に応じて、搬送機器３３０は、プレート６０を洗浄位置Ｐ６に保持し、洗浄機器３１０は、プレート６０を洗浄する。これにより、プレート６０は、洗浄位置Ｐ６において洗浄機器３１０によって洗浄される。プレート６０は、例えば直立状態に支持されたまま、洗浄位置Ｐ６において洗浄機器３１０によって洗浄される。この時点において、プレート６０の位置は、図８（ｄ）に示された洗浄位置Ｐ６にある状態を維持している。

次に、プレート６０の洗浄が完了すると、制御機器３４０は、プレート６０を上方に搬送するよう搬送機器３３０を制御する。一例として、制御機器３４０は、洗浄位置Ｐ６にあるプレート６０を、洗浄位置Ｐ６から受渡位置Ｐ４を経由して乾燥位置Ｐ５まで搬送するよう搬送機器３３０を制御する。制御機器３４０の制御に応じて、搬送機器３３０は、プレート６０を洗浄位置Ｐ６から受渡位置Ｐ４を経由して乾燥位置Ｐ５まで搬送する。これにより、プレート６０は、搬送機器３３０によって、洗浄位置Ｐ６から受渡位置Ｐ４を経由して乾燥位置Ｐ５まで搬送される。プレート６０は、例えば直立状態に支持されたまま、洗浄位置Ｐ６から受渡位置Ｐ４を経由して乾燥位置Ｐ５まで搬送される。こうして、プレート６０の位置は、図８（ｄ）に示された洗浄位置Ｐ６にある状態から、図８（ｂ）に示された受渡位置Ｐ４にある状態を経由して、図８（ｃ）に示された乾燥位置Ｐ５にある状態へと遷移する。

次に、制御機器３４０は、プレート６０を乾燥するよう乾燥機器３２０を制御する。また、制御機器３４０は、乾燥機器３２０の乾燥動作中にプレート６０を乾燥位置Ｐ５に停止させておくよう搬送機器３３０を制御する。制御機器３４０の制御に応じて、搬送機器３３０は、プレート６０を乾燥位置Ｐ５に保持し、乾燥機器３２０は、プレート６０を乾燥する。これにより、プレート６０は、乾燥位置Ｐ５において乾燥機器３２０によって乾燥される。プレート６０は、例えば直立状態に支持されたまま、乾燥位置Ｐ５において乾燥機器３２０によって乾燥される。この時点において、プレート６０の位置は、図８（ｃ）に示された乾燥位置Ｐ５にある状態を維持している。

次に、プレート６０の乾燥が完了すると、制御機器３４０は、プレート６０を下方に搬送するよう搬送機器３３０を制御する。一例として、制御機器３４０は、乾燥位置Ｐ５にあるプレート６０を、乾燥位置Ｐ５から受渡位置Ｐ４まで下方に搬送するよう搬送機器３３０を制御する。制御機器３４０の制御に応じて、搬送機器３３０は、プレート６０を乾燥位置Ｐ５から受渡位置Ｐ４まで下方に搬送する。これにより、プレート６０は、搬送機器３３０によって、乾燥位置Ｐ５から受渡位置Ｐ４まで下方に搬送される。プレート６０は、例えば直立状態に支持されたまま、乾燥位置Ｐ５から受渡位置Ｐ４まで下方に搬送される。こうして、プレート６０の位置は、図８（ｃ）に示された乾燥位置Ｐ５にある状態から、図８（ｂ）に示された受渡位置Ｐ４にある状態へと遷移する。

洗浄・乾燥されて受渡位置Ｐ４へと戻ったプレート６０は、搬送装置５０に受け取られて、検出装置４０へ搬送される。

図９は、スクリーニング装置１０によるスクリーニング方法を示すフローチャートである。

まず、分注装置２０において分注工程が実施される（ステップＳ９０１）。例えば、スクリーニング装置１０の操作者であるオペレータが、検査対象のプレート６０を分注装置２０の搬送機器２１０にセットし、スクリーニング装置１０の動作を制御する制御用コンピュータ（不図示）に開始コマンドを入力することによって、分注工程が開始される。分注工程が開始されると、分注装置２０は、制御用コンピュータの制御に従って、セットされたプレート６０を搬送機器２１０で分注位置Ｐ２まで搬送し、プレート６０の各ウェル内へ分注部２２１のノズルから検体を分注していく。分注後、搬送機器２１０はプレート６０を受渡位置Ｐ３へ搬送する。

次に、洗浄・乾燥装置３０において洗浄・乾燥工程が実施される（ステップＳ９０２）。この工程については後述する。

洗浄・乾燥工程が終わると、次に、検出装置４０において検出工程が実施される（ステップＳ９０３）。検出装置４０は、搬送装置５０から洗浄・乾燥工程により洗浄・乾燥されたプレート６０を受け取り、制御用コンピュータの制御に従ってプレート６０上のバイオチップの測定を行う。一例として、検出装置４０は、撮像機器４１０によってプレート６０上の各バイオチップを撮像して、各バイオチップの画像データを生成する。そして、検出装置４０は、画像データを解析することによって、バイオチップ上の生体分子と検体に含まれていた標的との親和性を検出する。この検査結果は、例えば、制御用コンピュータ内の記憶部に電子データとして記憶するようにすることができる。

図１０は、洗浄・乾燥装置３０における洗浄・乾燥工程を示すフローチャートである。図１０は、制御機器３４０が図５に示された制御を行う場合の洗浄・乾燥工程を一例として示している。

まず、搬送装置５０が、制御用コンピュータの制御に従ってロボットアームを駆動させることにより、分注装置２０の搬送機器２１０上に水平状態で載置されている分注後のプレート６０をロボットアームで掴み取り、把持したプレート６０を９０°回転させて直立状態とする（ステップＳ１００１）。更に、搬送装置５０は、制御用コンピュータの制御に従ってロボットアームを駆動させ、受渡位置Ｐ４においてその直立状態のプレート６０を洗浄・乾燥装置３０の搬送機器３３０にセットする。

次に、洗浄・乾燥装置３０は、制御機器３４０の制御に従って搬送機器３３０を駆動させることにより第１搬送工程を実施し、搬送機器３３０にセットされたプレート６０を洗浄機器３１０の洗浄位置Ｐ６まで搬送する（ステップＳ１００２）。この第１搬送工程は、プレート６０を、乾燥機器３２０の乾燥位置Ｐ５を通過して洗浄機器３１０の洗浄位置Ｐ６まで下方に搬送する下方搬送工程としてもよい。なお、この時、制御機器３４０は、プレート６０が乾燥機器３２０の乾燥位置Ｐ５を一旦通過する際に洗浄前のプレート６０に対して乾燥が行われないよう、乾燥機器３２０を駆動停止状態に制御する。

次に、洗浄・乾燥装置３０は、制御機器３４０の制御に従って洗浄機器３１０を駆動させることにより、プレート６０に対して洗浄工程を実施する（ステップＳ１００３）。洗浄機器３１０は、洗浄液ノズル３１２から洗浄液を霧状にして噴射したり、又は間欠的に噴射したりする等、適宜の方法を用いてプレート６０の洗浄を実施する。また、例えば、制御機器３４０は、洗浄機器３１０に対して洗浄液の噴射制御を行うのに併せて、プレート６０を上下動させるように搬送機器３３０を制御することによって、洗浄液をプレート６０全体に満遍無く行き渡らせて洗浄の残滓が生じないようにしてもよい。

次に、洗浄・乾燥装置３０は、制御機器３４０の制御に従って搬送機器３３０を駆動させることにより第２搬送工程を実施し、洗浄後のプレート６０を乾燥機器３２０の乾燥位置Ｐ５まで上方に搬送する（ステップＳ１００４）。

次に、洗浄・乾燥装置３０は、制御機器３４０の制御に従って乾燥機器３２０を駆動させることにより、プレート６０に対して乾燥工程を実施する（ステップＳ１００５）。乾燥完了後、制御機器３４０の制御に従って搬送機器３３０がプレート６０を洗浄・乾燥装置３０の受渡位置Ｐ４へと搬送する。

次に、搬送装置５０が、制御用コンピュータの制御に従ってロボットアームを駆動させることにより、乾燥が完了して洗浄・乾燥装置３０の搬送機器３３０により受渡位置Ｐ４に保持されているプレート６０を直立状態で掴み取り、把持したプレート６０を９０°回転させて水平状態とする（ステップＳ１００６）。

次に、搬送装置５０は、制御用コンピュータの制御に従ってロボットアームを駆動させ、その水平状態のプレート６０を検出装置４０へ受け渡す（ステップＳ１００７）。

本実施形態の洗浄・乾燥装置３０によれば、洗浄機器３１０と乾燥機器３２０が上下方向の位置関係に配置されているので、洗浄機器３１０と乾燥機器３２０を設置するための空間を有効に利用することができる。

本実施形態の洗浄・乾燥装置３０によれば、洗浄機器３１０と乾燥機器３２０を設置するための空間を有効に利用することができるとともに、プレートに対する洗浄及び乾燥を効率的に行うことができる。

以上説明した実施形態では、スクリーニング装置１０は、洗浄・乾燥装置３０を１つだけ備えた構成であったが、複数の洗浄・乾燥装置を備えるようにスクリーニング装置を構成してもよい。一例として、スクリーニング装置は、２つの洗浄・乾燥装置を備えるように構成されてもよい。また、複数の洗浄・乾燥装置を備えるのではなく、複数の洗浄機器を備えるようにスクリーニング装置を構成してもよい。一例として、スクリーニング装置は、２つの洗浄機器を備えるように構成されてもよい。

図１１は、本発明の一実施形態に係る、２つの洗浄・乾燥装置を備えるスクリーニング装置１１の構成を模式的に示す図である。なお、説明の便宜のため、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸を定める。Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸は、直交座標系である。Ｘ軸方向及びＹ軸方向はいずれも、水平方向である。Ｚ軸方向は、鉛直方向である。スクリーニング装置１１は、分注装置２０と、第１洗浄・乾燥装置３１と、第２洗浄・乾燥装置３２と、検出装置４０と、搬送装置５０とを備えている。分注装置２０、第１洗浄・乾燥装置３１、第２洗浄・乾燥装置３２及び検出装置４０は、分注装置２０、第１洗浄・乾燥装置３１、第２洗浄・乾燥装置３２、検出装置４０の順でＸ軸方向に沿って配置されている。

スクリーニング装置１１は、まず分注装置２０においてプレートに対して分注処理を行い、次に第１洗浄・乾燥装置３１においてプレートに対して第１の洗浄・乾燥処理を行い、次に第２洗浄・乾燥装置３２においてプレートに対して第２の洗浄・乾燥処理を行い、次に検出装置４０においてプレートに対して検出処理を行うように構成されている。スクリーニング装置１１において、プレートは、第１洗浄・乾燥装置３１において第１の洗浄・乾燥処理を施された後、引き続き第２洗浄・乾燥装置３２において第２の洗浄・乾燥処理を施される。

スクリーニング装置１１において、搬送装置５０は、分注処理後のプレートを分注装置２０から第１洗浄・乾燥装置３１へ搬送し、第１の洗浄・乾燥処理後のプレートを第１洗浄・乾燥装置３１から第２洗浄・乾燥装置３２へ搬送し、第２の洗浄・乾燥処理後のプレートを第２洗浄・乾燥装置３２から検出装置４０へ搬送するように構成されている。

スクリーニング装置１１において、分注装置２０及び検出装置４０は、それぞれ、スクリーニング装置１０の分注装置２０及び検出装置４０と同じ構成を有する。また、スクリーニング装置１１において、第１洗浄・乾燥装置３１及び第２洗浄・乾燥装置３２は、いずれも、スクリーニング装置１０の洗浄・乾燥装置３０と同じ構成を有する。記載の簡略化のため、スクリーニング装置１１における分注装置２０、第１洗浄・乾燥装置３１、第２洗浄・乾燥装置３２及び検出装置４０の具体的な構成についての説明は省略する。

第１洗浄・乾燥装置３１の制御機器３４０は、プレートに対して第１の洗浄・乾燥処理が施されるよう、第１洗浄・乾燥装置３１の洗浄機器３１０、乾燥機器３２０及び搬送機器３３０それぞれの動作を制御する。第１洗浄・乾燥装置３１の制御機器３４０は、図５に示された制御方法、図６に示された制御方法、図７に示された制御方法及び図８に示された制御方法のうち、いずれの制御方法を用いて制御を行ってもよい。第２洗浄・乾燥装置３２の制御機器３４０は、プレートに対して第２の洗浄・乾燥処理が施されるよう、第２洗浄・乾燥装置３２の洗浄機器３１０、乾燥機器３２０及び搬送機器３３０それぞれの動作を制御する。第２洗浄・乾燥装置３２の制御機器３４０は、図５に示された制御方法、図６に示された制御方法、図７に示された制御方法及び図８に示された制御方法のうち、いずれの制御方法を用いて制御を行ってもよい。第１洗浄・乾燥装置３１の制御機器３４０が実施する制御方法と、第２洗浄・乾燥装置３２の制御機器３４０が実施する制御方法とは、同じ制御方法であっても異なる制御方法であってもよい。一例として、第１洗浄・乾燥装置３１の制御機器３４０と第２洗浄・乾燥装置３２の制御機器３４０の両方が、図５に示された制御方法を用いて制御を行ってもよい。別の一例として、第１洗浄・乾燥装置３１の制御機器３４０が図５に示された制御方法を用いて制御を行い、第２洗浄・乾燥装置３２の制御機器３４０が図６、図７又は図８に示された制御方法を用いて制御を行ってもよい。

第１洗浄・乾燥装置３１における第１の洗浄・乾燥処理と、第２洗浄・乾燥装置３２における第２の洗浄・乾燥処理とは、同じ処理であっても異なる処理であってもよい。第１洗浄・乾燥装置３１における第１の洗浄・乾燥処理と第２洗浄・乾燥装置３２における第２の洗浄・乾燥処理とが異なる場合の一例は、第１洗浄・乾燥装置３１の洗浄機器３１０における洗浄処理と、第２洗浄・乾燥装置３２の洗浄機器３１０における洗浄処理とが異なる場合である。この場合の一例として、第１洗浄・乾燥装置３１の洗浄機器３１０と第２洗浄・乾燥装置３２の洗浄機器３１０は、異なる種類の液体を用いて洗浄処理を行うように構成されてもよい。例えば、第１洗浄・乾燥装置３１の洗浄機器３１０は、洗浄液を用いて洗浄処理を行うように構成され、第２洗浄・乾燥装置３２の洗浄機器３１０は、脱イオン水を用いて洗浄処理を行うように構成されてもよい。あるいはまた、別の一例として、第１洗浄・乾燥装置３１の洗浄機器３１０と第２洗浄・乾燥装置３２の洗浄機器３１０は、種類は同じであるが温度又は水量が異なる液体を用いて洗浄処理を行うように構成されてもよい。第１洗浄・乾燥装置３１における第１の洗浄・乾燥処理と第２洗浄・乾燥装置３２における第２の洗浄・乾燥処理とが異なる場合の他の一例は、第１洗浄・乾燥装置３１の乾燥機器３２０における乾燥処理と、第２洗浄・乾燥装置３２の乾燥機器３２０における乾燥処理とが異なる場合である。この場合の一例として、第１洗浄・乾燥装置３１の乾燥機器３２０と第２洗浄・乾燥装置３２の乾燥機器３２０は、異なる種類の不活性ガスを用いて乾燥処理を行うように構成されてもよい。あるいはまた、別の一例として、第１洗浄・乾燥装置３１の乾燥機器３２０と第２洗浄・乾燥装置３２の乾燥機器３２０は、種類は同じであるが温度又は風量が異なる不活性ガスを用いて乾燥処理を行うように構成されてもよい。更に、第１洗浄・乾燥装置３１における第１の洗浄・乾燥処理と第２洗浄・乾燥装置３２における第２の洗浄・乾燥処理とが異なる場合の別の一例として、第１洗浄・乾燥装置３１の洗浄機器３１０における洗浄処理と、第２洗浄・乾燥装置３２の洗浄機器３１０における洗浄処理とが異なるとともに、それに加えて、第１洗浄・乾燥装置３１の乾燥機器３２０における乾燥処理と、第２洗浄・乾燥装置３２の乾燥機器３２０における乾燥処理とが異なっていてもよい。

スクリーニング装置１１において、第１洗浄・乾燥装置３１と第２洗浄・乾燥装置３２は、同時に、それぞれ第１の洗浄・乾燥処理と第２の洗浄・乾燥処理を実施してもよい。すなわち、スクリーニング装置１１において、第１洗浄・乾燥装置３１による第１の洗浄・乾燥処理と、第２洗浄・乾燥装置３２による第２の洗浄・乾燥処理とが並列で実行されるようにしてもよい。

一例として、第１プレートが、まず、第１洗浄・乾燥装置３１において第１の洗浄・乾燥処理を施され、それに引き続いて、第２洗浄・乾燥装置３２において第２の洗浄・乾燥処理を施される。第１プレートが第２洗浄・乾燥装置３２において第２の洗浄・乾燥処理を施されるのと同時に、第２プレートが、第１洗浄・乾燥装置３１において第１の洗浄・乾燥処理を施される。すなわち、スクリーニング装置１１において、第１プレートに対する第２洗浄・乾燥装置３２による第２の洗浄・乾燥処理と、第２プレートに対する第１洗浄・乾燥装置３１による第１の洗浄・乾燥処理とは、並列で実行される。一例として、スクリーニング装置１１において、第１プレートに対する第２洗浄・乾燥装置３２による洗浄処理と第２プレートに対する第１洗浄・乾燥装置３１による洗浄処理とが並列で実行される。一例として、スクリーニング装置１１において、第１プレートに対する第２洗浄・乾燥装置３２による乾燥処理と第２プレートに対する第１洗浄・乾燥装置３１による乾燥処理とが並列で実行される。一例として、スクリーニング装置１１において、第１プレートに対する第２洗浄・乾燥装置３２による洗浄処理と第２プレートに対する第１洗浄・乾燥装置３１による洗浄処理とが並列で実行され、且つ、第１プレートに対する第２洗浄・乾燥装置３２による乾燥処理と第２プレートに対する第１洗浄・乾燥装置３１による乾燥処理とが並列で実行される。一例として、スクリーニング装置１１において、第１プレートに対する第２洗浄・乾燥装置３２による洗浄処理と第２プレートに対する第１洗浄・乾燥装置３１による乾燥処理とが並列で実行される。一例として、第１プレートに対する第２洗浄・乾燥装置３２による乾燥処理と第２プレートに対する第１洗浄・乾燥装置３１による洗浄処理とが並列で実行される。一例として、スクリーニング装置１１において、第１プレートに対する第２洗浄・乾燥装置３２による洗浄処理と第２プレートに対する第１洗浄・乾燥装置３１による洗浄処理及び乾燥処理とが並列で実行される。一例として、スクリーニング装置１１において、第１プレートに対する第２洗浄・乾燥装置３２による乾燥処理と第２プレートに対する第１洗浄・乾燥装置３１による洗浄処理及び乾燥処理とが並列で実行される。一例として、スクリーニング装置１１において、第１プレートに対する第２洗浄・乾燥装置３２による洗浄処理及び乾燥処理と第２プレートに対する第１洗浄・乾燥装置３１による洗浄処理とが並列で実行される。一例として、スクリーニング装置１１において、第１プレートに対する第２洗浄・乾燥装置３２による洗浄処理及び乾燥処理と第２プレートに対する第１洗浄・乾燥装置３１による乾燥処理とが並列で実行される。

なお、第２プレートは、第１プレートの後に洗浄・乾燥処理されるプレートである。例えば、第１プレートを、スクリーニング装置１１において処理される複数のプレートのうちｎ番目に洗浄・乾燥処理されるプレートとすると、第２プレートは、ｎ＋１番目以降に洗浄・乾燥処理されるプレートである。例えば、第２プレートは、ｎ＋１番目に洗浄・乾燥処理されるプレートであってもよいし、ｎ＋２番目に洗浄・乾燥処理されるプレートであってもよいし、ｎ＋３番目に洗浄・乾燥処理されるプレートであってもよい。第２プレートは、第１洗浄・乾燥装置３１において第１の洗浄・乾燥処理を施された後、第１プレートと同様に、第２洗浄・乾燥装置３２において第２の洗浄・乾燥処理を施される。

図１２は、本発明の一実施形態に係る、２つの洗浄機器を備えるスクリーニング装置１２の構成を模式的に示す図である。なお、説明の便宜のため、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸を定める。Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸は、直交座標系である。Ｘ軸方向及びＹ軸方向はいずれも、水平方向である。Ｚ軸方向は、鉛直方向である。スクリーニング装置１２は、分注装置２０と、第１洗浄機器３１０−１と、洗浄・乾燥装置３０と、検出装置４０と、搬送装置５０とを備えている。洗浄・乾燥装置３０は、洗浄機器３１０（図１２に関する説明では、第２洗浄機器３１０−２と称する）と、乾燥機器３２０と、搬送機器３３０と、制御機器３４０とを備えている。分注装置２０、第１洗浄機器３１０−１、洗浄・乾燥装置３０及び検出装置４０は、分注装置２０、第１洗浄機器３１０−１、洗浄・乾燥装置３０、検出装置４０の順でＸ軸方向に沿って配置されている。

スクリーニング装置１２は、まず分注装置２０においてプレートに対して分注処理を行い、次に第１洗浄機器３１０−１においてプレートに対して第１の洗浄処理を行い、次に洗浄・乾燥装置３０においてプレートに対して第２の洗浄処理と乾燥処理を行い、次に検出装置４０においてプレートに対して検出処理を行うように構成されている。スクリーニング装置１２において、プレートは、第１洗浄機器３１０−１において第１の洗浄処理を施された後、引き続き洗浄・乾燥装置３０において第２の洗浄処理と乾燥処理を施される。

スクリーニング装置１２において、搬送装置５０は、分注処理後のプレートを分注装置２０から第１洗浄機器３１０−１へ搬送し、第１の洗浄処理後のプレートを第１洗浄機器３１０−１から洗浄・乾燥装置３０へ搬送し、第２の洗浄処理及び乾燥処理後のプレートを洗浄・乾燥装置３０から検出装置４０へ搬送するように構成されている。

スクリーニング装置１２において、分注装置２０、洗浄・乾燥装置３０及び検出装置４０は、それぞれ、スクリーニング装置１０の分注装置２０、洗浄・乾燥装置３０及び検出装置４０と同じ構成を有する。また、スクリーニング装置１２において、第１洗浄機器３１０−１は、洗浄・乾燥装置３０の一要素である洗浄機器３１０と同じ構成を有する。すなわち、スクリーニング装置１２において、第１洗浄機器３１０−１は、第２洗浄機器３１０−２と同じ構成を有する。記載の簡略化のため、スクリーニング装置１２における分注装置２０、第１洗浄機器３１０−１、洗浄・乾燥装置３０及び検出装置４０の具体的な構成についての説明は省略する。

第１洗浄機器３１０−１における第１の洗浄処理と、洗浄・乾燥装置３０の第２洗浄機器３１０−２における第２の洗浄処理とは、同じ処理であっても異なる処理であってもよい。第１洗浄機器３１０−１における第１の洗浄処理と第２洗浄機器３１０−２における第２の洗浄処理とが異なる場合の一例として、第１洗浄機器３１０−１と第２洗浄機器３１０−２は、異なる種類の液体を用いて洗浄処理を行うように構成されてもよい。例えば、第１洗浄機器３１０−１は、洗浄液を用いて洗浄処理を行うように構成され、第２洗浄機器３１０−２は、脱イオン水を用いて洗浄処理を行うように構成されてもよい。あるいはまた、別の一例として、第１洗浄機器３１０−１と第２洗浄機器３１０−２は、種類は同じであるが温度又は水量が異なる液体を用いて洗浄処理を行うように構成されてもよい。

スクリーニング装置１２において、第１洗浄機器３１０−１が第１の洗浄処理を実施するのと同時に、洗浄・乾燥装置３０が第２の洗浄処理又は乾燥処理を実施してもよい。すなわち、スクリーニング装置１２において、第１洗浄機器３１０−１による第１の洗浄処理と、洗浄・乾燥装置３０による第２の洗浄処理又は乾燥処理とが並列で実行されるようにしてもよい。

一例として、第１プレートが、まず、第１洗浄機器３１０−１において第１の洗浄処理を施され、それに引き続いて、洗浄・乾燥装置３０の第２洗浄機器３１０−２において第２の洗浄処理を施される。第１プレートが第２洗浄機器３１０−２において第２の洗浄処理を施されるのと同時に、第２プレートが、第１洗浄機器３１０−１において第１の洗浄処理を施される。すなわち、スクリーニング装置１２において、第１プレートに対する第２洗浄機器３１０−２による第２の洗浄処理と、第２プレートに対する第１洗浄機器３１０−１による第１の洗浄処理とは、並列で実行される。あるいはまた、別の一例として、第１プレートが、洗浄・乾燥装置３０の第２洗浄機器３１０−２において第２の洗浄処理を施された後に、洗浄・乾燥装置３０の乾燥機器３２０において乾燥処理を施される。第１プレートが乾燥機器３２０において乾燥処理を施されるのと同時に、第２プレートが、第１洗浄機器３１０−１において第１の洗浄処理を施される。すなわち、スクリーニング装置１２において、第１プレートに対する乾燥機器３２０による乾燥処理と、第２プレートに対する第１洗浄機器３１０−１による第１の洗浄処理とは、並列で実行される。あるいはまた、別の一例として、スクリーニング装置１２において、第１プレートに対する洗浄機器３１０−２による第２の洗浄処理及び乾燥機器３２０による乾燥処理はいずれも、第２プレートに対する第１洗浄機器３１０−１による第１の洗浄処理と並列で実行される。

なお、第２プレートは、第１プレートの後に洗浄・乾燥処理されるプレートである。例えば、第１プレートを、スクリーニング装置１２において処理される複数のプレートのうちｎ番目に洗浄・乾燥処理されるプレートとすると、第２プレートは、ｎ＋１番目以降に洗浄・乾燥処理されるプレートである。例えば、第２プレートは、ｎ＋１番目に洗浄・乾燥処理されるプレートであってもよいし、ｎ＋２番目に洗浄・乾燥処理されるプレートであってもよいし、ｎ＋３番目に洗浄・乾燥処理されるプレートであってもよい。第２プレートは、第１洗浄機器３１０−１において第１の洗浄処理を施された後、第１プレートと同様に、洗浄・乾燥装置３０において第２の洗浄処理と乾燥処理を施される。

前述した実施形態に係るスクリーニング装置１０は、分注装置２０に設けられた搬送機器２１０と、洗浄・乾燥装置３０に設けられた搬送機器３３０と、検出装置４０に設けられた載置機器４２０と、搬送装置５０とを使用してプレートを搬送するように構成されていたが、このように搬送用の複数の機器又は装置を備えるのではなく、一続きの連続した搬送ラインを有する一体的に構成された搬送装置を備えるようにスクリーニング装置を構成してもよい。

図１３は、本発明の一実施形態に係る、一続きの連続した搬送ラインを有する一体的に構成された搬送装置５５を備えたスクリーニング装置１３の構成を模式的に示す図である。なお、説明の便宜のため、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸を定める。Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸は、直交座標系である。Ｘ軸方向及びＹ軸方向はいずれも、水平方向である。Ｚ軸方向は、鉛直方向である。スクリーニング装置１３は、分注装置２１と、洗浄・乾燥装置３３と、検出装置４１と、搬送装置５５とを備えている。分注装置２１、洗浄・乾燥装置３３及び検出装置４１は、分注装置２１、洗浄・乾燥装置３３、検出装置４１の順でＸ軸方向に沿って配置されている。

スクリーニング装置１３において、分注装置２１は、分注機器２２０と、制御機器２３０とを備えている。分注装置２１の分注機器２２０及び制御機器２３０は、それぞれ、スクリーニング装置１０における分注装置２０の分注機器２２０及び制御機器２３０と同じ構成・機能を有する。スクリーニング装置１３の分注装置２１は、分注装置２０が備えていた搬送機器２１０を備えていない。その代わりに、分注装置２１の内部には、搬送装置５５の一部分が配置されている。スクリーニング装置１３の分注装置２１において、プレートは、搬送装置５５によって搬送される。分注装置２１の内部において搬送装置５５がプレートを搬送する経路は、分注装置２０の搬送機器２１０がプレートを搬送するのと同じ経路である。

スクリーニング装置１３において、洗浄・乾燥装置３３は、洗浄機器３１０と、乾燥機器３２０と、制御機器３４０とを備えている。洗浄・乾燥装置３３の洗浄機器３１０、乾燥機器３２０及び制御機器３４０は、それぞれ、スクリーニング装置１０における洗浄・乾燥装置３０の洗浄機器３１０、乾燥機器３２０及び制御機器３４０と同じ構成・機能を有する。スクリーニング装置１３の洗浄・乾燥装置３３は、洗浄・乾燥装置３０が備えていた搬送機器３３０を備えていない。その代わりに、洗浄・乾燥装置３３の内部には、搬送装置５５の一部分が配置されている。スクリーニング装置１３の洗浄・乾燥装置３３において、プレートは、搬送装置５５によって搬送される。洗浄・乾燥装置３３の内部において搬送装置５５がプレートを搬送する経路は、洗浄・乾燥装置３０の搬送機器３３０がプレートを搬送するのと同じ経路である。

スクリーニング装置１３において、検出装置４１は、撮像機器４１０を備えている。検出装置４１の撮像機器４１０は、スクリーニング装置１０における検出装置４０の撮像機器４１０と同じ構成・機能を有する。スクリーニング装置１３の検出装置４１は、検出装置４０が備えていた載置機器４２０を備えていない。その代わりに、検出装置４１の内部には、搬送装置５５の一部分が配置されている。スクリーニング装置１３の検出装置４１において、プレートは、搬送装置５５によって所定の撮像位置まで搬送される。

スクリーニング装置１３において、搬送装置５５は、一続きの連続した搬送ライン５６を有している。搬送ライン５６は、プレートが搬送される搬送路である。一例として、搬送装置５５は、一続きの連続したレールと、当該レール上を移動可能なロボットアームとを備える。プレートは、ロボットアームに把持された状態で、ロボットアームとともにレールに沿って連続的に移動すなわち搬送される。この場合、当該レールが搬送ライン５６に対応する。搬送ライン５６は、水平部分５６ａと垂直部分５６ｂを含んでいる。搬送ライン５６の水平部分５６ａは、分注装置２１の内部の初期位置Ｐ１から、検出装置４１の内部の撮像位置Ｐ７までにわたって、水平方向に連続的に延在している。搬送ライン５６の垂直部分５６ｂは、搬送ライン５６の水平部分５６ａ上の１点（中間位置Ｐ４とする）から、洗浄・乾燥装置３３の内部の乾燥位置Ｐ５を経由して洗浄位置Ｐ６までにわたって、垂直方向に連続的に延在している。なお、図１３では、搬送ライン５６の垂直部分５６ｂが１本の直線で描かれており、これは、洗浄・乾燥装置３３が前述した図５の制御方法に従って動作する場合に対応する。しかしながら、洗浄・乾燥装置３３が前述した図６、図７又は図８の制御方法に従って動作するように、搬送ライン５６の垂直部分５６ｂが構成されてもよい。

スクリーニング装置１３において、分注装置２１、洗浄・乾燥装置３３及び検出装置４１は、搬送装置５５を共有している。分注装置２１と洗浄・乾燥装置３３の間におけるプレートの搬送と、洗浄・乾燥装置３３と検出装置４１の間におけるプレートの搬送とは、共通の搬送装置５５で行われる。搬送装置５５は、分注装置２１と洗浄・乾燥装置３３の間においてプレートを搬送する装置と、洗浄・乾燥装置３３と検出装置４１の間においてプレートを搬送する装置とを兼ねている。

スクリーニング装置１３におけるプレートの搬送の動きを説明する。プレートの搬送は、分注装置２１の内部の初期位置Ｐ１から開始される。一例として、初期位置Ｐ１におけるプレートの向きは、水平状態である。まず搬送装置５５は、プレートを初期位置Ｐ１から分注位置Ｐ２まで搬送ライン５６に沿って水平方向に搬送する。プレートは、分注位置Ｐ２において分注処理される。分注処理が終わると、搬送装置５５は、プレートを分注装置２１内部の分注位置Ｐ２から洗浄・乾燥装置３３上部の中間位置Ｐ４まで搬送ライン５６に沿って水平方向に搬送する。一例として、プレートは中間位置Ｐ４において水平状態から直立状態へと回転される。搬送装置５５は、更に、プレートを中間位置Ｐ４から洗浄・乾燥装置３３の内部の乾燥位置Ｐ５を経由して洗浄位置Ｐ６まで搬送ライン５６に沿って垂直方向に搬送する。プレートは、洗浄位置Ｐ６において洗浄処理される。洗浄処理が終わると、搬送装置５５は、プレートを洗浄位置Ｐ６から乾燥位置Ｐ５まで搬送ライン５６に沿って垂直方向に搬送する。プレートは、乾燥位置Ｐ５において乾燥処理される。乾燥処理が終わると、搬送装置５５は、プレートを乾燥位置Ｐ５から中間位置Ｐ４まで搬送ライン５６に沿って垂直方向に搬送する。一例として、プレートは中間位置Ｐ４において直立状態から水平状態へと回転される。搬送装置５５は、更に、プレートを中間位置Ｐ４から検出装置４１の内部の撮像位置Ｐ７まで搬送ライン５６に沿って水平方向に搬送する。プレートは、撮像位置Ｐ７において検出処理される。このように、プレートは、搬送装置５５によって、初期位置Ｐ１から順次、分注位置Ｐ２、中間位置Ｐ４、乾燥位置Ｐ５、洗浄位置Ｐ６、乾燥位置Ｐ５、中間位置Ｐ４を経由して撮像位置Ｐ７へと、一続きの連続した搬送ライン５６に沿って搬送される。スクリーニング装置１３において、分注装置２１、洗浄・乾燥装置３３及び検出装置４１は、搬送装置５５を共有している。

以上、本発明の実施形態を説明したが、本発明はこれに限定されず、その要旨を逸脱しない範囲内において様々な変更が可能である。

プレートは、洗浄位置において直立状態に支持されて洗浄機器により洗浄される例を示したが、これに限るものではない。プレートは、洗浄位置において水平状態に支持されて洗浄機器により洗浄されてもよいし、洗浄位置において直立状態及び水平状態のいずれの状態でもない傾斜状態に支持されて洗浄機器により洗浄されてもよい。一例として、傾斜状態は、プレートのｘ軸（図１及び図２参照）がＹ軸（図３から図８、図１１から図１３参照）に一致し、プレート６０のｙ軸（図１及び図２参照）がＸ軸及びＺ軸（図３から図８、図１１から図１３参照）のいずれとも一致せず、プレート６０のｚ軸（図１及び図２参照）がＸ軸及びＺ軸（図３から図８、図１１から図１３参照）のいずれとも一致しない。一例として、傾斜状態は、ウェルの開口がＸ軸方向及びＺ軸方向（図３から図８、図１１から図１３参照）のいずれにも向いていない。

洗浄位置におけるプレート６０の向きは、載置位置におけるプレートの向きと同じであってもよいし異なっていてもよい。洗浄位置におけるプレートの向きは、分注位置におけるプレートの向きと同じであってもよいし異なっていてもよい。洗浄位置におけるプレートの向きは、受渡位置におけるプレートの向きと同じであってもよいし異なっていてもよい。

プレートは、乾燥位置において直立状態に支持されて乾燥機器により乾燥される例を示したが、これに限るものではない。プレートは、乾燥位置において水平状態に支持されて乾燥機器により乾燥されてもよいし、乾燥位置において直立状態及び水平状態のいずれの状態でもない傾斜状態に支持されて乾燥機器により乾燥されてもよい。一例として、傾斜状態は、プレートのｘ軸（図１及び図２参照）がＹ軸（図３から図８、図１１から図１３参照）に一致し、プレートのｙ軸（図１及び図２参照）がＸ軸及びＺ軸（図３から図８、図１１から図１３参照）のいずれとも一致せず、プレートのｚ軸（図１及び図２参照）がＸ軸及びＺ軸（図３から図８、図１１から図１３参照）のいずれとも一致しない。一例として、傾斜状態は、ウェルの開口がＸ軸方向及びＺ軸方向（図３から図８、図１１から図１３参照）のいずれにも向いていない。

乾燥位置におけるプレートの向きは、載置位置におけるプレートの向きと同じであってもよいし異なっていてもよい。乾燥位置におけるプレートの向きは、分注位置におけるプレートの向きと同じであってもよいし異なっていてもよい。乾燥位置におけるプレートの向きは、受渡位置におけるプレートの向きと同じであってもよいし異なっていてもよい。

洗浄位置においてプレートが傾斜状態に支持されて洗浄され且つ乾燥位置においてプレートが傾斜状態に支持されて乾燥される場合、プレートは、傾斜状態に支持されたまま洗浄位置と乾燥位置との間を搬送機器により搬送されるようにしてもよい。

１０ スクリーニング装置
２０ 分注装置
３０ 洗浄・乾燥装置
４０ 検出装置
５０ 搬送装置
６０ プレート
２１０ 搬送機器
２２０ 分注機器
２３０ 制御機器
３１０ 洗浄機器
３１１ 洗浄液供給部
３１１ｂ 洗浄液供給管
３１２ 洗浄液ノズル
３２０ 乾燥機器
３２１ 送風部
３２１ｂ 送風管
３２２ 送風口
３３０ 搬送機器
３４０ 制御機器
３５０ 収容機器
３６０ 廃液収集機器
４１０ 撮像機器
４２０ 載置機器

Claims (22)

1. バイオチップを有するプレート用の洗浄・乾燥装置であって、
   前記プレートを洗浄する洗浄部と、
   前記プレートを乾燥する乾燥部と、を備え、
   前記乾燥部は前記洗浄部の上方に設けられていることを特徴とする、洗浄・乾燥装置。
2. 前記洗浄部は、前記プレートを直立状態として洗浄し、
   前記乾燥部は、前記プレートを直立状態として乾燥する、
   ことを特徴とする請求項１に記載の洗浄・乾燥装置。
3. 前記洗浄部で洗浄した前記プレートを前記乾燥部へ上方に搬送する搬送部を備えることを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載の洗浄・乾燥装置。
4. 前記搬送部は、前記乾燥部を通過して洗浄前の前記プレートを前記洗浄部へ下方に搬送することを特徴とする、請求項３に記載の洗浄・乾燥装置。
5. 前記搬送部は、前記プレートを前記洗浄部から上方の前記乾燥部へ鉛直方向に搬送することを特徴とする、請求項３又は請求項４に記載の洗浄・乾燥装置。
6. 前記乾燥部は、前記洗浄部の鉛直上方に配置されていることを特徴とする、請求項１から請求項５の何れか１項に記載の洗浄・乾燥装置。
7. 前記洗浄部において前記プレートの両面を洗浄し、前記乾燥部において前記プレートの両面を乾燥することを特徴とする、請求項１から請求項６の何れか１項に記載の洗浄・乾燥装置。
8. 前記乾燥部からの排気を濾過して再び乾燥のために利用可能とする循環機構を備えることを特徴とする、請求項１から請求項７の何れか１項に記載の洗浄・乾燥装置。
9. 前記洗浄部の下部に廃液貯蔵部を有することを特徴とする、請求項１から請求項８の何れか１項に記載の洗浄・乾燥装置。
10. 前記洗浄部における洗浄位置と前記乾燥部における乾燥位置が水平方向に変位した位置であることを特徴とする、請求項１から請求項９の何れか１項に記載の洗浄・乾燥装置。
11. 洗浄前の水平状態の前記プレートを回転して直立状態とし、乾燥後の直立状態の前記プレートを回転して再び水平状態とする回転動作部を備えることを特徴とする、請求項１から請求項１０の何れか１項に記載の洗浄・乾燥装置。
12. 請求項１から請求項１１の何れか１項に記載の洗浄・乾燥装置と、
    前記バイオチップ上に固定された生体分子と特異的に反応可能な標的を含む検体を、前記バイオチップを有するプレートに分注する分注装置と、
    前記標的と前記生体分子との親和性を検出する検出装置と、
    を備えることを特徴とする、バイオチップのスクリーニング装置。
13. 前記プレートを前記分注装置から前記洗浄・乾燥装置へ水平方向に搬送し、前記プレートを前記洗浄・乾燥装置から前記検出装置へ水平方向に搬送する搬送装置を備えることを特徴とする、請求項１２に記載のスクリーニング装置。
14. 前記搬送装置は、前記プレートを水平状態として前記分注装置から前記洗浄・乾燥装置へ水平方向に搬送し、前記プレートを水平状態として前記洗浄・乾燥装置から前記検出装置へ水平方向に搬送することを特徴とする、請求項１３に記載のスクリーニング装置。
15. バイオチップを有するプレートの洗浄・乾燥方法であって、
    前記プレートを洗浄位置に搬送する第１搬送工程と、
    前記洗浄位置において前記プレートを洗浄する洗浄工程と、
    洗浄後の前記プレートを、前記洗浄位置の上方に位置する乾燥位置に搬送する第２搬送工程と、
    前記乾燥位置において前記プレートを乾燥する乾燥工程と、
    を含むことを特徴とする、洗浄・乾燥方法。
16. 前記第１搬送工程は、前記プレートを直立状態として前記洗浄位置に搬送する工程であり、
    前記洗浄工程は、前記プレートを直立状態として洗浄する工程であり、
    前記第２搬送工程は、前記プレートを直立状態として前記乾燥位置に搬送する工程であり、
    前記乾燥工程は、前記プレートを直立状態として乾燥する工程である、
    ことを特徴とする請求項１５に記載の洗浄・乾燥方法。
17. 前記第１搬送工程は、前記プレートを、前記乾燥位置を通過して前記洗浄位置へ下方に搬送する下方搬送工程を含むことを特徴とする、請求項１５又は請求項１６に記載の洗浄・乾燥方法。
18. 前記洗浄工程において前記プレートの両面を洗浄し、前記乾燥工程において前記プレートの両面を乾燥することを特徴とする、請求項１５から請求項１７の何れか１項に記載の洗浄・乾燥方法。
19. 洗浄前の水平状態の前記プレートを回転して直立状態とする工程と、
    乾燥後の直立状態の前記プレートを回転して再び水平状態とする工程と、
    を含むことを特徴とする、請求項１５から請求項１８の何れか１項に記載の洗浄・乾燥方法。
20. バイオチップを有するプレートを用いたスクリーニング方法であって、
    分注装置において、前記バイオチップ上に固定された生体分子と特異的に反応可能な標的を含む検体を、前記バイオチップを有するプレートに分注する分注工程と、
    洗浄・乾燥装置において、請求項１５から請求項１９の何れか１項に記載の洗浄・乾燥方法を実施するための前記各工程の何れかと、
    検出装置において、前記標的と前記生体分子との親和性を検出する検出工程と、
    を含むことを特徴とする、スクリーニング方法。
21. 前記分注後のプレートを前記分注装置から前記洗浄・乾燥装置へ水平方向に搬送する工程と、
    前記洗浄・乾燥後のプレートを前記洗浄・乾燥装置から前記検出装置へ水平方向に搬送する工程と、
    を含むことを特徴とする、請求項２０に記載のスクリーニング方法。
22. 前記分注後のプレートは、水平状態で前記分注装置から前記洗浄・乾燥装置へ水平方向に搬送され、前記洗浄・乾燥後のプレートは、水平状態で前記洗浄・乾燥装置から前記検出装置へ水平方向に搬送されることを特徴とする、請求項２１に記載のスクリーニング方法。

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