JPWO2015019581A1 - 架橋剤及びフッ素含有芳香族化合物 - Google Patents

Abstract

下記式（１）で表わされる化合物からなる架橋剤。（式（１）中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３はそれぞれ独立して、フッ素原子、アルキル基、フッ化アルキル基、又は置換又は無置換のアリール基である。複数のＲ１は同じでも異なってもよい。複数のＲ２は同じでも異なってもよい。複数のＲ３は同じでも異なってもよい。ただしＲ１，Ｒ２，Ｒ３の少なくとも１つはフッ素原子又はフッ素原子を含む基である。ｍは２〜６の整数であり、ｌは０〜２の整数である。ベンゼン環の水素は置換されていてもよい。）

Description

本発明は、架橋剤、架橋剤を含む組成物、架橋フルオロエラストマー、架橋フルオロエラストマーから得られる成形体、及びフッ素含有芳香族化合物に関する。

水蒸気は、プラント、機械、食品、医療等様々な産業において、発電用途のほか、除菌や洗浄等様々な用途で使用されている。ゴムＯリング等のシール材は、これら水蒸気が流れる配管や装置に用いられ、水蒸気が外部に流出するのを防ぐ役割を果たしている。

近年発電プラントでは、発電効率の向上を狙って、水蒸気の温度を従来よりも上げる傾向にあり、これに伴い、シール材にも高温水蒸気性が求められるようになってきている。このようなケースでは、フッ素ゴムやパーフルオロゴム等の架橋フルオロエラストマー製のシール材が用いられる。ところが、これら架橋フルオロエラストマー製のシール材は、耐蒸気性が劣る場合があり、改善が求められている（例えば、特許文献１参照）。

架橋フルオロエラストマーの製造には架橋剤が用いられ、様々な架橋剤が知られている。例えば、トリアリルイソシアヌラート（ＴＡＩＣ）が一般的によく知られており（例えば、特許文献２〜６参照）、さらに、ジビニルベンゼン（例えば、特許文献２〜５参照）、ジビニルビフェニル（例えば、特許文献５参照）等が挙げられる。
しかしながら、架橋フルオロエラストマーの耐熱性と耐蒸気性を、さらに改善し得る新規な架橋剤が求められていた。

一方、特許文献６には、含フッ素エラストマーの原料モノマーとして、テトラフルオロエチレン、パーフルオロアルキルビニルエーテルが記載されている。
また、非特許文献１には、燃料電池分離膜として１，２，２−トリフルオロスチレン（パーフルオロビニルベンゼン）が記載されている。

特開２００６−９０１０号公報 特開２００９−２４２７８２号公報 特開平１１−１９９７４３号公報 ＷＯ１９９８／０３６９０１号公報 特開２０００−３２７８４６号公報 特開２０１２−２１１３４７号公報

Ａ．Ｒａｇｈａｖａｎｐｉｌｌａｉ，ｅｔ ａｌ．， Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，２００４，ｖｏｌ．６９，ｐｐ．７０８３−７０９１

本発明は、上記課題に鑑みて為されたものであって、架橋フルオロエラストマーの耐熱性と耐蒸気性を改善し得る架橋剤、及び耐熱性と耐蒸気性が改善された架橋フルオロエラストマーを提供することをその目的の一つとする。
また、本発明は、架橋剤として使用できる新規なフッ素含有芳香族化合物を提供することをその目的の一つとする。

本発明の一態様によれば、下記式（１）で表わされる化合物からなる架橋剤が提供される。

（式（１）中、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３はそれぞれ独立して、フッ素原子、アルキル基、フッ化アルキル基、又は置換又は無置換のアリール基である。複数のＲ^１は同じでも異なってもよい。複数のＲ^２は同じでも異なってもよい。複数のＲ^３は同じでも異なってもよい。ただしＲ^１，Ｒ^２，Ｒ^３の少なくとも１つはフッ素原子又はフッ素原子を含む基である。ｍは２〜６の整数であり、ｌは０〜２の整数である。ベンゼン環の水素は置換されていてもよい。）

本発明の他の態様によれば、下記式（３）で表わされる構造を２以上有する化合物からなる架橋剤が提供される。

（式（３）中、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３はそれぞれ独立して、フッ素原子、アルキル基、フッ化アルキル基、又は置換又は無置換のアリール基である。複数のＲ^１は同じでも異なってもよい。複数のＲ^２は同じでも異なってもよい。複数のＲ^３は同じでも異なってもよい。ただしＲ^１，Ｒ^２，Ｒ^３の少なくとも１つはフッ素原子又はフッ素原子を含む基である。ｎは、それぞれ、１〜５の整数である。ベンゼン環の水素は置換されていてもよい。）

本発明の他の態様によれば、フルオロエラストマー、開始剤、及び上記架橋剤を含む組成物が提供される。

本発明の他の態様によれば、上記組成物を、架橋させた架橋フルオロエラストマーが提供される。

本発明の他の態様によれば、上記架橋フルオロエラストマーから得られる成形体が提供される。

本発明の他の態様によれば、下記式（１）で表わされる化合物が提供される。

（式（１）中、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３はそれぞれ独立して、フッ素原子、アルキル基、フッ化アルキル基、又は置換又は無置換のアリール基である。複数のＲ^１は同じでも異なってもよい。複数のＲ^２は同じでも異なってもよい。複数のＲ^３は同じでも異なってもよい。ただしＲ^１，Ｒ^２，Ｒ^３の少なくとも１つはフッ素原子又はフッ素原子を含む基である。ｍは２〜６の整数であり、ｌは０〜２の整数である。ベンゼン環の水素は置換されていてもよい。）

本発明の他の態様によれば、下記式（４）で表わされる化合物が提供される。

（式（４）中、Ａは、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、ヘテロ原子含有基、直鎖又は分枝のアルキレン基、シクロアルキレン基、又はアリーレン基であり、これらの基は一部又は全部がフッ素化されていてもよい。Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３はそれぞれ独立して、フッ素原子、アルキル基、フッ化アルキル基、又は置換又は無置換のアリール基である。複数のＲ^１は同じでも異なってもよい。複数のＲ^２は同じでも異なってもよい。複数のＲ^３は同じでも異なってもよい。ただしＲ^１，Ｒ^２，Ｒ^３の少なくとも１つはフッ素原子又はフッ素原子を含む基である。ｎは、それぞれ、１〜５の整数である。ただし、Ａが単結合で、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３がフッ素原子で、２つのｎが１である化合物は除く。ベンゼン環の水素は置換されていてもよい。）

本発明の他の態様によれば、下記式（５）で表わされる化合物が提供される。

（式（５）中、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３はそれぞれ独立して、フッ素原子、アルキル基、フッ化アルキル基、又は置換又は無置換のアリール基である。複数のＲ^１は同じでも異なってもよい。複数のＲ^２は同じでも異なってもよい。複数のＲ^３は同じでも異なってもよい。ただしＲ^１，Ｒ^２，Ｒ^３の少なくとも１つはフッ素原子又はフッ素原子を含む基である。оは１又は０であり、ｑは、それぞれ、１〜３の整数である。ベンゼン環の水素は置換されていてもよい。）

本発明の他の態様によれば、３００℃の飽和水蒸気に２２時間晒した前後の、パーフルオロカーボン溶液に２１〜２５℃で７２時間浸漬し、取り出した後の重量膨潤率の変化率が、７０％以下である、架橋フルオロエラストマーが提供される。

本発明によれば、架橋フルオロエラストマーの耐熱性と耐蒸気性を改善し得る架橋剤、及び耐熱性と耐蒸気性が改善された架橋フルオロエラストマーを提供することができる。
また、本発明によれば、架橋剤として使用できる新規なフッ素含有芳香族化合物を提供することができる。

以下に、本発明の一実施形態について説明する。なお、本発明は、本実施形態に限られるものではない。

本発明の架橋剤の一形態は、下記式（１）で表わされる化合物からなる。

上記式（１）中、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３はそれぞれ独立して、フッ素原子、アルキル基、フッ化アルキル基、又は置換又は無置換のアリール基である。複数のＲ^１は同じでも異なってもよい。複数のＲ^２は同じでも異なってもよい。複数のＲ^３は同じでも異なってもよい。ただしＲ^１，Ｒ^２，Ｒ^３の少なくとも１つはフッ素原子又はフッ素原子を含む基である。フッ素原子を含む基として、例えば、フッ化アルキル基、又はフッ素原子又はフッ化アルキル基で置換されたアリール基が挙げられる。

アルキル基又はフッ化アルキル基のアルキル基は、直鎖でも分枝でもよく、炭素数は好ましくは１〜１５（より好ましくは炭素数１〜６）である。
フッ化アルキル基は、アルキル基が一部又は全部フッ素化されていてよい。好ましくはパーフルオロアルキル基である。

アリール基の炭素数は好ましくは６〜１８（より好ましくは炭素数６〜１２）である。アリール基として、フェニル、ナフチル等が挙げられる。
アリール基の置換基は、フッ素原子、直鎖又は分枝のアルキル基、シクロアルキル基、又はアリール基等であり、これらの基は一部又は全部がフッ素化されていてもよい。直鎖又は分枝のアルキル基の炭素数は好ましくは１〜１５（より好ましくは炭素数１〜６）である。シクロアルキル基の炭素数は好ましくは３〜８（より好ましくは炭素数３〜６）である。アリール基の炭素数は好ましくは６〜１８（より好ましくは炭素数６〜１２）である。

Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３は好ましくはそれぞれ独立して、フッ素原子、アルキル基、又はフッ化アルキル基である。Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３は好ましくは２以上がフッ素原子であり、より好ましくは全てフッ素原子である。

−ＣＲ^１＝ＣＲ^２Ｒ^３（含フッ素置換ビニル基）として以下の基を例示できる。ｍ個の−ＣＲ^１＝ＣＲ^２Ｒ^３は同じでも異なってもよい。

上記式（１）中、ｍは２，３，４，５，又は６であり、好ましくは２である。
上記式（１）中、ｌは０，１又は２である。好ましくは０である。

前記式（１）で表わされる化合物としては、下記式（２）、（６）及び（７）で表わされる化合物が挙げられる。

上記式（２），（６），（７）中、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３、ｍは上記と同様である。

上記式（２）中、ｍが２である場合、２つの−ＣＲ^１＝ＣＲ^２Ｒ^３は、オルト位、メタ位又はパラ位のいずれであってもよいが、パラ位であることが好ましい。

本発明の架橋剤の他の形態としては、下記式（３）で表わされる構造を２以上有する化合物からなる。この化合物において、式（３）に含まれるベンゼン環は、他の基又は環と結合してもよく、他の環と縮合していてもよい。

上記式（３）中、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３は式（１）と同じである。ｎは、それぞれ、１，２，３，４又は５である。

前記式（３）で表わされる構造を２以上有する化合物のなかで好適なものとしては、下記式（４）で表わされる化合物が挙げられる。

式（４）中、Ａは、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、ヘテロ原子含有基、直鎖又は分枝のアルキレン基、シクロアルキレン基、又はアリーレン基であり、これらの基は一部又は全部がフッ素化されていてもよい。例えば、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基がフッ素化される。
直鎖又は分枝のアルキレン基の炭素数は好ましくは１〜１５（より好ましくは炭素数１〜６）である。シクロアルキレン基の炭素数は好ましくは３〜８（より好ましくは炭素数３〜６）である。アリーレン基の炭素数は好ましくは炭素数が６〜１８（より好ましくは炭素数６〜１２）である。

前記アルキレン基として、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等が例示できる。前記アリーレン基として、フェニレン、ナフタレニレン等が例示できる。

上記式（４）中、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３、ｎは前記と同様である、
上記式（４）中、ｎが１である場合、Ａと−ＣＲ^１＝ＣＲ^２Ｒ^３は、オルト位、メタ位又はパラ位のいずれであってもよいが、パラ位であることが好ましく、Ａと２つの−ＣＲ^１＝ＣＲ^２Ｒ^３が、ともにパラ位であることがより好ましい。

前記式（４）で表わされる化合物の具体例として、下記式（８）〜（１０）で表わされる化合物が挙げられる。

上記式中、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３は前記と同様である。ｔは好ましくは１〜１５（より好ましくは炭素数１〜６）である。

上記式（３）で表わされる化合物の具体例として、以下のような化合物（架橋剤（ａ）〜（ｋ））が挙げられる。

また、前記式（１）で表わされる化合物、又は前記式（３）で表わされる構造を２以上有する化合物として、下記式（５）で表わされる化合物が挙げられる。

上記式（５）中、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３は上記と同じである。
上記式（５）中、оは１又は０であり、０であることが好ましい。
上記式（５）中、ｑはそれぞれ、１，２，３，４である。

前記式（５）で表わされる化合物の具体例として、下記式（１１）で表わされる化合物及び下記式（１２）で表わされる化合物が挙げられる。

上記式（１１），（１２）中、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３、ｑは前記と同様である。
上記式において、ｑが共に１のとき、２つの−ＣＲ^１＝ＣＲ^２Ｒ^３は互いに最も離れた位置にあると効率的に架橋でき好ましい。

上記式（１）〜（１２）において、ベンゼン環の水素はそれぞれ独立して置換されていてもよい。置換基は、フッ素原子、アルキル基、フッ化アルキル基、シクロアルキル基、フッ化シクロアルキル基、又は置換又は無置換のアリール基等である。フッ化アルキル基とフッ化シクロアルキル基は一部又は全部がフッ素化されていてもよい。
アルキル基は直鎖でも分枝でもよく、炭素数は好ましくは１〜１５（より好ましくは炭素数１〜６）である。シクロアルキル基の炭素数は好ましくは３〜８（より好ましくは炭素数３〜６）である。アリール基の炭素数は好ましくは６〜１８（より好ましくは炭素数６〜１２）である。アリール基の置換基は前述したＲ^１と同じである。

前記アルキル基として、メチル基、エチル基、プロピル基等が例示できる。前記アリーレン基として、フェニレン、ナフタレニレン等が例示できる。

本発明の組成物は、上記の架橋剤、フルオロエラストマー及び開始剤を含有する。

架橋剤は、フルオロエラストマー１００ｇに対して、好ましくは０．５〜３０ｍｍｏｌ、より好ましくは１〜１５ｍｍｏｌ、より好ましくは１．５〜１３ｍｍｏｌ、より好ましくは２〜１０ｍｍｏｌ、さらに好ましくは２．５〜８ｍｍｏｌ添加する。添加量が多い程、耐蒸気性、耐熱性が改善される傾向が有る。ただし多すぎると硬くなる恐れが有る。

前記フルオロエラストマーは、パーフルオロエラストマーでもよく、また一部がフッ素化されているエラストマーでもよい。
例えば、以下のモノマー由来の繰返し単位を例示できる。１又は２以上のモノマー由来の繰返し単位を含むことができる。
ＣＦ_２＝ＣＨ_２（ビニリデンフロライド）、
ＣＦ_２＝ＣＦ_２（テトラフルオロエチレン）、
ＣＦ_２＝ＣＦＣＦ_３（ヘキサフルオロプロピレン）、
ＣＨ_２＝ＣＨ_２、
ＣＨ_２＝ＣＨＣＨ_３

本発明で用いるフルオロエラストマーは、架橋（硬化）の際のラジカルのアタック部位として、好ましくはヨウ素及び／又は臭素、より好ましくはヨウ素を含む。過酸化方法により硬化可能なパーフルオロエラストマーは、例えば特許文献１等に記載されている。

パーフルオロエラストマーは一般に、全ポリマー重量に関して０．００１重量％〜５重量％、好ましくは０．０１重量％〜２．５重量％でヨウ素を含む。ヨウ素原子は鎖に沿って及び／又は末端位に存在し得る。

パーフルオロエラストマーは、好ましくは末端位に、エチレンタイプの１つの不飽和を有するパーフッ素化オレフィン等のコポリマーから製造される。
コモノマーとして以下を例示できる。
・ ＣＦ_２＝ＣＦＯＲ_２ｆ （パー）フルオロアルキルビニルエーテル類（ＰＡＶＥ）
（式中、Ｒ_２ｆは炭素数１〜６の（パー）フルオロアルキル、例えばトリフルオロメチルまたはペンタフルオロプロピルである）
・ ＣＦ_２＝ＣＦＯＸ_ｏ （パー）フルオロオキシアルキルビニルエーテル類
（式中、Ｘ_ｏは１以上のエーテル基を含む炭素数１〜１２の（パー）フルオロオキシアルキル、例えばパーフルオロ−２−プロポキシプロピルである）
・ ＣＦＸ_２＝ＣＸ_２ＯＣＦ_２ＯＲ’’_ｆ （Ｉ−Ｂ）
（式中、Ｒ’’_ｆは、炭素数２〜６直鎖又は分枝（パー）フルオロアルキル、炭素数５，６の環状（パー）フルオロアルキル、又は酸素原子１〜３個を含む炭素数２〜６の直鎖又は分枝（パー）フルオロオキシアルキルであり、Ｘ_２はＦ又はＨである）

式（Ｉ−Ｂ）の（パー）フルオロビニルエーテル類は、好ましくは、以下の式で表わされる。
ＣＦＸ_２＝ＣＸ_２ＯＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｙ （ＩＩ−Ｂ）
（式中、Ｙ＝Ｆ、ＯＣＦ_３；Ｘ_２は上記で定義したとおりである）

下記式のパーフルオロビニルエーテル類がより好ましい。
ＣＦ_２＝ＣＦＯＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_３ （ＭＯＶＥ１）
ＣＦ_２＝ＣＦＯＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_３ （ＭＯＶＥ２）

好ましいモノマー組成物として、以下を例示できる。
テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ） ５０〜８５モル％、ＰＡＶＥ １５〜５０モル％；
ＴＦＥ ５０〜８５モル％、ＭＯＶＥ １５〜５０モル％。

フルオロエラストマーは、ビニリデンフルオライド由来のユニット、塩素及び／又は臭素を含んでもよい炭素数３〜８のフルオロオレフィン類、炭素数３〜８の非フッ化オレフィン類を含むこともできる。

開始剤は、通常使用されるものを使用できる。例えば、過酸化物、アゾ化合物等を例示できる。

開始剤は、フルオロエラストマー１００ｇに対して、好ましくは０．３〜３５ｍｍｏｌ、より好ましくは１〜１５ｍｍｏｌ、さらに好ましくは１．５〜１０ｍｍｏｌ添加する。添加量が多い程、耐蒸気性、耐熱性が改善される傾向が有る。ただし多すぎるとスコーチや発泡する恐れが有る。

上記フルオロエラストマー組成物は、架橋補助剤を含んでいてもよい、
架橋補助剤としては、酸化亜鉛、活性アルミナ、酸化マグネシウム、第四級アンモニウム塩、第四級ホスホニウム塩、アミン等が挙げられる。架橋補助剤を含むことにより、架橋効率、耐熱性を向上できる。架橋補助剤は、フルオロエラストマー１００ｇに対して、通常０．１〜１０ｇ添加する。

上記フルオロエラストマー組成物には、機械的強度を高める目的で充填剤を配合することができる。充填剤は、本発明の効果を損なわない限り、エラストマーの充填剤として一般的に知られているものを使用できる。例えば、カーボンブラック、シリカ、硫酸バリウム、二酸化チタン、半晶質フルオロポリマー、パーフルオロポリマーが挙げられる。

また、必要に応じて、増粘剤、顔料、カップリング剤、酸化防止剤、安定剤等を適量配合することも可能である。

本発明の組成物を架橋させて、架橋フルオロエラストマーが得られる。
一段階加熱の場合は、架橋条件は、１００〜２５０℃で１０分〜５時間加熱するのが好ましい。
二段階加熱の場合は、通常、一次架橋として、金型に原料を入れプレス加工しながら架橋する。１次架橋は、例えば、１５０〜２００℃で５〜６０分加熱する。その後、金型から外して、２次架橋する。２次架橋は、例えば、１５０〜３００℃で１〜１００時間加熱する。架橋は電気炉等を用いておこなうことができる。２次架橋で熱履歴を与えることにより、使用中の変形等を防ぐことができる。

架橋は、不活性ガス雰囲気又は大気中で行ってよい。
不活性ガスとして、窒素、ヘリウム、アルゴン等を用いることができ、窒素が好ましい。不活性ガス雰囲気下において、酸素濃度は、好ましくは、１０ｐｐｍ以下、より好ましくは、５ｐｐｍ以下である。

本発明の製法で得られる架橋フルオロエラストマーは、シール材として使用でき、ガスケット又はシールリング等の成形体にして使用できる。

本発明の製法によれば、実施例に記載の方法で測定した、３００℃の飽和水蒸気に２２時間晒す前後の重量膨潤変化率が、７０％以下である成形体が得られる。重量膨潤変化率は好ましくは６５％以下、より好ましくは５５％以下である。

＜フッ素含有芳香族化合物の合成＞
実施例１
架橋剤（ａ）（ＣＦ_２＝ＣＦ−Ｐｈ−ＣＦ＝ＣＦ_２）の合成
ドライアイスコンデンサーとセプタムを取り付けた５００ｍｌ二口フラスコをＡｒ置換し、脱水テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）３０ｍｌに塩化亜鉛（ＺｎＣｌ_２）を２．１８ｇ（１６ｍｍｏｌ）溶解させたＴＨＦ溶液を加えた。このＺｎＣｌ_２／ＴＨＦ溶液を１５℃まで冷却し、ＣＦ_３ＣＨ_２Ｆ ２ｍｌ（２４ｍｍｏｌ）を加えた。さらに１０℃に冷却し、Ｌｉｔｈｉｕｍ Ｄｉｉｓｏｐｒｏｐｙｌａｍｉｄｅ（ｃａ． ２０％ ｉｎ Ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｆｕｒａｎ／Ｅｔｈｙｌｂｅｎｚｅｎｅ／Ｈｅｐｔａｎｅ， ｃａ． １．５ｍｏｌ／Ｌ）２２ｍｌ（３３ｍｍｏｌ）をシリンジを用いて加えた（針をＣＦ_３ＣＨ_２Ｆ／ＺｎＣｌ_２／ＴＨＦ溶液に浸し、徐々に添加した）。
１５℃で１時間攪拌し、１，４−Ｄｉｉｏｄｏｂｅｎｚｅｎｅ １．４３０ｇ（４．３ｍｍｏｌ）とＴｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）１７５．３ｍｇ（０．１５２ｍｍｏｌ）を加え、室温で２４時間攪拌させた。その後、溶液が５〜１０ｍｌ程度になるまで濃縮し、ペンタン・ヘキサン・ジエチルエーテル等を用いてデカンテーションにより目的の化合物を抽出した。抽出液を濃縮し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン）により単離し、目的の化合物（ＣＦ_２＝ＣＦ−Ｐｈ−ＣＦ＝ＣＦ_２）を透明液体で得た（Ｐｈはパラ−フェニレン基である）（０．１９ｇ、０．８ｍｍｏｌ）。
１９ＦＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：−９８．５（ｄｄ，Ｊ＝７２．８，３４．０Ｈｚ，２Ｆ），−１１３．５（ｄｄ，Ｊ＝１１４．４，７０．４Ｈｚ，２Ｆ），−１７８．２（ｄｄ，Ｊ＝１１６．８，３６．４Ｈｚ，２Ｆ）
１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：７．５（ｓ，４Ｈ）

実施例２
架橋剤（ｈ）（ＣＦ_２＝ＣＦ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＣＦ＝ＣＦ_２）の合成
ドライアイスコンデンサーとセプタムを取り付けた５００ｍｌ二口フラスコをＡｒ置換し、脱水テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１００ｍｌに塩化亜鉛（ＺｎＣｌ_２）を６．８１４ｇ（５０ｍｍｏｌ）溶解させたＴＨＦ溶液を加えた。このＺｎＣｌ_２／ＴＨＦ溶液を１５℃まで冷却し、ＣＦ_３ＣＨ_２Ｆ ６ｍｌ（７２ｍｍｏｌ）を加えた。さらに１０℃に冷却し、Ｌｉｔｈｉｕｍ Ｄｉｉｓｏｐｒｏｐｙｌａｍｉｄｅ（ｃａ． ２０％ ｉｎ Ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｆｕｒａｎ／Ｅｔｈｙｌｂｅｎｚｅｎｅ／Ｈｅｐｔａｎｅ， ｃａ． １．５ｍｏｌ／Ｌ）６６．７ｍｌ（１００ｍｍｏｌ）をシリンジを用いて加えた（針をＣＦ_３ＣＨ_２Ｆ／ＺｎＣｌ_２／ＴＨＦ溶液に浸し、溶かし込むようにして添加した）。
１５℃で１時間攪拌し、４，４’−Ｄｉｉｏｄｏｂｉｐｈｅｎｙｌ ５．６８４ｇ（１４ｍｍｏｌ）とＴｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）５６６．２ｍｇ（０．４９ｍｍｏｌ）を加え、室温で２４時間攪拌させた。その後、溶液が２０ｍｌ程度になるまで濃縮し、ペンタン・ヘキサン・ジエチルエーテルを用いてデカンテーションにより目的の化合物を抽出した。抽出液を濃縮し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン）により高純度で分取し、ヘキサン・ペンタンを用いて再結晶により目的の化合物（ＣＦ_２＝ＣＦ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＣＦ＝ＣＦ_２）を白色固体で得た（１．７６ｇ、５．６ｍｍｏｌ）。
１９ＦＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：−９９．５（ｄｄ，Ｊ＝７５．２，３３．６Ｈｚ，２Ｆ），−１１４．３（ｄｄ，Ｊ＝１１４．０，７２．８Ｈｚ，２Ｆ），−１７７．６（ｄｄ，Ｊ＝１１６．８，３４．０Ｈｚ，２Ｆ）
１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：７．６（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，４Ｈ），７．７（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，４Ｈ）

実施例３
架橋剤（ｃ）（ＣＦ_２＝ＣＦ−Ｐｈ−Ｃ（ＣＦ_３）_２−Ｐｈ−ＣＦ＝ＣＦ_２）の合成
（１）Ｉ−Ｐｈ−Ｃ（ＣＦ_３）_２−Ｐｈ−Ｉの合成
１０００ｍｌナスフラスコにＳｏｄｉｕｍ Ｎｉｔｒｉｔｅ ２．４８ｇ（３６ｍｍｏｌ）と蒸留水を３５０ｍｌ加え、０℃まで冷却した。この溶液に６Ｍ ＨＣｌ １５ｍｌを１．５ｍｌ／ｍｉｎのスピードで加えた。さらに、２，２−Ｂｉｓ（４−ａｍｉｎｏｐｈｅｎｙｌ）ｈｅｘａｆｌｕｏｒｏｐｒｏｐａｎｅ ５．０１ｇ（１５ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−Ｄｉｍｅｔｈｙｌｆｏｒｍａｍｉｄｅ ３０ｍｌに溶かした溶液を、２．５〜３ｍｌ／ｍｉｎのスピードで加え、０〜３℃の状態で３０分攪拌した。その後Ｐｏｔａｓｓｉｕｍ Ｉｏｄｉｄｅ １２．４５ｇ（７５ｍｍｏｌ）を蒸留水３０ｍｌに溶かした溶液を０〜３℃の状態でゆっくり滴下し、沈殿物が生成してきたらＮ，Ｎ−Ｄｉｍｅｔｈｙｌｆｏｒｍａｍｉｄｅを適時加えた（最終的に２５０ｍｌ程度）。１時間０℃〜３℃の状態で攪拌したのち、室温にて１２時間攪拌した。
反応後の溶液をエーテル５００ｍｌで抽出し、チオ硫酸ナトリウム水溶液１００ｍｌで数回洗浄し、さらに蒸留水で洗浄しＮ，Ｎ−Ｄｉｍｅｔｈｙｌｆｏｒｍａｍｉｄｅを除去した。その後、溶液が５〜１０ｍｌ程度になるまで濃縮し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン）により精製し、目的の化合物を白色針状結晶で２０％の収率で得た。（１．６ｇ、３ｍｍｏｌ）
１９ＦＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：−６４．３６１（ｓ，６Ｆ）
１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：７．１（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，４Ｈ），７．７（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，４Ｈ）

（２）ＣＦ_２＝ＣＦ−Ｐｈ−Ｃ（ＣＦ_３）_２−Ｐｈ−ＣＦ＝ＣＦ_２の合成
ドライアイスコンデンサーとセプタムを取り付けた５００ｍｌ二口フラスコをＡｒ置換し、脱水テトラフドロフラン（ＴＨＦ）３０ｍｌに塩化亜鉛（ＺｎＣｌ_２）を２．１８ｇ（１６ｍｍｏｌ）溶解させたＴＨＦ溶液を加えた。このＺｎＣｌ_２／ＴＨＦ溶液を１５℃まで冷却し、ＣＦ_３ＣＨ_２Ｆ ２ｍｌ（２４ｍｍｏｌ）を加えた。さらに１０℃に冷却し、Ｌｉｔｈｉｕｍ Ｄｉｉｓｏｐｒｏｐｙｌａｍｉｄｅ （ｃａ． ２０％ ｉｎ Ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｆｕｒａｎ／Ｅｔｈｙｌｂｅｎｚｅｎｅ／Ｈｅｐｔａｎｅ， ｃａ． １．５ｍｏｌ／Ｌ）２２ｍｌ（３３ｍｍｏｌ）をシリンジを用いて加えた（針をＣＦ_３ＣＨ_２Ｆ／ＺｎＣｌ_２／ＴＨＦ溶液に浸し、徐々に添加した）。
１５℃で１時間攪拌し、Ｉ−Ｐｈ−Ｃ（ＣＦ_３）_２−Ｐｈ−Ｉ ２．３９１ｇ（４．３ｍｍｏｌ）とＴｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）１７５．３ｍｇ（０．１５２ｍｍｏｌ）を加え、室温で２４ｈ攪拌させた。その後、溶液が５〜１０ｍｌ程度になるまで濃縮し、ペンタン・ヘキサン・ジエチルエーテル等を用いてデカンテーションにより目的の化合物を抽出した。抽出液を濃縮し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン）により単離し、目的の化合物を粘性透明液体の状態で２０％の収率で得た。（０．４ｇ、０．８６ｍｍｏｌ）
１９ＦＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：−６４．２（ｓ，６Ｆ），−９８．１（ｄｄ，Ｊ＝７０．４，３６．４Ｈｚ，２Ｆ），−１１３．２（ｄｄ，Ｊ＝１１６．８，７０．０Ｈｚ，２Ｆ），−１７８．８（ｄｄ，Ｊ＝１１４．４，３４．０Ｈｚ，２Ｆ）
１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：７．５（ｄｄ，Ｊ＝１８，８．８Ｈｚ，８Ｈ）

実施例４
架橋剤（ｄ）（ＣＦ_２＝ＣＦ−Ｐｈ−（ＣＦ_２）_６−Ｐｈ−ＣＦ＝ＣＦ_２）の合成

（１）ＮＨ_２−Ｐｈ−（ＣＦ_２）_６−Ｐｈ−ＮＨ_２の合成
４−Ｉｏｄｏａｎｉｌｉｎｅ ２ｍｍｏｌ、Ｃｕ粉末４ｍｍｏｌ、ドデカフルオロ−１，６−ジヨードヘキサン１ｍｍｏｌをＤＭＳＯ（ジメチルスルホキシド）に溶かし、窒素雰囲気、還流条件下、１６０℃で３時間加熱した。反応後の溶液をエーテルで抽出し、さらに蒸留水で洗浄した。その後、溶液が５〜１０ｍｌ程度になるまで濃縮し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン）により精製した。

（２）Ｉ−Ｐｈ−（ＣＦ_２）_６−Ｐｈ−Ｉの合成
１０００ｍｌナスフラスコにＳｏｄｉｕｍ Ｎｉｔｒｉｔｅ ３６ｍｍｏｌと蒸留水を３５０ｍｌ加え、０℃まで冷却した。この溶液に６Ｍ ＨＣｌ １５ｍｌを１．５ｍｌ／ｍｉｎのスピードで加えた。さらに、ＮＨ_２−Ｐｈ−（ＣＦ_２）_６−Ｐｈ−ＮＨ_２ １５ｍｍｏｌをＮ，Ｎ−Ｄｉｍｅｔｈｙｌｆｏｒｍａｍｉｄｅ ３０ｍｌに溶かした溶液を、２．５〜３ｍｌ／ｍｉｎのスピードで加え、０〜３℃の状態で３０分攪拌した。その後Ｐｏｔａｓｓｉｕｍ Ｉｏｄｉｄｅ ７５ｍｍｏｌを蒸留水３０ｍｌに溶かした溶液を０〜３℃の状態でゆっくり滴下し、沈殿物が生成してきたらＮ，Ｎ−Ｄｉｍｅｔｈｙｌｆｏｒｍａｍｉｄｅを適時加えた（最終的に２５０ｍｌ程度）。１時間０℃〜３℃の状態で攪拌したのち、室温にて１２時間攪拌した。
反応後の溶液をエーテル５００ｍｌで抽出し、チオ硫酸ナトリウム水溶液１００ｍｌで数回洗浄し、さらに蒸留水で洗浄しＮ，Ｎ−Ｄｉｍｅｔｈｙｌｆｏｒｍａｍｉｄｅを除去した。その後、溶液が５〜１０ｍｌ程度になるまで濃縮し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン）により精製した。

（３）ＣＦ_２＝ＣＦ−Ｐｈ−（ＣＦ_２）_６−Ｐｈ−ＣＦ＝ＣＦ_２の合成
ドライアイスコンデンサーとセプタムを取り付けた５００ｍｌ二口フラスコをＡｒ置換し、脱水テトラフドロフラン（ＴＨＦ）３０ｍｌに塩化亜鉛（ＺｎＣｌ_２）を１６ｍｍｏｌ溶解させたＴＨＦ溶液を加えた。このＺｎＣｌ_２／ＴＨＦ溶液を１５℃まで冷却し、ＣＦ_３ＣＨ_２Ｆ ２４ｍｍｏｌを加えた。さらに１０℃に冷却し、Ｌｉｔｈｉｕｍ Ｄｉｉｓｏｐｒｏｐｙｌａｍｉｄｅ （ｃａ． ２０％ ｉｎ Ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｆｕｒａｎ／Ｅｔｈｙｌｂｅｎｚｅｎｅ／Ｈｅｐｔａｎｅ， ｃａ． １．５ｍｏｌ／Ｌ）３３ｍｍｏｌをシリンジを用いて加えた（針をＣＦ_３ＣＨ_２Ｆ／ＺｎＣｌ_２／ＴＨＦ溶液に浸し、徐々に添加した）。
１５℃で１時間攪拌し、Ｉ−Ｐｈ−（ＣＦ_２）_６−Ｐｈ−Ｉ ４．３ｍｍｏｌとＴｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０） ０．１５２ｍｍｏｌを加え、室温で２４ｈ攪拌した。その後、溶液が５〜１０ｍｌ程度になるまで濃縮し、ペンタン・ヘキサン・ジエチルエーテル等を用いてデカンテーションにより目的の化合物を抽出した。抽出液を濃縮し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン）により単離した。
融点：９３℃

実施例５
架橋剤（ｆ）（ＣＦＣＦ_３＝ＣＦ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＣＦ＝ＣＦＣＦ_３）の合成
セプタムを取り付けた５００ｍｌ二口フラスコをＡｒ置換し、４，４’−Ｄｉｉｏｄｏｂｉｐｈｅｎｙｌ １２．１８ｇ（３０ｍｍｏｌ）と脱水テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を３５０ｍｌ加え、−８０℃で攪拌した。この懸濁液にｎ−Ｂｕｔｙｌｌｉｔｈｉｕｍ（約１５％ヘキサン溶液，約１．６ｍｏｌ／Ｌ） ４２ｍｌ（７０ｍｍｏｌ）を、ゆっくりと滴下し、−５０℃で３０分攪拌することでＬｉ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｌｉを調製した。
次に、ドライアイスコンデンサーとセプタムを取り付けた５００ｍｌ二口フラスコをＡｒ置換し、ＴＨＦ３００ｍｌを加えた。この溶液を−８０℃まで冷却し、１，１，１，２，３，３−Ｈｅｘａｆｌｕｏｒｏｐｒｏｐｙｌｅｎｅ １１ｍｌ（９０ｍｍｏｌ）をバブリングしながら加えた。さらに先ほど調製したＬｉ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｌｉをシリンジを用いて加え（針をＨｅｘａｆｌｕｏｒｏｐｒｏｐｙｌｅｎｅ／ＴＨＦ溶液に浸し、溶かし込むようにして添加した）、−８０℃で１ｈ攪拌した。その後２時間かけて徐々に室温まで温度を上げ、一晩攪拌させた。
一晩攪拌させた溶液を２０ｍｌ程度になるまで濃縮し、ヘキサンを用いてデカンテーションにより目的の化合物を抽出した。抽出液を濃縮し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ｎ−ヘキサン）により高純度で分取し、得られた結晶をヘキサンに溶かし、濃縮・再結晶（ペンタンで数回洗浄）することで目的の化合物（ＣＦＣＦ_３＝ＣＦ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＣＦ＝ＣＦＣＦ_３）を白色結晶で３０％の収率で得た。（４ｇ、１２ｍｍｏｌ）
１９ＦＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：−６７．３（ｄｄ，Ｊ＝２３．２，１０．４Ｈｚ，６Ｆ），−１４７．２（ｑ，Ｊ＝４６．８，２３．２Ｈｚ，１Ｆ），−１４７．２（ｑ，Ｊ＝４６．８，２３．６Ｈｚ，１Ｆ），−１６８．７（ｑ，Ｊ＝２３．２，１２．８Ｈｚ，１Ｆ），−１６９．０（ｑ，Ｊ＝２３．６，１０．４Ｈｚ，１Ｆ）
１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：７．７８（ｄｄ，Ｊ＝２６，８．４Ｈｚ，８Ｈ）
融点：１３８℃

＜架橋フルオロエラストマーの成形体の製造＞
実施例６
ＰＦＲ９４（ソルベイ社製）（フルオロエラストマー）、パーヘキサ２５Ｂ−４０実施例６では（日油社製）（２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン）（開始剤）（フルオロエラストマー１００ｇに対して、４）ｇ（５．５ｍｍｏｌ）、ＺｎＯ（堺化学工業社製）（架橋補助剤）（フルオロエラストマー１００ｇに対して、３ｇ）、活性アルミナＫＣ−５０１（住友化学社製）（架橋補助剤）（フルオロエラストマー１００ｇに対して、３ｇ）、及び実施例１で製造した架橋剤（ａ）（フルオロエラストマー１００ｇに対して、４．２ｍｍоｌ）をオープンロールで混練した後、型に入れて１７０℃の温度で１５分間熱処理して、プレス成形しながら１次架橋した。次いで、型から外して、大気中で、２９０℃で１６時間熱処理（８時間かけて昇温した後）して、架橋フルオロエラストマーの成形体を得た。成形体の形状は円盤状（直径４０ｍｍ、厚さ２ｍｍ）とＯリング（線径３．５３ｍｍ、内径２４．９９ｍｍ）とした。

実施例７
ＰＦＲ９４（ソルベイ社製）（フルオロエラストマー）、パーヘキサ２５Ｂ（日油社製）（開始剤）（フルオロエラストマー１００ｇに対して、１ｇ（３．４ｍｍｏｌ））、及び実施例２で製造した架橋剤（ｈ）（フルオロエラストマー１００ｇに対して、１１．１ｍｍоｌ）をオープンロールで混練した。その後、実施例６と同様の方法で成形体を得た。

比較例１
架橋剤（ａ）に代えて、フッ化ジエン（１，６−ジビニルパーフルオロヘキサン）（ＣＨ_２＝ＣＨ−（ＣＦ_２）_６−ＣＨ＝ＣＨ_２）（東ソー・エフテック社製）（フルオロエラストマー１００ｇに対して、４．２ｍｍоｌ）を用いた以外、実施例６と同様にして、架橋フルオロエラストマーを製造し、成形体を得た。

比較例２
架橋剤（ｈ）に代えて、フッ化ジエン（１，６−ジビニルパーフルオロヘキサン）（ＣＨ_２＝ＣＨ−（ＣＦ_２）_６−ＣＨ＝ＣＨ_２）（東ソー・エフテック社製）（フルオロエラストマー１００ｇに対して、４．２ｍｍоｌ）を用いた以外、実施例７と同様にして、架橋フルオロエラストマーを製造し、成形体を得た。

比較例３
架橋剤（ａ）に代えて、ＴＡＩＣ（日本化成社製）（フルオロエラストマー１００ｇに対して、４．２ｍｍоｌ）を用いた以外、実施例６と同様にして、架橋フルオロエラストマーを製造し、成形体を得た。

評価例１
実施例６と比較例１，３で得られた円盤状成形体から、直径１３ｍｍの円盤を打ち抜き、この円盤について、以下の方法で乾熱３２０℃耐熱試験を行った。結果を表１に示す。

評価は、３２０℃のギヤーオーブンにて７０時間又は９２時間加熱した前後での重量変化率を測定して行った。また外観変化を観察して行った。重量変化率は、以下の式により、計算にて求めた。

外観の評価について、変化が見られなかった場合を「変化なし」、溶解が観測されたが、形状には変化がなかった場合を「若干溶解」、溶解が観測され、形状に欠けが生じた場合を「溶解１」、溶解が観測され、内部が空洞化した場合を「溶解２」、及び溶解が観測され、形状を保持できなくなった場合を「溶解３」とした。

評価例２
実施例６，７と比較例１，２で得られた円盤状成形体から、直径１３ｍｍの円盤を打ち抜き、この円盤について、温度を３３０℃、時間を２２時間及び４４時間とした以外、評価例１と同様にして耐熱試験を行った。結果を表２に示す。ここで表中の「−」は、２２時間の評価で、成形体サンプルが溶解し、形状を保持できなくなったため試験を行わなかったことを意味する。

評価例３
実施例６，７と比較例１，２で得られた円盤状成形体から、直径１３ｍｍの円盤を打ち抜き、この円盤について、以下の方法で耐蒸気性の評価を行った。結果を表３に示す。

（１）重量膨潤率の測定
まず、成形体について、耐蒸気試験（３００℃）前の重量膨潤率を測定した。
各成形体を、パーフルオロカーボン溶液（フロリナートＦＣ―３２８３（住友スリーエム社製））に、室温（２１〜２５℃）で、７２時間浸漬させ、浸漬前後の重量膨潤率を、以下の式により、計算にて求めた。

（２）耐蒸気試験（３００℃）
続いて、各成形体について、耐蒸気試験（３００℃）を行った。
各成形体を、３００℃の飽和水蒸気に２２時間晒した。

（３）耐蒸気試験（３００℃）後の重量膨潤率の測定
上記耐蒸気試験（３００℃）後の成形体を、（１）と同様に、パーフルオロカーボン溶液に、室温（２１〜２５℃）で、７２時間浸漬し、耐蒸気試験（３００℃）後の重量膨潤率を測定した。

耐蒸気試験（３００℃）前後における変化率（％）を、（耐蒸気試験前の重量膨潤率）及び（耐蒸気試験後の重量膨潤率）を用いて、以下の式により算出した。

また、耐蒸気試験（３００℃）後に浸漬を行った各成形体の外観を観察した。結果を表３に示す。ここで、表中の「−」は、成形体サンプルが溶解したため、重量膨潤率が測定できなかったことを意味する。

実施例８〜１１
表４に示す成分を表４に示す量で用いてオープンロールで混練した他は、実施例６と同様の方法で成形体を得た。実施例８では、Ｏリング（線径３．５３ｍｍ、内径２４．９９ｍｍ）を得た。実施例９〜１１では、円盤（直径５ｍｍ、厚さ１ｍｍ）と、短冊（長さ２０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ１ｍｍ）を得た。
表４中、パーブチルＰはα，α’−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ジイソプロピルベンゼン（日油社製）であり、パークミルＤはジクミルパーオキサイド（日油社製）である。
表中の値は、開始剤はフルオロエラストマー１００ｇに対する量（ｍｍｏｌ）であり、架橋剤はフルオロエラストマー１００ｇに対する量（ｍｍоｌ）である。

評価例４
実施例８は得られたＯリングを１０ｍｍ長さにカットした円弧状体、実施例９〜１１は得られた円盤について、評価例２と同様にして耐熱試験を行った。結果を表５に示す。

評価例５
実施例８は得られたＯリング、実施例９〜１１は得られた短冊について、評価例３と同様にして耐蒸気性の評価を行った。結果を表６に示す。

本発明のフッ素含有芳香族化合物又は架橋剤はフルオロエラストマーの架橋剤として使用できる。本発明の架橋フルオロエラストマーは、耐熱性と耐蒸気性が求められるシール材料として利用できる。

上記に本発明の実施形態及び／又は実施例を幾つか詳細に説明したが、当業者は、本発明の新規な教示及び効果から実質的に離れることなく、これら例示である実施形態及び／又は実施例に多くの変更を加えることが容易である。従って、これらの多くの変更は本発明の範囲に含まれる。
この明細書に記載の文献及び本願のパリ優先の基礎となる日本出願明細書の内容を全てここに援用する。

Claims (19)

1. 下記式（１）で表わされる化合物からなる架橋剤。
   

   

   （式（１）中、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３はそれぞれ独立して、フッ素原子、アルキル基、フッ化アルキル基、又は置換又は無置換のアリール基である。複数のＲ^１は同じでも異なってもよい。複数のＲ^２は同じでも異なってもよい。複数のＲ^３は同じでも異なってもよい。ただしＲ^１，Ｒ^２，Ｒ^３の少なくとも１つはフッ素原子又はフッ素原子を含む基である。ｍは２〜６の整数であり、ｌは０〜２の整数である。ベンゼン環の水素は置換されていてもよい。）
2. 前記式（１）で表わされる化合物が、下記式（２）で表わされる化合物である請求項１記載の架橋剤。
   

   

   （式（２）中、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３、ｍは式（１）と同じである。ベンゼン環の水素は置換されていてもよい。）
3. 下記式（３）で表わされる構造を２以上有する化合物からなる架橋剤。
   

   

   （式（３）中、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３はそれぞれ独立して、フッ素原子、アルキル基、フッ化アルキル基、又は置換又は無置換のアリール基である。複数のＲ^１は同じでも異なってもよい。複数のＲ^２は同じでも異なってもよい。複数のＲ^３は同じでも異なってもよい。ただしＲ^１，Ｒ^２，Ｒ^３の少なくとも１つはフッ素原子又はフッ素原子を含む基である。ｎは、それぞれ、１〜５の整数である。ベンゼン環の水素は置換されていてもよい。）
4. 前記式（３）で表わされる構造を２以上有する化合物が、下記式（４）で表わされる化合物である請求項３記載の架橋剤。
   

   

   （式（４）中、Ａは、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、ヘテロ原子含有基、直鎖又は分枝のアルキレン基、シクロアルキレン基、又はアリーレン基であり、これらの基は一部又は全部がフッ素化されていてもよい。Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３、ｎは式（３）と同じである。ベンゼン環の水素は置換されていてもよい。）
5. 前記式（１）で表わされる化合物、又は前記式（３）で表わされる構造を２以上有する化合物が、下記式（５）で表わされる化合物である請求項１又は３記載の架橋剤。
   

   

   （式（５）中、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３は式（１）又は（３）と同じである。оは１又は０であり、ｑは、それぞれ、１〜３の整数である。ベンゼン環の水素は置換されていてもよい。）
6. Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３のアリール基が、フェニル又はナフチルである請求項１〜５のいずれか記載の架橋剤。
7. Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３が、フッ素である請求項１〜６のいずれか記載の架橋剤。
8. フルオロエラストマー、開始剤、及び請求項１〜７のいずれか記載の架橋剤を含む組成物。
9. 前記フルオロエラストマーが、パーフルオロエラストマー又は一部フッ素化エラストマーである請求項８記載の組成物。
10. 前記架橋剤が、前記フルオロエラストマー１００ｇに対して、０．５〜３０ｍｍｏｌ含まれる請求項８又は９記載の組成物。
11. 前記開始剤が、前記フルオロエラストマー１００ｇに対して、０．３〜３５ｍｍｏｌ含まれる請求項８〜１０のいずれか記載の組成物。
12. 請求項８〜１１のいずれか記載の組成物を架橋して得られた架橋フルオロエラストマー。
13. 請求項１２記載の架橋フルオロエラストマーから得られる成形体。
14. シール材である請求項１３記載の成形体。
15. 下記式（１）で表わされる化合物。
    

    

    （式（１）中、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３はそれぞれ独立して、フッ素原子、アルキル基、フッ化アルキル基、又は置換又は無置換のアリール基である。複数のＲ^１は同じでも異なってもよい。複数のＲ^２は同じでも異なってもよい。複数のＲ^３は同じでも異なってもよい。ただしＲ^１，Ｒ^２，Ｒ^３の少なくとも１つはフッ素原子又はフッ素原子を含む基である。ｍは２〜６の整数であり、ｌは０〜２の整数である。ベンゼン環の水素は置換されていてもよい。）
16. 前記式（１）で表わされる化合物が、下記式（２）で表わされる化合物である請求項１５記載の化合物。
    

    

    （式（２）中、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３、ｍは式（１）と同じである。ベンゼン環の水素は置換されていてもよい。）
17. 下記式（４）で表わされる化合物。
    

    

    （式（４）中、Ａは、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、ヘテロ原子含有基、直鎖又は分枝のアルキレン基、シクロアルキレン基、又はアリーレン基であり、これらの基は一部又は全部がフッ素化されていてもよい。Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３はそれぞれ独立して、フッ素原子、アルキル基、フッ化アルキル基、又は置換又は無置換のアリール基である。複数のＲ^１は同じでも異なってもよい。複数のＲ^２は同じでも異なってもよい。複数のＲ^３は同じでも異なってもよい。ただしＲ^１，Ｒ^２，Ｒ^３の少なくとも１つはフッ素原子又はフッ素原子を含む基である。ｎは、それぞれ、１〜５の整数である。ただし、Ａが単結合で、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３がフッ素原子で、２つのｎが１である化合物は除く。ベンゼン環の水素は置換されていてもよい。）
18. 下記式（５）で表わされる化合物。
    

    

    （式（５）中、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３はそれぞれ独立して、フッ素原子、アルキル基、フッ化アルキル基、又は置換又は無置換のアリール基である。複数のＲ^１は同じでも異なってもよい。複数のＲ^２は同じでも異なってもよい。複数のＲ^３は同じでも異なってもよい。ただしＲ^１，Ｒ^２，Ｒ^３の少なくとも１つはフッ素原子又はフッ素原子を含む基である。оは１又は０であり、ｑは、それぞれ、１〜３の整数である。ベンゼン環の水素は置換されていてもよい。）
19. ３００℃の飽和水蒸気に２２時間晒した前後の、パーフルオロカーボン溶液に２１〜２５℃で７２時間浸漬し、取り出した後の重量膨潤率の変化率が、７０％以下である、架橋フルオロエラストマー。