JPWO2014104196A1 - ガス精製装置 - Google Patents
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Abstract
Description
前記吸着塔に原料ガスを供給する原料ガス供給路を設け、
前記吸着材に吸着しなかった精製対象ガスを製品ガスとして排出する製品ガス回収路を設け、
前記吸着材に吸着した雑ガスを脱着させて排気する雑ガス排出路を設け、
前記吸着塔と、前記原料ガス供給路と、前記製品ガス回収路と、前記排ガスとを、
前記原料ガス供給路から原料ガスを受け入れて、雑ガスを前記吸着材に吸着するとともに、製品ガスを回収する吸着工程と、
吸着材に吸着した雑ガスを脱着して前記雑ガス排出路より排気する脱着工程と、
を交互に行う圧力揺動運転可能に接続したガス精製装置に関する。
これにより、原料ガスとしての炭鉱ガスから、吸着材を用いて空気を分離し、メタンを濃縮して、当該濃縮されたメタンを燃料等として利用することができるものとされている。
前記吸着塔に原料ガスを供給する原料ガス供給路を設け、
前記吸着材に吸着しなかった精製対象ガスを製品ガスとして排出する製品ガス回収路を設け、
前記吸着材に吸着した雑ガスを減圧脱着させて排気する雑ガス排出路を設け、
前記吸着塔と、前記原料ガス供給路と、前記製品ガス回収路と、前記雑ガス排出路とを、
前記原料ガス供給路から原料ガスを受け入れて、雑ガスを前記吸着材に吸着するとともに、製品ガスを回収する吸着工程と、
吸着材に吸着した雑ガスを脱着して前記雑ガス排出路より排気する脱着工程と、
を交互に行う圧力揺動運転可能に接続した構成(以下PSA装置と称する)が想定される。
上記目的を達成するための本発明のガス精製装置の特徴構成は、
原料ガスから精製対象ガス以外の雑ガスを吸着する吸着材を充填してある吸着塔を設け、
前記吸着塔に原料ガスを供給する原料ガス供給路を設け、
前記吸着材に吸着しなかった精製対象ガスを製品ガスとして排出する製品ガス回収路を設け、
前記吸着材に吸着した雑ガスを脱着させて排気する雑ガス排出路を設け、
前記吸着塔と、前記原料ガス供給路と、前記製品ガス回収路と、前記雑ガス排出路とを、
前記原料ガス供給路から原料ガスを受け入れて、雑ガスを前記吸着材に吸着するとともに、製品ガスを回収する吸着工程と、
吸着材に吸着した雑ガスを脱着して前記雑ガス排出路より排気する脱着工程と、
を交互に行う圧力揺動運転可能に接続したガス精製装置であって、
前記雑ガス排出路に、精製対象ガスを透過せず、前記雑ガスを透過する分離膜を有するとともに、前記吸着塔の排気圧で精製対象ガスと雑ガスとを分離する膜分離装置を設け、
分離膜で精製対象ガス濃度の高められた再生ガスを原料ガス供給路に返送する再生ガス返送路及び/又は製品ガスとして回収する再生ガス回収路を設けた点にある。
すなわち、PSA装置の雑ガス排出路に精製対象ガスを透過せず、前記雑ガスを透過する分離膜を有するとともに、前記吸着塔の排気圧で精製対象ガスと雑ガスとを分離する膜分離装置を設けると、原料ガスから製品ガスを取り出すガス路では、PSA装置が精製対象ガスの精製に寄与するものの、前記膜分離装置は精製対象ガスの精製に関与しないために、製品ガス中の精製対象ガス純度はPSA装置によって高く設定することができる。このとき、PSA装置からの精製対象ガス回収率は低下しがちになるが、排ガスを回収して原料ガス供給路に返送するから、精製対象ガスの回収率を高くすることができる。排ガスを全量回収しても、吸着塔に供給されるガス中の雑ガス濃度が上昇することになるから、製品ガス中の精製対象ガス純度が低下するおそれがある。そこで、膜分離装置により、返送される排ガス中から精製対象ガスを含まない真の排ガスを除去すれば、吸着塔に供給されるガス中の雑ガス濃度上昇を抑制することができるようになる。すると、製品ガス中の精製対象ガス純度が低下するのを抑制してPSA装置での精製対象ガス純度を低下させることなく回収率を向上させることができるようになる。
また、前記雑ガス排出路に、精製対象ガスを透過せず、雑ガスを透過する分離膜を有するとともに、前記吸着塔の排気圧で精製対象ガスと雑ガスとを分離する膜分離装置を設け、
分離膜で精製対象ガス濃度の高められた再生ガスを前記原料ガス供給路に返送する再生ガス返送路を設け、
前記雑ガス排出路に流通する排ガスを、前記膜分離装置をバイパスして前記再生ガス返送路に導くバイパス路を設けてあってもよい。
PSAの工程によっては、ガス精製装置から、製品ガス濃度の高い排ガスが発生する場合がある。このような排ガスを、製品ガス純度の低い雑ガスと同様に膜分離装置に供給すると、膜分離装置における製品ガスのロスが大きくなるおそれがあって、むしろ、そのまま原料ガスとして再利用するのが好ましい場合もある。
前記雑ガス排出路における前記膜分離装置の上流部に、バッファタンクを設けてあってもよい。
前記バッファタンクは、脱着工程により排出される雑ガスを、前記膜分離装置に供給される前に一旦貯留することができる。このとき、前記吸着塔とバッファタンクとの圧力差により均圧操作により、比較的高濃度に精製対象ガスを含む高圧の雑ガスをそのバッファタンク内に蓄積することができる。
〔構成4〕
また、前記雑ガス排出路における前記膜分離装置の雑ガス透過側に減圧ポンプを設けてもよい。
減圧ポンプを設けてあれば、膜分離装置の膜分離圧が不足する場合に、精製対象ガスの膜分離を継続するために必要最小限の動力を供給することができ、より安定に膜分離動作を継続することができるようになる。
また、前記再生ガス返送路に再生ガスタンクを設けてあってもよい。
膜分離装置でPSA装置からの排ガス中から雑ガスを除去した後のガスは、精製対象ガスの濃度が高められており、原料ガスとして用いることができる再生ガスとなる。しかし、この再生ガス中の精製対象ガス濃度は、PSA装置の各工程中に変動する。そこで、再生ガスを再生ガスタンクに一時貯留することによって、再生ガスの経時的な濃度変動を緩和することができ、原料ガスに対する再生ガスの安定供給に寄与する。
また、前記再生ガス返送路に再生圧力制御弁を設け、前記再生圧力制御弁により前記分離膜の膜分離圧を制御する再生制御装置を備えてもよい。
上記構成によると、再生ガスタンクおよび膜分離装置の分離膜にかかる圧力を再生圧力制御弁により設定変更することができるようになる。これにより、膜分離装置における排ガス中から雑ガスの除去が安定的に行えるようになるとともに、原料ガス供給路側の原料ガス供給圧とのバランスをとることができ、原料ガスの供給が不安定になるのを抑制することができる。
また、前記製品ガス回収路に製品ガスタンクを設けてもよい。
製品ガス回収路においても製品ガスタンクを設けてあれば製品ガス中の精製対象ガス濃度を安定化することができる。また、このような構成において製品ガスタンクを設けると、製品ガスタンク内は有圧になるので、吸着塔内の吸着材から雑ガスを脱着させて再吸着可能に再生する際の洗浄用ガスとして製品ガスを流入させて用いることもできる。
さらに、上記構成において、前記製品ガスタンクから前記吸着塔に製品ガスを流入する製品ガス洗浄路を設け、製品ガス洗浄路における製品ガスタンクと吸着塔との間に製品圧力制御弁を設け、前記製品ガスタンクから製品ガスを吸着塔に流入させて前記吸着塔を洗浄する洗浄制御装置を備えてもよい。
製品ガスタンクに加えて製品ガスタンクから前記吸着塔に製品ガスを流入する洗浄路を設け、洗浄路における製品ガスタンクと吸着塔との間に製品圧力制御弁を設けてあれば、製品ガスタンクから洗浄路を介してPSA装置へ製品ガスを供給することができる。これにより、吸着塔内の吸着材から雑ガスを脱着させて再吸着可能に再生する際の洗浄用ガスとしてそのまま製品ガスを用いることができる。また、この際の圧力は洗浄排ガスが雑ガス排出路に排出される際にも排ガスに負荷される。そのため、洗浄排ガスに含まれる精製対象ガスも、膜分離装置により回収可能に運転される。また、負荷される圧力を別途供給する必要も無いので、膜分離装置に対する動力供給を低減することができる。
また、前記原料ガスがメタン含有ガスであり、精製対象ガスがメタンであり、雑ガスが二酸化炭素を主成分とするガスとすることができる。
たとえば、バイオガス等の、燃料ガスとしてそのまま用いるにはメタン含有率が低いガス源から、燃料ガスとしてそのまま利用可能な純度のメタンを供給可能にでき、未利用燃料ガスの有効利用を図ることができる。また、このような原料ガスは、雑ガスとして二酸化炭素を主に含んでいる場合、メタンと二酸化炭素との化学的性質の違いにより、膜分離装置による分離が適している場合が多く、特に好適に利用できる。
さらに、前記原料ガスが、精製対象ガスとしてメタンを40%以上含有するメタン含有ガスであり、メタンを90%以上含有する製品ガスを得るものとすることができる。
典型的なバイオガスの組成は、メタン40〜60%、二酸化炭素60〜40%程度である。このようなバイオガスに対して、従来のガス精製装置を用いてメタンを90%以上含有する製品ガスを得る場合には、回収率をあまり高くすることができず、排ガス中に含まれるメタンの濃度が高くなりやすいという実情があった。
しかし、膜分離装置を備えて、回収率を高めたガス精製装置として、メタンを90%以上含有する製品ガスを得ることができると、バイオガス中のメタンを有効利用することができるとともに、大気中に放散される地球温暖化ガスとしてのメタンを減少させ、環境保全に寄与することができる。
前記吸着材が活性炭、モレキュラーシーブカーボン、ゼオライト、多孔性の金属錯体から選ばれる少なくとも一種の材料を主成分とするものであってもよい。
活性炭、モレキュラーシーブカーボン、ゼオライト、多孔性の金属錯体から選ばれる少なくとも一種の材料を主成分とする吸着材は、PSA装置の吸着材として汎用されており、ガス吸着分離効率が高いものが知られている。特に、活性炭や、モレキュラーシーブカーボンは、メタンガスと二酸化炭素との分離特性に優れ、バイオガス、炭鉱ガスの濃縮の際二酸化炭素を効率よく吸着分離できる。モレキュラーシーブカーボン、ゼオライト、多孔性の金属錯体は、分子径の小さなガスを分離するのに適しており、水素、ヘリウム等を含有するガスからメタンを濃縮する用途でも好適に用いられる。
前記吸着材が、MP法で測定した細孔径0.38nm以上において、その細孔径における細孔容積(V0.40)が0.01cm3/gを超えず、細孔径0.34nmにおける細孔容積(V0.34)が0.20cm3/g以上であるモレキュラーシーブカーボンであってもよい。
このようなモレキュラーシーブカーボンは、きわめてメタン、空気分離性能が高く、バイオガス等の原料ガスから精製対象ガスとしてメタンを濃縮するのに好適な形態とすることができる。
また、前記分離膜が酢酸セルロース、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルホン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエーテルスルホン、カーボン膜、微多孔質ガラス複合膜、DDR型ゼオライト、多分岐ポリイミドシリカ、ポリジメチルシロキサンから選ばれる少なくとも一種の材料を主成分とするものとすることができる。
膜分離装置が、これらの分離膜を備えると、効率よく膜分離を行え、しかも、耐久性が高いことが知られており有用である。また、これらの材料は、特にメタンと二酸化炭素の分離係数が高く、バイオガスからメタンを濃縮する際に有効である。
また、前記原料ガス供給路に昇圧ポンプを備え、前記昇圧ポンプによる原料ガスの吸着塔に対する供給圧が0.5MPaG〜2MPaGとすることができる。
なお、本願で用いる「PaG」とは、ゲージ圧をPaであらわしたものであって、大気圧との相対圧を示すものである。
このような圧力であれば、常圧で供給される原料ガスを比較的少ない動力でPSA装置の吸着塔に供給でき、PSA装置でも十分な吸着分離性能を発揮しやすいため好適である。また、圧力を上げすぎると、メタンの回収率が低下する問題がある。
そこで、0.5MPaG以上としておくことによって、PSA装置におけるガス分離能力を高く維持しつつ、2MPaG以下としておくことによって、装置全体としてエネルギー効率の高い動力に設定でき、メタン回収率も高く維持できる。
ガス精製装置は、図1に示すように、吸着材A11〜A14を充填した吸着塔A1〜A4を備える。各吸着塔には、原料ガスタンクT1からたとえばバイオガスを原料として供給する原料ガス供給路L1、吸着材A11〜A14に吸着されなかった精製対象ガスとしてのメタンを製品ガスとして回収する製品ガス回収路L2および製品ガスタンクT2、吸着材A11〜A41に吸着した雑ガスとしての二酸化炭素を脱着させて排気する雑ガス排出路L3が設けられる。本実施の形態では、吸着塔A1〜A4の4塔を備える構成としたが、塔数は複数であれば限定されるものではなく、3塔、5塔その他、適宜必要に応じ選択することが可能である。
吸着塔A1〜A4は、それぞれ、吸着材A11〜A14を充填してなる。各吸着塔A1〜A4の下部には、原料ガスタンクT1から供給ポンプP1によりバイオガスを供給する供給路L11〜L41を設けて原料ガス供給路L1を構成する。また、各吸着塔A1〜A4の上部に、吸着塔A1〜A4に供給されたバイオガスのうち吸着材A11〜A41に吸着されなかった精製対象ガスとしてのメタンを回収する回収路L12〜L42を設けて製品ガス回収路L2を構成してある。これにより、原料ガス供給路L1から吸着塔A1〜A4にバイオガスを供給するとともに、吸着材A11〜A14に吸着されなかったメタンを製品ガス回収路L2から排出することによって、吸着材A11〜A14に雑ガスを吸着してメタンと分離可能に構成してある。また、前記吸着塔A1〜A4には、吸着材A11〜A14に吸着された雑ガスを排出する排ガス路L13〜L43を各吸着塔A1〜A4の下部に設けて前記雑ガス排出路L3を構成してあり、原料ガス供給路L1から供給されたバイオガスのうち吸着材A11〜A41に吸着され、濃縮後の高濃度の二酸化炭素を取出し可能に構成する。
前記膜分離装置Mは、分離膜M1をモジュールとして備え、雑ガス排出路L3を介して供給される雑ガスを膜分離して雑ガスに含まれる精製対象ガスを回収可能に構成してある。具体的には、原料ガスとしてバイオガスを用いて精製対象ガスとしてメタンを精製する場合、雑ガスとして二酸化炭素を主成分とし、メタンを含有するガスが膜分離装置Mに供給される。膜分離装置Mに供給された雑ガスは膜分離装置M内で分離膜M1と接触し、分離膜M1の膜分離特性により、二酸化炭素が分離膜M1を透過して除去されるとともに、不透過のガスとして、供給された雑ガスよりもメタンの濃縮された再生ガスが得られる。この再生ガスを再生ガス返送路L5に排出し、原料ガス供給路L1に返送供給する一方、膜を透過した二酸化炭素を主成分とするガスを、排気路L6より外部に排出する。
前記制御装置Cは、図3に示すように、前記各切換弁V11〜V47および各ポンプP1,P6を制御して、図2にしたがって、各吸着塔A1〜A4で、
前記原料ガス供給路L1から原料ガスを受け入れて、雑ガスを前記吸着材A11〜A14に吸着するとともに、製品ガスを回収する吸着工程と、
吸着材A11〜A14に吸着した二酸化炭素を主成分とする雑ガスを減圧脱着して前記雑ガス排出路L3より排気する脱着工程と、を交互に行う圧力揺動運転を行う。
吸着塔A1〜A4下部から大気圧近傍のバイオガスの供給を受けて供給ポンプP1により前記吸着材A11〜A41に供給し、二酸化炭素を主成分とする雑ガスを吸着するとともに、精製対象ガスとしてのメタンを主成分とする製品ガスを吸着塔A1〜A4上部から放出する前記吸着工程の前後で、2塔の吸着塔A1〜A4に同時に吸着工程を進行する並行吸着工程を行い、(前並行吸着工程、吸着工程、後並行吸着工程を順に行い、)
後並行吸着工程の後、高圧状態の吸着塔A1〜A4内の、比較的雑ガス濃度の低いガスを、当該吸着塔A1〜A4より低圧の中間圧状態の他の吸着塔A1〜A4に移送して、吸着塔A1〜A4内の圧力を高圧側の中間圧状態とする初段均圧(降圧)工程、
吸着塔A1〜A4の動作を行わない待機工程、
低圧状態より高圧の中間圧状態の吸着塔A1〜A4内の、初段均圧(降圧)工程に比べてメタン濃度のやや高められたガスを、低圧状態の他の吸着塔A1〜A4に移送して、吸着塔A1〜A4内の圧力を低圧側の中間圧状態とする最終均圧(降圧)工程と、
均圧(降圧)工程により塔内圧力が低下した後、さらに前記吸着材A11〜A41を低圧状態まで減圧して、前記吸着材A11〜A41に吸着された雑ガスを脱着させて吸着塔A1〜A4下部から回収する脱着工程、
脱着工程により吸着材A11〜A14の再生された吸着塔A1〜A4内に残留する雑ガスを製品ガスで置換洗浄する洗浄工程
低圧状態の吸着塔A1〜A4内に、前記高圧側の中間圧状態の吸着塔A1〜A4内のガスを受け入れて、吸着塔A1〜A4内の圧力を低圧側の中間圧状態とする初段均圧(昇圧)工程と、
待機工程と、
低圧側の中間圧状態の吸着塔A1〜A4内に、高圧状態の他の吸着塔A1〜A4内のガスを受け入れて、吸着塔A1〜A4内の圧力を高圧側の中間圧状態とする最終均圧(昇圧)工程と、
均圧(昇圧)工程により塔内圧力を上昇した後、さらに、前記吸着塔A1〜A4内に吸着塔A1〜A4上部から昇圧用空気を供給して、前記吸着材A11〜A41をメタンを選択的に吸着可能な高圧状態に復元する昇圧工程、
を順に行うように運転制御する。
図2、3に示すように第一吸着塔A1に、原料ガスタンクT1より原料ガスとしてのバイオガスを導入する。このとき第一吸着塔A1内の圧力は、原料ガスの供給圧により昇圧される。また、供給路L11の切換弁V11を介して原料ガスタンクT1から供給されるバイオガス中の雑ガスとしての二酸化炭素を前記吸着材A11に吸着させつつ、吸着しなかった製品ガスとしてのメタンを回収路L12の切換弁V12を介して製品ガスタンクT2に回収する。
ここで、吸着工程初期には、徐々に第一吸着塔A1内圧を上昇させるために、第四吸着塔A4の吸着工程の終了時期に徐々に第四吸着塔A4内圧を低下するのと合わせて、第一吸着塔A1の吸着工程を開始する。すなわち、第一吸着塔A1の吸着工程の開始に先立って、第四吸着塔A4の後並行吸着工程ととともに前並行吸着工程を行う。
図2、3に示すように、前記前並行吸着工程に続き、第一吸着塔A1に、原料ガスタンクT1よりバイオガスを導入する。このとき第一吸着塔A1内の圧力は、原料ガスの供給圧によりさらに昇圧される。また、供給路L11の切換弁V11を介して二酸化炭素を前記吸着材A11に吸着させつつ、メタンを製品ガスタンクT2に回収する。
また、第三吸着塔A3では、<1>脱着工程の後、<2>洗浄工程、<3>初段均圧(昇圧)工程を行っている。
さらに、第四吸着塔A4では、<1>初段均圧(降圧)工程を行うとともに、<2>待機工程を挟んで、<3>最終均圧(降圧)工程に移行している。
たとえば、円筒型(内径54mm、容積4.597L)の吸着塔A1を用い、
前記吸着材A11として、MP法によって細孔分布を測定した場合の細孔径分布が、細孔径0.38nm以上において、その細孔径における細孔容積(V0.40)が0.05cm3/g程度、細孔径0.34nmにおける細孔容積(V0.34)が0.20〜0.23cm3/gであるモレキュラーシーブカーボンを用い、
10L/分でメタン約60%、二酸化炭素約40%のバイオガスを処理したところ、
吸着工程を、供給ポンプP1による供給圧を0.8MPaG程度として90秒間行った場合、メタン濃度96〜98%、二酸化炭素濃度2%、圧力0.7〜0.75MPaG程度の製品ガスを製品ガスタンクT2に回収することができた。
第一吸着塔A1の吸着工程の終期に、吸着工程始期の第二吸着塔A2と並行して吸着工程を行う後並行吸着工程を行う。すなわち、吸着工程におけるバイオガスの供給量と、本工程における第一、第二吸着塔A1,A2に対するバイオガス供給量の和が同量となるので、本工程では第一、第二吸着塔A1,A2に対するバイオガス供給量それぞれが、吸着工程におけるバイオガス供給量よりも少なく設定されることになる。したがって、図2、3に示すように、この工程では、吸着工程の終期に吸着流量を低下させることによって、吸着塔内の環境変化が穏やかに進行するように抑制することができ、吸着塔A1内のバイオガス流を安定させ、吸着塔A1内に乱流が生じるのを抑制し、吸着材A11を安定的に作用させることができる。
吸着工程を終えた第一吸着塔A1では、最終均圧(昇圧)工程を行う第三吸着塔A3との間で初段均圧(降圧)工程を行う。すなわち、図2、3に示すように、均圧路L17の切換弁V17を介して、塔内の非吸着ガスを排出し、洗浄路L34の切換弁V34を介して第三吸着塔A3に移送する構成となっている。これにより第一吸着塔A1は、図3に示すように、低圧側の中間圧状態の第三吸着塔A3と圧力平衡が行われる。
次に、第一吸着塔A1は待機状態となり、高圧側の中間圧状態が維持される。
次に、図2、3に示すように、第一吸着塔A1は、脱着工程を終え、初段均圧(昇圧)工程を行う第四吸着塔A4との間で最終均圧(降圧)工程を行う。すなわち、均圧路L17の切換弁V17を介して、塔内の非吸着ガスおよび吸着材A11から初期に脱着し始める雑ガスを排出し、洗浄路L44の切換弁V44を介して第四吸着塔A4に移送する構成となっている。これにより、第一吸着塔A1は、脱着工程を終えて低圧状態の第四吸着塔A4と圧力平衡が行われる。
図2、3に示すように、低圧側の中間圧状態に達した第一吸着塔A1は、塔内の吸着材A11に高濃度の雑ガスを吸着している状態になっており、塔内を低圧側の中間圧状態から低圧状態にまで減圧する脱着工程を行うことにより、吸着材A11に吸着された高濃度の雑ガスを回収する。すなわち、排ガス路L13の切換弁V13を介して濃縮された雑ガスを第一吸着塔A1の内圧により膜分離装置Mに供給する。
このときの膜分離装置Mの動作状態については後述する。
また第三吸着塔A3では、第二吸着塔A2と並行して<8>前並行吸着工程が行われた後、<9>吸着工程が行われる。
第四吸着塔A4では、<8>待機工程の後、第二吸着塔A2との間で<9>最終均圧(昇圧)工程が順に行われる。
図2、3に示すように、低圧状態に移行した第一吸着塔A1は、塔内に製品ガスを流入させることにより、塔内ガスをメタンを主成分とするガスに置換洗浄する。すなわち、製品ガス洗浄路L4の開閉弁Vo4を開成し、ニードル弁Vn4を調節して、洗浄路L14の切換弁V14を通じて製品ガスタンクT2から第一吸着塔A1に製品ガスを流入させて製品ガスタンクT2の内圧を吸着塔A1内に静かに作用させて、第一吸着塔A1内雰囲気をメタンに置換するとともに、第一吸着塔A1内に残留するガス排ガスとして排ガス路L13の切換弁V13を介して雑ガス排出路L3に放出するに供給する。
このとき、開閉弁Vo5を開成するとともに、開閉弁Vo3を閉成し、製品ガスを主成分とする洗浄ガスを、膜分離装置Mをバイパスして再生ガス返送路L5に移行させ、直接再生ガスタンクT5に回収する構成とする。
図2、3に示すように、低圧状態となって、吸着したメタンを放出し、吸着材A11を再生された第一吸着塔A1では、第二吸着塔A2との間で初段均圧(昇圧)工程を行うことにより、塔内の圧力を回復するとともに、第二吸着塔A2における最終均圧(降圧)工程で排出された、吸着材A11からの初期脱離ガスにより比較的メタンを高濃度に含有する排ガスを受け入れる。すなわち、塔間均圧路L7において、均圧路L27における切換弁V27を介して高圧側の中間圧状態の第二吸着塔A2から排出される塔内ガスを、洗浄路L14における切換弁V14より受け入れる。これにより第一吸着塔A1は、図3に示すように、低圧状態から低圧側の中間圧状態にまで圧力を回復する。
次に、図2、3に示すように、第一吸着塔A1は待機状態となり、高圧側の中間圧状態が維持される。
図2、3に示すように、低圧側の中間圧状態にまで圧力を回復した第一吸着塔A1は、次に吸着工程を終えた直後で初段均圧(降圧)工程を行う第三吸着塔A3との間で最終均圧(昇圧)工程を行うことにより、さらに塔内の圧力の回復を図る。すなわち、塔間均圧路L7の均圧路L17〜L37において、切換弁V17、V37を介して、高圧状態の第三吸着塔A3から排出される塔内ガスを受け入れる。これにより第一吸着塔A1は、図3に示すように、低圧側の中間圧状態から高圧側の中間圧状態にまで圧力を回復する。
図3に示すように、高圧側の中間圧状態にまで圧力を回復した第一吸着塔A1は、製品ガスを圧入することにより高圧状態にまで圧力を復元される。すなわち、製品ガス洗浄路L4の切換弁V14を介して第一吸着塔A1に製品ガスを流入させる。これにより、第一吸着塔A1内部は高圧状態まで復元され、バイオガスを供給することによりバイオガス中の二酸化炭素を吸着可能な高圧状態に再生される。
雑ガス排出路L3には、分離膜M1を備えた膜分離装置Mが設けられ、雑ガス排出路L3から排出される二酸化炭素を主成分とする雑ガスから二酸化炭素を透過してメタンを分離可能に接続されている。分離膜M1を透過せず、メタン濃度の高められたガスは、再生ガスとして再生ガス返送路L5に排出され、分離膜M1を透過して、二酸化炭素を主成分とするガスは、減圧ポンプP6により排気路L6に放出可能に構成してある。
これに対して、上記膜分離装置を用いることなく、前記吸着塔を圧力揺動運転して、メタン濃縮を行ったところ、10L/分でメタン60%のバイオガスを処理した場合に、メタン96〜98%の製品ガスを得ると、排ガスはメタン15〜20%となり、メタンの回収率は83%であった。
すなわち、本発明のメタン濃縮方法によると、高い濃縮効率と高い回収率とを両立できることが実験的に明らかになった。
(1)
上記ガス精製装置には、圧力センサ、温度センサ等は適宜設けることができる。具体的には、通常、原料ガスの供給圧や、製品ガスのメタン濃度などをモニタする圧力センサやガスセンサを設けるのであるが、上述の実施形態においては詳細な説明を省略してあるものとする。
また、各配管にガスを流通させるための供給ポンプP1や減圧ポンプP6は、上記配置に限らず、ガス流通可能に構成されるのであれば種々変形することができる。具体的には、上述のガス精製装置では、必要最小限度の構成としてあるが、原料ガス供給路L1における再生ガス返送路L5との接続部分より上流側(原料ガスタンクT1側)に供給ポンプP1を設ける構成が採用できるほか、たとえば、供給ポンプP1を省略して、再生ガス返送路L5に原料ガス供給路L1に対して原料ガスの供給圧を与える圧縮ポンプP5を設けることとしてもよい。このような場合、たとえば、図5のように構成し、圧縮ポンプP5にバイパスするバイパス路に設けた圧力制御弁Vc51により、原料ガス供給路L1に対する供給圧を適正に維持する。
また、上述の実施形態の説明によると、排気路L6には、減圧ポンプP6を設けなくても動作可能であることが明らかであり、設備の簡素化の観点からは減圧ポンプP6を省略することが好ましく、膜分離圧の安定化の観点からは、減圧ポンプP6を設けることが好ましい。また、減圧ポンプP6を設ける場合、安定運転の観点からは、減圧ポンプP6を定常運転することが望ましいが、図2における洗浄工程が進行しているステップ3,7,11,15および、その後、脱着工程が開始されるまでのステップ4,8,12,16においては、減圧ポンプP6を低負荷運転、または、停止することができる。またこのような場合に、圧力制御弁Vc5は、開度を絞った状態あるいは閉止状態に固定しておくことができる。
上記実施形態において再生ガス返送路L5においては、ガス組成のバランスを図る上で、膜分離装置Mから回収するガス量が原料ガス供給路L1に再供給されるガス量を上回る状況も想定される。このような場合、再生ガスタンクT5に貯留されるガスは、増加し続けることになるので、前記再生ガスタンクT5に余剰再生ガスを廃棄するための廃棄路を設けておくこともできる。
先にも述べたように、洗浄工程の際に雑ガス排出路L3に流通するガスは、製品ガスが主成分であるから、膜分離工程後、直接製品ガスとして回収してもかまわない程度の純度である場合もある。また、通常の脱着工程における再生ガスであっても、同様に十分な純度である場合がある。このような場合、図6に示すように、再生ガス返送路L5に、再生ガスを製品ガスとして回収するための再生ガス回収路L9を設けて、圧入ポンプP9を介して製品ガス回収路L2にバイパスさせることもできる。このような場合、雑ガス排出路L3に流通するガスの組成等に応じて、再生ガスの流通先を再生ガス返送路L5→原料ガス供給路L1にするか再生ガス回収路L9→製品ガスタンクT2にするか分岐制御すればよい。すなわち、再生ガスの製品ガス純度が高い場合には、再生ガスを再生ガス回収路L9を介して製品ガスタンクT2に回収し、再生ガスの製品ガス純度が低いときには再生ガス返送路L5を介して原料ガス供給路L1に返送する形態とすることができる。
なお、たとえば、(1)常に、再生ガスを製品ガスとして回収してよい製品ガス純度に維持できるような場合、または、(2)再生ガスが、原料ガスより高純度である場合、もしくは、(3)再生ガスに原料ガスを適量添加することで発電用燃料として十分に使用可能になる程度の純度を有している場合などは、再生ガス返送路L5を省略して、再生ガス回収路L9のみ設けることもできる(図13参照)。
上記実施形態では4塔の吸着塔A1〜A4を備えたガス精製装置としたが、これに限らず2塔、3塔で交互に処理する方式のものであっても良く、複数塔備えて連続的なPSAが行える構成であればよい。たとえば、3塔であれば、図7のように構成することができる。
PSAサイクルとしては、各吸着塔を連続的に有効に利用できる形態であれば上述の構成に限るものではなく、種々変形を行うことができる。たとえば、上記図7の構成のガス精製装置であれば、図8に従った運転方法が可能である。
前の実施形態では、洗浄工程の際に前記吸着塔に対して静圧(圧力をかけない)で製品ガスを供給したが、加圧状態で洗浄工程を行うこともできる。この場合、洗浄効率を向上できる。
本発明のガス精製装置は、バイオガスの精製に用いる例を示したが、バイオガス以外にもたとえば炭鉱ガスなど、バイオガス同様に含有するメタンを高濃度に濃縮する場合や、他にも、原料ガスから精製対象ガス以外の雑ガスを吸着することにより精製する用途で用いることができ、この際、精製対象ガス、雑ガスの種類、濃度に応じて、吸着剤、分離膜の材料を適宜変更することができる。
先の実施形態の構成に加えて、図9に示すように、前記雑ガス排出路L3における前記膜分離装置Mの上流部に、バッファタンクT3を設けて構成することができる。なお、Vc52は、バッファタンクT3内の圧力を適宜吸着塔A1〜A4の内圧よりも低く維持するための圧力制御弁である。また、図9中L9は、図6における再生ガス回収路L9と同様に、圧入ポンプP9を介して製品ガス回収路L2に再生ガスを回収する管路であることを同様の符号を付して示すものである。
なお、常に、再生ガスを製品ガスとして回収してよい製品ガス純度に維持できるような場合、再生ガス返送路L5を省略して、再生ガス回収路L9のみ設けることもできる。
前の実施形態における図2〜4の構成のガス精製装置における配管、弁構成を簡略化することによって、図10〜12に従った運転方法を行うことができる。
すなわち、図10〜12の構成によると、製品ガスによる吸着塔の昇圧を省略し、原料ガスにより昇圧することにより、製品ガス昇圧路L8を不要とするとともに、洗浄工程を不要にできることから、製品ガス洗浄路L4を不要としている。このとき、昇圧による製品ガスのロスを節約できるので、製品ガス回収率を向上することができる。また、後並行吸着工程ののち待機工程を設けることで、圧力変動を一旦中断させることにより、図4において最大圧力から最少圧力まで3段階で変動していたところ、図12において4段階でより緩慢に変動することになり、吸着塔内に急激な圧力変動を生じないのでより安定したガス精製装置の運転に寄与する。
A11〜A41:吸着材
C :制御装置
L1 :原料ガス供給路
L2 :製品ガス回収路
L3 :雑ガス排出路
L4 :製品ガス洗浄路
L5 :再生ガス返送路
L6 :排気路
L7 :塔間均圧路
L8 :製品ガス昇圧路
L9 :再生ガス回収路
L10、L30:バイパス路
L11〜L41:供給路
L12〜L42:回収路
L13〜L43:排ガス路
L14〜L44:洗浄路
L17〜L47:均圧路
L18〜L48:昇圧路
M :膜分離装置
M1 :分離膜
P1 :供給ポンプ
P5 :圧縮ポンプ
P6 :減圧ポンプ
P9 :圧入ポンプ
T1 :原料ガスタンク
T2 :製品ガスタンク
T5 :再生ガスタンク
V11〜V44:切換弁
Vc1〜Vc8:圧力制御弁
Vn4、Vn7:ニードル弁
Vo3〜Vo8:開閉弁
Vr4 :減圧弁
上記目的を達成するための本発明のガス精製装置の特徴構成は、
原料ガスから精製対象ガス以外の雑ガスを吸着する吸着材を充填してある吸着塔を設け、
前記吸着塔に原料ガスを供給する原料ガス供給路を設け、
前記吸着材に吸着しなかった精製対象ガスを製品ガスとして排出する製品ガス回収路を設け、
前記吸着材に吸着した雑ガスを脱着させて排気する雑ガス排出路を設け、
前記吸着塔と、前記原料ガス供給路と、前記製品ガス回収路と、前記雑ガス排出路とを、
前記原料ガス供給路から原料ガスを受け入れて、雑ガスを前記吸着材に吸着するとともに、製品ガスを回収する吸着工程と、
吸着材に吸着した雑ガスを脱着して前記雑ガス排出路より排気する脱着工程と、
を交互に行う圧力揺動運転可能に接続したガス精製装置であって、
前記雑ガス排出路に、精製対象ガスを透過せず、前記雑ガスを透過する分離膜を有するとともに、前記吸着塔の排気圧で精製対象ガスと雑ガスとを分離する膜分離装置を設け、
分離膜で精製対象ガス濃度の高められた再生ガスを前記原料ガス供給路に返送する再生ガス返送路を、前記原料ガス供給路における供給ポンプよりも上流側に接続する状態で設けた点にある。
前記雑ガス排出路に流通する排ガスを、前記膜分離装置をバイパスして前記再生ガス返送路に導くバイパス路を設けてあってもよい。
また、各配管にガスを流通させるための供給ポンプP1や減圧ポンプP6 は、上記配置に限らず、ガス流通可能に構成されるのであれば種々変形することができる。具体的には、上述のガス精製装置では、必要最小限度の構成としてあるが、参考の別実施形態として、原料ガス供給路L1における再生ガス返送路L5との接続部分より上流側(原料ガスタンクT1側)に供給ポンプP1を設ける構成が採用できるほか、たとえば、供給ポンプP1を省略して、再生ガス返送路L5 に原料ガス供給路L1に対して原料ガスの供給圧を与える圧縮ポンプP5を設けることとしてもよい。このような場合、たとえば、図5のように構成し、圧縮ポンプP5にバイパスするバイパス路に設けた圧力制御弁Vc51により、原料ガス供給路L1に対する供給圧を適正に維持する。
先にも述べたように、洗浄工程の際に雑ガス排出路L3に流通するガスは、製品ガスが主成分であるから、膜分離工程後、直接製品ガスとして回収してもかまわない程度の純度である場合もある。また、通常の脱着工程における再生ガスであっても、同様に十分な純度である場合がある。このような場合、図6に示すように、再生ガス返送路L5に、再生ガスを製品ガスとして回収するための再生ガス回収路L9を設けて、圧入ポンプP9を介して製品ガス回収路L2にバイパスさせることもできる。このような場合、雑ガス排出路L3に流通するガスの組成等に応じて、再生ガスの流通先を再生ガス返送路L5→原料ガス供給路L1にするか再生ガス回収路L9→製品ガスタンクT2にするか分岐制御すればよい。すなわち、再生ガスの製品ガス純度が高い場合には、再生ガスを再生ガス回収路L9を介して製品ガスタンクT2 に回収し、再生ガスの製品ガス純度が低いときには再生ガス返送路L5を介して原料ガス供給路L1に返送する形態とすることができる。
なお、参考の別実施形態として、たとえば、(1)常に、再生ガスを製品ガスとして回収してよい製品ガス純度に維持できるような場合、または、(2)再生ガスが、原料ガス
より高純度である場合、もしくは、(3)再生ガスに原料ガスを適量添加することで発電用燃料として十分に使用可能になる程度の純度を有している場合などは、再生ガス返送路L5を省略して、再生ガス回収路L9のみ設けることもできる(図13参照)。
なお、参考の別実施形態として、常に、再生ガスを製品ガスとして回収してよい製品ガス純度に維持できるような場合、再生ガス返送路L5を省略して、再生ガス回収路L9の
み設けることもできる。
Claims (14)
- 原料ガスから精製対象ガス以外の雑ガスを吸着する吸着材を充填してある吸着塔を設け、
前記吸着塔に原料ガスを供給する原料ガス供給路を設け、
前記吸着材に吸着しなかった精製対象ガスを製品ガスとして排出する製品ガス回収路を設け、
前記吸着材に吸着した雑ガスを脱着させて排気する雑ガス排出路を設け、
前記吸着塔と、前記原料ガス供給路と、前記製品ガス回収路と、前記雑ガス排出路とを、
前記原料ガス供給路から原料ガスを受け入れて、雑ガスを前記吸着材に吸着するとともに、製品ガスを回収する吸着工程と、
前記吸着材に吸着した雑ガスを減圧脱着して前記雑ガス排出路より排気する脱着工程と、
を交互に行う圧力揺動運転可能に接続したガス精製装置であって、
前記雑ガス排出路に、精製対象ガスを透過せず、雑ガスを透過する分離膜を有するとともに、前記吸着塔の排気圧で精製対象ガスと雑ガスとを分離する膜分離装置を設け、
分離膜で精製対象ガス濃度の高められた再生ガスを前記原料ガス供給路に返送する再生ガス返送路及び/又は製品ガスとして回収する再生ガス回収路を設けたガス精製装置。 - 前記雑ガス排出路に、精製対象ガスを透過せず、雑ガスを透過する分離膜を有するとともに、前記吸着塔の排気圧で精製対象ガスと雑ガスとを分離する膜分離装置を設け、
分離膜で精製対象ガス濃度の高められた再生ガスを前記原料ガス供給路に返送する再生ガス返送路を設け、
前記雑ガス排出路に流通する雑ガスを、前記膜分離装置をバイパスして前記再生ガス返送路に導くバイパス路を設けた請求項1に記載のガス精製装置。 - 前記雑ガス排出路における前記膜分離装置の上流部に、バッファタンクを設けてある請求項1または2に記載のガス精製装置。
- 前記雑ガス排出路における前記膜分離装置の雑ガス透過側に減圧ポンプを設けてある請求項1〜3のいずれか一項に記載のガス精製装置。
- 前記再生ガス返送路に再生ガスタンクを設けてある請求項1〜4のいずれか一項に記載のガス精製装置。
- 前記再生ガス返送路に再生圧力制御弁を設け、前記再生圧力制御弁により前記分離膜の膜分離圧を制御する再生制御装置を備えた請求項1〜5のいずれか一項に記載のガス精製装置。
- 前記製品ガス回収路に製品ガスタンクを設けてある請求項1〜6のいずれか一項に記載のガス精製装置。
- 前記製品ガスタンクから前記吸着塔に製品ガスを流入する製品ガス洗浄路を設け、製品ガス洗浄路における前記製品ガスタンクと前記吸着塔との間に製品圧力制御弁を設け、前記製品ガスタンクから製品ガスを前記吸着塔に流入させて前記吸着塔を洗浄する洗浄制御装置を備えた請求項7に記載のガス精製装置。
- 前記原料ガスがメタン含有ガスであり、精製対象ガスがメタンであり、雑ガスが二酸化炭素を主成分とするガスである請求項1〜8のいずれか一項に記載のガス精製装置。
- 前記原料ガスが、精製対象ガスとしてメタンを40%以上含有するメタン含有ガスであり、メタンを90%以上含有する製品ガスを得る請求項1〜9のいずれか一項に記載のガス精製装置。
- 前記吸着材が活性炭、モレキュラーシーブカーボン、ゼオライト、多孔性の金属錯体から選ばれる少なくとも一種の材料を主成分とするものである請求項1〜10のいずれか一項に記載のガス精製装置。
- 前記吸着材が、MP法で測定した細孔径0.38nm以上において、その細孔径における細孔容積(V0.40)が0.01cm3/gを超えず、細孔径0.34nmにおける細孔容積(V0.34)が0.20cm3/g以上であるモレキュラーシーブカーボンである請求項11に記載のガス精製装置。
- 前記分離膜が酢酸セルロース、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルホン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエーテルスルホン、カーボン膜、微多孔質ガラス複合膜、DDR型ゼオライト、多分岐ポリイミドシリカ、ポリジメチルシロキサンから選ばれる少なくとも一種の材料を主成分とするものである請求項1〜12のいずれか一項に記載のガス精製装置。
- 前記原料ガス供給路に昇圧ポンプを備え、前記昇圧ポンプによる原料ガスの前記吸着塔に対する供給圧が0.5MPaG〜2MPaGである請求項1〜13のいずれか一項に記載のガス精製装置。
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