JPWO2013187511A1 - 光信号検出回路、光量検出装置、および荷電粒子線装置 - Google Patents

光信号検出回路、光量検出装置、および荷電粒子線装置 Download PDF

Info

Publication number
JPWO2013187511A1
JPWO2013187511A1 JP2014521435A JP2014521435A JPWO2013187511A1 JP WO2013187511 A1 JPWO2013187511 A1 JP WO2013187511A1 JP 2014521435 A JP2014521435 A JP 2014521435A JP 2014521435 A JP2014521435 A JP 2014521435A JP WO2013187511 A1 JPWO2013187511 A1 JP WO2013187511A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pulse
frequency
energy
value
appearance
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2014521435A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5971637B2 (ja
Inventor
富士夫 大西
富士夫 大西
浩 任田
浩 任田
哲司 大澤
哲司 大澤
勇樹 菅原
勇樹 菅原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi High Technologies Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi High Technologies Corp filed Critical Hitachi High Technologies Corp
Priority to JP2014521435A priority Critical patent/JP5971637B2/ja
Publication of JPWO2013187511A1 publication Critical patent/JPWO2013187511A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5971637B2 publication Critical patent/JP5971637B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/42Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors
    • G01J1/44Electric circuits
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/42Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/225Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
    • G01N23/2251Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion using incident electron beams, e.g. scanning electron microscopy [SEM]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/244Detectors; Associated components or circuits therefor
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03FAMPLIFIERS
    • H03F3/00Amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements
    • H03F3/04Amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements with semiconductor devices only
    • H03F3/08Amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements with semiconductor devices only controlled by light
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/62Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
    • G01N21/63Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
    • G01N21/64Fluorescence; Phosphorescence
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/244Detection characterized by the detecting means
    • H01J2237/2443Scintillation detectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/244Detection characterized by the detecting means
    • H01J2237/2445Photon detectors for X-rays, light, e.g. photomultipliers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/244Detection characterized by the detecting means
    • H01J2237/24495Signal processing, e.g. mixing of two or more signals
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03FAMPLIFIERS
    • H03F2201/00Indexing scheme relating to details of amplifiers with only discharge tubes, only semiconductor devices or only unspecified devices as amplifying elements covered by H03F1/00
    • H03F2201/32Indexing scheme relating to modifications of amplifiers to reduce non-linear distortion
    • H03F2201/3215To increase the output power or efficiency

Landscapes

  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
  • Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
  • Measurement Of Radiation (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

簡単な操作で微量の光の信号成分と暗電流に起因するノイズの信号成分とを弁別することができる光信号検出回路、光量検出装置、および荷電粒子線装置を提供すること。データ処理部(441)が、アンプ(41)およびA/D変換部(42)により変換された光量に応じたデジタル電圧信号からパルスを検出してパルスの最大電圧値である波高値を求め、求めた波高値ごとの出現頻度を頻度数記憶領域(451)に記憶させ、データ解析部(442)が、頻度数記憶領域(451)に記憶された波高値に対応付けられた当該波高値の出現頻度のうち、波高値の値が小さいものから順に当該波高値の出現頻度と予め定められた頻度下限値とを比較し、比較の結果出現頻度が頻度下限値以下となった波高値の値をパルス判定しきい値とし、しきい値処理部(43)が、パルス判定しきい値以上のデジタル電圧信号を検出信号として出力する。

Description

本発明は、試料が発する光を検出する光信号検出回路、光量検出装置、および荷電粒子線装置に関するものである。
光電子増倍管は、非常に微弱な光を電気信号として取り出すことができるため、さまざまな分野で使用されている。たとえば、光度計では、試料に光を照射し、その透過光や散乱光などにより試料から発生する蛍光を光電子増倍管によって検出し、微量の試料内の含有成分を分析する。また、荷電粒子線装置などでは、試料上に電子ビームを照射し、その試料表面から発生する微弱な二次電子をシンチレータと光電子増倍管との組み合わせで検出し、試料表面を細かく観察できるようにしている。
しかしながら、近年、光度計においてはより微量の試料内の含有成分の分析が、また荷電粒子線装置においては試料表面をより細かく、鮮明に観察できるようにすることが求められている。そのためには、微量の光による光電子増倍管からの電気信号を検出することが必要となる。
微量の光による光電子増倍管からの電気信号を検出する技術として、たとえば、特許文献1がある。特許文献1に記載の従来技術では、光検出用回路は、PMT(光電子増倍管)の陽極に接続される。光検出用回路は、陽極からの出力電流を電圧信号V1に変換するI/V変換回路と、電圧信号V1から暗電流(ダークカウント)を除去して電圧信号V2を生成する暗電流除去回路と、電圧信号V2を成形する一次遅れフィルタ回路と、一次遅れフィルタ回路を通過した電圧信号V3をデジタルデータに変換するA/D変換回路と、デジタルデータを積算することによりPMTへの入射光量に応じた光量データを生成する演算処理装置(CPU)とを備える。そして、演算処理装置は、デジタルデータの値の減少に伴い積算時間をより長時間に設定するようにしている。
特開2006−300728号公報
微量の光による光電子増倍管からの電気信号を検出するためには、光による信号成分とノイズによる信号成分とを弁別し、ノイズによる信号成分を除去する必要がある。しかしながら、前記特許文献1に記載の従来技術では、暗電流除去回路に含まれる増幅回路のオフセット調整によって暗電流に起因するノイズを除去することは記載されているが、そのオフセット調整についての具体的な方法については記載されていない。
また、暗電流に起因するノイズ特性は温度によって変化するので、前記特許文献1に記載の従来技術ではこれに対応するために、その都度、測定者が増幅回路のオフセット調整を行う必要がある。一般的に、アナログ信号を扱う増幅回路のオフセット調整は、デジタル信号を扱う場合と比較して微妙な調整が必要となり手間がかかるという問題もあった。
本発明は、前記問題に鑑みて成されたものであって、簡単な操作で微量の光の信号成分と暗電流に起因するノイズの信号成分とを弁別することができる光信号検出回路、光量検出装置、および荷電粒子線装置を提供することを課題とする。
本発明の光信号検出回路は、光検出手段により検出される光量に応じたアナログ検出信号を増幅する増幅手段と、増幅手段によって増幅されたアナログ検出信号をデジタル検出信号に変換するアナログデジタル変換手段と、アナログデジタル変換手段によって変換されたデジタル検出信号からパルスを検出するとともに、検出したパルスのエネルギを検出する処理を繰り返し、検出したエネルギごとのパルスの出現頻度を求め、求めたエネルギごとのパルスの出現頻度に基づいてパルス判定しきい値を決定するしきい値決定手段と、しきい値決定手段によって決定されたパルス判定しきい値以上のエネルギのパルスを含むデジタル検出信号を検出信号として出力するしきい値処理手段と、を備えることを特徴とする。
本発明によれば、簡単な操作で微量の光の信号成分と暗電流に起因するノイズの信号成分とを弁別することができる光信号検出回路、光量検出装置、および荷電粒子線装置を提供することができる。
光源によって照射された試料の微量の光が入力された際の光電子増倍管の出力パルスのパルス波高分布およびノイズパルスのパルス波高分布を示す図である。 ノイズパルスのパルス波高分布の温度による変化を示す図である。 光電子増倍管の高圧電源の電圧が周囲環境の変化により上昇した場合に光電子増倍管の出力であるパルス波高分布が変化した場合を示す図である。 光電子増倍管の自己温度や周囲環境温度が上昇し、光電子増倍管の出力であるパルス波高分布が変化した場合を示す図である。 本発明の実施形態1の光信号検出回路を用いた光量検出装置の構成を示すブロック図である。 実施形態1の光量検出装置を用いて試料の測定を行う手順を示すフローチャートである。 データ処理の動作を説明するためのフローチャートである。 データ処理の動作を説明するための図であって、(a)は時間、電圧およびパルス区間フラグのON/OFFを説明する図であり、(b)は頻度数記憶領域に記憶されるアドレス(波高値)とデータ(出現回数)を説明する図である。 第1のデータ解析処理の動作を説明するためのフローチャートである。 実施形態1の光信号検出回路の出力を示す図であって、(a)は、図1に示したフロアノイズ領域と暗電流ノイズ領域Aとの境界となる波高値H2における頻度数を頻度下限しきい値TH1として設定した場合に出力される光信号パルスおよび暗電流ノイズに起因するパルスP1を示す図であり、(b)は、図1に示した暗電流ノイズ領域Aと暗電流ノイズ領域Bとの境界となる波高値H3における頻度数を頻度下限しきい値TH1として設定した場合に出力される光信号パルスを示す図である。 本発明の実施形態2の光信号検出回路を用いた光量検出装置の構成を示すブロック図である。 第2のデータ解析処理の動作を説明するためのフローチャートである。 ゲイン調整の条件を説明するための図である。(a)は、測定開始後、所定時間が経過したときの波高値と頻度の関係を示す図であって、パルス判定しきい値となる波高値の頻度(線G31)が、頻度下限値TH1よりも大きい場合は、パルス判定しきい値となる波高値の頻度が、頻度下限値TH1よりも小さくなるように調整する(線G32)のが好ましいことを示す図である。(b)は、(a)の場合において単位時間ごとに検出したパルス数を示す図である。(c)は、測定開始後、所定時間が経過したときの波高値と頻度の関係を示す図であって、パルス判定しきい値となる波高値の頻度(線G33)が、頻度下限値TH1よりも小さく、かつ光電子増倍管の増倍特性で決まる波高値を中心に分布する波高値の頻度数も頻度下限値TH1よりも小さい場合は、光電子増倍管の増倍特性で決まる波高値を中心に分布する波高値の頻度数も頻度下限値TH1よりも大きくする(線G34)のが好ましいことを示す図である。(d)は、(c)の場合において単位時間ごとに検出したパルス数を示す図である。 本発明の実施形態3の光信号検出回路を用いた光量検出装置の構成を示すブロック図である。 ゲイン調整判定処理の動作を説明するためのフローチャートである。 本発明の実施形態4の光信号検出回路を用いた光量検出装置の構成を示すブロック図である。 本発明の実施形態4の光信号検出回路を用いた光量検出装置の別の構成を示すブロック図である。 本発明の光信号検出回路を用いた走査型電子顕微鏡の構成を示す図である。
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら詳細に説明する。なお、実施形態では、検出したパルスの最大電圧値である波高値をエネルギとした場合を例に挙げて説明するが、エネルギはこれに限るものではない。
〔概要および特徴〕
図1〜図4を用いて、本発明に係る光信号検出回路の概要および特徴を説明する。図1は、光源によって照射された試料の微量の光が入力された際の光電子増倍管の出力パルスのパルス波高分布およびノイズパルスのパルス波高分布を示す図である。図1において、横軸はパルスの最大電圧値である波高値を示し、縦軸は測定時間内における波高値の出現の頻度(出現回数)を示している。ノイズパルスの波高値の出現の頻度は、図1の点線G2に示すように、波高値の小さい値に集中して分布しており、波高値H1から波高値H2の間で急激にその頻度が減少する。そして、ノイズパルスの波高値の出現の頻度は、波高値H2から波高値H3の間では、波高値H1から波高値H2と比較して頻度の減少は緩やかになる。さらに、波高値H3より大きい波高値においては、ノイズパルスの波高値の出現の頻度は、波高値H2から波高値H3の間と比較してさらに緩やかに減少する。
一方、光電子増倍管の出力パルスの波高値は、図1の線G1に示すように、波高値H1から波高値H3の間では、ノイズパルスの影響を受けて出力パルスの波高値の頻度が急激に減少するが、波高値H3より大きい波高値においては、光電子増倍管の増倍特性で決まる波高値H4を中心に分布している。
ここで、図1のノイズパルスの特性に着目する。光電子増倍管の出力パルスの波高値の測定は、光電子増倍管の電気的出力が微弱であるため、光電子増倍管の出力をプリアンプで増幅し、増幅した信号をA/D変換器を用いてデジタル信号に変換して処理を行うのが一般的である。そのため、ノイズパルスには、光電子増倍管に入力光がない場合に発生する暗電流に起因するノイズパルス(暗電流ノイズパルス)と、プリアンプなど光電子増倍管が動作していない場合に発生するフロアノイズに起因するノイズパルス(フロアノイズパルス)とがある。
フロアノイズは、さまざまな周波数特性を有する波形の集まりである。そして、フロアノイズの振幅は、一般的に、暗電流に起因するノイズの平均的波高値よりも小さい。そのため、図1の波高値H1から波高値H2までの区間(フロアノイズ領域)は、暗電流によるノイズよりもフロアノイズの影響をより大きく受けている。波高値H2から波高値H3までの区間(暗電流ノイズ領域A)は、フロアノイズの影響はほとんどなくなるが、本来の光による光電子増倍管の出力パルスの波高値と、暗電流ノイズパルスの波高値とが同等程度のため、暗電流によるノイズの影響を大きく受けている。そして、波高値H3より大きい波高値の区間(暗電流ノイズ領域B)では、暗電流ノイズパルスの波高値より光電子増倍管の出力パルスの波高値が大きく、暗電流によるノイズの影響がほとんどなくなり、光電子増倍管の出力パルスの分布は、光電子増倍管の増倍特性で決まる波高値H4を中心に分布している。したがって、光信号検出としては、暗電流ノイズ領域Bにおける波高値のみを検出することが望ましい。
先の図1を用いて説明したように、暗電流ノイズ領域Bにおいては、光電子増倍管の出力パルスの分布は、光電子増倍管の増倍特性で決まる波高値H4を中心に分布する。したがって、暗電流ノイズの影響が大きい暗電流ノイズ領域Aと暗電流ノイズ領域Bとの境界までは、低い波高値から高い波高値に対して急激にその出現頻度が減少し、境界から徐々に出現頻度が増加する。
そこで、本実施形態では、暗電流ノイズの影響が大きい暗電流ノイズ領域Aと暗電流ノイズ領域Bとの境界までは、低い波高値から高い波高値に対して急激にその出現頻度が減少し、境界から徐々に出現頻度が増加することに着目してパルスを検出するためのパルス判定しきい値を決定する。具体的には、光測定開始時に、波高値に対応付けた頻度数を記憶して、出現頻度が予め設定した頻度下限値TH1以下となるところの波高値をパルス判定しきい値とし、パルス判定しきい値より波高値の大きいパルス(のみ)をパルスとして検出して出力する。
また、ノイズパルスの特性は、温度によって変化する。図2は、ノイズパルスのパルス波高分布の温度による変化を示す図である。図2においては、横軸は波高値を示し、縦軸は測定時間内における波高値の出現の頻度を示している。また、図2において、線G21は、光量検出開始時における特性を示しており、線G22は、たとえば光量検出開始時から時間が経過し、光検出開始時よりも光電子増倍管の温度または高圧電源電圧が上昇した場合の特性を示している。図2に示すように、光電子増倍管の温度または高圧電源電圧が上昇すると、温度または高圧電源電圧が低い場合と比較して暗電流ノイズパルスの波高値の出現頻度数が多くなる。すなわち、頻度下限値TH1以下となる波高値は、温度または高圧電源電圧の低い特性を示す線G21では波高値H5以上であるのに対し、温度または高圧電源電圧が高い特性の線G22では波高値H6(H5<H6)となる。そのため、温度または高圧電源電圧が上昇してノイズパルスの特性が線G21から線G22に変化した場合、波高値H6以上の波高値を光信号として検出することが望ましい。
また、測定開始時よりも温度または高圧電源電圧が低下した場合、たとえば、図2のノイズパルスの特性の線G22から、温度または高圧電源電圧の低下によりノイズパルス特性の線G21に特性が変化した場合は、測定開始時には波高値H6をパルス判定しきい値として用いて波高値H6以上の波高値のパルスを光信号として検出し、ノイズパルス特性の線G21に特性が変化した後に波高値H5をパルス判定しきい値として用いて波高値H5以上の波高値のパルスを光信号として検出することが望ましい。
図3は、光電子増倍管の高圧電源の電圧が周囲環境の変化により上昇した場合に光電子増倍管の出力であるパルス波高分布が変化した場合を示す図である。図3においては、横軸は波高値を示し、縦軸は測定時間内における波高値の出現の頻度を示している。
また、図3において、線G11は、図2に示した光量検出開始時におけるノイズパルスの特性を有する線G21の基での光電子増倍管の出力パルスの特性を示し、線G12は、図2に示した光量検出開始時におけるノイズパルスの特性を有するG22の基での光電子増倍管の出力パルスの特性を示している。
図3に示すように、線G12は、たとえば光量検出開始時から時間が経過し、光検出開始時よりも光電子増倍管の高圧電源電圧が上昇したため、線G11より線G12のほうが、波高値が大きいほうにずれている。すなわち、先の図1に示した暗電流ノイズ領域Aと暗電流ノイズ領域Bとの境界が波高値の大きいほうにずれたため、暗電流ノイズ領域Aと暗電流ノイズ領域Bとの境界の分布の谷間もずれている。このずれは、先の図2に示したノイズパルスの特性の高圧電源電圧による変化に起因しており、暗電流ノイズ領域Aと暗電流ノイズ領域Bとの境界の分布の谷間は、図2の線G21で示すノイズパルスの特性に起因している線G11では概ね波高値H5となり、図2の線G22で示すノイズパルスの特性に起因している線G12では概ね波高値H6となる。
図4は、光電子増倍管の自己温度や周囲環境温度が上昇し、光電子増倍管の出力であるパルス波高分布が変化した場合を示す図である。図4においては、横軸は波高値を示し、縦軸は測定時間内における波高値の出現の頻度を示している。
また、図4において、線G31は、図2に示した光量検出開始時におけるノイズパルスの特性を有する線G21の基での光電子増倍管の出力パルスの特性を示し、線G32は、図2に示した光量検出開始時におけるノイズパルスの特性を有するG22の基での光電子増倍管の出力パルスの特性を示している。
図4に示すように、線G32は、たとえば光量検出開始時から時間が経過し、光検出開始時よりも光電子増倍管の温度が上昇したため、線G31より線G32のほうが、暗電流に起因したノイズパルスの波高値の頻度が全体的に多くなるほうに変化している。特には、先の図1に示した暗電流ノイズ領域Aの波高値頻度が顕著に多くなるほうにずれ、暗電流ノイズ領域Bの波高値頻度は、比較的少なめに増加した場合である。この波高頻度の増加は、先の図2に示したノイズパルスの特性の温度上昇による変化に起因しており、暗電流ノイズ領域Aと暗電流ノイズ領域Bとの境界の分布の谷間は波高値H5から波高値H7に変化する。
そこで、本実施形態では、暗電流ノイズの影響が大きい暗電流ノイズ領域Aと暗電流ノイズ領域Bとの境界までは、低い波高値から高い波高値に対して急激にその出現頻度が減少し、境界から徐々に出現頻度が増加することに着目し、光測定開始時に、波高値に対応付けた頻度数を記憶して、出現頻度が予め設定した頻度下限値TH1以下となる波高値をパルス判定しきい値とする。そして、パルス判定しきい値より大きいパルス(のみ)を検出パルスとして出力するとともに、光測定中にも、波高値に対応付けた出現頻度と頻度下限値TH1とを比較して、パルス判定しきい値を調整するものである。
また、本実施形態では、暗電流ノイズの影響が大きい暗電流ノイズ領域Aと暗電流ノイズ領域Bとの境界までは、低い波高値から高い波高値に対して急激にその出現頻度が減少し、境界から徐々に出現頻度が増加することに着目し、光測定中に、波高値に対応付けた頻度数を記憶して、頻度数が減少した後に頻度数が増加する頻度数の谷間、すなわち頻度数の最小値を検出し、検出した頻度数が最小値の波高値をパルス判定しきい値とする。そして、パルス判定しきい値より大きいパルス(のみ)を検出パルスとして出力するものである。
実施形態1.
図5〜図9を用いて、本発明の実施形態1を説明する。図5は、本発明の実施形態1の光信号検出回路を用いた光量検出装置の構成を示すブロック図である。図5に示すように、光量検出装置は、光源1と、光電子増倍管3と、光信号検出回路4と、パーソナルコンピュータ(以下、PCと呼ぶ)5とを備えて試料2からの光を検出対象とする。なお、光電子増倍管3は、光検出手段であり、パーソナルコンピュータ5は、制御手段である。
光源1は、計測対象である試料2に光を照射する。光電子増倍管3は、光源1によって光を照射された試料2の透過光、反射光、または光源1からの光の照射により発生する試料2からの蛍光(これらをまとめて試料2からの光と呼ぶ)を検出する。光電子増倍管3は、試料2からの光に応じた電気信号(以下、アナログ電圧信号と呼ぶ)を光信号検出回路4に出力する。なお、アナログ電圧信号は、アナログ検出信号である。
光信号検出回路4は、光電子増倍管3から入力されるアナログ電圧信号から試料2の光量を検出してPC5に出力する。光信号検出回路4は、アンプ41、アナログデジタル変換部(以下、A/D変換部という)42、しきい値処理部43、データ処理部441とデータ解析部442とを有するしきい値決定部44、頻度数記憶領域451を有する記憶部45、およびゲイン制御部46を備えている。
アンプ41は、光電子増倍管3から入力されるアナログ電圧信号を増幅し、増幅した電圧信号をA/D変換部42に出力する。A/D変換部42は、アンプ41から入力されたアナログ電圧信号を所定のクロックでサンプリングしてデジタル電圧信号に変換し、変換したデジタル電圧信号をデータ処理部441としきい値処理部43とに出力する。なお、デジタル電圧信号は、デジタル検出信号である。
記憶部45は、RAM(Random Access Memory)などで構成され、光量検出におけるパルスの波高値に対応付けてその出現回数を格納する頻度数記憶領域451を有する。
データ処理部441は、PC5からの各種設定に基づいてA/D変換部42から入力されるデジタル電圧信号からパルスを検出し、検出したパルスの波高値に対応付けてその頻度数を頻度数記憶領域451に格納する。
データ解析部442は、PC5からの各種設定に基づいて頻度数記憶領域451に格納された波高値に対応付けられた頻度数を解析してノイズ成分と光量の信号成分とを弁別するパルス判定しきい値(波高値)を決定する。データ解析部442は、決定したパルス判定しきい値をしきい値処理部43に出力する。
しきい値処理部43は、データ解析部442から入力されたパルス判定しきい値に基づいて、A/D変換部42から入力されるデジタル電圧信号をノイズパルスと光量の信号パルスとに弁別し、光量の信号パルスをPC5に出力する。
ゲイン制御部46は、PC5からの各種設定に基づいて、光源1の光の強さや、光電子増倍管3およびアンプ41のゲインを制御する。PC5は、CPU(Central Processing Unit)が搭載され、キーボードやマウスなどの入力手段と、ディスプレーなどの表示手段を有する一般的なパソコンで構成される。PC5は、入力手段を用いて入力された各種設定値をゲイン制御部46と、データ処理部441と、データ解析部442とに設定するとともに、しきい値処理部43から入力される光量の信号パルスを解析し、解析結果を、たとえば表示画面51のような表示手段に表示する。
図6は、実施形態1の光量検出装置を用いて試料の測定を行う手順を示すフローチャートである。まず、測定者は、PC5の入力機能を用いて測定条件を入力する。PC5は、入力された測定条件に基づいて測定条件を設定する(ステップS100)。具体的には、PC5は、アンプ41および光電子増倍管3のゲイン制御値と光源1の光の強さの設定値とをゲイン制御部46に設定する。
次に、光量検出装置は、フロアノイズの測定を開始する(ステップS101)。具体的には、測定者は、光電子増倍管3の電源をOFFにし、光源1および光信号検出回路4の電源をONにしてPC5の入力手段を用いて測定開始の指示を入力する。PC5は、測定開始の指示が入力されると光信号検出回路4の動作を開始させる。これにより、光信号検出回路4内のアンプ41やA/D変換部42などのノイズ成分であるフロアノイズが測定可能となる。なお、このステップS101のフロアノイズの測定においては、光量検出装置に試料2が設置されていても、設置されていなくてもかまわない。ここでは、試料2は、設置されていないものとする。
より詳細には、アンプ41は、光電子増倍管3から入力されるアナログ電圧信号を増幅し、増幅したアナログ電圧信号をA/D変換部42に出力する。A/D変換部42は、アンプ41から入力されたアナログ電圧信号を所定のクロックでサンプリングしてデジタル電圧信号に変換し、変換したデジタル電圧信号をデータ処理部441としきい値処理部43とに出力する。
一般的に、フロアノイズは回路固有のものであることが多く、光信号検出回路4の回路ノイズは、無信号時(光電子増倍管3がOFFの状態)の電圧値(通常は0V)を基準としてガウス分布に近い特性を示す。このステップS101のフロアノイズ測定は、その特性を確認するためのものである。したがって、このフロアノイズ測定においては、しきい値決定部44は動作させなくてもよい。
また、データ解析部442がしきい値処理部43へ出力するパルス判定しきい値は、ステップS100においてPC5があらかじめ所定の値、たとえば「0」に設定しておく。これにより、A/D変換部42の出力であるデジタル電圧信号がしきい値処理部43を介してそのままPC5に出力され、PC5の表示手段によって確認可能となる。なお、PC5は、入力されたデジタル電圧信号をそのまま表示してもよいし、予め定められた処理を行って表示してもよい。
次に、PC5は、データ処理部441に波高値測定スタート電圧値を設定する(ステップS102)。ここで、波高値測定スタート電圧値とは、後述するしきい値決定処理において、波高値の出現頻度をカウントするか否か、すなわち頻度分布を記憶する対象波高値とするか否か決定するための判定基準の電圧値である。先の図1を用いて説明したように、フロアノイズ領域の波高値は、暗電流ノイズ領域Aの波高値よりも小さい値となる。したがって、波高値測定スタート電圧値より大きい波高値の頻度分布(のみ)を記憶するようにすれば、頻度数記憶領域451を少なくすることができ、かつその後の処理の対象となるデータ量が少なくなるため、処理時間を短縮することも可能となる。
具体的には、測定者は、フロアノイズの測定結果から、波高値測定スタート電圧値を決定し、決定した波高値測定スタート電圧値をPC5の入力手段を用いて入力する。PC5は、入力された波高値測定スタート電圧値をデータ処理部441に通知する。データ処理部441は、通知された波高値測定スタート電圧値を記憶する。
次に、光量検出装置は、無光状態でノイズパルスの測定を開始する(ステップS103)。具体的には、測定者は、光源1をOFFにし、光電子増倍管3の電源および光信号検出回路4の電源をONにしてPC5の入力手段を用いて測定開始の指示を入力する。この測定開始の指示には、パルス検出のためのサンプリング時間やパルスの出現頻度の計測時間、パルス判定しきい値を決定する時間、パルス判定しきい値を決定するための頻度下限値TH1などが含まれている。ここで、サンプリング時間とは、A/D変換部42からのアナログ電圧信号から1つのパルスを検出するために、アナログ電圧信号をサンプリングする時間単位である。また、計測時間とは、パルス判定しきい値を決定するためにパルスの最大電圧値である波高値ごとの出現頻度を検出する処理を実行する時間である。
測定開始の指示が入力されると、PC5は、サンプリング時間とパルスの出現頻度の計測時間とをデータ処理部441に通知し、データ処理部441は、図示していない計時機能を用いてサンプリング時間および出現頻度の計測時間の計測を開始する。また、PC5は、パルス判定しきい値を決定するパルス判定しきい値決定時間および頻度下限値TH1をデータ解析部442に通知する。データ解析部442は、図示していない計時機能を用いてパルス判定しきい値決定時間の計測を開始するとともに、頻度下限値TH1を記憶する。そして、アンプ41は、光電子増倍管3から入力されるアナログ電圧信号を増幅し、増幅した電圧信号をA/D変換部42に出力する。A/D変換部42は、アンプ41から入力されたアナログ電圧信号を所定のクロックでサンプリングしてデジタル電圧信号に変換し、変換したデジタル電圧信号をデータ処理部441としきい値処理部43とに出力する。
デジタル電圧信号が入力されると、データ処理部441およびデータ解析部442で構成されるしきい値決定部44は、しきい値決定処理を実行してパルス判定しきい値を決定し、決定したパルス判定しきい値をしきい値処理部43に出力する(ステップS104)。なお、ステップS105については後述する。
しきい値決定処理は、データ処理部441が実行するデータ処理と、データ解析部442が実行する第1のデータ解析処理とに分けられる。図7は、データ処理の動作を説明するためのフローチャートである。図7を用いて、データ処理部441が実行するデータ処理の動作を説明する。
まず、PC5から設定したサンプリング時間になると(ステップS200,Yes)、データ処理部441は、A/D変換部42から入力されるデジタル電圧信号が示すデジタル電圧値と、PC5から設定された波高値測定スタート電圧値とを比較する(ステップS201)。デジタル電圧値が波高値測定スタート電圧値以下の場合(ステップS201,No)、データ処理部441は、サンプリング時間がパルスを検出している区間(パルス区間)であるか否かを判定する。データ処理部441は、たとえば、ONであればパルス区間であることを示し、OFFであればパルス区間ではないことを示すパルス区間フラグなどを用いて、現在のサンプリング時間がパルス区間であるか否かを判定する。パルス区間ではない場合(ステップS202,No)、データ処理部441は、ステップS200に戻って、次のサンプリング時間になるまで処理を停止する。なお、PC5から設定したサンプリング時間ではない場合も(ステップS200,No)、データ処理部441は、次のサンプリング時間になるまで処理を停止する。
デジタル電圧値が波高値測定スタート電圧値より大きい場合(ステップS201,Yes)、データ処理部441は、サンプリング時間がパルス区間であるか否かを判定する(ステップS203)。パルス区間ではない場合(ステップS203,No)、データ処理部441は、パルス区間フラグをONにして、パルス区間の開始を記憶する(ステップS204)。
パルス区間フラグをONにした後、またはパルス区間であると判定した場合(ステップS203,Yes)、データ処理部441は、A/D変換部42から入力されたデジタル電圧値と記憶している最大電圧値とを比較する(ステップS205)。デジタル電圧値が最大電圧値よりも大きい場合(ステップS205,Yes)、データ処理部441は、デジタル電圧値を最大電圧値として保持し、最大電圧値を更新する(ステップS206)。最大電圧値を更新した後、またはデジタル電圧値が最大電圧値以下の場合(ステップS205,No)、データ処理部441は、ステップS200に戻って、次のサンプリング時間になるまで処理を停止する。
一方、ステップS202において、サンプリング時間がパルス区間であると判定した場合(ステップS202,Yes)、データ処理部441は、パルス区間フラグをOFFにしてパルス区間の終了を記憶する(ステップS207)。データ処理部441は、最大電圧値の値に対応付けられた頻度数記憶領域451の値をインクリメントする(ステップS208)。具体的には、データ処理部441は、最大電圧値の値を読み出し、読み出した値に対応付けられた頻度数記憶領域451の値を読み出す。そして、データ処理部441は、読み出した値に「1」を加算し、加算した値を最大電圧値の値に対応付けられた頻度数記憶領域451に格納する。これにより、検出したパルスの最大電圧値である波高値の出現回数が更新される。
データ処理部441は、最大電圧値の値を初期化(ここでは「0」)する(ステップS209)。データ処理部441は、波高値測定スタート電圧値より大きいデジタル電圧値を検出したパルス区間において、そのパルスの波高値を検出し、検出した波高値に対応付けられた頻度数記憶領域451の値をインクリメントして、波高値ごとの頻度数を記憶するデータ処理(ステップS200〜S209)を計測終了時刻になるまで繰り返す(ステップS210)。そして、データ処理部441は、計測終了時刻になった場合(ステップS210,Yes)は計測を終了し、計測終了時刻になっていない場合(ステップS210,No)はステップS200に戻って、次のサンプリング時間になるまで処理を停止する。
図8は、1つのパルスを検出してその頻度数を記憶するデータ処理の動作を説明するための図である。図8(a)において、横軸は時間を示し、縦軸は電圧を示している。図8(a)のサンプリング時刻T1〜T3においては、A/D変換部42から入力されるデジタル電圧値が波高値測定スタート電圧値以下のため、データ処理部441は、パルス区間フラグをOFFにしている。
サンプリング時刻T4において、デジタル電圧値が波高値測定スタート電圧値より大きくなり、データ処理部441は、パルス区間フラグをONにするとともに、デジタル電圧値「10」を最大電圧値として記憶する。サンプリング時刻T5において、デジタル電圧値「20」となる。したがって、データ処理部441は、最大電圧値を「20」に更新する。
サンプリング時刻T6においては、デジタル電圧値は「13」であり、サンプリング時刻T7においては、デジタル電圧値は「5」である。データ処理部441は、サンプリング時刻T5において、最大電圧値「20」を記憶している。したがって、最大電圧値を更新することはない。
サンプリング時刻T8において、デジタル電圧値は波高値測定スタート電圧値以下となり、データ処理部441は、パルス区間フラグをOFFにする。すなわち、データ処理部441は、1つのパルスの検出が終了したと判定し、検出したパルスの最大電圧値が「20」であることを認識する。この検出したパルスの最大電圧値が波高値である。したがって、図8(a)においては、検出したパルスの波高値は「20」となる。
図8(b)に示すように、頻度数記憶領域451は、アドレスが波高値に対応付けて定義されている。この場合は、アドレス「0」が波高値「0」であり、アドレス「20」が波高値「20」に対応付けられている。最大電圧値として「20」を記憶しているので、図8(b)の場合、データ処理部441は、アドレス「20」のデータ「B」を読み出してインクリメントし、アドレス「20」のデータとして「B+1」を記憶部45に記憶させる。
以上のように、データ処理によって計測開始から計測終了までの所定時間内に検出したパルスの波高値ごとの出現回数(出現頻度)が頻度数記憶領域451に記憶される。
図9は、第1のデータ解析処理の動作を説明するためのフローチャートである。図9を用いて、データ解析部442が実行する第1のデータ解析処理の動作を説明する。なお、第1のデータ解析処理は、上述したようにしきい値決定処理であり、先の図7のフローチャートを参照して説明したデータ処理の後に実行する処理である。
パルス判定しきい値決定時刻になると(ステップS300,Yes)、データ解析部442は、処理対象波高値を選択する(ステップS301)。処理の最初の場合、データ解析部442は、データ処理部441が検出したパルスの波高値の中で最も小さい値の波高値を処理対象波高値として選択する。これは、先の図1を用いて説明したように、波高値の小さいものほどその出現頻度が大きいためである。なお、パルス判定しきい値決定時刻になっていない場合(ステップS300,No)、データ解析部442は、パルス判定しきい値決定時刻になるまで処理を停止する。
データ解析部442は、処理対象波高値に対応する頻度数を取得する(ステップS302)。具体的には、データ解析部442は、処理対象波高値に対応付けられた頻度数記憶領域451のデータを取得する。データ解析部442は、取得したデータ(頻度数)と、PC5によって設定され、自身が記憶している頻度下限値TH1と、を比較する(ステップS303)。
取得した頻度数が頻度下限値TH1より大きい場合(ステップS303,No)、データ解析部442は、次の処理対象波高値を選択する(ステップS304)。具体的には、データ解析部442は、現在の処理対象波高値より1つ大きい波高値を新たな処理対象波高値として選択する。そして、データ解析部442は、処理対象波高値に対応する頻度数が頻度下限値TH1以下になるまで、処理対象波高値に対応する頻度数を取得し、取得した頻度数と頻度下限値TH1とを比較する動作を繰り返す(ステップS302〜S304)。
取得した頻度数が頻度下限値TH1以下の場合(ステップS303,Yes)、データ解析部442は、処理対象波高値の値をパルス判定しきい値としてしきい値処理部43に出力し(ステップS305)、第1のデータ解析処理を終了する。
図6に戻って、ステップS104のしきい値決定処理が終了すると、光量検出装置は、試料2の光量測定を開始する(ステップS105)。具体的には、測定者は、光源1、光電子増倍管3、および光信号検出回路4の電源をすべてONにし、試料2を光量検出装置に設置し、PC5の入力手段を用いて試料2の光量測定開始の指示を入力する。PC5は、光量測定開始の指示を受けると、その旨を光信号検出回路4に通知して測定を開始させる。
より詳細には、アンプ41は、光電子増倍管3から入力されるアナログ電圧信号を増幅し、増幅した電圧信号をA/D変換部42に出力する。A/D変換部42は、アンプ41から入力されたアナログ電圧信号を所定のクロックでサンプリングしてデジタル電圧信号に変換し、変換したデジタル電圧信号をデータ処理部441としきい値処理部43とに出力する。
デジタル電圧信号が入力されると、しきい値処理部43は、デジタル電圧信号が示す電圧値とデータ解析部442から通知された電圧値を示すパルス判定しきい値とを比較する。電圧値がパルス判定しきい値以上の場合、しきい値処理部43は、A/D変換部42から入力されたデジタル電圧信号をそのままPC5に出力する。また、電圧値がパルス判定しきい値より小さい場合、しきい値処理部43は、デジタル電圧信号を「0」にしてPC5に出力する。
つぎに、頻度下限値TH1について説明する。頻度下限値TH1は、先の図6に示したステップS101のフロアノイズ測定の測定結果などの実測値から、先の図1に示したフロアノイズ領域と暗電流ノイズ領域Aとの境界線より大きい値を設定する。たとえば、光量検出装置の所定の性能を満たす頻度の値を頻度下限値TH1とする。また、暗電流ノイズは、光電子増倍管3の温度に起因して変動するため、光量検出装置の設置場所に影響されることも多い。したがって、設置場所固有となることも多いため、実験的に求めた値を頻度下限値TH1として設定してもよい。
図10は、この実施形態1の光信号検出回路の出力を示す図である。図10(a)に示すように、先の図1に示したフロアノイズ領域と暗電流ノイズ領域Aとの境界となる波高値H2における頻度数を頻度下限値TH1として設定した場合、パルス判定しきい値は波高値H2の電圧値となる。そのため、光信号パルスとともに暗電流ノイズに起因するパルスP1を出力してしまう。
しかし、図10(b)に示すように、フロアノイズ領域と暗電流ノイズ領域Aとの境界線より大きい値、たとえば、先の図1に示した暗電流ノイズ領域Aと暗電流ノイズ領域Bとの境界となる波高値H3における頻度数を頻度下限値TH1として設定すれば、パルス判定しきい値は波高値H3の電圧値となる。そのため、暗電流ノイズに起因するパルスP1を除去して、光信号パルス(のみ)を出力することが可能となる。
以上説明したように、この実施形態1においては、データ処理部441が、アンプ41およびA/D変換部42により変換された光量に応じたデジタル電圧信号からパルスを検出し、検出したパルスの最大電圧値である波高値を求め、求めた波高値ごとの出現頻度を頻度数記憶領域451に記憶させる。データ解析部442が、頻度数記憶領域451に記憶された波高値に対応付けられた当該波高値の出現回数のうち、波高値の値が小さいものから順に当該波高値の出現回数と予め定められた頻度下限値とを比較し、比較の結果出現回数が頻度下限値以下となった波高値の値をパルス判定しきい値に決定する。そして、しきい値処理部43が、パルス判定しきい値以上のデジタル電圧信号(のみ)を検出信号として出力するようにしている。これにより、頻度下限値TH1を設定する簡単な操作で微量の光の信号成分と暗電流に起因するノイズの信号成分とを弁別することができる。
また、この実施形態1の光信号検出回路4を用いた光量検出装置においては、光信号検出回路4が、暗電流に起因するノイズの信号を除去しているため、S/N(Signal-Noise ratio)を高くすることが可能となり、微弱な光量を検出可能とする光量検出装置を得ることができる。
なお、温度変化による波高値の出現頻度が変化した場合、先の図6のステップS103の無光状態でのノイズパルス測定およびステップS104のしきい値決定処理を行うことで、パルス判定しきい値を変更することができる。これにより、温度変化により出現パルスの頻度数が変化した場合でも、適切なパルス判定しきい値を決定することが可能となり、温度変化に対応して微量の光の信号成分と暗電流に起因するノイズの信号成分とを弁別することができる。
また、光量測定中に、所定時間ごとにしきい値決定処理を実行して、所定時間ごとにパルス判定しきい値を求めるようにしてもよい。これにより、温度変化により出現パルスの頻度数が変化しても、適切なパルス判定しきい値を決定することが可能となり、測定環境の温度が変化した場合でも、その変化に対応して微量の光の信号成分と暗電流に起因するノイズの信号成分とを弁別することができる。
さらに、パルス判定しきい値を変更した場合、データ解析部442が、PC5に通知し、PC5が出力手段にパルス判定しきい値が変更された旨やパルス判定しきい値の値を表示するようにしてもよい。これにより、測定者が、パルス判定しきい値が変更されたことやパルス判定しきい値を認識することが可能となる。
さらにまた、先の図6のステップS104のしきい値決定処理によってパルス判定しきい値を決定した後に、決定したパルス判定しきい値と温度の関係を予め関数化しておき、試料2の光量測定中に、動的にパルス判定しきい値を変更するようにしてもよい。この場合、まず、PC5によってパルス判定しきい値と温度の関係の関数を予めデータ解析部442に記憶させておく。また、光量検出装置に温度を検出するセンサを備え、検出した温度を光信号検出回路4のデータ解析部442に通知する。データ解析部442は、センサから通知された温度と、記憶したパルス判定しきい値と温度の関係の関数とに基づいてパルス判定しきい値を決定すればよい。
実施形態2.
図11および図12を用いて、本発明の実施形態2を説明する。図11は、本発明の実施形態2の光信号検出回路を用いた光量検出装置の構成を示すブロック図である。図11に示した実施形態2の光量検出装置は、先の図5に示した実施形態1の光量検出装置とほぼ同じであるが、相違点は光信号検出回路4のしきい値決定部44のデータ解析部442の代わりに、データ解析部442aを備えることである。実施形態1の光量検出装置と同じ機能を有する構成要素には、同一符号を付し、重複する説明を省略する。
データ解析部442aは、データ解析部442の機能に加え、波高値に対応付けて記憶された出現頻度を解析し、出現頻度が最も小さい値をパルス判定しきい値として決定する機能を有する。
つぎに、この実施形態2の光量検出装置の動作を説明する。この実施形態2の光量検出装置の動作は、先の実施形態1の光量検出装置の動作とほぼ同じであり、相違点は、データ解析部442aが光量検出中に行う第2のデータ解析処理が追加されていることであるので、ここでは、第2のデータ解析処理の動作のみ説明する。
なお、この第2のデータ解析処理の動作は、先の図6に示したステップS105の光量測定時に行われる。また、データ処理部441は、ステップS105の光量測定時にも、先の図7のフローチャートで説明したデータ処理の動作を行っているものとする。
図12は、第2のデータ解析処理の動作を説明するためのフローチャートである。パルス判定しきい値決定時刻になると、データ解析部442aは、処理対象波高値を選択する(ステップS400)。具体的には、データ解析部442aは、データ処理部441が検出したパルスの波高値の中で最も小さい値の波高値を処理対象波高値として選択する。
つぎに、データ解析部442aは、比較対象波高値を選択する(ステップS401)。具体的には、データ解析部442aは、処理対象波高値のつぎに大きい波高値を比較対象波高値として選択する。
データ解析部442aは、処理対象波高値および比較対象波高値の頻度数を取得する(ステップS402)。具体的には、データ解析部442aは、処理対象波高値および比較対象波高値に対応付けられた頻度数記憶領域451のデータ(頻度数)をそれぞれ取得する。データ解析部442aは、取得した処理対象波高値の頻度数と比較対象波高値の頻度数とを比較する(ステップS403)。
処理対象波高値の頻度数が比較対象波高値の頻度数より大きい場合(ステップS403,Yes)、データ解析部442aは、新たな処理対象波高値と比較対象波高値とを選択する(ステップS404)。具体的には、現在の比較対象波高値を新たな処理対象波高値として選択し、新たな処理対象波高値のつぎに大きい波高値を新たな比較対象波高値として選択する。そして、ステップS402に戻って、処理対象波高値および比較対象波高値の頻度数を頻度数記憶領域451から取得し、取得した処理対象波高値の頻度数と比較対象波高値の頻度数とを比較する。
処理対象波高値の頻度数が比較対象波高値の頻度数以下の場合(ステップS403,No)、データ解析部442aは、処理対象波高値の値をパルス判定しきい値としてしきい値処理部43に出力して(ステップS405)、第2のデータ解析処理を終了する。
以上説明したように、この実施形態2では、データ処理部441が、アンプ41およびA/D変換部42により変換された検出した光量に応じたデジタル電圧信号からパルスを検出し、検出したパルスの最大電圧値である波高値を求め、求めた波高値ごとの出現頻度を頻度数記憶領域451に記憶させる。データ解析部442aが、頻度数記憶領域451に記憶された波高値に対応付けられた当該波高値の頻度数のうち、波高値の値が小さいものから順に波高値ごとの頻度数を比較して頻度数の最小値を求め、頻度数が最小値を示す波高値の値をパルス判定しきい値とする。そして、しきい値処理部43が、パルス判定しきい値以上のデジタル電圧信号(のみ)を検出信号として出力するようにしているため、温度変化により出現パルスの頻度数が変化した場合でも、適切なパルス判定しきい値を決定することが可能となり、温度変化に対応して微量の光の信号成分と暗電流に起因するノイズの信号成分とを弁別することができる。
また、この実施形態2の光信号検出回路4を用いた光量検出装置においては、光信号検出回路4が、暗電流に起因するノイズの信号を除去しているため、S/N(Signal-Noise ratio)を高くすることが可能となり、微弱な光量を検出可能とする光量検出装置を得ることができる。
なお、この実施形態2では、頻度数が最小の波高値をパルス判定しきい値とするようにしたが、頻度数が最小の波高値より予め定められた分だけ、大きい波高値または小さい波高値をパルス判定しきい値としてもよい。この場合は、どれだけ大きいまたは小さい波高値にするかの値を予めPC5からデータ解析部442aに設定しておき、最小の波高値に予め定められた値を減算した値、または最小の波高値に予め定められた値を加算した値をパルス判定しきい値とすればよい。
また、この実施形態2の光信号検出回路4では、試料2の光量測定中に、データ処理部441がデータ処理によって波高値ごとの出現頻度数を取得し、データ解析部442aが、第2のデータ解析処理によって波高値ごとの出現頻度数からパルス判定しきい値を決定するようにしているため、先の実施形態1の光量検出装置の試料の測定を行う手順を実行することなく、試料2の光量測定を実行してパルス判定しきい値を決定するようにしてもよい。これにより、頻度下限値TH1を設定することなくパルス判定しきい値を決定することが可能となる。
さらに、パルス判定しきい値を変更した場合、データ解析部442aが、PC5に通知し、PC5が出力手段にパルス判定しきい値が変更された旨やパルス判定しきい値の値を表示するようにしてもよい。これにより、測定者が、パルス判定しきい値が変更されたことやパルス判定しきい値を認識することが可能となる。
実施形態3.
図13〜図15を用いて、本発明の実施形態3を説明する。先の実施形態1および実施形態2において光量を検出する際に、光源1や光電子増倍管3、アンプ41のゲイン調整が必要となる場合がある。この実施形態3では、光源1や光電子増倍管3、アンプ41のゲイン調整について説明する。
図13は、ゲイン調整の条件を説明するための図である。図13(a)および図13(c)において、横軸は波高値を示し、縦軸は頻度を示している。また、図13(b)および図13(d)において、横軸は時間を示し、縦軸は単位時間ごとに検出したパルス数を示している。
図13(a)の線G31は、測定開始後、所定時間が経過したときの波高値と頻度の関係を示している。この線G31では、頻度が減少して再び増加する境界の波高値、すなわち、パルス判定しきい値となる波高値の頻度が、頻度下限値TH1よりも大きくなっている。このように、パルス判定しきい値となる波高値の頻度が、頻度下限値TH1よりも大きくなっている場合、図13(b)に示すように、単位時間ごとに検出したパルス数は、適正下限値TH6と適正上限値TH7の間の適正頻度内に分布し、安定した状態となる。これは、量子化効率が安定していることを示しており、アンプ41の電圧増幅度が不足していることを意味する。したがって、パルス判定しきい値となる波高値の頻度が、頻度下限値TH1よりも大きく、かつ単位時間ごとに検出したパルス数が適正下限値TH6と適正上限値TH7の間の適正頻度内に分布している場合には、アンプ41のゲイン調整を行い、図13(a)の線G32に示すように、パルス判定しきい値となる波高値の頻度が、頻度下限値TH1よりも小さくなるように調整することが好ましい。
また、図13(c)の線G33は、測定開始後、所定時間が経過したときの波高値と頻度の関係を示している。この線G33では、パルス判定しきい値となる波高値の頻度が、頻度下限値TH1よりも小さく、かつ光電子増倍管3の増倍特性で決まる波高値を中心に分布する波高値の頻度数も頻度下限値TH1よりも小さくなっている。このような場合、図13(d)に示すように、単位時間ごとに検出したパルス数は、適正下限値TH6と適正上限値TH7の間の適正頻度内に分布することなく、適正下限値TH6以下になる。これは、光電子増倍管3の電圧が不足していることを示しており、光電子増倍管3の電圧を調整し(ゲイン調整を行い)、光電子増倍管3の増倍特性で決まる波高値を中心に分布する波高値の頻度数も頻度下限値TH1よりも大きくすることが好ましい。
前記を踏まえて、この実施形態3では、単位時間ごとに検出したパルス数をカウントし、カウントした結果とパルス判定しきい値とに基づいて、光源1や光電子増倍管3、アンプ41のゲイン調整を行うものである。
図14は、本発明の実施形態3の光信号検出回路を用いた光量検出装置の構成を示すブロック図である。図14に示した本発明の実施形態3の光信号検出回路を用いた光量検出装置は、先の図11に示した実施形態2の光信号検出回路を用いた光量検出装置の、光信号検出回路4の記憶部45にパルス数記憶領域452が追加され、パルス測定制御部47が追加されている。また、データ処理部441の代わりにデータ処理部441aを備え、データ解析部442aの代わりにデータ解析部442bを備え、ゲイン制御部46の代わりにゲイン制御部46aを備えている。実施形態1の光量検出装置と同じ機能を有する構成要素には、同一符号を付し、重複する説明を省略する。
データ処理部441aは、データ処理部441の機能に加え、頻度数記憶領域451の頻度数を更新した際に、パルスを検出したことを通知するパルス検出通知をパルス測定制御部47に出力する。
パルス測定制御部47は、PC5から設定されるパルス測定の単位時間およびゲイン調整判定のタイミングなどを制御する。また、パルス測定制御部47は、単位時間内に受けたパルス検出通知をカウントし、カウント値をパルス数記憶領域452に記憶させる。
データ解析部442bは、データ解析部442aの機能に加え、パルス測定制御部47からの通知により、ゲイン調整を行うか否かの判定を行う。なお、かかる判定については図15を参照して後に説明する。データ解析部442bは、判定の結果ゲイン調整が必要な場合、ゲイン調整通知をゲイン制御部46aに出力する。ゲイン制御部46aは、ゲイン調整通知を受けると、光源1や光電子増倍管3、アンプ41のゲインを調整する。
つぎに、この実施形態3の光量検出装置の動作を説明する。この実施形態3の光量検出装置のパルス判定しきい値を決定する動作は、先の実施形態1または実施形態2のしきい値決定処理と同様であり、しきい値決定処理とは別に、以下に説明するゲイン調整判定処理の動作が行われる。よって、ここでは、光量検出中に行うゲイン調整に関わる動作のみを説明する。
データ処理部441aは、先の図7のフローチャートで説明したデータ処理のステップS206において、最大電圧値を更新した後、パルスを検出したことを通知するパルス検出通知をパルス測定制御部47に出力する。
パルス測定制御部47は、パルス検出通知が入力されると、図示しないパルスカウンタの値をカウントアップする動作を、予め設定された単位時間が終了するまで繰り返す。パルス測定制御部47は、単位時間が終了すると、パルスカウンタの値をパルス数記憶領域452に記憶させる。また、パルス測定制御部47は、パルスカウンタの値を初期化し(「0」にし)、次の単位時間のパルスカウンタの値をカウントアップする。
パルス数記憶領域452は、単位時間ごとにアドレスが対応付けられ、それぞれの単位時間ごとのパルスカウンタの値(パルス数)を記憶する。
パルス測定制御部47は、ゲイン調整判定時間になるとその旨をデータ解析部442bに通知する。データ解析部442bは、ゲイン調整判定時間であることが通知されると、ゲイン調整判定処理を実行する。
図15は、ゲイン調整判定処理の動作を説明するためのフローチャートである。図15のフローチャートを参照して、ゲイン調整判定処理の動作を詳細に説明する。なお、波高値の頻度の最小値を求める処理は、先の図12のフローチャートで説明したステップS400〜S404と同じ処理であるので、同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。
データ解析部442bは、処理対象波高値および比較対象波高値を選択する(ステップS400,S401)。データ解析部442bは、処理対象波高値および比較対象波高値の頻度数を取得する(ステップS402)。データ解析部442bは、取得した処理対象波高値の頻度数と比較対象波高値の頻度数とを比較する(ステップS403)。処理対象波高値の頻度数が比較対象波高値の頻度数より大きい場合(ステップS403,Yes)、データ解析部442bは、新たな処理対象波高値と比較対象波高値とを選択する(ステップS404)。そして、ステップS402に戻って、データ解析部442bは、処理対象波高値および比較対象波高値の頻度数を頻度数記憶領域451から取得し、取得した処理対象波高値の頻度数と比較対象波高値の頻度数とを比較する。
処理対象波高値の頻度数が比較対象波高値の頻度数以下の場合(ステップS403,No)、データ解析部442bは、処理対象波高値の頻度数と頻度下限値TH1とを比較する(ステップS500)。処理対象波高値の頻度数が頻度下限値TH1より大きい場合(ステップS500,Yes)、データ解析部442bは、パルス数が適正範囲内であるか否かを判定する(ステップS501)。
具体的には、データ解析部442bは、パルス数記憶領域452に記憶されている単位時間ごとに検出したパルス数をすべて取得する。データ解析部442bは、取得したそれぞれの単位時間ごとのパルス数が、予め定められた適正下限値TH6以上でかつ適正上限値TH7以下であるか否かを判定する。この場合、たとえば、すべての時間単位のパルス数が適正下限値TH6以上でかつ適正上限値TH7以下である場合を適正範囲内と判定してもよいし、すべての単位時間のパルス数のうち、パルス数が適正下限値TH6以上でかつ適正上限値TH7以下である単位時間の数が予め定められた値以上であれば適正範囲内であると判定するようにしてもよい。
パルス数が適正範囲内であると判定した場合(ステップS501,Yes)、データ解析部442bは、アンプ41を調整する旨のゲイン調整通知をゲイン制御部46aに出力して(ステップS502)処理を終了する。パルス数が適正範囲外であると判定した場合(ステップS501,No)、データ解析部442bは、処理を終了する。
一方、処理対象波高値の頻度数が頻度下限値TH1以下の場合(ステップS500,No)、データ解析部442bは、パルス数が適正範囲外であるか否かを判定する(ステップS503)。パルス数記憶領域452に記憶されている単位時間ごとに検出したパルス数をすべて取得する。データ解析部442bは、取得したそれぞれのパルス数が、予め定められた適正下限値TH6以上でかつ適正上限値TH7以下であるか否かを判定する。この場合、たとえば、すべての時間単位のパルス数が適正下限値TH6以下または適正上限値TH7以上である場合を適正範囲外と判定してもよいし、すべての単位時間のパルス数のうち、パルス数が適正下限値TH6以下または適正上限値TH7以上である単位時間の数が予め定められた値以上であれば適正範囲外であると判定するようにしてもよい。
パルス数が適正範囲外と判定した場合(ステップS503,Yes)、データ解析部442bは、光電子増倍管3の電圧を調整する旨のゲイン調整通知をゲイン制御部46aに出力して(ステップS504)処理を終了する。パルス数が適正範囲内であると判定した場合(ステップS503,No)、データ解析部442bは、処理を終了する。
ゲイン制御部46aは、以上のゲイン調整判定処理によりゲイン調整通知を受けると、ゲイン調整通知に基づいて、アンプ41または光電子増倍管3を調整する。調整量は、予め実験などによってその調整量を決めておき、PC5によってゲイン制御部46aに設定しておけばよい。また、光電子増倍管3だけでなく、光源1を調整するようにしてもよい。
以上説明したように、この実施形態3では、パルス測定制御部47が、データ処理部441aが検出したパルス数をカウントし、カウントしたパルス数を単位時間に対応付けてパルス数記憶領域に記憶させる。データ解析部442bが、頻度数記憶領域451に記憶された波高値に対応付けられた当該波高値の出現回数のうち、波高値の値が小さいものから順に波高値ごとの出現回数を比較して出現回数の最小値を求め、求めた最小値と、頻度下限値TH1と、パルス数記憶領域452に記憶された単位時間ごとに検出された各パルス数とに基づいてアンプ41および光電子増倍管3のゲインを調整するか否かを判定する。そして、判定結果に基づいてゲイン制御部46aがアンプ41および光電子増倍管3のゲインを調整するようにしているため、アンプ41および光電子増倍管3のゲイン制御も含めて制御可能となり、より適切に微量の光の信号成分と暗電流に起因するノイズの信号成分とを弁別することができる。
実施形態4.
図16および図17を用いて、本発明の実施形態4を説明する。図16は、本発明の実施形態4の光信号検出回路を用いた光量検出装置の構成を示すブロック図である。図16に示した実施形態4の光量検出装置は、先の図5で示した実施形態1の光量検出装置の光信号検出回路4の代わりに、光信号検出回路4aを備えている。光信号検出回路4aは、光信号検出回路4からしきい値処理部43が削除され、デジタルアナログ変換部(以下、D/A変換部と呼ぶ)49と、コンパレータ48(図中ではCMP)と、カウンタ50とが追加されている。なお、実施形態1の光量検出装置と同じ機能を有する構成要素には、同一符号を付し、重複する説明を省略する。
D/A変換部49は、データ解析部442から入力されるパルス判定しきい値をデジタルデータからアナログ信号(以下、アナログパルス判定しきい値と呼ぶ)に変換する。コンパレータ48は、光電子増倍管3から入力されるアナログ電圧信号とD/A変換部49から入力されるアナログパルス判定しきい値とを比較する。コンパレータ48は、比較の結果、アナログ電圧信号がアナログパルス判定しきい値以上の場合(のみ)、波形整形を行ったカウントアップを指示するパルス(カウント指示信号)をカウンタ50に出力する。カウンタ50は、カウント指示信号が入力された場合、カウント値をカウントアップしてカウント値をPC5に出力する。
つぎに、この実施形態4の光量検出回路の動作を説明する。実施形態4の光量検出装置を用いて試料2の測定を行う手順は、先の図6のフローチャートを参照して説明した手順と同様であり、パルス判定しきい値は、先の図7のフローチャートを参照して説明したデータ処理、および先の図9のフローチャートを参照して説明したデータ解析処理によって決定する。相違点は、データ解析部442が、第1のデータ解析処理によって決定したパルス判定しきい値をしきい値処理部43に出力するのではなく、D/A変換部49に出力することにあるので、ここでは相違点のみを説明する。
D/A変換部49は、データ解析部442によって決定されたパルス判定しきい値が入力されると、パルス判定しきい値をデジタルデータからアナログパルス判定しきい値に変換する。そして、D/A変換部49は、アナログパルス判定しきい値をコンパレータ48に出力する。
コンパレータ48は、光電子増倍管3から入力されるアナログ電圧信号とアナログパルス判定しきい値とを比較する。コンパレータ48は、アナログ電圧信号がアナログパルス判定しきい値以上の場合、カウント指示信号をカウンタ50に出力する。カウンタ50は、カウント指示信号が入力されると、カウント値をカウントアップしてカウント値をPC5に出力する。PC5は、カウンタ50からのカウント値に基づいて光電子増倍管3に入射された光の強度あるいはパルス数を算出する。
以上説明したように、この実施形態4では、データ処理部441が、アンプ41およびA/D変換部42により変換された光量に応じたデジタル電圧信号からパルスを検出し、検出したパルスの最大電圧値である波高値を求め、求めた波高値ごとの出現頻度を頻度数記憶領域451に記憶させる。データ解析部442が、頻度数記憶領域451に記憶された波高値に対応付けられた当該波高値の出現回数のうち、波高値の値が小さいものから順に当該波高値の出現回数と予め定められた頻度下限値とを比較し、比較の結果、出現回数が頻度下限値TH1以下となった波高値の値をパルス判定しきい値とする。そして、D/A変換部49が、パルス判定しきい値をアナログ信号に変換し、光電子増倍管3から入力されるアナログ電圧信号がA/D変換部42によって変換されたアナログ信号のパルス判定しきい値以上となる数をカウントしてPC5に出力する。
これにより、パルスカウント方式を用いた光信号検出回路4aにおいても、頻度下限値TH1を設定する簡単な操作で微量の光の信号成分と暗電流に起因するノイズの信号成分とを弁別することが可能となり、S/N(Signal-Noise ratio)を高くすることができる。
なお、実施形態4では、光電子増倍管3が1つの場合について説明したが、光電子増倍管3を複数備えるようにしてもよい。この場合、光信号検出回路4aのコンパレータとカウンタとをそれぞれ、光電子増倍管3と同じ数だけ備えるようにすればよい。
図17は、光電子増倍管を2つ備えた場合の光量検出装置の構成を示すブロック図である。図17に示すように、試料2からの蛍光を検出する複数(この場合は2個)の光電子増倍管3−1,3−2を備えている。また、光信号検出回路4aは、光電子増倍管3の数と対応する(この場合は2個)のコンパレータ48−1,48−2およびカウンタ50−1,50−2を備えている。
光電子増倍管3−1と光電子増倍管3−2とは、異なる位置に配置され、試料2からの蛍光をそれぞれ検出する。光電子増倍管3−1は、検出した蛍光に応じた電気信号であるアナログ電圧信号をアンプ41とコンパレータ48−1とに出力する。光電子増倍管3−2は、アナログ電圧信号をコンパレータ48−2に出力する。
コンパレータ48−1,48−2は、先の図16に示したコンパレータ48と同様に、光電子増倍管3−1,3−2から入力されるアナログ電圧信号とD/A変換部49から入力されるアナログパルス判定しきい値とを比較する。コンパレータ48−1,48−2は、比較の結果、アナログ電圧信号がアナログパルス判定しきい値以上の場合(のみ)、波形整形を行ったカウントアップを指示するパルス(カウント指示信号)をカウンタ50−1,50−2に出力する。カウンタ50−1,50−2は、カウント指示信号が入力された場合、カウント値をカウントアップしてカウント値をPC5に出力する。
このように、試料2の光量を複数の光電子増倍管3−1,3−2で検出する場合でも、1つの光電子増倍管3―1の出力からパルス判定しきい値を決定することができるため、光信号検出回路4aの回路規模を小さくすることが可能となる。
実施形態5.
先の実施形態1〜4では、光信号検出回路を光量検出装置に適応した場合について説明した。この実施形態5では、光信号検出回路を荷電粒子線装置の1つである走査型電子顕微鏡に適用した場合について説明する。
図18は、本発明の光信号検出回路を用いた走査型電子顕微鏡の構成を示す図である。図18に示すように、本発明の光信号検出回路を用いた走査型電子顕微鏡は、電子源601、引き出し電極602、加速電極603、第一収束電極605、絞り606、第二集束電極607、電子ビーム操作用偏向器608、ExB偏向器612、対物レンズ609、試料ステージ611、二次電子検出器614、プリアンプ615、高圧制御部620、集束レンズ制御部622、偏向制御部623、検出制御部624、対物レンズ制御部625、ステージ制御部626、コンピュータ630を備えている。
高圧制御部620は、電子源601、引き出し電極602、加速電極603を制御する。集束レンズ制御部622は、第一収束電極605と第2集束電極607とを制御する。偏向制御部623は、電子ビーム操作用偏向器608を制御する。対物レンズ制御部625は、対物レンズ609を制御する。ステージ制御部626は、試料ステージ611を制御する。
検出制御部624は、二次電子検出器614によって検出され、プリアンプ615によって増幅された信号から光検出を行う。この検出制御部624に、先の実施形態1〜4の光信号検出回路を用いる。コンピュータ630は、検出制御部624によって検出された信号に基づいて、被検査試料610の表面形状の画像を表示する。
つぎに、この実施形態5の走査型電子顕微鏡の動作を説明する。電子源601から放出された電子は、引き出し電極602および加速電極603により加速される。加速された電子604は、第一収束電極605、絞り606、第二集束電極607を通過して絞られ、ExB偏向器612を介した後、対物レンズ609のレンズ作用によって収束されて試料ステージ611に設置された被検査試料610上を一次元的、あるいは二次元的に走査される。
被検査試料610から発生した二次電子613は、ExB偏向器612により二次電子検出器614に到達する。二次電子検出器614は、到達した二次電子614に応じた電圧信号をプリアンプ615に出力する。プリアンプ615は、電圧信号を増幅して検出制御部624に出力する。
検出制御部624は、先の実施形態1〜4の何れかの光信号検出回路である。先の実施形態1〜4の何れかの動作により、パルス判定しきい値を決定し、決定したパルス判定しきい値に基づいて出力パルス、または出力パルス数のカウント値をコンピュータ630に出力する。
コンピュータ630は、検出制御部624から入力される出力パルス、または出力パルス数のカウント値に基づいて、被検査試料610の表面形状の画像をモニタなどの表示手段に表示する。
以上説明したように、この実施形態5では、先の実施形態1〜4の何れかの光信号検出回路を検出制御部624に用いている。したがって、頻度下限値TH1を設定するなどの簡単な操作で微量の光の信号成分と暗電流に起因するノイズの信号成分とを弁別するとともに、その変化に対応して微量の光の信号成分と暗電流に起因するノイズの信号成分とを弁別することが可能となり、光信号検出のS/N(Signal-Noise ratio)がより高い走査型電子顕微鏡を得ることができる。
なお、この実施形態5では、荷電粒子線装置として走査型電子顕微鏡を例に挙げて説明したが、これに限るものではない。たとえば、イオン顕微鏡など、測定対象からの光を検出して解析を行う装置の検出に先の実施形態1〜4の何れかの光信号検出回路を用いるようにしてもよい。
1 光源
2 試料
3 光電子増倍管(光検出手段)
4 光信号検出回路
5 パーソナルコンピュータ(制御手段)
41 アンプ(増幅手段)
42 A/D変換部(アナログデジタル変換手段)
43 しきい値処理部(しきい値処理手段)
44 しきい値決定部(しきい値決定手段)
46,46a ゲイン制御部(ゲイン制御手段)
47 パルス測定制御部(パルス測定制御手段)
48 コンパレータ(比較手段)
49 D/A変換部(デジタルアナログ変換手段)
50 カウンタ(カウント手段)
441 データ処理部(データ処理手段)
442,442a データ解析部(データ解析手段)
451 頻度数記憶領域(頻度数記憶手段)
452 パルス数記憶領域(パルス数記憶手段)

Claims (14)

  1. 光検出手段により検出される光量に応じたアナログ検出信号を増幅する増幅手段と、
    前記増幅手段によって増幅されたアナログ検出信号をデジタル検出信号に変換するアナログデジタル変換手段と、
    前記アナログデジタル変換手段によって変換されたデジタル検出信号からパルスを検出するとともに、検出したパルスのエネルギを検出する処理を繰り返し、検出したエネルギごとのパルスの出現頻度を求め、求めたエネルギごとのパルスの出現頻度に基づいてパルス判定しきい値を決定するしきい値決定手段と、
    前記しきい値決定手段によって決定されたパルス判定しきい値以上のエネルギのパルスを含む前記デジタル検出信号を検出信号として出力するしきい値処理手段と、
    を備えることを特徴とする光信号検出回路。
  2. 前記検出されたパルスのエネルギに対応付けて当該エネルギのパルスの出現頻度を記憶する頻度数記憶手段をさらに備え、
    前記しきい値決定手段は、
    前記エネルギごとのパルスの出現頻度を前記頻度数記憶手段に記憶させる処理を行うデータ処理手段と、
    前記頻度数記憶手段に記憶されたエネルギごとのパルスの出現頻度のうち、エネルギの値が小さいものから順に当該エネルギのパルスの出現頻度と予め定められた頻度下限値とを比較し、比較の結果、パルスの出現頻度が前記頻度下限値以下となったエネルギの値をパルス判定しきい値に決定するデータ解析手段と、
    を備えることを特徴とする請求項1に記載の光信号検出回路。
  3. 前記検出されたパルスのエネルギに対応付けて当該エネルギのパルスの出現頻度を記憶する頻度数記憶手段をさらに備え、
    前記しきい値決定手段は、
    前記エネルギごとのパルスの出現頻度を前記頻度数記憶手段に記憶させる処理を行うデータ処理手段と、
    前記頻度数記憶手段に記憶されたエネルギごとのパルスの出現頻度のうち、エネルギの値が小さいものから順にエネルギごとのパルスの出現頻度を比較してパルスの出現頻度の最小値を求め、パルスの出現頻度が最小値を示すエネルギの値をパルス判定しきい値に決定するデータ解析手段と
    を備えることを特徴とする請求項1に記載の光信号検出回路。
  4. 光検出手段により検出される光量に応じたアナログ検出信号を増幅する増幅手段と、
    前記増幅手段によって増幅されたアナログ検出信号をデジタル検出信号に変換するアナログデジタル変換手段と、
    前記アナログデジタル変換手段によって変換されたデジタル検出信号からパルスを検出するとともに、検出したパルスのエネルギを検出する処理を繰り返し、検出したエネルギごとのパルスの出現頻度を求め、求めたエネルギごとのパルスの出現頻度に基づいてパルス判定しきい値を決定するしきい値決定手段と、
    前記しきい値決定手段によって決定されたパルス判定しきい値をデジタル信号からアナログ信号に変換するデジタルアナログ変換手段と、
    前記検出した光量に応じたアナログ検出信号が、前記デジタルアナログ変換手段によって変換されたアナログ信号のパルス判定しきい値以上であるか否かを判定する比較手段と、
    前記比較手段によって前記検出した光量に応じたアナログ検出信号が、前記デジタルアナログ変換手段によって変換されたアナログ信号のパルス判定しきい値以上であると判定された数をカウントして出力するカウント手段と、
    を備えることを特徴とする光信号検出回路。
  5. 前記検出されたパルスのエネルギに対応付けて当該エネルギのパルスの出現頻度を記憶する頻度数記憶手段をさらに備え、
    前記しきい値決定手段は、
    前記エネルギごとのパルスの出現頻度を前記頻度数記憶手段に記憶させる処理を行うデータ処理手段と、
    前記頻度数記憶手段に記憶されたエネルギごとのパルスの出現頻度のうち、エネルギの値が小さいものから順に当該エネルギのパルスの出現頻度と予め定められた頻度下限値とを比較し、比較の結果、パルスの出現頻度が前記頻度下限値以下となったエネルギの値をパルス判定しきい値に決定するデータ解析手段と、
    を備えることを特徴とする請求項4に記載の光信号検出回路。
  6. 前記検出されたパルスのエネルギに対応付けて当該エネルギのパルスの出現頻度を記憶する頻度数記憶手段をさらに備え、
    前記しきい値決定手段は、
    前記エネルギごとのパルスの出現頻度を前記頻度数記憶手段に記憶させる処理を行うデータ処理手段と、
    前記頻度数記憶手段に記憶されたエネルギごとのパルスの出現頻度のうち、エネルギの値が小さいものから順にエネルギごとのパルスの出現頻度を比較してパルスの出現頻度の最小値を求め、パルスの出現頻度が最小値を示すエネルギの値をパルス判定しきい値に決定するデータ解析手段と
    を備えることを特徴とする請求項4に記載の光信号検出回路。
  7. 光量を検出し、検出した光量に応じたアナログ検出信号を出力する光検出手段と、
    前記光検出手段によって検出されたアナログ検出信号を増幅する増幅手段と、
    前記増幅手段によって増幅されたアナログ検出信号をデジタル検出信号に変換するアナログデジタル変換手段と、
    前記アナログデジタル変換手段によって変換されたデジタル検出信号からパルスを検出するとともに、検出したパルスのエネルギを検出する処理を繰り返し、検出したエネルギごとのパルスの出現頻度を求め、求めたエネルギごとのパルスの出現頻度に基づいてパルス判定しきい値を決定するしきい値決定手段と、
    前記しきい値決定手段によって決定されたパルス判定しきい値以上のエネルギのパルスを含む前記デジタル検出信号を検出信号として出力するしきい値処理手段と、
    前記しきい値決定手段から出力される検出信号に基づいて、前記光検出手段に入射された光の強度またはパルス数を算出して前記光量を解析する制御手段と、
    を備えることを特徴とする光量検出装置。
  8. 前記検出されたパルスのエネルギに対応付けて当該エネルギのパルスの出現頻度を記憶する頻度数記憶手段をさらに備え、
    前記しきい値決定手段は、
    前記エネルギごとのパルスの出現頻度を前記頻度数記憶手段に記憶させる処理を行うデータ処理手段と、
    前記頻度数記憶手段に記憶されたエネルギごとのパルスの出現頻度のうち、エネルギの値が小さいものから順に当該エネルギのパルスの出現頻度と予め定められた頻度下限値とを比較し、比較の結果、パルスの出現頻度が前記頻度下限値以下となったエネルギの値をパルス判定しきい値に決定するデータ解析手段と、
    を備えることを特徴とする請求項7に記載の光量検出装置。
  9. 前記検出されたパルスのエネルギに対応付けて当該エネルギのパルスの出現頻度を記憶する頻度数記憶手段をさらに備え、
    前記しきい値決定手段は、
    前記エネルギごとのパルスの出現頻度を前記頻度数記憶手段に記憶させる処理を行うデータ処理手段と、
    前記頻度数記憶手段に記憶されたエネルギごとのパルスの出現頻度のうち、エネルギの値が小さいものから順にエネルギごとのパルスの出現頻度を比較してパルスの出現頻度の最小値を求め、パルスの出現頻度が最小値を示すエネルギの値をパルス判定しきい値に決定するデータ解析手段と
    を備えることを特徴とする請求項7に記載の光量検出装置。
  10. 前記検出されたパルスのエネルギに対応付けて当該エネルギのパルスの出現頻度を記憶する頻度数記憶手段と、
    所定の単位時間に対応付けて当該単位時間に検出したパルス数を記憶するパルス数記憶手段と、
    前記所定の単位時間ごとに、前記しきい値決定手段が検出したパルス数をカウントし、カウントしたパルス数を前記所定の単位時間に対応付けて前記パルス数記憶手段に記憶させるパルス測定制御手段と、
    ゲイン調整通知に基づいて、前記光検出手段および前記増幅手段のゲインを調整するゲイン制御手段と、
    をさらに備え、
    前記しきい値決定手段は、
    前記エネルギごとのパルスの出現頻度を前記頻度数記憶手段に記憶させる処理を行うデータ処理手段と、
    前記頻度数記憶手段に記憶されたエネルギごとのパルスの出現頻度のうち、エネルギの値が小さいものから順に当該エネルギのパルスの出現頻度と予め定められた頻度下限値とを比較し、比較の結果、パルスの出現頻度が前記頻度下限値以下となったエネルギの値をパルス判定しきい値に決定するとともに、前記頻度数記憶手段に記憶されたエネルギごとのパルスの出現頻度のうち、エネルギの値が小さいものから順にエネルギごとのパルスの出現頻度を比較してパルスの出現頻度の最小値を求め、求めた最小値と、前記頻度下限値と、前記パルス数記憶手段に記憶された単位時間ごとに検出された各パルス数とに基づいて、前記光検出手段および前記増幅手段のゲインを調整するか否かを判定し、ゲインを調整すると判定した場合には、前記ゲイン調整通知を前記ゲイン制御手段に出力するデータ解析手段と、
    を備えることを特徴とする請求項7に記載の光量検出装置。
  11. 光量を検出し、検出した光量に応じたアナログ検出信号を出力する光検出手段と、
    前記光検出手段によって検出されたアナログ検出信号を増幅する増幅手段と、
    前記増幅手段によって増幅されたアナログ検出信号をデジタル検出信号に変換するアナログデジタル変換手段と、
    前記アナログデジタル変換手段によって変換されたデジタル検出信号からパルスを検出するとともに、検出したパルスのエネルギを検出する処理を繰り返し、検出したエネルギごとのパルスの出現頻度を求め、求めたエネルギごとのパルスの出現頻度に基づいてパルス判定しきい値を決定するしきい値決定手段と、
    前記しきい値決定手段によって決定されたパルス判定しきい値をデジタル信号からアナログ信号に変換するデジタルアナログ変換手段と、
    前記検出した光量に応じたアナログ検出信号が、前記デジタルアナログ変換手段によって変換されたアナログ信号のパルス判定しきい値以上であるか否かを判定する比較手段と、
    前記比較手段によって前記検出した光量に応じたアナログ検出信号が、前記デジタルアナログ変換手段によって変換されたアナログ信号のパルス判定しきい値以上であると判定された数をカウントして出力するカウント手段と、
    前記カウント手段から出力されるカウント数に基づいて、前記光検出手段に入力された光の強度またはパルス数を算出して前記光量を解析する制御手段と、
    を備えることを特徴とする光量検出装置。
  12. 前記検出されたパルスのエネルギに対応付けて当該エネルギのパルスの出現頻度を記憶する頻度数記憶手段をさらに備え、
    前記しきい値決定手段は、
    前記エネルギごとのパルスの出現頻度を前記頻度数記憶手段に記憶させる処理を行うデータ処理手段と、
    前記頻度数記憶手段に記憶されたエネルギごとのパルスの出現頻度のうち、エネルギの値が小さいものから順に当該エネルギのパルスの出現頻度と予め定められた頻度下限値とを比較し、比較の結果、パルスの出現頻度が前記頻度下限値以下となったエネルギの値をパルス判定しきい値に決定するデータ解析手段と、
    を備えることを特徴とする請求項11に記載の光量検出装置。
  13. 前記検出されたパルスのエネルギに対応付けて当該エネルギのパルスの出現頻度を記憶する頻度数記憶手段をさらに備え、
    前記しきい値決定手段は、
    前記エネルギごとのパルスの出現頻度を前記頻度数記憶手段に記憶させる処理を行うデータ処理手段と、
    前記頻度数記憶手段に記憶されたエネルギごとのパルスの出現頻度のうち、エネルギの値が小さいものから順にエネルギごとのパルスの出現頻度を比較してパルスの出現頻度の最小値を求め、パルスの出現頻度が最小値を示すエネルギの値をパルス判定しきい値に決定するデータ解析手段と
    を備えることを特徴とする請求項11に記載の光量検出装置。
  14. 請求項1に記載の光信号検出回路を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。
JP2014521435A 2012-06-15 2013-06-14 光信号検出回路、光量検出装置、および荷電粒子線装置 Active JP5971637B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014521435A JP5971637B2 (ja) 2012-06-15 2013-06-14 光信号検出回路、光量検出装置、および荷電粒子線装置

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012135770 2012-06-15
JP2012135770 2012-06-15
PCT/JP2013/066502 WO2013187511A1 (ja) 2012-06-15 2013-06-14 光信号検出回路、光量検出装置、および荷電粒子線装置
JP2014521435A JP5971637B2 (ja) 2012-06-15 2013-06-14 光信号検出回路、光量検出装置、および荷電粒子線装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2013187511A1 true JPWO2013187511A1 (ja) 2016-02-08
JP5971637B2 JP5971637B2 (ja) 2016-08-17

Family

ID=49758329

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014521435A Active JP5971637B2 (ja) 2012-06-15 2013-06-14 光信号検出回路、光量検出装置、および荷電粒子線装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US9322711B2 (ja)
JP (1) JP5971637B2 (ja)
CN (1) CN104380064B (ja)
DE (1) DE112013002670B4 (ja)
WO (1) WO2013187511A1 (ja)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2522836A (en) * 2013-12-02 2015-08-12 Neul Ltd Interference mitigation
JP6289339B2 (ja) * 2014-10-28 2018-03-07 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置及び情報処理装置
US9857218B2 (en) * 2015-03-09 2018-01-02 Rockwell Automation Technologies, Inc. Pulsed sensing using multiple pulse samples
JP2016178037A (ja) 2015-03-20 2016-10-06 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子ビーム装置及び荷電粒子ビーム装置を用いた画像の生成方法並びに画像処理装置
EP3279624B1 (en) * 2015-04-03 2019-08-28 Hitachi High-Technologies Corporation Light quantity detection device, and immunoanalysis device and charged particle beam device using same
CN104955239A (zh) * 2015-07-06 2015-09-30 北京东方安杰科技有限公司 一种连续光源光能量检测系统及其检测方法
US9641259B1 (en) 2016-06-20 2017-05-02 Rockwell Automation Technologies, Inc. System and method for pulsed based receiver photo sensor
US11378510B2 (en) * 2016-09-09 2022-07-05 Sony Corporation Fine particle measuring device and fine particle measuring method
JP6659617B2 (ja) * 2017-04-12 2020-03-04 株式会社デンソー 光検出器
JP7326698B2 (ja) * 2017-12-27 2023-08-16 セイコーエプソン株式会社 光検出装置、補正係数算出装置および補正係数算出方法
US10490687B2 (en) 2018-01-29 2019-11-26 Waymo Llc Controlling detection time in photodetectors
JP7000998B2 (ja) * 2018-06-06 2022-01-19 株式会社Jvcケンウッド 分析用閾値生成装置及び分析用閾値生成方法
CN112513593B (zh) 2018-08-22 2023-10-10 株式会社日立高新技术 自动分析装置和光测量方法
CN110568422B (zh) * 2019-08-30 2022-08-23 上海禾赛科技有限公司 SiPM接收器和激光雷达的动态阈值调节方法以及激光雷达
CN115014408B (zh) * 2021-09-17 2023-08-01 荣耀终端有限公司 电子设备

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS594286A (ja) * 1982-06-29 1984-01-11 Hamamatsu Tv Kk 二次元微弱画像計測装置
GB2126043A (en) * 1982-06-29 1984-03-14 Hamamatsu Photonics Kk Photon or particle imaging device using a micro-channel-plate electron multiplier
JP2006300728A (ja) * 2005-04-20 2006-11-02 Hamamatsu Photonics Kk 光検出用回路及び光検出器
WO2012017762A1 (ja) * 2010-08-04 2012-02-09 株式会社日立ハイテクノロジーズ 光量検出方法及びその装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6281182A (ja) * 1985-10-02 1987-04-14 Canon Inc 非線形光電変換装置
KR100386090B1 (ko) * 2001-04-02 2003-06-02 한국과학기술원 동심원 패턴을 이용한 카메라 내부변수 보정시스템 및카메라 보정방법
US7157681B1 (en) * 2003-12-16 2007-01-02 Wolfgang Tetzlaff Photomultiplier tube gain stabilization for radiation dosimetry system
CN100468021C (zh) * 2005-09-29 2009-03-11 中山大学 延时受控无条纹光谱相位干涉脉冲测量方法及其测量装置
US7710557B2 (en) * 2007-04-25 2010-05-04 Hitachi High-Technologies Corporation Surface defect inspection method and apparatus
FR2936355B1 (fr) * 2008-09-23 2010-10-15 Commissariat Energie Atomique Systeme de controle de derive de gain de photomultiplicateur et procede associe.

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS594286A (ja) * 1982-06-29 1984-01-11 Hamamatsu Tv Kk 二次元微弱画像計測装置
GB2126043A (en) * 1982-06-29 1984-03-14 Hamamatsu Photonics Kk Photon or particle imaging device using a micro-channel-plate electron multiplier
US4602282A (en) * 1982-06-29 1986-07-22 Hamamatsu Photonics Kabushiki Kaisha Measuring devices for two-dimensional photon-caused or corpuscular-ray-caused image signals
JP2006300728A (ja) * 2005-04-20 2006-11-02 Hamamatsu Photonics Kk 光検出用回路及び光検出器
WO2012017762A1 (ja) * 2010-08-04 2012-02-09 株式会社日立ハイテクノロジーズ 光量検出方法及びその装置
JP2012037267A (ja) * 2010-08-04 2012-02-23 Hitachi High-Technologies Corp 光量検出方法及びその装置
US20130114073A1 (en) * 2010-08-04 2013-05-09 Hitachi High-Technologies Corporation Light Quantity Detection Method and Device Therefor

Also Published As

Publication number Publication date
DE112013002670T5 (de) 2015-03-19
US9322711B2 (en) 2016-04-26
WO2013187511A1 (ja) 2013-12-19
US20150153223A1 (en) 2015-06-04
CN104380064B (zh) 2016-07-06
JP5971637B2 (ja) 2016-08-17
DE112013002670B4 (de) 2020-07-02
CN104380064A (zh) 2015-02-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5971637B2 (ja) 光信号検出回路、光量検出装置、および荷電粒子線装置
JP6352529B2 (ja) 光量検出装置、それを用いた免疫分析装置および荷電粒子線装置
JP6267529B2 (ja) 荷電粒子線装置及び画像生成方法
US7238936B2 (en) Detector with increased dynamic range
JP5372020B2 (ja) 電子顕微鏡
JP6003836B2 (ja) X線分析用信号処理装置
US10373797B2 (en) Charged particle beam device and image forming method using same
JP2015046228A (ja) 微小信号検出システム及びこれを搭載した電子顕微鏡
US9188552B2 (en) X-ray spectrometer and sample analyzer
US10914844B2 (en) Signal processing device for X-ray analysis and adjustment method for a signal processing device for X-ray analysis
WO2016084675A1 (ja) 荷電粒子線装置
JP6637306B2 (ja) 分析方法および分光装置
JP6298601B2 (ja) 荷電粒子線装置
JP7444294B2 (ja) 蛍光x線分析装置
JP2014169877A (ja) X線検出装置および試料分析装置
JP6326347B2 (ja) ライブタイム比演算回路、ライブタイム比演算方法、放射線検出装置、および試料分析装置
CN114388332B (zh) 用于优化静电计模拟信号线性度、灵敏度和范围的自适应和自动调整和控制的方法和设备
US20210066033A1 (en) Charged particle beam control device
JP3832331B2 (ja) 電子線分析装置
WO2021156976A1 (ja) 計測システム、および荷電粒子線装置のパラメータ設定方法
JP2019114427A (ja) 電子線マイクロアナライザ
KR101336607B1 (ko) 디더신호생성모듈을 이용한 sem 이미지노이즈 제거장치 및 방법
JP2014066523A (ja) 信号処理装置、放射線検出装置及び蛍光x線分析装置

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20151110

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160106

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20160614

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20160704

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5971637

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350