JPWO2013146304A1 - シンチレータアレイの製造方法 - Google Patents
シンチレータアレイの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2013146304A1 JPWO2013146304A1 JP2014507666A JP2014507666A JPWO2013146304A1 JP WO2013146304 A1 JPWO2013146304 A1 JP WO2013146304A1 JP 2014507666 A JP2014507666 A JP 2014507666A JP 2014507666 A JP2014507666 A JP 2014507666A JP WO2013146304 A1 JPWO2013146304 A1 JP WO2013146304A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- scintillator
- adhesive sheet
- sensitive adhesive
- substrate
- resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 78
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 251
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 251
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 157
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 114
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims abstract description 114
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 106
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 38
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 claims abstract description 7
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 claims description 159
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 59
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 55
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 49
- 238000001723 curing Methods 0.000 claims description 27
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims description 26
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 19
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 19
- 238000011049 filling Methods 0.000 claims description 14
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 11
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 48
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 32
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N titanium dioxide Inorganic materials O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 14
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 8
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 6
- MCVAAHQLXUXWLC-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[S-2].[Gd+3].[Gd+3] Chemical compound [O-2].[O-2].[S-2].[Gd+3].[Gd+3] MCVAAHQLXUXWLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 6
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 6
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 6
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000002591 computed tomography Methods 0.000 description 4
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 206010037660 Pyrexia Diseases 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 2
- 239000002223 garnet Substances 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
- G01T1/00—Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
- G01T1/16—Measuring radiation intensity
- G01T1/20—Measuring radiation intensity with scintillation detectors
- G01T1/2002—Optical details, e.g. reflecting or diffusing layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
- B32B37/14—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers
- B32B37/24—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers with at least one layer not being coherent before laminating, e.g. made up from granular material sprinkled onto a substrate
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B38/00—Ancillary operations in connection with laminating processes
- B32B38/0012—Mechanical treatment, e.g. roughening, deforming, stretching
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B38/00—Ancillary operations in connection with laminating processes
- B32B38/10—Removing layers, or parts of layers, mechanically or chemically
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
- G01T1/00—Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
- G01T1/16—Measuring radiation intensity
- G01T1/20—Measuring radiation intensity with scintillation detectors
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
- B32B37/14—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers
- B32B37/24—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers with at least one layer not being coherent before laminating, e.g. made up from granular material sprinkled onto a substrate
- B32B2037/243—Coating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B38/00—Ancillary operations in connection with laminating processes
- B32B38/0012—Mechanical treatment, e.g. roughening, deforming, stretching
- B32B2038/0016—Abrading
Landscapes
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
- Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
Description
(1) 第一の実施形態
図1は第一の実施形態の製造方法を示すフローチャートである。まず、ベースフィルムの両面に第一及び第二の粘着面を備え、少なくとも第二の粘着面は熱剥離型粘着層であり、各粘着層がセパレータで被覆された熱剥離型両面粘着シートを準備する。熱剥離型粘着層は、所定の温度に加熱すると発泡して粘着力が低下し、剥離されやすくなる粘着層である。第一の粘着面も、第二の粘着面と同じ温度で発泡する熱剥離型粘着層であるのが好ましい。
第二の実施形態の方法は、貫通溝の代わりに未貫通溝を形成することを特徴とする。図14に示すように、シンチレータ基板10を熱剥離型両面粘着シート30aを介して支持プレート30上に固定するまでのステップB1及びB2は第一の実施形態におけるステップA1及びA2と同じである。
第三の実施形態の方法は、熱剥離型両面粘着シートを介して支持プレートに固定する格子状未貫通溝付きシンチレータ基板の向き(上下方向)が第二の実施形態の方法と異なる。従って、図18に示すように、第二の温度への加熱により支持プレート30上の熱剥離型両面粘着シート30aから格子状未貫通溝付きシンチレータ基板11b’を剥離するまでのステップC1〜C4は、第二の実施形態におけるステップB1〜B4と同じである。なお、固定したシンチレータ基板10に格子状未貫通溝を形成した後、そのまま反射材用樹脂を充填するわけではないので、シンチレータ基板10の固定には熱剥離型両面粘着シートを用いる必要がなく、熱剥離型両面粘着シート以外の粘着シート、接着剤、粘着剤等を用いても良い。
図23(a) 及び図23(b) に示すように、放射線検出器100は、平板状に配列された複数(M×N)個のシンチレータセル111からなるシンチレータアレイ110と、光学樹脂層130を介してシンチレータセル111と整列するように平板状に配列された複数(N×M)個のフォトダイオード121からなるフォトダイオードアレイ120と、シンチレータセル111の周囲に形成された反射層112、113、114(白色の酸化チタン粒子を含有する反射材用樹脂からなる)とを有する。各シンチレータセル111は入射した放射線により発光し、その光は反射層112、113、114に導かれて対応する各フォトダイオード121に入射し、各フォトダイオード121で電気信号に変換される。シンチレータアレイ110は本発明の方法により形成される。
図13に示すシンチレータアレイを第一の実施形態の方法で作製した。まず、ガラス板からなる支持プレートの上面(Ra=0.1μm、及び高さのばらつき=50μm)に剥離温度が90℃の熱剥離型両面粘着シートを接着した後、粘着シートにGd2O2S: Ce, Prの組成を有するシンチレータ基板を接着した。次いで、ルチル型酸化チタン粉末を含有するエポキシ樹脂からなる反射材用樹脂を用い、硬化温度を80℃とし、加熱時間を3時間とした。シンチレータセルのアスペクト比w/tを1.0とした。その結果、高精度のシンチレータアレイを効率良く製造することができた。このシンチレータアレイとフォトダイオードアレイを光学接着剤を介して接合し、放射線検出器を作製した。
剥離温度が120℃の熱剥離型両面粘着シートを用いた以外実施例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
剥離温度が150℃の熱剥離型両面粘着シートを用いた以外実施例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
熱剥離機能を有さない圧着型粘着シートを用い、第二の加熱ステップを省略した以外実施例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。圧着型粘着シートの使用によりその溶解工程及び洗浄工程を要したため、実施例1より長い製造時間を要し、効率的でなかった。
反射材用樹脂の硬化温度を100℃とした以外実施例2と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
反射材用樹脂の硬化温度を100℃とした以外実施例3と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
図5(a) に示すように帯状の熱剥離型両面粘着シートを自動巻き付け装置により支持プレートに巻き付けた以外実施例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。その結果、実施例1より短い工数で粘着シートの貼付けを完了できた。
シンチレータセルのアスペクト比をw/t=0.2(w=0.5 mm、t=2.5 mm)に変更した以外実施例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
シンチレータセルのアスペクト比をw/t=0.6(w=0.8 mm、t=1.4 mm)に変更した以外実施例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
シンチレータセルのアスペクト比をw/t=5.0(w=5.0 mm、t=1.0 mm)に変更した以外実施例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
シンチレータセルのアスペクト比をw/t=0.1(w=0.1 mm、t=1.0 mm)に変更した以外実施例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。シンチレータセルの保持が困難であったので低負荷で加工した結果、シンチレータアレイの製造に実施例1より長時間を要し、効率的でなかった。
支持プレートの面粗さRaを2μmに変更した以外実施例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
支持プレートの面粗さRaを0.01μmに変更した以外実施例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
支持プレートの面粗さRaを10μmに変更した以外実施例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
支持プレートの高さのばらつきを100μmに変更した以外実施例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
支持プレートの高さのばらつきを0.01 mmに変更した以外実施例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
支持プレートの高さのばらつきを1μmに変更した以外実施例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
(1) 第一の参考形態
図1は第一の参考形態の製造方法を示すフローチャートである。まず、ベースフィルムの両面に第一及び第二の粘着面を備え、少なくとも第二の粘着面は熱剥離型粘着層であり、各粘着層がセパレータで被覆された熱剥離型両面粘着シートを準備する。熱剥離型粘着層は、所定の温度に加熱すると発泡して粘着力が低下し、剥離されやすくなる粘着層である。第一の粘着面も、第二の粘着面と同じ温度で発泡する熱剥離型粘着層であるのが好ましい。
第一の実施形態の方法は、貫通溝の代わりに未貫通溝を形成することを特徴とする。図14に示すように、シンチレータ基板10を熱剥離型両面粘着シート30aを介して支持プレート30上に固定するまでのステップB1及びB2は第一の参考形態におけるステップA1及びA2と同じである。
第二の実施形態の方法は、熱剥離型両面粘着シートを介して支持プレートに固定する格子状未貫通溝付きシンチレータ基板の向き(上下方向)が第一の実施形態の方法と異なる。従って、図18に示すように、第二の温度への加熱により支持プレート30上の熱剥離型両面粘着シート30aから格子状未貫通溝付きシンチレータ基板11b’を剥離するまでのステップC1〜C4は、第一の実施形態におけるステップB1〜B4と同じである。なお、固定したシンチレータ基板10に格子状未貫通溝を形成した後、そのまま反射材用樹脂を充填するわけではないので、シンチレータ基板10の固定には熱剥離型両面粘着シートを用いる必要がなく、熱剥離型両面粘着シート以外の粘着シート、接着剤、粘着剤等を用いても良い。
図23(a) 及び図23(b) に示すように、放射線検出器100は、平板状に配列された複数(M×N)個のシンチレータセル111からなるシンチレータアレイ110と、光学樹脂層130を介してシンチレータセル111と整列するように平板状に配列された複数(N×M)個のフォトダイオード121からなるフォトダイオードアレイ120と、シンチレータセル111の周囲に形成された反射層112、113、114(白色の酸化チタン粒子を含有する反射材用樹脂からなる)とを有する。各シンチレータセル111は入射した放射線により発光し、その光は反射層112、113、114に導かれて対応する各フォトダイオード121に入射し、各フォトダイオード121で電気信号に変換される。シンチレータアレイ110は本発明の方法により形成される。
図13に示すシンチレータアレイを第一の参考形態の方法で作製した。まず、ガラス板からなる支持プレートの上面(Ra=0.1μm、及び高さのばらつき=50μm)に剥離温度が90℃の熱剥離型両面粘着シートを接着した後、粘着シートにGd2O2S: Ce, Prの組成を有するシンチレータ基板を接着した。次いで、ルチル型酸化チタン粉末を含有するエポキシ樹脂からなる反射材用樹脂を用い、硬化温度を80℃とし、加熱時間を3時間とした。シンチレータセルのアスペクト比w/tを1.0とした。その結果、高精度のシンチレータアレイを効率良く製造することができた。このシンチレータアレイとフォトダイオードアレイを光学接着剤を介して接合し、放射線検出器を作製した。
剥離温度が120℃の熱剥離型両面粘着シートを用いた以外参考例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
剥離温度が150℃の熱剥離型両面粘着シートを用いた以外参考例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
熱剥離機能を有さない圧着型粘着シートを用い、第二の加熱ステップを省略した以外参考例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。圧着型粘着シートの使用によりその溶解工程及び洗浄工程を要したため、参考例1より長い製造時間を要し、効率的でなかった。
反射材用樹脂の硬化温度を100℃とした以外参考例2と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
反射材用樹脂の硬化温度を100℃とした以外参考例3と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
図5(a) に示すように帯状の熱剥離型両面粘着シートを自動巻き付け装置により支持プレートに巻き付けた以外参考例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。その結果、参考例1より短い工数で粘着シートの貼付けを完了できた。
シンチレータセルのアスペクト比をw/t=0.2(w=0.5 mm、t=2.5 mm)に変更した以外参考例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
シンチレータセルのアスペクト比をw/t=0.6(w=0.8 mm、t=1.4 mm)に変更した以外参考例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
シンチレータセルのアスペクト比をw/t=5.0(w=5.0 mm、t=1.0 mm)に変更した以外参考例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
シンチレータセルのアスペクト比をw/t=0.1(w=0.1 mm、t=1.0 mm)に変更した以外参考例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。シンチレータセルの保持が困難であったので低負荷で加工した結果、シンチレータアレイの製造に参考例1より長時間を要し、効率的でなかった。
支持プレートの面粗さRaを2μmに変更した以外参考例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
支持プレートの面粗さRaを0.01μmに変更した以外参考例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
支持プレートの面粗さRaを10μmに変更した以外参考例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
支持プレートの高さのばらつきを100μmに変更した以外参考例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
支持プレートの高さのばらつきを0.01 mmに変更した以外参考例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
支持プレートの高さのばらつきを1μmに変更した以外参考例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
Claims (15)
- シンチレータ基板を、少なくとも前記シンチレータ基板との接着面が熱剥離型である両面粘着シートを介して支持プレートに固定し、前記シンチレータ基板に格子状の溝を形成して複数のシンチレータセルを有する格子状溝付きシンチレータ基板を形成し、前記格子状溝に反射材用液状硬化性樹脂を充填し、前記液状硬化性樹脂を加熱硬化させることによりシンチレータセル樹脂硬化体を形成し、次いで加熱により前記シンチレータセル樹脂硬化体から前記両面粘着シートを剥離する工程を有することを特徴とするシンチレータアレイの製造方法。
- 前記格子状溝がシンチレータ基板を貫通することを特徴とする請求項1に記載のシンチレータアレイの製造方法。
- 前記シンチレータ基板に連結部が残留するように格子状の未貫通溝を形成し、前記格子状溝に充填した前記液状硬化性樹脂の加熱硬化後に前記連結部を除去することを特徴とする請求項1に記載のシンチレータアレイの製造方法。
- 格子状の未貫通溝を形成したシンチレータ基板を前記支持プレートから剥離し、アニーリング処理をした後、再度少なくとも前記シンチレータ基板との接着面が熱剥離型である両面粘着シートを介して支持プレートに固定することを特徴とする請求項3に記載のシンチレータアレイの製造方法。
- シンチレータ基板に格子状の未貫通溝を形成することにより、複数のシンチレータセルが連結部で一体化された形状の格子状未貫通溝付きシンチレータ基板を形成し、少なくとも前記シンチレータ基板との接着面が熱剥離型である両面粘着シートを介して、前記格子状未貫通溝を前記両面粘着シート側にして支持プレートに固定し、前記連結部を除去することにより格子状の貫通溝を有するシンチレータ基板を形成し、前記格子状貫通溝に反射材用液状硬化性樹脂を充填し、前記液状硬化性樹脂を加熱硬化させることによりシンチレータセル樹脂硬化体を形成し、次いで加熱により前記シンチレータセル樹脂硬化体から前記両面粘着シートを剥離する工程を有することを特徴とするシンチレータアレイの製造方法。
- 前記格子状未貫通溝付きシンチレータ基板を形成した後に、アニーリング処理を行なうことを特徴とする請求項5に記載のシンチレータアレイの製造方法。
- 前記格子状未貫通溝付きシンチレータ基板を前記支持プレートの面方向に固定する大きさの開口部を有する治具を、前記支持プレートの上面外周部に取り付け、前記治具の開口部内の前記両面粘着シートに前記格子状未貫通溝付きシンチレータ基板を接着した後、前記格子状未貫通溝付きシンチレータ基板から前記連結部を研削により除去することを特徴とする請求項5又は6に記載のシンチレータアレイの製造方法。
- 格子状の貫通溝又は未貫通溝を有する前記シンチレータ基板を固定した前記支持プレートの側面全周に粘着シートの熱剥離型粘着面を貼付することにより前記支持プレートの上方に前記粘着シートを延出させ、前記粘着シートの上方延出部により形成された枠内に前記液状硬化性樹脂を流入させ、もって前記シンチレータセルの間隙に前記液状硬化性樹脂を充填することを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載のシンチレータアレイの製造方法。
- 前記両面粘着シートを介して格子状の貫通溝又は未貫通溝を有する前記シンチレータ基板を固定した前記支持プレート上で、前記シンチレータ基板を包囲するように前記両面粘着シートに粘着シートで形成した枠を貼付し、前記枠内に前記液状硬化性樹脂を流入させ、もって前記シンチレータセルの間隙に前記液状硬化性樹脂を充填することを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載のシンチレータアレイの製造方法。
- 前記枠を形成する前記粘着シートのうち、少なくとも前記液状硬化性樹脂と接する側の粘着面が熱剥離型であることを特徴とする請求項8又は9に記載のシンチレータアレイの製造方法。
- 前記シンチレータセル樹脂硬化体を両面研削することにより前記シンチレータセルが露出したシンチレータセルアレイを形成し、前記シンチレータセルアレイを、少なくとも前記シンチレータ基板との接着面が熱剥離型である両面粘着シートを介して支持プレートに固定し、前記シンチレータセルアレイを反射材用液状硬化性樹脂で被覆し、前記液状硬化性樹脂を加熱硬化させることによりシンチレータセルアレイ樹脂硬化体を形成し、前記シンチレータセルアレイ樹脂硬化体の一面を研削することにより前記シンチレータセルを露出させることを特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載のシンチレータアレイの製造方法。
- 前記支持プレートの面粗さRaが0.01〜10μmであることを特徴とする請求項1〜11のいずれかに記載のシンチレータアレイの製造方法。
- 前記支持プレートの高さのばらつきが0.01〜100μmであることを特徴とする請求項1〜12のいずれかに記載のシンチレータアレイの製造方法。
- 各シンチレータセルのアスペクト比w/tが5以下であることを特徴とする請求項1〜13のいずれかに記載のシンチレータアレイの製造方法。
- 前記熱剥離型両面粘着シートが加熱により発泡し、剥離しやすくなることを特徴する請求項1〜14のいずれかに記載のシンチレータアレイの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014507666A JP5754546B2 (ja) | 2012-03-30 | 2013-03-14 | シンチレータアレイの製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012079308 | 2012-03-30 | ||
JP2012079308 | 2012-03-30 | ||
JP2014507666A JP5754546B2 (ja) | 2012-03-30 | 2013-03-14 | シンチレータアレイの製造方法 |
PCT/JP2013/057239 WO2013146304A1 (ja) | 2012-03-30 | 2013-03-14 | シンチレータアレイの製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015076755A Division JP5935919B2 (ja) | 2012-03-30 | 2015-04-03 | シンチレータアレイの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP5754546B2 JP5754546B2 (ja) | 2015-07-29 |
JPWO2013146304A1 true JPWO2013146304A1 (ja) | 2015-12-10 |
Family
ID=49259567
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012228556A Active JP6071041B2 (ja) | 2012-03-30 | 2012-10-16 | シンチレータアレイの製造方法及び放射線検出器の製造方法 |
JP2014507666A Active JP5754546B2 (ja) | 2012-03-30 | 2013-03-14 | シンチレータアレイの製造方法 |
JP2015076755A Active JP5935919B2 (ja) | 2012-03-30 | 2015-04-03 | シンチレータアレイの製造方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012228556A Active JP6071041B2 (ja) | 2012-03-30 | 2012-10-16 | シンチレータアレイの製造方法及び放射線検出器の製造方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015076755A Active JP5935919B2 (ja) | 2012-03-30 | 2015-04-03 | シンチレータアレイの製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9575188B2 (ja) |
EP (1) | EP2833165B1 (ja) |
JP (3) | JP6071041B2 (ja) |
CN (1) | CN104204855B (ja) |
WO (1) | WO2013146304A1 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9702985B2 (en) | 2012-10-24 | 2017-07-11 | Hitachi Metals, Ltd. | Method for producing radiation detector |
EP2994777A1 (en) * | 2013-05-10 | 2016-03-16 | Koninklijke Philips N.V. | Large-area scintillator element and radiation detectors and radiation absorption event locating systems using same |
BR112015008750A2 (pt) * | 2013-09-05 | 2017-07-04 | Koninklijke Philips Nv | elemento detector de radiação; método; dispositivo de imageamento médico; e método para construir um detector de radiação |
JP6358496B2 (ja) * | 2014-03-28 | 2018-07-18 | 日立金属株式会社 | シンチレータアレイの製造方法 |
CN105798466B (zh) * | 2014-12-29 | 2018-11-16 | 清华大学 | 陶瓷闪烁体阵列的加工方法 |
US10267926B2 (en) * | 2015-05-12 | 2019-04-23 | Shimadzu Corporation | Radiation detector, and radiation tomography device provided with same |
CN106585067A (zh) * | 2015-10-19 | 2017-04-26 | 深圳莱宝高科技股份有限公司 | 一种面板处理装置及其处理方法 |
JP6656879B2 (ja) * | 2015-10-23 | 2020-03-04 | 株式会社ディスコ | 加工方法 |
JP6548565B2 (ja) * | 2015-12-14 | 2019-07-24 | 浜松ホトニクス株式会社 | シンチレータパネル、及び、放射線検出器 |
US11000249B2 (en) * | 2016-11-10 | 2021-05-11 | Koninklijke Philips N.V. | X-ray detector for grating-based phase-contrast imaging |
EP3714293B8 (en) * | 2017-11-24 | 2023-11-15 | Luxium Solutions, LLC | Substrate including scintillator materials, system including substrate, and method of use |
JP7108429B2 (ja) * | 2018-03-01 | 2022-07-28 | 株式会社ディスコ | 板状物の加工方法 |
CN113406690A (zh) * | 2020-03-17 | 2021-09-17 | 同方威视技术股份有限公司 | 一种闪烁体产品的制备方法 |
JP7136377B2 (ja) * | 2020-09-30 | 2022-09-13 | 日立金属株式会社 | シンチレータ構造体 |
JP7136376B2 (ja) * | 2020-09-30 | 2022-09-13 | 日立金属株式会社 | シンチレータ構造体 |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04273087A (ja) | 1991-02-28 | 1992-09-29 | Shimadzu Corp | 放射線検出器およびその製造方法 |
JP3810911B2 (ja) * | 1997-12-01 | 2006-08-16 | 日東電工株式会社 | 加熱剥離型粘着シート |
DE19842947B4 (de) | 1998-09-18 | 2004-07-01 | Siemens Ag | Verfahren zum Herstellen eines Strahlendetektors |
JP2000241554A (ja) | 1999-02-23 | 2000-09-08 | Hitachi Metals Ltd | 放射線検出器 |
JP4298177B2 (ja) * | 2001-02-07 | 2009-07-15 | キヤノン株式会社 | シンチレータパネル、放射線検出装置及びシステム |
US6835936B2 (en) * | 2001-02-07 | 2004-12-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Scintillator panel, method of manufacturing scintillator panel, radiation detection device, and radiation detection system |
JP4103349B2 (ja) * | 2001-07-02 | 2008-06-18 | 日立金属株式会社 | 多チャンネル放射線検出器 |
JP4097123B2 (ja) * | 2002-02-27 | 2008-06-11 | 株式会社篠崎製作所 | 光学フィルムの介装方法及び光学セルブロック |
JP2004003970A (ja) * | 2002-03-25 | 2004-01-08 | Hitachi Metals Ltd | 放射線検出器およびその製造方法、放射線ct装置 |
US20030178570A1 (en) * | 2002-03-25 | 2003-09-25 | Hitachi Metals, Ltd. | Radiation detector, manufacturing method thereof and radiation CT device |
JP2004300231A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Nitto Denko Corp | 熱剥離性両面粘着シート、被着体の加工方法および電子部品 |
US7099429B2 (en) * | 2003-10-06 | 2006-08-29 | Ge Medical Systems Global Technology Company, Llc | Scintillator arrays for radiation detectors and methods of manufacture |
US6898265B1 (en) * | 2003-11-20 | 2005-05-24 | Ge Medical Systems Global Technology Company, Llc | Scintillator arrays for radiation detectors and methods of manufacture |
DE102004056999A1 (de) * | 2004-11-25 | 2006-06-01 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung einer Szintillatorschicht für einen Röntgendetektor und Szintillatorschicht |
EP1681584B1 (en) * | 2005-01-13 | 2009-09-09 | Aloka Co., Ltd. | Scintillator member and manufacturing method thereof, and radiation measuring device |
EP1979765A2 (en) * | 2006-01-16 | 2008-10-15 | Philips Intellectual Property & Standards GmbH | Scintillation element, scintillation array and method for producing the same |
US7932499B2 (en) * | 2006-03-13 | 2011-04-26 | Hitachi Metals, Ltd. | Radiation detector and method for producing the same |
JP2007292584A (ja) * | 2006-04-25 | 2007-11-08 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | シンチレータプレート |
JP5645500B2 (ja) * | 2010-06-23 | 2014-12-24 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置、放射線撮像システム及び放射線撮像装置の製造方法 |
JP2012013533A (ja) * | 2010-06-30 | 2012-01-19 | Fujifilm Corp | 放射線検出器及びその製造方法 |
JP5580701B2 (ja) * | 2010-09-13 | 2014-08-27 | 日東電工株式会社 | ダイシング・ダイボンドフィルム |
CN103003717B (zh) * | 2011-04-25 | 2015-09-30 | 日立金属株式会社 | 闪烁器阵列的制造方法 |
-
2012
- 2012-10-16 JP JP2012228556A patent/JP6071041B2/ja active Active
-
2013
- 2013-03-14 EP EP13769118.4A patent/EP2833165B1/en active Active
- 2013-03-14 JP JP2014507666A patent/JP5754546B2/ja active Active
- 2013-03-14 US US14/389,150 patent/US9575188B2/en active Active
- 2013-03-14 WO PCT/JP2013/057239 patent/WO2013146304A1/ja active Application Filing
- 2013-03-14 CN CN201380017892.XA patent/CN104204855B/zh active Active
-
2015
- 2015-04-03 JP JP2015076755A patent/JP5935919B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5935919B2 (ja) | 2016-06-15 |
CN104204855B (zh) | 2017-05-24 |
US9575188B2 (en) | 2017-02-21 |
JP6071041B2 (ja) | 2017-02-01 |
EP2833165B1 (en) | 2020-10-14 |
EP2833165A4 (en) | 2015-12-16 |
EP2833165A1 (en) | 2015-02-04 |
US20150059963A1 (en) | 2015-03-05 |
CN104204855A (zh) | 2014-12-10 |
JP2015172580A (ja) | 2015-10-01 |
WO2013146304A1 (ja) | 2013-10-03 |
JP5754546B2 (ja) | 2015-07-29 |
JP2013228355A (ja) | 2013-11-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5935919B2 (ja) | シンチレータアレイの製造方法 | |
US20100127180A1 (en) | Scintillator array and a method of constructing the same | |
JP2013502595A (ja) | シンチレーション検出器アセンブリ | |
JP2014002115A (ja) | 放射線検出装置、その製造方法及び撮像システム | |
JP5854128B2 (ja) | シンチレータデュアルアレイの製造方法 | |
JP4274839B2 (ja) | X線検出器用シンチレータ、その製造方法並びにそれを用いたx線検出器及びx線ct装置 | |
JP5441798B2 (ja) | 放射線検出素子の製造方法及び放射線検出素子 | |
JP6233730B2 (ja) | シンチレータアレイの製造方法 | |
JP5541413B2 (ja) | シンチレータアレイの製造方法 | |
JP6052595B2 (ja) | シンチレータアレイの製造方法 | |
JP6358496B2 (ja) | シンチレータアレイの製造方法 | |
US8449796B2 (en) | Method of manufacturing light guide and method of manufacturing a radiation detector | |
JP6052594B2 (ja) | シンチレータアレイの製造方法 | |
CA2968415C (en) | Mammography detector with small chest distance | |
JP2001249180A (ja) | 2次元アレイ型放射線検出器の製造方法 | |
JP2019168350A (ja) | シンチレータアレイおよびその製造方法 | |
JP2004294409A (ja) | 単結晶よりなる超薄型光学部材の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150428 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150511 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5754546 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |