JPWO2013080569A1 - 光学補償フィルム、偏光板および液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

本発明の目的は、△ｎｄが大きい垂直配向型液晶セルに適合し、斜め方向のコントラストや色味を改善しうる光学補償フィルムおよびそれを含む液晶表示装置を提供することである。本発明の光学補償フィルムは、セルロースエステルを含有し、２３℃、５５％ＲＨにおいて、測定波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍまたは６５０ｎｍで測定される面内方向のリターデーションをそれぞれＲ０（４５０）、Ｒ０（５５０）またはＲ０（６５０）とし、厚み方向のリターデーションをＲｔｈ（４５０）、Ｒｔｈ（５５０）またはＲｔｈ（６５０）としたとき、下記式（１）〜（４）を同時に満たす。
式（１） ０．７＜Ｒ０（４５０）/Ｒ０（６５０）＜Ｒｔｈ（４５０）/Ｒｔｈ（６５０）＜２
式（２） Ｒ０（４５０）/Ｒ０（６５０）＜１．０
式（３） ４０ｎｍ＜Ｒ０（５５０）＜８０ｎｍ
式（４） １００ｎｍ＜Ｒｔｈ（５５０）＜２６０ｎｍ

Description

本発明は、光学補償フィルム、偏光板および液晶表示装置に関する。

液晶表示装置は、テレビなどの薄型ディスプレイとして広く用いられている。液晶表示装置における液晶の駆動方法は、種々のものがある。なかでも、大型テレビに用いられる液晶表示装置としては、コントラストが高いことなどから、垂直配向型の液晶表示装置が用いられている。

垂直配向型の液晶表示装置としては、例えばＶＡ方式の液晶表示装置が知られている（例えば特許文献１）。また、ＶＡ方式の液晶表示装置の視野角や斜め方向の色味を改善するために、逆波長分散性を示す光学補償フィルムを有する液晶表示装置などが提案されている（例えば特許文献２）。

近年、垂直配向型の液晶表示装置は、低消費電力化に伴い、透過率が高いことが求められている。特に、垂直配向型の液晶表示装置の透過率を高めるためには、液晶表示装置に含まれる液晶セルの△ｎｄを大きくすることが有効であることが知られている。即ち、△ｎｄが大きい液晶セルは、電圧を印加して液晶分子を基板面に対して水平方向に配向させた際に、大きな位相差を発現する。そのため、液晶セルに電圧を印加して白表示させたときに、バックライト側の偏光子を透過した光の偏光状態を、水平に配向した液晶分子によって十分に変化させることができ、視認側の偏光子を透過する光の量を増やすことができる。

特開２０００−１３１６９３号公報 国際公開第２００９／１１３２０８号

しかしながら、△ｎｄが大きい液晶セルを有する垂直配向型の液晶表示装置は、従来の光学補償フィルムによっては、視野角や斜め方向の色味を改善できないという問題があった。つまり、△ｎｄが大きい液晶セルを有する垂直配向型の液晶表示装置の、視野角や斜め方向の色味を改善するためには、△ｎｄが大きい垂直配向型液晶セルに適合する新たな光学補償フィルムが必要であった。

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、△ｎｄが大きい垂直配向型液晶セルに適合し、視野角や斜め方向の色味を改善しうる光学補償フィルム、偏光板およびそれを含む液晶表示装置を提供することを目的とする。

［１］ セルロースエステルを含有する光学補償フィルムであって、前記光学補償フィルムは、２３℃、５５％ＲＨにおいて、下記式（Ｉ）で定義され、かつ測定波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍまたは６５０ｎｍで測定される面内方向のリターデーションをそれぞれＲ０（４５０）、Ｒ０（５５０）またはＲ０（６５０）とし、下記式（II）で定義され、かつ測定波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍまたは６５０ｎｍで測定される厚み方向のリターデーションをＲｔｈ（４５０）、Ｒｔｈ（５５０）またはＲｔｈ（６５０）としたとき、下記式（１）〜（４）を同時に満たす、光学補償フィルム。
式（１） ０．７＜Ｒ０（４５０）/Ｒ０（６５０）＜Ｒｔｈ（４５０）/Ｒｔｈ（６５０）＜２
式（２） Ｒ０（４５０）/Ｒ０（６５０）＜１．０
式（３） ４０ｎｍ＜Ｒ０（５５０）＜８０ｎｍ
式（４） １００ｎｍ＜Ｒｔｈ（５５０）＜２６０ｎｍ
式（Ｉ）：Ｒ０＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｔ（ｎｍ）
式（II）：Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｔ（ｎｍ）
（式（Ｉ）および（II）において、
ｎｘは、光学補償フィルムの面内方向において屈折率が最大になる遅相軸方向ｘにおける屈折率を表し；
ｎｙは、光学補償フィルムの面内方向において前記遅相軸方向ｘと直交する方向ｙにおける屈折率を表し；
ｎｚは、光学補償フィルムの厚み方向ｚにおける屈折率を表し；
ｔ（ｎｍ）は、光学補償フィルムの厚みを表す）
［２］ 前記セルロースエステルの総アシル基置換度が１．５〜３．０であり、かつアセチル基置換度が０〜２．５である、［１］に記載の光学補償フィルム。
［３］ 一般式（１Ａ）で表される化合物、糖エステル化合物、リン酸エステル系可塑剤およびグリコレート系可塑剤からなる群より選ばれる一以上を含む、［１］または［２］に記載の光学補償フィルム。

（一般式（１Ａ）中、
Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に単結合または下記式で表される二価の連結基を表し；

Ａ^１およびＡ^２は、それぞれ独立に−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子または置換基）、−Ｓ−または−ＣＯ−を表し；
Ｒ^１〜Ｒ^５は、それぞれ独立に置換基を表す）
［４］ 前記糖エステル化合物は、下記式（６）で表される化合物である、［３］に記載の光学補償フィルム。

（一般式（６）のＲ_１〜Ｒ_８は、置換もしくは無置換のアルキルカルボニル基、または置換もしくは無置換のアリールカルボニル基を表し；Ｒ_１〜Ｒ_８は、互いに同じであっても、異なってもよい）
［５］ 前記一般式（１Ａ）で表される化合物の含有量は、前記セルロースエステルに対して０．１〜３０質量％である、［３］に記載の光学補償フィルム。
［６］ 前記糖エステル化合物の含有量は、前記セルロースエステルに対して１〜４０質量％である、［３］または［４］に記載の光学補償フィルム。
［７］ 前記光学補償フィルムが、下記式（５）をさらに満たす、［１］〜［６］のいずれかに記載の光学補償フィルム。
式（５） １．０≦Ｒｔｈ（４５０）/Ｒｔｈ（６５０）
［８］ 前記光学補償フィルムの厚みが、２５〜１００μｍである、［１］〜［７］のいずれかに記載の光学補償フィルム。

［９］ 偏光子と、前記偏光子の少なくとも一方の面に配置された［１］〜［８］のいずれかに記載の光学補償フィルムとを含み、前記偏光子の吸収軸と前記光学補償フィルムの遅相軸とが直交している、偏光板。
［１０］ 第一の偏光子を有する第一の偏光板と、液晶セルと、第二の偏光子を有する第二の偏光板と、を順に有する液晶表示装置であって、前記液晶セルは、対向する一対の基板と、前記一対の基板に挟持され、液晶を含む液晶層とを有し、前記液晶セルは、電圧無印加時には、前記液晶を前記一対の基板面に対して垂直向させ、かつ電圧印加時には、前記液晶を前記一対の基板面に対して平行方向に配向させるものであり、かつ前記液晶セルのギャップをｄ（ｎｍ）とし、２３℃、測定波長５５０ｎｍにおける前記液晶の屈折率異方性を△ｎとしたとき、３２０ｎｍ＜△ｎｄ＜４７０ｎｍを満たし、前記第一の偏光板と前記第二の偏光板のいずれか一方または両方は、前記第一の偏光子または前記第二の偏光子の液晶セル側の面に配置された［１］〜［８］のいずれかに記載の光学補償フィルムを有する、液晶表示装置。
［１１］ 前記第一の偏光板と前記第二の偏光板の両方が、前記第一の偏光子または前記第二の偏光子の液晶セル側の面に配置された前記光学補償フィルムを有する、［１０］に記載の液晶表示装置。

本発明の光学補償フィルムと、△ｎｄが大きい垂直配向型液晶セルとを有する液晶表示装置は、透過率または応答速度が高く、かつ視野角や斜め方向の色味が改善されうる。

本発明に係る液晶表示装置の一実施形態の基本構成を示す模式図である。 マルチドメイン構造を有する液晶セルの基板面の一例を示す平面図である。 実施例の液晶表示装置の構成Ｉを示す模式図である。 実施例の液晶表示装置の構成IIを示す模式図である。 実施例の液晶表示装置の構成IIIを示す模式図である。

１．光学補償フィルム
本発明の光学補償フィルムは、透明な熱可塑性樹脂を含有し、必要に応じて波長分散調整剤などの添加剤をさらに含有していてもよい。

透明な熱可塑性樹脂の例には、セルロースエステル、環状オレフィン樹脂、（メタ）アクリル樹脂、鎖状オレフィン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂などが含まれ、好ましくはセルロースエステルである。

セルロースエステル
セルロースエステルは、セルロースの水酸基を、脂肪族カルボン酸または芳香族カルボン酸でエステル化して得られる化合物である。

セルロースエステルに含まれるアシル基は、脂肪族アシル基または芳香族アシル基であり、好ましくは脂肪族アシル基である。脂肪族アシル基の例には、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ｔｅｒｔ−ブタノイル基、オレオイル基、シンナモイル基である。芳香族アシル基の例には、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基などが含まれる。なかでも、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基などの炭素原子数２〜４の脂肪族アシル基が好ましい。

セルロースエステルの総アシル基置換度は、１．５〜３．０であることが好ましく、２．０〜２．８であることがより好ましい。適度な位相差を有し、かつ良好な波長分散性を有するフィルムが得られやすいからである。

セルロースエステルは、アセチル基の置換度をＸとし、プロピオニル基またはブチリル基の置換度をＹとしたとき、下記式（ｉ）および（ii）を同時に満たすことが好ましい。
式（ｉ） １．５≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（ii） ０≦Ｘ≦２．５

後述するフィルムのＲ０の波長分散（Ｒ０ＤＳＰ＝Ｒ０（４５０）／Ｒ０（６５０））やＲｔｈの波長分散（ＲｔｈＤＳＰ＝Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（６５０））は、例えばセルロースエステルの総アシル基置換度やアセチル基置換度などによって調整することができる。

アシル基置換度の測定方法は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準じて測定することができる。

セルロースエステルの例には、セルロース（ジ、トリ）アセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートベンゾエートまたはセルロースフタレートが含まれ、好ましくはセルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどである。セルロースエステルは、一種類であってもよいし、二種類以上の混合物であってもよい。

セルロースエステルの数平均分子量は、機械的強度が高いフィルムを得るためには、３．０×１０^４〜２．０×１０^５の範囲であることが好ましく、４．０×１０^４〜１．６×１０^５の範囲であることがより好ましい。セルロースエステルの数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定することができる。

セルロースエステルの分子量分布（重量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ）は、１．５〜５．５であることが好ましく、２．０〜５．０であることがより好ましく、２．５〜５．０であることがさらに好ましく、３．０〜５．０であることが特に好ましい。

セルロースエステルの分子量および分子量分布は、高速液体クロマトグラフィーにより測定することができる。

測定条件は以下の通りである。
溶媒：メチレンクロライド
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製）を３本接続して使用する。
カラム温度：２５℃
試料濃度：０．１質量％
検出器：ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１．０×１０^６〜５．０×１０^２までの１３サンプルによる校正曲線を使用する。１３サンプルは、ほぼ等間隔に選択することが好ましい。

セルロースエステルを、２０ｍｌの純水（電気伝導度０．１μＳ／ｃｍ以下、ｐＨ６．８）に１ｇ投入し、２５℃、１ｈｒ、窒素雰囲気下にて攪拌して得られる溶液のｐＨが６〜７であり、電気伝導度が１〜１００μＳ／ｃｍであることが好ましい。

セルロースエステルは、公知の方法で合成することができる。具体的には、セルロースと、少なくとも酢酸またはその無水物を含む炭素数３以上の有機酸またはその無水物と、を触媒（硫酸など）の存在下でエステル化反応させてセルロースのトリエステル体を合成する。次いで、セルロースのトリエステル体を加水分解して、所望のアシル置換度を有するセルロースエステルを合成する。得られたセルロースエステルをろ過、沈殿、水洗、脱水および乾燥させて、セルロースエステルを得ることができる（特開平１０−４５８０４号に記載の方法を参照）。

原料となるセルロースの例には、綿花リンター、木材パルプ（針葉樹由来、広葉樹由来）およびケナフなどが含まれる。木材パルプは、針葉樹由来のものが好ましい。製膜したフィルムの剥離性を高めるためには、綿花リンター由来のセルロースが好ましい。

原料となるセルロースは、一種類だけであってもよいし、二種類以上の混合物であってもよい。例えば、綿花リンター由来のセルロース：木材パルプ（針葉樹）由来のセルロース：木材パルプ（広葉樹）由来のセルロースの比率は、１００：０：０、９０：１０：０、８５：１５：０、５０：５０：０、２０：８０：０、１０：９０：０、０：１００：０、０：０：１００、８０：１０：１０、８５：０：１５、４０：３０：３０であってよい。

本発明の光学補償フィルムは、後述するような特定の波長分散特性を発現させるために、波長分散調整剤、糖エステル化合物、可塑剤（好ましくはリン酸エステル系可塑剤およびグリコレート系可塑剤）からなる群より選ばれる一以上をさらに含有することが好ましい。これらの添加剤は、単独で用いられてもよいし、二種類以上を組み合わせてもよい。

波長分散調整剤
波長分散調整剤は、光吸収スペクトルにおいて、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲において吸収極大を有する化合物であることが好ましく、２７０ｎｍ〜３８０ｎｍの波長範囲において吸収極大を有する化合物であることがより好ましく、３３０ｎｍ〜３７０ｎｍの波長範囲において吸収極大を有する化合物であることがさらに好ましい。波長分散調整剤は、特に制限されず、逆波長分散性を付与するものであっても、順波長分散性を付与するものであってもよい。

波長分散調整剤の例には、下記一般式（１）〜（３）で表される化合物が含まれる。これらの化合物は、液晶化合物であってもよい。

一般式（１）のＬ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に単結合または二価の連結基を示す。二価の連結基の例には、以下のものが含まれ、より好ましくは−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−である。

一般式（１）のＡ^１およびＡ^２は、それぞれ独立に−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子または置換基）、−Ｓ−または−ＣＯ−を示し、好ましくは−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは置換基）または−Ｓ−である。−ＮＲ−におけるＲが示す置換基は、炭素数１〜３０のアルキル基などでありうる。

一般式（１）のＲ^１は、置換基を示す。Ｒ^１が示す置換基の例には、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）；
アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基）；
シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基）；
ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換または無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基）；
アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基）；
シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル基）；
ビシクロアルケニル基（置換または無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５〜３０の置換または無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基）；
アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基）；
アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換または無置換のアリール基、例えばフェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基）；
ヘテロ環基（好ましくは５または６員の置換または無置換の、芳香族または非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好ましくは、炭素数３〜３０の５または６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）；
シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、
アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基）；
アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基）；
シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）；
ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基）；
アシルオキシ基（好ましくは、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基などの炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニルオキシ基；好ましくは、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基などの炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールカルボニルオキシ基）；
カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）；
アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）；
アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換または無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）；
アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換または無置換のアニリノ基、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基）；
アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基などの炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基；好ましくは、ベンゾイルアミノ基などの炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基）；
アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基）；
アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基）；
アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換または無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）；
スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換または無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）；
アルキルスルホニルアミノ基またはアリールスルホニルアミノ基（好ましくは、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基などの炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニルアミノ基；好ましくは、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基などの炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニルアミノ基）；
メルカプト基；
アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）；
アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基）；
ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）；
スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換または無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル基）；
スルホ基；
アルキルスルフィニル基またはアリールスルフィニル基（好ましくは、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基などの炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基；好ましくは、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基などの炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基）；
アルキルスルホニル基またはアリールスルホニル基（好ましくは、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基などの炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基；好ましくは、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基などの炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニル基）；
アシル基（好ましくは、アセチル基、ホルミル基などの炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基；好ましくは、ピバロイルベンゾイル基などの炭素数７〜３０の置換または無置換のアリールカルボニル基）；
アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）；
アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）；
カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）；
アリールアゾ基またはヘテロ環アゾ基（好ましくは、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基などの炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールアゾ基；好ましくは、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基などの炭素数３〜３０の置換または無置換のヘテロ環アゾ基）；
イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基）；
ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）；
ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基）；
ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）；
ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）；
シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基）などが含まれる。なかでも、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シアノ基、アミノ基が好ましく、ハロゲン原子、アルキル基、シアノ基、アルコキシ基などがより好ましい。

一般式（１）のｎは、Ｒ^１の数であり、０〜２の整数を示し、好ましくは０または１である。

一般式（１）のＲ^２およびＲ^３は、それぞれ独立に置換基を示す。Ｒ^２およびＲ^３が示す置換基の例には、上記Ｒ^１が示す置換基と同様のものが含まれ、好ましくは置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のシクロアルキル基であり；より好ましくは置換もしくは無置換のフェニル基、置換もしくは無置換のシクロヘキシル基であり；さらに好ましくは置換基を有するフェニル基または置換基を有するシクロヘキシル基であり；特に好ましくは４位に置換基を有するフェニル基または４位に置換基を有するシクロヘキシル基である。

アリール基（フェニル基など）またはシクロアルキル基（シクロヘキシル基など）が有する置換基は、Ｒ^１が示す置換基と同様であってよく、好ましくはアリール基、シクロアルキル基、アリールカルボニルオキシ基、アルキルカルボニルオキシ基などである。

一般式（１）のＸは、第１４〜１６族の非金属原子を示す。＝Ｘは、好ましくは＝Ｏ、＝Ｓ、＝ＮＲまたは＝Ｃ（Ｒ^４）Ｒ^５である。＝ＮＲにおけるＲ、および＝Ｃ（Ｒ^４）Ｒ^５におけるＲ^４とＲ^５は、それぞれ独立に置換基を示し、その具体例には、上記Ｒ^１が示す置換基と同様のものが含まれる。Ｘには、水素原子または置換基がさらに結合していてもよい。

一般式（１）で表される化合物は、好ましくは一般式（１Ａ）で表される化合物である。

一般式（１Ａ）のＲ^４およびＲ^５は、それぞれ独立に置換基を示し、上記Ｒ^１が示す置換基と同様のものが含まれる。Ｒ^４およびＲ^５が示す置換基は、好ましくはハメットの置換基定数σｐが０以上である電子吸引性の置換基であり、より好ましくはσｐが０〜１．５である電子吸引性の置換基である。そのような置換基の例には、トリフルオロメチル基、シアノ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ニトロ基などが含まれる。ハメットの置換基定数σｐは、例えば稲本直樹著「ハメット則−構造と反応性−」（丸善）などに記載されている。Ｒ^４とＲ^５とは、互いに結合して環を形成してもよい。

一般式（１Ａ）で表される化合物は、好ましくは下記一般式（１Ａ−１）〜（１Ａ−３）で表される化合物であり、より好ましくは（１Ａ−３）で表される化合物である。

一般式（１Ａ−１）のＲ^４１〜Ｒ^４７、一般式（１Ａ−２）のＲ^５１〜Ｒ^５７、および一般式（１Ａ−３）のＲ^７１〜Ｒ^７６は、それぞれ独立して水素原子または前述の一般式（１）のＲ^１と同様の置換基を示す。一般式（１Ａ−１）のＲ^４２とＲ^４５、一般式（１Ａ−２）のＲ^５２とＲ^５５、および一般式（１Ａ−３）のＲ^７１とＲ^７４は、それぞれ好ましくは一般式（１Ａ）のＬ^１−Ｒ^１とＬ^２−Ｒ^２と同様であり；一般式（１Ａ−１）のＲ^４６とＲ^４７、一般式（１Ａ−２）のＲ^５６とＲ^５７、および一般式（１Ａ−３）のＲ^７５とＲ^７６は、それぞれ好ましくは一般式（１Ａ）のＲ^４とＲ^５と同様である。

一般式（１）で表される化合物の具体例を以下に示す。

一般式（２）のＲ^１１〜Ｒ^１７、および一般式（３）のＲ^２１〜Ｒ^２９は、それぞれ独立して水素原子または置換基を示す。置換基は、前述の一般式（１）のＲ^１が示す置換基と同様としうる。

波長分散調整剤の例には、一般式（４）で表される棒状化合物や一般式（５）で表される円盤状化合物なども含まれる。これらの化合物は、液晶化合物であってもよい。
一般式（４）：Ａｒ^１−Ｌ^１２−Ｘ−Ｌ^１３−Ａｒ^２

一般式（４）のＡｒ^１およびＡｒ^２は、それぞれ独立に置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロアリール基を示す。

アリール基における芳香族環は、好ましくはベンゼン環である。へテロアリール基における芳香族性ヘテロ環は、好ましくは５員環、６員環または７員環であり、より好ましくは５員環または６員環である。芳香族性へテロ環は、一般的には不飽和である。ヘテロ原子は、好ましくは窒素原子、酸素原子または硫黄原子であり、より好ましくは窒素原子または硫黄原子である。芳香族性ヘテロ環は、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環またはピラジン環である。

アリール基またはヘテロアリール基が有する置換基の例には、
ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）；
ヒドロキシル基；
カルボキシル基；
シアノ基；
アミノ基；
アルキルアミノ基（例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基、ブチルアミノ基、ジメチルアミノ基）；
ニトロ基；
スルホ基；
カルバモイル基；
アルキルカルバモイル基（例えばＮ−メチルカルバモイル基、Ｎ−エチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基）；
スルファモイル基；
アルキルスルファモイル基（例えばＮ−メチルスルファモイル基、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基）；
ウレイド基；
アルキルウレイド基（例えば、Ｎ−メチルウレイド基、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド基、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリメチルウレイド基）；
アルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘプチル基、オクチル基、イソプロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−アミル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基）；
アルケニル基（例えばビニル基、アリル基、ヘキセニル基）；
アルキニル基（例えばエチニル基、ブチニル基）；
アシル基（例えばホルミル基、アセチル基、ブチリル基、ヘキサノイル基、ラウリル基）；
アシルオキシ基（例えばアセトキシ基、ブチリルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ラウリルオキシ基）；
アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基）；
アリールオキシ基（例えばフェノキシ基）；
アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニル基）；
アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基）；
アルコキシカルボニルアミノ基（例えばブトキシカルボニルアミノ基、ヘキシルオキシカルボニルアミノ基）；
アルキルチオ基（例えばメチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基）；
アリールチオ基（例えばフェニルチオ基）；
アルキルスルホニル基（例えばメチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、ヘプチルスルホニル基、オクチルスルホニル基）；
アミド基（例えばアセトアミド基、ブチルアミド基、ヘキシルアミド基、ラウリルアミド基）；
非芳香族性複素環基（例えばモルホリル基、ピラジニル基）などが含まれる。なかでも、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、アルキル置換アミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基およびアルキル基が好ましい。

一般式（４）のＬ^１２およびＬ^１３は、それぞれ独立して−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−またはそれらの組合せからなる二価の連結基を示す。

一般式（４）のＸは、１，４−シクロへキシレン基、ビニレン基またはエチニレン基を示す。

本発明の光学補償フィルムに含まれる波長分散調整剤は、一種類であってもよいし、二種類以上の混合物であってもよい。波長分散調整剤が、二種類以上の混合物である場合、逆波長分散性を付与する波長分散調整剤と順波長分散性を付与する波長分散調整剤の混合物であってもよい。

波長分散調整剤の含有量は、光学補償フィルムに含まれる前述の熱可塑性樹脂の合計に対して０．１〜３０質量％であることが好ましく、０．５〜２０質量％であることがより好ましく、１〜１０質量％であることがさらに好ましい。

糖エステル化合物
糖エステル化合物は、通常、得られるフィルムの透明性を維持しつつ、可塑性を付与するために添加される。本発明では、後述するように、得られるフィルムのＲ０ＤＳＰやＲｔｈＤＳＰを調整するために添加されてもよい。糖エステル化合物は、得られるフィルムの波長分散性を大きくする（順波長分散にする）度合いが比較的小さい。糖エステル化合物は、下記一般式（６）で表される化合物であることが好ましい。

一般式（６）のＲ_１〜Ｒ_８は、置換もしくは無置換のアルキルカルボニル基、または置換もしくは無置換のアリールカルボニル基を示す。Ｒ_１〜Ｒ_８は、互いに同じであっても、異なってもよい。

置換もしくは無置換のアルキルカルボニル基は、炭素原子数２以上７以下の置換もしくは無置換のアルキルカルボニル基であることが好ましい。置換もしくは無置換のアルキルカルボニル基の例には、メチルカルボニル基（アセチル基）、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基などが含まれる。アルキル基が有する置換基の例には、フェニル基などのアリール基が含まれる。

置換もしくは無置換のアリールカルボニル基は、炭素原子数７以上１４以下の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基であることが好ましい。アリールカルボニル基の例には、フェニルカルボニル基が含まれる。アリール基が有する置換基の例には、メチル基などのアルキル基が含まれる。

一般式（６）で示される化合物の具体例には、以下のものが含まれる。表中のＲは、一般式（６）におけるＲ_１〜Ｒ_８を表す。

糖エステル化合物の平均置換度は、セルロースエステルとの相溶性の観点から、３．０〜８．０であることが好ましく、５．０〜８．０がより好ましい。

糖エステル化合物は、一種類であってもよいし、二種類以上の混合物であってもよい。糖エステル化合物の含有量は、前述の熱可塑性樹脂の合計に対して１〜４０質量％であることが好ましく、５〜２０質量％であることがより好ましい。

可塑剤
可塑剤は、通常、得られるフィルムに可とう性を付与する目的で含有されうるが、本発明では、後述するように、得られるフィルムのＲ０ＤＳＰやＲｔｈＤＳＰを調整する目的で含有されてもよい。

可塑剤の例には、多価アルコールエステル系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤（フタル酸エステル系可塑剤を含む）、グリコレート系可塑剤、エステル系可塑剤（脂肪酸エステル系可塑剤を含む）、およびアクリル系可塑剤などが含まれる。これらは、単独で用いても、二種類以上を組み合わせて用いてもよい。二種類以上を組み合わせて用いる場合は、少なくとも一種類は、多価アルコールエステル系可塑剤であることが好ましい。

多価アルコールエステル系可塑剤は、２価以上の脂肪族多価アルコールと、モノカルボン酸とのエステル化合物（アルコールエステル）であり、好ましくは２〜２０価の脂肪族多価アルコールエステルである。多価アルコールエステル系化合物は、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有することが好ましい。

脂肪族多価アルコールの好ましい例には、アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等が含まれる。なかでも、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールなどが好ましい。

モノカルボン酸は、特に制限はなく、脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸または芳香族モノカルボン酸等でありうる。フィルムの透湿性を高め、かつ揮発しにくくするためには、脂環族モノカルボン酸または芳香族モノカルボン酸が好ましい。モノカルボン酸は、一種類であってもよいし、二種以上の混合物であってもよい。また、脂肪族多価アルコールに含まれるＯＨ基の全部をエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。

脂肪族モノカルボン酸は、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を有する脂肪酸であることが好ましい。脂肪族モノカルボン酸の炭素数はより好ましくは１〜２０であり、さらに好ましくは１〜１０である。そのような脂肪族モノカルボン酸の例には、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸；ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等が含まれる。なかでも、セルロースエステルとの相溶性を高めるためには、酢酸、または酢酸とその他のモノカルボン酸との混合物が好ましい。

脂環族モノカルボン酸の例には、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸などが含まれる。

芳香族モノカルボン酸の例には、安息香酸；安息香酸のベンゼン環にアルキル基またはアルコキシ基（例えばメトキシ基やエトキシ基）を１〜３個を導入したもの（例えばトルイル酸など）；ベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸（例えばビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸など）が含まれ、好ましくは安息香酸である。

多価アルコールエステル系可塑剤の分子量は、特に制限されないが、３００〜１５００であることが好ましく、３５０〜７５０であることがより好ましい。揮発し難くするためには、分子量が大きいほうが好ましく；透湿性、セルロースエステルとの相溶性を高めるためには、分子量が小さいほうが好ましい。

多価カルボン酸エステル系可塑剤は、２価以上、好ましくは２〜２０価の多価カルボン酸と、アルコール化合物とのエステル化合物である。多価カルボン酸は、２〜２０価の脂肪族多価カルボン酸であるか、３〜２０価の芳香族多価カルボン酸または３〜２０価の脂環式多価カルボン酸であることが好ましい。

多価カルボン酸の例には、トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸のような３価以上の芳香族多価カルボン酸またはその誘導体、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、シュウ酸、フマル酸、マレイン酸、テトラヒドロフタル酸のような脂肪族多価カルボン酸、酒石酸、タルトロン酸、リンゴ酸、クエン酸のようなオキシ多価カルボン酸などが含まれ、フィルムからの揮発を抑制するためには、オキシ多価カルボン酸が好ましい。

アルコール化合物の例には、直鎖もしくは側鎖を有する脂肪族飽和アルコール化合物、直鎖もしくは側鎖を有する脂肪族不飽和アルコール化合物、脂環式アルコール化合物または芳香族アルコール化合物などが含まれる。脂肪族飽和アルコール化合物または脂肪族不飽和アルコール化合物の炭素数は、好ましくは１〜３２であり、より好ましくは１〜２０であり、さらに好ましくは１〜１０である。脂環式アルコール化合物の例には、シクロペンタノール、シクロヘキサノールなどが含まれる。芳香族アルコール化合物の例には、ベンジルアルコール、シンナミルアルコールなどが含まれる。

多価カルボン酸エステル系可塑剤の分子量は、特に制限はないが、３００〜１０００であることが好ましく、３５０〜７５０であることがより好ましい。多価カルボン酸エステル系可塑剤の分子量は、ブリードアウトを抑制する観点では、大きいほうが好ましく；透湿性やセルロースエステルとの相溶性の観点では、小さいほうが好ましい。

多価カルボン酸エステル系可塑剤の酸価は、１ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、０．２ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましい。得られるフィルムのリタデーションが、環境条件によって変動しにくいからである。

酸価とは、試料１ｇ中に含まれる酸（試料中に存在するカルボキシル基）を中和するために必要な水酸化カリウムのミリグラム数をいう。酸価はＪＩＳ Ｋ００７０に準拠して測定したものである。

多価カルボン酸エステル系可塑剤の例には、トリエチルシトレート、トリブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート（ＡＴＥＣ）、アセチルトリブチルシトレート（ＡＴＢＣ）、ベンゾイルトリブチルシトレート、アセチルトリフェニルシトレート、アセチルトリベンジルシトレート、酒石酸ジブチル、酒石酸ジアセチルジブチル、トリメリット酸トリブチル、ピロメリット酸テトラブチル等が含まれる。

多価カルボン酸エステル系可塑剤は、フタル酸エステル系可塑剤であってもよい。フタル酸エステル系可塑剤の例には、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が含まれる。

グリコレート系可塑剤の例には、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が含まれる。アルキルフタリルアルキルグリコレート類の例には、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が含まれる。

エステル系可塑剤には、脂肪酸エステル系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤やリン酸エステル系可塑剤などが含まれる。

脂肪酸エステル系可塑剤の例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、およびセバシン酸ジブチル等が含まれる。クエン酸エステル系可塑剤の例には、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、およびクエン酸アセチルトリブチル等が含まれる。リン酸エステル系可塑剤の例には、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、およびトリブチルホスフェート等が含まれる。

可塑剤の含有量は、光学補償フィルムに含まれる前述の熱可塑性樹脂の合計に対して１〜４０質量％であることが好ましい。可塑剤を、波長分散の調整に用いる場合、可塑剤の含有量は、前述の熱可塑性樹脂の合計に対して２〜１５質量％であることが好ましく、５〜１０質量％であることがより好ましい。

本発明の光学補償フィルムは、必要に応じて各種添加剤をさらに含有していてもよい。添加剤の例には、紫外線吸収剤、酸化防止剤、リターデーション上昇剤、微粒子（マット剤）、酸捕捉剤、光安定剤、帯電防止剤、剥離剤などが含まれる。

紫外線吸収剤
紫外線吸収剤は、フィルムの耐久性を高める目的で含有されうる。紫外線吸収剤は、種類によっては、得られるフィルムのＲ０ＤＳＰやＲｔｈＤＳＰを変動させることがあるため、それらを考慮した上で選択されることが好ましい。

紫外線吸収剤は、波長４００ｎｍ以下の紫外線を吸収する化合物であり、好ましくは波長３７０ｎｍでの透過率が１０％以下、より好ましくは５％以下、さらに好ましくは２％以下である化合物である。

紫外線吸収剤の光線透過率は、紫外線吸収剤を溶媒（例えばジクロロメタン、トルエンなど）に溶解した溶液を、常法により、分光光度計により測定することができる。分光光度計は、例えば、島津製作所社製の分光光度計ＵＶＩＤＦＣ−６１０、日立製作所社製の３３０型自記分光光度計、Ｕ−３２１０型自記分光光度計、Ｕ−３４１０型自記分光光度計、Ｕ−４０００型自記分光光度計等を用いることができる。

紫外線吸収剤は、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体、高分子紫外線吸収剤および円盤状化合物などであってよい。得られるフィルムの透明性を損なわないためには、好ましくはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤およびベンゾフェノン系紫外線吸収剤であり、さらに好ましくはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤である。

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の例には、５-クロロ-２-（３,５-ジ-ｓｅｃ-ブチル-２-ヒドロキシルフェニル）-２Ｈ-ベンゾトリアゾール、２-(３,５-ジ-tert-ブチル-２-ヒドロキシフェニル)-５-クロロベンゾトリアゾール、（２-２Ｈ-ベンゾトリアゾール-２-イル）-６-（直鎖および側鎖ドデシル）-４-メチルフェノールなどが含まれる。ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の市販品の例には、チヌビン１０９、チヌビン１７１、チヌビン２３４、チヌビン３２６、チヌビン３２７、チヌビン３２８（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）などのチヌビン類が含まれる。ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例には、２-ヒドロキシ-４-ベンジルオキシベンゾフェノン、２,４-ベンジルオキシベンゾフェノンなどが含まれる。

高分子紫外線吸収剤の例には、特開平６−１４８４３０号記載のポリマータイプの紫外線吸収剤などが含まれ；円盤状化合物の例には、１，３，５トリアジン環を有する化合物等が含まれる。

紫外線吸収剤の含有量は、紫外線吸収剤の種類にもよるが、光学補償フィルムに対して０．５〜１０質量％であることが好ましく、０．６〜４質量％であることがより好ましい。

酸化防止剤
本発明の光学補償フィルムは、例えば高湿高温下で生じやすいセルロースエステルの劣化を防止するために、酸化防止剤をさらに含んでもよい。酸化防止剤は、フィルム中の残留溶媒量のハロゲンやリン酸系可塑剤のリン酸等による分解を遅延または防止する機能を有する。

酸化防止剤は、ヒンダードフェノール系化合物であることが好ましく、その具体例には、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト等が含まれる。特に２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。

これらの酸化防止剤は、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジンなどのヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイトなどのリン系加工安定剤などと併用されてもよい。

酸化防止剤の含有量は、光学補償フィルムに含まれる樹脂成分の合計に対して質量割合で１ｐｐｍ〜１．０％であることが好ましく、１０〜１０００ｐｐｍであることがより好ましい。

リターデーション上昇剤
リターデーション上昇剤は、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物であることが好ましい。芳香族化合物の芳香族環は、芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環でありうる。芳香族炭化水素環は、６員環であることが好ましい。

芳香族性ヘテロ環は、不飽和であることが好ましい。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがより好ましい。ヘテロ原子は、好ましくは窒素原子、酸素原子または硫黄原子であり、より好ましくは窒素原子である。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環などが含まれる。

リターデーション上昇剤の具体例には、特開２００４−１０９４１０号、特開２００３−３４４６５５号、特開２０００−２７５４３４号、特開２０００−１１１９１４号、特開平１２−２７５４３４号などに記載のものが含まれる。

芳香族化合物は、一種類であってもよいし、二種類以上の混合物であってもよい。芳香族化合物の含有量は、光学補償フィルムに含まれる前述の熱可塑性樹脂の合計１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部であることが好ましく、０．０５〜１５質量部であることがより好ましく、０．１〜１０質量部であることがさらに好ましい。

微粒子（マット剤）
本発明の光学補償フィルムは、滑り性を向上させるために、微粒子をさらに含んでもよい。微粒子は、無機微粒子であっても有機微粒子であってもよい。

無機微粒子の例には、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウムなどが含まれる。有機微粒子の例には、シリコーン系樹脂微粒子、フッ素樹脂微粒子、アクリル樹脂微粒子などが含まれ、好ましくはシリコーン樹脂微粒子であり、より好ましくは三次元の網状構造を有するシリコーン樹脂微粒子である。なかでも、得られるフィルムのヘイズの増大を少なくするためには、珪素を含む微粒子が好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。

二酸化珪素の微粒子の例には、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製の市販品）が含まれる。なかでも、フィルムのヘイズを低く保ちつつ、摩擦係数を下げる効果が大きいことから、アエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが好ましい。酸化ジルコニウムの微粒子の例には、アエロジルＲ９７６およびＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製の商品名）が含まれる。シリコーン樹脂の微粒子の例には、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン（株）製）などが含まれる。

微粒子の一次平均粒子径は、５〜４００ｎｍであることが好ましく、１０〜３００ｎｍであることがより好ましい。これらの微粒子は、粒径０．０５〜０．３μｍの二次凝集体を形成していてもよい。

微粒子は、光学補償フィルムの少なくとも一方の面の動摩擦係数が０．２〜１．０となるように含まれることが好ましい。微粒子の含有量は、光学補償フィルムに対して０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０５〜０．５質量％であることがより好ましい。

光学補償フィルムは、単層で構成されてもよいし、複数層で構成されてもよい。光学補償フィルムが複数層で構成される場合、少なくとも一つの層は、光学的異方性層などの液晶層であってもよい。

光学補償フィルムの物性
光学補償フィルムの厚みは、特に限定はされないが、２０〜２００μｍであることが好ましく、２５〜１００μｍであることがより好ましく、３０〜８０μｍであることがさらに好ましい。フィルムの厚みが小さすぎると、所望のリターデーションが得られにくい。一方、フィルムの厚みが大きすぎると、湿度などの影響によってリターデーションが変動しやすい。

△ｎｄが大きい垂直配向型液晶セルを含む液晶表示装置の光学補償を十分に行うためには、本発明の光学補償フィルムは、２３℃、５５％ＲＨにおいて、測定波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍまたは６５０ｎｍで測定される面内方向のリターデーションをそれぞれＲ０（４５０）、Ｒ０（５５０）またはＲ０（６５０）とし、測定波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍまたは６５０ｎｍで測定される厚み方向のリターデーションをＲｔｈ（４５０）、Ｒｔｈ（５５０）またはＲｔｈ（６５０）としたとき、下記式（１）〜（４）を同時に満たすことが好ましい。
式（１） ０．７＜Ｒ０（４５０）/Ｒ０（６５０）＜Ｒｔｈ（４５０）/Ｒｔｈ（６５０）＜２
式（２） Ｒ０（４５０）/Ｒ０（６５０）＜１．０
式（３） ４０ｎｍ＜Ｒ０（５５０）＜８０ｎｍ
式（４） １００ｎｍ＜Ｒｔｈ（５５０）＜２６０ｎｍ

リターデーションＲ０およびＲｔｈは、それぞれ以下の式で定義される。
式（Ｉ）：Ｒ０＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｔ（ｎｍ）
式（II）：Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｔ（ｎｍ）
（式（Ｉ）および（II）において、
ｎｘは、光学補償フィルムの面内方向において屈折率が最大になる遅相軸方向ｘにおける屈折率を表し；
ｎｙは、光学補償フィルムの面内方向において前記遅相軸方向ｘと直交する方向ｙにおける屈折率を表し；
ｎｚは、光学補償フィルムの厚み方向ｚにおける屈折率を表し；
ｔ（ｎｍ）は、光学補償フィルムの厚みを表す）

リターデーションＲ０およびＲｔｈは、例えば以下の方法によって求めることができる。
１）得られた光学補償フィルムを、２３℃５５％ＲＨで調湿する。調湿後の光学補償フィルムの平均屈折率を、アッベ屈折計にて測定する。
２）調湿後の光学補償フィルムに、フィルム法線方向から測定波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍの光をそれぞれ入射させたときのＲ０を、Ａｘｏｍｅｔｒｃｓ社製のＡｘｏｓｃａｎにて測定する。
３）Ａｘｏｍｅｔｒｃｓ社製のＡｘｏｓｃａｎにより、フィルム法線方向に対してθの角度（入射角（θ））から測定波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍの光をそれぞれ入射させたときのリターデーション値Ｒ（θ）を測定する。θは０°よりも大きく、好ましくは３０°〜５０°としうる。
４）測定されたＲ０およびＲ（θ）と、前述の平均屈折率と膜厚から、Ａｘｏｍｅｔｒｃｓ社製のＡｘｏｓｃａｎにより、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚを算出して、測定波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおけるＲｔｈをそれぞれ算出する。リターデーションの測定は、２３℃５５％ＲＨ条件下で行うことができる。

Ｒ０（４５０）/Ｒ０（６５０）は、得られたＲ０（４５０）とＲ０（６５０）からを算出し；Ｒｔｈ（４５０）/Ｒｔｈ（６５０）は、得られたＲｔｈ（４５０）とＲｔｈ（６５０）から算出する。

垂直配向型の液晶セルを含む液晶表示装置における黒表示時の光漏れ、あるいは白表示時の視野角や斜め方向の色味の低下は、主に、１）液晶セルが複屈折（△ｎｄ）を示すこと、２）一対の偏光子の吸収軸が斜め方向において直交していないこと、に起因して生じると考えられる。そのため、光学補償フィルムは、通常、１）液晶セルの複屈折（△ｎｄ）に起因する光漏れをＲｔｈで補償し；２）一対の偏光子の吸収軸の直交性に起因する光漏れをＲ０で補償している。そのため、△ｎｄが大きい液晶セルの光漏れを補償するためには、光学補償フィルムのＲｔｈを大きくすればよいと考えられる。

しかしながら、光学補償フィルムのＲｔｈを大きくするだけでは、液晶表示装置の視野角や斜め方向の色味を十分には改善できなかった。即ち、従来の光学補償フィルムは、Ｒ０の波長分散とＲｔｈの波長分散とはほぼ同一にされている。しかしながら、△ｎｄが大きい垂直配向型液晶セルを含む液晶表示装置において、Ｒ０の波長分散とＲｔｈの波長分散とがほぼ同一である従来の光学補償フィルムを用いても、十分な光学補償が行えないことが見出された。△ｎｄが大きい垂直配向型液晶セルは、垂直配向時；即ち、黒表示時の液晶の揺らぎ成分が多く、それにより液晶表示装置の光漏れ量が増大するためであると推測される。

そして、△ｎｄが大きい垂直配向型液晶セルを含む液晶表示装置での光学補償を十分に行うためには、Ｒ０の波長分散特性をＲ０ＤＳＰ＝Ｒ０（４５０）/Ｒ０（６５０）とし；Ｒｔｈの波長分散特性をＲｔｈＤＳＰ＝Ｒｔｈ（４５０）/Ｒｔｈ（６５０）としたとき、Ｒ０ＤＳＰ＜ＲｔｈＤＳＰとすること；具体的には、０．７＜Ｒ０ＤＳＰ＜ＲｔｈＤＳＰ＜２とすることが有効であることが見出された。なかでも、Ｒ０ＤＳＰ＜１であり、かつＲｔｈＤＳＰ≧１であることがより好ましい。

光学補償フィルムのＲ０ＤＳＰとＲｔｈＤＳＰは、例えばフィルムの組成；具体的には、セルロースエステルのアシル基置換度や、波長分散調整剤、可塑剤、糖エステル化合物などの種類や含有量などによって調整されうる。例えば、Ｒ０ＤＳＰ＜ＲｔｈＤＳＰとするためには、Ｒ０ＤＳＰの上昇量よりもＲｔｈＤＳＰの上昇量が大きい順波長分散剤を選択したり；Ｒ０ＤＳＰの降下量よりもＲｔｈＤＳＰの降下量が小さい逆波長分散剤を選択したりすればよい。Ｒ０ＤＳＰ＜ＲｔｈＤＳＰとしうる好ましい化合物の例には、前述の一般式（１）で表される化合物（波長分散調整剤）や、糖エステル化合物などが含まれる。

光学補償フィルムのＲ０は、４０ｎｍ＜Ｒ０（５５０）＜８０ｎｍであることが好ましく、４５ｎｍ＜Ｒ０（５５０）＜７０ｎｍであることがより好ましい。光学補償フィルムのＲｔｈは、前述の通り、△ｎｄが大きい液晶セルの光学補償を行うためには、適度に高めであることが好ましい。具体的には、１００ｎｍ＜Ｒｔｈ（５５０）＜２６０ｎｍであることが好ましく、１２０ｎｍ＜Ｒｔｈ（５５０）＜２５０ｎｍであることがより好ましい。光学補償フィルムのＲ０とＲｔｈがいずれも上記範囲外であると、特に視野角が十分でないことがある。

光学補償フィルムのＲ０とＲｔｈは、例えば延伸条件やフィルムの膜厚などによって調整することができる。Ｒ０を大きくするためには、例えば延伸倍率を大きくすればよい。Ｒｔｈを大きくするためには、例えば延伸温度と延伸倍率を低くしたり、フィルムの膜厚を大きくしたりすればよい。

光学補償フィルムの面内遅相軸とフィルムの幅方向とのなす角θ１（配向角）は、−５°以上＋５°以下であることが好ましく、−１°以上＋１°以下であることがより好ましい。光学補償フィルムの配向角θ１の測定は、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器）を用いて測定することができる。

光学補償フィルムの、ＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠して測定されるヘイズは、１．０％未満であることが好ましく、０．２％以下であることがより好ましく、０．１％以下であることがさらに好ましく、０．０５％以下であることが特に好ましい。

光学補償フィルムのヘイズは、ＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠した方法；具体的には、以下の方法で測定することができる。
１）得られた光学補償フィルムを、２３℃５５％ＲＨ下で５時間以上調湿する。その後、フィルム表面に付着したホコリなどをブロワーなどで除去する。
２）次いで、光学補償フィルムのヘイズを、２３℃５５％ＲＨの条件下にて、ヘイズメーター（濁度計）（型式：ＮＤＨ ２０００、日本電色（株）製）にて測定する。ヘイズメーターの光源は、５Ｖ９Ｗのハロゲン球とし、受光部は、シリコンフォトセル（比視感度フィルター付き）としうる。

光学補償フィルムの可視光透過率は、９０％以上であることが好ましく、９３％以上であることがより好ましい。光学補償フィルムの破断伸度は、１０〜８０％であることが好ましく、２０〜５０％であることがより好ましい。

２．光学補償フィルムの製造方法
本発明の光学補償フィルムは、好ましくは溶液流延法または溶融流延法で製造されうる。以下、セルロースエステルを含むフィルムの製造方法について説明する。

溶液流延法
本発明の光学補償フィルムを溶液流延法で製造する方法は、１）少なくとも前述のセルロースエステルなどを溶剤に溶解させてドープを調製する工程（ドープ調製工程）、２）ドープを無端の金属支持体上に流延する工程（流延工程）、３）流延したドープから溶媒を蒸発させてウェブとする工程（溶媒蒸発工程）、４）ウェブを金属支持体から剥離する工程（剥離工程）、５）ウェブを乾燥後、延伸してフィルムを得る工程（乾燥および延伸工程）、６）得られたフィルムを巻取る工程（巻き取り工程）、を含む。

１）ドープ調製工程
溶解釜において、熱可塑性樹脂と、必要に応じて添加剤とを溶剤に溶解させてドープを調製する。ドープの調製に用いられる溶剤は、セルロースエステルなどの熱可塑性樹脂を溶解するものであれば、特に制限されない。そのような溶剤の例には、塩化メチレンなどの塩素系有機溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン、乳酸エチル、乳酸、ジアセトンアルコールなどの非塩素系有機溶媒などが含まれ、好ましくは塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトン、乳酸エチルである。

ドープの調製に用いられる溶剤は、前述した以外の他の溶剤をさらに含有してもよい。そのような他の溶剤の例には、炭素原子数１〜４の直鎖または分岐鎖状の脂肪族アルコールが含まれる。炭素原子数１〜４の直鎖または分岐鎖状の脂肪族アルコールの例には、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールなどが含まれ、沸点が比較的低く、乾燥しやすいことなどから、好ましくはエタノールである。

他の溶剤の含有量は、溶剤全体に対して１〜４０質量％としうる。他の溶剤の含有割合を高めにすると、得られるウェブがゲル化しやすいため、金属支持体から剥離しやすい。一方、ドープ中の他の溶剤の含有割合を低めにすると、溶剤が非塩素系有機溶媒である場合に、熱可塑性樹脂を溶解させやすい。

溶剤として、メチレンクロライドと、炭素数１〜４の直鎖または分岐鎖状の脂肪族アルコールとを含有するドープ中の熱可塑性樹脂の含有量は、１０〜４５質量％であることが好ましい。

熱可塑性樹脂の溶解は、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方法、主溶媒の沸点以上かつ加圧下で行う方法、特開平９−９５５４４号、特開平９−９５５５７号または特開平９−９５５３８号に記載された冷却溶解法で行う方法、特開平１１−２１３７９号に記載の高圧下で行う方法などであってよく、特に主溶媒の沸点以上かつ加圧下で行う方法が好ましい。

紫外線防止剤や微粒子などの添加剤は、ドープにバッチ添加してもよいし、別途調製した添加剤溶解液をインライン添加してもよい。添加剤溶液は、添加剤を、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコールやメチレンクロライド、酢酸メチル、アセトン、ジオキソラン等の溶媒あるいはこれらの混合溶媒に溶解させたものである。

特に微粒子は、ろ過材への負荷を減らすために、一部または全部をインライン添加することが好ましい。添加剤溶解液をインライン添加する場合は、ドープとの混合性をよくするため、添加剤溶解液に少量のセルロースエステルを溶解させておくことが好ましい。添加剤溶解液に添加されるセルロースエステルの量は、溶剤１００質量部に対して好ましくは１〜１０質量部であり、より好ましくは３〜５質量部である。

インライン添加は、例えばスタチックミキサー（東レエンジニアリング製）、ＳＷＪ（東レ静止型管内混合器 Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ）等のインラインミキサー等を用いて行うことができる。

２）流延工程
ドープを、送液ポンプ（例えば、加圧型定量ギヤポンプ）を通して加圧ダイに送液し、無端状の金属支持体（例えばステンレスベルト、あるいは回転する金属ドラム等）上に、加圧ダイのスリットから流延させる。

ダイは、口金部分のスリット形状を調整でき、膜厚を均一に調整しやすい加圧ダイが好ましい。加圧ダイの例には、コートハンガーダイ、Ｔ−ダイなどが含まれる。金属ベルトの表面は、鏡面加工されていることが好ましい。

３）溶媒蒸発工程
ウェブ（ドープを金属支持体上に流延して得られるドープ膜）を金属支持体上で加熱し、溶媒を蒸発させる。ウェブの乾燥は、４０〜１００℃の雰囲気下で行うことが好ましい。ウェブを４０〜１００℃の雰囲気下で乾燥させるためには、４０〜１００℃の温風をウェブ表面に当てたり、赤外線などで加熱したりすることが好ましい。

溶媒を蒸発させる方法としては、ウェブの表面に風を当てる方法、ベルトの裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法などがあるが、乾燥効率が高いことから、ベルトの裏面から液体により伝熱させる方法が好ましい。

４）剥離工程
金属支持体上で溶媒が蒸発したウェブを、剥離位置で剥離する。金属支持体上の剥離位置における温度は、好ましくは１０〜４０℃であり、さらに好ましくは１１〜３０℃である。

金属支持体上の剥離位置で剥離する際のウェブの残留溶媒量は、乾燥条件や金属支持体の長さなどにもよるが、５０〜１２０質量％とすることが好ましい。残留溶媒量が多いウェブは、柔らか過ぎて平面性を損ないやすく、剥離張力によるツレや縦スジが発生し易い。そのようなツレや縦スジを抑制できるように、剥離位置でのウェブの残留溶媒量が設定されうる。
ウェブの残留溶媒量は、下記式で定義される。
残留溶媒量（％）＝（ウェブの加熱処理前質量−ウェブの加熱処理後質量）／（ウェブの加熱処理後質量）×１００
なお、残留溶媒量を測定する際の加熱処理とは、１１５℃で１時間の加熱処理を意味する。

金属支持体からウェブを剥離する際の剥離張力は、通常、１９６〜２４５Ｎ／ｍであるが、剥離の際に皺が入り易い場合には１９０Ｎ／ｍ以下とすることが好ましく、１６６．６Ｎ／ｍ以下とすることがより好ましく、１３７．２Ｎ／ｍ以下とすることがより好ましく、１００Ｎ／ｍ以下とすることがさらに好ましい。

金属支持体上の剥離位置におけるウェブの温度は、−５０〜４０℃であることが好ましく、１０〜４０℃であることがより好ましく、１５〜３０℃であることがさらに好ましい。

５）乾燥および延伸工程
金属支持体から剥離して得られたウェブを乾燥させた後、延伸する。ウェブの乾燥は、ウェブを、上下に配置した多数のロールにより搬送しながら乾燥させてもよいし、ウェブの両端部をクリップで固定して搬送しながら乾燥させてもよい。

ウェブの乾燥方法は、熱風、赤外線、加熱ロールおよびマイクロ波等で乾燥する方法であってよく、簡便であることから熱風で乾燥する方法が好ましい。ウェブの乾燥温度は、４０〜２５０℃、好ましくは４０〜１６０℃である。高温での乾燥は、ウェブの残留溶媒量が８質量％以下で行うことが好ましい。

ウェブの延伸により、所望のリターデーションを有する光学補償フィルムを得る。光学補償フィルムのリターデーションは、ウェブに掛かる張力の大きさを、少なくともウェブの幅方向に調整することによって制御することができる。

ウェブの延伸は、少なくともウェブの幅方向（ＴＤ方向）に延伸すればよく、一軸延伸であっても、二軸延伸であってもよい。また、ウェブの延伸は、ウェブの幅方向または搬送方向（ＭＤ方向）に対して斜め方向の延伸であってもよい。二軸延伸には、ウェブの幅方向と搬送方向の両方に延伸することが含まれる。二軸延伸は、逐次二軸延伸であっても同時二軸延伸であってもよい。

逐次二軸延伸には、延伸方向の異なる延伸を順次行う方法や、同一方向の延伸を多段階に分けて行う方法などが含まれる。逐次二軸延伸の例には、以下のような延伸ステップが含まれる。
搬送方向に延伸−幅方向に延伸−搬送方向に延伸−搬送方向に延伸
幅方向に延伸−幅方向に延伸−搬送方向に延伸−搬送方向に延伸

同時二軸延伸には、一方向に延伸し、もう一方の方向の張力を緩和して収縮させる態様も含まれる。同時二軸延伸する場合の延伸倍率は、幅手方向、流延方向ともにそれぞれ１．０１〜１．５倍であることが好ましい。

ウェブの延伸方法は、特に制限されず、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用してウェブの搬送方向に延伸する方法（ロール延伸法）、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔をウェブの搬送方向に向かって広げて搬送方向に延伸したり、幅方向に広げて幅方向に延伸したり、幅方向と搬送方向とに同時に延伸する方法など（テンター延伸法）などが挙げられる。これらの延伸方法は、組み合わされてもよい。

テンター延伸開始時のウェブの残留溶媒量は、２０〜１００質量％であることが好ましい。また、テンター延伸後のウェブの残留溶媒量は、１０質量％以下であることが好ましく、５質量％以下であることがより好ましい。

ウェブの延伸温度は、３０〜１６０℃であることが好ましく、５０〜１５０℃であることがより好ましく、７０〜１４０℃であることがさらに好ましい。得られる光学補償フィルムの均一性を高めるためには、テンター延伸工程での雰囲気の幅手方向の温度分布が少ないことが好ましく、幅手方向の温度分布は±５℃以内が好ましく、±２℃以内がより好ましく、±１℃以内がより好ましい。

テンター延伸装置は、ウェブの把持長（把持開始から把持終了までの距離）を、左右で独立に制御できるものが好ましい。また、テンター工程は、得られる光学補償フィルムの平面性を高めるために、異なる温度領域を有したり、異なる温度領域の間にニュートラルゾーンを有したりすることが好ましい。

６）巻き取り工程
ウェブを延伸して得られるフィルムを巻き取り機で巻き取る。巻き取られるフィルムの残留溶媒量は、好ましくは２質量％以下であり、寸法安定性を高めるためには、より好ましくは０．４質量％以下であり、さらに好ましくは０．１０質量％以下である。

巻き取り方法は、特に制限されず、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等がある。

得られる光学補償フィルムは、長尺状フィルムであり、通常、長さが１００ｍ〜１００００ｍ程度である。また、光学補償フィルムの幅は１．３〜４ｍであることが好ましく、１．４〜２．５ｍであることがより好ましい。

溶融流延法
本発明の光学補償フィルムを溶融流延法で製造する方法は、１）溶融ペレットを製造する工程（ペレット化工程）、２）溶融ペレットを溶融混練した後、押し出す工程（溶融押出し工程）、３）溶融樹脂を冷却固化してウェブを得る工程（冷却固化工程）、４）ウェブを延伸する工程（延伸工程）、を含む。

１）ペレット化工程
本発明の光学補償フィルムを構成する熱可塑性樹脂を含む樹脂組成物は、あらかじめ混練してペレット化しておくことが好ましい。ペレット化は、公知の方法で行うことができ、例えば前述の熱可塑性樹脂と、必要に応じて可塑剤などの添加剤とを含む樹脂組成物を、押出し機にて溶融混錬した後、ダイからストランド状に押し出す。ストランド状に押し出された溶融樹脂を、水冷または空冷した後、カッティングしてペレットを得ることができる。

ペレットの原材料は、分解を防止するために、押出し機に供給する前に乾燥しておくことが好ましい。例えば、熱可塑性樹脂としてのセルロースエステルは吸湿しやすいため、７０〜１４０℃で３時間以上乾燥させて、水分率を２００ｐｐｍ以下、好ましくは１００ｐｐｍ以下にしておくことが好ましい。

酸化防止剤と熱可塑性樹脂の混合は、固体同士で混合してもよいし；溶剤に溶解させた酸化防止剤を、熱可塑性樹脂に含浸させて混合してもよいし；酸化防止剤を、熱可塑性樹脂に噴霧して混合してもよい。真空ナウターミキサーなどが、原材料の乾燥と混合を同時に行うことができるので好ましい。また、押出し機のフィーダー部分やダイの出口部分の周辺の雰囲気は、ペレットの原材料の劣化を防止するためなどから、除湿した空気またはＮ_２ガスなどの雰囲気とすることが好ましい。

押出し機では、樹脂の劣化（分子量の低下、着色およびゲルの生成など）が生じないように、低いせん断力または低い温度で混練することが好ましい。例えば、２軸押出し機で混練する場合、深溝タイプのスクリューを用いて、２つのスクリューの回転方向を同方向にすることが好ましい。均一に混錬するためには、２つのスクリュー形状が互いに噛み合うようにすることが好ましい。

熱可塑性樹脂を含む樹脂組成物をペレット化せずに、溶融混練していない熱可塑性樹脂をそのまま原料として押出し機にて溶融混練して本発明の光学補償フィルムを製造してもよい。

２）溶融押出し工程
得られた溶融ペレットと、必要に応じて他の添加剤とを、ホッパーから押出し機に供給する。ペレットの供給は、ペレットの酸化分解を防止するためなどから、真空下、減圧下または不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。そして、押出し機にて、溶融ペレットと、必要に応じて他の添加剤と（フィルム材料）を溶融混練する。

押出し機内のフィルム材料の溶融温度は、フィルム材料の種類にもよるが、フィルムのガラス転移温度をＴｇ℃としたときに、好ましくはＴｇ℃〜（Ｔｇ＋１００）℃の範囲であり、より好ましくは（Ｔｇ＋１０）℃〜（Ｔｇ＋９０）℃の範囲である。押出し機でのフィルム材料の滞留時間は、５分以下とすることが好ましい。滞留時間は、スクリューの回転数や溝の深さ、シリンダの内径（Ｄ）に対するシリンダの長さ（Ｌ）の比であるＬ／Ｄなどによって調整することができる。

押出し機から押し出された溶融樹脂を、必要に応じてリーフディスクフィルタなどでろ過した後、スタチックミキサなどでさらに混合して、ダイからフィルム状に押し出す。ダイの出口部分における樹脂の溶融温度Ｔｍは２００〜３００℃程度としうる。

ダイの内壁面に、傷や可塑剤の凝結物などの異物が付着すると、押し出される溶融樹脂の表面にスジ状の欠陥（ダイライン）が生じることがある。ダイラインなどの表面欠陥を低減するためには、押出し機からダイの先端までの内壁面には、樹脂の滞留部が付着しにくい構造にすること；例えば押出し機からダイの先端までの内壁面には、傷などがないことが好ましい。

押出機やダイなどの内壁面は、溶融樹脂が付着しにくくするために、表面粗さを小さくする、または表面エネルギーを低くする表面加工が施されていることが好ましい。そのような表面加工の例には、ハードクロムメッキやセラミック溶射した後、表面粗さ０．２Ｓ以下となるように研磨する加工が含まれる。

３）冷却固化工程
ダイから押し出された樹脂を、冷却ロールと弾性タッチロールとでニップして、フィルム状の溶融樹脂を所定の厚みにする。そして、フィルム状の溶融樹脂を、複数の冷却ロールで段階的に冷却して固化させる。

冷却ロールの表面温度Ｔｒ１は、得られるフィルムのガラス転移温度をＴｇ（℃）としたとき、Ｔｇ（℃）以下としうる。複数の冷却ロールの表面温度は異なっていてもよい。弾性タッチロール側のフィルム表面温度Ｔｔは、（Ｔｒ１−５０）℃≦Ｔｔ≦（Ｔｒ１−５）℃としうる。

冷却ロールは、高剛性の金属ロールであり、内部に温度制御可能な媒体を流通できる構造を有する。冷却ロールの表面の材質は、ステンレス、アルミニウム、チタンなどでありうる。冷却ロールの表面には、樹脂を剥離しやすくしたりするためなどから、ハードクロムメッキ、ニッケルメッキ、非晶質クロムメッキ、セラミック溶射などの表面処理を施してもよい。冷却ロールの表面の粗さＲａは、フィルムのヘイズを低く維持するために、０．１μｍ以下とすることが好ましく、０．０５μｍ以下とすることがより好ましい。冷却ロールの大きさは、押し出されたフィルム状の溶融樹脂を冷却するのに十分な大きさであればよく、通常、冷却ロールの直径は１００ｍｍ〜１ｍ程度である。

弾性タッチロールは、特開平０３−１２４４２５号、特開平０８−２２４７７２号、特開平０７−１００９６０号、特開平１０−２７２６７６号、ＷＯ９７／０２８９５０、特開平１１−２３５７４７号、特開２００２−３６３３２号、特開２００５−１７２９４０号や特開２００５−２８０２１７号に記載の、薄膜金属スリーブで被覆されたシリコンゴムロールなどが用いられる。

冷却ロールから固化したフィルム状の溶融樹脂を剥離ロールなどで剥離してウェブを得る。フィルム状の溶融樹脂を剥離する際は、得られるウェブの変形を防止するために、張力を調整することが好ましい。

４）延伸工程
得られたウェブを、延伸機にて延伸してフィルムを得る。延伸は、少なくとも一方向に延伸すればよく、ウェブの幅方向（ＴＤ方向）とウェブの搬送方向（ＭＤ方向）の両方に延伸することが好ましい。

ウェブの幅方向（ＴＤ方向）とウェブの搬送方向（ＭＤ方向）の両方に延伸する場合、ウェブの幅方向（ＴＤ方向）の延伸とウェブの搬送方向（ＭＤ方向）の延伸とは、逐次的に行ってもよいし、同時に行ってもよい。

延伸倍率は、各方向に１．０１〜３．０倍、好ましくは１．１〜２．０倍としうる。ウェブの幅方向（ＴＤ方向）とウェブの搬送方向（ＭＤ方向）の両方に延伸する場合、各方向に最終的に１．０１〜３．０倍、好ましくは１．１〜２．０倍とすることが好ましい。

延伸温度は、Ｔｇ〜（Ｔｇ＋５０）℃で行うことが好ましい。延伸温度は、ウェブの幅方向（ＴＤ方向）または搬送方向（ＭＤ方向）に均一であることが好ましく、ウェブの延伸温度の幅方向または搬送方向のばらつきが±２℃以下であることが好ましく、±１℃以下であることがより好ましく、±０．５℃以下であることがさらに好ましい。

ウェブの延伸は、ロール延伸機やテンター延伸機などを用いることができる。ウェブの延伸は、ウェブの幅方向（ＴＤ方向）に行うことが好ましい。幅方向に延伸されたウェブは、幅方向に平行な面内遅相軸を有する。そのため、一般的に、ウェブの長手方向（ＭＤ方向）に平行な吸収軸を有する偏光子と、幅方向（ＴＤ方向）に平行な面内遅相軸を有する光学補償フィルムとをロールトゥロールで積層させれば、偏光子の吸収軸と光学補償フィルムの面内遅相軸とを容易に直交させることができる。

延伸後に得られるフィルムのリターデーションを調整したり、寸法変化を少なくしたりするために、必要に応じて、延伸後に得られるフィルムを搬送方向（ＭＤ方向）または幅方向（ＴＤ方向）に収縮させてもよい。延伸後に得られるフィルムを搬送方向（ＭＤ方向）に収縮させるには、例えば幅方向に把持したクリップを解除して、搬送方向に弛緩させたり；隣り合うクリップの間隔を搬送方向に徐々に狭くして搬送方向に弛緩させたりすればよい。

３．偏光板
本発明の偏光板は、偏光子と、その少なくとも一方の面に配置された前述の光学補償フィルムとを含む。

偏光子は、一定方向の偏波面の光のみを通過させる素子である。偏光子の代表的な例は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムであり、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと、二色性染料を染色させたものと、がある。

偏光子は、ポリビニルアルコール系フィルムを一軸延伸した後、ヨウ素または二色性染料で染色して得られるフィルムであってもよいし、ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素または二色性染料で染色した後、一軸延伸したフィルム（好ましくはさらにホウ素化合物で耐久性処理を施したフィルム）であってもよい。偏光子の厚さは、５〜３０μｍであることが好ましく、１０〜２０μｍであることがより好ましい。

ポリビニルアルコール系フィルムは、ポリビニルアルコール水溶液を製膜したものであってもよい。ポリビニルアルコール系フィルムは、偏光性能および耐久性能に優れ、色斑が少ないなどことから、エチレン変性ポリビニルアルコールフィルムが好ましい。エチレン変性ポリビニルアルコールフィルムの例には、特開２００３−２４８１２３号公報、特開２００３−３４２３２２号公報等に記載されたエチレン単位の含有量１〜４モル％、重合度２０００〜４０００、けん化度９９．０〜９９．９９モル％のフィルムが含まれる。

二色性色素の例には、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素およびアントラキノン系色素などが含まれる。

本発明の光学補償フィルムは、偏光子の少なくとも一方の面に直接配置されてもよいし、他のフィルムまたは層を介して配置されてもよい。光学補償フィルムの遅相軸と偏光子の吸収軸とは直交している。

偏光子の一方の面に本発明の光学補償フィルムが配置されている場合、偏光子の他方の面には、本発明の光学補償フィルムが配置されてもよいし、それ以外の透明保護フィルムが配置されてもよい。透明保護フィルムの例には、市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタック ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ６ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−Ｃ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、ＫＣ４ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、以上コニカミノルタオプト（株）製）が好ましく用いられる。

偏光板は、通常、偏光子と、本発明の光学補償フィルムとを貼り合わせるステップを経て得ることができる。貼り合わせに用いられる接着剤の例には、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液などが好ましく用いられる。

４．液晶表示装置
本発明の液晶表示装置は、液晶セルと、それを挟持する一対の偏光板とを有する。そして、一対の偏光板のうち少なくとも一方が、本発明の光学補償フィルムを有する偏光板であり、好ましくは一対の偏光板の両方が、本発明の光学補償フィルムを有する偏光板である。

図１は、本発明に係る液晶表示装置１０の一実施形態の基本構成を示す模式図である。図１に示されるように、液晶表示装置１０は、液晶セル２０と、それを挟持する第一の偏光板４０および第二の偏光板６０と、バックライト８０とを有する。

液晶セル２０は、垂直配向型の表示方式のものであればよく、例えばＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）方式、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式（ＭＶＡ；Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍａｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ ＡｌｉｇｎｍｅｎｔやＰＶＡ；Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔも含む）、ＴＮ・ＶＡ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＴＢＡ（Ｔｒａｖｅｒｓｅ Ｂｅｎｔ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式などでありうる。

垂直配向型の液晶セル２０は、一対の基板と、それらの間に配置され、負または正の誘電率異方性を有する液晶分子を含む液晶層とを含む。

一対の基板のうち、一方の基板に画素電極が設けられ、かつ他方の基板に対向電極が設けられてもよいし；一方の基板に画素電極と対向電極が両方設けられてもよい。

一方の透明基板に画素電極が配置され、他方の透明基板に対向電極が配置される場合、液晶層に含まれる液晶分子は、負の誘電率異方性を有することが好ましい。負の誘電率異方性を有する液晶分子の例には、負の誘電率異方性を有するネマチック液晶分子が含まれる。負の誘電率異方性を有するネマチック液晶分子の例には、特開２００４−２０４１３３号、特開２００４−２５０６６８号、特開２００５−０４７９８０号などに記載のものが含まれる。具体的には、負の誘電異方性を有し、△ｎ＝０．０８１５、△ε＝−４．５程度のネマチック液晶材料などが好ましく用いられる。

一方の透明基板に画素電極と対向電極の両方が配置される場合、液晶層に含まれる液晶分子は、正の誘電率異方性を有することが好ましい。正の誘電率異方性を有する液晶分子の例には、正の誘電率異方性を有するネマチック液晶分子が含まれる。正の誘電率異方性を有するネマチック液晶分子の例には、ＴＮ型、ＩＰＳ型液晶表示装置に用いられる液晶材料を用いることができる。具体的には、正の誘電率異方性を有し、△ｎ＝０．０８１５、△ε＝４．５程度のネマチック液晶材料などが好ましく用いられる。

液晶層は、液晶分子の配向不良を低減するために、必要に応じてＴＮ方式の液晶セルに含まれるようなカイラル材をさらに含んでいてもよい。

上記のように構成された液晶セル２０は、電圧無印加時には、液晶分子の長軸を一対の基板の表面に対して垂直配向させ、かつ電圧印加時には、液晶分子の長軸を一対の基板の表面に対して平行方向に配向させる。

液晶表示装置の透過率を高めるためには、液晶セル２０の△ｎｄを大きくすること；具体的には、３２０ｎｍ＜△ｎｄ＜４７０ｎｍであることが好ましく、４１０ｎｍ＜△ｎｄ＜４７０ｎｍであることがより好ましい。△ｎｄが大きい液晶セルは、電圧を印加して液晶分子を基板面に対して水平方向に配向させた際に、大きな位相差を発現する。そのため、液晶セルに電圧を印加して白表示させたときに、第二の偏光子（バックライト側の偏光子）を透過した光の偏光状態を、水平に配向した液晶分子によって十分に変化させることができ、第一の偏光子（視認側の偏光子）を透過する光の量を増やすことができる。

液晶セル２０の△ｎｄは、２３℃５５％ＲＨ下、測定波長５５０ｎｍにて測定される液晶分子の屈折率異方性△ｎと、液晶セルのギャップｄ（ｎｍ）との積である。液晶分子の屈折率異方性△ｎは、液晶分子の常光屈折率ｎｏと異常光屈折率ｎｅの差の絶対値△ｎ＝｜ｎｅ−ｎｏ｜として表される。液晶セルのギャップｄは、具体的には液晶層の厚さ（ｎｍ）である。

液晶セルの△ｎｄは、例えば通常のＶＡ方式の液晶セルのギャップｄ（ｎｍ）や、液晶分子の屈折率異方性△ｎによって調整することができる。例えば、液晶セルの△ｎｄを大きくするためには、液晶セルのギャップｄ（ｎｍ）を大きくし、液晶セル内の液晶分子の封入量を多くしたり；屈折率異方性△ｎが大きい液晶分子を用いたりすればよい。

液晶セル２０は、マルチドメイン構造を有していてもよい。マルチドメイン構造とは、液晶セルの一画素を複数の領域に分割した構造をいう。マルチドメイン構造を有する液晶セルでは、各ドメイン間の境界領域の液晶分子の配向を調整できる。例えば、ＶＡ方式の液晶セルでは、白表示時には液晶分子が傾斜している。そのため、マルチドメイン構造を有しないＶＡ方式の液晶セルでは、傾斜方向とその逆方向とでは、液晶分子の複屈折の大きさが異なるため、輝度や色調に差が生じやすい。これに対して、マルチドメイン構造を有するＶＡ方式の液晶セルでは、輝度や色調の視野角特性が改善されるので好ましい。

図２は、マルチドメイン構造を有する液晶セル２０の基板面の一例を示す平面図である。同図では、１つの画素領域を示している。図２に示されるように、基板２２の液晶層側の面には、複数のスリット２４が形成された画素電極２６が配置されている。基板２２は、１つの画素領域内に、液晶分子の配向状態が異なる４つの領域２２ａ、２２ｂ、２２ｃおよび２２ｄを有するマルチドメイン構造を形成しうる。隣り合うスリット２４同士で挟まれる画素電極２６の幅は５μｍ程度としうる。

第一の偏光板４０は、視認側に配置されており、第一の偏光子４２と、第一の偏光子４２の視認側の面に配置された保護フィルム４４（Ｆ１）と、第一の偏光子４２の液晶セル側の面に配置された保護フィルム４６（Ｆ２）とを有する。第二の偏光板６０は、バックライト８０側に配置されており、第二の偏光子６２と、第二の偏光子６２の液晶セル側の面に配置された保護フィルム６４（Ｆ３）と、第二の偏光子６２のバックライト側の面に配置された保護フィルム６６（Ｆ４）とを有する。第一の偏光子４２の吸収軸と第二の偏光子６２の吸収軸とは直交している。保護フィルム４６（Ｆ２）と６４（Ｆ３）の一方は、必要に応じて省略されてもよい。

保護フィルム４４（Ｆ１）、４６（Ｆ２）、６４（Ｆ３）および６６（Ｆ４）のうち、液晶セル側に配置される保護フィルム４６（Ｆ２）と６４（Ｆ３）の少なくとも一方、好ましくは両方を、本発明の光学補償フィルムとする。

このように、本発明の液晶表示装置は、前述の光学補償フィルムを有する。そのため、本発明の液晶表示装置は、△ｎｄが大きい垂直配向型セルを有するにも係わらず、前述の光学補償フィルムによって十分に光学補償を行うことができる。それにより、透過率や応答速度が高く、かつ黒表示時の光漏れが抑制され、白表示時の視野角や斜め方向の色味が改善された液晶表示装置を得ることができる。

以下において、実施例を参照して本発明をより詳細に説明する。これらの実施例によって、本発明の範囲は限定して解釈されない。

１．光学補償フィルムの材料
１）セルロースエステル
表１に示されるセルロースエステルを準備した。表１において、Ｄacはアセチル基の置換度を示し、Ｄprはプロピオニル基の置換度を示し、Ｄbnzはベンゾイル基の置換度を示し、Ｄallは総アシル基置換度を示す。

２）添加剤
Ｍ１：下記式で表されるグルコース化合物Ａ−２

Ｍ２：下記式で表される化合物

Ｍ３：下記式で表される化合物

Ｍ４：チヌビン３２７（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）
Ｍ５：トリフェニルホスフェート
Ｍ６：エチルフタリルエチルグリコレート
Ｍ７：チヌビン１７１（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）
Ｍ８：チヌビン１０９（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）
Ｍ９：ジフェニルビフェニルホスフェート
Ｍ１０：ポリスチレン（Ａｌｄｒｉｃｈ社製 Ｍｗ：８．０）
Ｍ１１：ビフェニルホスフェート
Ｍ１２：下記方法で合成した糖エステル化合物

糖エステル化合物の合成
撹拌装置、還流冷却器、温度計および窒素ガス導入管を備えた四頭コルベンに、ショ糖３４．２ｇ（０．１モル）、無水安息香酸１３５．６ｇ（０．６モル）、ピリジン２８４．８ｇ（３．６モル）を仕込んだ。これらの成分を撹拌しながら、窒素ガス導入管から窒素ガスをバブリングさせて昇温し、７０℃で５時間エステル化反応を行った。

次に、コルベン内を４×１０^２Ｐａ以下に減圧し、６０℃で過剰のピリジンを留去した後、コルベン内を１．３×１０Ｐａ以下に減圧し、１２０℃まで昇温させて、無水安息香酸、生成した安息香酸の大部分を留去した。得られた溶液に、トルエン１Ｌ、０．５質量％の炭酸ナトリウム水溶液３００ｇを添加し、５０℃で３０分間撹拌した後、静置して、トルエン層を分取した。分取したトルエン層に、水１００ｇを添加し、常温で３０分間水洗後、トルエン層を分取し、減圧下（４×１０^２Ｐａ以下）、６０℃でトルエンを留去させ、化合物Ａ−１、Ａ−２、Ａ−３、Ａ−４およびＡ−５の混合物である糖エステル化合物を得た。

得られた混合物を、高速液体クロマトグラフィー−質量分析（ＨＰＬＣ−ＭＳ）で解析したところ、化合物Ａ−１が１．２質量％、化合物Ａ−２が１３．２質量％、化合物Ａ−３が１４．２質量％、化合物Ａ−４が３５．４質量％、化合物Ａ−５が４０．０質量％であった。混合物の平均置換度は５．２であった。

２．光学補償フィルムの作製
（実施例１−１）
微粒子分散希釈液Ａの調製
下記成分を、ディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散させて、微粒子分散液Ａを得た。得られた微粒子分散液の濁度は２００ｐｐｍであった。次いで、この微粒子分散液Ａに、７５質量部のメチレンクロライドを撹拌しながらさらに投入し、ディゾルバーで３０分間撹拌混合して、微粒子分散希釈液Ａを得た。
（微粒子分散液Ａの組成）
アエロジル９７２Ｖ（日本アエロジル（株）製、一次粒子の平均径１６ｎｍ、見掛け比重９０ｇ／リットル）：１０質量部
エタノール：７５質量部

ドープ液Ａの調製
下記成分を密閉容器に投入し、加熱下で撹拌しながら、完全に溶解させた。得られた溶液を、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４にて濾過し、ドープ液Ａを得た。得られたドープ液Ａを、製膜ライン中で、日本精線（株）製のファインメットＮＦにてさらに濾過した。
（ドープ液Ａの組成）
セルロースエステル１（セルロースアセテートプロピオネート、アセチル基置換度１．９、プロピオニル基置換度０．８、総アシル基置換度２．７０、Ｍｎ＝７００００、Ｍｗ＝２２００００）：１００質量部
微粒子分散希釈Ａ：４質量部
トリフェニルホスフェート（添加剤Ｍ５）：８質量部
エチルフタリルエチルグリコレート（添加剤Ｍ６）：２質量部
メチレンクロライド：３００質量部
エタノール：６０質量部

得られたドープ液Ａを３５℃に調整し、ベルト流延装置を用いて、１８００ｍｍ幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ドープ液Ａの流延膜に含まれる溶媒を、残留溶剤量が１００％になるまでステンレスバンド支持体上で蒸発させた後、ステンレスバンド支持体から剥離してウェブを得た。得られたウェブに含まれる溶媒を、５５℃でさらに蒸発させた後、１６５０ｍｍ幅にスリットした。

得られたウェブを、テンター延伸機にて、１３０℃で、ウェブの幅方向（ＴＤ方向）に１．３５倍に延伸した。テンター延伸機にて延伸を開始したときのウェブの残留溶剤量は１８％であった。

得られたフィルムを多数のロールで搬送させながら、１２０℃の乾燥ゾーン、１１０℃の乾燥ゾーンで順次乾燥させた。得られたフィルムを、１４００ｍｍ幅にスリットした後、フィルム両端部に幅１５ｍｍ、平均高さ１０μｍのナーリング加工を施して、光学補償フィルム１を得た。得られた光学補償フィルム１を、巻き取り初期張力２２０Ｎ／ｍ、終張力１１０Ｎ／ｍで内径６インチコアに巻き取った。光学補償フィルム１の残留溶剤量は０．１％であり、平均膜厚は８０μｍであり、巻数は４０００ｍであった。

（実施例１−２〜１−７）
セルロースエステルの種類、添加剤の種類とその量、延伸条件の少なくともいずれかを表２に示されるように変更した以外は実施例１−１と同様にして光学補償フィルム２〜７を得た。実施例１−４および１−５において、ウェブの搬送方向（ＭＤ方向）の延伸は、ウェブの幅方向（ＴＤ方向）の延伸後に行った。

（実施例１−８）
ドープ液の組成を下記のように変更した以外は、実施例１−１と同様にしてドープ液Ｂを調整した。
（ドープ液Ｂの組成）
セルロースエステル２（セルロースアセテートプロピオネート、アセチル基置換度１．５８、プロピオニル基置換度０．９、総アシル基置換度２．４８、Ｍｎ＝１６００００）：１００質量部
添加剤Ｍ２：４質量部
微粒子分散希釈Ａ：４質量部
メチレンクロライド：３９０質量部
エタノール：８０質量部

得られたドープ液Ｂを、ベルト流延装置を用いて、幅２ｍのステンレスバンド支持体に均一に流延した。この流延膜に含まれる溶媒を、ステンレスバンド支持体上で残留溶媒量が１１０％になるまで蒸発させた後、ステンレスバンド支持体から剥離してウェブを得た。得られたウェブの両端部を、テンター延伸機にて把持して、ウェブの幅方向に１６０℃、１．４０倍で延伸した後、ウェブの両端部を把持したまま４秒間保持して、ウェブの幅方向の張力を緩和させた。その後、ウェブの両端部の把持を解放し、ウェブを搬送させながら、１２５℃に設定された乾燥ゾーンにて３０分間乾燥させた。得られたフィルムを、幅１．４９ｍにスリットした後、フィルムの両端部に幅１ｃｍのナーリング加工を施して、基材フィルムを得た。基材フィルムの、測定波長５５０ｎｍにおけるＲ０（５５０）は５０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は２５０ｎｍであった。

得られた基材フィルムの表面をアルカリ鹸化した後、下記組成の配向膜用塗布液を、ワイヤーバーコーターで２０ｍｌ／ｍ^２塗布した。
（配向膜用塗布液の組成）
下記の変性ポリビニルアルコール：１０質量部

水：３７１質量部
メタノール：１１９質量部
グルタルアルデヒド：０．５質量部
化合物Ｂ：０．２質量部

得られた塗膜を、６０℃の温風で６０秒間、さらに１００℃の温風で１２０秒間乾燥させた。乾燥後に得られた塗膜の表面を、基材フィルムの遅相軸方向と直交する方向にラビング処理して配向膜を形成した。

得られた配向膜上に、下記組成の液晶層用塗布液をワイヤーバーコーターにて、硬化後の厚みが１．４μｍとなるように塗布した。
（液晶層用塗布液の組成）
下記の円盤状液晶性化合物：１．８ｇ

エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）：０．２ｇ
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）：０．０６ｇ
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）：０．０２ｇ
含フッ素ポリマー（下記の化合物Ａ）：０．０１ｇ

メチルエチルケトン：３．９ｇ

液晶層用塗布液の塗膜を、１２５℃の恒温槽中で３分間加熱し、塗膜中の円盤状液晶性化合物を配向させた。次いで、この塗膜に、１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、紫外線を３０秒間照射し、円盤状液晶性化合物を架橋させて、液晶層を得た。紫外線硬化時の塗膜の温度は８０℃であった。その後、液晶層を室温まで放冷して、基材フィルムと液晶層とを有する光学補償フィルム８を得た。

（比較例１−１〜１−４）
延伸倍率、延伸温度、または得られるフィルムの膜厚を表２に示されるように変更した以外は実施例１−１と同様に光学補償フィルム９〜１２を得た。

（比較例１−５）
ドープ液の組成を下記のように変更した以外は、実施例１−１と同様にしてドープ液Ｃを調整した。
（ドープ液Ｃの組成）
セルロースエステル２（セルロースアセテートプロピオネート、アセチル基置換度１．５８、プロピオニル基置換度０．９０、総アシル基置換度２．４８、Ｍｎ＝１６００００）：１００質量部
グルコース化合物Ａ−２（添加剤Ｍ１）：４質量部
微粒子分散希釈Ａ：４質量部
メチレンクロライド：３９０質量部
エタノール：８０質量部

得られたドープ液Ｃを、ベルト流延装置を用いて、幅２ｍのステンレスバンド支持体に均一に流延した。この流延膜に含まれる溶媒を、ステンレスバンド支持体上で残留溶媒量が１１０％になるまで蒸発させた後、ステンレスバンド支持体から剥離してウェブを得た。得られたウェブの両端部を、テンター延伸機にて把持して、ウェブの幅方向に１６０℃、１．３５倍で延伸した後、ウェブの両端部を把持したまま４秒間保持して、ウェブの幅方向の張力を緩和させた。その後、ウェブの両端部の把持を解放し、ウェブを搬送させながら、１２５℃に設定された乾燥ゾーンにて３０分間乾燥させた。得られたフィルムを、幅１．４９ｍにスリットした後、フィルムの両端部に幅１ｃｍのナーリング加工を施して、長さ４０００ｍの光学補償フィルム１３を得た。

（比較例１−６）
セルロースエステルの種類、添加剤の種類とその量、および延伸条件を表２に示されるように変更した以外はほぼ実施例１−１と同様にして光学補償フィルム１４を得た。

（比較例１−７〜１−８）
セルロースエステルの種類、添加剤の種類とその量、および延伸条件を表２に示されるように変更した以外はほぼ実施例１−１と同様にして光学補償フィルム１５〜１６を得た。比較例１−８では、ウェブの搬送方向（ＭＤ方向）の延伸は、ウェブの幅方向（ＴＤ方向）の延伸後に行った。

得られた光学補償フィルムのリターデーションＲ０およびＲｔｈ、波長分散特性（Ｒ０ＤＳＰ、ＲｔｈＤＳＰ）を以下の方法で測定した。

Ｒ０、Ｒｔｈおよび波長分散特性（Ｒ０ＤＳＰ、ＲｔｈＤＳＰ）の測定
１）得られた光学補償フィルムを、２３℃５５％ＲＨで調湿した。調湿後の光学補償フィルムの３方向の屈折率を、アッベ屈折計にて測定し、それらの平均値を平均屈折率とした。
２）調湿後の光学補償フィルムに、フィルム法線方向から測定波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍの光をそれぞれ入射させたときのＲ０を、Ａｘｏｍｅｔｒｃｓ社製のＡｘｏｓｃａｎにて測定した。
３）Ａｘｏｍｅｔｒｃｓ社製のＡｘｏｓｃａｎにより、フィルム法線方向に対してθの角度（入射角（θ））から測定波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍの光をそれぞれ入射させたときのリターデーション値Ｒ（θ）を測定した。θは０°よりも大きく、好ましくは３０°〜５０°とした。
４）測定されたＲ０およびＲ（θ）と、前述の平均屈折率と膜厚とから、Ａｘｏｍｅｔｒｃｓ社製のＡｘｏｓｃａｎにより、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚを算出して、測定波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍでのＲｔｈをそれぞれ算出した。リターデーションの測定は、２３℃５５％ＲＨ条件下で行った。

得られたＲ０（４５０）とＲ０（６５０）から、Ｒ０（４５０）/Ｒ０（６５０）を算出し；得られたＲｔｈ（４５０）とＲｔｈ（６５０）から、Ｒｔｈ（４５０）/Ｒｔｈ（６５０）を算出した。

実施例１−１〜１−８および比較例１−１〜１−８の光学補償フィルムの評価結果を表２に示す。

３．偏光板の作製
偏光板１の作製
厚さ７５μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３５℃の水で膨潤させた。このフィルムを、ヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ、水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬させた後、ヨウ化カリウム３ｇ、ホウ酸７．５ｇ、水１００ｇからなる４５℃の水溶液に浸漬させた。浸漬後のフィルムを、５５℃、延伸倍率５倍で一軸延伸した。得られたフィルムを水洗した後、乾燥させて偏光子を得た。

得られた光学補償フィルム１の他に、透明保護フィルムとして、市販のコニカミノルタオプト製ＫＣ４ＵＡ−ＳＷを準備した。光学補償フィルム１と透明保護フィルムを、それぞれ５０℃２ＮのＫＯＨ水溶液を用いてアルカリケン化処理を行い、水洗、乾燥させた。

偏光子の一方の面に、ケン化処理済みの光学補償フィルム１を、水糊を介して配置し；偏光子の他方の面にケン化処理済みの透明保護フィルムを、水糊を介して配置し、積層物を得た。得られた積層物を、圧力２０〜３０Ｎ／ｃｍ^２、搬送スピード約１０ｍ／分で貼り合わせた後、７０℃で約２分間、次いで６０℃で約２分間乾燥させて偏光板１を得た。

一方、剥離加工したポリエチレンテレフタレートフィルム上に粘着層を設けた粘着テープを予め準備した。そして、得られた偏光板の光学補償フィルム側の面に、粘着テープの粘着層を貼りつけて、粘着剤付き偏光板１を得た。

偏光板２〜１６の作製
光学補償フィルム１を、光学補償フィルム２〜１６にそれぞれ変更した以外は、偏光板１と同様にして偏光板２〜１６を得た。光学補償フィルム１６の貼り合わせは、基材フィルムが偏光子と接するように行った。

偏光板Ａの作製
前述の光学補償フィルムと透明保護フィルムＫＣ４ＵＡ−ＳＷに代えて、偏光子の両面に透明保護フィルムＫＣ８ＵＸを貼り合わせた以外は偏光板１と同様にして偏光板Ａを得た。

偏光板Ｂの作製
前述の光学補償フィルムと透明保護フィルムＫＣ４ＵＡ−ＳＷに代えて、偏光子の片面のみに透明保護フィルムＫＣ４ＵＡ−ＳＷを貼り合わせた以外は偏光板１と同様にして偏光板Ｂを作製した。

４．液晶表示装置の作製
（実施例２−１）
液晶セルの作製
ガラス基板上に、所定のパターンのマスクを介してＩＴＯをスパッタリングして、ＩＴＯ膜を形成した。得られたＩＴＯ膜上にレジストパターンを形成し、このレジストパターンをマスクとしてＩＴＯ膜の露出部をエッチングして、前述の図２に示されるような画素電極２６を形成した。ここで、画素電極２６に設けられたスリット２４の幅、および２つのスリット２４と２４に挟まれた部分の画素電極２６の幅は、いずれも５μｍとした。

得られた画素電極上に配向膜用ポリイミド溶液を、厚さ７０ｎｍに印刷した後、１８０℃で焼成して、垂直配向膜を形成した。これにより、基板Ａを得た。

一方、基板Ａとは別に、ＩＴＯ膜付きガラス基板を準備した。このＩＴＯ膜上に、配向膜用ポリイミド溶液を厚さ７０ｎｍに印刷した後、１８０℃で焼成して垂直配向膜を形成した。これにより、基板Ａと対向配置される基板Ｂを得た。

基板Ａの垂直配向膜が形成された面上に、スペーサとして球状の樹脂ボールを含有する接着剤を枠状に塗布形成した。接着剤からなる枠には、液晶材料を注入するための開口部を設けた。次いで、基板Ａの垂直配向膜が形成された面と、基板Ｂの垂直配向膜が形成された面とが互いに対向するように、枠状の接着剤を介して貼り合わせた。

液晶セルのギャップｄは、接着剤に含まれるスペーサである、球状の樹脂ボールの径によって調整した。液晶セルの厚み方向のリターデーションＲｔｈ（ｃｅｌｌ）が目的の値になるように、樹脂ボールの径を選択して、液晶セルのギャップは５．２５μｍ（ｄ＝５２５０ｎｍ）とした。

得られた液晶セル内に、誘電率異方性が負である表示用液晶材料（△ｎ＝０．０８、△ε＝−４）を真空注入法によって注入した。表示用液晶材料を注入した後、注入口を紫外線硬化樹脂で封止して、ＶＡ型液晶セルを得た。得られた液晶セルの△ｎｄは４２０ｎｍであった。

得られた液晶セルの両面に、表３に示されるように偏光板を貼り合あわせて、液晶表示装置を得た。

（実施例２−２〜２−８、比較例２−１〜２−８）
得られた液晶セルの両面に貼り合わせる偏光板を、表３に示されるように変更した以外は実施例２−１と同様にして液晶表示装置を得た。

得られた液晶表示装置の視野角および斜め方向の色味（カラーシフト）を、以下の方法で評価した。

（視野角の評価）
液晶表示装置を白表示させたときの、極角６０°における、方位角４５°、１３５°、２２５°および３１５°のそれぞれの方向での輝度を、測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて測定した。同様に、液晶表示装置を黒表示させたときの、極角６０°、方位角４５°、１３５°、２２５°または３１５°のそれぞれの方向での輝度を測定した。得られた輝度を、下記式に当てはめて、極角６０°における、方位角４５°、１３５°、２２５°および３１５°のそれぞれの方向でのコントラスト比をそれぞれ算出し、それらの平均値を算出した。
コントラスト比＝（白表示時の一定方向での輝度）／（黒表示時の一定方向での輝度）×１００
極角とは、表示画面から立ち上がる回転方向の角度をいい、方位角とは、表示画面の面内での回転方向の角度をいう。

視野角の評価は、以下の基準に基づいて行った。
◎：コントラスト比の平均値が６０以上
○：コントラスト比の平均値が４０以上６０未満
×：コントラスト比の平均値が２０以上４０未満

（斜め方向の色味の評価）
得られた液晶表示装置の、極角６０°、方位角が４５°、１３５°、２２５°または３１５°のそれぞれの方向での色度座標（ｘ,ｙ）を、ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄを用いて測定し、それらの平均値を算出した。得られた色度座標（ｘ,ｙ）の平均値とＤ６５光源の色度座標（０．３１３、０．３２９）との距離を、式（Ｘ）により算出した。

斜め方向の色味の評価は、以下の基準に基づいて行った。
◎：Ｄ≦０．０５
○：０．０５＜Ｄ≦０．１０
×：０．１０＜Ｄ

実施例２−１〜２−８および比較例２−１〜２−８の液晶表示装置の評価結果を表３に示す。表３において、液晶表示装置の構成の種類をＩ、II、IIIのいずれかに分類し；Ｉの構成を図３Ａに、IIの構成を図３Ｂに、IIIの構成を図３Ｃにそれぞれ示す。図３Ａ〜３Ｃにおいて、図１と同様に、上側は視認側、下側はバックライト側を示し；図１と同一の部材には同一の符号を付した。また、Ｐは偏光子の吸収軸を表し、Ｑは光学補償フィルムまたは透明保護フィルムの遅相軸を表す。

保護フィルムＦ２とＦ３の少なくとも一方に、本発明の光学補償フィルムを有する実施例２−１〜２−８の液晶表示装置は、いずれも視野角と斜め方向の色味の両方が良好であることがわかる。これに対して、保護フィルムＦ２とＦ３の少なくとも一方に、本発明の光学補償フィルムを有しない比較例２−１〜２−８の液晶表示装置は、視野角と斜め方向の色味の両方を同時に高めることができないことがわかる。

本出願は、２０１１年１１月３０日出願の特願２０１１−２６２１６５に基づく優先権を主張する。当該出願明細書および図面に記載された内容は、すべて本願明細書に援用される。

本発明は、△ｎｄが大きい垂直配向型液晶セルに適合し、斜め方向のコントラストや色味を改善しうる光学補償フィルムおよびそれを含む液晶表示装置を提供することができる。

１０ 液晶表示装置
２０ 液晶セル
２２ 基板
２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ 領域
２４ スリット
２６ 画素電極
４０ 第一の偏光板
４２ 第一の偏光子
４４ 保護フィルム（Ｆ１）
４６ 保護フィルム（Ｆ２）
６０ 第二の偏光板
６２ 第二の偏光子
６４ 保護フィルム（Ｆ３）
６６ 保護フィルム（Ｆ４）
８０ バックライト

Claims (11)

1. セルロースエステルを含有する光学補償フィルムであって、
   前記光学補償フィルムは、２３℃、５５％ＲＨにおいて、
   下記式（Ｉ）で定義され、かつ測定波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍまたは６５０ｎｍで測定される面内方向のリターデーションをそれぞれＲ０（４５０）、Ｒ０（５５０）またはＲ０（６５０）とし、
   下記式（II）で定義され、かつ測定波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍまたは６５０ｎｍで測定される厚み方向のリターデーションをＲｔｈ（４５０）、Ｒｔｈ（５５０）またはＲｔｈ（６５０）としたとき、
   下記式（１）〜（４）を同時に満たす、光学補償フィルム。
   式（１） ０．７＜Ｒ０（４５０）/Ｒ０（６５０）＜Ｒｔｈ（４５０）/Ｒｔｈ（６５０）＜２
   式（２） Ｒ０（４５０）/Ｒ０（６５０）＜１．０
   式（３） ４０ｎｍ＜Ｒ０（５５０）＜８０ｎｍ
   式（４） １００ｎｍ＜Ｒｔｈ（５５０）＜２６０ｎｍ
   式（Ｉ）：Ｒ０＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｔ（ｎｍ）
   式（II）：Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｔ（ｎｍ）
   （式（Ｉ）および（II）において、
   ｎｘは、光学補償フィルムの面内方向において屈折率が最大になる遅相軸方向ｘにおける屈折率を表し；
   ｎｙは、光学補償フィルムの面内方向において前記遅相軸方向ｘと直交する方向ｙにおける屈折率を表し；
   ｎｚは、光学補償フィルムの厚み方向ｚにおける屈折率を表し；
   ｔ（ｎｍ）は、光学補償フィルムの厚みを表す）
2. 前記セルロースエステルの総アシル基置換度が１．５〜３．０であり、かつアセチル基置換度が２．５以下である、請求項１に記載の光学補償フィルム。
3. 一般式（１Ａ）で表される化合物、糖エステル化合物、リン酸エステル系可塑剤およびグリコレート系可塑剤からなる群より選ばれる一以上を含む、請求項１に記載の光学補償フィルム。
   

   

   （一般式（１Ａ）中、
   Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に単結合または下記式で表される二価の連結基を表し；
   

   

   Ａ^１およびＡ^２は、それぞれ独立に−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子または置換基）、−Ｓ−または−ＣＯ−を表し；
   Ｒ^１〜Ｒ^５は、それぞれ独立に置換基を表し；
   ｎは０〜２の整数を示す）
4. 前記糖エステル化合物は、下記式（６）で表される化合物である、請求項３に記載の光学補償フィルム。
   

   

   （一般式（６）のＲ_１〜Ｒ_８は、置換もしくは無置換のアルキルカルボニル基、または置換もしくは無置換のアリールカルボニル基を表し；Ｒ_１〜Ｒ_８は、互いに同じであっても、異なってもよい）
5. 前記一般式（１Ａ）で表される化合物の含有量は、前記セルロースエステルに対して０．１〜３０質量％である、請求項３に記載の光学補償フィルム。
6. 前記糖エステル化合物の含有量は、前記セルロースエステルに対して１〜４０質量％である、請求項３に記載の光学補償フィルム。
7. 前記光学補償フィルムが、下記式（５）をさらに満たす、請求項１に記載の光学補償フィルム。
   式（５） １．０≦Ｒｔｈ（４５０）/Ｒｔｈ（６５０）
8. 前記光学補償フィルムの厚みが、２５〜１００μｍである、請求項１に記載の光学補償フィルム。
9. 偏光子と、
   前記偏光子の少なくとも一方の面に配置された請求項１に記載の光学補償フィルムとを含み、
   前記偏光子の吸収軸と前記光学補償フィルムの遅相軸とが直交している、偏光板。
10. 第一の偏光子を有する第一の偏光板と、液晶セルと、第二の偏光子を有する第二の偏光板と、を順に有する液晶表示装置であって、
    前記液晶セルは、対向する一対の基板と、前記一対の基板に挟持され、液晶を含む液晶層とを有し、
    前記液晶セルは、電圧無印加時には、前記液晶を前記一対の基板面に対して垂直向させ、かつ電圧印加時には、前記液晶を前記一対の基板面に対して平行方向に配向させるものであり、かつ
    前記液晶セルのギャップをｄ（ｎｍ）とし、２３℃、測定波長５５０ｎｍにおける前記液晶の屈折率異方性を△ｎとしたとき、３２０ｎｍ＜△ｎｄ＜４７０ｎｍを満たし、
    前記第一の偏光板と前記第二の偏光板のいずれか一方または両方は、前記第一の偏光子または前記第二の偏光子の液晶セル側の面に配置された請求項１に記載の光学補償フィルムを有する、液晶表示装置。
11. 前記第一の偏光板と前記第二の偏光板の両方が、前記第一の偏光子または前記第二の偏光子の液晶セル側の面に配置された前記光学補償フィルムを有する、請求項１０に記載の液晶表示装置。
    

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