JPWO2012118016A1 - 熱処理品の温度測定装置と方法 - Google Patents
熱処理品の温度測定装置と方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2012118016A1 JPWO2012118016A1 JP2013502334A JP2013502334A JPWO2012118016A1 JP WO2012118016 A1 JPWO2012118016 A1 JP WO2012118016A1 JP 2013502334 A JP2013502334 A JP 2013502334A JP 2013502334 A JP2013502334 A JP 2013502334A JP WO2012118016 A1 JPWO2012118016 A1 JP WO2012118016A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature
- heat
- measurement
- temperature sensor
- window
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 title claims description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 22
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 63
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 36
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 36
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 25
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 16
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 239000003595 mist Substances 0.000 claims description 72
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 55
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 28
- 239000000110 cooling liquid Substances 0.000 claims description 8
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims description 2
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 16
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 13
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 12
- 239000000112 cooling gas Substances 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 5
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 4
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910000997 High-speed steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
- F27D21/00—Arrangements of monitoring devices; Arrangements of safety devices
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D1/00—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
- C21D1/62—Quenching devices
- C21D1/667—Quenching devices for spray quenching
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
- G01J5/02—Constructional details
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D1/00—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D11/00—Process control or regulation for heat treatments
- C21D11/005—Process control or regulation for heat treatments for cooling
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
- F27D19/00—Arrangements of controlling devices
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
- F27D21/00—Arrangements of monitoring devices; Arrangements of safety devices
- F27D21/0014—Devices for monitoring temperature
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
- F27D21/00—Arrangements of monitoring devices; Arrangements of safety devices
- F27D21/02—Observation or illuminating devices
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
- F27D9/00—Cooling of furnaces or of charges therein
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
- G01J5/0044—Furnaces, ovens, kilns
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
- G01J5/02—Constructional details
- G01J5/04—Casings
- G01J5/046—Materials; Selection of thermal materials
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
- G01J5/02—Constructional details
- G01J5/06—Arrangements for eliminating effects of disturbing radiation; Arrangements for compensating changes in sensitivity
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
- G01J5/02—Constructional details
- G01J5/08—Optical arrangements
- G01J5/0875—Windows; Arrangements for fastening thereof
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Radiation Pyrometers (AREA)
- Heat Treatments In General, Especially Conveying And Cooling (AREA)
- Waste-Gas Treatment And Other Accessory Devices For Furnaces (AREA)
Abstract
Description
このうち、ミスト冷却は、熱処理品を囲んで複数のノズルを配置し、ノズルから冷却液をスプレー式に供給し、冷却液を含むミストで被処理物を冷却するものである。なお、ミストとは、冷却液の液滴を含むガスを意味する。
前記熱処理炉に設けられ前記熱処理品の被測定面を直視可能な測定用窓と、
該測定用窓の外側に設けられ、測定用窓を通して前記被測定面の表面温度を非接触で測定可能な温度センサとを備え、
前記温度センサは、水による吸収率が100%未満となる測定波長域を有し、
前記測定用窓は、前記測定波長域において0%よりも高い透過率を有する窓材によって構成されている、熱処理品の温度測定装置が提供される。
(A)水による吸収率が100%未満となる波長域を測定波長域とし熱処理品の被測定面の表面温度を非接触で測定可能な温度センサと、該波長域において0%よりも高い透過率を有する窓材とを選定し、
(B)前記窓材からなる測定用窓を通して前記温度センサにより熱処理品の被測定面の表面温度を測定する、熱処理品の温度測定方法が提供される。
すなわち、ミスト冷却中の処理温度測定により、速い冷却速度を要する期間を把握し、その期間のみミスト急速冷却を行うことができる。また鋼の相変化が開始する温度Ms点と相変化が終了するMf点を監視することで、温度域に適した冷却速度にコントロールできる。これにより熱処理品の焼き割れ防止、低歪化が実現できる。このようなミスト冷却中に処理品温度を管理・温度制御する技術は、品質向上に大きな効果を有するといえる。
この例において、熱処理炉10は、熱処理品1(被処理物)の加熱処理を行う真空熱処理炉である。なお、本発明は真空熱処理炉に限定されず、熱処理品1の熱処理を行う限りで、その他の熱処理炉であってもよい。
熱処理品1の大きさは、例えば直径100〜300mm、高さ100〜300mmの円柱形部材であるが、本発明はこれに限定されず、その他の形状でもよい。
炉体12は、中空の気密容器であり、この例では軸心が鉛直な中空円筒形の炉体胴12aと、炉体胴12aの下面を塞ぐ炉体底12bと、炉体胴12aの上面を塞ぐ炉体蓋12cとからなる。
また、この例で炉体胴12aには、測定用窓32(後述する)用の貫通管16が気密に取り付けられている。
なお、支持部材2の構成は、この例に限定されず、その他の構成であってもよい。
ミスト冷却装置20は、複数のノズル22、流体供給管24、及び流体供給装置26を備える。
なお、ノズル22を液用とガス用に区分し、異なる構造のノズルを用いてもよい。
なお、流体供給管24を液用とガス用に区分し、異なる配管を用いてもよい。また、流体供給管24の途中に、ポンプ、圧縮機、弁(流量調節弁、圧力調節弁、等)を設けてもよい。
冷却液は、水又は水を主成分とする冷却液である。また冷却ガスは、好ましくは、アルゴン、ヘリウム、窒素等の不活性ガスである。
また、流体供給装置26は、回収した流体(冷却液、冷却ガス)を冷却し加圧する装置、圧力制御装置、及び流量制御装置を備える。
なお、流体供給装置26を液用とガス用に区分し、それぞれ独立して冷却液又は冷却ガスを供給してもよい。
また、ミストを構成する冷却液と冷却ガスの比率は、任意に調整できるため、ミストによる冷却能力を広い範囲で自由に調整することができる。
温度測定装置30は、測定用窓32、温度センサ34、及び温度補正装置36を備える。
このような窓材は、例えばゲルマニウム、シリコン、ジンクセレン、サファイア又は石英を主成分とする。
この測定波長域は、好ましくは1.95μm〜2.5μmの赤外線領域である。また、温度センサ34は、好ましくは、1.95μm〜2.5μmの測定波長域を有する赤外線温度センサである。
この図において、本実施例の温度測定方法は、S1〜S5の各ステップ(工程)からなる。
ステップS2(温度センサの選定)では、設定した波長域を測定波長域とし熱処理品1の被測定面を非接触で測定可能な温度センサ34を選定する。
この温度センサ34は、後述の実施例では赤外線温度センサである。
ステップS3(窓材の選定)では、設定した波長域(測定波長域)において高い透過率を有する窓材を選定する。
この窓材は、後述の実施例ではゲルマニウムである。
ステップS5では、温度センサにより測定された温度測定値を、熱処理品の放射率の補正係数、窓材の透過率による補正係数、又はミスト濃度による補正係数に基づいて補正する。
図3は、大気の波長別吸収率を示す図である。この図から、両矢印で示す波長1〜2.5μm、3〜5μm、7〜14μmの範囲は大気による吸収率が小さく、「大気の窓」と呼ばれる。吸収率が高い波長域には、主に吸収する大気の主成分が示されている。図3より大気の窓の波長域では、水による吸収率が少ないことがわかる。
これに対し、Ge(ゲルマニウム)、Si(シリコン)、ZnSe(ジンクセレン)は、波長1.8〜20μmの短波長から長波長まで高い透過率を持つことがわかる。
以下、この理由を説明する。
図5は、耐熱ガラスの波長と透過率の関係図である。
耐熱ガラス(登録商標:パイレックス)は、主成分がホウケイ酸ガラスであり、高い透過率を持つ波長域は0.4〜2.4μmである。そのため、テストピースから放出された測定波長(長波長温度センサの測定波長:8〜13μm)の赤外線は耐熱ガラス窓に吸収され、正しく温度測定できなかったと考えられる。
図6は、Ge窓と長波長温度センサの組み合わせによる温度測定結果を示す図である。この図において、破線は熱電対の測定温度と、実線は長波長温度センサによる測定温度である。
この試験結果から、両者は異なる傾きとなっていたため、この組み合わせでの正確な温度測定は不可能と判断した。
図7は、耐熱ガラス窓と短波長温度センサの組み合わせによる温度測定結果を示す図である。この図において、破線は熱電対の測定温度と、実線は短波長温度センサによる測定温度である。
この試験結果から、両者はほぼ同一の勾配(傾き)を示す温度域もあるが、テストピースでは短波長赤外線の放射率(0.05)が極端に小さく、信頼性の高いデータではないため、この組み合わせでの温度測定は不可能と判断した。
図8は、Ge窓と短波長温度センサの組み合わせによる温度測定結果を示す図である。この図において、破線は熱電対の測定温度と、実線は短波長温度センサによる測定温度である。
この例では、テストピースの冷却として、高温域(0〜200sec)と低温域(380〜500sec)で、10秒ごとにミスト噴霧と停止を繰り返し、短波長温度センサによる測定温度が450℃の付近で200〜380secの180秒間ミスト噴霧を停止するパターンで冷却(ミスト冷却)を行った。
従って、測定温度に対するミスト濃度の影響は少ないといえる。
(1)温度センサの放射率補正
赤外線温度センサは温度測定する物体表面の状態に大きな影響を受ける。例えば金属表面の場合、光輝性の高いステンレス鋼は放射率を0.45、酸化膜が付着した鋼では放射率を0.69に補正する必要がある。
そこで、事前試験としてテストピースの表面に熱電対を接触させて温度測定した値と、同じ位置を上述した温度センサ(短波長温度センサ)で温度測定した値を比較し、両者が同一になるように放射率の補正係数を決定する。
窓材の材質により波長ごとの透過率が異なる。事前試験として、テストピース表面に熱電対を接触させて温度測定した値と、窓材を通して上述した温度センサ(短波長温度センサ)で同じ位置を温度測定した値を比較し、両者が同一になるように窓材透過率による補正係数を決定する。
ミスト濃度によって、赤外線を吸収する量が変化する。処理品の表面近くに熱電対を埋め込んで温度測定した値と炉外から温度センサで温度測定した値を比較し、ミスト濃度と温度センサ温度測定値の関係を明らかにし、ミスト濃度の変化が温度測定値に及ぼす影響を補正することのできるミスト濃度による補正係数を導く。
表面温度補正値=
(放射率の補正係数)×(窓材透過率による補正係数)×(ミスト濃度による補正係数)×温度センサ温度測定値・・・(1)
すなわち、ミスト冷却中の処理温度測定により、速い冷却速度を要する期間を把握し、その期間のみミスト急速冷却を行うことができる。また鋼の相変化が開始する温度Ms点と相変化が終了するMf点を監視することで、温度域に適した冷却速度にコントロールできる。これにより熱処理品1の焼き割れ防止、低歪化が実現できる。このようなミスト冷却中に処理品温度を管理・温度制御する技術は、品質向上に大きな効果を有するといえる。
10 熱処理炉、12 炉体、
20 ミスト冷却装置、
30 温度測定装置、
32 測定用窓、
34 温度センサ(赤外線温度センサ)、
36 温度補正装置
Claims (7)
- 冷却液の液滴を含むミストで冷却するミスト冷却装置を備えた熱処理炉内に収容された熱処理品の温度測定装置であって、
前記熱処理炉に設けられ前記熱処理品の被測定面を直視可能な測定用窓と、
該測定用窓の外側に設けられ、測定用窓を通して前記被測定面の表面温度を非接触で測定可能な温度センサとを備え、
前記温度センサは、水による吸収率が100%未満となる測定波長域を有し、
前記測定用窓は、前記測定波長域において0%よりも高い透過率を有する窓材によって構成されている、熱処理品の温度測定装置。 - 前記温度センサにより測定された温度測定値を、熱処理品の放射率の補正係数、窓材の透過率による補正係数、又はミスト濃度による補正係数に基づいて補正する温度補正装置を備える、請求項1に記載の温度測定装置。
- 前記温度センサは、1.95μm〜2.5μmの測定波長域を有する赤外線温度センサである、請求項1又は2に記載の温度測定装置。
- 前記測定用窓の窓材は、ゲルマニウム、シリコン、ジンクセレン、サファイア又は石英を主成分とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の温度測定装置。
- 前記測定用窓は、水平に対して下向きに傾いて前記熱処理炉に設けられている、請求項1〜4のいずれか一項に記載の温度測定装置。
- 冷却液の液滴を含むミストで冷却するミスト冷却装置を備えた熱処理炉内に収容された熱処理品の温度測定方法であって、
(A)水による吸収率が100%未満となる波長域を測定波長域とし熱処理品の被測定面の表面温度を非接触で測定可能な温度センサと、該波長域において0%よりも高い透過率を有する窓材とを選定し、
(B)前記窓材からなる測定用窓を通して前記温度センサにより熱処理品の被測定面の表面温度を測定する、熱処理品の温度測定方法。 - 前記温度センサにより測定された温度測定値を、熱処理品の放射率の補正係数、窓材の透過率による補正係数、又はミスト濃度による補正係数に基づいて補正する、請求項6に記載の温度測定方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011041792 | 2011-02-28 | ||
JP2011041792 | 2011-02-28 | ||
PCT/JP2012/054793 WO2012118016A1 (ja) | 2011-02-28 | 2012-02-27 | 熱処理品の温度測定装置と方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2012118016A1 true JPWO2012118016A1 (ja) | 2014-07-07 |
JP6153466B2 JP6153466B2 (ja) | 2017-06-28 |
Family
ID=46757950
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013502334A Expired - Fee Related JP6153466B2 (ja) | 2011-02-28 | 2012-02-27 | 熱処理品の温度測定装置と方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9377360B2 (ja) |
JP (1) | JP6153466B2 (ja) |
KR (1) | KR20130114728A (ja) |
CN (1) | CN103534547B (ja) |
DE (1) | DE112012001031T5 (ja) |
WO (1) | WO2012118016A1 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6520618B2 (ja) * | 2015-09-30 | 2019-05-29 | 日本製鉄株式会社 | 鋼材温度測定装置及び鋼材温度測定方法 |
DE102016107168A1 (de) * | 2016-04-18 | 2017-10-19 | Carl Zeiss 3D Automation Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Abkühlen von Werkstücken |
TWI614080B (zh) * | 2016-09-13 | 2018-02-11 | 財團法人工業技術研究院 | 加工恆溫控制系統及其利用方法 |
JP2019203186A (ja) * | 2018-05-25 | 2019-11-28 | 光洋サーモシステム株式会社 | 熱処理装置および金属部品の製造方法 |
JP7139151B2 (ja) * | 2018-05-25 | 2022-09-20 | 株式会社ジェイテクトサーモシステム | 熱処理装置および金属部品の製造方法 |
CN109280750B (zh) * | 2018-10-10 | 2020-02-04 | 武汉纺织大学 | 一种奥铁体球铁转变控制冷却装置 |
KR102257355B1 (ko) * | 2019-01-22 | 2021-05-31 | 조선내화 주식회사 | 내화물의 온도측정 방법 및 시스템 |
CN110951952A (zh) * | 2019-12-18 | 2020-04-03 | 上海始金新材料科技有限公司 | 一种真空水淬设备 |
TWI720855B (zh) * | 2020-03-25 | 2021-03-01 | 中國鋼鐵股份有限公司 | 用於量測爐內溫度的方法及系統 |
CN112611228A (zh) * | 2020-11-19 | 2021-04-06 | 衡阳鸿宇化工有限责任公司 | 一种生产车间反应炉用冷却水循环设备及其使用方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61193036A (ja) * | 1985-02-21 | 1986-08-27 | Nireko:Kk | 放射温度計 |
JPS63288041A (ja) * | 1987-05-20 | 1988-11-25 | Fujitsu Ltd | 気相成長膜表面の評価方法 |
JP2001281064A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-10 | Shibaura Mechatronics Corp | 単色放射温度計の較正方法 |
JP2007171112A (ja) * | 2005-12-26 | 2007-07-05 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | プラズマ溶融炉におけるスラグ温度計測方法及び装置 |
JP2010002150A (ja) * | 2008-06-23 | 2010-01-07 | Takuma Co Ltd | 炉内監視装置及び炉内監視方法並びにこれらを用いた炉の操業制御方法 |
WO2010116738A1 (ja) * | 2009-04-10 | 2010-10-14 | 株式会社Ihi | 熱処理装置及び熱処理方法 |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1390351A (en) * | 1971-02-16 | 1975-04-09 | Tetronics Research Dev Co Ltd | High temperature treatment of materials |
US4270898A (en) * | 1979-07-16 | 1981-06-02 | Pollution Control Products Co. | Control method for a reclamation furnace |
US4463437A (en) * | 1981-04-27 | 1984-07-31 | Bethlehem Steel Corp. | Furnace burden thermographic method and apparatus |
JPS63153388A (ja) * | 1986-08-23 | 1988-06-25 | 東レ株式会社 | 熱処理炉 |
DE4208485C2 (de) * | 1992-03-17 | 1997-09-04 | Wuenning Joachim | Verfahren und Vorrichtung zum Abschrecken metallischer Werkstücke |
US5992159A (en) * | 1995-05-25 | 1999-11-30 | Edwards; Christopher Francis | Method and apparatus for heat extraction by controlled spray cooling |
JPH09316544A (ja) * | 1996-05-31 | 1997-12-09 | Kawasaki Steel Corp | 水冷熱処理における鋼板の表面温度測定装置 |
US5981919A (en) * | 1997-02-11 | 1999-11-09 | Bouillon, Inc. | Method and apparatus for characterizing and controlling the heat treatment of a metal alloy |
JPH11153386A (ja) * | 1997-11-25 | 1999-06-08 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 多室式マルチ冷却真空炉 |
US20020104597A1 (en) * | 1999-07-09 | 2002-08-08 | Ipsco Enterprises Inc. | Method and apparatus for producing steel |
US6443214B1 (en) * | 1999-12-07 | 2002-09-03 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Method for heat treating mold cast product |
DE60012474T2 (de) * | 2000-03-13 | 2004-11-25 | Csem Centre Suisse D'electronique Et De Microtechnique S.A. | Bildgebendes pyrometer |
WO2003054533A1 (en) * | 2001-12-13 | 2003-07-03 | Sokolowski Jerzy H | Method and apparatus for universal metallurgical simulation and analysis |
US7041931B2 (en) * | 2002-10-24 | 2006-05-09 | Applied Materials, Inc. | Stepped reflector plate |
US6940047B2 (en) * | 2003-11-14 | 2005-09-06 | Asm International N.V. | Heat treatment apparatus with temperature control system |
FI118743B (fi) * | 2004-11-04 | 2008-02-29 | Andritz Oy | Hiillospedin ohjaus talteenottokattilassa |
CN100456004C (zh) * | 2006-06-08 | 2009-01-28 | 江苏技术师范学院 | 高温温度场图像的检测装置及其检测方法 |
KR100796767B1 (ko) * | 2007-02-28 | 2008-01-22 | 최병길 | 분위기가스 소모 최소화 및 이산화탄소 가스 발생 최소화를위한 열처리장치 |
US7968044B2 (en) * | 2007-04-30 | 2011-06-28 | Spraying Systems Co. | Sinter processing system |
JP2009035792A (ja) | 2007-08-03 | 2009-02-19 | Nissan Motor Co Ltd | 熱処理方法及び熱処理装置 |
JP4263761B1 (ja) * | 2008-01-17 | 2009-05-13 | トヨタ自動車株式会社 | 減圧式加熱装置とその加熱方法および電子製品の製造方法 |
JP2010038531A (ja) | 2008-07-10 | 2010-02-18 | Ihi Corp | 熱処理装置 |
JP5588661B2 (ja) | 2009-12-11 | 2014-09-10 | 株式会社Ihi | ミスト冷却装置及び熱処理装置 |
CN201697455U (zh) * | 2010-04-22 | 2011-01-05 | 福建省闽发铝业股份有限公司 | 用于加热铝棒的电磁感应加热炉 |
-
2012
- 2012-02-27 CN CN201280010787.9A patent/CN103534547B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2012-02-27 DE DE112012001031T patent/DE112012001031T5/de not_active Withdrawn
- 2012-02-27 JP JP2013502334A patent/JP6153466B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2012-02-27 WO PCT/JP2012/054793 patent/WO2012118016A1/ja active Application Filing
- 2012-02-27 KR KR1020137021406A patent/KR20130114728A/ko not_active Application Discontinuation
-
2013
- 2013-08-27 US US14/011,564 patent/US9377360B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61193036A (ja) * | 1985-02-21 | 1986-08-27 | Nireko:Kk | 放射温度計 |
JPS63288041A (ja) * | 1987-05-20 | 1988-11-25 | Fujitsu Ltd | 気相成長膜表面の評価方法 |
JP2001281064A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-10 | Shibaura Mechatronics Corp | 単色放射温度計の較正方法 |
JP2007171112A (ja) * | 2005-12-26 | 2007-07-05 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | プラズマ溶融炉におけるスラグ温度計測方法及び装置 |
JP2010002150A (ja) * | 2008-06-23 | 2010-01-07 | Takuma Co Ltd | 炉内監視装置及び炉内監視方法並びにこれらを用いた炉の操業制御方法 |
WO2010116738A1 (ja) * | 2009-04-10 | 2010-10-14 | 株式会社Ihi | 熱処理装置及び熱処理方法 |
JP2010249332A (ja) * | 2009-04-10 | 2010-11-04 | Ihi Corp | 熱処理装置及び熱処理方法 |
KR20110134490A (ko) * | 2009-04-10 | 2011-12-14 | 가부시키가이샤 아이에이치아이 | 열처리 장치 및 열처리 방법 |
US20120028202A1 (en) * | 2009-04-10 | 2012-02-02 | Kazuhiko Katsumata | Heat treatment device and heat treatment method |
EP2418447A1 (en) * | 2009-04-10 | 2012-02-15 | IHI Corporation | Heat treatment device and heat treatment method |
CN102378891A (zh) * | 2009-04-10 | 2012-03-14 | 株式会社Ihi | 热处理装置以及热处理方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN103534547B (zh) | 2015-08-19 |
DE112012001031T5 (de) | 2013-11-28 |
CN103534547A (zh) | 2014-01-22 |
KR20130114728A (ko) | 2013-10-17 |
US9377360B2 (en) | 2016-06-28 |
US20140044148A1 (en) | 2014-02-13 |
JP6153466B2 (ja) | 2017-06-28 |
WO2012118016A1 (ja) | 2012-09-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6153466B2 (ja) | 熱処理品の温度測定装置と方法 | |
EP3048086B1 (en) | Use of a burner for inner surface treatment of medical glass container | |
JP6382290B2 (ja) | レーザ処理システム内の粒子制御 | |
JP7272768B2 (ja) | 基板の処理方法及び基板の処理装置 | |
KR101410097B1 (ko) | 공정 챔버에서의 기상 증착에 의해 반도체 웨이퍼 상에 층을 증착하는 방법 및 장치 | |
JP5028352B2 (ja) | 温度制御方法、温度補正値取得方法、半導体製造方法、基板処理装置 | |
CN106165079B (zh) | 处理系统及校准、验证工件工艺及在高温处理工件的方法 | |
JPWO2012153781A1 (ja) | フッ素含有有機ケイ素化合物薄膜の製造方法、及び、製造装置 | |
CN109990906A (zh) | 一种高温高压密闭腔内红外测温系统及方法 | |
US20140308621A1 (en) | Sintering apparatus | |
KR20050035275A (ko) | 급속 열 공정 툴의 온도 측정 시스템을 위한 광학 경로 개선, 초점 길이 변경 보상 및 산란 광선 축소 | |
JP2010265533A (ja) | 加熱制御装置及び加熱制御方法 | |
CN109564206A (zh) | 用于确定金属产品微观结构的设备和方法以及冶金系统 | |
JP2009204556A (ja) | 溶湯温度測定方法 | |
JP5333933B2 (ja) | 表面温度測定方法及び鋼材の製造方法 | |
KR101544218B1 (ko) | 확산로에서의 제트 적층 납땜 장치 | |
JP5515411B2 (ja) | 鋼材加熱方法、加熱制御装置およびプログラム | |
JP2002208591A (ja) | 熱処理装置 | |
JP5453919B2 (ja) | フェライト系ステンレス鋼の加熱方法 | |
JP4115470B2 (ja) | 基板加熱方法 | |
JP2005233741A (ja) | 温度測定治具及び該治具を用いた加熱炉及び該加熱炉における炉内温度制御方法 | |
JP5366157B2 (ja) | 加圧式ランプアニール装置 | |
JPH0561574B2 (ja) | ||
WO2021106597A1 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
CN111347023B (zh) | 一种修正连铸坯表面氧化层对辐射测温影响的方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150204 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151111 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151209 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20160322 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170530 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6153466 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |