JPWO2012105213A1 - 赤外線反射基体 - Google Patents

Abstract

基材表面に塗布することで簡易に製造でき、薄い膜厚で高い光線透過性能を示しながら、かつ、優れた赤外線反射性能を示す赤外線反射基体を提供する。透明基材に対し、ポリ（３，４−二置換チオフェン）とポリ陰イオンとの複合体を含有するコーティング剤を塗布して形成された赤外線反射層を含み、６０％以上の全光線透過率を示す赤外線反射基体。前記複合体が０．１５（Ｓ／ｃｍ）以上の導電率を示すことが好ましく、前記赤外線反射層は、膜厚が０．５０μｍ以下であることが好ましい。

Description

本発明は、赤外線反射性能を示す透明な膜を形成するためのコーティング剤、これを用いて形成された赤外線反射膜、および、当該膜を含む赤外線反射基体に関する。

赤外線は、赤色光よりも波長が長く、ミリ波長の電波よりも波長の短い電磁波を指し、その波長はおよそ０．７μｍ〜１ｍｍの範囲に分布する。波長の長さによって、近赤外線、中赤外線、遠赤外線に区分される。波長が長い中赤外線や遠赤外線が対象物に吸収されることで、対象物の温度が上昇することはよく知られている。

従来、この赤外線の性質を利用して、赤外線を反射させる薄膜を対象物表面に設けることで対象物の温度上昇を抑制することや、対象物を通じての熱の拡散を防止することが行なわれている。

このような赤外線反射薄膜としては、金、銀等の金属からなる薄膜が知られているが、これら金属薄膜は透明でないため、例えば窓ガラス等の透明な基材の表面に適用できないという欠点があった。

透明な赤外線反射薄膜としては、錫ドープ酸化インジシム（ＩＴＯ）等の金属酸化物からなる透明な薄膜が用いられているが、薄膜形成にスパッタリングや真空蒸着法を使用するため、高価な設備と高温の設定が必要になるという欠点があった。

そこで、金属酸化物に代わる赤外線反射材料として、導電性の有機高分子材料を使用することが提案されている（特許文献１及び２を参照）。

特許文献１では、遮熱層の導電性ポリマーとしてポリアニリンを用いた透明遮熱フィルムが記載されているが、赤外線反射率は具体的に示されていない。実施例では、遮熱層の膜厚は２〜１５μｍの範囲にあり、厚い膜が形成されている。また、可視光透過率は最大で６８％と比較的低めであることが示されている。

特許文献２では、導電性ポリマーとしてポリチオフェンを用いた透明光学機能層が近赤外線領域において良好な反射特性を示すことが記載されている。しかしながら、実施例１のインサイチュポリチオフェンからなる層に関してはガラス基材上の透明度はわずか５０％であると記載され、実施例２のポリチオフェン／ポリスチレンスルホン酸からなる層に関しては、重合体自体の導電率は記載されておらず、層の導電率がわずか０．１Ｓ／ｃｍと記載されているにすぎない。また当該実施例では、波長２０００ｎｍでの赤外線反射率は１６．２％と比較的低い。実施例６及び７では１μｍ程度の層が形成されており、透明度が極めて低いものと推定される。

特開２００５−２８８８６７号公報 特表２００７−５２９０９４号公報

特許文献１及び２記載の発明では、薄い膜厚において高い透明性と優れた赤外線反射性能を両立した赤外線反射膜は実現されていなかった。

本発明は、上記現状に鑑み、基材表面に塗布することで簡易に赤外線反射膜を形成することができ、薄い膜厚で高い光線透過性能を示しながら、かつ、優れた赤外線反射性能を示す膜を形成するためのコーティング剤、これを用いて形成された赤外線反射膜、および、当該膜を含む赤外線反射基体を提供することを課題とする。

本発明者らが鋭意検討したところ、導電性ポリマーとして高い導電率を示すポリ（３，４−二置換チオフェン）とポリ陰イオンとの複合体を選択し、これを薄く塗布することで前記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち本発明は、π共役系導電性ポリマーを含有する、赤外線反射膜形成用のコーティング剤に関し、また、前記コーティング剤を用いて形成される赤外線反射膜にも関する。前記赤外線反射膜形成用のコーティング剤は、バインダー及び／又は酸化防止剤をさらに含むことが好ましい。

さらに本発明は、透明基材と、前記透明基材に対し、ポリ（３，４−二置換チオフェン）とポリ陰イオンとの複合体を含有するコーティング剤を塗布して形成された赤外線反射層と、を含み、６０％以上の全光線透過率を示す赤外線反射基体に関する。

前記複合体が０．１５（Ｓ／ｃｍ）以上の導電率を示すことが好ましく、また、前記赤外線反射層は、膜厚が０．５０μｍ以下であることが好ましい。

赤外線反射基体が示す全光線透過率は７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましい。

赤外線反射基体が示す赤外線反射率は、５°正反射で、アルミ蒸着平面鏡をリファレンスとして測定した反射率の値は、波長３０００ｎｍにおいて１５％以上が好ましく、２０％以上がより好ましく、２６％以上がさらに好ましく、３０％以上が最も好ましい。

前記コーティング剤は、バインダー及び／又は酸化防止剤をさらに含むことが好ましい。

本発明によれば、基材表面に塗布することで簡易に製造でき、極めて透明性が高く、かつ優れた赤外線反射性能を有する赤外線反射基体を提供することができる。しかも、本発明の赤外線反射基体は、透明基材に対する赤外線反射層の密着性の点でも優れている。

実施例１の基体が示す赤外線反射率スペクトル 実施例２の基体が示す赤外線反射率スペクトル 実施例３の基体が示す赤外線反射率スペクトル 実施例４の基体が示す赤外線反射率スペクトル 実施例５の基体が示す赤外線反射率スペクトル 比較例１の基体が示す赤外線反射率スペクトル 比較例２の基体が示す赤外線反射率スペクトル 比較例３の基体が示す赤外線反射率スペクトル 比較例４の基体が示す赤外線反射率スペクトル 比較例５の基体が示す赤外線反射率スペクトル

以下、本発明を詳細に説明する。

本発明の赤外線反射膜形成用コーティング剤は、必須成分として、π共役系導電性ポリマーを含有する。

本発明で用いられるπ共役系導電性ポリマーは、π共役系構造を有し、導電性を示す高分子材料である。具体的には、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール、ポリパラフェニレン、ポリパラフェニレンビニレン、これらの誘導体などが挙げられる。

なかでも、ポリチオフェンとドーパントとの複合体からなるポリチオフェン系導電性ポリマーが高赤外線反射特性と化学安定性の観点から好適に用いられる。ポリチオフェン系導電性ポリマーは、より詳しくは、ポリ（３，４−二置換チオフェン）とドーパントからなる複合体である。

ポリ（３，４−二置換チオフェン）は、以下の式（１）：

で示される反復構造単位からなる陽イオン形態のポリチオフェンであることが好ましい。当該陽イオン形態のポリチオフェンとは、ドーパントであるポリ陰イオンとの複合体になるために、ポリチオフェンの一部から電子が引き抜かれることによって一部が陽イオン形態になっているポリチオフェンのことをいう。

式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２は、相互に独立して、水素原子又はＣ_１−４のアルキル基を表すか、あるいは、Ｒ^１とＲ^２が結合して環状構造を形成する、置換又は無置換のＣ_１−４のアルキレン基を表す。上記Ｃ_１−４のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基などが挙げられる。Ｒ^１とＲ^２が結合して環状構造を形成する、置換又は無置換のＣ_１−４のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、１，２−エチレン基、１，３−プロピレン基、１，４−ブチレン基、１−メチル−１，２−エチレン基、１−エチル−１，２−エチレン基、１−メチル−１，３−プロピレン基、２−メチル−１，３−プロピレン基などが挙げられる。Ｃ_１−４のアルキレン基が有することができる置換基としては、ハロゲン基や、フェニル基などが挙げられる。好適なＣ_１−４のアルキレン基としては、メチレン基、１，２−エチレン基、１，３−プロピレン基が挙げられ、１，２−エチレン基が特に好適である。上記のアルキレン基を持つポリチオフェンとして、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）が特に好ましい。

ポリチオフェン系導電性ポリマーを構成するドーパントは、上述のポリチオフェンとイオン対をなすことにより複合体を形成し、ポリチオフェンを水中に安定に分散させることができる陰イオン形態のポリマー、すなわちポリ陰イオンであることが好ましい。このようなドーパントとしては、例えば、カルボン酸ポリマー類（例えば、ポリアクリル酸、ポリマレイン酸、ポリメタクリル酸など）、スルホン酸ポリマー類（例えば、ポリスチレンスルホン酸、ポリビニルスルホン酸など）などが挙げられる。これらのカルボン酸ポリマー類およびスルホン酸ポリマー類は、ビニルカルボン酸類およびビニルスルホン酸類と他の重合可能なモノマー類（例えば、アクリレート類、スチレンなど）との共重合体であってもよい。なかでも、ポリスチレンスルホン酸が特に好ましい。

上記のポリスチレンスルホン酸は、重量平均分子量が２００００より大きく、５０００００以下であることが好ましい。より好ましくは４００００〜２０００００である。分子量がこの範囲外のポリスチレンスルホン酸を使用すると、ポリチオフェン系導電性ポリマーの水に対する分散安定性が低下する場合がある。尚、上記ポリマーの重量平均分子量はゲル透過クロマトグラフィー（ＧＰＣ）にて測定した値である。測定にはウォーターズ社製ｕｌｔｒａｈｙｄｒｏｇｅｌ５００カラムを使用する。

ポリチオフェン系導電性ポリマーは酸化剤を用いた水中での酸化重合によって得ることができる。当該酸化重合では２種類の酸化剤（第一酸化剤及び第二酸化剤）が使用される。好適な第一酸化剤としては、例えば、ペルオキソ二硫酸、ペルオキソ二硫酸ナトリウム、ペルオキソ二硫酸カリウム、ペルオキソ二硫酸アンモニウム、過酸化水素、過マンガン酸カリウム、二クロム酸カリウム、過ホウ酸アルカリ塩、銅塩等が挙げられる。これらの第一酸化剤の中で、ペルオキソ二硫酸ナトリウム、ペルオキソ二硫酸カリウム、ペルオキソ二硫酸アンモニウム、及び、ペルオキソ二硫酸が最も好適である。上記第一酸化剤の使用量は、使用するチオフェン類モノマーに対して、１．５〜３．０ｍｏｌ当量が好ましく、２．０〜２．６ｍｏｌ当量がさらに好ましい。

好適な第二酸化剤としては、金属イオン（例えば、鉄、コバルト、ニッケル、モリブデン、バナジウムのイオン）を触媒量で添加することが好ましい。なかでも、鉄イオンが最も有効である。金属イオンの添加量は、使用するチオフェン類モノマーに対して、０．００５〜０．１ｍｏｌ当量が好ましく、０．０１〜０．０５ｍｏｌ当量がさらに好ましい。

本酸化重合では水を反応溶媒として用いる。水に加えて、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノールなどのアルコールや、アセトン、アセトニトリルなどの水溶性溶媒を添加することもできる。以上の酸化重合によって導電性ポリマーの水分散体が得られる。

本発明で使用するπ共役系導電性ポリマーは、形成される薄膜が優れた赤外線反射特性を発揮するために、通常の導電膜用途で使用する導電性ポリマーと比較して高い導電性を示す必要がある。具体的には、導電率が０．１５（Ｓ／ｃｍ）以上を示すπ共役系導電性ポリマーを用いることが必要である。導電率が０．１５（Ｓ／ｃｍ）未満であると、優れた赤外線反射特性を示す薄膜を形成することができない。好ましくは０．２０（Ｓ／ｃｍ）以上であり、より好ましくは０．２５（Ｓ／ｃｍ）以上であり、さらに好ましくは０．３０（Ｓ／ｃｍ）以上である。 導電率が０．１５（Ｓ／ｃｍ）以上のπ共役系導電性ポリマーは、例えば、重合条件や分子量を適宜選択することで容易に作製することができる。例えば、分子量を増大させることで上記のように高い導電性を示すπ共役系導電性ポリマーを得ることができる。また、特にπ共役系導電性ポリマーがポリ（３，４−二置換チオフェン）とポリ陰イオンとの複合体からなる場合、製造時の重合系が示すｐＨを最適化することで、高い導電性を示すπ共役系導電性ポリマーを得ることができる。また、高い導電性を示すπ共役系導電性ポリマーは市販されており、本発明では市販品を使用してもよい。

なお、本発明でいう導電性ポリマーの導電率は、基材上に当該導電性ポリマーからなる導電層を形成した後、その導電層が示す膜厚と表面抵抗率を測定して、下記式に基づき算出される。
導電率（Ｓ／ｃｍ）＝１／｛表面抵抗率（Ω／□）×膜厚（ｃｍ）｝
本発明のコーティング剤は、π共役系導電性ポリマーに加えて、溶媒及び／又は分散媒をさらに含有することが好ましい。これによりコーティング剤の粘度を低下させて、基材への塗布を容易にすることができる。溶媒又は分散媒としては、π共役系導電性ポリマーおよび他の任意成分を溶解又は分散できるものであれば特に限定はない。

コーティング剤が水系の場合、溶媒は水のみであってもよいが、水に加えて、水に混和する溶媒を併用することもできる。水に混和する溶剤としては特に制限はないが、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノールなどのアルコール類、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートなどのグリコールエーテルアセテート類、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコールなどのプロピレングリコール類、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテルなどのプロピレングリコールエーテル類、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールエーテルアセテート類、ジメチルアセトアミド、アセトン、アセトニトリルおよびそれらの混和物などが挙げられる。

コーティング剤が有機溶剤系の場合は、上記水と混和する溶剤として挙げた溶剤の他、トルエン、キシレン、ベンゼン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ヘキサン、ヘプタン等が使用できる。上記の溶媒又は分散媒の中でもメタノール、エタノール、２−プロパノールが特に好ましい。なお、コーティング剤の各成分が完全に溶解している場合は「溶媒」、何れかの成分が溶解せずに分散している場合は「分散媒」と言うこととする。

コーティング剤の固形分濃度は均一な溶液または分散液であれば特に限定されないが、塗布時に約０．０１〜５０重量％程度が好ましい。より好ましくは１〜２０重量％である。この範囲では塗布を容易に実施することができる。しかし、コーティング剤の販売や運搬時にはより高濃度であってもよく、その場合、使用時に溶剤及び／又は分散媒を添加して適宜希釈すればよい。

本発明のコーティング剤には、さらに、必要に応じ、バインダー、導電性向上剤、界面活性剤（表面調整剤）、レベリング剤、消泡剤、レオロジーコントロール剤、密着性付与剤、酸化防止剤、中和剤等を適宜添加することが可能である。

前記バインダーは、特に基材として樹脂フィルムを使用する場合に、薄膜と基材の密着性を高め、かつ均質な薄膜を形成するために使用することが好ましい。

本発明で使用可能なバインダーとしては特に限定されない。従来、導電性ポリマーを基材上に塗工する際に使用していたバインダーを適宜使用することができる。具体的には、アルコキシシラン類、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性シロキサン等のシランカップリング剤や、樹脂バインダーとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリウレタン、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアミド、ポリイミド等；スチレン、塩化ビニリデン、塩化ビニル、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート等のモノマーを共重合して得られるコポリマー等が挙げられる。これらのバインダーは、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。基材がＰＥＴフィルムである場合、バインダーとしてはポリエステル樹脂を使用することが好ましい。

前記バインダーを配合する場合、その配合量は、前記π共役系導電性ポリマー１００質量部に対して０．１質量部〜５００質量部、好ましくは２０〜２００重量部である。２０質量部未満であると、バインダー配合の目的、すなわち基材との十分な密着性を達成することができない。２００重量部を超えると、バインダーの割合が高くなりすぎるため優れた赤外線反射特性を達成することができない。

前記導電性向上剤は、本発明のコーティング剤を塗布して形成した薄膜の赤外線反射特性を向上させる目的で添加される。導電性向上剤としては、特に限定されないが、例えば、以下の化合物が挙げられる。

イソホロン、プロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、β−ブチルラクトン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等のケトン基を有する化合物；
ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、２−フェノキシエタノール、ジオキサン、モルホリン、４−アクリロイルモルホリン、Ｎ−メチルモルホリンＮ−オキシド、４−エチルモルホリン、オキセタン、ＴＨＦ、ＴＨＰ等のエーテル基を有する化合物；
ジメチルスルホキシド等のスルフィニル基を有する化合物；
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−エチルアセトアミド、Ｎ−フェニル−Ｎ−プロピルアセトアミド、ベンズアミド等のアミド基を有する化合物；
アクリル酸、メタクリル酸、メタン酸、エタン酸、プロパン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、オクタン酸、デカン酸、ドデカン酸、安息香酸、ｐ−トルイル酸、ｐ−トルイル酸、ｐ−クロロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、１−ナフトエ酸、２−ナフトエ酸、フタル酸、イソフタル酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、アジピン酸、マレイン酸、フマール酸等のカルボキシル基を有する化合物；
エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、β−チオジグリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、カテコール、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、グリセリン、エリトリトール、グリセッリン、インマトール、ラクチトール、マルチトール、マンニトール、ソルビトール、キシリトール、スクロース等の２つ以上のヒドロキシル基を有する化合物；
Ｎ−メチルピロリドン、β−ラクタム、γ−ラクタム、δ−ラクタム、ε−カプロラクタム、ラウロラクタム等のラクタム基を有する化合物。

本発明のコーティング剤における導電性向上剤の配合量としては、π共役系導電性ポリマー１００質量部に対して、５〜２０００質量部が好ましく、１０〜１５００質量部がより好ましい。５質量部未満であると、導電性向上剤添加による赤外線反射特性の改善効果を達成することができない。２０００質量部を超えると、コーティング剤中の導電性成分が希薄となり、薄膜を形成した時に十分な赤外線反射特性が得られなくなる。

前記界面活性剤またはレベリング剤は、レベリング性を向上し、均一な塗布膜を得ることができるものなら特に限定されない。このような界面活性剤またはレベリング剤としては、例えば、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性シロキサン、ポリエーテルエステル変性水酸基含有ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性アクリル基含有ポリジメチルシロキサン、ポリエステル変性アクリル基含有ポリジメチルシロキサン、パーフルオロポリジメチルシロキサン、パーフルオロポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、パーフルオロポリエステル変性ポリジメチルシロキサンなどのシロキサン化合物；パーフルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロアルキルポリオキシエチレンエタノールなどのフッ素含有有機化合物；ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、プロピレンオキシド重合体、エチレンオキシド重合体などのポリエーテル系化合物；ヤシ油脂肪酸アミン塩、ガムロジンなどのカルボン酸；ヒマシ油硫酸エステル類、リン酸エステル、アルキルエーテル硫酸塩、ソルビタン脂肪酸エステル、スルホン酸エステル、リン酸エステル、コハク酸エステルなどのエステル系化合物；アルキルアリールスルホン酸アミン塩、スルホコハク酸ジオクチルナトリウムなどのスルホン酸塩化合物；ラウリルリン酸ナトリウムなどのリン酸塩化合物；ヤシ油脂肪酸エタノールアマイドなどのアミド化合物；さらにはアクリル系の共重合物等が挙げられる。これらの中でも、レベリング性の点からはシロキサン系化合物およびフッ素含有化合物が好ましく、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサンが特に好ましい。本発明のコーティング剤における界面活性剤またはレベリング剤の配合量としては、π共役系導電性ポリマー１００質量部に対して、０．００１〜５００質量部が好ましく、０．０１〜１００質量部がより好ましい。

前記消泡剤としては、例えば、シロキサン骨格を有する化合物：ポリエステル変性メチルアルキルポリシロキサン、ポリエーテル変性ポリメチルアルキルシロキサン、アラルキル変性ポリメチルアルキルシロキサン等が挙げられる。本発明のコーティング剤における消泡剤の配合量としては、π共役系導電性ポリマー１００質量部に対して、０．００１〜５００質量部が好ましく、０．０１〜１００質量部がより好ましい。

前記レオロジーコントロール剤としては、例えば、セルロース系およびその誘導体、アルブミン、カゼインなどのたんぱく質系の誘導体、アルギン酸、寒天、でんぷん、多糖類、ビニル系化合物、ビニリデン化合物、ポリエステル化合物、ポリエーテル化合物、ポリグリコール系化合物、ポリビニルアルコール系化合物、ポリアルキレンオキサイド化合物、ポリアクリル酸系化合物等が挙げられる。本発明のコーティング剤におけるレオロジーコントロール剤の配合量としては、π共役系導電性ポリマー１００質量部に対して、０．００１〜５００質量部が好ましく、０．０１〜１００質量部がより好ましい。

本発明のコーティング剤では、必要に応じて、密着性付与剤等も使用できる。本発明のコーティング剤における密着性付与剤の配合量としては、π共役系導電性ポリマー１００質量部に対して、０．００１〜５００質量部が好ましく、０．０１〜１００質量部がより好ましい。

粘度を向上させる目的で増粘剤を添加してもよい。このような増粘剤としては、アルギナン酸誘導体、キサンタンガム誘導体、カラギーナンやセルロースなどの糖類化合物などの水溶性高分子などが挙げられる。本発明のコーティング剤における増粘剤の配合量としては、π共役系導電性ポリマー１００質量部に対して、０．００１〜５００質量部が好ましく、０．０１〜１００質量部がより好ましい。

前記酸化防止剤としては特に限定されず、還元性または非還元性の水溶性酸化防止剤が挙げられる。還元性を有する水溶性酸化防止剤としては、例えば、Ｌ−アスコルビン酸、Ｌ−アスコルビン酸ナトリウム、Ｌ−アスコルビン酸カリウム、エリソルビン酸、エリソルビン酸ナトリウム、エリソルビン酸カリウムなどの２個の水酸基で置換されたラクトン環を有する化合物；マルトース、ラクトース、セロビオース、キシロース、アラビノース、グルコース、フルクトース、ガラクトース、マンノースなどの単糖類および二糖類；カテキン、ルチン、ミリセチン、クエルセチン、ケンフェロールなどのフラボノイド；クルクミン、ロズマリン酸、クロロゲン酸、タンニン酸、ヒドロキノン、３，４，５−トリヒドロキシ安息香酸などのフェノール性水酸基を２個以上有する化合物；システイン、グルタチオン、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）などのチオール基を有する化合物などが挙げられる。非還元性の水溶性酸化防止剤としては、例えば、フェニルイミダゾールスルホン酸、フェニルトリアゾールスルホン酸、２−ヒドロキシピリミジン、サリチル酸フェニル、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸ナトリウムなどの酸化劣化の原因となる紫外線を吸収する化合物が挙げられる。本発明の組成物において、２個の水酸基で置換されたラクトン環を有する化合物、単糖類および二糖類、フラボノイド系の化合物、又はフェノール性水酸基を２個以上有する化合物を使用することが特に好ましい。これらは、単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。本発明のコーティング剤における酸化防止剤の配合量としては、π共役系導電性ポリマー１００質量部に対して、０．００１〜５００質量部が好ましく、１．０〜８０質量部がより好ましい。酸化防止剤が１．０重量部未満の場合、耐光性を維持できない。酸化防止剤が８０重量部より多い場合は酸化防止剤の割合が高くなりすぎるため、優れた赤外線反射特性を達成することができない。

前記中和剤は、コーティング剤が酸性を示す場合に、これを中和する目的で配合される。アルカリ性を示す化合物であれば特に限定されないが、加熱により蒸散するものが好ましく、例えば、アンモニア水、メチルアミン等が挙げられる。中和剤の配合量は、最終的にコーティング剤が示す所望のｐＨに応じて適宜決定することができる。

（コーティング剤の製造方法）
本発明のコーティング剤を製造する方法は特に制限されないが、上記各成分をメカニカルスターラーやマグネティックスターラーなどの撹拌機で撹拌しながら混合して、約１〜６０分間程度撹拌混合すればよい。

（赤外線反射基体）
本発明のコーティング剤は、被塗布基材に塗布した後、乾燥させることで、赤外線反射膜を形成することができる。コーティング剤を塗布する被塗布基材は透明な基材であってもよく、不透明な基材であってもよい。基材を構成する材料としては特に限定されないが、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・アクリル酸エステル共重合体、アイオノマー共重合体、シクロオレフィン系樹脂等のポリオレフィン樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリオキシエチレン、変性ポリフェニレン、ポリフェニレンスルフィド等のポリエステル樹脂、ナイロン６、ナイロン６，６、ナイロン９、半芳香族ポリアミド６Ｔ６、半芳香族ポリアミド６Ｔ６６、半芳香族ポリアミド９Ｔ等のポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン、アクリルニトリルスチレン、アクリルニトリルブタジエンスチレン、塩化ビニル樹脂等の有機材料；ガラス等の無機材料を挙げることができる。

コーティング剤の塗布法としては、特に制限はなく、公知の方法の中から適宜選択することができる。例えば、スピンコーティング、グラビアコーティング、バーコーティング、ディップコート法、カーテンコーティング、ダイコーティング、スプレーコーティング等が挙げられる。また、スクリーン印刷、スプレー印刷、インクジェットプリンチング、凸版印刷、凹版印刷、平版印刷等の印刷法も適用できる。

前記コーティング剤からなる塗膜の乾燥には、通常の通風乾燥機、熱風乾燥機、赤外線乾燥機などの乾燥機などが用いられる。これらのうち加熱手段を有する乾燥機（熱風乾燥機、赤外線乾燥機など）を用いると、乾燥および加熱を同時に行うことが可能である。加熱手段としては、上記乾燥機の他、加熱機能を具備する加熱・加圧ロール、プレス機などが用いられ得る。

塗膜の乾燥条件は特に限定されないが、例えば、２５℃〜２００℃で１０秒〜２時間程度であり、好ましくは、８０℃〜１５０℃で１〜３０分程度である。

本発明のコーティング剤から形成される塗膜の乾燥膜厚は、目的に応じて適宜選択することができるが、一般には、１ｎｍ〜５μｍである。しかし、高い透明度とコスト低減の観点から、膜厚は薄いほうが好ましい。この観点から、０．５０μｍ以下が好ましく、０．４０μｍ以下がより好ましく、０．３０μｍ以下がさらに好ましい。本発明では高い導電率を示す導電性ポリマーを使用するため、このように極めて薄い薄膜であっても、高度な赤外線反射特性を達成することができる。

本発明のコーティング剤を透明基体表面に塗布、乾燥させることで、透明基体表面に形成された赤外線反射層を含む本発明の赤外線反射基体を製造することができる。本発明のコーティング剤が導電性ポリマーとしてポリ（３，４−二置換チオフェン）とポリ陰イオンとの複合体を有し、形成される薄膜が薄く、極めて透明性が高いために、本発明の赤外線反射基体は、６０％以上の全光線透過率を示すことができる。好ましくは７０％以上の全光線透過率、より好ましく８０％以上の全光線透過率を示すことができる。

このように高い透明度を有しながら、高度な赤外線反射特性を有する、有機材料を用いた赤外線反射基体は従来知られていない。本発明の赤外線反射基体が示す赤外線反射率については、５°正反射で、アルミ蒸着平面鏡をリファレンスとして測定した反射率の値は、波長３０００ｎｍにおいて１５％以上を達成することができる。より好ましくは２０％以上、さらに好ましくは２６％以上、最も好ましくは３０％以上を達成することができる。また、本発明の赤外線反射基体は、近赤外線（約３００−３０００ｎｍ）、中赤外線（約３０００−３００００ｎｍ）、遠赤外線（約３００００−３０００００ｎｍ）といったいずれの赤外線に対しても優れた反射特性を示すことができる。

本発明の赤外線反射基体は種々の用途に使用され得るものであるが、例えば、ＰＥＴフィルム等の樹脂フィルムに本発明のコーティング剤を塗布してなるものであってもよい。これにより得られる赤外線反射透明フィルムは、窓ガラス（単層ガラスまたは複層ガラス）の他、建築物または乗り物の壁、あるいは冷蔵庫または冷凍庫の壁の表面に貼付して使用することができる。本発明の赤外線反射基体は極めて透明性が高いものであるため、窓ガラスに適用した場合、窓ガラスの透明性を阻害することなく、優れた赤外線反射特性を発揮することができる。その結果、高い透明性を享受しながら、室内の熱を外部に逃さない効果、または、外部の熱を室内に伝えない効果を期待することができる。

また、本発明のコーティング材は、窓ガラス、建築物または乗り物の壁、あるいは冷蔵庫または冷凍庫の壁の表面に直接コーティングすることで使用することもできる。このような直接塗布された形態も、基材が透明である限り、本発明の赤外線反射基体の範疇に含まれる。

以下に実施例を掲げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。以下、「部」又は「％」は特記ない限り、それぞれ「重量部」又は「重量％」を意味する。

＜導電性ポリマーの導電率の測定＞
以下の実施例および比較例で示した導電性ポリマーの導電率は以下の手順で測定した。各導電性ポリマー含有水分散体を、基材上に、ワイヤーバーＮｏ．８（ウエット膜厚１８μｍ）を用いてバーコート法により塗布し、１３０℃で１５分乾燥させることにより、基材上に薄膜を形成した。形成した薄膜について、触針式膜厚測定器で膜厚を測定した。その後、薄膜の表面抵抗率を三菱化学（株）製ロレスタ−ＧＰ（ＭＣＰ−Ｔ６００）で測定した。測定した膜厚と表面抵抗率の値を下記式に代入して導電性ポリマーの導電率を求めた。
導電率（Ｓ／ｃｍ）＝１／｛表面抵抗率（Ω／□）×膜厚（ｃｍ）｝
（実施例１）板ガラス使用例
５０．０ｇのポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合体の水分散体（ヘレウス株式会社製：ＣｌｅｖｉｏｓＰ、導電率０．０９Ｓ／ｃｍ、固形分１．３％）、０．５ｇの界面活性剤（固形分１０％）、０．０５ｇのレベリング剤（固形分１００％）、２ｇの水、および８ｇのエタノールを混合して３０分間撹拌した。得られた混合物を４００メッシュのＳＵＳ製の篩でろ過することで、コーティング剤を調製した。

得られたコーティング剤を、厚み０．７ｍｍの青板ガラス（アドバンスマテリアルテクノロジー株式会社製：ＡＭＴ−８２９２）上に、ワイヤーバーＮｏ．８（ウエット膜厚１８μｍ）を用いてバーコート法により塗布し、１００℃で１分間乾燥させることにより、基体を得た。

（実施例２）板ガラス使用例
実施例１のＣｌｅｖｉｏｓＰの代わりに、同じくポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合体の水分散体であるＣｌｅｖｉｏｓ Ｐ ＨＣ Ｖ４（ヘレウス株式会社製：導電率０．２３Ｓ／ｃｍ、固形分１．２％）を用いた以外は、実施例１と同一の方法にて、基体を得た。

（実施例３）板ガラス使用例
実施例１のＣｌｅｖｉｏｓＰの代わりに、同じくポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合体の水分散体であるＣｌｅｖｉｏｓ ＰＨ１０００（ヘレウス株式会社製：導電率０．４６Ｓ／ｃｍ、固形分１．１％）を用いた以外は、実施例１と同一の方法にて、基体を得た。

（実施例４）ＰＥＴフィルム使用例
５０．０ｇのポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合体の水分散体（ヘレウス株式会社製：Ｃｌｅｖｉｏｓ ＰＨ１０００、導電率０．４６Ｓ／ｃｍ、固形分１．１質量％）、０．５３ｇのポリエステル樹脂水分散体（ナガセケムテックス株式会社製：ガブセンＥＳ−２１０、固形分２５．０質量％）、２．２８ｇのジメチルスルホキシド（東京化成工業株式会社製：純度＞９９．０％）、１．０ｇの界面活性剤（固形分１０％）、０．０５ｇのレベリング剤（固形分１００％）、および１．２５ｇの水を混合して３０分間撹拌した。得られた混合物を４００メッシュのＳＵＳ製の篩でろ過し、コーティング剤を調製した。

得られたコーティング剤を、厚み１８８μｍのＰＥＴフィルム（東レ製：ルミラーＴ６０）上に、ワイヤーバーＮｏ．８（ウエット膜厚１８μｍ）を用いてバーコート法により塗布し、１００℃で１分間乾燥させることにより、基体を得た。

（実施例５）ＰＥＴフィルム使用例
実施例４のワイヤーバーＮｏ．８（ウエット膜厚１８μｍ）の代わりに、ワイヤーバーＮｏ．１６（ウエット膜厚３６μｍ）を用いた以外は、実施例３と同一の方法にて、基体を得た。

（実施例６）ＰＥＴフィルム使用例
５０．０ｇのポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合体の水分散体（ヘレウス株式会社製：Ｃｌｅｖｉｏｓ ＰＨ１０００、導電率０．４６Ｓ／ｃｍ、固形分１．１質量％）、０．５３ｇのポリエステル樹脂水分散体（ナガセケムテックス株式会社製：ガブセンＥＳ−２１０、固形分２５．０質量％）、０．１１ｇのカテキン（東京化成工業株式会社：純度＞９５．０％）、１．０ｇの界面活性剤（固形分１０％）、０．０５ｇのレベリング剤（固形分１００％）、および１．２５ｇの水を混合して３０分間撹拌した。得られた混合物を４００メッシュのＳＵＳ製の篩でろ過し、コーティング剤を調製した。

得られたコーティング剤を、厚み１８８μｍのＰＥＴフィルム（東レ製：ルミラーＴ６０）上に、ワイヤーバーＮｏ．１６（ウエット膜厚３６μｍ）を用いてバーコート法により塗布し、１００℃で１分間乾燥させることにより、基体を得た。

（実施例７）ＰＥＴフィルム使用例
５０．０ｇのポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合体の水分散体（ヘレウス株式会社製：Ｃｌｅｖｉｏｓ ＰＨ１０００、導電率０．４６Ｓ／ｃｍ、固形分１．１質量％）、０．５３ｇのポリエステル樹脂水分散体（ナガセケムテックス株式会社製：ガブセンＥＳ−２１０、固形分２５．０質量％）、０．１１ｇのＤ−（＋）−セロビオース（東京化成工業株式会社）、１．０ｇの界面活性剤（固形分１０％）、０．０５ｇのレベリング剤（固形分１００％）、および１．２５ｇの水を混合して３０分間撹拌した。得られた混合物を４００メッシュのＳＵＳ製の篩でろ過し、コーティング剤を調製した。

得られたコーティング剤を、厚み１８８μｍのＰＥＴフィルム（東レ製：ルミラーＴ６０）上に、ワイヤーバーＮｏ．１６（ウエット膜厚３６μｍ）を用いてバーコート法により塗布し、１００℃で１分間乾燥させることにより、基体を得た。

（実施例８）ＰＥＴフィルム使用例
５０．０ｇのポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合体の水分散体（ヘレウス株式会社製：Ｃｌｅｖｉｏｓ ＰＨ１０００、導電率０．４６Ｓ／ｃｍ、固形分１．１質量％）、０．５３ｇのポリエステル樹脂水分散体（ナガセケムテックス株式会社製：ガブセンＥＳ−２１０、固形分２５．０質量％）、０．１１ｇのＬ−アスコルビン酸（和光純薬工業株式会社）、１．０ｇの界面活性剤（固形分１０％）、０．０５ｇのレベリング剤（固形分１００％）、および１．２５ｇの水を混合して３０分間撹拌した。得られた混合物を４００メッシュのＳＵＳ製の篩でろ過し、コーティング剤を調製した。

得られたコーティング剤を、厚み１８８μｍのＰＥＴフィルム（東レ製：ルミラーＴ６０）上に、ワイヤーバーＮｏ．１６（ウエット膜厚３６μｍ）を用いてバーコート法により塗布し、１００℃で１分間乾燥させることにより、基体を得た。

（実施例９）ＰＥＴフィルム使用例
５０．０ｇのポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合体の水分散体（ヘレウス株式会社製：Ｃｌｅｖｉｏｓ ＰＨ１０００、導電率０．４６Ｓ／ｃｍ、固形分１．１質量％）、０．５３ｇのポリエステル樹脂水分散体（ナガセケムテックス株式会社製：ガブセンＥＳ−２１０、固形分２５．０質量％）、０．１１ｇのヒドロキノン（東京化成工業株式会社）、１．０ｇの界面活性剤（固形分１０％）、０．０５ｇのレベリング剤（固形分１００％）、および１．２５ｇの水を混合して３０分間撹拌した。得られた混合物を４００メッシュのＳＵＳ製の篩でろ過し、コーティング剤を調製した。

得られたコーティング剤を、厚み１８８μｍのＰＥＴフィルム（東レ製：ルミラーＴ６０）上に、ワイヤーバーＮｏ．１６（ウエット膜厚３６μｍ）を用いてバーコート法により塗布し、１００℃で１分間乾燥させることにより、基体を得た。

（実施例１０）ＰＥＴフィルム使用例
０．４４ｇのポリエステル樹脂水分散体（ナガセケムテックス株式会社製：ガブセンＥＳ−２１０、固形分２５．０質量％）を用いた以外には実施例４と同様にコーティング剤を調製した。

得られたコーティング剤を、厚み１８８μｍのＰＥＴフィルム（東レ製：ルミラーＴ６０）上に、ワイヤーバーＮｏ．１６（ウエット膜厚３６μｍ）を用いてバーコート法により塗布し、１００℃で１分間乾燥させることにより、基体を得た。

（実施例１１）ＰＥＴフィルム使用例
４．４ｇのポリエステル樹脂水分散体（ナガセケムテックス株式会社製：ガブセンＥＳ−２１０、固形分２５．０質量％）を用いた以外には実施例４と同様にコーティング剤を調製した。

得られたコーティング剤を、厚み１８８μｍのＰＥＴフィルム（東レ製：ルミラーＴ６０）上に、ワイヤーバーＮｏ．８（ウエット膜厚１８μｍ）を用いてバーコート法により塗布し、１００℃で１分間乾燥させることにより、基体を得た。

（実施例１２）ＰＥＴフィルム使用例
０．００７０ｇのＬ−アスコルビン酸（和光純薬工業株式会社）を用いた以外には実施例８と同様にコーティング剤を調製した。

得られたコーティング剤を、厚み１８８μｍのＰＥＴフィルム（東レ製：ルミラーＴ６０）上に、ワイヤーバーＮｏ．１６（ウエット膜厚３６μｍ）を用いてバーコート法により塗布し、１００℃で１分間乾燥させることにより、基体を得た。

（実施例１３）ＰＥＴフィルム使用例
０．４４ｇのＬ−アスコルビン酸（和光純薬工業株式会社）を用いた以外には実施例８と同様にコーティング剤を調製した。

得られたコーティング剤を、厚み１８８μｍのＰＥＴフィルム（東レ製：ルミラーＴ６０）上に、ワイヤーバーＮｏ．１６（ウエット膜厚３６μｍ）を用いてバーコート法により塗布し、１００℃で１分間乾燥させることにより、基体を得た。

（実施例１４）ＰＥＴフィルム使用例
ポリエステル樹脂水分散体の代わりに、０．３７３ｇのアクリル樹脂系水分散体（日本カーバイド株式会社製：ニカゾールＲＸ−７０１８、固形分３５．５質量％）を用いた以外は実施例４と同様にコーティング剤を調製した。

得られたコーティング剤を、厚み１８８μｍのＰＥＴフィルム（東レ製：ルミラーＴ６０）上に、ワイヤーバーＮｏ．８（ウエット膜厚１８μｍ）を用いてバーコート法により塗布し、１００℃で１分間乾燥させることにより、基体を得た。

（実施例１５）ＰＥＴフィルム使用例
ポリエステル樹脂水分散体の代わりに、０．３７９ｇのウレタン樹脂系水分散体（ＤＩＣ株式会社：ハイドランＷＬＳ−２１３、固形分３５．０質量％）を用いた以外は実施例４と同様にコーティング剤を調製した。

得られたコーティング剤を、厚み１８８μｍのＰＥＴフィルム（東レ製：ルミラーＴ６０）上に、ワイヤーバーＮｏ．８（ウエット膜厚１８μｍ）を用いてバーコート法により塗布し、１００℃で１分間乾燥させることにより、基体を得た。

（実施例１６）ＰＥＴフィルム使用例
ポリエステル樹脂水分散体の代わりに、０．１３３ｇのＰＥＧ４００ジアクリレート（ダイセル・サイテック株式会社：ＥＢＥＣＲＹＬ１１、固形分１００質量％）を用いた以外は実施例４と同様にコーティング剤を調製した。

得られたコーティング剤を、厚み１８８μｍのＰＥＴフィルム（東レ製：ルミラーＴ６０）上に、ワイヤーバーＮｏ．８（ウエット膜厚１８μｍ）を用いてバーコート法により塗布し、１００℃で１分間乾燥させることにより、基体を得た。

（実施例１７）ＰＥＴフィルム使用例
ポリエステル樹脂水分散体の代わりに、０．１３３ｇのウレタンアクリレート（新中村化学株式会社：Ｕ−４ＨＡ、固形分１００質量％）を用いた以外は実施例４と同様にコーティング剤を調製した。

得られたコーティング剤を、厚み１８８μｍのＰＥＴフィルム（東レ製：ルミラーＴ６０）上に、ワイヤーバーＮｏ．８（ウエット膜厚１８μｍ）を用いてバーコート法により塗布し、１００℃で１分間乾燥させることにより、基体を得た。

（比較例１）
厚み０．７ｍｍの青板ガラス（アドバンスマテリアルテクノロジー株式会社製：ＡＭＴ−８２９２）をそのまま基体として測定に供した。

（比較例２）
酸化スズコーティング剤（稀産金属株式会社製：酸化錫ゾル）を用い、厚み０．７ｍｍの青板ガラス（アドバンスマテリアルテクノロジー株式会社製：ＡＭＴ−８２９２）上に、ワイヤーバーＮｏ．８（ウエット膜厚１２μｍ）を用いてバーコート法により塗布し、１００℃で１分間乾燥させることにより、基体を得た。

（比較例３）
比較例２の酸化スズコーティング剤の代わりに、光触媒用酸化チタンコーティング剤（石原産業株式会社製：ＳＴＳ−０１）を用いた以外は、比較例２と同一の方法にて、基体を得た。

（比較例４）
１．０ｇの３，４−エチレンジオキシチオフェン（ヘレウス株式会社製：ＣｌｅｖｉｏｓＭ）、２０ｇのパラトルエンスルホン酸の４０％ブタノール溶液（ヘレウス株式会社製：ＣｌｅｖｉｏｓＣＢ４０）、および１．２５ｇのジメチルスルホキシドを混合して３０分間撹拌した。

得られたコーティング剤を、厚み０．７ｍｍの青板ガラス（アドバンスマテリアルテクノロジー株式会社製：ＡＭＴ−８２９２）上に、ワイヤーバーＮｏ．１６（ウエット膜厚２４μｍ）を用いてバーコート法により塗布し、１００℃で１０分間乾燥させた。得られた薄膜を、十分に蒸留水で濯いで鉄塩を除去することにより、基体を得た。

（比較例５）
厚み１８８μｍのＰＥＴフィルム（東レ製：ルミラーＴ６０）をそのまま基体として測定に供した。

以上の実施例および比較例の基体に対し、以下の方法に基づき各種評価を行なった。

（１）全光線透過率およびヘイズ値
各種基体が示す全光線透過率およびヘイズ値は、ＪＩＳ Ｋ７１５０に従い、ヘイズコンピュータＨＧＭ−２Ｂ（スガ試験機株式会社製）を用いて測定した。

（２）膜厚
基体表面に形成された薄膜の膜厚は、触針式表面形状測定装置Ｄｅｋｔａｋ６Ｍ（株式会社アルバック製）を用いて測定した。

（３）赤外線反射率スペクトル
赤外線反射率スペクトルは、日立分光光度計Ｕ−４１００および５°正反射付属装置（相対）（株式会社日立製作所製）を用い、アルミ蒸着平面鏡をリファレンスとして、赤外線の波長領域を含む波長３００〜３３００ｎｍの範囲で測定した。表１及び各図に示す各比率は、アルミ蒸着平面鏡による反射光の強度に対して測定基体の薄膜表面による反射光の強度の比率を示し、１００％に近いほど、反射特性に優れていることを意味する。

（４）波長３０，０００〜３００，０００ｎｍでの反射率
測定基体の薄膜表面による波長領域３０，０００〜３００，０００ｎｍの遠赤外線の反射率は、Ｄ ａｎｄ Ｓ ＡＥＲＤ（ＤＥＶＩＣＥＳ ＆ ＳＥＲＶＩＣＥＳ ＣＯＭＰＡＮＹ）を用いて測定した。

（５）密着性
基材に対する薄膜の密着性は、ＪＩＳ ５４００に従い、基体表面に形成された薄膜にセロハンテープを接着して、１分間放置後に剥離した後、剥離部分の薄膜剥がれを目視で確認することで下記基準に沿って評価した。
○：８〜１０点
×： ０〜６点
（６）紫外線照射後の反射率の変化量
基体に形成されたコーティング層にユニキュアシステム（ウシオ電機社製 メタルハライドランプ 出力１．５ｋＷ）により紫外線を４５００ｍＪ／ｃｍ^２照射し、紫外線照射前後の波長領域３０，０００〜３００，０００ｎｍの遠赤外線の反射率を、Ｄ ａｎｄ Ｓ ＡＥＲＤ（ＤＥＶＩＣＥＳ ＆ ＳＥＲＶＩＣＥＳ ＣＯＭＰＡＮＹ）を用いて測定した。反射率を測定し、式１）より変化量を算出した。
（試験後の反射率）−（試験前の反射率）・・・・１）
式１）より紫外線照射後の反射率の変化量を算出した。

表１には、各基体における全光線透過率、ヘイズ値、膜厚、および、波長３０００ｎｍでの赤外線反射率、波長領域３０，０００〜３００，０００ｎｍでの赤外線反射率、密着性試験、および耐光性試験の結果を示す。図１−１０には、実施例１〜５および比較例１〜５の各基体における波長３００〜３３００ｎｍの範囲での赤外線反射率スペクトルを示す。

表１及び各図の結果から、実施例１〜１７では、膜厚が薄く、全光線透過率が高いレベルを維持しながら、赤外線反射特性にも優れていることが分かる。特に、ポリ（３，４−二置換チオフェン）とポリ陰イオンとの複合体として導電率が高いものを使用した実施例２〜１７では、赤外線反射特性がより優れている。さらに実施例１〜１７は基材に対する薄膜の密着性の点でも優れていることがわかる。また、酸化防止剤を含む実施例６〜９、１２および１３では十分な耐光性も得られていることがわかる。

一方、比較例１〜３及び５では、十分な赤外線反射特性を示していない。比較例４では、ある程度の赤外線反射特性を発揮しているものの、導電性ポリマーとしてポリ（３，４−二置換チオフェン）とポリ陰イオンとの複合体を使用していないことから、全光線透過率が極めて低くなっている。また、比較例２〜４は密着性の点でも不十分である。

Claims (10)

1. π共役系導電性ポリマーを含有する、赤外線反射膜形成用のコーティング剤。
2. バインダー及び／又は酸化防止剤をさらに含む、赤外線反射膜形成用のコーティング剤。
3. 請求項１又は２記載のコーティング剤を用いて形成される赤外線反射膜。
4. 透明基材と、
   前記透明基材に対し、ポリ（３，４−二置換チオフェン）とポリ陰イオンとの複合体を含有するコーティング剤を塗布して形成された赤外線反射層と、を含み、
   ６０％以上の全光線透過率を示す赤外線反射基体。
5. 前記ポリ陰イオンが、ポリスチレンスルホン酸である、請求項４記載の赤外線反射基体。
6. 前記複合体が０．１５（Ｓ／ｃｍ）以上の導電率を示す、請求項４又は５記載の赤外線反射基体。
7. 前記赤外線反射層は、膜厚が０．５０μｍ以下である、請求項４〜６のいずれかに記載の赤外線反射基体。
8. ７０％以上の全光線透過率を示す請求項４〜７のいずれかに記載の赤外線反射基体。
9. ５°正反射で、アルミ蒸着平面鏡をリファレンスとして前記赤外線反射基体について測定した反射率の値が、波長３０００ｎｍにおいて１５％以上である、請求項４〜８のいずれかに記載の赤外線反射基体。
10. 前記コーティング剤が、バインダー及び／又は酸化防止剤をさらに含む、請求項４〜９のいずれかに記載の赤外線反射基体。

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