JPWO2011021406A1 - 入力装置 - Google Patents

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敏行 茂木
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良平 角田
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Abstract

【課題】 特に、各入力領域の電圧値を従来よりも均一にでき、入力操作性を向上させることができる入力装置を提供することを目的とする。【解決手段】 下部基板26と上部基板27とが対向配置され、各基板26,27は、基材29,31と、各基材29,31の内面に設けられた抵抗層30,32と、各抵抗層30,32の表面に形成された電極層とを有して構成される。前記下部基板26を構成する一対の下部電極層40,41間には、複数のスイッチ入力部22,23が設けられており、各スイッチ入力部22,23は、抵抗層30aの表面に形成された導電層45,46により区分けされている。そして前記下部電極層40,41間に電圧が印加され、各スイッチ入力部22,23の電圧値に基づいて、入力操作した各スイッチ入力部22,23が検知される。【選択図】図4

Description

本発明は、複数の入力領域内が夫々、異なる電圧値に設定され、前記電圧値に基づいて入力操作した各入力領域を判別できる入力装置に関する。
図11は本発明に対する比較例の入力装置2を備える携帯電子機器1の斜視図である。入力装置2は抵抗層式のタッチパネルである。
図11に示すように入力装置2には、筐体3内に配置される液晶表示パネル(図示しない)に対向する位置に液晶表示部4が設けられ、前記液晶表示部4から離れた位置に加飾された複数のスイッチ入力部5,6が設けられる。
入力装置2は、下部基板、上部基板及び加飾フィルム等を有して構成される。
下部基板及び上部基板は、夫々、透明基材と、透明基材の内面に形成されたITO等の抵抗層と、抵抗層の表面に形成された電極層と、を有して構成される。
下部基板と上部基板は高さ方向に対向配置され、下部基板と上部基板の間には空気層が設けられる。
下部基板及び上部基板には夫々一対の前記電極層が設けられるが、下部基板に設けられた一対の電極層の対向方向と、上部基板に設けられた一対の電極層の対向方向とは略直交している。
図12は、下部基板8の部分拡大平面図であり、特にスイッチ入力部5,6の付近のみを示した。
図12に示すように透明基材9の表面(内面)9aには、抵抗層10が形成されている。抵抗層10は、複数のスイッチ入力部5,6の各領域を包含する大きさで形成される。
図12に示すように、抵抗層10の表面には一対の電極層11,12が形成される。
一対の電極層11,12は抵抗層10の端部付近上で図示X方向にて相対向している。
図12に示すように、一対の電極層11,12間に位置する抵抗層10は、レーザトリミングによってスイッチ入力部5の入力領域とスイッチ入力部6の入力領域とに区分けされている。図12にはレーザトリミングによる切断線13,14が図示されている。
図12に示すように、各スイッチ入力部5,6は、一対の電極層11,12の対向方向(X方向)に並設されており、一対の電極層11,12間に電圧を印加すると、切断線13,14により区分けされた各スイッチ入力部5,6の領域内が異なる電圧領域となる。
このため、電圧値に基づいて、入力操作したスイッチ入力部5,6を判別することができる。
特開平10−214145号公報 特開平7−85748号公報 特開平9−27232号公報
しかしながら、図12に示す比較例の構造では、後述の実験結果にも示すように、各スイッチ入力部5,6の領域内では電圧値が夫々、不均一となった。このため、入力感度が場所により変わりやすい等、入力操作性が低下する問題があった。
上記に挙げた各特許文献には、タッチスイッチに関する発明が開示されている。しかしながら、これら特許文献はいずれも、図12のように、抵抗層10の表面に設けられた一対の電極層11,12間が複数のスイッチ入力部(入力領域)5,6に区分けされ、各スイッチ入力部5,6の領域内が異なる電圧値となるように構成されたものではない。
そこで本発明は上記従来の課題を解決するためのものであり、特に、各入力領域内の電圧値を従来よりも均一にでき、入力操作性を向上させることができる入力装置を提供することを目的とする。
本発明における入力装置は、
第1基板と第2基板とが対向配置され、各基板は、基材と、各基材の内面に設けられた抵抗層と、各抵抗層の表面に形成された電極層とを有し、
前記第1基板を構成する一対の第1電極層間には、複数の第1入力領域が設けられており、各第1入力領域は、前記抵抗層の表面に形成された導電層により区分けされており、前記第1電極層間に電圧が印加され、各第1入力領域内の電圧値に基づいて、入力操作した各第1入力領域が検知されることを特徴とするものである。
本発明では、各第1入力領域を、抵抗層の表面に形成された導電層により区分けしており、これにより、第1電極層間に電圧を印加したときに、各第1入力領域内の電圧値を異ならせ、しかも、従来に比べて、各第1入力領域内での電圧値を、夫々均一に近づけることができる。したがって、各第1入力領域を入力操作したときに、入力感度が入力操作場所により変わる等の不具合を抑制でき、従来に比べて入力操作性を向上させることができる。
本発明では、各第1入力領域は、一対の前記第1電極層の対向方向に間隔を空けて配置されていることが好ましい。
また本発明では、各第1入力領域には少なくとも前記導電層が、一対の前記第1電極層間の電圧降下の方向に延出形成されていることが好ましい。これにより、従来に比べて各第1入力領域内での電圧カーブをより効果的に小さくでき、各第1入力領域内での電圧値を、夫々、一定値となるように調整することが可能である。
また本発明では、各第1入力領域の周囲が前記導電層により囲まれていることが好ましい。これにより、より効果的に、各第1入力領域に印加された電圧値を夫々、略均一にできる。
また本発明では、前記導電層は、前記電極層と同じ材質で形成されることが、生産性を向上させることができ、好適である。
また本発明では、前記抵抗層には、各第1入力領域に形成される第1抵抗層と、前記第1抵抗層と連続し、各第1入力領域間に形成される第2抵抗層が形成されており、前記第2抵抗層が前記第1抵抗層よりも高抵抗で形成されていることが好ましい。これにより、一方の第1入力領域内での電圧値と、他方の第1入力領域での電圧値との間に適度な差を簡単かつ適切に設けることが可能になる。
また本発明では、前記抵抗層には、各第1入力領域に形成される第1抵抗層と、前記第1抵抗層と連続し、前記第1電極層と前記第1入力領域との間に形成される第3抵抗層が形成されており、前記第3抵抗層が前記第1抵抗層よりも高抵抗で形成されていることが好ましい。これにより各第1入力領域内での電圧値が所定レベルとなるように適切に調整することが可能になる。
上記発明において、前記第2抵抗層、あるいは、前記第3抵抗層、又は、前記第2抵抗層及び前記第3抵抗層の幅寸法を、前記第1抵抗層の幅寸法よりも小さくすることで高抵抗層を簡単且つ適切に形成できる。
また本発明では、前記第1入力装置とは別に、液晶表示パネルと対向する位置に第2入力領域が設けられ、前記第1電極層は、前記第1入力領域及び前記第2入力領域に対する共通の電極層であることが好ましい。これにより簡単な電極構造にて、複数の第1入力領域と、第2入力領域とを形成することができる。
また本発明では、前記第2基板を構成する一対の第2電極層は、前記第1電極層の対向方向と直交する方向にて対向し、前記第1電極層とともに入力操作した前記第2領域の座標位置を検知する電極層として設けられており、前記第2電極層の一方が、入力操作した各第1入力領域を検知する際の出力電極として機能することが好ましい。これにより、第2入力領域を入力操作した際の座標位置の検知と、入力操作した各第1入力領域の判別とを簡単な検知構造にて実現できる。
本発明の入力装置によれば、従来に比べて、各第1入力領域内の電圧値を、夫々均一に近づけることができ、入力操作性を向上させることができる。
第1実施形態における入力装置(タッチパネル)が組み込まれた携帯電子機器の斜視図、 図1に示すA−A線に沿って切断し矢印方向から見た携帯電子機器の部分拡大縦断面図、 本実施形態における下部基板の平面図、 図3における下部基板の部分拡大平面図、 本実施形態における上部基板の平面図(下部基板と対向する内面を示す)、 図4に示す第1実施形態の入力装置のスイッチ入力部における電圧分布を示す模式図と、スイッチ入力部が設けられた下部電極層間のX方向への位置と電圧との関係を示すシミュレーション実験結果の模式図、 第2実施形態における入力装置の下部基板の部分拡大平面図、 第2実施形態における入力装置の下部電極層間のX方向への位置と電圧との関係を示すシミュレーション実験結果、 (a)は、比較例の入力装置のスイッチ入力部における電圧分布を示す模式図であり、(b)は、スイッチ入力部が設けられた電極層間のX方向への位置と電圧との関係を示すシミュレーション実験結果、 第3実施形態における入力装置の下部基板の部分拡大平面図、 比較例における入力装置(タッチパネル)が組み込まれた携帯電子機器の斜視図、 比較例における下部基板の部分拡大平面図。
図1は第1実施形態における入力装置(タッチパネル)が組み込まれた携帯電子機器の斜視図、図2は図1に示すA−A線に沿って切断し矢印方向から見た携帯電子機器の部分拡大縦断面図、図3は、本実施形態における下部基板の平面図、図4は、図3における下部基板の部分拡大平面図、図5は、本実施形態における上部基板の平面図(下部基板と対向する内面を示す)、を示す。
図1に示す携帯電話等の携帯電子機器20には液晶表示部(第2入力領域)21とスイッチ入力部(第1入力領域)22,23とが設けられ、液晶表示部21及びスイッチ入力部22,23の双方が入力操作可能な入力領域となっている。
図2に示すように、携帯電子機器20は入力装置24と、液晶表示パネル25とを有して構成される。
入力装置24は、下から下部基板(第1基板)26、上部基板(第2基板)27及び加飾フィルム28の順に積層された構成である。
図2に示すように、下部基板26は、下部基材29と、下部基材29の上面(上部基板27と対向する内面)に形成された下部抵抗層30と、下部抵抗層30の表面に形成された下部電極層40,41(第1電極層;図3参照)を有して構成される。
また、図2に示すように、下部基板26と高さ方向にて所定間隔を空けて対向する上部基板27は、上部基材31と、上部基材31の下面(下部基板26と対向する内面)に形成された上部抵抗層32と、上部抵抗層32の表面に形成された一対の上部電極層42,43(第2電極層;図5参照)とを有して構成される。
下部基材29は例えばポリカーボネート樹脂(PC樹脂)等の透明基材で形成され、厚みが0.5〜1.5mm程度で形成される。前記下部基材29は上部基材31より厚くまた剛性が高いことが好適である。
また上部基材31は、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)樹脂等の透明基材であり、厚みが50μm〜300μm程度で形成される。
下部抵抗層30及び上部抵抗層32は、ITO(Indium Tin Oxide)等の透明導電材料で形成され、スパッタや蒸着等で成膜される。
なお図2では、各基材29,31の表面(対向面)は平坦面であるが、干渉縞等の発生を抑制すべく、液晶表示パネル25と対向する部分の前記基材29,31の表面が例えばプリズム形状とされていてもよい。
図2に示す入力装置24は抵抗式タッチパネルの構造であり、下部基板26と上部基板27との間に空気層44が設けられている。なお下部基板26と上部基板27間には前記空気層44を形成するためのスペーサが設けられるが図2では省略した。
図2に示すように上部基板27の上面には加飾フィルム(加飾層)28が貼着されている。加飾フィルム28は、アクリル樹脂やポリ塩化ビニル系樹脂等の樹脂シートを基材として形成されていることが好ましい。加飾フィルム28には、複数の窓部28a,28bが設けられており、一方の窓部28aが図1に示す各スイッチ入力部22,23に形成された文字や記号等の所定形状で形成された透光部であり、他方の窓部28bが図1に示す液晶表示部21の平面形状で形成された透光部である。
図3に示すように例えば下部基板26は、X方向よりもX方向に直交するY方向に長く延出する略長方形である。図3に示すように、液晶表示部21が大きな領域を占めており、液晶表示部21の一方のY側領域にスイッチ入力部22,23が設けられる。ただし、下部基板26の形状や、液晶表示部21の大きさ等は任意に設定される。
また図3に示すように下部抵抗層30の表面に形成された一対の下部電極層40,41は、液晶表示部21のX方向の両側からからスイッチ入力部22,23のX方向の両側にかけてY方向に延出して形成され、下部電極層40,41は、液晶表示部21及びスイッチ入力部22,23の共通の電極層として機能している。
図4の拡大図に示すように、下部基材29の上面に形成された下部抵抗層30は、例えばスイッチ入力部22,23の形成領域に形成された下部抵抗層30aと、液晶表示部21の形成領域に形成された下部抵抗層30bとに分断されている。下部抵抗層30aは、複数あるスイッチ入力部22,23の形成領域に一体に形成されている。また、下部抵抗層30aと下部抵抗層30bとに分断せず一体に下部抵抗層30を構成してもよい。
図4に示すように、一対の下部電極層40,41は、液晶表示部21よりもX方向の外側にはみ出す下部抵抗層30b上に形成され、さらに前記下部電極層40,41は、スイッチ入力部22,23よりもX方向の両側にはみだす下部抵抗層30a,30b上に形成される。
図4に示すように、例えば、下部電極層40,41は下部抵抗層30b上から下部抵抗層30a上にかけて屈曲して形成される。前記下部電極層40,41の下部抵抗層30a上に位置する先端部40a,41aのX方向への間隔は、スイッチ入力部22,23の両端間の間隔よりも若干広く形成される。またこの実施形態では、前記先端部40a,41aのX方向への間隔は下部抵抗層30b上に位置する下部電極層40,41間の間隔に比べて狭くなっている。
図4に示すように、一対の下部電極層40,41の先端部40a,41a間には2つのスイッチ入力部22,23が形成される。各スイッチ入力部22,23は、一対の下部電極層40,41の対向方向であるX方向に所定の間隔を空けて並設されている。
図4に示すように、各スイッチ入力部22,23は、下部抵抗層30aの表面に形成された導電層45,46により区分けされている。
図4に示すように、各スイッチ入力部22,23の周囲は全て、導電層45,46により囲まれていることが好適である。
図5に示すように、上部基板27を構成する上部基材31の下面(下部基板26と対向する内面)の略全面にITO等の上部抵抗層32が形成され、上部抵抗層32の表面に一対の上部電極層42,43が形成されている。
また上部抵抗層32は、レーザトリミングによる切断線53により一部が除去されている。これは、上部電極層42と上部電極層43との間の電気的な絶縁性を確保するためである。
図5に示すように一対の上部電極層42,43の対向方向はY方向であり、下部電極層40,41の対向方向(X方向;図3参照)と直交している。
図5に示すように、上部電極層42は、液晶表示部21よりもX方向の外側にてY方向に延出する配線延出部42aと、液晶表示部21よりもY方向の外側にて配線延出部42aから屈曲して形成された対向部42bとを有して構成される。前記対向部42bは、他方の上部電極層43と液晶表示部21を介してY方向にて対向している。
図5に示すように、対向部42bには、液晶表示部21の外側の位置に、スイッチ入力部22,23の周囲を囲むようにして形成された画定部42cが一体的に形成されている。ただし画定部42cの形成は任意である。
また図5に示す実施形態では、液晶表示部21よりもX方向の外側であって上部電極層42の配線延出部42aと対向してダミー電極層47が形成されている。このダミー電極層47は、図3に示す下部基板26と図5の上部基板27とをスペーサを介して対向させるときに、下部基板26と上部基板27とを平行に対向配置しやすくするために設けられたものである。したがってダミー電極層47の形成は任意である。
また上部抵抗層32には、上部電極層42,43とダミー電極層47との間の電気的な絶縁性を確保するために、レーザトリミングによる切断線54が形成されている。
図3及び図5に示す下部基板26及び上部基板27が図2に示すように空気層44を介して対向配置された状態で、各スイッチ入力部22,23を押圧すると、押圧された箇所では下部抵抗層30aと上部抵抗層32とが接触し、その出力を上部基板27の上部電極層42から取り出すことが出来る。本実施形態では、下部基板26側にて、各スイッチ入力部22,23の領域内が異なる電圧値に設定されているため、一方のスイッチ入力部22を押圧したときと、他方のスイッチ入力部23を押圧したときとで異なる出力値を上部電極層42から得ることができ、前記出力値に基づいて、押圧したスイッチ入力部22,23を判別することが出来る。
図6には、図4に示す第1実施形態の一対の下部電極層40,41間に電圧を印加したときの、各スイッチ入力部22,23の電圧分布の模式図と、下部電極層40,41間のX方向への位置と電圧との関係を示すシミュレーション実験結果の模式図とが示されている。この実験では下部電極層40をグランド側に、下部電極層41をVdd側とした。
図6に示すように、下部電極層41に近いスイッチ入力部23の領域内での電圧値(平均値)は、下部電極層40に近いスイッチ入力部22の領域内での電圧値(平均値)よりも高くなった。しかも、各スイッチ入力部22,23の領域を囲った低抵抗の導電層45,46により各領域内を夫々、適切に同電位化でき、各スイッチ入力部22,23の領域の電圧値が夫々、略均一になることがわかった。また、図6に示すように、スイッチ入力部22とスイッチ入力部23との境付近の領域56で電圧値が急激に変化した。ここで領域56は、図4にも示すように導電層45と導電層46の間の部分に相当する。また領域55は、下部電極層40の下部抵抗層30a上に位置する先端部40aと導電層45との間の部分に相当する。更に、領域57は、下部電極層41の下部抵抗層30a上に位置する先端部41aと導電層46の間の部分に相当する。
図7は、第2実施形態における入力装置の下部基板の部分拡大平面図である。なお図4と同じ部分には同じ符号を付した。また、図7では、見やすくするために、各スイッチ入力部22,23の間隔や下部電極層40の先端部40a,41bとの間隔を図4よりも広げて示すこととした。
図7に示す実施形態では、図4と同様に、各スイッチ入力部22,23の周囲が低抵抗の導電層45,46により囲まれている。
図7に示す実施形態では、例えば、レーザトリミングによる切断線60により、下部抵抗層30aには、各スイッチ入力部22,23の領域に形成された第1抵抗層30a1と、各スイッチ入力部22,23の間に形成された第2抵抗層30a2と、各スイッチ入力部22と各下部電極層40,41との間に形成された第3抵抗層30a3とに画定されている。
図7に示すように、第1抵抗層30a1は、幅寸法T1で形成されている。また、第2抵抗層30a2は、幅寸法T2で形成されている。また、第3抵抗層30a3は、幅寸法T3で形成される。
そして図7に示すように、第2抵抗層30a2の幅寸法T2及び第3抵抗層30a3の幅寸法T3は、第1抵抗層30a1の幅寸法T1より小さくなっている。よって、第2抵抗層30a2及び第3抵抗層30a3の断面積は、第1抵抗層30a1の断面積よりも小さくなっており、第2抵抗層30a2及び第3抵抗層30a3は、第1抵抗層30a1よりも高抵抗となっている。
図8は、図7に示す入力装置の下部電極層40,41間のX方向への位置と電圧との関係を示すシミュレーション実験結果である。図8には、本実施例の実験結果のみならず、レーザトリミング及び導電層を設けない形態における電圧変化についても点線で示した。
図8に示すように、各スイッチ入力部22,23の電圧値を一定値に調整できることがわかった。しかも図8に示すように、各スイッチ入力部22,23の間に形成された第2抵抗層30a2による高抵抗の分圧設定により、スイッチ入力部22における電圧値と、スイッチ入力部23における電圧値とに適度な差を適切且つ容易に設けることが出来る。
また図8に示すように、一方のスイッチ入力部22と下部電極層40との間、及び他方のスイッチ入力部23と下部電極層41との間に夫々設けられた第3抵抗層30a3,30a3による高抵抗の分圧設定により、スイッチ入力部22における電圧レベルと、スイッチ入力部23における電圧レベルとを、夫々所定レベルに適切かつ容易に調整することが可能である。
図8では、入力電圧が1.8Vであり、スイッチ入力部22での電圧値を、入力電圧のちょうど1/3に相当する0.6Vに、及び、スイッチ入力部23での電圧値を、入力電圧のちょうど2/3に相当する1.2Vに、夫々、適切且つ容易に合わせ込むことができる。
本実施形態では、図4に示すように、抵抗層30aの上に、各スイッチ入力部22,23を囲む導電層45,46を設けることで、各スイッチ入力部22,23の電圧値を夫々、均一化することが可能であるが、更に、図7に示すように、各スイッチ入力部22,23の間、及び、各下部電極層40,41と各スイッチ入力部22,23との間に夫々、高抵抗層を設けることで、各スイッチ入力部22,23の電圧値を夫々、所定レベルの電圧値に適切且つ容易に調整することができる。
本実施形態では、図示しない検出回路側で、0.6Vに基づく出力が得られた場合には、スイッチ入力部22を押圧したことを判別し、1.2Vに基づく出力が得られた場合には、スイッチ入力部23を押圧したことを判別する。本実施形態では、スイッチ入力部22のどこを押圧しても0.6Vに基づく出力を得ることができ、スイッチ入力部23のどこを押圧しても1.2Vに基づく出力を得ることができる。このため誤検出や検出ばらつきを抑制でき、検出精度に優れた入力装置を構成できる。
なお、各スイッチ入力部22,23に要求される電圧レベル等によっては、幅細にされた高抵抗からなる第2抵抗層30a2や第3抵抗層30a3を設けない形態もあり得る。
また、第2抵抗層30a2及び第3抵抗層30a3を幅細に形成して高抵抗化する以外の方法(膜厚を薄くしたり、別の材質からなる高抵抗層を設ける等)も除外しないが、幅細にすることが簡単且つ適切に高抵抗化できて好適である。
上記下本実施形態に対し、図9は、図12に示す比較例の構造でのシミュレーション実験結果である。図9(a)は、比較例の入力装置のスイッチ入力部5,6における電圧分布を示す模式図であり、(b)は、一対の電極層11、12間におけるX方向への位置と電圧との関係を示すシミュレーション実験結果である。
図9に示すように、各スイッチ入力部5,6の領域内での電圧値はX方向(下部電極層の対向方向)にむけて徐々に変化しており(電圧カーブが形成される)、夫々の領域にて電圧値が均一でないことがわかった。
以上のように本実施形態では、従来に比べて、各スイッチ入力部22,23の領域内での電圧値を夫々、一定値に設定することが出来る。このため、従来に比べて、各スイッチ入力部22,23の入力操作場所によって入力感度が変わってしまう等の不具合が生じるのを抑制でき、良好な入力操作性を得ることが出来る。
なお液晶表示部21に対して入力操作したときも、下部基板26と上部基板27とが接触すると、下部電極層及び上部電極層から夫々出力を得て、入力操作したX座標及びY座標を検出することが出来る。
本実施形態では図4に示すように各スイッチ入力部22,23の周囲全体が、導電層45,46により囲まれていることが、より効果的に、各スイッチ入力部22,23内を均一な電圧値に設定できて好適である。ただし、導電層45,46により、各スイッチ入力部22,23の周囲の一部を囲むようにして区分けした形態でも従来に比べて各領域内での電圧値の均一性を向上させることができる。例えば、図10に示すように、各スイッチ入力部22,23には少なくとも導電層70,71が、一対の下部電極層40,41間の電圧降下の方向(X方向;図8等参照)に延出形成された形態とすることも出来る。図10に示すように、各導電層70,71はX方向に沿って延出した細長形状で形成される。このような形態によっても、各スイッチ入力部22,23の全域を夫々、導電層70,71により低抵抗で同電位化でき、従来に比べて、各スイッチ入力部22,23を夫々、一定電圧に調整することが出来る。なお図10に示す第3実施形態では、図7と同じ部分については同じ符号を付した。
また、前記導電層45,46は、下部電極層40,41と同じ材質であることが、同じ製造工程で、前記導電層45,46と下部電極層40,41とを形成でき生産性を向上させることができ好適である。下部電極層40,41は、下部抵抗層30よりも抵抗値が低く例えば銀塗膜でスクリーン印刷形成されたものを提示できる。
また本実施形態では、図1に示すようにスイッチ入力部22,23のほかに液晶表示部21が設けられ、しかも図3,図4に示す下部電極層40,41をスイッチ入力部22,23及び液晶表示部21の共通の電極層として使用している。さらに、図5に示す一対の上部電極層42,43は、前記下部電極層40,41の対向方向と直交する方向にて対向し、前記下部電極層40,41とともに入力操作した液晶表示部21の座標位置を検知する電極層として設けられている。そして本実施形態では、一方の上部電極層42を、入力操作した各スイッチ入力部22,23を検知する際の出力電極として用いている。
したがって簡単な電極構造にて、スイッチ入力部22,23と液晶表示部21の双方を機能させることができ、また入力装置24の小型化を促進できる。
また、本実施形態では、図2に示すように、各スイッチ入力部22,23の位置にある下部基材29には導光部50が一体成型されていることが好適である。
図2に示すように導光部50は下部基材29の下面29aから下方向へ突出する形状で形成されている。
図2に示すように、導光部50の下面50aは微細凹凸の反射面51を構成している。
図2に示すように、導光部50の側方にはLED等の光源52が配置される。光源52からの光は導光部50の側面から入射され、入射光は、導光部50の反射面51にて反射されて上方に導かれ、下部基板26、上部基板27及び加飾フィルム28の窓部28aを通過してスイッチ入力部22,23が夫々、照光される。
図2に示す液晶表示パネル25は、反射型、半透過型、及び透過型の別を問わない。また図2に示す液晶表示パネル25は例えば反射型であり、液晶表示パネル25と入力装置24との間にフロントライト(図示しない)が設けられている。
またスイッチ入力部22,23の数は限定されない。スイッチ入力部22,23の数が2より多くてもよい。
上記では、電極層40,41間に位置する各スイッチ入力部22,23を導電層45,46にて区分けした第1基板を、下部基板26として説明したが、前記上部基板27を前記第1基板にしてもよい。ただし、かかる場合、スイッチ入力部22,23の検知の際に上部電極層間に電圧を印加して、出力を下部電極層から取り出す構造とすることが必要である。
20 携帯電子機器
21 液晶表示部
22、23 スイッチ入力部
24 入力装置
25 液晶表示パネル
26 下部基板
27 上部基板
28 加飾フィルム(加飾層)
29 下部基材
30、30a、30b 下部抵抗層
31 上部基材
32 上部抵抗層
40、41 下部電極層
42、43 上部電極層
45、46 導電層
50 導光部
51 反射面
52 光源

Claims (10)

  1. 第1基板と第2基板とが対向配置され、各基板は、基材と、各基材の内面に設けられた抵抗層と、各抵抗層の表面に形成された電極層とを有し、
    前記第1基板を構成する一対の第1電極層間には、複数の第1入力領域が設けられており、各第1入力領域は、前記抵抗層の表面に形成された導電層により区分けされており、前記第1電極層間に電圧が印加され、各第1入力領域内の電圧値に基づいて、入力操作した各第1入力領域が検知されることを特徴とする入力装置。
  2. 各第1入力領域は、一対の前記第1電極層の対向方向に間隔を空けて配置されている請求項1記載の入力装置。
  3. 各第1入力領域には少なくとも前記導電層が、一対の前記第1電極層間の電圧降下の方向に延出形成されている請求項1又は2に記載の入力装置。
  4. 各第1入力領域の周囲が前記導電層により囲まれている請求項1ないし3のいずれか1項に記載の入力装置。
  5. 前記導電層は、前記電極層と同じ材質で形成される請求項1ないし4のいずれか1項に記載の入力装置。
  6. 前記抵抗層には、各第1入力領域に形成される第1抵抗層と、前記第1抵抗層と連続し、各第1入力領域間に形成される第2抵抗層が形成されており、前記第2抵抗層が前記第1抵抗層よりも高抵抗で形成されている請求項1ないし5のいずれか1項に記載の入力装置。
  7. 前記抵抗層には、各第1入力領域に形成される第1抵抗層と、前記第1抵抗層と連続し、前記第1電極層と前記第1入力領域との間に形成される第3抵抗層が形成されており、前記第3抵抗層が前記第1抵抗層よりも高抵抗で形成されている請求項1ないし6のいずれか1項に記載の入力装置。
  8. 前記第2抵抗層、あるいは、前記第3抵抗層、又は、前記第2抵抗層及び前記第3抵抗層の幅寸法は、前記第1抵抗層の幅寸法よりも小さい請求項6又は7に記載の入力装置。
  9. 前記第1入力領域とは別に、液晶表示パネルと対向する位置に第2入力領域が設けられ、前記第1電極層は、前記第1入力領域及び前記第2入力領域に対する共通の電極層である請求項1ないし8のいずれか1項に記載の入力装置。
  10. 前記第2基板を構成する一対の第2電極層は、前記第1電極層の対向方向と直交する方向にて対向し、前記第1電極層とともに入力操作した前記第2領域の座標位置を検知する電極層として設けられており、前記第2電極層の一方が、入力操作した各第1入力領域を検知する際の出力電極として機能する請求項9記載の入力装置。
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