JPWO2010064659A1 - 化成処理用組成物および防錆皮膜を備える部材の製造方法 - Google Patents
化成処理用組成物および防錆皮膜を備える部材の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2010064659A1 JPWO2010064659A1 JP2010525148A JP2010525148A JPWO2010064659A1 JP WO2010064659 A1 JPWO2010064659 A1 JP WO2010064659A1 JP 2010525148 A JP2010525148 A JP 2010525148A JP 2010525148 A JP2010525148 A JP 2010525148A JP WO2010064659 A1 JPWO2010064659 A1 JP WO2010064659A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carboxylic acid
- chemical conversion
- film
- ions
- conversion treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000126 substance Substances 0.000 title claims abstract description 212
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 55
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 title claims description 154
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 20
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title description 37
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title description 36
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims abstract description 172
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 116
- -1 nitrate acid Chemical class 0.000 claims abstract description 108
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 60
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 53
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 53
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 53
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 47
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 42
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 32
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims abstract description 22
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 20
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 17
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims abstract description 11
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 75
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 68
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 claims description 64
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Natural products OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 62
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 25
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 24
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 18
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 18
- 150000001860 citric acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 9
- 150000001734 carboxylic acid salts Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 34
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 34
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- 239000010408 film Substances 0.000 description 129
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 52
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 49
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 44
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 44
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 25
- 238000001994 activation Methods 0.000 description 20
- 239000002585 base Substances 0.000 description 20
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 18
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 18
- 241001163841 Albugo ipomoeae-panduratae Species 0.000 description 16
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 14
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 13
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000000047 product Substances 0.000 description 12
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 11
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 10
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 10
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 9
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 9
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 9
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 8
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 7
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 7
- SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N N-Methylmorpholine Chemical compound CN1CCOCC1 SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 5
- 238000006757 chemical reactions by type Methods 0.000 description 5
- JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N chromium(6+) Chemical compound [Cr+6] JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 5
- 238000007730 finishing process Methods 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001297 Zn alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 4
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 4
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003755 zirconium compounds Chemical class 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 3
- KFZAUHNPPZCSCR-UHFFFAOYSA-N iron zinc Chemical compound [Fe].[Zn] KFZAUHNPPZCSCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QELJHCBNGDEXLD-UHFFFAOYSA-N nickel zinc Chemical compound [Ni].[Zn] QELJHCBNGDEXLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 2
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RXYPXQSKLGGKOL-UHFFFAOYSA-N 1,4-dimethylpiperazine Chemical compound CN1CCN(C)CC1 RXYPXQSKLGGKOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 3-(aminomethyl)-3,5,5-trimethylcyclohexan-1-amine Chemical compound CC1(C)CC(N)CC(C)(CN)C1 RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 2
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 2
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SKCNNQDRNPQEFU-UHFFFAOYSA-N n'-[3-(dimethylamino)propyl]-n,n,n'-trimethylpropane-1,3-diamine Chemical compound CN(C)CCCN(C)CCCN(C)C SKCNNQDRNPQEFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical class [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 2
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N pimelic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- ZSKGQVFRTSEPJT-UHFFFAOYSA-N pyrrole-2-carboxaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CN1 ZSKGQVFRTSEPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N suberic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCC(O)=O TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 2
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 2
- 150000003564 thiocarbonyl compounds Chemical class 0.000 description 2
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N thioglycolic acid Chemical compound OC(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- OERNJTNJEZOPIA-UHFFFAOYSA-N zirconium nitrate Chemical compound [Zr+4].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O OERNJTNJEZOPIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M (3-methylphenyl)methyl-triphenylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC1=CC=CC(C[P+](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UOFGSWVZMUXXIY-UHFFFAOYSA-N 1,5-Diphenyl-3-thiocarbazone Chemical compound C=1C=CC=CC=1N=NC(=S)NNC1=CC=CC=C1 UOFGSWVZMUXXIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSMWYRLQHIXVAP-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylpiperazine Chemical compound CC1CNC(C)CN1 NSMWYRLQHIXVAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHTUMQYGZQYEOZ-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methylpiperazin-1-yl)ethanol Chemical compound CN1CCN(CCO)CC1 QHTUMQYGZQYEOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVOBSBRYQIYZNY-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-aminoethylamino)ethylamino]ethanol Chemical compound NCCNCCNCCO HVOBSBRYQIYZNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBHCABUWWQUMAJ-UHFFFAOYSA-N 2-hydrazinoethanol Chemical compound NNCCO GBHCABUWWQUMAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-4-hydroxybutanoate Chemical compound OCC(N)CC(O)=O BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminocyclohexyl)methyl]cyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)CCC1CC1CCC(N)CC1 DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- SHEHWGUXLCZGQZ-UHFFFAOYSA-N CN(C)C(C)O.NCCC(O)O Chemical compound CN(C)C(C)O.NCCC(O)O SHEHWGUXLCZGQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N Carbamic acid Chemical class NC(O)=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVCPXLWAKNJIKK-UHFFFAOYSA-N Dimexano Chemical compound COC(=S)SSC(=S)OC FVCPXLWAKNJIKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDQAZBWRQCGBEV-UHFFFAOYSA-N Ethylenethiourea Chemical compound S=C1NCCN1 PDQAZBWRQCGBEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- QNAYBMKLOCPYGJ-REOHCLBHSA-N L-alanine Chemical compound C[C@H](N)C(O)=O QNAYBMKLOCPYGJ-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- KFFQABQEJATQAT-UHFFFAOYSA-N N,N'-dibutylthiourea Chemical compound CCCCNC(=S)NCCCC KFFQABQEJATQAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLVIGYVXZHLUHP-UHFFFAOYSA-N N,N'-diethylthiourea Chemical compound CCNC(=S)NCC FLVIGYVXZHLUHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FULZLIGZKMKICU-UHFFFAOYSA-N N-phenylthiourea Chemical compound NC(=S)NC1=CC=CC=C1 FULZLIGZKMKICU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 229910000611 Zinc aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical compound C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZAHJRZBUWYCBM-UHFFFAOYSA-N [1-(aminomethyl)cyclohexyl]methanamine Chemical compound NCC1(CN)CCCCC1 XZAHJRZBUWYCBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 235000004279 alanine Nutrition 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXFVOUUOTHJFPX-UHFFFAOYSA-N alumane;zinc Chemical compound [AlH3].[Zn] HXFVOUUOTHJFPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000007798 antifreeze agent Substances 0.000 description 1
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- MRNZSTMRDWRNNR-UHFFFAOYSA-N bis(hexamethylene)triamine Chemical compound NCCCCCCNCCCCCCN MRNZSTMRDWRNNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical class OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001845 chromium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 238000007739 conversion coating Methods 0.000 description 1
- VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,4-diamine Chemical compound NC1CCC(N)CC1 VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- KEIQPMUPONZJJH-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylmethanediamine Chemical compound C1CCCCC1C(N)(N)C1CCCCC1 KEIQPMUPONZJJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- ZXSBDSGRQIWJPM-UHFFFAOYSA-N dimethylcarbamothioic s-acid Chemical compound CN(C)C(S)=O ZXSBDSGRQIWJPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012971 dimethylpiperazine Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229940093915 gynecological organic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004312 hexamethylene tetramine Substances 0.000 description 1
- 235000010299 hexamethylene tetramine Nutrition 0.000 description 1
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical compound C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKQPCPXONLDCMU-CCEZHUSRSA-N lacidipine Chemical compound CCOC(=O)C1=C(C)NC(C)=C(C(=O)OCC)C1C1=CC=CC=C1\C=C\C(=O)OC(C)(C)C GKQPCPXONLDCMU-CCEZHUSRSA-N 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N lithium metasilicate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])=O PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052912 lithium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Natural products C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- LSHROXHEILXKHM-UHFFFAOYSA-N n'-[2-[2-[2-(2-aminoethylamino)ethylamino]ethylamino]ethyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound NCCNCCNCCNCCNCCN LSHROXHEILXKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJCISEHKQQMVCI-UHFFFAOYSA-N n,n'-bis(2-aminoethyl)-2,2-bis[(2-aminoethylamino)methyl]propane-1,3-diamine Chemical compound NCCNCC(CNCCN)(CNCCN)CNCCN UJCISEHKQQMVCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVKFRMCSXWQSNT-UHFFFAOYSA-N n,n'-dimethylethane-1,2-diamine Chemical compound CNCCNC KVKFRMCSXWQSNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXXWBTOATXBWDR-UHFFFAOYSA-N n,n,n',n'-tetramethylhexane-1,6-diamine Chemical compound CN(C)CCCCCCN(C)C TXXWBTOATXBWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000011112 process operation Methods 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N propylenediamine Chemical compound CC(N)CN AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000002195 soluble material Substances 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010301 surface-oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052713 technetium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- FAGUFWYHJQFNRV-UHFFFAOYSA-N tetraethylenepentamine Chemical compound NCCNCCNCCNCCN FAGUFWYHJQFNRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- NJRXVEJTAYWCQJ-UHFFFAOYSA-N thiomalic acid Chemical compound OC(=O)CC(S)C(O)=O NJRXVEJTAYWCQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003628 tricarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrachloride Chemical compound Cl[Zr](Cl)(Cl)Cl DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- ZXAUZSQITFJWPS-UHFFFAOYSA-J zirconium(4+);disulfate Chemical compound [Zr+4].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O ZXAUZSQITFJWPS-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C22/05—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions
- C23C22/06—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6
- C23C22/48—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6 not containing phosphates, hexavalent chromium compounds, fluorides or complex fluorides, molybdates, tungstates, vanadates or oxalates
- C23C22/53—Treatment of zinc or alloys based thereon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C22/05—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions
- C23C22/06—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6
- C23C22/40—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6 containing molybdates, tungstates or vanadates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
Abstract
Description
本発明は一態様として次の組成物を提供する。すなわち、金属表面への防錆皮膜の形成に使用される反応型化成処理用のクロムフリーの酸性液状組成物であって、硝酸イオンおよび過酸化水素から選ばれた少なくとも一種の酸化性物質;カルボン酸、カルボン酸イオン、カルボン酸塩およびカルボン酸誘導体からなる群から選ばれた少なくとも一種のカルボン酸化合物;少なくとも一種のアルミニウム含有物質;少なくとも一種のジルコニウム含有物質;ならびに硫酸イオンを含有し、有機造膜成分を実質的に含有しない組成物。
上記の組成物におけるカルボン酸化合物が、多価カルボン酸、多価カルボン酸イオン、多価カルボン酸塩および多価カルボン酸誘導体からなる群から選ばれた少なくとも一種の多価カルボン酸化合物を備えてもよい。
本発明は、さらに別の一態様として、金属表面への防錆皮膜の形成に使用される反応型化成処理用組成物を製造するためのクロムフリー液状組成物を提供する。その液状組成物は、全組成物に対して、硝酸イオンおよび過酸化水素から選ばれた一種以上の酸化性物質を6.0〜660g/L;クエン酸、クエン酸イオン、クエン酸塩およびクエン酸誘導体からなる群から選ばれた少なくとも一種のクエン酸化合物をクエン酸換算で3.0〜660g/L;少なくとも一種のアルミニウム含有物質をアルミニウム換算で1.25〜140g/L;少なくとも一種のジルコニウム含有物質をジルコニウム換算で4.5〜460g/L;ならびに硫酸イオンを2.25〜800g/L含有する。
本発明に係る反応型の化成処理液は、クロムフリーの酸性液状組成物であって、硝酸イオンおよび過酸化水素から選ばれた少なくとも一種の酸化性物質;カルボン酸、カルボン酸イオン、カルボン酸塩およびカルボン酸誘導体からなる群から選ばれた少なくとも一種のカルボン酸化合物;少なくとも一種のアルミニウム含有物質;少なくとも一種のジルコニウム含有物質;ならびに硫酸イオンを含有し、有機造膜成分を実質的に含有しない。
また、全処理液に対して、酸化性物質を1.2〜33.0g/L、クエン酸化合物をクエン酸換算で0.6〜33.0g/L、アルミニウム含有物質をアルミニウム換算で0.25〜7.0g/L、ジルコニウム含有物質をジルコニウム換算で0.9〜23.0g/L、および硫酸イオンを0.45〜40.0g/L含有することが好ましい。
1.化成処理液の組成
(1)アルミニウム含有物質
本発明に係る化成処理液は少なくとも一種のアルミニウム含有物質を含有する。アルミニウム含有物質は、アルミニウムイオン(Al3+)およびこれを含有する水溶性物質からなる群から選ばれる。アルミニウムイオンを含有する水溶性物質として、本発明に係る化成処理液は酸性であるから、Al[H2O]6 3+、アルミニウムイオンとカルボン酸化合物との配位化合物などが例示される。
本発明に係る化成処理液は少なくとも一種のジルコニウム含有物質を含有する。ジルコニウム含有物質は、ジルコニウムイオンおよびこれを含有する水溶性物質からなる群から選ばれる。ジルコニウムイオンを含有する水溶性物質として、ジルコニウムイオンとカルボン酸化合物との配位化合物が例示される。
本発明に係る化成処理液は、少なくとも一種の酸化性物質を含有する。酸化性物質は硝酸イオンおよび過酸化水素から選ばれる。酸化性物質の機能は明確ではない。その酸化性により処理表面の金属、例えば亜鉛を溶出させて防錆皮膜の形成を促進する作用を果たしているものと考えられる。酸化性物質の含有量は特に限定されない。その含有量が過度に低い場合には上記の機能が現れず皮膜の形成が進行しにくくなる。その含有量が過度に多い場合には処理表面の表面粗さが著しく低下したり化成処理液の安定性が著しく損なわれたりする。したがって、酸化性物質の含有量は0.1〜800g/Lとすることが好ましく、1.0〜635g/Lとすればさらに好ましい。特に、酸化性物質の含有量を1.2〜33.0g/Lとすれば、優れた特性の防錆皮膜を安定的に得ることが実現される。さらに、生産コストを低減するとともに生産性を高める観点も考慮すれば、酸化性物質の含有量を5.0〜15.0g/Lとすることが好ましい。
本発明に係る化成処理液は硫酸イオンを含有する。この硫酸イオンは、アルミニウム含有物質およびジルコニウム含有物質を安定化させているものと推測される。硫酸イオンの含有量は特に限定されない。その含有量が過度に低い場合には上記の機能が現れず皮膜の形成が進行しにくくなる。その含有量が過度に多い場合には処理表面の表面粗さが著しく低下したり化成処理液の安定性が著しく損なわれたりする。したがって、硫酸イオンの含有量は0.01〜1000g/Lとすることが好ましく、0.30〜790g/Lとすればさらに好ましい。特に、硫酸イオンの含有量を0.45〜40.0g/Lとすれば、優れた特性の防錆皮膜を安定的に得ることが実現される。さらに、生産コストを低減するとともに生産性を高める観点も考慮すれば、硫酸イオンの含有量を7.0〜12.0g/Lとすることが好ましい。
本発明に係る化成処理液はカルボン酸化合物を含有する。カルボン酸化合物は、カルボキシル基(−COOH)を有する化合物であるカルボン酸、カルボン酸におけるカルボキシル基からプロトンが脱離したカルボン酸イオン、カルボン酸イオンを含む塩、ならびに加水分解などによりカルボン酸および/またはカルボン酸イオンを生成することが可能な化合物、すなわちカルボン酸誘導体からなる群から選ばれる。カルボン酸誘導体を例示すれば、エステル、酸無水物、アミド、酸ハロゲン化物およびニトリル、ならびに、カルボン酸、カルボン酸イオンおよび/または上記に例示されるカルボン酸誘導体を含む錯体が挙げられる。
多価カルボン酸化合物は、多価カルボン酸、多価カルボン酸イオン、多価カルボン酸塩および多価カルボン酸誘導体からなる群から選ばれる。多価カルボン酸化合物の具体例として、シュウ酸およびトリカルバミル酸が挙げられる。
カルボン酸化合物は一種の化合物のみで構成されていてもよいし、複数種類で構成されていてもよい。
本発明に係る化成処理液は、上記の物質に加え、水溶性金属含有物質を造膜成分として含有してもよい。
アミンとしては、トリエチルアミン(TEA)、N,N’−ジメチルシクロヘキシルアミン(DMEDA)などのモノアミン;エチレンジアミン(EDA)、1,2−プロパンジアミン、1,6−ヘキサメチレンジアミン、ピペラジン、2,5−ジメチルピペラジン、イソホロンジアミン、4,4’−ジシクロヘキシルジアミン、3,3’−ジメチル−4,4’−ジシクロヘキシルメタンジアミン、1,4−シクロヘキサンシクロヘキサンジアミンN,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン(TMEDA)、N,N,N’,N’−テトラメチルヘキサン−1,6−ジアミン(TMHMDA)などのジアミン;ジエチレントリアミン、ジプロピレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、テトラプロピレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン、ノナエチレンデカミン、トリメチルヘキサメチレンジアミン、テトラ(アミノメチル)メタン、テトラキス(2−アミノエチルアミノメチル)メタン、1,3−ビス(2’−アミノエチルアミノ)プロパン、トリエチレン−ビス(トリメチレン)ヘキサミン、ビス(3−アミノエチル)アミン、ビスヘキサメチレントリアミン、1,4−シクロヘキサンジアミン、4,4’−メチレンビスシクロヘキシルアミン、4,4’−イソプロピリデンビスシクロヘキシルアミン、ノルボルナジアミン、ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、ジアミノジシクロヘキシルメタン、イソホロンジアミン、メンセンジアミン、N,N,N’,N’’,N’’−ペンタメチルジプロピレン−トリアミン(PMDPTA)、テトラメチルグアニジン(TMG)などのポリアミン;トリエチレンジアミン(TEDA)、N,N’−ジメチルピペラジン(DMP)、N−メチルモルホリン(NMMO)などの環状アミン;ヒドロキシエチルヒドラジン、ヒドロキシエチルジエチレントリアミン、2−[(2−アミノエチル)アミノ]エタノール、3−アミノプロパンジオールジメチルアミノエタノール(DMEA)、N−メチル−N’−(2−ヒドロキシエチル)−ピペラジン(MHEP)などのアルコールアミンが挙げられる。
有機インヒビターとしては、インヒビターとして公知のもの、例えば、窒素および/またはイオウを含有する複素環式有機化合物、チオカルボニル化合物などを使用することができる。前記複素環式有機化合物の例としては、1,10−フェナントロリン、2,2'−ピピリジル、ジフェニルチオカルバゾン、ピロール−2−カルボキシアルデヒド、ベンゾトリアゾール、8−キシリノール、2−メルカプトベンゾチアゾール、ベンゾイミダゾール等が挙げられる。チオカルボニル化合物の例としては、チオ尿素、1,3−ジエチルチオ尿素、ジメチルチオカルバミン酸、エチレンチオ尿素、フェニルチオ尿素、ジブチルチオ尿素、ジメチルキサントゲンスルフィド、テトラメチルチウラムモノスルフィド等が挙げられる。
インヒビターの添加により、耐食性の向上効果が期待される。
なお、本発明に係る化成処理液は、有機造膜成分を含有しない。有機造膜成分とはいわゆる有機バインダー成分であって、溶媒に対して溶解性または分散性を有するモノマーおよび/またはポリマーから構成される。有機造膜成分は、これを含有する化成処理液が塗布されてなる塗布液層を有する基材を水洗することなく基材を乾燥させて、その塗布液層の溶媒を揮発させることによって、防錆皮膜の構成成分となる。したがって、有機造膜成分は主として塗布型の化成処理液において含有される成分である。これに対し、反応型の化成処理液の場合には、化成処理液に所定時間接触させた基材は水洗される。このため、有機造膜成分は皮膜を形成する前に水洗工程により基材表面から洗い流されてしまう。したがって、反応型の化成処理液に有機造膜成分を含有させても、その成分が防錆皮膜の構成成分となることは実質的に不可能である。したがって、反応型の化成処理液である本発明に係る化成処理液は、有機造膜成分を実質的に含有しない。
本発明に係る化成処理液の溶媒は水を主体とし、含有成分、例えばアミンなどの溶解度を高める観点から、アルコール、エーテル、エステルなど水に対して可溶な有機溶媒を混在させてもよい。有機溶媒の全溶媒に対する比率は特に限定されないが、排水処理のしやすさの観点などから、10質量%以下とすることが好ましい。
本発明に係る防錆皮膜を有する部材を製造するための工程順は次のとおりである(かっこ内は任意工程)。
上記工程順は、従来の反応型クロム化成処理と同様である。また、各処理に用いる処理液は異なるが、処理操作そのものは従来のクロム化成処理と同様である。このため、従来のクロム化成処理のための設備をそのまま用いて実施することができる。なお、活性化処理(およびその後の水洗)と仕上げ処理はいずれも省略可能であるが、いずれも実施することが好ましい。活性化処理は防錆皮膜の均一形成に有効であり、仕上げ処理は耐食性向上に有効である。
(1)活性化処理工程
活性化処理は、基材の金属表面の活性化のための任意の処理液を用いて実施することができる。一般には酸洗により行われる。酸洗は、硝酸、塩酸、硫酸などの無機強酸水溶液を用いて行うことが好ましい。特に好ましいのは、硝酸水溶液である。
化成処理は、活性化処理とその後の水洗の後、乾燥させずに直ちに行うことが好ましいが、乾燥してしまっても、経過時間が短ければ、そのまま化成処理を施すことができる。
(ii)本発明に係る化成処理は基材表面を構成する金属と置換しつつ化成処理液の成分に基づく物質が基材表面に析出する処理(反応型化成処理)であるため、処理時間を過度に長くしても防錆皮膜の厚みは飽和する。
上記の化成処理液に接触させた後の基材の水洗は常法により行えばよい。このように本発明に係る防錆皮膜の製造方法においては、化成処理後に水洗を行うことによって防錆皮膜の形成に直接関与せず部材の表面に残留した化成処理液を除去する。このため、この水洗後の部材を乾燥させることによって得られる本発明に係る防錆皮膜の厚みは、従来技術に係る塗布型の防錆皮膜に比べてはるかに薄く、一般には数〜数百nmの範囲である。このように薄膜であることから、防錆皮膜の厚みはばらつきが少ない。また、防錆皮膜が形成された部材同士が衝突しても皮膜が破壊されにくい。
上記のように、本発明により基材の表面に形成される防錆皮膜は耐食性に優れているが、その上にさらに仕上げの被覆処理を施してもよい。仕上げ処理は、化成処理後の水洗の後、直ちに行うことが好ましいが、防錆皮膜が乾燥した後に行ってもよい。
上記の化成処理後の基材、またはその後にさらに仕上げ処理が行われた場合には、仕上げ処理剤が塗布された基材を、最後に乾燥する。なお、仕上げ処理を行う場合には、化成処理工程後の水洗工程と仕上げ処理工程との間においてさらに乾燥を行ってもよい。
本発明に係る化成処理が行われる基材は、金属表面を有していれば特に制限されない。好ましい素材は金属材であり、特に、亜鉛含有めっきが施された鋼材が特に好ましい。この亜鉛含有めっきの組成は、純亜鉛でもよいし、亜鉛合金でもよい。亜鉛合金の例としては、これらに限られないが、亜鉛−鉄合金、亜鉛−ニッケル合金、亜鉛−アルミニウム合金めっき等が挙げられる。亜鉛合金の亜鉛含有量は50質量%を下回る量(例、Zn−55%Al合金)であってもかまわない。亜鉛含有めっきの厚みは特に制限されないが、寸法精度を要求される場合には、3〜15μm程度の薄膜とすることが好ましい。めっき方法は電気めっきでも溶融めっきでもよく、溶融めっきの場合には合金化処理がめっき後に施されてもよい。
上記の化成処理液の主要成分が5から20倍程度に濃縮された組成を有する液状組成物(以下、「化成処理用濃厚液」という。)を用意すれば、各成分の濃度を個別に調製する手間が省ける上に、保管が容易であるから、好ましい。
1.亜鉛含有めっき材の作製
長さが100mm、ネジ部長さ50mmのM10ボルトおよび対応するナット(いずれもSPCCからなる。)に下記のいずれかの亜鉛含有めっきを電気めっきにより形成することにより、基材としての亜鉛含有めっき材を作製した。なお、電気めっきは、いずれの場合も慣用のバレルめっき法により実施した。
酸性亜鉛めっき液を用いて電気亜鉛めっきを8μm厚に施した。めっき作業はユケン工業(株)製メタスMZ−11プロセスに従って実施した。
共析率が0.4%になるように調整したジンケート亜鉛−鉄合金めっき液を用いて、電気亜鉛−鉄合金めっきを8μm厚に施した。めっき作業はユケン工業(株)製メタスAZプロセスに従って実施した。
共析率が15%になるように調整した亜鉛−ニッケル合金めっき液を用いて、電気亜鉛−ニッケル合金めっきを8μm厚に施した。めっき作業はユケン工業(株)製メタスANT−28プロセスに従って実施した。
本比較例は、従来技術に係るクロムフリー化成処理液を用いた化成処理を例示するためのものである。ただし、本発明例との効果の差異を明確にするため、化成処理後の水洗を全ての比較例において行った。
常温の62.5%硝酸1%(10ml/L)の希硝酸溶液を用意し、亜鉛含有めっき材が入ったバスケットを揺動させながらその溶液に10秒間浸漬することにより行った。
活性化処理後、亜鉛含有めっき材が入ったバスケットを揺動させながら常温の洗浄水に10秒間浸漬することにより亜鉛含有めっき材を水洗した。
化成処理は、表1に示される化成処理液(処理液1から4)を用いて、表2に示される条件で、亜鉛含有めっき材が入ったバスケットを揺動させながら化成処理液に浸漬することにより実施した。なお、表1に記載される化成処理液の組成における金属成分の濃度は、各金属を含有する化合物の金属換算含有量である。
化成処理後の水洗工程では、上記水洗1と同様の処理を化成処理後の亜鉛含有めっき材に対して行った。
水洗工程後の亜鉛含有めっき材をバスケットに入れたまま遠心脱水乾燥器に入れ、設定温度60℃で10分間処理して乾燥を行い、従来技術に係る防錆皮膜を備える部材を得た。
表2または4に示されるいずれかの材料からなるめっき層が電気めっきにより形成された亜鉛含有めっき材各1kgを、樹脂コーティングを施した金属製バスケットに入れ、本発明に従って「活性化→水洗1→化成処理→水洗2→乾燥」の工程順で処理を実施した。各工程の詳細は次のとおりである。
常温の62.5%硝酸1%(10ml/L)の希硝酸溶液を用意し、亜鉛含有めっき材が入ったバスケットを揺動させながらその溶液に10秒間浸漬することにより行った。
活性化処理後、亜鉛含有めっき材が入ったバスケットを揺動させながら常温の洗浄水に10秒間浸漬することにより亜鉛含有めっき材を水洗した。
化成処理は、表1または3に示される化成処理液(処理液5から17)を用いて、表2または4に示される条件で、亜鉛含有めっき材が入ったバスケットを揺動させながら化成処理液に浸漬することにより実施した。なお、表1および3に記載される化成処理液の組成における金属成分の濃度は、各金属を含有する化合物の金属換算含有量である。
化成処理後の水洗工程では、上記水洗1と同様の処理を化成処理後の亜鉛含有めっき材に対して行った。
水洗工程後の亜鉛含有めっき材をバスケットに入れたまま遠心脱水乾燥器に入れ、設定温度60℃で10分間処理して乾燥を行い、本発明に係る防錆皮膜を備える部材を得た。
こうして処理した亜鉛含有めっき部材について、外観、化成処理液の安定性および耐食性を以下のように評価した。
目視により光沢や色調について観察した。
(2)耐食性
防錆皮膜が形成された部材(ボルトおよびナット)をそのままの状態で塩水噴霧試験(JIS−Z−2371)に供し、24時間単位で目視により観察し、白さびの発生が認められたときに、その試験部材の累積塩水噴霧時間を白錆発生時間として、その試験部材の耐食性の指標とした。
i)化成処理液を作製直後に沈殿等の発生および透明度の低下の観点で目視により観察した。判定基準は次のとおりである。
B:液は白濁するが、沈殿の発生は認められない。
C:沈殿の発生が認められる。
B:液は白濁するが、沈殿の発生は認められない。
C:沈殿の発生が認められる。
3.評価結果
試験結果を表5および6にまとめて示す。
Claims (10)
- 金属表面への防錆皮膜の形成に使用される反応型化成処理用のクロムフリー酸性液状組成物であって、
硝酸イオンおよび過酸化水素から選ばれた少なくとも一種の酸化性物質;カルボン酸、カルボン酸イオン、カルボン酸塩およびカルボン酸誘導体からなる群から選ばれた少なくとも一種のカルボン酸化合物;少なくとも一種のアルミニウム含有物質;少なくとも一種のジルコニウム含有物質;ならびに硫酸イオンを含有し、有機造膜成分を実質的に含有しない組成物。 - 前記カルボン酸化合物が、多価カルボン酸、多価カルボン酸イオン、多価カルボン酸塩および多価カルボン酸誘導体からなる群から選ばれた少なくとも一種の多価カルボン酸化合物を備える、請求項1記載の組成物。
- 前記カルボン酸化合物が、ヒドロキシ多価カルボン酸、ヒドロキシ多価カルボン酸イオン、ヒドロキシ多価カルボン酸塩およびヒドロキシ多価カルボン酸誘導体からなる群から選ばれた少なくとも一種のヒドロキシ多価カルボン酸化合物を備える、請求項1記載の組成物。
- 前記カルボン酸化合物が、クエン酸、クエン酸イオン、クエン酸塩およびクエン酸誘導体からなる群から選ばれた少なくとも一種のクエン酸化合物を備え、
全組成物に対して、前記酸化性物質を1.2〜33.0g/L、前記クエン酸化合物をクエン酸換算で0.6〜33.0g/L、前記アルミニウム含有物質をアルミニウム換算で0.25〜7.0g/L、前記ジルコニウム含有物質をジルコニウム換算で0.9〜23.0g/L、および硫酸イオンを0.45〜40.0g/L含有する請求項1記載の組成物。 - V,Fe,Cu,Sn,Mo,W,Ce,Co,Ni,Mg,Ca,Mn,およびLiから選ばれた一種または二種以上の元素を含む、少なくとも一種の水溶性金属含有物質をさらに造膜成分として含有する、請求項1記載の組成物。
- 基材の表面上に防錆皮膜を備える部材の製造方法であって、
当該基材は金属表面を有し、
硝酸イオンおよび過酸化水素から選ばれた少なくとも一種の酸化性物質;カルボン酸、カルボン酸イオン、カルボン酸塩およびカルボン酸誘導体からなる群から選ばれた少なくとも一種のカルボン酸化合物;少なくとも一種のアルミニウム含有物質;少なくと一種のもジルコニウム含有物質;ならびに硫酸イオンを含有し、有機化合物からなる造膜成分を実質的に含有しないクロムフリーの酸性液状体からなる組成物を、前記基材の金属表面と接触させる化成処理工程、
当該化成処理工程を経た基材を水洗する水洗工程、
当該水洗工程を経た基材を乾燥する乾燥工程を備える製造方法。 - 前記組成物がV,Fe,Cu,Sn,Mo,W,Ce,Co,Ni,Mg,Ca,Mn,およびLiから選ばれた一種または二種以上の元素を含む、少なくとも一種の水溶性金属含有物質をさらに造膜成分として含有する、請求項6記載の組成物。
- 前記基材が金属材の二次加工品である請求項6記載の方法。
- 請求項6に記載の方法により形成された防錆皮膜を備える部材。
- 金属表面への防錆皮膜の形成に使用される反応型化成処理用組成物を製造するためのクロムフリー液状組成物であって、全組成物に対して、硝酸イオンおよび過酸化水素から選ばれた一種以上の酸化性物質を6.0〜660g/L;クエン酸、クエン酸イオン、クエン酸塩およびクエン酸誘導体からなる群から選ばれた少なくとも一種のクエン酸化合物をクエン酸換算で3.0〜660g/L;少なくとも一種のアルミニウム含有物質をアルミニウム換算で1.25〜140g/L;少なくとも一種のジルコニウム含有物質をジルコニウム換算で4.5〜460g/L;ならびに硫酸イオンを2.25〜800g/L含有する液状体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010525148A JP5594732B2 (ja) | 2008-12-05 | 2009-12-02 | 化成処理用組成物および防錆皮膜を備える部材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008311129 | 2008-12-05 | ||
JP2008311129 | 2008-12-05 | ||
PCT/JP2009/070248 WO2010064659A1 (ja) | 2008-12-05 | 2009-12-02 | 化成処理用組成物および防錆皮膜を備える部材の製造方法 |
JP2010525148A JP5594732B2 (ja) | 2008-12-05 | 2009-12-02 | 化成処理用組成物および防錆皮膜を備える部材の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2010064659A1 true JPWO2010064659A1 (ja) | 2012-05-10 |
JP5594732B2 JP5594732B2 (ja) | 2014-09-24 |
Family
ID=42233306
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010525148A Active JP5594732B2 (ja) | 2008-12-05 | 2009-12-02 | 化成処理用組成物および防錆皮膜を備える部材の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20120018053A1 (ja) |
EP (1) | EP2366811B1 (ja) |
JP (1) | JP5594732B2 (ja) |
CN (1) | CN102239279A (ja) |
WO (1) | WO2010064659A1 (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014024651A1 (ja) * | 2012-08-07 | 2014-02-13 | 関西ペイント株式会社 | 金属表面改質液及び金属表面改質方法 |
UA112024C2 (uk) | 2012-08-29 | 2016-07-11 | Ппг Індастріз Огайо, Інк. | Цирконієві композиції попередньої обробки, які містять молібден, відповідні способи обробки металевих субстратів та відповідні металеві субстрати з покриттям |
US10400337B2 (en) | 2012-08-29 | 2019-09-03 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Zirconium pretreatment compositions containing lithium, associated methods for treating metal substrates, and related coated metal substrates |
JP6216208B2 (ja) * | 2013-10-22 | 2017-10-18 | 日本パーカライジング株式会社 | 塑性加工用非りん化成処理剤、処理液、化成皮膜及び化成皮膜を有する金属材料 |
MX2019001874A (es) | 2016-08-24 | 2019-06-06 | Ppg Ind Ohio Inc | Composicion limpiadora que contiene hierro. |
WO2018045305A1 (en) * | 2016-09-01 | 2018-03-08 | Saint-Gobain Performance Plastics Corporation | Conversion coating and method of making |
JP6850604B2 (ja) * | 2016-12-26 | 2021-03-31 | 日本ペイント・サーフケミカルズ株式会社 | 金属表面処理用組成物および金属表面処理方法 |
CN107058990B (zh) * | 2016-12-30 | 2020-04-14 | 广州天至环保科技有限公司 | 一种水相防锈清洗剂 |
MX2019014278A (es) * | 2017-06-01 | 2021-02-09 | Lumishield Tech Incorporated | Métodos y composiciones para deposición electroquímica de capas ricas en metal en soluciones acuosas. |
CN109440094A (zh) * | 2018-11-15 | 2019-03-08 | 江苏振光电力设备制造有限公司 | 一种无铬钝化剂及在铁塔构件镀锌上的应用 |
US20210301146A1 (en) * | 2018-12-21 | 2021-09-30 | Daiichi Kigenso Kagaku Kogyo Co., Ltd. | Zirconium-containing alcohol solution |
JP7310685B2 (ja) * | 2020-04-02 | 2023-07-19 | トヨタ自動車株式会社 | 耐食性被膜の成膜方法、耐食性被膜が形成された耐食性部材、熱交換器、および燃料電池システム |
CN112795958A (zh) * | 2020-12-30 | 2021-05-14 | 山东富海材料科技有限公司 | 一种彩色钝化镀锌钢板及其制作方法 |
CN114686868B (zh) * | 2022-03-31 | 2024-05-24 | 东莞理工学院 | 一种无铬无磷转化液及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3523383B2 (ja) * | 1995-08-21 | 2004-04-26 | ディップソール株式会社 | 液体防錆皮膜組成物及び防錆皮膜形成方法 |
JP4865139B2 (ja) * | 2000-05-31 | 2012-02-01 | ディップソール株式会社 | Sn−Zn合金めっき上にクロムフリー耐食性皮膜を形成する方法 |
JP2003171778A (ja) * | 2001-12-06 | 2003-06-20 | Nippon Hyomen Kagaku Kk | 金属の保護皮膜形成方法及び金属の保護皮膜 |
TW567242B (en) * | 2002-03-05 | 2003-12-21 | Nihon Parkerizing | Treating liquid for surface treatment of aluminum or magnesium based metal and method of surface treatment |
JP4242827B2 (ja) * | 2004-12-08 | 2009-03-25 | 日本パーカライジング株式会社 | 金属の表面処理用組成物、表面処理用処理液、表面処理方法、及び表面処理金属材料 |
DE102005059314B4 (de) * | 2005-12-09 | 2018-11-22 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Saure, chromfreie wässrige Lösung, deren Konzentrat, und ein Verfahren zur Korrosionsschutzbehandlung von Metalloberflächen |
JP4189884B2 (ja) * | 2006-11-28 | 2008-12-03 | ユケン工業株式会社 | クロムフリー化成処理液および処理方法 |
JP2008174832A (ja) * | 2006-12-20 | 2008-07-31 | Nippon Paint Co Ltd | カチオン電着塗装用金属表面処理液 |
JP2008174807A (ja) * | 2007-01-19 | 2008-07-31 | Nippon Hyomen Kagaku Kk | クロムを含まない金属表面処理液 |
-
2009
- 2009-12-02 JP JP2010525148A patent/JP5594732B2/ja active Active
- 2009-12-02 WO PCT/JP2009/070248 patent/WO2010064659A1/ja active Application Filing
- 2009-12-02 US US13/131,282 patent/US20120018053A1/en not_active Abandoned
- 2009-12-02 EP EP09830425.6A patent/EP2366811B1/en active Active
- 2009-12-02 CN CN2009801484540A patent/CN102239279A/zh active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2010064659A1 (ja) | 2010-06-10 |
EP2366811A1 (en) | 2011-09-21 |
EP2366811B1 (en) | 2013-08-21 |
US20120018053A1 (en) | 2012-01-26 |
EP2366811A4 (en) | 2012-03-07 |
JP5594732B2 (ja) | 2014-09-24 |
CN102239279A (zh) | 2011-11-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5594732B2 (ja) | 化成処理用組成物および防錆皮膜を備える部材の製造方法 | |
US9738790B2 (en) | Process for forming corrosion protection layers on metal surfaces | |
JP4189884B2 (ja) | クロムフリー化成処理液および処理方法 | |
JP5130226B2 (ja) | 亜鉛または亜鉛合金表面を有する加工部品を不動態化するための水性反応溶液及び方法 | |
TWI485288B (zh) | A surface treatment agent, a method for producing a plated steel sheet using the surface treatment agent, and a plated steel sheet | |
JP5370997B2 (ja) | 耐食性積層膜を有する部材、その部材の製造方法、ならびにその部材を製造するための処理液および塗料組成物 | |
JP2007023353A (ja) | 亜鉛系めっき部材のノンクロム反応型化成処理 | |
US20110070429A1 (en) | Corrosion-resistant coating for active metals | |
JP3987633B2 (ja) | 金属の保護皮膜形成用処理剤と形成方法 | |
US20190145009A1 (en) | Conversion coatings for metal surfaces | |
JP5549837B2 (ja) | クロムめっき皮膜の防錆用浸漬処理液及び防錆処理方法 | |
JP6216936B2 (ja) | 反応型化成処理用酸性組成物および化成皮膜をその表面に備える部材の製造方法 | |
JP5605632B2 (ja) | 六価クロムを含まない化成皮膜の仕上げ剤 | |
JP2013249528A (ja) | アルミ変性コロイダルシリカを含有した3価クロム化成処理液 | |
US9915006B2 (en) | Reactive-type chemical conversion treatment composition and production method of member with chemical conversion coated surface | |
CN101519775B (zh) | 环保型无铬封闭电镀锌磷化钢板及其制造方法 | |
JP5090101B2 (ja) | 亜鉛又は亜鉛合金めっき皮膜用の化成処理液及びそれを用いた防食皮膜の形成方法 | |
JP7133889B1 (ja) | 化成処理液および化成皮膜をその表面に備える部材の製造方法 | |
WO2016104703A1 (ja) | 亜鉛又は亜鉛合金基材用3価クロム化成処理液及び化成皮膜 | |
US20220411934A1 (en) | Passivation composition and method for depositing a chromium-comprising passivation layer on a zinc or zinc-nickel coated substrate | |
TWI500813B (zh) | 在金屬表面形成腐蝕保護層之方法 | |
JP4865139B2 (ja) | Sn−Zn合金めっき上にクロムフリー耐食性皮膜を形成する方法 | |
JP5660751B2 (ja) | 亜鉛又は亜鉛合金めっき上にクロムフリー化成皮膜を形成するための化成処理水溶液及びそれより得られたクロムフリー化成皮膜 | |
JP2001335958A (ja) | Sn−Zn合金めっき上に六価クロムフリー耐食性皮膜を形成する方法 | |
WO2022209019A1 (ja) | 化成処理液および化成皮膜をその表面に備える部材の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130206 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130328 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131224 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140224 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140708 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140730 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5594732 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |