JPWO2009125496A1 - 均熱装置 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、実施の形態1の均熱装置の上部平面図である。図2は、図1に示すII−II線に沿う均熱装置の断面図である。以下の実施の形態において、水平方向とは、均熱装置の断面図における左右方向をいい、上下方向とはこれらの図における上下方向をいうものとする。
図3は、実施の形態2の均熱装置の上部平面図である。実施の形態2の均熱装置は、実施の形態1の均熱装置と比較して、内容器2の底面に形成された突起および凹部が図3に示すような形状となっている点で異なっている。
図4は、実施の形態3の均熱装置の上部平面図である。図5は、図4に示すV−V線に沿う均熱装置の断面図である。図4および図5に示すように、実施の形態3の均熱装置は、外容器1と、加熱ブロック16とを備える。外容器1は、加熱ブロック16の周囲を取り囲むように配置されている。
図6は、実施の形態4の均熱装置の上部平面図である。図7は、図6に示すVII−VII線に沿う均熱装置の断面図である。実施の形態4の均熱装置は、実施の形態3の均熱装置と比較して、加熱ブロック16の底面に形成された凹部が図6および図7に示すような形状となっている点で異なっている。
図8は、実施の形態5の均熱装置の上部平面図である。図9は、図8に示すIX−IX線に沿う均熱装置の断面図である。図8および図9に示すように、実施の形態5の均熱装置は、外容器1と、被加熱材料が流動する管路とを備える。外容器1は、管路の周囲を取り囲むように配置されている。均熱装置は、フランジ3を備える。外容器1は、上端部でフランジ3と接合され、外容器1の内部に密閉空間である中空部4が形成されている、容器構造体を形成している。管路は、外容器1の内部に形成された中空部4内に配置されている。
図10は、実施の形態6の均熱装置の断面図である。上記実施の形態1から5では、加熱手段6を外容器1の下部に配置したものについて説明したが、図10に示すように加熱手段6の取り付け位置に対応する外容器1の底部内面側にフィン体22を設けるようにしてもよい。
図11は、実施の形態7の均熱装置の断面図である。上記実施の形態6では、外容器1の底部内面側にフィン体22が形成されている均熱装置について説明したが、図11に示すように、外容器1の底部内面側に沸騰促進体23を配置するようにしてもよい。
図12は、実施の形態8の均熱装置の断面図である。上記実施の形態1から7では、加熱手段6を外容器1の底部の外表面に配置したものについて説明したが、図12に示すようにヒータ収納管24の一端を外容器1の下部に接合し固定するとともに、ヒータ収納管24の他端を外容器1の内部の作動液5に浸漬するように配置してもよい。図12に示すように、実施の形態8では、ヒータ収納管24の内部に、発熱部26を有するヒータ25が収納されており、発熱部26は、ヒータ収納管24の一端から離れて配置されている。
図13は、実施の形態9の均熱装置の断面図である。上記実施の形態8では、外容器1の内部にヒータ収納管24を配置して作動液5を加熱するものについて説明したが、図13に示すようにこのヒータ収納管24の外周表面にフィン体27を形成するようにしてもよい。
図14は、実施の形態10の均熱装置の断面図である。上記実施の形態9では、フィン体27が形成されたヒータ収納管24を外容器1の内部に配置して作動液5を加熱するものについて説明したが、図14に示すようにヒータ収納管24の外周表面に沸騰促進体28を形成するようにしてもよい。
Claims (11)
- 内容器(2)と作動流体が充填される外容器(1)とのそれぞれの上端部を接合して、前記内容器(2)と前記外容器(1)との間に中空部(4)を形成した、容器構造体と、
前記容器構造体の外部から前記内容器(2)の内面に至る材料供給管(12)と、
前記外容器(1)の底部に配置された加熱手段(6)とを備え、
前記内容器(2)の底面には、前記内容器(2)の内部側へ向けて突起する複数個の突起(10,14)と、前記底面が前記突起(10,14)の内方へ窪んだ、気化した作動流体を受け入れ可能な凹部(11,15)と、が形成されている、均熱装置。 - 前記突起(14)は、互いに並行に配列された直方体形状に形成されており、
前記凹部(15)は、前記突起(14)の前記直方体形状の長辺方向に延びる溝形状に形成されている、請求の範囲第1項に記載の均熱装置。 - 前記材料供給管(12)が前記内容器(2)と接続されている位置に対し、前記凹部(11,15)の最深部が上側に位置するように、前記凹部(11,15)は形成されている、請求の範囲第1項および第2項に記載の均熱装置。
- 被加熱材料が流動する流路が形成された加熱ブロック(16)と、作動流体が充填される外容器(1)とを有し、前記加熱ブロック(16)と前記外容器(1)とのそれぞれの上端部を接合して前記加熱ブロック(16)と前記外容器(1)との間に中空部(4)を形成した、容器構造体と、
前記容器構造体の外側と前記加熱ブロック(16)とを連通する材料供給管(12)と、
前記外容器(1)の底部に配置された加熱手段(6)とを備え、
前記流路は、前記材料供給管(12)に接続され水平方向に延びる第一流路(17)と、前記第一流路(17)から分岐し上下方向へ延びる第二流路(19)と、前記第二流路(19)が前記容器構造体の上部表面に開口した開口部(19a)とを含み、
前記加熱ブロック(16)の底面には、前記底面が前記加熱ブロック(16)の内部側へ向けて窪んだ、気化した作動流体を受け入れ可能な複数個の凹部(20)が形成されており、
隣接する前記凹部(20)の間に前記第二流路(19)を配置した、均熱装置。 - 作動流体が充填された密閉空間が内部に形成されている外容器(1)を含む、容器構造体と、
前記外容器(1)の底部に配置された加熱手段(6)と、
被加熱材料が流動する管路とを備え、
前記管路は、
前記容器構造体の外側と内側とを連通する材料供給管(12)と、
前記材料供給管(12)に接続され水平方向に延びる主ヘッダ管(17)と、
前記主ヘッダ管(17)から分岐し水平方向に延びる枝ヘッダ管(18)と、
前記枝ヘッダ管(18)から分岐し前記容器構造体の上部表面へ開口する複数の立上り管(19)とを含む、均熱装置。 - 前記加熱手段(6)は、前記外容器の外表面に熱接触する、請求の範囲第1項、第4項または第5項に記載の均熱装置。
- 前記外容器(1)の底部内面側に、フィン体(22)が形成されている、請求の範囲第1項、第4項または第5項に記載の均熱装置。
- 前記外容器(1)の底部内面側に、沸騰促進体(23)が配置されている、請求の範囲第1項、第4項または第5項に記載の均熱装置。
- 一端が前記外容器(1)に固定され、他端が液体状の作動流体(5)中に浸漬されたヒータ収納管(24)と、
前記ヒータ収納管(24)に収納され、発熱部(26)を有するヒータ(25)とをさらに備え、
前記発熱部(26)は、前記ヒータ収納管(24)の前記外容器(1)に固定された前記一端から離れて配置されている、請求の範囲第1項、第4項または第5項に記載の均熱装置。 - 前記ヒータ収納管(24)の外周面に、フィン体(27)が形成されている、請求の範囲第9項に記載の均熱装置。
- 前記ヒータ収納管(24)の外周面に、沸騰促進体(28)が配置されている、請求の範囲第9項に記載の均熱装置。
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Family Cites Families (24)
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---|---|---|---|---|
US2447789A (en) * | 1945-03-23 | 1948-08-24 | Polaroid Corp | Evaporating crucible for coating apparatus |
US2595527A (en) * | 1947-03-05 | 1952-05-06 | Edward L Kells | Jacketed cooking vessel |
US4052588A (en) * | 1972-07-29 | 1977-10-04 | Nippon Kinzoku Co., Ltd. | Electric heater panel |
EP0084532B1 (en) * | 1981-08-04 | 1985-06-05 | Pozel S.A. | Heating device |
JPS58126517A (ja) * | 1982-01-22 | 1983-07-28 | Stanley Electric Co Ltd | 液晶素子用面状ヒ−タ |
JPS59107074A (ja) * | 1982-12-10 | 1984-06-21 | Ricoh Co Ltd | 真空装置の温度制御装置 |
GB2129018B (en) | 1982-08-30 | 1986-01-29 | Ricoh Kk | Vacuum evaporation apparatus |
JPH0774433B2 (ja) * | 1987-04-27 | 1995-08-09 | 日本電信電話株式会社 | 薄膜成長用蒸着装置 |
JPH0293063A (ja) | 1988-09-30 | 1990-04-03 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 真空蒸発装置用るつぼ |
JP3222518B2 (ja) * | 1991-12-26 | 2001-10-29 | キヤノン株式会社 | 液体原料気化装置および薄膜形成装置 |
US5343012A (en) * | 1992-10-06 | 1994-08-30 | Hardy Walter N | Differentially pumped temperature controller for low pressure thin film fabrication process |
JPH07110455B2 (ja) * | 1992-10-27 | 1995-11-29 | 住友電気工業株式会社 | ウェハ固定装置 |
US5471975A (en) * | 1994-12-09 | 1995-12-05 | Savage Bros. Co. | Gas power plant |
US5553188A (en) * | 1995-02-24 | 1996-09-03 | Mks Instruments, Inc. | Vaporizer and liquid delivery system using same |
JPH09321035A (ja) * | 1996-05-28 | 1997-12-12 | Sony Corp | 薄膜形成原料輸送方法及び薄膜形成原料輸送装置 |
TW415970B (en) | 1997-01-08 | 2000-12-21 | Ebara Corp | Vapor-phase film growth apparatus and gas ejection head |
JPH10226885A (ja) * | 1997-02-17 | 1998-08-25 | Ebara Corp | ガス噴射ヘッド |
JP4004777B2 (ja) * | 2001-11-15 | 2007-11-07 | 株式会社アルバック | 蒸発源 |
DE60305246T2 (de) * | 2002-07-19 | 2006-09-14 | Lg Electronics Inc. | Quelle zur thermischen PVD-Beschichtung für organische elektrolumineszente Schichten |
JP4090039B2 (ja) | 2003-04-16 | 2008-05-28 | トッキ株式会社 | 蒸着装置における蒸発源 |
KR100711885B1 (ko) * | 2005-08-31 | 2007-04-25 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기 증착원 및 이의 가열원 제어방법 |
KR100711886B1 (ko) * | 2005-08-31 | 2007-04-25 | 삼성에스디아이 주식회사 | 무기 증착원 및 이의 가열원 제어방법 |
WO2007034790A1 (ja) | 2005-09-20 | 2007-03-29 | Tohoku University | 成膜装置、蒸発治具、及び、測定方法 |
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