JPWO2009125496A1 - 均熱装置 - Google Patents

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Abstract

この均熱装置は、容器構造体と、材料供給管(12)と、加熱手段(6)とを備える。容器構造体は、内容器(2)と外容器(1)とを有する。外容器(1)には、作動流体が充填される。内容器(2)と外容器(1)とのそれぞれの上端部を接合して、内容器(2)と外容器(1)との間に中空部(4)が形成されている。材料供給管(12)は、容器構造体の外部から内容器(2)の内面に至る。加熱手段(6)は、外容器(1)の底部に配置されている。内容器(2)の底面には、内容器(2)の内部側へ向けて突起する複数個の突起(10)と、底面が突起(10)の内方へ窪んだ、気化した作動流体を受け入れ可能な凹部(11)と、が形成されている。

Description

この発明は、均熱装置に関し、特に、容器内に収容した所定材料の原料を加熱するための均熱装置に関する。
たとえば従来の有機EL(Electro-Luminescence)の製作において、粉体状の有機EL材料を基板に成膜する際、有機EL原料の蒸発装置としては、容器の外部をヒータで加熱して容器内部の有機原料を昇華あるいは溶融蒸発させる加熱方式が、一般に使用されている。このような加熱処理に用いられる従来の装置は、たとえば、特開2004−315898号公報(特許文献1)に開示されている。
図15は、従来の蒸発装置の概略構成説明図である。図15では、材料を収納する容器(ルツボ体)31を外周に配置したヒータ32により加熱するとともに、外周部のヒータ32とは別に、容器31の上部に、加熱補助部33とこれに連設した伝導加熱部34とを含む均熱蓋37を設け、容器31上部の蒸発口35付近の温度を上昇させることを特徴とする、蒸着装置における蒸発源が記載されている。
特開2004−315898号公報
図15に示す従来の蒸発装置は、容器(ルツボ体)31の上部に均熱蓋37を設けて、容器31上部の蒸発口35付近の温度低下により蒸発口35周辺に蒸着材料36が詰まることを防止することを目的とするものである。しかしながら、容器31の外表面をヒータ32で加熱する方式であるために、ヒータ32の接触条件により、蒸着材料が接する容器31の内面に温度分布が生じる。そのため、蒸着材料を容器31の内面にわたり均一温度に保持できないという問題点がある。例えば、特許文献1の実施例において温度上昇曲線が示されているが、容器31の各部の温度上昇は一様ではなく、安定時においても容器31の表面と均熱蓋37との温度差は30℃程度あることが示されている。
また、従来の蒸発装置では、装置各部の温度が安定するまでに時間を要するという問題点がある。たとえば特許文献1の実施例では、温度安定までに3時間以上を要している例が示されている。
また、従来の蒸発装置では蒸着材料の溶融物の内部で温度差が生じるため、材料の蒸発が不均一となる問題があった。すなわち、容器の壁面に接触している材料は速やかに加熱されて蒸発するが、容器壁面から離れた容器中心部の溶融物は温度上昇が遅く、蒸発遅れが生じるとともに、容器内部で材料の溶融物に生じる対流の影響で、溶融物に著しい温度分布が生じる。このように容器内全体にわたり材料の溶融物温度を均一温度に制御することができず、蒸着材料の蒸発量を精度よく制御できないため、高精度の成膜処理に適さないという問題点があった。
この発明は上記のような課題を解決するためになされたものであり、容器内の被加熱材料の温度の均一性を向上させて安定した気化を行なわせる、均熱装置を得ることを目的とする。
この発明の一の局面に係る均熱装置は、容器構造体と、材料供給管と、加熱手段とを備える。容器構造体は、内容器と外容器とを有する。外容器には、作動流体が充填される。内容器と外容器とのそれぞれの上端部を接合して、内容器と外容器との間に中空部が形成されている。材料供給管は、容器構造体の外部から内容器の内面に至る。加熱手段は、外容器の底部に配置されている。内容器の底面には、内容器の内部側へ向けて突起する複数個の突起と、底面が突起の内方へ窪んだ、気化した作動流体を受け入れ可能な凹部と、が形成されている。
この発明の他の局面に係る均熱装置は、容器構造体と、材料供給管と、加熱手段とを備える。容器構造体は、加熱ブロックと外容器とを有する。加熱ブロックには、被加熱材料が流動する流路が形成されている。外容器には、作動流体が充填される。加熱ブロックと外容器とのそれぞれの上端部を接合して、加熱ブロックと外容器との間に中空部が形成されている。材料供給管は、容器構造体の外側と加熱ブロックとを連通する。加熱手段は、外容器の底部に配置されている。被加熱材料の流路は、材料供給管に接続され水平方向に延びる第一流路と、第一流路から分岐し上下方向へ延びる第二流路と、第二流路が容器構造体の上部表面に開口した開口部とを含む。加熱ブロックの底面には、底面が加熱ブロックの内部側へ向けて窪んだ、気化した作動流体を受け入れ可能な複数個の凹部が形成されている。隣接する凹部の間に、第二流路が配置されている。
この発明のさらに他の局面に係る均熱装置は、容器構造体と、加熱手段と、管路とを備える。容器構造体は、外容器を含む。外容器の内部に、作動流体が充填された密閉空間が形成されている。加熱手段は、外容器の底部に配置されている。管路の内部を被加熱材料が流動する。管路は、容器構造体の外側と内側とを連通する、材料供給管を含む。また管路は、材料供給管に接続され、水平方向に延びる、主ヘッダ管を含む。また管路は、主ヘッダ管から分岐し、水平方向に延びる、枝ヘッダ管を含む。また管路は、枝ヘッダ管から分岐し、容器構造体の上部表面へ開口する、複数の立上り管を含む。
この発明によれば、内容器に形成された凹部の内壁面において気体状の作動流体が冷却され凝縮する作用により、内容器が加熱され、加熱された内容器の温度が均一化されている。被加熱材料は、内容器の内部を流れる間に加熱される。内容器の温度が均一化されているために、被加熱材料は一様温度の加熱面で加熱される。したがって、加熱され気化された被加熱材料の温度の均一性を向上させることができ、被加熱材料の気化量を精度よく制御できるので、高精度の成膜処理を行なう蒸着装置に適用できる均熱装置が得られる。
実施の形態1の均熱装置の上部平面図である。 図1に示すII−II線に沿う均熱装置の断面図である。 実施の形態2の均熱装置の上部平面図である。 実施の形態3の均熱装置の上部平面図である。 図4に示すV−V線に沿う均熱装置の断面図である。 実施の形態4の均熱装置の上部平面図である。 図6に示すVII−VII線に沿う均熱装置の断面図である。 実施の形態5の均熱装置の上部平面図である。 図8に示すIX−IX線に沿う均熱装置の断面図である。 実施の形態6の均熱装置の断面図である。 実施の形態7の均熱装置の断面図である。 実施の形態8の均熱装置の断面図である。 実施の形態9の均熱装置の断面図である。 実施の形態10の均熱装置の断面図である。 従来の蒸発装置の概略構成説明図である。
符号の説明
1 外容器、2 内容器、3 フランジ、4 中空部、5 作動液、6 加熱手段、7 蒸気泡、8,9,13 矢印、10,14 突起、11,15,20,21 凹部、12 材料供給管、16 加熱ブロック、17 主ヘッダ管、18 枝ヘッダ管、19 立上り管、19a 開口部、22 フィン体、23 沸騰促進体、24 ヒータ収納管、25 ヒータ、26 発熱部、27 フィン体、28 沸騰促進体。
以下、図面に基づいてこの発明の実施の形態を説明する。なお、以下の図面において同一または相当する部分には同一の参照番号を付し、その説明は繰返さない。
なお、以下に説明する実施の形態において、各々の構成要素は、特に記載がある場合を除き、本発明にとって必ずしも必須のものではない。また、以下の実施の形態において、個数、量などに言及する場合、特に記載がある場合を除き、上記個数などは例示であり、本発明の範囲は必ずしもその個数、量などに限定されない。
(実施の形態1)
図1は、実施の形態1の均熱装置の上部平面図である。図2は、図1に示すII−II線に沿う均熱装置の断面図である。以下の実施の形態において、水平方向とは、均熱装置の断面図における左右方向をいい、上下方向とはこれらの図における上下方向をいうものとする。
図1および図2に示すように、均熱装置は、外容器1と、内容器2とを備える。外容器1は、内容器2の周囲を取り囲むように配置されている。また均熱装置は、フランジ3を備える。外容器1および内容器2は、それぞれの上端部でフランジ3と接合され、内容器2と外容器1との間に密閉空間である中空部4が形成されている、容器構造体を形成している。
内容器2の底面には、内容器2の内部側へ向けて突起する、複数個の突起10が形成されている。突起10は、内容器2の底面から上方に突起するように、形成されている。図1に示すように、突起10は、平面形状が略正方形であるように形成されており、その正方形が内容器2の底面において縦横に複数個ずつ並べられるように配列されている。図1において、隣接する突起10の間の隙間には、内容器2の底面が露出している。
また内容器2の底面には、底面が突起10の内方へ窪んだ、凹部11が形成されている。複数個の突起10の内部に形成された凹部11は、下端が中空部4へ開口する開口部であり、上端が閉じている。つまり凹部11は、貫通していない穴である止まり穴である。凹部11の止まり穴形状の最深部は、凹部11の上端である。凹部11は、穴の径方向に沿う断面の形状が円形状の丸穴であり、深さ方向が直線に沿う直穴である。凹部11の深さ方向は、上下方向に沿っている。
中空部4の内部には、液体状の作動流体である作動液5が充填されている。作動流体は、熱源である加熱手段と内容器2との間で熱を移動させ、内容器2を加熱して目的の温度に制御するために使用される、熱媒体である。作動液5は、使用温度における熱特性および動作圧力(蒸気圧)を考慮の上で選定されるが、200℃以下程度の領域では水が、さらに高温の200℃超400℃以下程度の領域ではダウサム(登録商標)A、ナフタレンなどの高沸点の有機熱媒体が一般に使用される。
作動液5は、中空部4の内部が真空排気された後に、中空部4に充填される。そのため、中空部4の内部には、作動液5が気化した気体状の作動流体が存在する。外容器1と内容器2とを隔てるように中空部4が形成されているために、内容器2から装置外部へ熱が放散されにくい構造となっている。
外容器1の底部には、作動液5を加熱する加熱手段6が配置されている。加熱手段6は、外容器1の下部表面に、熱的に接触して取り付けられている。加熱手段6は、外容器1の外表面に熱接触する。つまり、加熱手段6において発生する熱を、外容器1の底部を介在させて作動液5に十分効率的に伝えることが可能である。
均熱装置はまた、容器構造体の外側と内側とを連通する、材料供給管12を備える。材料供給管12は、容器構造体の外部から導入されており、内容器2の一側面に接合され、内容器2の内面に至る。材料供給管12は、内容器2の底部に接続されている。この均熱装置によって加熱され気化される材料である被加熱材料は、外容器1および内容器2の側面部を貫通して配置されている材料供給管12の内部を流れて、均熱装置内部の内容器2の内側面の底部に供給される。材料供給管12が内容器2と接続されている内容器2の底部に対し、凹部11の最深部が上側に位置するように、凹部11は形成されている。
被加熱材料が管状の材料供給管12の内部を通過するためには、被加熱材料は流動体である必要がある。気化されるべき材料が常温で固体の材料である場合には、材料を加熱溶融させる、または破砕して粉末化した材料を液体に混ぜ合わせスラリーとする、などの方法を用いて、材料の流動性を向上させることにより、材料供給管12内を通過させることができる。
以下、均熱装置の動作について説明する。上記のように構成された実施の形態1の均熱装置において、外容器1の下部に設置された加熱手段6の発熱により、外容器1が加熱される。外容器1が加熱されると、容器構造体の底部の作動液滞留部、すなわち、外容器1と内容器2との間に形成される中空部4の底部に滞留する、作動液5が加熱される。破線矢印8は気体状の作動流体の流れを示し、実線矢印9は液体状の作動流体の流れを示す。
作動液5が加熱されて蒸発すると、作動液5の内部に蒸気泡7が発生する。加熱手段6により加熱され蒸発して気体状となった作動流体の一部は、破線矢印8に示すように、作動液5の液面から内容器2の外部表面へ移動する。内容器2の側面外側へ移動した気体状の作動流体は、内容器2の外部表面に熱を伝えることにより冷却されて、凝縮液化する。内容器2の外側面は、気体状の作動流体が凝縮する凝縮面である。凝縮して液体状となった作動流体は、実線矢印9に示すように、容器構造体の底部の作動液滞留部に自然還流する。
また、気体状の作動流体の一部は、破線矢印8に示すように、作動液5の液面から凹部11の内部へ移動する。凹部11は、気化した作動流体を受け入れ可能であるように、形成されている。凹部11の内部へ移動した気体状の作動流体は、凹部11の内壁面に熱を伝えることにより冷却されて、凝縮液化する。凹部11の内壁面は、気体状の作動流体が凝縮する凝縮面である。凝縮して液体状となった作動流体は、実線矢印9に示すように、同様に容器構造体の底部の作動液滞留部に自然還流する。
このようにして、内容器2の外部表面および内容器2の底面に形成された凹部11の内側表面は、作動流体の蒸発、凝縮作用により加熱される。この加熱によって、内容器2の側面部および突起10の表面が加熱される。
一方、所定材料の被加熱材料は、矢印13に示すように、容器構造体の外部から材料供給管12を経由して内容器2の底部に至り、内容器2に形成された突起10の隙間部分に供給される。被加熱材料は、内容器2の内部を流れるうちに、内容器2の側面部および突起10の側面部から加熱される。つまり、材料供給管12を経由して内容器2の内部へ供給される被加熱材料は、加熱手段6により作動液5が加熱され蒸発した気体状の作動流体と、熱交換することにより加熱される。
内容器2の底面のほぼ全面において、複数の突起10が形成されている。そのため、内容器2の表面の、蒸発した作動流体により熱が与えられ、その熱を被加熱材料へ伝達し得る部分である、伝熱面の面積が増加している。伝熱面の面積が増大しており、内容器2の内部を流れる被加熱材料は、より大きな伝熱面から熱を受ける。そのため、内容器2の内部を流動して加熱される被加熱材料に、温度差が発生することが抑制される。つまり、被加熱材料の温度の均一性を向上させることができる。
また、隣接する2つの突起10の間の隙間である、突起10の壁面間隙間寸法は、2〜3mm程度に形成されている。そのため、内容器2の内部で被加熱材料の溶融物に対流が発生せず、内容器2の内部で被加熱材料の温度むらが発生しないので、壁面間隙間に充填される被加熱材料の温度をより均一化することができる。
内容器2の内部において、被加熱材料が沸点に近い温度に加熱されると、被加熱材料は蒸発して気化される。気体状の被加熱材料は、突起10間の隙間を上昇して、内容器2の外部へ流出する。このようにして、温度分布が抑制され均熱化された、気体状の被加熱材料を得ることができる。
以上説明したように、実施の形態1の均熱装置は、容器構造体と、材料供給管12と、加熱手段6とを備える。容器構造体は、内容器2と外容器1とを有する。外容器1には、作動流体が充填される。内容器2と外容器1とのそれぞれの上端部を接合して、内容器2と外容器1との間に中空部4が形成されている。材料供給管12は、容器構造体の外部から内容器2の内面に至る。加熱手段6は、外容器1の底部に配置されている。内容器2の底面には、内容器2の内部側へ向けて突起する複数個の突起10と、底面が突起10の内方へ窪んだ、気化した作動流体を受け入れ可能な凹部11と、が形成されている。
このようにすれば、内容器2の外表面および内容器2に設けられた凹部11の内壁面において作動流体が凝縮する作用により、内容器2が加熱され、加熱された内容器2の温度の均一性が向上されている。内容器2の内部を流通する間に加熱される被加熱材料は、一様温度の加熱面、すなわち内容器2の側面内側および突起10の表面で加熱されることにより、被加熱材料全体を一様に気化させることができる。そのため、加熱後の被加熱材料の温度を均一化させることができる。また、突起10間の隙間を小さくすることで、内容器2の内部を通過する被加熱材料の溶融物の対流を抑制でき、加熱され気化された被加熱材料の温度の均一性をより向上させることができる。
また、材料供給管12が内容器2と接続されている位置に対し、凹部11の最深部が上側に位置するように、凹部11は形成されている。典型的には、材料供給管12は、内容器2の底部に接続されている。このようにすれば、材料供給管12から供給された被加熱材料の、内容器2の内部における滞留時間をより長くできるとともに、より大きな上下方向の距離分の突起10の表面を被加熱材料が通過する。したがって、被加熱材料は一層大きな伝熱面から熱を受けることができるので、被加熱材料に温度差が発生することが一層抑制され、被加熱材料の温度の均一性を一層向上させることができる。
このようにして、実施の形態1の均熱装置によると、被加熱材料を加熱する内容器2の伝熱面の温度を±1℃以内の温度分布に管理することができ、被加熱材料の温度を精度よく制御して、被加熱材料の気化量を高精度に制御できるので、高精度の成膜処理に適した蒸着装置に適用できる蒸発源が得られる。
さらに、内容器2に形成された多数の突起10の隙間に被加熱材料を分散させて加熱することにより、伝熱面の面積が増大し、被加熱材料を大面積の伝熱面で加熱することができる。そのため、被加熱材料の加熱効率が高くなり、昇温時の熱応答性が大きく改善されるとともに、昇温時の熱エネルギーを最小にすることができるので、熱伝達効率を向上させ省エネルギーに適した均熱装置が得られる。
(実施の形態2)
図3は、実施の形態2の均熱装置の上部平面図である。実施の形態2の均熱装置は、実施の形態1の均熱装置と比較して、内容器2の底面に形成された突起および凹部が図3に示すような形状となっている点で異なっている。
具体的には、実施の形態1では、内容器2の底面から上方に多数の突起10が形成されたものについて述べたが、図3に示すように、内容器2の底面から上方に複数の平面形状が長方形状の突起14を形成し、この突起14の内部に、下端部が中空部4と連通する凹部15を設けるようにしてもよい。つまり、図3に示すように、突起14は、互いに平行に配列された直方体形状に形成されている。凹部15は、突起14の直方体形状の長辺方向に延びる、溝形状に形成されている。
実施の形態1では、被加熱材料が多数の突起10間の隙間を通過する際に、突起10の周りで流れが淀んで被加熱材料が滞留する場合がある。一方、実施の形態2の構成によれば、内容器2の底部に供給される被加熱材料は、突起14の壁面に沿って流れ、突起14の間を一方向に円滑に流動することができる。したがって、被加熱材料を流れ方向に均一に加熱して蒸発させることができるので、さらに高精度の蒸発量制御が可能になる。また、多数の突起10を配置する場合に比べて突起14の本数を減少できるので、加工工数が低減でき、低コストの均熱装置が得られる。
(実施の形態3)
図4は、実施の形態3の均熱装置の上部平面図である。図5は、図4に示すV−V線に沿う均熱装置の断面図である。図4および図5に示すように、実施の形態3の均熱装置は、外容器1と、加熱ブロック16とを備える。外容器1は、加熱ブロック16の周囲を取り囲むように配置されている。
均熱装置は、フランジ3を備える。外容器1および加熱ブロック16は、それぞれの上端部でフランジ3と接合され、加熱ブロック16と外容器1との間に密閉空間である中空部4が形成されている、容器構造体を形成している。図5に示すように、加熱ブロック16はフランジ3の中央開口部に設けられており、加熱ブロック16の周囲をフランジ3と接合させて、加熱ブロック16を外容器1の内部に垂下させている。
実施の形態1と同様に、中空部4の内部には作動液5が充填されており、作動液5は、中空部4の内部が真空排気された後に中空部4に充填される。外容器1の底部には、作動液5を加熱する加熱手段6が配置されている。均熱装置は、容器構造体の外側と加熱ブロック16とを連通する、材料供給管12を備える。
加熱ブロック16の内部には、材料供給管12に接続され水平方向に延びる主ヘッダ管17と、主ヘッダ管17から分岐し水平方向に延びる複数の枝ヘッダ管18と、枝ヘッダ管18から分岐し上下方向へ延びる複数の立上り管19とが加工され形成されている。主ヘッダ管17、枝ヘッダ管18および立上り管19は、加熱ブロック16の内部に形成された穴である。立上り管19の上端部は、加熱ブロック16の上部表面へ開口し、開口部19aを形成する。主ヘッダ管17、枝ヘッダ管18、立上り管19および開口部19aは、被加熱材料が流動する流路に含まれる。
加熱ブロック16の底面には、底面が加熱ブロック16の内部側へ向けて窪んだ、複数個の凹部20が形成されている。凹部20は、下端が中空部4へ開口する開口部であり、上端が閉じている。つまり凹部20は、貫通していない穴である止まり穴である。凹部20の止まり穴形状の最深部は、凹部20の上端である。凹部20は、穴の径方向に沿う断面の形状が円形状の丸穴であり、深さ方向が直線に沿う直穴である。凹部20の深さ方向は、上下方向に沿っている。
凹部20は、立上り管19に干渉しない位置で、加熱ブロック16の下面から上面へ向かって形成されている。凹部20は、立上り管19の間を縫って形成されている。凹部20は、立上り管19の間に、被加熱材料の流路から隔てられて形成されている。図4に示すように、隣接する凹部20が立上り管19を挟むように立上り管19の両側に形成されている。隣接する凹部20の間に、立上り管19が配置されている。
上記のように構成された実施の形態3の均熱装置において、加熱手段6の発熱により外容器1が加熱されると、容器構造体の底部の作動液滞留部に滞留する、作動液5が加熱される。加熱手段6により加熱され蒸発して気体状となった作動流体の一部は、加熱ブロック16の外部表面へ移動する。また、気体状の作動流体の一部は、作動液5の液面から凹部20の内部へ移動する。凹部20は、気化した作動流体を受け入れ可能であるように、形成されている。気体状の作動流体は、加熱ブロック16の外部表面および凹部20の内壁面に熱を伝えることにより冷却されて、凝縮液化する。加熱ブロック16の外部表面および凹部20の内壁面は、気体状の作動流体が凝縮する凝縮面である。凝縮して液体状となった作動流体は、容器構造体の底部の作動液滞留部に自然還流する。
このようにして、加熱ブロック16の外部表面および加熱ブロック16の底面に形成された凹部20の内側表面は、作動流体の蒸発、凝縮作用により加熱される。加熱ブロック16の外部表面および凹部20は、加熱手段6により加熱され蒸発した作動流体が冷却されて凝縮する、凝縮路に含まれる。
一方、所定材料の被加熱材料は、矢印13に示すように、容器構造体の外部から材料供給管12を経由して加熱ブロック16に至り、加熱ブロック16に形成された主ヘッダ管17から枝ヘッダ管18を経由して立上り管19に順次圧送される。被加熱材料は、加熱ブロック16の内部を通過するうちに、加熱ブロック16の側面部および加熱ブロック16の内部に設けられた凹部20の壁面から加熱される。つまり、材料供給管12を経由して加熱ブロック16の内部へ供給される被加熱材料は、加熱手段6により作動液5が加熱され蒸発した気体状の作動流体と、熱交換することにより加熱される。
このとき、立上り管19は、隣接する2つの凹部20の間に形成されている。被加熱材料は、立上り管19の内部を流れるとき、両側に形成されている凹部20から伝熱される。
加熱ブロック16に形成された流路を流動する被加熱材料は、流路を挟むように形成されている、2つの凹部20から伝熱される。流路を流動する被加熱材料は、逆向きの2方向から加熱される。被加熱材料が複数の方向から熱を受けるので、流路の内部を流動する被加熱材料に温度差が発生することが抑制される。つまり、被加熱材料の温度の均一性を向上させることができる。
主ヘッダ管17内の被加熱材料の流速が枝ヘッダ管18内の被加熱材料の流速に対して十分小さくなるように、かつ、枝ヘッダ管18内の被加熱材料の流速が立上り管19内の被加熱材料の流速に対して十分小さくなるように、主ヘッダ管17、枝ヘッダ管18および立上り管19の内径が選定されている。そのため、主ヘッダ管17から分岐して流れる被加熱材料は、複数の枝ヘッダ管18へ均等に流入し、同様に複数の立上り管19へ均等に流入する。つまり、被加熱材料は所定の流路を一定の流れ状態で移動するので、被加熱材料が流路内の特定の一部分に滞留して温度履歴が流路内の各位置で異なるような現象を生じることなく、被加熱材料の温度履歴を均一化し、加熱後の被加熱材料の温度の均一性を向上させることができる。
また、立上り管19を内径2〜3mm程度の小径孔を有する管で構成すれば、立上り管19の内部で被加熱材料の溶融物に対流が発生せず、立上り管19の内部で被加熱材料の温度むらが発生しないので、被加熱材料の温度をより均一化することができる。
加熱ブロック16の内部において、被加熱材料が沸点に近い温度に加熱されると、被加熱材料は蒸発して気化される。気体状の被加熱材料は、開口部19aを経由して加熱ブロック16の外部へ流出する。このようにして、温度分布が抑制され均熱化された、気体状の被加熱材料を得ることができる。
以上説明したように、実施の形態3の均熱装置は、容器構造体と、材料供給管12と、加熱手段6とを備える。容器構造体は、加熱ブロック16と外容器1とを有する。加熱ブロック16には、被加熱材料が流動する流路が形成されている。外容器1には、作動流体が充填される。加熱ブロック16と外容器1とのそれぞれの上端部を接合して、加熱ブロック16と外容器1との間に中空部4が形成されている。
材料供給管12は、容器構造体の外側と加熱ブロック16とを連通する。加熱手段6は、外容器1の底部に配置されている。被加熱材料の流路は、材料供給管12に接続され水平方向に延びる第一流路としての主ヘッダ管17および枝ヘッダ管18と、第一流路から分岐し上下方向へ延びる第二流路としての立上り管19と、第二流路が容器構造体の上部表面に開口した開口部19aとを含む。加熱ブロック16の底面には、底面が加熱ブロック16の内部側へ向けて窪んだ、気化した作動流体を受け入れ可能な複数個の凹部20が形成されている。隣接する凹部20の間に、立上り管19が配置されている。
このようにすれば、加熱ブロック16の外表面および加熱ブロック16に設けられた凹部20の内壁面において作動流体が凝縮する作用により、加熱ブロック16が加熱され、加熱された加熱ブロック16の温度の均一性が向上されている。加熱ブロック16の内部に形成された流路内を流通する間に加熱される被加熱材料は、一様温度の加熱面、すなわち主ヘッダ管17、枝ヘッダ管18および立上り管19の内壁面で加熱されることにより、被加熱材料全体を一様に気化させることができる。そのため、加熱後の被加熱材料の温度を均一化させることができる。
また、材料供給管12と主ヘッダ管17との接続部から開口部19aまで、被加熱材料が連続して流れるように流路が構成されており、被加熱材料が主ヘッダ管17から枝ヘッダ管18を経由して立上り管19に順次送られて加熱される。そのため、被加熱材料の一部が流路の一部で滞留することがなく、被加熱材料の流れが一定となり、被加熱材料の加熱履歴の均一性を向上できる。
また、立上り管19を小径のものとすることで、立上り管19の内部を通過する被加熱材料の溶融物の対流を抑制でき、加熱され気化された被加熱材料の温度の均一性をより向上させることができる。2〜3mm程度の小径の立上り管19を多数設けることで、被加熱材料への伝熱面積を拡大させ、被加熱材料を大面積の伝熱面で加熱することができ、被加熱材料の加熱効率を一層向上することができる。
小径の管路網である流路に被加熱材料を分散させて加熱することにより、伝熱面の面積が増大し、被加熱材料を大面積の伝熱面で加熱することができる。そのため、被加熱材料の加熱効率が高くなり、昇温時の熱応答性が大きく改善されるとともに、昇温時の熱エネルギーを最小にすることができるので、熱伝達効率を向上させ省エネルギーに適した均熱装置が得られる。
(実施の形態4)
図6は、実施の形態4の均熱装置の上部平面図である。図7は、図6に示すVII−VII線に沿う均熱装置の断面図である。実施の形態4の均熱装置は、実施の形態3の均熱装置と比較して、加熱ブロック16の底面に形成された凹部が図6および図7に示すような形状となっている点で異なっている。
具体的には、実施の形態3では、立上り管19に干渉しないように、加熱ブロック16の底面に下端側が中空部4と連通する複数の丸穴形状の凹部20を加工したものについて示したが、図6および図7に示すように、立上り管19に干渉しないように、加熱ブロック16の下面側から内部にかけて、下端部が中空部4と連通する止まり溝形状の凹部21を設けるようにしてもよい。このようにすると、気体状の作動流体が凝縮する凹部21の表面積を増加でき、立上り管19の内部を流れる被加熱材料の加熱量が増加するとともに、加熱ブロック16の熱容量を低減できるので、被加熱材料への加熱効率をさらに向上することができる。
(実施の形態5)
図8は、実施の形態5の均熱装置の上部平面図である。図9は、図8に示すIX−IX線に沿う均熱装置の断面図である。図8および図9に示すように、実施の形態5の均熱装置は、外容器1と、被加熱材料が流動する管路とを備える。外容器1は、管路の周囲を取り囲むように配置されている。均熱装置は、フランジ3を備える。外容器1は、上端部でフランジ3と接合され、外容器1の内部に密閉空間である中空部4が形成されている、容器構造体を形成している。管路は、外容器1の内部に形成された中空部4内に配置されている。
実施の形態1と同様に、中空部4の内部には作動液5が充填されており、作動液5は、中空部4の内部が真空排気された後に中空部4に充填される。外容器1の底部には、作動液5を加熱する加熱手段6が配置されている。均熱装置は、容器構造体の外側と内側とを連通する、材料供給管12を備える。
中空部4の内部には、材料供給管12の一端に接続され水平方向に延びる主ヘッダ管17と、主ヘッダ管17から分岐し水平方向に延びる複数の枝ヘッダ管18と、枝ヘッダ管18から分岐し上下方向へ延び上部に立ち上がる複数の立上り管19とが加工され形成されている。主ヘッダ管17、枝ヘッダ管18および立上り管19は、管状の部材である。立上り管19の上端部は、フランジ3の上部表面へ開口し、開口部19aを形成する。立上り管19の上端部はフランジ3に接続されて、容器構造体の外部に開放されている。材料供給管12、主ヘッダ管17、枝ヘッダ管18、立上り管19および開口部19aは、被加熱材料が流動する管路に含まれる。
上記のように構成された実施の形態5の均熱装置において、加熱手段6の発熱により外容器1が加熱されると、容器構造体の底部の作動液滞留部に滞留する、作動液5が加熱される。加熱手段6により加熱され蒸発して気体状となった作動流体の一部は、管路の表面へ移動する。気体状の作動流体は、管路の表面に熱を伝えることにより冷却されて、凝縮液化する。管路の表面は、気体状の作動流体が凝縮する凝縮面である。凝縮して液体状となった作動流体は、容器構造体の底部の作動液滞留部に自然還流する。このようにして、管路の表面は、作動流体の蒸発、凝縮作用により加熱される。
一方、所定材料の被加熱材料は、矢印13に示すように、容器構造体の外部から材料供給管12を経由して中空部4内部の管路に至り、主ヘッダ管17から枝ヘッダ管18を経由して立上り管19に順次圧送される。被加熱材料は、管路の内部を通過するうちに、管路の壁面から加熱される。つまり、材料供給管12を経由して外容器1の内部へ供給される被加熱材料は、加熱手段6により作動液5が加熱され蒸発した気体状の作動流体と、熱交換することにより加熱される。
主ヘッダ管17内の被加熱材料の流速が枝ヘッダ管18内の被加熱材料の流速に対して十分小さくなるように、かつ、枝ヘッダ管18内の被加熱材料の流速が立上り管19内の被加熱材料の流速に対して十分小さくなるように、主ヘッダ管17、枝ヘッダ管18および立上り管19の内径が選定されている。そのため、主ヘッダ管17から分岐して流れる被加熱材料は、複数の枝ヘッダ管18へ均等に流入し、同様に複数の立上り管19へ均等に流入する。つまり、被加熱材料は所定の流路を一定の流れ状態で移動するので、被加熱材料が流路内の特定の一部分に滞留して温度履歴が流路内の各位置で異なるような現象を生じることなく、被加熱材料の温度履歴を均一化し、加熱後の被加熱材料の温度の均一性を向上させることができる。
また、立上り管19を内径2〜3mm程度の小径管で構成すれば、立上り管19の内部で被加熱材料の溶融物に対流が発生せず、立上り管19の内部で被加熱材料の温度むらが発生しないので、被加熱材料の温度をより均一化することができる。
管路の内部において、被加熱材料が沸点に近い温度に加熱されると、被加熱材料は蒸発して気化される。気体状の被加熱材料は、開口部19aを経由して容器構造体の外部へ流出する。このようにして、温度分布が抑制され均熱化された、気体状の被加熱材料を得ることができる。
以上説明したように、実施の形態5の均熱装置は、容器構造体と、加熱手段6と、管路とを備える。容器構造体は、作動流体が充填された密閉空間が内部に形成されている、外容器1を含む。加熱手段6は、外容器1の底部に配置されている。管路の内部を被加熱材料が流動する。管路は、容器構造体の外側と内側とを連通する、材料供給管12を含む。また管路は、材料供給管12に接続され、水平方向に延びる、主ヘッダ管17を含む。また管路は、主ヘッダ管17から分岐し、水平方向に延びる、枝ヘッダ管18を含む。また管路は、枝ヘッダ管18から分岐し、容器構造体の上部表面へ開口する、複数の立上り管19を含む。
このようにすれば、主ヘッダ管17、枝ヘッダ管18および立上り管19を含む、被加熱材料が流通する管路の全体が、加熱手段6により加熱され蒸発した気体状の作動流体に直接触れる。そのため、作動流体の凝縮作用により管路全体が効率よく加熱されるので、被加熱材料の加熱効率を顕著に向上させることができる。また、均熱装置の構造も大幅に簡素化できる。
管路の外表面において作動流体が凝縮する作用により、管路が加熱され、加熱された管路の温度の均一性が向上されている。管路内を流通する間に加熱される被加熱材料は、一様温度の加熱面、すなわち主ヘッダ管17、枝ヘッダ管18および立上り管19の内壁面で加熱されることにより、被加熱材料全体を一様に気化させることができる。そのため、加熱後の被加熱材料の温度を均一化させることができる。
また、材料供給管12と主ヘッダ管17との接続部から開口部19aまで、被加熱材料が連続して流れるように流路が構成されており、被加熱材料が主ヘッダ管17から枝ヘッダ管18を経由して立上り管19に順次送られて加熱される。そのため、被加熱材料の一部が流路の一部で滞留することがなく、被加熱材料の流れが一定となり、被加熱材料の加熱履歴の均一性を向上できる。
また、立上り管19を小径のものとすることで、立上り管19の内部を通過する被加熱材料の溶融物の対流を抑制でき、加熱され気化された被加熱材料の温度の均一性をより向上させることができる。2〜3mm程度の小径の立上り管19を多数設けることで、被加熱材料への伝熱面積を拡大させ、被加熱材料を大面積の伝熱面で加熱することができ、被加熱材料の加熱効率を一層向上することができる。
小径の管路網に被加熱材料を分散させて加熱することにより、伝熱面の面積が増大し、被加熱材料を大面積の伝熱面で加熱することができる。そのため、被加熱材料の加熱効率が高くなり、昇温時の熱応答性が大きく改善されるとともに、昇温時の熱エネルギーを最小にすることができるので、熱伝達効率を向上させ省エネルギーに適した均熱装置が得られる。
また、材料が流通する主ヘッダ管17、枝ヘッダ管18、立上り管19は、材料の付着防止および表面処理の前処理などのために、内表面の研磨処理を必要とする。実施の形態5の均熱装置の場合は、被加熱材料の流路が管体となるので、市販の磨きパイプで管路を構成することにより、内面仕上げを省略することができる。したがって、被加熱材料の流路の加工工数を大幅に低減でき、低コストの均熱装置を得ることができる。
(実施の形態6)
図10は、実施の形態6の均熱装置の断面図である。上記実施の形態1から5では、加熱手段6を外容器1の下部に配置したものについて説明したが、図10に示すように加熱手段6の取り付け位置に対応する外容器1の底部内面側にフィン体22を設けるようにしてもよい。
このようにすると、作動液5の蒸発面積を拡大できるので、作動液5の沸騰が促進され、均熱装置の熱応答を改善することができる。また、加熱手段6の熱が速やかに外容器1の内部の作動液5に伝達されるので、外容器1の表面温度の上昇が抑えられ、外容器1の加熱手段6近傍の過熱を防止できるとともに、容器構造体から周囲への放熱量も低減されるので、省エネルギーの均熱装置が得られる。
(実施の形態7)
図11は、実施の形態7の均熱装置の断面図である。上記実施の形態6では、外容器1の底部内面側にフィン体22が形成されている均熱装置について説明したが、図11に示すように、外容器1の底部内面側に沸騰促進体23を配置するようにしてもよい。
この沸騰促進体23は、たとえば金属メッシュ、金属粉の焼結体などにより形成される。沸騰促進体23により、作動液5の沸騰が効率よく行なわれるので、蒸発装置の熱応答をさらに改善することができるとともに、加熱手段6で加熱される外容器1の表面温度の上昇をさらに抑制できるので、容器構造体から周囲への放熱量もさらに低減され、一層省エネルギーの均熱装置が得られる。
(実施の形態8)
図12は、実施の形態8の均熱装置の断面図である。上記実施の形態1から7では、加熱手段6を外容器1の底部の外表面に配置したものについて説明したが、図12に示すようにヒータ収納管24の一端を外容器1の下部に接合し固定するとともに、ヒータ収納管24の他端を外容器1の内部の作動液5に浸漬するように配置してもよい。図12に示すように、実施の形態8では、ヒータ収納管24の内部に、発熱部26を有するヒータ25が収納されており、発熱部26は、ヒータ収納管24の一端から離れて配置されている。
このようにすると、作動液5を直接ヒータ収納管24で加熱することができる。また、ヒータ25の発熱部26はヒータ収納管24と外容器1との接合部から離れており、ヒータ25から外容器1への伝熱影響を少なくできるので、外容器1から周囲への放熱を大幅に抑制できる。また、作動液5の蒸発が速やかに行なわれるので、均熱装置の熱応答を大幅に改善することができる。
(実施の形態9)
図13は、実施の形態9の均熱装置の断面図である。上記実施の形態8では、外容器1の内部にヒータ収納管24を配置して作動液5を加熱するものについて説明したが、図13に示すようにこのヒータ収納管24の外周表面にフィン体27を形成するようにしてもよい。
このようにすると、ヒータ25から作動液5への伝熱が一層効率よく行なわれ、作動流体の蒸発がさらに速やかに行なわれるので、均熱装置の熱応答をさらに改善することができる。
(実施の形態10)
図14は、実施の形態10の均熱装置の断面図である。上記実施の形態9では、フィン体27が形成されたヒータ収納管24を外容器1の内部に配置して作動液5を加熱するものについて説明したが、図14に示すようにヒータ収納管24の外周表面に沸騰促進体28を形成するようにしてもよい。
このようにすると、ヒータ25から作動液5への加熱がさらに効率よく行なわれ、作動液5が沸騰促進体28の表面から一層速やかに蒸発するので、均熱装置の熱応答をさらに改善することができる。
上記の一連の実施の形態では、容器構造体の平面形状が四角形状のものについて説明したが、容器構造体の形状は四角形に限定されるものではなく、多角形であっても丸形であってもかまわない。
また、加熱手段6としては、電気ヒータ式、誘導加熱式、温水加熱式または蒸気加熱式などを用いてもよく、加熱方式を限定するものでは無い。
また、材料供給管12が外容器1の側面部を貫通して内容器2または主ヘッダ管17に接続される例を示したが、材料供給管12の経路を限定するものではない。材料供給管12は外容器1の下面から主ヘッダ管17に至るものであっても、フランジ3の中に形成される供給孔を経由して主ヘッダ管17に至るものであってもよく、材料供給管12はどのような経路をとってもよい。
また、被加熱材料の流路に含まれる主ヘッダ管17、枝ヘッダ管18および立上り管19、ならびに、内容器2に形成される凹部11および加熱ブロック16に形成される凹部20の延びる方向に関し、水平方向または上下方向と規定して説明したが、流路および凹部の延びる方向が水平方向または上下方向に対して厳密に平行でなく、傾斜していてもかまわない。また、流路および凹部は、直管または直穴に限られず、屈曲形状や曲線形状を有する管または穴を含んでいてもよい。凹部11,20は断面形状が円形の丸穴に限られず、どのような形状でもよく、たとえば角穴としてもよい。
以上のように本発明の実施の形態について説明を行なったが、各実施の形態の構成を適宜組合せてもよい。また、今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。この発明の範囲は上記した説明ではなくて請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味、および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
この発明は、容器内に収容した所定材料の原料を加熱し、溶融蒸発させて、基板の表面に蒸着材料を成膜処理する蒸着装置の蒸発源として好適である。

Claims (11)

  1. 内容器(2)と作動流体が充填される外容器(1)とのそれぞれの上端部を接合して、前記内容器(2)と前記外容器(1)との間に中空部(4)を形成した、容器構造体と、
    前記容器構造体の外部から前記内容器(2)の内面に至る材料供給管(12)と、
    前記外容器(1)の底部に配置された加熱手段(6)とを備え、
    前記内容器(2)の底面には、前記内容器(2)の内部側へ向けて突起する複数個の突起(10,14)と、前記底面が前記突起(10,14)の内方へ窪んだ、気化した作動流体を受け入れ可能な凹部(11,15)と、が形成されている、均熱装置。
  2. 前記突起(14)は、互いに並行に配列された直方体形状に形成されており、
    前記凹部(15)は、前記突起(14)の前記直方体形状の長辺方向に延びる溝形状に形成されている、請求の範囲第1項に記載の均熱装置。
  3. 前記材料供給管(12)が前記内容器(2)と接続されている位置に対し、前記凹部(11,15)の最深部が上側に位置するように、前記凹部(11,15)は形成されている、請求の範囲第1項および第2項に記載の均熱装置。
  4. 被加熱材料が流動する流路が形成された加熱ブロック(16)と、作動流体が充填される外容器(1)とを有し、前記加熱ブロック(16)と前記外容器(1)とのそれぞれの上端部を接合して前記加熱ブロック(16)と前記外容器(1)との間に中空部(4)を形成した、容器構造体と、
    前記容器構造体の外側と前記加熱ブロック(16)とを連通する材料供給管(12)と、
    前記外容器(1)の底部に配置された加熱手段(6)とを備え、
    前記流路は、前記材料供給管(12)に接続され水平方向に延びる第一流路(17)と、前記第一流路(17)から分岐し上下方向へ延びる第二流路(19)と、前記第二流路(19)が前記容器構造体の上部表面に開口した開口部(19a)とを含み、
    前記加熱ブロック(16)の底面には、前記底面が前記加熱ブロック(16)の内部側へ向けて窪んだ、気化した作動流体を受け入れ可能な複数個の凹部(20)が形成されており、
    隣接する前記凹部(20)の間に前記第二流路(19)を配置した、均熱装置。
  5. 作動流体が充填された密閉空間が内部に形成されている外容器(1)を含む、容器構造体と、
    前記外容器(1)の底部に配置された加熱手段(6)と、
    被加熱材料が流動する管路とを備え、
    前記管路は、
    前記容器構造体の外側と内側とを連通する材料供給管(12)と、
    前記材料供給管(12)に接続され水平方向に延びる主ヘッダ管(17)と、
    前記主ヘッダ管(17)から分岐し水平方向に延びる枝ヘッダ管(18)と、
    前記枝ヘッダ管(18)から分岐し前記容器構造体の上部表面へ開口する複数の立上り管(19)とを含む、均熱装置。
  6. 前記加熱手段(6)は、前記外容器の外表面に熱接触する、請求の範囲第1項、第4項または第5項に記載の均熱装置。
  7. 前記外容器(1)の底部内面側に、フィン体(22)が形成されている、請求の範囲第1項、第4項または第5項に記載の均熱装置。
  8. 前記外容器(1)の底部内面側に、沸騰促進体(23)が配置されている、請求の範囲第1項、第4項または第5項に記載の均熱装置。
  9. 一端が前記外容器(1)に固定され、他端が液体状の作動流体(5)中に浸漬されたヒータ収納管(24)と、
    前記ヒータ収納管(24)に収納され、発熱部(26)を有するヒータ(25)とをさらに備え、
    前記発熱部(26)は、前記ヒータ収納管(24)の前記外容器(1)に固定された前記一端から離れて配置されている、請求の範囲第1項、第4項または第5項に記載の均熱装置。
  10. 前記ヒータ収納管(24)の外周面に、フィン体(27)が形成されている、請求の範囲第9項に記載の均熱装置。
  11. 前記ヒータ収納管(24)の外周面に、沸騰促進体(28)が配置されている、請求の範囲第9項に記載の均熱装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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FR2956411B1 (fr) * 2010-02-16 2012-04-06 Astron Fiamm Safety Systeme de chauffage d'une source de depot en phase vapeur
EP2702184B1 (en) * 2011-04-29 2018-12-05 Applied Materials, Inc. Gas system for reactive deposition process
US9664378B2 (en) * 2013-04-17 2017-05-30 Venkata Sundereswar Rao VEMPATI Energy efficient pressure less steam generator
CN104404451A (zh) * 2014-12-16 2015-03-11 合肥鑫晟光电科技有限公司 蒸镀源和蒸镀装置
US20180135883A1 (en) * 2017-07-11 2018-05-17 Kenneth Stephen Bailey Advanced water heater utilizing arc-flashpoint technology
RU2663705C1 (ru) * 2017-07-26 2018-08-08 Общество с ограниченной ответственностью "Сити Консьерж" Способ формирования информативной пешеходной навигации с мультимедийным сопровождением
CN114345278A (zh) * 2022-01-12 2022-04-15 东营益盟盛药业有限公司 一种易于升温的藜芦醛加工用反应设备
GB2625780A (en) * 2022-12-23 2024-07-03 Mercedes Benz Group Ag In-vehicle beverage maker as well as a vehicle with the in-vehicle beverage maker and method for operating the in-vehicle beverage maker

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2447789A (en) * 1945-03-23 1948-08-24 Polaroid Corp Evaporating crucible for coating apparatus
US2595527A (en) * 1947-03-05 1952-05-06 Edward L Kells Jacketed cooking vessel
US4052588A (en) * 1972-07-29 1977-10-04 Nippon Kinzoku Co., Ltd. Electric heater panel
EP0084532B1 (en) * 1981-08-04 1985-06-05 Pozel S.A. Heating device
JPS58126517A (ja) * 1982-01-22 1983-07-28 Stanley Electric Co Ltd 液晶素子用面状ヒ−タ
JPS59107074A (ja) * 1982-12-10 1984-06-21 Ricoh Co Ltd 真空装置の温度制御装置
GB2129018B (en) 1982-08-30 1986-01-29 Ricoh Kk Vacuum evaporation apparatus
JPH0774433B2 (ja) * 1987-04-27 1995-08-09 日本電信電話株式会社 薄膜成長用蒸着装置
JPH0293063A (ja) 1988-09-30 1990-04-03 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 真空蒸発装置用るつぼ
JP3222518B2 (ja) * 1991-12-26 2001-10-29 キヤノン株式会社 液体原料気化装置および薄膜形成装置
US5343012A (en) * 1992-10-06 1994-08-30 Hardy Walter N Differentially pumped temperature controller for low pressure thin film fabrication process
JPH07110455B2 (ja) * 1992-10-27 1995-11-29 住友電気工業株式会社 ウェハ固定装置
US5471975A (en) * 1994-12-09 1995-12-05 Savage Bros. Co. Gas power plant
US5553188A (en) * 1995-02-24 1996-09-03 Mks Instruments, Inc. Vaporizer and liquid delivery system using same
JPH09321035A (ja) * 1996-05-28 1997-12-12 Sony Corp 薄膜形成原料輸送方法及び薄膜形成原料輸送装置
TW415970B (en) 1997-01-08 2000-12-21 Ebara Corp Vapor-phase film growth apparatus and gas ejection head
JPH10226885A (ja) * 1997-02-17 1998-08-25 Ebara Corp ガス噴射ヘッド
JP4004777B2 (ja) * 2001-11-15 2007-11-07 株式会社アルバック 蒸発源
DE60305246T2 (de) * 2002-07-19 2006-09-14 Lg Electronics Inc. Quelle zur thermischen PVD-Beschichtung für organische elektrolumineszente Schichten
JP4090039B2 (ja) 2003-04-16 2008-05-28 トッキ株式会社 蒸着装置における蒸発源
KR100711885B1 (ko) * 2005-08-31 2007-04-25 삼성에스디아이 주식회사 유기 증착원 및 이의 가열원 제어방법
KR100711886B1 (ko) * 2005-08-31 2007-04-25 삼성에스디아이 주식회사 무기 증착원 및 이의 가열원 제어방법
WO2007034790A1 (ja) 2005-09-20 2007-03-29 Tohoku University 成膜装置、蒸発治具、及び、測定方法
WO2009125497A1 (ja) * 2008-04-11 2009-10-15 国立大学法人東北大学 均熱装置および有機膜成膜装置

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