JPWO2009113149A1 - パターン測長装置及びパターン測長方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、本実施形態に係る走査型電子顕微鏡の構成図である。
次に、図1に示した走査型電子顕微鏡100を用いて、図2(a)に示す試料のパターンの線幅を測定する一般的な方法について説明する。
上記した一般的なパターンのエッジ間の測長では、測定対象領域を広くとることによって正確な距離を求めるようにしている。本実施形態では、測定対象領域を広くとることができない場合であっても、エッジ間距離の正確な測長を可能にしている。
次に、図8のフローチャートを参照しながらエッジ間の測長処理について説明する。本エッジ間の測長処理では、測定対象とする2か所のエッジ位置が一対のROIボックス(測定対象領域)によって指定されているものとして説明する。なお、ROIボックスによる指定では、対象とするエッジを含み、かつROIボックスがずれてもエッジが含まれるような大きさで指定されているものとする。
図3(a)に示すパターン間のy軸方向の距離を算出するために、一対のROIボックス(ROI11及びROI12)が図3(a)のように設定される。ステップS16までの処理によって、ROI12内のエッジE12の移動平均プロファイルのピーク値の位置座標がC12(x12、y12)と算出され、ROI11内のエッジE11の移動平均プロファイルのピーク値の位置座標がC11(x11、y11)と算出されたものとする。この場合、C11のy座標y11がそのエッジE11の最小値であり、C12のy座標y12がそのエッジE12の最大値である。従って、2つのエッジ間のy方向の距離d1はy11−y12で算出される。
図3(c)に示すパターン間のx軸方向の距離を算出するために、一対のROIボックス(ROI31及びROI32)が図3(c)のように設定される。ステップS16までの処理によって、ROI31内のエッジE31の移動平均プロファイルのピーク値の位置座標がC31(x31、y31)となり、ROI32内のエッジE32の移動平均プロファイルのピーク値の位置座標がC32(x32、y32)と算出されたものとする。この場合、C31のx座標x31がそのエッジE31の最大値であり、C32のx座標x32がそのエッジE32の最小値である。従って、2つのエッジ間のx方向の距離d4はx32−x31で算出される。
エッジ間の最短距離の算出について以下に説明する。図3(b)は、y軸方向に隣接して形成されたパターンであって、x軸方向にずれた2つのパターン(P21及びP22)を示している。この2つのパターンP21,P22間のy軸方向の距離d2は上記(a)の方法によって算出される。
Claims (12)
- 電子ビームを試料上に走査しながら照射する電子ビーム照射部と、
前記電子ビームの照射によって、パターンが形成された前記試料上から発生する電子の電子量を基に当該パターンの画像を取得する画像データ取得部と、
前記パターンの画像のエッジを含む一対の測定領域を設定する測定対象領域設定部と、
前記測定領域内のパターンのエッジ形状を検出し、前記一対の測定領域内のパターンのエッジ間の距離を算出する制御部とを有し、
前記制御部は、前記測定領域内のパターンのエッジが所定の間隔の測定点の位置座標で示されたエッジプロファイルの平坦部を検出し、当該平坦部の平均位置を前記測定領域内における前記パターンのエッジ位置とすることを特徴とするパターン測長装置。 - 前記制御部は、前記平坦部が検出されないとき、前記パターンの幅の設計値からパターンが形成されたときに湾曲すると想定される所定の値を引いた値で前記エッジプロファイルを移動平均してエッジ特性曲線を算出し、当該エッジ特性曲線のピーク値の位置を前記パターンのエッジ位置とすることを特徴とする請求項1に記載のパターン測長装置。
- 前記制御部は、y軸方向に対向する前記一対の測定領域のうち、一方の測定領域内のパターンのエッジ位置のy座標の値がy1であり、他方の測定領域内のパターンのエッジ位置のy座標の値がy2であり、y1>y2のとき、y1−y2をエッジ間のy軸方向の距離とすることを特徴とする請求項1に記載のパターン測長装置。
- 前記制御部は、x軸方向に対向する前記一対の測定領域のうち、一方の測定領域内のパターンのエッジ位置のx座標の値がx1であり、他方の測定領域内のパターンのエッジ位置のx座標の値がx2であり、x1<x2のとき、x2−x1をエッジ間のx軸方向の距離とすることを特徴とする請求項1に記載のパターン測長装置。
- 前記制御部は、前記エッジプロファイルに対して必要に応じてノイズ低減のために所定の測定点の数でスムージング処理を実施したエッジの各測定点の位置座標を用いて、一方の測定領域内のパターンのエッジと他方の測定領域内のパターンのエッジとの間の最短距離を検出することを特徴とする請求項1に記載のパターン測長装置。
- 前記制御部は、前記エッジが平坦部を有し、当該平坦部がx軸に平行であるとしたとき、前記エッジプロファイルを前記エッジの平坦部より長い移動平均幅で移動平均してエッジの中心位置のx座標値を算出し、当該x座標値に対して所定の範囲の前記エッジプロファイルのy座標値の平均値を算出して、前記測定領域内における前記パターンのエッジ位置を算出することを特徴とする請求項1に記載のパターン測長装置。
- 電子ビームを試料上に走査しながら照射する電子ビーム照射部と、前記電子ビームの照射によって、パターンが形成された前記試料上から発生する電子の電子量を基に当該パターンの画像を取得する画像データ取得部と、前記パターンの画像のエッジを含む一対の測定領域を設定する測定対象領域設定部とを有するパターン測長装置において、
測定対象領域のパターンの画像を取得するステップと、
前記測定対象領域内のパターンのエッジが所定の間隔の測定点の位置座標で示されたエッジプロファイルを検出するステップと、
前記エッジプロファイルの平坦部を検出するステップと、
前記平坦部の平均位置を算出して前記パターンのエッジ位置を決定するステップと、
前記一対の測定対象領域内の一対のパターンのエッジ間の距離を検出するステップとを含むことを特徴とするパターン測長方法。 - 前記平坦部が検出されないとき、前記平坦部を検出するステップと、前記エッジ位置を決定するステップは、
前記パターンの幅の設計値からパターンが形成されたときに湾曲すると想定される所定の値を引いた値で前記エッジプロファイルを移動平均してエッジ特性曲線を算出するステップと、当該エッジ特性曲線のピーク値の位置を前記パターンのエッジ位置に決定するステップであることを特徴とする請求項7に記載のパターン測長方法。 - 前記エッジ間の距離を検出するステップは、
y軸方向に対向する前記一対の測定領域のうち、一方の測定領域内のパターンのエッジ位置のy座標の値がy1であり、他方の測定領域内のパターンのエッジ位置のy座標の値がy2であり、y1>y2のとき、y1−y2をエッジ間のy軸方向の距離とするステップであることを特徴とする請求項7に記載のパターン測長方法。 - 前記エッジ間の距離を検出するステップは、
x軸方向に対向する前記一対の測定領域のうち、一方の測定領域内のパターンのエッジ位置のx座標の値がx1であり、他方の測定領域内のパターンのエッジ位置のx座標の値がx2であり、x1<x2のとき、x2−x1をエッジ間のx軸方向の距離とするステップであることを特徴とする請求項7に記載のパターン測長方法。 - 前記エッジ間の距離を検出するステップは、
前記エッジプロファイルを所定の測定点の数で平均してスムージングするステップと、
前記一対の測定領域内のパターンのスムージングされたエッジの各測定点の位置座標を用いて、一方の測定領域内のパターンのエッジと他方の測定領域内のパターンのエッジとの間の最短距離を検出するステップとを含むことを特徴とする請求項7に
記載のパターン測長方法。 - 前記エッジ特性曲線を算出するステップとエッジ位置を特定するステップは、
前記エッジが平坦部を有し、当該平坦部がx軸に平行であるとしたとき、前記エッジプロファイルを前記エッジの平坦部より長い移動平均幅で移動平均してエッジの中心位置のx座標値を算出するステップと、
当該x座標値に対して所定の範囲の前記エッジプロファイルのy座標値の平均値を算出して、前記測定領域内における前記パターンのエッジ位置を算出するステップであることを特長とする請求項8に記載のパターン測長方法。
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