JPWO2008126468A1 - 半導体装置及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
半導体装置は、素子配線2と素子最上層配線4とスーパーコネクト配線10とバンプ7とを具備する。素子配線2は、半導体基板1上に複数の絶縁層50を介して設けられる。素子最上層配線4は、素子配線2上に実質上同等のプロセス装置を用いて形成される。スーパーコネクト配線10は、素子最上層配線4上に絶縁層50の5倍以上の厚さを有するスーパーコネクト絶縁層9を介して設けられ、素子配線2及び素子最上層配線4の3倍以上の厚さを有する。バンプ7は、スーパーコネクト配線10上に形成される。素子最上層配線4は、信号用パッド4sと電源用パッド4vとグランド用パッド4gを備える。信号用パッド4sの面積は、電源用パッド4v及びグランド用パッド4gの面積よりも小さい。
Description
本発明は、半導体装置及び半導体装置の製造方法に関し、特に、半導体素子用の微細な配線及びスーパーコネクト配線の両方を具備する半導体装置及び半導体装置の製造方法に関する。この出願は、2007年3月30日に出願された特許出願番号2007−092727号の日本特許出願に基づいており、その出願による優先権の利益を主張し、その出願の開示は、引用することにより、そっくりそのままここに組み込まれている。
関連技術の半導体装置として、特開2002−170928号公報(US6727533B2)や特開2002−093946号公報(US6639315B2)に記載されたものがある。
特開2002−170928号公報は、半導体装置を開示している。この半導体装置は、半導体素子内の微細な配線層と巨大配線(スーパーコネクト)層とその切り替え回路を有する。この半導体装置では、スーパーコネクト配線層の配線間隔が半導体素子内の配線層の配線間隔と比べて大きいため、配線の寄生容量が小さく、電気抵抗が小さい。一方、特開2002−093946号公報は、半導体装置及び半導体装置の実装構造体を開示している。この半導体装置は、半導体素子上のパッドと外部端子用のランドとの間に低弾性で厚い応力緩和層が設けられていて、その厚い応力緩和層により、半導体素子内の配線とランドへの引き出し配線と間の静電容量を低減する。
ところが、上記特開2002−170928号公報や特開2002−093946号公報に記載の関連技術では、スーパーコネクト配線間や応力緩和層の上下における寄生容量を低減することが可能となったとしても、半導体素子とスーパーコネクト配線との全体構造が最適化されていないため、特に、10Gbpsを越える高速信号を扱う場合、信号品質が劣化するという課題があった。
関連する技術として、特開2006−32600号公報(US2006012029(A1))に半導体装置が開示されている。この半導体装置は、半導体基板と、前記半導体基板上に第1配線層及び第1絶縁層が交互に1又は複数積層された微細配線構造部と、前記微細配線構造部上に第2配線層及び第2絶縁層が交互に1又は複数積層された第1巨大配線構造部と、前記第1巨大配線構造部上に第3配線層及び第3絶縁層が交互に1又は複数積層された第2巨大配線構造部と、を有する。前記第1乃至第3配線層は、夫々絶縁膜と配線を有する。前記第2絶縁層及び前記第3絶縁層は前記第1絶縁層より厚い。前記第3絶縁層の25℃における弾性率は、前記第2絶縁層の25℃における弾性率以下である。前記第3配線層及び前記第2配線層の厚さは前記第1配線層の厚さの2倍以上である。
発明者は、今回以下の知見を見出した。図1は、関連技術の半導体装置の構成を示す断面図である。関連技術の半導体装置は、トランジスタ回路(図示されず)を含む半導体基板101上に、複数の絶縁層150内に設けられ、半導体素子配線用ビア103で接続された半導体素子配線102を有する。その半導体装置は、さらにその上に、この半導体素子配線102と実質上同等のプロセス装置を用いて形成される半導体素子最上層配線104が存在する。この半導体素子最上層配線104は、電源用パッド104v、グランド用パッド104g、信号用パッド104s、及びそれ以外の引き回し配線104mを備えている。電源用パッド104v、グランド用パッド104g、及び信号用パッド104sはほぼ等しい大きさである。この半導体素子最上層配線104上にはカバー膜105を介してアンダーバンプメタライゼーション(UBM)106が形成され、電源用パッド104v、グランド用パッド104g、信号用パッド104sがそれぞれ外部接続端子であるバンプ107と接続されている。
ここで、電源用パッド104v、グランド用パッド104g、及び信号用パッド104sがほぼ等しい大きさとなっている理由は、以下のとおりである。バンプ107が例えばSnとAgの合金からなり、めっきで所望の領域に金属層を形成した後、リフローによって図1のバンプ107に示すような形状に整形するような場合、上記3種類のパッドの大きさを等しくしないと、UBM106を含むボール状のバンプ107のサイズが異なってしまい、外部との良好な接続を確保できないためである。バンプ材料を印刷で形成したり、球状のボールを振り込むような場合でも、同様の理由により、電源用パッド104v、グランド用パッド104g、及び信号用パッド104sがほぼ等しい大きさとなっている。
しかし、図1に示すような関連技術の構造では、半導体装置が特に10Gbpsを越える超高速で動作する場合、特に信号線の入出力が不安定になり、半導体装置とその外部との信号のやりとりができないという課題が発明者の鋭意研究の結果、今回始めて明らかとなった。同時に、発明者の研究の結果、その原因は、半導体素子最上層配線104における信号用パッド104sと下層の半導体素子配線102とのカップリング容量が大きく、信号品質を劣化させていたためであることが今回初めて明らかとなった。
その解決策として、配線の厚さや絶縁膜の厚さが半導体素子配線や半導体素子絶縁膜の数倍(例示:3〜10倍)の寸法を有するスーパーコネクト技術を用いて、寄生容量を低減する方法が考えられる。図2は、関連技術の半導体装置にスーパーコネクト技術を適用した構成を示す断面図である。この場合、半導体素子最上層配線104上に厚いスーパーコネクト絶縁膜109と厚いスーパーコネクト配線110(スーパーコネクトビア108で半導体素子最上層配線104と接続)が単に形成されただけの構成となる。そのため、スーパーコネクト絶縁膜109を介したスーパーコネクト配線110と他の部分の寄生容量は低減できるものの、本質的な課題である信号用パッド104sと下層の半導体素子配線102との間には、依然として大きな寄生容量が存在してしまい、伝送特性の劣化は改善されなかった。
本発明の目的は、高速信号の品質を劣化させることなく、その信号を入出力することが可能な半導体装置及び半導体装置の製造方法を提供することにある。
この発明のこれらの目的とそれ以外の目的と利益とは以下の説明と添付図面とによって容易に確認することができる。
本発明の半導体装置は、素子配線と、素子最上層配線と、スーパーコネクト配線と、バンプとを具備する。素子配線は、半導体素子を有する半導体基板上に複数の絶縁層を介して設けられている。素子最上層配線は、素子配線上に実質上同等のプロセス装置を用いて形成される。スーパーコネクト配線は、素子最上層配線上に絶縁層の5倍以上の厚さを有するスーパーコネクト絶縁層を介して設けられ、配線厚さが素子配線及び素子最上層配線の3倍以上の厚さを有する。バンプは、スーパーコネクト配線上に形成される。素子最上層配線は、信号用パッドと電源用パッドとグランド用パッドを備える。信号用パッドの面積は、電源用パッド及びグランド用パッドの面積よりも小さい。
本発明の半導体装置の製造方法は、半導体基板上に半導体素子を形成する工程と、半導体基板上に複数の絶縁層を介して設けられた素子配線を形成する工程と、素子配線上に実質上同等のプロセス装置を用いて、信号用パッドと電源用パッドとグランド用パッドを備える素子最上層配線を形成する工程と、素子最上層配線上に、絶縁層の5倍以上の厚さを有するスーパーコネクト絶縁層と、スーパーコネクト絶縁層内に埋め込まれたスーパーコネクトビアとを形成する工程と、スーパーコネクトビア上に、配線厚さが素子配線及び素子最上層配線の3倍以上の厚さを有するスーパーコネクト配線を形成する工程と、スーパーコネクト配線上に形成されるバンプを形成する工程とを具備する。素子最上層配線を形成する工程は、信号用パッドの面積を、電源用パッド及びグランド用パッドよりも小さくする工程を備える。
以下、本発明の半導体装置及び半導体装置の製造方法の実施の形態に関して、添付図面を参照して説明する。
(第1の実施の形態)
本発明の半導体装置及び半導体装置の製造方法の第1の実施の形態について、添付図面を参照して説明する。図3は、本発明の半導体装置の第1の実施の形態の構成を示す断面図である。半導体装置は、半導体基板1、半導体素子配線2、半導体素子配線用ビア3、半導体素子最上層配線4、スーパーコネクト絶縁層9、スーパーコネクトビア8、スーパーコネクト配線10、及びバンプ7を具備する。
本発明の半導体装置及び半導体装置の製造方法の第1の実施の形態について、添付図面を参照して説明する。図3は、本発明の半導体装置の第1の実施の形態の構成を示す断面図である。半導体装置は、半導体基板1、半導体素子配線2、半導体素子配線用ビア3、半導体素子最上層配線4、スーパーコネクト絶縁層9、スーパーコネクトビア8、スーパーコネクト配線10、及びバンプ7を具備する。
半導体基板1は、トランジスタ回路(図示されず)を含む半導体製の基板である。半導体素子配線2は、複数の絶縁層50内の各配線層に設けられ、半導体素子配線用ビア3で接続された配線である。半導体素子最上層配線4は、半導体素子配線2の上部の配線層に設けられ、半導体素子配線2と実質上同等のプロセス装置を用いて形成された配線である。この半導体素子最上層配線4は、電源用パッド4v、グランド用パッド4g、信号用パッド4s、及びそれ以外の引き回し配線4mを備える。スーパーコネクト絶縁層9は、半導体素子最上層配線4を覆うように設けられている。スーパーコネクトビア8は、半導体素子最上層配線4上部に接続され、スーパーコネクト絶縁層9を貫通するように設けられている。スーパーコネクト配線10は、スーパーコネクト絶縁層9上に設けられ、スーパーコネクトビア8上部に接続されている。バンプ7は、スーパーコネクト配線10上に外部接続端子として形成されている。
本発明では、スーパーコネクト絶縁層9、スーパーコネクトビア8、及びスーパーコネクト配線10は、半導体素子配線2や半導体素子最上層配線4とは実質上異なるプロセス装置を用いて形成されている。スーパーコネクト配線10の厚さは、半導体素子配線2や半導体素子最上層配線4の厚さの3倍以上あることが好ましい。スーパーコネクト絶縁層9の厚さは、半導体素子配線2や半導体素子最上層配線4の間に介在する絶縁層50(一層分)の厚さの5倍以上あることが好ましい。
また、図3に示すように、スーパーコネクトビア8、接続される半導体素子最上層配線4のパッドにおいて、信号用パッド4sの面積は、他の電源用パッド4vやグランド用パッド4gの面積と比較して小さいことが好ましい。更に、信号用パッド4sの面積は、スーパーコネクトビア8の形成マージンの許す範囲内でできる限り小さいほうがより好ましい。信号用パッド4sの面積を相対的に小さくし、より好ましくは限りなく小さくすることにより、信号用パッド4sと下層の半導体素子配線2との間のカップリング容量を減少させている。これにより、信号用パッド4sの寄生容量が減少し、高速信号の品質を劣化させることなく、その信号を入出力することが可能となる。
発明者の今回の研究の結果で明らかにされ、図1及び図2で説明されたように、信号用パッド104sと下層の半導体素子配線102との間に大きな寄生容量が存在することが、伝送特性(信号品質)の劣化の原因である。したがって、本発明では、図3に示されるように、スーパーコネクト技術(スーパーコネクト絶縁層9、スーパーコネクトビア8、及びスーパーコネクト配線10)と信号用パッド4sの面積低減とを組み合わせている。それにより、特に10Gbps以上の高速信号伝送における寄生容量成分を大きく低下させ、信号品質の劣化を抑制し、十分なマージンでの信号のやりとりが可能となる。
図4は、関連技術の半導体装置と本発明による半導体装置の各々における信号特性を示すグラフである。図4Aは関連技術の半導体装置であり、図4Bは本発明の半導体装置である。縦軸は振幅(V)を示し、横軸は時間(sec.)を示す。このグラフは、信号特性として、10Gbpsに対するアイパターンを示している。関連技術(図4A)ではアイがほとんど開口せず、信号品質が劣化しているのに対し、本発明(図4B)ではアイの開口が見られ、信号品質が劣化が無く超高速伝送が可能となっていることがわかる。図5は、同じく関連技術の半導体装置と本発明による半導体装置の各々における信号の伝送損失を周波数に対してプロットしたグラフである。縦軸は伝送損失、横軸は周波数である。関連技術(破線)では周波数の増加とともに伝送損失の増加も大きく高速伝送が難しいのに対し、本発明(実線)では伝送損失の周波数に対する劣化割合が小さく、より高周波まで信号電送が可能であることがわかる。
次に、本発明の半導体装置の製造方法の第1の実施の形態について説明する。図6A〜図6C及び図7A〜図7Bは、本発明の半導体装置の製造方法の第1の実施の形態の工程を示す断面図である。
まず、図6Aに示されるように、シリコンなどの半導体基板101の上にトランジスタ回路(図示されず)を形成する。続いて、図6Bに示されるように、リソグラフィーとめっき法等のプロセスを用いて複数の絶縁層50内に設けられ、半導体素子配線用ビア3で接続された半導体素子配線2を形成する。続いて、半導体素子配線2の場合と実質上同等のプロセス装置を用いて半導体素子最上層配線4を形成する。このとき、関連技術の半導体素子の設計を変更する必要は無く、半導体素子最上層配線4の中で、信号用パッド4sと電源用パッド4vとグランド用パッド4gの大きさはほぼ同一であっても構わない。次に、図6Cに示されるように、レーザ等により、信号用パッド4sを形成する金属配線の一部に切れ込み(A部)を入れ、信号用パッド4sの中心部分のみを孤立させて面積を小さくする。
続いて、図7Aに示されるように、信号用パッド4s(中心部)、電源用パッド4v、及びグランド用パッド4g上にスーパーコネクトビア8を形成する。次に、半導体素子最上層配線4を埋め込まれた絶縁層50やスーパーコネクトビア8を覆うようにスーパーコネクト絶縁膜9をスピンコートやプレス、またはラミネートにより形成する。そして、CMPなどの研磨手法を用いてスーパーコネクト絶縁膜9の表面を平坦化する。そのとき、スーパーコネクトビア8の上部は表面に剥き出しになっている。さらにその上に、スーパーコネクトビア8と接続されるスーパーコネクト配線10を所定の形状で形成する。最後に、図7Bに示されるように、スーパーコネクト配線10上に外部接続端子であるバンプ7を形成し、半導体装置が完成する。
本実施の形態により、高価な半導体素子用の設計マスクを変更することなく、信号線の寄生容量成分を低減させ、信号品質の劣化を抑制する半導体装置を製造することができる。
(第2の実施の形態)
本発明の半導体装置及び半導体装置の製造方法の第2の実施の形態について、添付図面を参照して説明する。図8は、本発明の半導体装置の第2の実施の形態の構成を示す断面図である。半導体装置は、半導体基板1、半導体素子配線2、半導体素子配線用ビア3、半導体素子最上層配線4、スーパーコネクト絶縁層9、スーパーコネクトビア8、スーパーコネクト配線10、及びバンプ7を具備する。これらの基本的な構成は、第1の実施の形態と同様である。ただし、以下の点で第1の実施の形態と異なる。
本発明の半導体装置及び半導体装置の製造方法の第2の実施の形態について、添付図面を参照して説明する。図8は、本発明の半導体装置の第2の実施の形態の構成を示す断面図である。半導体装置は、半導体基板1、半導体素子配線2、半導体素子配線用ビア3、半導体素子最上層配線4、スーパーコネクト絶縁層9、スーパーコネクトビア8、スーパーコネクト配線10、及びバンプ7を具備する。これらの基本的な構成は、第1の実施の形態と同様である。ただし、以下の点で第1の実施の形態と異なる。
すなわち、図8に示されるように、本実施の形態では、スーパーコネクトビア8と接続される半導体素子最上層配線4のパッドにおいて、信号用パッド4sの面積が他の電源用パッド4vやグランド用パッド4gの面積と比較して小さく、かつ、電源用パッド4vやグランド用パッド4gが、それらの接続先であるバンプ7の投影像より大きな領域まで延在している。すなわち、半導体素子最上層配線4の配線層の面にバンプ7を投影(射影)したとき、電源用パッド4vやグランド用パッド4gの少なくとも一部が、当該投影像の領域よりも外側の領域に延在していればよい。これが本実施の形態の特徴である。
このとき、信号用パッド4sの面積は、スーパーコネクトビア8の形成マージンの許す範囲内で、できる限り小さいほうがより好ましい。一方、電源用パッド4vやグランド用パッド4gの面積は、信号用パッド4sや引き回し配線4mの専有面積と配線間のマージンの許す範囲内で、できる限り大きいほうがより好ましい。
このような構造により、本発明の第1の実施の形態と比較して、電源・グランドの寄生容量が大きくなる。その大きくなった容量がデカップリングキャパシタとして作用することで、スイッチングノイズを低減し、半導体装置の動作をさらに安定化させることができる。
本発明の半導体装置の製造方法の第2の実施の形態については、電源用パッド4vやグランド用パッド4gの面積が相対的に大きい他は、第1の実施の形態と同様であるので、その説明を省略する。この場合にも第1の実施の形態と同様の効果を得ることができる。
(第3の実施の形態)
本発明の半導体装置及び半導体装置の製造方法の第3の実施の形態について、添付図面を参照して説明する。図9は、本発明の半導体装置の第3の実施の形態の構成を示す断面図である。半導体装置は、半導体基板1、半導体素子配線2、半導体素子配線用ビア3、半導体素子最上層配線4、スーパーコネクト絶縁層9、スーパーコネクトビア8、スーパーコネクト配線10、及びバンプ7を具備する。ここで、半導体基板1、半導体素子配線2、半導体素子配線用ビア3、及び半導体素子最上層配線4については、第1の実施の形態と同様である。
本発明の半導体装置及び半導体装置の製造方法の第3の実施の形態について、添付図面を参照して説明する。図9は、本発明の半導体装置の第3の実施の形態の構成を示す断面図である。半導体装置は、半導体基板1、半導体素子配線2、半導体素子配線用ビア3、半導体素子最上層配線4、スーパーコネクト絶縁層9、スーパーコネクトビア8、スーパーコネクト配線10、及びバンプ7を具備する。ここで、半導体基板1、半導体素子配線2、半導体素子配線用ビア3、及び半導体素子最上層配線4については、第1の実施の形態と同様である。
スーパーコネクト絶縁層9は、半導体素子最上層配線4を覆うように設けられている。スーパーコネクト絶縁層9は、スーパーコネクト絶縁層9a、9b、9cがこの順に積層されている。スーパーコネクトビア8は、半導体素子最上層配線4上部に接続され、スーパーコネクト絶縁層9を貫通するように設けられている。スーパーコネクトビア8は、スーパーコネクト絶縁層9aを貫通するスーパーコネクトビア8a、スーパーコネクト絶縁層9bを貫通するスーパーコネクトビア8b、スーパーコネクト絶縁層9cを貫通するスーパーコネクトビア8cを有する。スーパーコネクト配線10は、スーパーコネクト絶縁層9上に設けられ、スーパーコネクトビア8上部に接続されている。スーパーコネクト配線10は、スーパーコネクト絶縁層9a上に設けられスーパーコネクトビア8a上部に接続されたスーパーコネクト配線10a、スーパーコネクト絶縁層9b上に設けられスーパーコネクトビア8b上部に接続されたスーパーコネクト配線10b、スーパーコネクト絶縁層9c上に設けられスーパーコネクトビア8c上部に接続されたスーパーコネクト配線10cを備える。バンプ7は、スーパーコネクト配線10c上に外部接続端子として形成されている。
ここでスーパーコネクト絶縁層9a、9b、9cとスーパーコネクトビア8a、8b、8c、及びスーパーコネクト配線10a、10b、10cは、半導体素子配線2や半導体素子最上層配線4とは実質上異なるプロセス装置を用いて形成され、スーパーコネクト配線10a、10b、10cの厚さは、半導体素子配線2や半導体素子最上層配線4の厚さの3倍以上あり、スーパーコネクト絶縁層9a、9b、9cの厚さは、半導体素子配線2や半導体素子最上層配線4の間に介在する絶縁層の厚さの5倍以上ある。
すなわち、図9に示されるように、本実施の形態では、スーパーコネクトビア8と接続される半導体素子最上層配線4のパッドにおいて、信号用パッド4sの面積が他の電源用パッド4vやグランド用パッド4gの面積と比較して小さく、かつ、スーパーコネクトビア8、スーパーコネクト絶縁膜9及びスーパーコネクト配線10が多層構造(本実施の形態では三層)となっていることが本実施の形態の特徴である。
このとき、信号用パッド4sの面積は、スーパーコネクトビア8aの形成マージンの許す範囲内で、できる限り小さいほうがより好ましい。一方、スーパーコネクトの層数は材料やプロセスの許す範囲内で、できる限り多いほうがより好ましい。ただし、スーパーコネクト絶縁層9の一層分の厚みは半導体素子配線2の間に介在する絶縁層50の一層分の厚みの5倍以上大きいため、膜形成時の応力によるウエハの反りがトランジスタ特性に影響を与えたり、そもそもプロセス装置に導入できる反り許容量を超える場合があり、二層から六層の範囲が最も好ましい層数である。
このような構造により、本発明の第1及び第2の実施の形態と比較して、信号線に乗る寄生容量をさらに低減させ、結果的にさらなる高速信号の伝送を可能とすることができる。
本発明の半導体装置の製造方法の第3の実施の形態については、スーパーコネクトビア8、スーパーコネクト絶縁膜9及びスーパーコネクト配線10が多層構造(本実施の形態では三層)である他は、第1の実施の形態と同様であるので、その説明を省略する。この場合にも第1の実施の形態と同様の効果を得ることができる。
(第4の実施の形態)
本発明の半導体装置及び半導体装置の製造方法の第4の実施の形態について、添付図面を参照して説明する。図10は、本発明の半導体装置の第4の実施の形態の構成を示す断面図である。半導体装置は、半導体基板1、半導体素子配線2、半導体素子配線用ビア3、半導体素子最上層配線4、スーパーコネクト絶縁層9、スーパーコネクトビア8、スーパーコネクト配線10、及びバンプ7を具備する。
本発明の半導体装置及び半導体装置の製造方法の第4の実施の形態について、添付図面を参照して説明する。図10は、本発明の半導体装置の第4の実施の形態の構成を示す断面図である。半導体装置は、半導体基板1、半導体素子配線2、半導体素子配線用ビア3、半導体素子最上層配線4、スーパーコネクト絶縁層9、スーパーコネクトビア8、スーパーコネクト配線10、及びバンプ7を具備する。
本実施の形態の半導体装置は、第2の実施の形態と第3の実施の形態とを併合した構成を有している。すなわち、信号用パッド4sの面積が他の電源用パッド4vやグランド用パッド4gの面積と比較して小さく、かつ、電源用パッド4vやグランド用パッド4gが、それらの接続先であるバンプ7の投影像より大きな領域まで延在している、という第2の実施の形態の構成の特徴を有している。更に、スーパーコネクトビア8、スーパーコネクト絶縁膜9及びスーパーコネクト配線10が多層構造(本実施の形態では三層)である、という第3の実施の形態の構成の特徴を有している。各構成の詳細については、第2の実施の形態及び第3の実施の形態と同様であるので、その説明を省略する。
このような構造により、本発明の第3の実施の形態と比較して、電源・グランドの寄生容量が大きくなる。その大きくなった容量がデカップリングキャパシタとして作用することで、スイッチングノイズを低減し、半導体装置の動作をさらに安定化させることができる。
本発明の半導体装置の製造方法の第4の実施の形態については、電源用パッド4vやグランド用パッド4gの面積が相対的に大きいこと、スーパーコネクトビア8、スーパーコネクト絶縁膜9及びスーパーコネクト配線10が多層構造(本実施の形態では三層)であることの他は、第1の実施の形態と同様であるので、その説明を省略する。この場合にも第1の実施の形態と同様の効果を得ることができる。
(第5の実施の形態)
本発明の半導体装置及び半導体装置の製造方法の第5の実施の形態について、添付図面を参照して説明する。図11は、本発明の半導体装置の第5の実施の形態の構成を示す断面図である。半導体装置は、半導体基板1、半導体素子配線2、半導体素子配線用ビア3、半導体素子最上層配線4、スーパーコネクト絶縁層9、スーパーコネクトビア8、スーパーコネクト配線10、及びバンプ7を具備する。
本発明の半導体装置及び半導体装置の製造方法の第5の実施の形態について、添付図面を参照して説明する。図11は、本発明の半導体装置の第5の実施の形態の構成を示す断面図である。半導体装置は、半導体基板1、半導体素子配線2、半導体素子配線用ビア3、半導体素子最上層配線4、スーパーコネクト絶縁層9、スーパーコネクトビア8、スーパーコネクト配線10、及びバンプ7を具備する。
本実施の形態は、図10に示した第4の実施の形態の変形例である。図11に示されるように、図10に示される第4の実施の形態と比較して、スーパーコネクトビア8a、8b、8cが同一直線上になく、階段状となっていることが本実施の形態の特徴である。半導体装置における他の詳細については、第4の実施の形態と同様であるので、その説明を省略する。
このような構造により、本発明の第4の実施の形態と比較して、スーパーコネクトビア8a、8b、8cが同一直線上にないため、半導体装置の動作中に、外部端子であるバンプ7を介して半導体のトランジスタ層に応力が加わる場合でも、スーパーコネクトの三層構造内で応力を緩和し、トランジスタへの影響を軽減でき、その結果、半導体装置の信頼性を向上させることができる。
本発明の半導体装置の製造方法の第5の実施の形態については、スーパーコネクトビア8a、8b、8cが同一直線上にないことの他は、第4の実施の形態と同様であるので、その説明を省略する。この場合にも第4の実施の形態と同様の効果を得ることができる。
なお、上記の各実施の形態では、信号、電源、グランドのそれぞれに対してパッドやバンプを一つずつ図示したが、本発明の効果は一つのパッドやバンプに限定されることはなく、複数のパッドやバンプに対しても同様に有効である。特に、半導体装置全体として最も高速な信号線路に対応する信号用パッド4sに適用すれば効果は大きい。
なお、上記の各実施の形態では、スーパーコネクトビア8の側面にスーパーコネクト絶縁膜9が存在し、それらスーパーコネクトビア8とスーパーコネクト絶縁膜9上にスーパーコネクト配線10が存在する構造を示したが、これはスーパーコネクトビア8を銅などの金属でポスト状に形成した後、スーパーコネクト絶縁膜9をポリイミドなどの有機樹脂で覆って、研磨技術により平坦化してポスト上面を露出させた構造について述べたものである。しかし、本発明はこの構造に限定されるものではなく、例えばスーパーコネクト絶縁膜9が感光性樹脂の場合、まず露光技術を用いてスーパーコネクト絶縁膜9にビアを形成し、その後スーパーコネクトビア8とスーパーコネクト配線10を一体形成した構造でも構わない。またスーパーコネクト絶縁膜9が非感光性樹脂であっても、レーザによりビアを形成することで、類似の構造を実現することも可能である。
なお、上記の各実施の形態において、スーパーコネクト配線層の所望の位置に、回路のノイズフィルターの役割を果たすキャパシタやインダクタ、抵抗などの受動素子を設けることもできる。
なお、本発明の実施の形態では、10Gbpsの高速信号に対する信号品質について述べたが、本発明の効果は必ずしも10Gbps以上の信号のみに限定されることはなく、より低速の信号に対してもその効果は認められる。
以上述べたように、本発明の半導体装置では、バンプの形状及びそのピッチを関連技術の半導体装置とほぼ同一に保持しながら、信号用パッドと半導体素子配線間の寄生容量成分を低下させることができる。そのため、特に10Gbps以上の高速信号伝送において、信号品質の劣化を抑制し、十分なマージンでの信号のやりとりを可能にすることができる。
また、電源用パッド及びグランド用パッドと半導体素子配線間の寄生容量を大きくすることができるため、その容量がデカップリングキャパシタとして作用することで、スイッチングノイズを低減し、半導体装置の動作をさらに安定化させることができる。
さらに、外部端子であるバンプ7を介して半導体のトランジスタ層に応力が加わる場合でも、スーパーコネクト層内で応力を緩和し、トランジスタへの影響を軽減でき、その結果、半導体装置の信頼性を向上させることができる。
さらに本発明の半導体装置の製造方法では、既設計のスーパーコネクト配線を有さない半導体装置に対して、信号線の寄生容量を低減しながらスーパーコネクト配線を付与することができるため、新たに高価なマスクを作成することなく、特に10Gbps以上の高速信号品質を低コストで向上させることができる。
本発明は上記各実施の形態に限定されず、本発明の技術思想の範囲内において、各実施の形態は適宜変形又は変更され得ることは明らかである。
本発明により、高速信号の品質を劣化させることなく、その信号を入出力することが可能となる。そのような高速信号を大規模集積回路で取り扱うとき、電源・グランド系へのスイッチングノイズを低減し、安定動作することが可能となる。信号用パッドと下層の半導体素子配線との間、寄生容量を低減し、伝送特性を向上可能となる。
Claims (7)
- 半導体素子を有する半導体基板上に複数の絶縁層を介して設けられた素子配線と、
前記素子配線上に実質上同等のプロセス装置を用いて形成される素子最上層配線と、
前記素子最上層配線上に前記絶縁層の5倍以上の厚さを有するスーパーコネクト絶縁層を介して設けられ、配線厚さが前記素子配線及び前記素子最上層配線の3倍以上の厚さを有するスーパーコネクト配線と、
前記スーパーコネクト配線上に形成されるバンプと
を具備し、
前記素子最上層配線は、信号用パッドと電源用パッドとグランド用パッドを備え、
前記信号用パッドの面積は、前記電源用パッド及び前記グランド用パッドの面積よりも小さい
半導体装置。 - 前記電源用パッド及び前記グランド用パッドの少なくとも一方のパッドは、当該パッドと前記スーパーコネクト配線で接続される前記バンプを前記素子最上層配線の配線層へ投影したとき、前記投影像よりも外部へ延在している
請求の範囲1に記載の半導体装置。 - 前記信号用パッドは、前記信号用パッドと前記スーパーコネクト配線で接続される前記バンプを前記素子最上層配線の配線層へ投影したとき、前記投影像よりも内側にある
請求の範囲1又は2に記載の半導体装置。 - 前記スーパーコネクト絶縁膜及び前記スーパーコネクト配線の少なくとも一方が、2層以上の多層構造を有する
請求の範囲1乃至3のいずれか一項に記載の半導体装置。 - 前記多層構造を有する前記スーパーコネクト絶縁膜の各層に設けられたスーパーコネクトビアを更に具備し、
前記各層の前記スーパーコネクトビアの位置が縦方向でずれている
請求の範囲4に記載の半導体装置。 - 半導体基板上に半導体素子を形成する工程と、
前記半導体基板上に複数の絶縁層を介して設けられた素子配線を形成する工程と、
前記素子配線上に実質上同等のプロセス装置を用いて、信号用パッドと電源用パッドとグランド用パッドを備える素子最上層配線を形成する工程と、
前記素子最上層配線上に、前記絶縁層の5倍以上の厚さを有するスーパーコネクト絶縁層と、前記スーパーコネクト絶縁層内に埋め込まれたスーパーコネクトビアとを形成する工程と、
前記スーパーコネクトビア上に、配線厚さが前記素子配線及び前記素子最上層配線の3倍以上の厚さを有するスーパーコネクト配線を形成する工程と、
前記スーパーコネクト配線上に形成されるバンプを形成する工程と
を具備し、
前記素子最上層配線を形成する工程は、
前記信号用パッドの面積を、前記電源用パッド及び前記グランド用パッドよりも小さくする工程を備える
半導体装置の製造方法。 - 前記信号用パッドの面積を小さくする工程は、レーザによるトリミングである
請求の範囲6に記載の半導体装置の製造方法。
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