JPWO2008018315A1 - 光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物、光ディスクおよび光ディスクの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(1)基板上に、第一の情報記録層と第一の光反射層とを形成する工程と、
(2)表面に凹凸パターンを有し、少なくとも凹凸パターンが形成された表面がポリカーボネートからなるスタンパと、前記第一の光反射層との間に、上記の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物を挟持し、
紫外線を照射して前記紫外線硬化型組成物の硬化物からなる中間層を形成した後、前記中間層と前記スタンパとを剥離して、凹凸パターンが形成された中間層を形成する工程と、
(3)前記中間層上に、第二の情報記録層と第二の光反射層とを形成する工程、
を有する光ディスク記録媒体の製造方法を提供するものである。
本発明の光ディスク中間層用用紫外線硬化型組成物は、一分子中に3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能(メタ)アクリレート(以下、多官能(メタ)アクリレートと略記する)と、一分子中に2個の(メタ)アクリロイル基を有する二官能(メタ)アクリレート(以下、二官能(メタ)アクリレートと略記する)と、一分子中に1個の(メタ)アクリロイル基を有する単官能(メタ)アクリレートとを含有する紫外線硬化型組成物であって、紫外線硬化型組成物に含まれる(メタ)アクリレート中の多官能(メタ)アクリレートの含有量が30〜70質量%であり、単官能(メタ)アクリレートの含有量が5〜30質量%であり、脂環式構造を有する二官能(メタ)アクリレートと脂環式構造を有する単官能(メタ)アクリレートの含有量の和が10〜50質量%であり、かつ、メタクリレートの含有量が7質量%以上の紫外線硬化型組成物である。なお、本明細書中で(メタ)アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートをいい、同様に(メタ)アクリロイル基とは、アクリロイル基又はメタクリロいうる基をいう。また、中間層とは、光ディスクの表層以外の部分に設けられる光透過層などの表裏に他の層を有する層をいう。
本発明の紫外線硬化型組成物は、紫外線硬化型組成物に含まれる(メタ)アクリレート100質量%のうち、多官能(メタ)アクリレートを30〜70質量%、好ましくは40〜70質量%、より好ましくは、50〜70質量%含有する。本発明の紫外線硬化型組成物は、多官能(メタ)アクリレートを高い含有率で含有することにより、剛直な硬化膜が得られ、ポリカーボネート等の汎用樹脂との剥離性の向上に寄与すると共に、高温でも極めて硬く、高いガラス転移温度が得られるため、記録の際の熱を受けたとしても、それによる変形を殆ど生じない。従って、本発明の紫外線硬化型組成物は、光ディスクの中間層として、好適な剥離性や耐熱性を有する硬化物を与えることができる。
本発明の紫外線硬化型組成物は、二官能(メタ)アクリレートを含有することにより、紫外線硬化型組成物の粘度や、得られる硬化物の物性を光ディスクに適した範囲に調整することができる。
本発明の紫外線硬化型組成物は、紫外線硬化型組成物に含まれる(メタ)アクリレート中に、単官能(メタ)アクリレートを5〜30質量%、好ましくは5〜25質量%、より好ましくは5〜20質量%含有する。単官能(メタ)アクリレートを当該含有量で、三官能(メタ)アクリレートと併用することで、硬化膜の架橋構造を好適に調整し、ポリカーボネート等の樹脂に対する接着性を低下させることができる。
本発明の紫外線硬化型組成物は、紫外線硬化型組成物に含まれる(メタ)アクリレートのうち、脂環式構造を有する二官能(メタ)アクリレートと脂環式構造を有する単官能(メタ)アクリレートの含有量の和が10〜50質量%、好ましくは20〜50質量%、より好ましくは25〜45質量%、特に好ましくは30〜45質量%である。脂環式構造を有する(メタ)アクリレートは剛直な環構造を有するため、当該範囲で含有することにより、三官能以上のアクリレートと共に高温での高い弾性率と高いガラス転移温度を与えることができる。また、極性基を有さないものを使用することによりポリカーボネート等の樹脂に対する接着性を低下させることができる。
本発明の紫外線硬化型組成物は、紫外線硬化型組成物に使用する(メタ)アクリレート中、7質量%以上がメタクリレートとなるよう含有させることにより、硬化膜にポリカーボネート等の汎用樹脂に対する好適な剥離性を与えることができる。メタクリレートの含有量の上限は特に制限されないが、メタクリレートの量が多いと硬化性が低下する傾向があるため、75質量%以下とすることが好ましく、7〜45質量%であることがより好ましく、10〜30質量%であることが特に好ましい。なかでも、メタクリレートとしては単官能メタクリレートを使用することが剥離性の向上に好適であり、単官能メタクリレートを7質量%以上含有することが好ましく、単官能メタクリレートを10質量%含有することが好ましい。
本発明の紫外線硬化型組成物は、上記(メタ)アクリレート以外に(メタ)アクリレートオリゴマーを含有してもよい。(メタ)アクリレートオリゴマーの中でもエポキシ(メタ)アクリレートは、剛直な構造を有することにより、ポリカーボネートに対する剥離性が向上するため、好ましい。
本発明では光重合開始剤を必要に応じ使用することができる。光重合開始剤としては、公知慣用のものがいずれも使用できるが、分子開裂型または水素引き抜き型のものが本発明で使用する光重合開始剤として好適である。本発明に使用する光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインイソブチルエーテル、2,4−ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、ベンジル、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン及び2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン等の分子開裂型や、ベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチル−ジフェニルスルフィド等の水素引き抜き型の光重合開始剤を使用することができる。
また、本発明においては、シリコン系の添加剤を使用することにより、ポリカーボネート等の樹脂との剥離性を向上させることができる。当該シリコン系の添加剤としては、たとえば、エチレンオキサイド変性シリコンアクリレートなどのシリコン系アクリレートや、プロピレンオキサイド変性シリコンアクリレート、エチレンオキサイド変性シリコンオイルや、プロピレンオキサイド変性シリコンオイルなどの変性シリコンオイルが使用できる。
また、本発明の組成物を構成する際の任意成分としては、次のようなものが有り、本発明の効果を損なわない範囲内で使用可能である。すなわち、光重合開始剤に対する増感剤として、例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、N,N−ジメチルベンジルアミン及び4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等であり、さらには前述光重合性化合物と付加反応を起こさないアミン類を併用することもできる。もちろん、これらは、紫外線硬化性化合物への溶解性に優れ、かつ紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いることが好ましい。また、本発明の紫外線硬化型組成物には、必要に応じて、添加剤として、界面活性剤、レベリング剤、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ホスファイト等の酸化防止剤、ヒンダードアミン等の光安定剤を使用することもできる。
本発明の紫外線硬化型組成物は、上記構成により、架橋密度が高くなり剛直な硬化物を形成して、高い弾性率と、高いガラス転移温度を実現でき、情報を記録する際に変形を生じにくくなる。また、剛直であると共に適度な柔軟性を有する硬化膜を実現でき、汎用樹脂、特にポリカーボネートとの優れた剥離性を発現できる。
次に本発明の光ディスクについて説明する。本発明の光ディスクは、基板上に少なくとも1層の光反射層を有する光ディスクであって、基板と光反射層との間、又は、隣り合う2層の反射層の間に、上記紫外線硬化型組成物の硬化物からなる硬化層を有し、前記硬化層が、その表面に凹凸パターンを有するものである。ここで、凹凸パターンとは、ピット、グルーブ及びランドの少なくとも一つをいう。
本発明の光ディスクは、表面に凹凸パターンを有し、少なくとも凹凸パターンが形成された表面がポリカーボネートからなるスタンパと、光反射層を有する基板との間に、上記した本発明の紫外線硬化型組成物を挟持し、紫外線を照射して前記紫外線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層を形成した後、前記光透過層と前記スタンパとを剥離して、凹凸パターンが形成された光透過層を形成する工程を有する製造方法により好適に製造される。
(I)基板上に、少なくとも第一の情報記録層、第一の光反射層、光透過層、第二の情報記録層、第二の光反射層とが順に積層された光ディスクの製造方法であって、
(1)基板上に、第一の情報記録層と第一の光反射層とを順に積層する工程と、
(2)表面に凹凸パターンを有し、少なくとも凹凸パターンが形成された表面がポリカーボネートからなるスタンパと、前記第一の光反射層との間に、上記本発明の紫外線硬化型組成物を挟持し、
紫外線を照射して前記紫外線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層を形成した後、前記中間層と前記スタンパとを剥離して、凹凸パターンが形成された光透過層を形成する工程と、
(3)前記光透過層上に、第二の情報記録層と第二の光反射層とを順に積層する工程、
を有する方法。
(1’)基板上に、第一の光反射層と第一の情報記録層とを順に積層する工程と、
(2’)表面に凹凸パターンを有し、少なくとも凹凸パターンが形成された表面がポリカーボネートからなるスタンパと、前記第一の情報記録層との間に、上記本発明の紫外線硬化型組成物を挟持し、
紫外線を照射して前記紫外線硬化型組成物の硬化物からなる第一の光透過層を形成した後、前記第一の光透過層と前記スタンパとを剥離して、凹凸パターンが形成された第一の光透過層を形成する工程と、
(3’)前記第一の光透過層上に、第二の光反射層、第二の情報記録層及び第二の光透過層とを順に積層する工程、
を有する方法。
以下、本発明の光ディスクの具体例として、上記(i)の構成における情報記録層として、色素記録層を使用した例を以下に示す。
この場合、光透過層(c1)4と色素記録層(a2)31とが接し、色素記録層(b)5と光透過層(c2)33とが接するように積層する。光透過層(c2)33は、これまで詳細に説明してきた上記の紫外線硬化型組成物により形成する。
また、2以上の積層体(s)23を積層する場合には、一方の積層体(s1)の色素記録層(a2)と、この積層体(s1)と隣接する他の積層体(s2)の光透過層(c2)とが接するようにこれまで詳細に説明してきた上記の紫外線硬化型組成物の光透過層を介して積層する。
図2に示した光ディスクにおける第1記録層21に、更に積層体(s)23を1層だけ積層した例が図3の光ディスクである。
図1に示す光ディスクの製造方法を以下に説明する。
まず、ポリカーボネート樹脂を射出成形することによって、記録トラック(グルーブ)11と呼ばれるレーザー光をトラッキングするための案内溝を有する基板(d1)1を作製する。次にアゾ系色素を溶剤に溶解させた後、基板(d1)1の記録トラック側の表面にスピンコート等により色素記録層(a1)2を形成する。更にその上に、銀合金などをスパッタまたは蒸着することにより半透明の光反射層(t1)3を成膜し、第1記録層21を作製する。
まず、ポリカーボネート樹脂を射出成形にすることによって、記録トラック(グルーブ)11と呼ばれるレーザー光をトラッキングするための案内溝を有する基板(d1)1を作製する。次にアゾ系色素を溶剤に溶解させた後、基板(d1)1の記録トラック側の表面にスピンコート等により色素記録層(a1)2を形成する。更にその上に、銀合金などをスパッタまたは蒸着することにより半透明の光反射層(t1)3を成膜し、第1記録層21を作製する。
上記の図2に示す光ディスクにおける第1記録層21及び光透過層(c1)4を形成する方法と同様にして、図3に示す基板(d1)1の上に第1記録層21を形成し、その上に、記録トラック(グルーブ)を有する紫外線硬化型組成物の光透過層(c1)4を形成する。次に、図2に示す光ディスクにおける第1記録層21を形成する方法と同様にして、図3の積層体(s)23を形成する。この上に、図2に示す光ディスクにおける第2記録層22を形成する方法と同様にして、第2記録層22を形成する。最後に、第2記録層22の光反射層(r)6表面に、紫外線硬化型接着剤を塗布し、記録層を有しないポリカーボネート樹脂基板(d2)7と貼り合わせ、この貼り合わせたディスクの片面または両面から紫外線を照射して、紫外線硬化型接着剤を硬化させ、接着層8を形成し、図3の光ディスクを作製できる。
<組成物および光ディスクサンプルの調製>
下記表1〜7に示した配合組成(表中の配合数値は質量部を表す)により、各組成材料を60℃で3時間加熱・溶解して、各実施例および各比較例の紫外線硬化型組成物を調製した。
次に、厚さ1.2mm、直径120mmの光ディスク用ポリカーボネート基板上に実施例及び比較例の各組成物を膜厚が30μmになるように塗布し、ウシオ電機(株)社製フラッシュランプSBC−17を使用して、1450Vの電圧で15ショットの紫外線を照射して硬化膜とし、評価用の各光ディスク用サンプルを調製した。ただし、比較例11〜12の組成物については、当該条件では硬化しなかったため、アイグラフィック(株)社製水銀ランプにて1000mJで硬化させて評価用の各光ディスク用サンプルを調製した。
ステンレス製の10mm角のアタッチメントに両面テープを貼り、その後、上記光ディスク用サンプルの硬化膜と接着させる。このアタッチメント周囲をカッターナイフで硬化膜をカットする。その後、イマダ(株)製電動式縦型電動スタンドMX500Nを用い、90°方向にステンレス製の10mm角のアタッチメントを125mm/minの速度で引っ張り、剥離時の接着力を測定した。また、剥離試験として、剥離後のポリカーボネート基板の状態を観察した。剥離試験の評価基準は以下のとおりである。
◎:剥離が良好であり、剥離面のポリカーボネート基板や硬化膜にひび割れや欠損が見られないもの。
○:剥離の際にやや抵抗があるが、剥離面のポリカーボネート基板や硬化膜にひび割れや欠損が見られないもの。
×:剥離面にひび割れが生じたもの、剥離せず欠損部分が生じたもの。
紫外線硬化型組成物をガラス板上に乾燥塗膜厚が100μmになるように塗布した後、メタルハライドランプ(コールドミラー付き、ランプ出力120W/cm)を用いて窒素雰囲気中で0.5J/cm2で硬化させた。この硬化塗膜の弾性率を、自動動的粘弾性測定機(Reometric Scienctific社製SOLID ANALYZER RSA−III)で測定し、100℃での動的弾性率E‘を求めた。このE’を弾性率とした。
測定条件
(1)サンプルサイズ: 幅6mm、長さ20mm
(2)ひずみ: 0.1%
(3)周波数:3.5Hz
(4)昇温速度: 3℃/min
DPHA:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート「PH−4600」コグニスジャパン(株)社製
TMPTA:トリメチロールプロパントリアクリレート
PETA:ペンタエリスリトールテトラアクリレート「アロニックスM−450」東亞合成(株)社製
TAEIC:トリス(2−アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート
TMPTMA:トリメチロールプロパントリメタクリレート
TMP(EO)TA:トリメチロールプロパン1モルに3モルのエチレンオキサイドを付加して得たトリオールのトリアクリレート
TCDDA:トリシクロデカンジメタノールジアクリレート
TCDDMA:トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート
NPGDA:ネオペンチルグリコールジアクリレート
R−604:上記式(1)において、R1及びR5が水素原子、R2及びR3がメチル基、R4がエチル基である化合物(日本化薬(株)社製)
IBXA:イソボルニルアクリレート(大阪有機化学工業(株)社製)
IB−X:イソボルニルメタクリレート(共栄社化学(株)社製)
エポキシアクリレート:ビスフェノールA型エポキシアクリレート「ユニディックV5530」大日本インキ化学工業(株)社製
エポキシメタクリレート:ビスフェノールA型エポキシメタクリレート「CN151」サートマージャパン(株)社製
ウレタンアクリレート:分子量1200のポリテトラメチレングリコール1モルとメチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)2モルとの反応生成物に、さらに2−ヒドロキシエチルアクリレート2モルを反応させて得られるポリウレタンアクリレート
Tegorad2200N:シリコン系添加剤(デグサジャパン株式会社製)
HCPK: 1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
2 色素記録層(a1)
3 半透明光反射層(t1)
4 紫外線硬化型組成物の光透過層(c1)
5 色素記録層(b)
6 光反射層(r)
7 基板(d2)
8 接着層
11 凸状の記録トラック(グルーブ)
12 凸状の記録トラック(グルーブ)
13 凸状の記録トラック(グルーブ)
21 色素記録層(a1)2と半透明光反射層(t1)3とが積層された第1記録層
22 色素記録層(b)5と光反射層(r)6とが積層された第2記録層
23 積層体(s)
31 色素記録層(a2)
32 半透明光反射層(t2)
33 紫外線硬化型組成物の光透過層(c2)
41 光透過層(c3)
42 光透過層(c4)
43 光過層(c5)
44 光透過層(c6)
DPHA:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート「PH−4600」コグニスジャパン(株)社製
TMPTA:トリメチロールプロパントリアクリレート
PETA:ペンタエリスリトールテトラアクリレート「アロニックスM−450」東亞合成(株)社製
TAEIC:トリス(2−アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート
TMPTMA:トリメチロールプロパントリメタクリレート
TMP(EO)TA:トリメチロールプロパン1モルに3モルのエチレンオキサイドを付加して得たトリオールのトリアクリレート
TCDDA:トリシクロデカンジメタノールジアクリレート
TCDDMA:トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート
NPGDA:ネオペンチルグリコールジアクリレート
R−604:上記式(1)において、R1及びR5が水素原子、R2及びR3がメチル基、R4がエチル基である化合物(日本化薬(株)社製)
IB−XA:イソボルニルアクリレート(大阪有機化学工業(株)社製)
IB−X:イソボルニルメタクリレート(共栄社化学(株)社製)
エポキシアクリレート:ビスフェノールA型エポキシアクリレート「ユニディックV5530」大日本インキ化学工業(株)社製
エポキシメタクリレート:ビスフェノールA型エポキシメタクリレート「CN151」サートマージャパン(株)社製
ウレタンアクリレート:分子量1200のポリテトラメチレングリコール1モルとメチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)2モルとの反応生成物に、さらに2−ヒドロキシエチルアクリレート2モルを反応させて得られるポリウレタンアクリレート
Tegorad2200N:シリコン系添加剤(デグサジャパン株式会社製)
HCPK: 1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
Claims (13)
- 一分子中に3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能(メタ)アクリレートと、一分子中に2個の(メタ)アクリロイル基を有する二官能(メタ)アクリレートと、一分子中に1個の(メタ)アクリロイル基を有する単官能(メタ)アクリレートとを含有する紫外線硬化型組成物であって、
紫外線硬化型組成物に含まれる(メタ)アクリレート中の多官能(メタ)アクリレートの含有量が30〜70質量%であり、単官能(メタ)アクリレートの含有量が5〜30質量%であり、
脂環式構造を有する二官能(メタ)アクリレートと脂環式構造を有する単官能(メタ)アクリレートの含有量の和が10〜50質量%であり、かつ、メタクリレートの含有量が7質量%以上であることを特徴とする光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物。 - 前記多官能(メタ)アクリレートが、トリス(2−アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートから選ばれる少なくとも一種である請求項1に記載の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物。
- 前記脂環式構造を有する二官能(メタ)アクリレートが、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート及びペンタシクロペンタデカンジメタノールジ(メタ)アクリレートから選ばれる少なくとも一種であり、前記脂環式構造を有する単官能(メタ)アクリレートが、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート及びジシクロペンタニル(メタ)アクリレートから選ばれる少なくとも一種である請求項1に記載の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物。
- 前記メタクリレートが、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、ジシクロペンテニルメタクリレート及びジシクロペンタニルメタクリレートから選ばれる少なくとも一種である請求項1に記載の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物。
- ポリカーボネート基板上に硬化後の膜厚が30μmになるように塗布して1450Vの電圧で15ショットの紫外線を照射して硬化膜を形成し、硬化膜を90°方向に125mm/minの速度で引っ張った際の接着力が、4kg/cm2以下である請求項1に記載の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物。
- 25℃でのB型粘度が50〜1000mPa・sである請求項1に記載の紫外線硬化型組成物。
- 硬化後の膜厚が30μmになるように1450Vの電圧で15ショットの紫外線を照射して形成した硬化膜の100℃における弾性率が500〜4000MPaである請求項1に記載の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物。
- 基板上に少なくとも2層の光反射層を有する光ディスクであって、隣り合う2層の光反射層の間に、請求項1〜7のいずれかに記載の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層を有し、前記光透過層が、その表面に凹凸パターンを有することを特徴とする光ディスク。
- 基板上に、少なくとも第一の情報記録層、第一の光反射層、光透過層、第二の情報記録層、第二の光反射層とが順に積層され、前記光透過層が請求項1〜7のいずれかに記載の紫外線硬化型組成物の硬化物からなる層であり、前記中間層の第二の情報記録層と積層される表面に凹凸パターンを有し、前記基板面から入射した光により記録又は再生を行うことを特徴とする光ディスク。
- 基板上に、少なくとも第一の光反射層、第一の情報記録層、第一の光透過層、第二の光反射層、第二の情報記録層、第二の光透過層とが順に積層され、前記第一の光透過層が請求項1〜7のいずれかに記載の紫外線硬化型組成物の硬化物からなる層であり、前記第一の光透過層の第二の光反射層と積層される表面に凹凸パターンを有し、前記基板面から入射した光により記録又は再生を行うことを特徴とする光ディスク。
- 基板上に少なくとも2層の光反射層を有する光ディスクの製造方法であって、
表面に凹凸パターンを有し、少なくとも凹凸パターンが形成された表面がポリカーボネートからなるスタンパと、光反射層を有する基板との間に、請求項1〜7のいずれかに記載の紫外線硬化型組成物を挟持し、
紫外線を照射して前記紫外線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層を形成した後、前記光透過層と前記スタンパとを剥離して、凹凸パターンが形成された光透過層を形成する工程を有することを特徴とする光ディスクの製造方法。 - 基板上に、少なくとも第一の情報記録層、第一の光反射層、光透過層、第二の情報記録層、第二の光反射層とが順に積層された光ディスクの製造方法であって、
(1)基板上に、第一の情報記録層と第一の光反射層とを順に積層する工程と、
(2)表面に凹凸パターンを有し、少なくとも凹凸パターンが形成された表面がポリカーボネートからなるスタンパと、前記第一の光反射層との間に、請求項1〜7のいずれかに記載の紫外線硬化型組成物を挟持し、
紫外線を照射して前記紫外線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層を形成した後、前記光透過層と前記スタンパとを剥離して、凹凸パターンが形成された光透過層を形成する工程と、
(3)前記光透過層上に、第二の情報記録層と第二の光反射層とを順に積層する工程、
を有することを特徴とする光ディスクの製造方法。 - 基板上に、少なくとも第一の光反射層、第一の情報記録層、第一の光透過層、第二の光反射層、第二の情報記録層、第二の光透過層とが順に積層された光ディスクの製造方法であって、
(1’)基板上に、第一の光反射層と第一の情報記録層とを順に積層する工程と、
(2’)表面に凹凸パターンを有し、少なくとも凹凸パターンが形成された表面がポリカーボネートからなるスタンパと、前記第一の情報記録層との間に、請求項1〜7のいずれかに記載の紫外線硬化型組成物を挟持し、
紫外線を照射して前記紫外線硬化型組成物の硬化物からなる第一の光透過層を形成した後、前記第一の光透過層と前記スタンパとを剥離して、凹凸パターンが形成された第一の光透過層を形成する工程と、
(3’)前記第一の光透過層上に、第二の光反射層、第二の情報記録層及び第二の光透過層とを順に積層する工程、
を有することを特徴とする光ディスクの製造方法。
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