JPWO2008013002A1 - 金属微粒子を含有する分散液、その製造方法および金属膜を有する物品 - Google Patents
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- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 174
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 173
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 title claims abstract description 135
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 9
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 title claims abstract description 8
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims abstract description 242
- 150000004681 metal hydrides Chemical class 0.000 claims abstract description 74
- 229910052987 metal hydride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 73
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 35
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims abstract description 14
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 claims abstract description 13
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 11
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims abstract description 10
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 43
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 42
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 42
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 28
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 24
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 22
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 17
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 13
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 12
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 11
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 9
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 7
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 claims 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 20
- 238000010304 firing Methods 0.000 abstract description 18
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 15
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract description 13
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract description 13
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 12
- 239000003223 protective agent Substances 0.000 description 30
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 20
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 15
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 14
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 14
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 13
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 13
- 229910000050 copper hydride Inorganic materials 0.000 description 12
- LTYZGLKKXZXSEC-UHFFFAOYSA-N copper dihydride Chemical compound [CuH2] LTYZGLKKXZXSEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 10
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 9
- -1 phosphate ester salt Chemical class 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 7
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 5
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 5
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 5
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N dodecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N copper(I) oxide Inorganic materials [Cu]O[Cu] BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N cuprous oxide Chemical compound [O-2].[Cu+].[Cu+] KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940112669 cuprous oxide Drugs 0.000 description 3
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- HFDVRLIODXPAHB-UHFFFAOYSA-N 1-tetradecene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC=C HFDVRLIODXPAHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012448 Lithium borohydride Substances 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N benzylamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1 WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 2
- XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N limonene Chemical compound CC(=C)C1CCC(C)=CC1 XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229910000652 nickel hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 230000001603 reducing effect Effects 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 2
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- BGHCVCJVXZWKCC-UHFFFAOYSA-N tetradecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC BGHCVCJVXZWKCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGLWBTPVKHMVHM-KTKRTIGZSA-N (z)-octadec-9-en-1-amine Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCN QGLWBTPVKHMVHM-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- CRSBERNSMYQZNG-UHFFFAOYSA-N 1 -dodecene Natural products CCCCCCCCCCC=C CRSBERNSMYQZNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFBALUPVVFCEPA-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxyphenyl)phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 LFBALUPVVFCEPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 4-(4-chlorophenyl)-4,5,6,7-tetrahydrothieno[3,2-c]pyridine Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C1C(C=CS2)=C2CCN1 CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 1
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N Decylamine Chemical compound CCCCCCCCCCN MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REYJJPSVUYRZGE-UHFFFAOYSA-N Octadecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCN REYJJPSVUYRZGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PLZVEHJLHYMBBY-UHFFFAOYSA-N Tetradecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCN PLZVEHJLHYMBBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- WUOACPNHFRMFPN-UHFFFAOYSA-N alpha-terpineol Chemical compound CC1=CCC(C(C)(C)O)CC1 WUOACPNHFRMFPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 1
- MPTQRFCYZCXJFQ-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride dihydrate Chemical compound O.O.[Cl-].[Cl-].[Cu+2] MPTQRFCYZCXJFQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SQIFACVGCPWBQZ-UHFFFAOYSA-N delta-terpineol Natural products CC(C)(O)C1CCC(=C)CC1 SQIFACVGCPWBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004925 denaturation Methods 0.000 description 1
- 230000036425 denaturation Effects 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940069096 dodecene Drugs 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003733 fiber-reinforced composite Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000036571 hydration Effects 0.000 description 1
- 238000006703 hydration reaction Methods 0.000 description 1
- XPXMKIXDFWLRAA-UHFFFAOYSA-N hydrazinide Chemical compound [NH-]N XPXMKIXDFWLRAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000103 lithium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N n-decene Natural products CCCCCCCCC=C AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000615 nonconductor Substances 0.000 description 1
- LYRFLYHAGKPMFH-UHFFFAOYSA-N octadecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O LYRFLYHAGKPMFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N octan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FATBGEAMYMYZAF-KTKRTIGZSA-N oleamide Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(N)=O FATBGEAMYMYZAF-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 229940113162 oleylamide Drugs 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920005646 polycarboxylate Polymers 0.000 description 1
- NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N potassium hydride Chemical compound [KH] NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000105 potassium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 239000011208 reinforced composite material Substances 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000007767 slide coating Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000010301 surface-oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229940116411 terpineol Drugs 0.000 description 1
- 229940095068 tetradecene Drugs 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/09—Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
- H05K1/092—Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
- H05K1/097—Inks comprising nanoparticles and specially adapted for being sintered at low temperature
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D17/00—Pigment pastes, e.g. for mixing in paints
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F1/00—Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
- B22F1/05—Metallic powder characterised by the size or surface area of the particles
- B22F1/054—Nanosized particles
- B22F1/0545—Dispersions or suspensions of nanosized particles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/30—Inkjet printing inks
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/52—Electrically conductive inks
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/24—Electrically-conducting paints
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- H—ELECTRICITY
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- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/09—Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
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- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F2999/00—Aspects linked to processes or compositions used in powder metallurgy
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- H—ELECTRICITY
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/11—Treatments characterised by their effect, e.g. heating, cooling, roughening
- H05K2203/1163—Chemical reaction, e.g. heating solder by exothermic reaction
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
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- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
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- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31678—Of metal
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Abstract
Description
(1)金属微粒子を含有する分散液をインクジェット印刷法で塗布、焼成し、プリント配線等の回路パターンの形成および修復、半導体パッケージ内の層間配線、プリント配線板と電子部品との接合等を行う方法(特許文献1)。
(2)ハンダ付けの代わりに、金属微粒子を含有する分散液を塗布、焼成し、金属間を接合する方法(特許文献2)。
(3)金属微粒子を含有する分散液を塗布、焼成し、電子材料分野におけるメッキ膜を形成する方法(特許文献3)。
(a)水溶性金属化合物を水に溶解して金属イオンを含有する水溶液を調製する工程。
(b)水溶液に酸を加えてpHを3以下に調整する工程。
(c)pHが3以下に調整された水溶液に、アミノ基を有する有機化合物および非水溶性有機溶媒を加えた後、これらを撹拌して懸濁液を得る工程。
(d)懸濁液を撹拌しながら、懸濁液に還元剤を加えて金属イオンを還元し、平均粒子径が50nm以下である水素化金属微粒子を生成させる工程。
(e)懸濁液を水層と油層とに分離させた後、油層を水素化金属微粒子分散液として回収する工程。
前記不活性雰囲気が、酸素を1000ppm以下含有することが好ましい。
前記金属微粒子分散液が、平均粒子径が50nm以下である金属微粒子を含有することが好ましい。
前記金属微粒子分散液が、金属微粒子分散液100質量%中に5〜60質量%の金属微粒子を含有することが好ましい。
前記水素化金属微粒子分散液が、水素化金属微粒子100質量部に対して1〜50質量部のアミノ基を有する炭素数4〜1000の有機化合物を含有することが好ましい。
前記水素化金属微粒子分散液が、水素化金属微粒子分散液100質量%中に1〜40質量%の水素化金属微粒子を含有することが好ましい。
本発明の金属微粒子分散液は、本発明の金属微粒子分散液の製造方法によって得られたものである。
本発明の物品は、基材と、該基材上に、本発明の金属微粒子分散液の製造方法によって得られた金属微粒子分散液を塗布、焼成して形成された金属膜とを有するものである。
本発明の金属微粒子分散液の製造方法によれば、耐酸化性および分散安定性に優れ、導電性に優れる金属膜を形成できる金属微粒子分散液を製造できる。
本発明の物品は、導電性に優れる金属膜を有する。
本発明の金属微粒子分散液の製造方法は、分散媒と、該分散媒中に分散した平均粒子径が50nm以下である水素化金属微粒子と、アミノ基を有する炭素数4〜1000の有機化合物(以下、保護剤と記す。)とを含む水素化金属微粒子分散液を、不活性雰囲気下、60〜350℃で加熱する方法である。
不活性雰囲気を形成するガスとしては、窒素、アルゴン、ヘリウム等を含むガスが挙げられる。該ガス中の酸素濃度は、1000ppm以下が好ましく、200ppm以下がより好ましい。ガス中の酸素濃度が1000ppm以下であれば、金属微粒子の酸化を抑制できる。
分散液の分散媒としては、後述の水溶液と混合した際に分散媒への水の溶解を抑制でき、分散媒の特性変化が小さい点から、非水溶性有機溶媒(以下、有機溶媒と記す。)が好ましい。非水溶性とは、室温(20℃)における水100gへの溶解度が0.5g以下であることを意味する。
有機溶媒としては、極性の少ないものが好ましい。極性の少ない有機溶媒は、保護剤との親和性がよい。有機溶媒としては、金属微粒子分散液を製造する際、または金属膜を形成する際の加熱により熱分解しないものが好ましい。
保護剤は、水素化金属微粒子および金属微粒子の凝集を抑制し、かつ水素化金属微粒子および金属微粒子の酸化を抑制する。
保護剤は、アミノ基を有する炭素数4〜1000の有機化合物である。炭素数が4以上であれば、炭素鎖による立体障害効果が発揮され、分散安定性が向上する。炭素数が1000以下であれば、分子鎖が長すぎることなく、保護剤同士の絡み合いが抑制でき、分散安定性が悪化しない。炭素数は、4〜200が好ましく、4〜20がより好ましく、4〜18が特に好ましい。
保護剤におけるアミノ基は、分子内のいずれの位置に存在していてもよく、熱的な安定性があり、蒸気圧が適度であり、取り扱い性が良い点から、末端に存在することが好ましい。
保護剤としては、水素化金属微粒子または金属微粒子により強く配位結合する点から、アミノ基を2個以上有するものが好ましい。
保護剤としては、通常の保管環境の温度範囲および加熱温度範囲において水素化金属微粒子または金属微粒子から脱離しないものが好ましい。
該高分子分散剤としては、下記市販品が挙げられる。
ビックケミー社製:Anti−Terra−U(長鎖ポリアミノアマイドと酸ポリマーとの塩)、Anti−Terra−204(ポリアミノアマイドのポリカルボン酸塩)、Disperbyk−101(長鎖ポリアミノアマイドと極性酸エステルとの塩)、Disperbyk−106(酸性基を有するポリマー塩)、Disperbyk−108(水酸基含有カルボン酸エステル)、Disperbyk−109(アルキロールアミノアマイド)、Disperbyk−112(顔料に親和性のあるアクリル系共重合物)、Disperbyk−116(顔料に親和性のあるアクリル系共重合物)、Disperbyk−130(不飽和ポリカルボン酸ポリアミノアマイド)、Disperbyk−140(酸性ポリマーのアルキルアンモニウム塩)、Disperbyk−142(顔料に親和性のある共重合物のリン酸エステル塩)、Disperbyk−145(顔料に親和性のある共重合物のリン酸エステル塩)、Disperbyk−161(顔料に親和性のあるブロック共重合物)、Disperbyk−162(顔料に親和性のあるブロック共重合物)、Disperbyk−164(顔料に親和性のあるブロック共重合物)、Disperbyk−166(顔料に親和性のあるブロック共重合物)、Disperbyk−167(顔料に親和性のあるブロック共重合物)、Disperbyk−168(顔料に親和性のあるブロック共重合物)、Disperbyk−2000(変性アクリル系ブロック共重合物)、Disperbyk−2001(変性アクリル系ブロック共重合物)、Disperbyk−2020(変性アクリル系ブロック共重合物)、Disperbyk−2050(顔料に親和性のあるアクリル系共重合物)、Disperbyk−2070(顔料に親和性のあるアクリル系共重合物)、Disperbyk−2150(顔料に親和性のあるブロック共重合物)。
味の素ファインテクノ社製:アジスパーPB821(塩基性高分子分散剤)、アジスパーPB822(塩基性高分子分散剤)、アジスパーPB711(塩基性高分子分散剤)。
楠本化成社製:ディスパロン1860(長鎖ポリアミノアマイドと高分子ポリエステル酸との塩)、ディスパロンKS873N(ポリエステルのアミン塩)、ディスパロンDA703−50(高分子量ポリエステル酸のアマイドアミン塩)、ディスパロンDA7400(高分子量ポリエステル酸のアマイドアミン塩)。
チバスペシャリティーケミカル社製:EFKA−4401(変性ポリアクリル系高分子分散剤)、EFKA−5044(不飽和ポリエステルポリアマイド)、EFKA−5207(水酸基を含む不飽和カルボン酸)、EFKA−6225(脂肪酸変性ポリエステル)、EFKA−4330(アクリルブロックコポリマー系高分子分散剤)、EFKA−4047(変性ポリウレタン系高分子分散剤)、EFKA−4060(変性ポリウレタン系高分子分散剤)。
保護剤の量は、分散液の用途により適宜選択すればよく、通常は、水素化金属微粒子100質量部に対して1〜50質量部が好ましく、2〜20質量部がより好ましい。保護剤の量が1質量部以上であれば、水素化金属微粒子および金属微粒子の凝集を充分に抑制でき、また、水素化金属微粒子および金属微粒子の酸化を充分に抑制できる。保護剤の量が50質量部以下であれば、導電性の良好な金属膜を形成できる。
水素化金属微粒子は、金属原子と水素原子とが結合した金属水素化物の微粒子である。水素化金属微粒子は、60℃以上の温度で金属と水素とに分解する性質を有するため、不活性雰囲気下での加熱によって金属微粒子となる。
水素化金属微粒子は、水素化金属微粒子の凝集および酸化を抑制する点から、分散液中にて保護剤で被覆されていることが好ましい。
水素化金属微粒子は、たとえば、国際公開第2004/110925号パンフレットに記載の方法により製造できる。
(a)水溶性金属化合物を水に溶解して金属イオンを含有する水溶液を調製する工程。
(b)該水溶液に酸を加えてpHを3以下に調整する工程。
(c)該水溶液に、有機溶媒および保護剤を加えた後、これらを撹拌して懸濁液を得る工程。
(d)懸濁液を撹拌しながら、懸濁液に還元剤を加えて金属イオンを還元し、水素化金属微粒子を生成させる工程(湿式還元法)。
(e)懸濁液を水層と油層とに分離させた後、油層を水素化金属微粒子分散液として回収する工程。
水溶性金属化合物としては、金属の硫酸塩、硝酸塩、酢酸塩、塩化物、臭化物、ヨウ化物等が挙げられる。
水溶性金属化合物の濃度は、水溶液100質量%中、0.1〜30質量%が好ましい。水溶性銅化合物の濃度が0.1質量%以上であれば、水の量が抑えられ、また、水素化金属微粒子の生産性が向上する。水溶性金属化合物の濃度が30質量%以下であれば、水素化金属微粒子の分散安定性が良好となる。
酸としては、クエン酸、マレイン酸、マロン酸、酢酸、プロピオン酸、硫酸、硝酸、塩酸等が挙げられ、金属イオンと安定な錯体を形成して金属イオンへの水和水の吸着を防止する点から、クエン酸、マレイン酸、マロン酸が好ましい。
水溶液のpHを3以下に調整することにより、水溶液中の金属イオンが還元剤によって還元されやすくなり、水素化金属微粒子が生成しやすくなる。すなわち、金属微粒子が生成しにくくなる。水溶液のpHは、水素化金属微粒子を短時間で生成できる点から、1〜2に調整されることが好ましい。
(b)工程で得られた水溶液に、有機溶媒および保護剤を加える。金属イオンを含有する水溶液からなる水層と、保護剤を含有する有機溶媒からなる油層とを撹拌することにより、懸濁液を得る。
(c)工程で得られた懸濁液に還元剤を加えることにより、水層において金属イオンが酸性下で還元剤により還元され、徐々に水素化金属微粒子が成長する。水素化金属微粒子はすぐに、油層に溶け込んでいる保護剤により表面を覆われ、油層に取り込まれて安定化する。すなわち、生成した水素化金属微粒子の表面に保護剤が配位し、水素化金属微粒子が保護剤で被覆され、水素化金属微粒子同士の凝集が抑えられる。
還元剤を懸濁液に加える際の温度は、5〜60℃が好ましく、10〜40℃が特に好ましい。該温度が60℃以下であれば、水素化金属微粒子の分解が抑えられる。
水素化金属微粒子が生成した後、懸濁液を放置すると、水層と油層とに分離する。該油層を回収することにより、有機溶媒中に水素化金属微粒子が分散した分散液が得られる。該分散液には、必要に応じて、有機溶媒を追加してもよい。
本発明の金属微粒子分散液は、本発明の金属微粒子分散液の製造方法によって得られた金属微粒子分散液である。
金属微粒子は、金属微粒子の凝集および酸化を抑制する点から、分散液中にて保護剤で被覆されていることが好ましい。
金属微粒子分散液中の保護剤の量は、通常は、金属微粒子100質量部に対して1〜300質量部が好ましく、1〜100質量部がより好ましい。保護剤の量が1質量部以上であれば、金属微粒子の凝集を充分に抑制でき、また、金属微粒子の酸化を充分に抑制できる。保護剤の量が300質量部以下であれば、導電性の良好な金属膜を形成できる。
金属微粒子分散液は、必要に応じて公知の添加剤、有機バインダ等を含有していてもよい。
本発明の物品は、基材と、該基材上に、本発明の金属微粒子分散液を塗布、焼成して形成された金属膜とを有するものである。
該物品としては、プリント配線板、半導体パッケージ、ディスプレイパネル等が挙げられる。
基材としては、ガラス基材、プラスチック基材、繊維強化複合材料等が挙げられる。
基材としては、金属膜との密着性に優れる点から、ポリイミドを含む基材が好ましい。
ポリイミドを含む基材としては、ポリイミドフィルム、最表層にポリイミド層を有する積層フィルムまたは積層基板、マトリックス樹脂がポリイミドであるガラス繊維強化複合材料、マトリックス樹脂がポリイミドであるシリカ複合フィルム等が挙げられる。
ポリイミドは、無機フィラー、無機蛍光体、有機蛍光体等の公知の添加剤を含有していてもよい。
金属膜は、基材の表面全体を覆う連続した膜であってもよく、所望のパターンの膜であってもよい。
金属膜の体積抵抗率は、100μΩcm以下が好ましく、50μΩcm以下がより好ましい。
金属膜の厚さは、0.5〜10μmが好ましく、0.5〜5μmがより好ましい。
物品は、たとえば、下記工程を経て製造される。
(I)本発明の金属微粒子分散液を基材の表面に塗布して塗膜を形成する工程。
(II)該塗膜を焼成して金属膜を形成する工程。
該工程においては、基材の表面全体を覆うように本発明の金属微粒子分散液を塗布してよく、基材の表面に本発明の金属微粒子分散液を所望のパターン状に塗布してもよい。
インク液滴径は、インク吐出孔から吐出された後、空間飛翔時に変化し、電気絶縁体層12の表面に付着した後、基材の表面で広がる。吐出直後のインクの径は、インク吐出孔径と同程度であり、基材に付着した後には、インクの直径は5〜100μmまで広がる。
したがって、金属微粒子分散液中の金属微粒子は、インク粘性等に影響を与えない限り凝集していてもよく、その凝集径としては2μm以下が好ましい。
塗膜が形成された基材を焼成炉内に入れ、窒素等の不活性ガス雰囲気下にて焼成炉内の温度を10℃/分の速度で焼成温度まで昇温し、該温度を所定時間(以下、保持時間と記す。)保持して焼成を行う。該焼成により、金属微粒子の融着が進行し、金属膜が形成される。
保持時間は、30〜240分が好ましく、30〜120分がより好ましい。保持時間が30分以上であれば、金属微粒子の融着が進行し、金属膜の体積抵抗率が良好となる。
また、本発明の金属微粒子分散液を用いることにより、導電性に優れる金属膜を形成できる。この理由は以下のように考えられる。
保護剤のアミノ基の窒素原子に非共有電子対があり、該窒素原子がより強固に金属微粒子に配位するため、焼成の際、(i)金属微粒子の酸化を抑制でき、金属膜の酸化度が低くなる、(ii)金属微粒子が凝集せず、均一に分散した状態で金属微粒子同士が表面融着するため、緻密な金属膜が形成される。
例1は実施例であり、例2〜5は比較例である。
溶液または分散液の濃度は、質量換算濃度である。
水素化銅微粒子および金属銅微粒子の同定は、X線回折装置(リガク機器社製、RINT2500)を用いて行った。
水素化銅微粒子および金属銅微粒子の平均粒子径は、無作為に抽出した100個の微粒子の粒子径を、透過型電子顕微鏡(日立製作所社製、H−9000)または走査型電子顕微鏡(日立製作所社製、S−800)を用いて測定し、該粒子径を平均して求めた。
金属膜の厚さは、接触式膜厚測定装置(Veeco社製、DekTak3)を用いて測定した。
金属膜の体積抵抗率は、四探針式抵抗計(三菱油化社製、lorestaIP MCP−T250)を用いて測定した表面抵抗値に金属膜の厚さをかけて計算した。
ガラス容器内において、塩化銅(II)二水和物5gを蒸留水150gで溶解して、銅イオンを含有する水溶液を得た。該水溶液のpHは3.4であった。
該水溶液に、40%クエン酸水溶液90gを加え、しばらく撹拌した。該水溶液のpHは1.7であった。
該水溶液に、ドデシルアミン0.4gおよびキシレン20gを混合した溶液を加え、激しく撹拌して懸濁液とした。
滴下終了後、該懸濁液を1時間静置して、水層と油層とに分離させた後、油層のみを回収した。微粒子がキシレン中に分散した黒色の分散液が得られた。
該分散液中の微粒子を回収してX線回折で同定を行ったところ、水素化銅微粒子であることが確認された。
該分散液中に分散した微粒子の平均粒子径は、10nmであった。
該分散液中の水素化銅微粒子の濃度は、10質量%であった。
分散液中の微粒子を回収してX線回折で同定を行ったところ、金属銅微粒子であることが確認された。
該分散液中に分散した微粒子の平均粒子径は、10nmであった。
分散液中の金属銅微粒子の濃度は、8質量%であった。
該金属膜の体積抵抗率は、15μΩcmであった。
該金属膜についてX線回折で同定を行ったところ、金属銅であることが確認された。
該金属膜のポリイミド基材への密着性を、塗膜の密着性試験方法(JIS K5600)によって評価した。結果を表1に示す。密着性は、100個の格子を形成した場合にテープ引き剥がし後も残存した格子の数を示す。
ドデシルアミンの代わりにドデカンチオールを用いた以外は、例1と同様にして微粒子分散液を得た。
該分散液中の微粒子を回収してX線回折で同定を行ったところ、加熱前は水素化銅微粒子であり、加熱後は金属銅微粒子であることが確認された。
水素化銅微粒子および金属銅微粒子の平均粒子径は、12nmであった。しかし、金属銅微粒子分散液においては、金属銅微粒子が激しく凝集し、凝集物が沈殿していた。
該膜の体積抵抗率を測定したが、導電性は認められなかった。
該膜についてX線回折で同定を行ったところ、金属銅であることが確認された。
40%クエン酸水溶液15gを添加したこと以外は、例1と同様にして加熱前の微粒子分散液を得た。40%クエン酸水溶液を添加した直後の水溶液のpHは、3.2であった。
該分散液中の微粒子を回収してX線回折で同定を行ったところ、金属銅微粒子であることが確認された。
該分散液中に分散した微粒子の平均粒子径は、15nmであった。
該分散液中の金属銅微粒子の濃度は、10%であった。
分散液中の微粒子を回収してX線回折で同定を行ったところ、金属銅微粒子であることが確認された。
該分散液中に分散した微粒子の平均粒子径は、18nmであった。
該分散液中の金属銅微粒子の濃度は、8%であった。
該膜の体積抵抗率は、10000μΩcmであった。
該膜についてX線回折で同定を行ったところ、亜酸化銅および金属銅の混合物であることが確認された。
クエン酸水溶液を添加しないこと以外は、例1と同様にして加熱前の微粒子分散液を得た。
該分散液中の微粒子を回収してX線回折で同定を行ったところ、金属銅微粒子であることが確認された。
該分散液中に分散した微粒子の平均粒子径は、18nmであった。
該分散液中の金属銅微粒子の濃度は、10%であった。
分散液中の微粒子を回収してX線回折で同定を行ったところ、金属銅微粒子であることが確認された。
該分散液中に分散した微粒子の平均粒子径は、18nmであった。
該分散液中の金属銅微粒子の濃度は、8%であった。
該膜の体積抵抗率は、15000μΩcmであった。
該膜についてX線回折で同定を行ったところ、亜酸化銅および金属銅の混合物であることが確認された。
市販の金属銅微粒子(石原産業社製、MD−50)2.0gをテトラデシルアミン0.4gおよびキシレン20gを混合した溶液に加え、超音波中で分散させ、金属銅微粒子分散液を得た。
該分散液中の微粒子を回収してX線回折で同定を行ったところ、金属銅微粒子であることが確認された。
金属銅微粒子の平均粒子径は、50nmであった。しかし、金属銅微粒子分散液においては、金属銅微粒子の一部が凝集し、凝集物が生じていた。
該膜の体積抵抗率は、25000μΩcmであった。
該膜についてX線回折で同定を行ったところ、金属銅および亜酸化銅の混合物であることが確認された。
なお、2006年7月28日に出願された日本特許出願2006−206454号の明細書、特許請求の範囲及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
Claims (10)
- 分散媒と、該分散媒中に分散した平均粒子径が50nm以下である水素化金属微粒子と、アミノ基を有する炭素数4〜1000の有機化合物と、を含む水素化金属微粒子を含有する分散液を不活性雰囲気下に60〜350℃で加熱し、前記水素化金属微粒子を金属微粒子にせしめることにより得られる、金属微粒子を含有する分散液の製造方法。
- 前記水素化金属微粒子を含有する分散液を、下記(a)〜(e)工程を有する方法にて得る、請求項1に記載の金属微粒子を含有する分散液の製造方法。
(a)水溶性金属化合物を水に溶解して金属イオンを含有する水溶液を調製する工程。
(b)水溶液に酸を加えてpHを3以下に調整する工程。
(c)pHが3以下に調整された水溶液に、アミノ基を有する有機化合物および非水溶性有機溶媒を加えた後、これらを撹拌して懸濁液を得る工程。
(d)懸濁液を撹拌しながら、懸濁液に還元剤を加えて金属イオンを還元し、平均粒子径が50nm以下である水素化金属微粒子を生成させる工程。
(e)懸濁液を水層と油層とに分離させた後、油層を水素化金属微粒子を含有する分散液として回収する工程。 - 前記金属が、銅またはニッケルである、請求項1または2に記載の金属微粒子を含有する分散液の製造方法。
- 前記不活性雰囲気が、酸素を1000ppm以下含有する、請求項1〜3のいずれかに記載の金属微粒子を含有する分散液の製造方法。
- 前記金属微粒子を含有する分散液が、平均粒子径が50nm以下である金属微粒子を含有する、請求項1〜4のいずれかに記載の金属微粒子を含有する分散液の製造方法。
- 前記金属微粒子を含有する分散液が、金属微粒子を含有する分散液100質量%中に5〜60質量%の金属微粒子を含有する、請求項1〜5のいずれかに記載の金属微粒子を含有する分散液の製造方法。
- 前記水素化金属微粒子を含有する分散液が、水素化金属微粒子100質量部に対して1〜50質量部のアミノ基を有する炭素数4〜1000の有機化合物を含有する、請求項1〜6のいずれかに記載の金属微粒子を含有する分散液の製造方法。
- 前記水素化金属微粒子を含有する分散液が、水素化金属微粒子を含有する分散液100質量%中に1〜40質量%の水素化金属微粒子を含有する、請求項1〜7のいずれかに記載の金属微粒子を含有する分散液の製造方法。
- 請求項1〜8のいずれかに記載の製造方法によって得られた、金属微粒子を含有する分散液。
- 基材と、該基材上に、請求項1〜8のいずれかに記載の製造方法によって得られた金属微粒子を含有する分散液を塗布、焼成して形成された金属膜とを有する、物品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008526698A JP5131191B2 (ja) | 2006-07-28 | 2007-06-13 | 金属微粒子を含有する分散液の製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006206454 | 2006-07-28 | ||
JP2006206454 | 2006-07-28 | ||
PCT/JP2007/061936 WO2008013002A1 (fr) | 2006-07-28 | 2007-06-13 | Dispersion contenant de fines particules métalliques, procédé de production de la dispersion et articles dotés de films métalliques |
JP2008526698A JP5131191B2 (ja) | 2006-07-28 | 2007-06-13 | 金属微粒子を含有する分散液の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2008013002A1 true JPWO2008013002A1 (ja) | 2009-12-17 |
JP5131191B2 JP5131191B2 (ja) | 2013-01-30 |
Family
ID=38981317
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008526698A Expired - Fee Related JP5131191B2 (ja) | 2006-07-28 | 2007-06-13 | 金属微粒子を含有する分散液の製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20090136770A1 (ja) |
EP (1) | EP2048205A4 (ja) |
JP (1) | JP5131191B2 (ja) |
KR (1) | KR20090035524A (ja) |
CN (1) | CN101495580A (ja) |
TW (1) | TW200827412A (ja) |
WO (1) | WO2008013002A1 (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5227828B2 (ja) * | 2009-02-17 | 2013-07-03 | 株式会社日立製作所 | 耐酸化性銅微粒子の作製方法、及び、それを用いた接合方法 |
KR101069926B1 (ko) * | 2009-08-17 | 2011-10-05 | 삼성전기주식회사 | 잉크젯용 잉크 조성물 |
EP2581153B1 (en) * | 2010-06-11 | 2015-11-25 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Method for collecting fine noble metal particles, and method for producing fine noble metal particle dispersion using collected fine noble metal particles |
TWI422628B (zh) * | 2011-09-02 | 2014-01-11 | Univ Nat Taiwan | 奈米金屬-聚合物複合導電薄膜與其製備方法 |
JP5088761B1 (ja) * | 2011-11-14 | 2012-12-05 | 石原薬品株式会社 | 銅微粒子分散液、導電膜形成方法及び回路基板 |
KR101376913B1 (ko) * | 2011-12-27 | 2014-03-20 | 삼성전기주식회사 | 구리 유기금속, 구리 유기금속 제조방법 및 구리 페이스트 |
WO2013147535A1 (en) * | 2012-03-30 | 2013-10-03 | Korea Research Institute Of Chemical Technology | Synthetic method of suppressing metal nano-particle from having oxidized film and method of manufacturing conductive metal thin film via solution-processed |
KR101418276B1 (ko) | 2012-03-30 | 2014-07-15 | 한국화학연구원 | 표면 산화막 형성이 제어된 금속 나노 입자 합성 방법 및 용액 공정을 통한 금속 전도성 박막의 제조방법 |
JP5738464B1 (ja) * | 2013-12-10 | 2015-06-24 | Dowaエレクトロニクス株式会社 | 銀微粒子分散液 |
US10030292B2 (en) * | 2014-05-26 | 2018-07-24 | Hrl Laboratories, Llc | Hydride-coated microparticles and methods for making the same |
CN107113981B (zh) * | 2014-12-22 | 2019-12-10 | 住友电气工业株式会社 | 印刷线路板用基板以及印刷线路板用基板的制造方法 |
JPWO2016104313A1 (ja) * | 2014-12-26 | 2018-09-13 | 御国色素株式会社 | 半導体電極層形成用分散液及び半導体電極層 |
WO2016117575A1 (ja) * | 2015-01-22 | 2016-07-28 | 住友電気工業株式会社 | プリント配線板用基材、プリント配線板及びプリント配線板の製造方法 |
TW202012170A (zh) * | 2018-06-29 | 2020-04-01 | 日商材料概念股份有限公司 | 佈線基板及其製造方法、與電子零件及其製造方法 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5296438A (en) * | 1992-09-29 | 1994-03-22 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Dimensionally stable metallic hydride composition |
US5443616A (en) * | 1993-07-14 | 1995-08-22 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Metal hydride composition and method of making |
JP4871443B2 (ja) * | 2000-10-13 | 2012-02-08 | 株式会社アルバック | 金属超微粒子分散液の製造方法 |
JP3942816B2 (ja) * | 2000-10-25 | 2007-07-11 | ハリマ化成株式会社 | 金属間のロウ付け接合方法 |
JP2002317215A (ja) * | 2001-04-19 | 2002-10-31 | Mitsuboshi Belting Ltd | 金属微粒子の製造方法 |
JP3774638B2 (ja) | 2001-04-24 | 2006-05-17 | ハリマ化成株式会社 | インクジェット印刷法を利用する回路パターンの形成方法 |
JP3764349B2 (ja) * | 2001-05-07 | 2006-04-05 | ハリマ化成株式会社 | 金属微粒子分散液を用いたメッキ代替導電性金属皮膜の形成方法 |
US6780218B2 (en) * | 2001-06-20 | 2004-08-24 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Production process for niobium powder |
JP2003193118A (ja) * | 2001-12-28 | 2003-07-09 | Mitsuboshi Belting Ltd | 金属微粒子の製造方法 |
JP2004179125A (ja) * | 2002-11-29 | 2004-06-24 | Mitsuboshi Belting Ltd | ガラス基板上に金属薄膜を形成する方法 |
JP3939735B2 (ja) * | 2003-05-16 | 2007-07-04 | ハリマ化成株式会社 | 銅微粒子焼結体型の微細形状導電体の形成方法、該方法を応用した銅微細配線ならびに銅薄膜の形成方法 |
EP1640338B1 (en) | 2003-06-10 | 2011-11-02 | Asahi Glass Company, Limited | Method for producing metal hydride fine particle, liquid dispersion containing metal hydride fine particle, and metallic material |
JP2005081501A (ja) * | 2003-09-09 | 2005-03-31 | Ulvac Japan Ltd | 金属ナノ粒子及びその製造方法、金属ナノ粒子分散液及びその製造方法、並びに金属細線及び金属膜及びその形成方法 |
EP1683167B1 (en) * | 2003-11-10 | 2012-04-18 | Showa Denko K.K. | Niobium powder for capacitor, niobium sintered body and capacitor |
EP1724789B1 (en) * | 2004-03-10 | 2010-12-22 | Asahi Glass Company, Limited | Metal-containing fine particle, liquid dispersion of metal-containing fine particle, and conductive metal-containing material |
JP2006124814A (ja) * | 2004-11-01 | 2006-05-18 | Asahi Glass Co Ltd | プリント配線板用金属箔の製造方法及びプリント配線板 |
WO2006076603A2 (en) * | 2005-01-14 | 2006-07-20 | Cabot Corporation | Printable electrical conductors |
JP4799874B2 (ja) | 2005-01-25 | 2011-10-26 | 日東電工株式会社 | 貼付剤 |
-
2007
- 2007-06-13 EP EP07745203A patent/EP2048205A4/en not_active Withdrawn
- 2007-06-13 KR KR1020097000903A patent/KR20090035524A/ko not_active Application Discontinuation
- 2007-06-13 WO PCT/JP2007/061936 patent/WO2008013002A1/ja active Application Filing
- 2007-06-13 JP JP2008526698A patent/JP5131191B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-06-13 CN CNA2007800286670A patent/CN101495580A/zh active Pending
- 2007-07-03 TW TW96124133A patent/TW200827412A/zh unknown
-
2009
- 2009-01-27 US US12/360,427 patent/US20090136770A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2008013002A1 (fr) | 2008-01-31 |
EP2048205A1 (en) | 2009-04-15 |
CN101495580A (zh) | 2009-07-29 |
EP2048205A4 (en) | 2010-07-21 |
JP5131191B2 (ja) | 2013-01-30 |
US20090136770A1 (en) | 2009-05-28 |
KR20090035524A (ko) | 2009-04-09 |
TW200827412A (en) | 2008-07-01 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100212 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120821 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121022 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151116 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5131191 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151116 Year of fee payment: 3 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |