JP2020012187A - 積層体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(1) 基材の表面をドライアイスで洗浄する工程と、基材の表面上に銅含有粒子を含む組成物を配置する工程と、組成物を熱処理して、基材の表面上に銅を含む被膜を形成する工程と、を備える、積層体の製造方法。
(2) 銅含有粒子が、銅を含むコア粒子と、コア粒子の表面の少なくとも一部を被覆する有機物と、を有し、有機物が、炭素数が7以下である炭化水素基を有するアルキルアミンを含む、(1)に記載の積層体の製造方法。
(3) ドライアイスで洗浄する工程において、ドライアイスの粒子を基材の表面に対して吹きつける、(1)又は(2)に記載の積層体の製造方法。
(4) 熱処理の温度が、100℃〜250℃である、(1)〜(3)のいずれかに記載の積層体の製造方法。
本実施形態の積層体の製造方法は、基材の表面をドライアイスで洗浄する工程(ドライアイス洗浄工程)と、基材の該表面上に銅含有粒子を含む組成物を配置する工程(組成物配置工程)と、組成物を熱処理して、基材上に銅を含む被膜を形成する工程(導体化工程)と、を備える。
ドライアイス洗浄工程で洗浄する基材の形状は任意であり、基材の材質は、特に制限されず、導電性を有していても有していなくてもよい。例えば、金、銀、銅、白金、パラジウム、亜鉛、ニッケル、錫、コバルト、鉄、アルミニウム等の金属、これら金属の合金、酸化インジウム錫、酸化亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムガリウム亜鉛、ケイ素、炭化ケイ素、窒化ガリウム等の半導体、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、ソーダ石灰ガラス等のガラス、黒鉛、グラファイト等のカーボン材料、液晶ポリマー、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート等のポリマー、紙などを挙げることができる。本実施形態の製造方法は、基材の表面に存在する汚染物質を好適に除去できるので、汚染されやすいような基材(例えば液晶ポリマーで形成された基材)を用いる場合にも好適である。
基材上に銅含有粒子を含む組成物を配置する方法は、組成物を基材上に任意の形状で形成可能な手法であれば特に制限はない。このような方法として、インクジェット法、スーパーインクジェット法、スクリーン印刷法、転写印刷法、オフセット印刷法、ジェットプリンティング法、ディスペンス法、ジェットディスペンス法、ニードルディスペンス法、カンマコート法、バーコート法、スリットコート法、ダイコート法、グラビアコート法、凸版印刷法、凹版印刷法、グラビア印刷法、ソフトリソグラフ法、ディップペンリソグラフ法、粒子堆積法、スプレーコート法、スピンコート法、ディップコート法、電着塗装法等を挙げることができる。
導体化工程では、銅含有粒子を含む組成物を加熱することで、銅含有粒子を焼結させて導体化し、基材上に銅を含む被膜を形成する。これは、加熱により銅を含むコア粒子の表面を被覆する有機物が除去され、コア粒子同士が接触することで導体化が達成され得る。
積層体は、上述の積層体の製造方法により得られる。積層体は、基材と、前記基材上に設けられた被膜と、を備え、被膜が、銅含有粒子を含む組成物を焼結してなる焼結体を含む。積層体の製造方法では、基材をドライアイスで洗浄しているため、基材の表面に汚染物質がほとんどないと考えられる。そのため、被膜と基材がより強く密着していると推察される。
水酸化銅(関東化学株式会社、特級)91.5g(0.94mmol)に1−プロパノール(関東化学株式会社、特級)150mLを加えて撹拌し、これにノナン酸(関東化学株式会社、90%以上)370.9g(2.34mmol)を加えた。得られた混合物を、セパラブルフラスコ中で90℃、30分間加熱撹拌した。得られた溶液を加熱したままろ過して未溶解物を除去した。その後放冷し、生成したノナン酸銅を吸引ろ過し、洗浄液が透明になるまでヘキサン洗浄した。得られた粉体を50℃の防爆オーブンで3時間乾燥してノナン酸銅(II)を得た。収量は340g(収率96質量%)であった。
上記で得られたノナン酸銅(II)15.0g(0.04mol)と酢酸銅(II)無水物(関東化学株式会社、特級)7.2g(0.04mol)をセパラブルフラスコに入れ、1−プロパノール(関東化学株式会社、特級)85.0gとヘキシルアミン(東京化成工業株式会社、純度99%)32.1g(0.32mol)を添加し、オイルバス中80℃で加熱撹拌して溶解させた。氷浴に移し、内温が5℃になるまで冷却した後、ヒドラジン一水和物(関東化学株式会社、特級)8.0g(0.16mol)を脂肪酸銅の溶液に加え、氷浴中で撹拌した。なお、銅:ヘキシルアミンのモル比は1:4である。次いで、オイルバス中90℃で加熱撹拌した。その際、発泡を伴う還元反応が進み、10分以内で反応が終了した。セパラブルフラスコの内壁が銅光沢を呈し、溶液が暗赤色に変化した。遠心分離を4000rpm(回転/分)で10分間実施して固体物を得た。固形物をさらにヘキサンで洗浄する工程を2回繰り返し、酸残渣を除去して、銅光沢を有する銅含有粒子の粉体を含む銅ケークを得た。
得られた銅ケーク(70質量部)と、及びテルピネオール(30質量部)を、自転公転式撹拌機(商品名:あわとり錬太郎、株式会社シンキー)で混合して、銅含有粒子を含む組成物を調製した。
基材として、液晶ポリマー(商品名:スミカスーパーE6007、住友化学株式会社)をドライアイス洗浄機(商品名:i3 MicroClean、Cold Jet社、ノズル:MC88F)を使用して、エア圧:0.3MPa、ドライアイス供給量:1cm2あたり0.4kg/分、基材からの距離:30mm、洗浄時間:1cm2あたり0.1秒間の条件でドライアイスを基材に吹き付けて、基材を洗浄した。続いて、上述の銅含有粒子を含む組成物を、基材上にバーコーターを用いて塗布し、組成物からなる組成物層を形成した。得られた組成物層を有する基材を焼成炉に入れて加熱して、金属銅の被膜を形成し、積層体を得た。熱処理には雰囲気制御加熱圧着装置(RF−100B、アユミ工業株式会社)を使用した。熱処理の条件は、窒素ガス雰囲気下の負圧(8.5×104Pa)で、昇温速度30℃/分で225℃まで加熱し、続いて窒素とギ酸の混合ガスを導入して9.0×104Paの混合ガスとし、225℃で90分間保持することによって行った。
基材洗浄時のドライアイスのエア圧を0.5MPaに変更した以外は、実施例1と同様にして積層体の作製及び評価を行った。
基材洗浄時のドライアイス洗浄機のノズルをMC88に変更し、ドライアイスのエア圧を0.5Mpaに変更した以外は、実施例1と同様にして積層体の作製及び評価を行った。
基材をドライアイスで洗浄しなかった以外は、実施例1と同様にして積層体の作製及び評価を行った。
ドライアイスの代わりに、アセトン(関東化学株式会社、特級)を用いて基材を洗浄した以外は、実施例1と同様にして積層体の作製及び評価を行った。具体的には、室温(20℃)で基材をアセトンに1分間浸漬洗浄して、その後、窒素ブローで基材からアセトンを除去した。
Claims (4)
- 基材の表面をドライアイスで洗浄する工程と、
前記基材の表面上に銅含有粒子を含む組成物を配置する工程と、
前記組成物を熱処理して、前記基材の表面上に銅を含む被膜を形成する工程と、
を備える、積層体の製造方法。 - 前記銅含有粒子が、銅を含むコア粒子と、コア粒子の表面の少なくとも一部を被覆する有機物と、を有し、
前記有機物が、炭素数が7以下である炭化水素基を有するアルキルアミンを含む、請求項1に記載の積層体の製造方法。 - 前記ドライアイスで洗浄する工程において、前記ドライアイスの粒子を前記基材の表面に対して吹きつける、請求項1又は2に記載の積層体の製造方法。
- 前記熱処理の温度が、100℃〜250℃である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
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