JPWO2007114326A1 - ヘテロ環を有する新規化合物 - Google Patents
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Abstract
Description
Y1はNP2またはO;
P1およびP2は、それぞれ独立して水素、置換基群S1およびアミノ保護基から選択される置換基、またはP1およびP2は、隣接するN原子と一緒になって、置換されていてもよい複素環を形成してもよく;
置換基群S1は、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいホルミル、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルカルボニル、置換されていてもよい低級アルキルオキシカルボニル、置換されていてもよいアリールカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよいカルバモイル、低級アルキルチオ、シクロアルキルチオ、アリールチオ、置換されていてもよい低級アルキルスルホニル、置換されていてもよいフェニルスルホニル、置換されていてもよい芳香族複素環式基低級アルキル、置換されていてもよいアリール、および置換されていてもよい複素環基からなり;
B環は、置換されていてもよく縮合していてもよいベンゼン環または置換されていてもよい複素環である]
で示される化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。但し、以下の化合物を除く、
P1およびP2は、水素、置換基群S1およびアミノ保護基から選択される置換基、またはP1およびP2は、隣接するN原子と一緒になって、置換されていてもよい複素環を形成してもよく;
B1環は、1または2以上のハロゲン原子によって置換されていてもよいベンゼン環であり;
R10は、−NO2または−NHP3であり;
P3は、水素またはアミノ保護基である]
で示される上記(1)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
P1は、水素、置換基群S1およびアミノ保護基から選択される置換基であり;
置換基群S1は、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいホルミル、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルカルボニル、置換されていてもよい低級アルキルオキシカルボニル、置換されていてもよいアリールカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよいカルバモイル、低級アルキルチオ、シクロアルキルチオ、アリールチオ、置換されていてもよい低級アルキルスルホニル、置換されていてもよいフェニルスルホニル、置換されていてもよい芳香族複素環式基低級アルキル、置換されていてもよいアリール、および置換されていてもよい複素環基からなり;
B環は、置換されていてもよく縮合していてもよいベンゼン環または置換されていてもよい複素環である]
で示される上記(1)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
Y1はNP2またはO;
P1およびP2は、それぞれ独立して水素、置換基群S1およびアミノ保護基から選択される置換基、またはP1およびP2は、隣接するN原子と一緒になって、置換されていてもよい複素環を形成してもよく;
R10〜R15は、それぞれ独立して水素、低級アルキル、シクロアルキル、シクロアルキル低級アルキル、ハロゲン、低級アルコキシ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、アミノ、低級アルキルアミノ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよい複素環式基を示す;またR12およびR13は、隣接原子と一緒になって置換されていてもよい複素環を形成してもよい]
で示される化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
Y1は、NP2またはO;
P1、P2は、それぞれ独立して水素、アシル基またはアミノ保護基;
R11は、水素、アシル基またはアミノ保護基(但し、−CO(CH2)3−CO2H、−Phおよび−CH2Ph(Ph:フェニル)を除く)]
で示される化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
P1、P2は、それぞれ独立して水素、アシル基またはアミノ保護基;
R11は、水素、アシル基またはアミノ保護基(但し、−CO(CH2)3−CO2H、−Phおよび−CH2Ph(Ph:フェニル)を除く)
で示される上記(9)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
A環は、
(A−1)少なくとも3個のN原子を含有する、少なくとも7員の単環性複素環;
(A−2)少なくとも2個のN原子と少なくとも1個のO原子を含有する、少なくとも6員の単環性複素環;または
(A−3)少なくとも2個のN原子と少なくとも1個のS原子を含有する、少なくとも7員の単環性複素環
であって、該単環性複素環は置換されていてもよく、また該単環性複素環にはさらに環が縮合していてもよく、
X1は、単結合、または-O-、-S-、-NR2-、-CO-、-CS-、-CONR3-、-NR4CO-、-SO2NR5-、および-NR6SO2-(ここに、R2〜R6は、それぞれ独立して、水素または低級アルキルである)からなる群から選択されるヘテロ原子含有基、または該ヘテロ原子含有基が介在していてもよい低級アルキレンもしくは低級アルケニレンであり、
B環は、置換されていてもよい炭素環または置換されていてもよい複素環であり;
R1は、水素、またはオキサゾリジノン系抗菌剤のオキサゾリジノン環の5位に結合可能な有機残基である]
で示される化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
Y1は、NRb、OまたはSであり;
RbおよびRaは、それぞれ独立に、水素または置換基群S1から選択される置換基であって、該置換基群S1は、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいホルミル、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルカルボニル、置換されていてもよい低級アルキルオキシカルボニル、置換されていてもよいアリールカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよいカルバモイル、低級アルキルチオカルボニル、シクロアルキルチオカルボニル、アリールチオカルボニル、置換されていてもよい低級アルキルスルホニル、置換されていてもよいフェニルスルホニル、置換されていてもよい芳香族複素環式基スルホニル、置換されていてもよいアミノスルホニル、置換されていてもよいアリール、および置換されていてもよい複素環式基からなり、または
RaおよびRbは、隣接するN原子と一緒になって、置換されていてもよい複素環を形成し;
A1環は、RaおよびRb以外の置換基によってさらに置換されていてもよく;
p、qおよびrは、それぞれ独立して0〜3の整数であり、
但し、
Y1がNRbまたはSの場合、p+q+r≧4であり、
Y1がOの場合、p+q+r≧3であり;
X1は、単結合、−O−、−S−、−NR2−、−CO−、−CS−、−CONR3−、−NR4CO−、−SO2NR5−、および−NR6SO2−(ここに、R2〜R6は、それぞれ独立して、水素または低級アルキルである)からなる群から選択されるヘテロ原子含有基、または該ヘテロ原子含有基が介在していてもよい低級アルキレンもしくは低級アルケニレンであり、
B環は、置換されていてもよい炭素環または置換されていてもよい複素環であり;
R1は、水素、またはオキサゾリジノン系抗菌剤のオキサゾリジノン環の5位に結合可能な有機残基である]
で示される上記(12)記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
P1およびP2は、それぞれ独立して水素、置換基群S1およびアミノ保護基から選択される置換基、またはP1およびP2は、隣接するN原子と一緒になって、置換されていてもよい複素環を形成してもよい。P1およびP2は、好ましくは、後記の化合物(I)におけるRaおよびRbの場合に準する。
置換基群S1は、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいホルミル、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルカルボニル、置換されていてもよい低級アルキルオキシカルボニル、置換されていてもよいアリールカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよいカルバモイル、低級アルキルチオ、シクロアルキルチオ、アリールチオ、置換されていてもよい低級アルキルスルホニル、置換されていてもよいフェニルスルホニル、置換されていてもよい芳香族複素環式基低級アルキル、置換されていてもよいアリール、および置換されていてもよい複素環基からなる。
各基の具体例は後記の化合物(I)における説明の通りである。
P1およびP2は、水素、置換基群S1およびアミノ保護基から選択される置換基、またはP1およびP2は、隣接するN原子と一緒になって、置換されていてもよい複素環を形成してもよく;
B1環は、1または2以上のハロゲン原子によって置換されていてもよいベンゼン環;
R10は、−NO2、−NHP3、またはその他の反応性官能基(例:−OH、−COOR(Rは水素、またはカルボキシ保護基)、−SH);
P3は、水素またはアミノ保護基)。
Y1はNP2またはO、好ましくはNP2;
P1およびP2は、それぞれ独立して水素、置換基群S1およびアミノ保護基から選択される置換基、またはP1およびP2は、隣接するN原子と一緒になって、置換されていてもよい複素環を形成してもよい。
より好ましくは、P2は水素、P1は水素、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル(置換基の例:ヒドロキシ、低級アルコキシ、アセチル、アミノ、低級アルキルアミノ、ハロゲン、カルボキシ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、複素環)である。
R10〜R15は、それぞれ独立して水素、低級アルキル、シクロアルキル、シクロアルキル低級アルキル、ハロゲン、低級アルコキシ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、アミノ、低級アルキルアミノ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよい複素環式基を示す;またR12およびR13は、隣接原子と一緒になって置換されていてもよい複素環(好ましくは5または6員環)を形成してもよい(置換基:低級アルキル、ヒドロキシ、低級アルコキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、シクロアルキル)]。
Y1は、NP2またはO;
P1、P2は、それぞれ独立して水素、アシル基またはアミノ保護基;
R11は、水素、アシル基またはアミノ保護基(但し、−CO(CH2)3−CO2H、−Phおよび−CH2Ph(Ph:フェニル)を除く)、
で示される化合物に関する。
p、qおよびrは、それぞれ独立して0〜3の整数であり、p+q+r≧4であり、好ましくはp+q+r=4である。より好ましくは、p=0、q=r=2である。
A1環は、RaおよびRb以外の置換基(例:ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン)によってさらに置換されていてもよい。
p、qおよびrは、それぞれ独立して0〜3の整数であり、p+q+r≧3であり、好ましくはp+q+r=3または4、好ましくは4である。より好ましくは、p=0、q=r=2である。
A1環は、Ra以外の置換基(例:ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン)によってさらに置換されていてもよい。
A1環は、好ましくは以下の式で示される
Raの置換されていてもよいにおける置換基は、好ましくは、ヒドロキシ、置換されていてもよいアミノ、カルボキシ、ハロゲン、置換されていてもよい低級アルコキシ(置換基:ヒドロキシ、カルボキシ、低級アルコキシ、アミノ、ハロゲン)、シクロアルキル、低級アルキルカルボニル、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルカルボニルアミノ、置換されていてもよく縮合していてもよい複素環式基(好ましくは5〜6員環式基)、置換されていてもよく縮合していてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよく縮合していてもよいフェニル、置換されていてもよく縮合していてもよいフェニルカルボニル、置換されていてもよく縮合していてもよいフェニルオキシである。置換されていてもよいアミノの置換基としては、置換されていてもよい低級アルキル(置換基:ハロゲン、カルボキシ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、アミノ、イミノ、置換されていてもよい複素環式基(好ましくは5〜6員環))、シクロアルキル、置換されていてもよく、縮合していてもよい複素環式基(好ましくは5〜6員環、縮合環の例:ベンゼン環)、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいフェニルカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニルが例示される。置換されていてもよいフェニル、置換されていてもよい複素環式基の置換基としては、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルコキシカルボニル、低級アルケニルオキシ、低級アルケニルオキシカルボニル、アミノ、低級アルキルアミノ、ハロゲン、カルボキシ、ニトロ、フェニル、複素環式基(好ましくは5〜6員環)、置換されていてもよい低級アルキル(置換基:ヒドロキシ、アミノ、ハロゲン、カルボキシ)が例示される。
本発明の一態様では、上記式IのA環が、少なくとも2個の窒素原子と少なくとも1個の硫黄原子を含有する少なくとも7員の単環性複素環であり、好ましくは2個の窒素原子と1個の硫黄原子を含有する7員の単環性複素環である。窒素原子および硫黄原子の位置は任意であるが、好ましくは1個の窒素原子と硫黄原子が隣接する。またA環のX1との結合位置も任意であるが、好ましくは1個のN原子がX1と結合する。より好ましくは例えば、以下の基が挙げられる:
p、qおよびrは、それぞれ独立して0〜3の整数であり、p+q+r≧4であり、好ましくはp+q+r=4である。より好ましくは、p=0、q=r=2である。
A1環は、Ra以外の置換基(例:ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン)によってさらに置換されていてもよい。
A1環は、好ましくは以下の式で示される
X1は、単結合または任意のスペーサー部分である。スペーサーとしては、-O-、-S-、-NR2-、-CO-、-CS-、-CONR3-、-NR4CO-、-SO2NR5-、および-NR6SO2-(ここに、R2〜R6は、それぞれ独立して、水素または低級アルキルである)からなる群から選択されるヘテロ原子含有基、または該ヘテロ原子含有基が介在していてもよい低級アルキレンもしくは低級アルケニレンが例示される。該ヘテロ原子含有基の介在位置は限定されず、低級アルキレンもしくは低級アルケニレンを構成する炭素原子間に存在してもよい。また低級アルキレンもしくは低級アルケニレンを構成する炭素原子と、A1環もしくはB環の間に存在してもよい。ヘテロ原子含有基の数は任意であるが好ましくは1〜3原子分である。X1は、より好ましくは単結合である。低級アルキレンは好ましくはC1〜C3、低級アルケニレンは好ましくはC2〜C3である。
B環は、好ましくは以下の式で示される。
(1)Y1がNRbであり;Rbが水素または前記置換基群S1から選択される置換基であり;pが0であり、q+r=4であり;X1が単結合であり;B環が置換されていてもよいベンゼン環または置換されていてもよい5〜7員の芳香族複素環であり;R1が−CH2NHCOR7(R7が置換されていてもよい低級アルキル)または−CH2NHCSR8(R8が置換されていてもよい低級アルキルオキシ)であり;A1環がRaおよびRb以外の置換基によってさらに置換されていてもよい。
(2)Raが水素又は低級アルキルであり;Y1がNRbであり、Rbが水素または置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいホルミルまたは置換されていてもよい低級アルキルカルボニルであり;pが0であり、q=r=2であり;X1が単結合であり;B環が置換されていてもよいベンゼン環であり(置換基は好ましくは1または2個のハロゲン);R1が−CH2NHCOR7(R7が置換されていてもよい低級アルキル)または−CH2NHCSR8(R8が置換されていてもよい低級アルキルオキシ)であり;A1環が、RaおよびRb以外の置換基によってさらに置換されていてもよい。
(3)Rbが−COCH2OH、−CONH−(置換されていてもよいヘテロ環式基(好ましくは5〜6員環))、または置換されていてもよい低級アルキルオキシカルボニルである。
(4)RaおよびRbは、隣接するN原子と一緒になって、置換されていてもよく、縮合していてもよい複素環、好ましくは5〜7員環を形成し;pが0であり、q+r=4であり;X1が単結合であり;B環が置換されていてもよいベンゼン環または置換されていてもよい5〜7員の芳香族複素環であり、好ましくは置換されていてもよいベンゼン環(置換基:ハロゲン);R1が−CH2NHCOR7(R7が置換されていてもよい低級アルキル)または−CH2NHCSR8(R8が置換されていてもよい低級アルキルオキシ)であり;A1環がRaおよびRb以外の置換基によってさらに置換されていてもよい。
(5)Y1がOであり;pが0であり、q+r=4であり;X1が単結合であり;B環が置換されていてもよいベンゼン環または置換されていてもよい5〜7員の芳香族複素環、より好ましくは置換されていてもよいベンゼン環;R1が−CH2NHCOR7(R7が置換されていてもよい低級アルキル)または−CH2NHCSR8(R8が置換されていてもよい低級アルキルオキシ)であり;A1環がRaおよびRb以外の置換基によってさらに置換されていてもよい。
本発明化合物の製薬上許容される塩としては、無機塩基、アンモニア、有機塩基、無機酸、有機酸、塩基性アミノ酸、ハロゲンイオン等により形成される塩又は分子内塩が例示される。該無機塩基としては、アルカリ金属(Na,K等)、アルカリ土類金属(Ca,Mg等)、有機塩基としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、コリン、プロカイン、エタノールアミン等が例示される。無機酸としては、塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸等が例示される。有機酸としては、p―トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸、マレイン酸等が例示される。塩基性アミノ酸としては、リジン、アルギン、オルニチン、ヒスチジン等が例示される。また塩は、溶媒和物であってもよい。
Ac=アセチル基、Et=エチル基、Me=メチル基、Ph=フェニル基、Boc=t−ブトキシカルボニル基、Cbz=ベンジルオキシカルボニル基、Bn=ベンジル基。
ナスフラスコにNaH(ミネラルオイル中60%;1.2714g,31.79mmol)を入れ、n−ヘキサンで3回洗浄した(5cm3×3)。残存するn−ヘキサンを減圧下蒸発させ、ジメチルホルムアミド(50cm3)を加えた。室温にて化合物1(3.6313g,13.64mmol)を加え、同温で30分間撹拌した。次に、化合物2(5.6310g,15.22mmol)を室温にて滴加し、同温で20時間撹拌した。水(200cm3)中に注ぎ込み、酢酸エチル (100cm3)を加えて分液後、酢酸エチルで2回抽出し、水で1回、飽和塩化ナトリウム水溶液.で1回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤をろ過後、溶媒を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,120g,溶離液:20%→40%酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、化合物3を4.9678 g(10.47mmol)得た。収率:77%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.32-1.48(9H,t-Bu),3.21-4.32(8H),5.03-5.25(2H,m,CH2Ph),6.74-6.85(1H,m),7.22-7.42(5H,m),および7.84-7.95(2H,m).
化合物3(4.9678g,10.47mmol)をエタノール(200cm3)に溶かし、そこへSnCl2・2H2O(13.0278g,57.73mmol)を加え80〜90℃に加熱して2時間撹拌した。次に、同温度にてNaBH4(0.2778g,7.34mmol)をエタノール(10cm3)に溶かした溶液をゆっくりと滴加し、さらに1時間撹拌した。エタノールの3分の2程度を留去したのち、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を注意深く発泡しなくなるまで加え、酢酸エチルで4回抽出し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤をろ過後、溶媒を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,80g,溶離液:10%→20%→50%→100%酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、化合物4を1.6021 g(3.60mol)得た。また、Boc基が除去された化合物(M = 344.38,1.6304g,4.73mmol,45%)も得た。収率:34%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.32-1.50(9H,Boc),3.00-3.58(8H,m),3.90-4.24(2H,m),5.05-5.30(2H,m,CH2Ph),6.30-6.45(2H,m),6.72-6.82(1H,m),および7.28-7.37(5H,m,CH2Ph).
化合物4(1.6021g,3.60mmol)をメタノール(20cm3)に溶かし、炭酸ナトリウム(0.5856g,5.53mmol)およびBoc2O(1.1708g,5.36mmol)を加え、室温にて17時間撹拌した。水(30cm3)、酢酸エチル(50cm3)を加えて分液し、さらに酢酸エチルで2回抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤をろ過後、溶媒を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,50g,溶離液:10%→20%→30%酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、化合物5を1.8683 g(3.43mmol)を得た。収率:95%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.34-1.52(18H,Boc),3.10-3.52(6H,m),3.95-4.28(2H,m),5.05-5.29(2H,m,CH2Ph),6.38(1H,br s,NHBoc),6.77-6.89(2H,m),および7.21-7.36(6H,m).
化合物5(1.8683g,3.43mmol)を乾燥テトラヒドロフラン(20cm3)に溶かし、アリール置換して-78 ℃に冷却した。この溶液にn−BuLi(1.54 M溶液in n−ヘキサン;2.5cm3,3.85mmol)をゆっくりと滴加し、滴加終了後、同温にて10分間撹拌した。次に、乾燥テトラヒドロフラン(3cm3)に溶かした(R)-グリシジルブチレート(0.6084g,4.22mmol)をゆっくりと滴加し、室温に戻して20時間撹拌した。水(30cm3)を加え、酢酸エチルで5回抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、溶媒を留去し、残渣(2.2370g)を得た。この残渣をメタノール(20cm3)に溶かし、炭酸カリウム(5.0776g,36.74mmol)を加えて室温で6時間撹拌した。水(30cm3)を加え、酢酸エチルで5回抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤をろ過後、溶媒を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,30g,溶離液:50%→100%酢酸エチル/n−ヘキサン→2%メタノール/ジクロロメタン)で精製し、化合物6を1.5838 g(3.01mmol)得た。収率:88%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.34-1.47(9H,Boc),2.59(1H,br,OH),3.16-3.40(6H,m),3.70-3.82(1H,m),3.89-4.27(5H,m),4.68-4.78(1H,m,CH2CHC H2OH),5.06-5.30(2H,m,CH2Ph),6.83-6.93(1H,m),7.02-7.13(1H,m),および7.27-7.46(6H,m).
化合物6(1.5834g,3.01mmol)、トリエチルアミン(0.65cm3,4.62mmol)および乾燥ジクロロメタン(30cm3)の溶液を0℃に冷却したのち、乾燥ジクロロメタン(3cm3)で希釈したメタンスルホニルクロリド(0.3cm3,3.88mmol)を滴加し、0℃で20分間撹拌した。飽和 NaHCO3水溶液(50cm3)を加えてトリクロロメタンで3回抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、溶媒を留去し、残渣(1.9525 g)を得た。この残渣をジメチルホルムアミド(15cm3)に溶かし、アジ化ナトリウム(0.5870g,9.03mmol)を加えて80〜90℃にて2時間撹拌した。水(50cm3)を加え、酢酸エチルで3回抽出し、有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液.の順で洗浄して無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、溶媒を留去し、残渣を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,40g,溶離液:25%→30%→50%酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、化合物7 を1.5894 g(2.79mmol)を得た。収率:93%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.34-1.47(9H,Boc),3.18-4.28(12H,m),4.73-4.83(1H,m,CH2CHCH2N3),5.06-5.28(2H,m,CH2Ph),6.85-6.93(1H,m),7.02-7.13(1H,m),および7.28-7.45(6H,m).
化合物7(1.5894g,2.79mmol)をテトラヒドロフラン(20cm3)に溶かし、室温にてトリフェニルフォスフィン(1.1128g,4.240mmol)および水(1cm3)を加え、室温で16時間撹拌し、60℃前後に加熱してさらに2時間撹拌した。原料消失を確認後、溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,30g,溶離液:酢酸エチル→5%→15%メタノール/トリクロロメタン)で精製し、化合物8を1.4394 g(2.65mmol)得た。収率:95%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.34-1.48(9H,Boc),2.95(1H,dd,J = 5.8,13.7 Hz),3.11(1H,dd,J = 4.0,13.7 Hz),3.16-3.59(6H,m),3.76-3.84(1H,m),3.94-4.27(3H,m),4.62-4.72(1H,m,CH2CHCH2N3),5.06-5.29(2H,m,CH2Ph),6.84-6.92(1H,m),7.03-7.14(1H,m),および7.25-7.48(6H,m).
化合物8(1.4394g,2.65mmol)を ピリジン(20cm3)に溶かし、無水酢酸(2.0cm3)を入れ、室温で1時間撹拌した。溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,30g,溶離液:0%→3%→5%メタノール/トリクロロメタン)で精製し、化合物9を1.4769 g(2.52mmol)得た。収率:95%
化合物9(1.1139g,1.902mmol)を95%エタノール(50cm3)に溶かし、10%Pd/C(0.2073 g)を加えて注意深くH2置換し、そのまま室温で90時間撹拌した。セライトろ過を行い、溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,30g,溶離液:0%→2%→4%メタノール/トリクロロメタン)で精製し、化合物10を0.8159 g(1.807mmol)得た。収率:95%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.38(9H,br s,Boc),2.03(3H,s,Ac),3.08-3.16(2H,m),3.40-3.48(2H,m),3.53-3.77(8H,m),4.00(1H,t,J = 9.0Hz),4.72-4.81(1H,m),6.45(1H,br s,NHAc),6.87(1H,t,J = 9.0Hz),6.99(1H,dd,J = 2.4,9.0Hz),および7.36(1H,dd,J = 2.4,15.1 Hz).
化合物10(0.2016g,0.477mmol)をピリジン(5cm3)に溶かし、無水酢酸(3cm3)を加えて室温で18時間撹拌した。溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,15g,溶離液:50%→100%酢酸エチル/n−ヘキサン→4%メタノール/トリクロロメタン)で精製し、化合物11を0.2055 g(0.416mmol)得た。収率:93%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.48(9H,s,Boc),2.03(3H,s,NHAc),2.05(3H,s,NNAc),3.08-3.78(10H,m),4.01(1H,dt,J = 3.0,9.1 Hz),4.25-4.40(1H,m),4.72-4.82(1H,m),6.08(1H,t,J = 6.0Hz,NHAc),6.89(1H,t,J = 9.1 Hz),7.05(1H,br d,J = 9 Hz),および7.40(1H,dd,J = 2.5,14.6 Hz).
化合物11(0.1462g,0.296mmol)をジクロロメタン(5cm3)に溶かし、トリフロロ酢酸(1cm3)を加えて室温で2時間撹拌した。ほぼ中性となるまで飽和炭酸カリウム 水溶液を加え、トリクロロメタンで5回抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤をろ過し、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,15g,溶離液:0%→5%→10%メタノール/トリクロロメタン)で精製し、化合物12を0.1034 g(0.263mmol)得た。収率:89%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.97(3H,s,NNAc),2.03(3H,s,NHAc),3.06-3.14(1H,m),3.16-3.23(1H,m),3.34-3.44(3H,m),3.54-3.80(6H,m),3.88-3.94(1H,m),4.01(1H,t,J = 8.8 Hz),4.72-4.81(1H,m),6.08-6.16(1H,br),6.84-6.93(1H,m),6.96-6.75(1H,m),および7.37-7.48(1H,m).
2-アミノチアゾール(135.6 mg,1.354mmol)をジクロロメタン(10cm3)に溶かし、0℃にてトリホスゲン(138.1 mg,0.465mmol)を加え、さらにトリエチルアミン(0.4cm3,2.846mmol)をゆっくりと滴加し、化合物10(154.4 mg,0.342mmol)を加え、室温に戻して75時間撹拌した。10%クエン酸水溶液(20cm3)を加え、トリクロロメタンで2回抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤をろ過し、溶媒を留去して得られた残渣をジクロロメタン(10cm3)に溶かし、トリフロロ酢酸(1.0cm3)を加えて室温で24時間撹拌した。飽和炭酸ナトリウム 水溶液で中和し、10%メタノール/トリクロロメタンで5回抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤をろ過し、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,10g,溶離液:1%→3%→5%メタノール/トリクロロメタン)で精製し、化合物13を80.0mg(0.168mmol)得た。収率:49%
1H NMR(CDCl3)δ= 2.02(3H,s,Ac),3.22-4.25(12H,m),4.70-4.81(1H,m),6.73(1H,t,J = 6.1 Hz,NHAc),6.84-7.03(3H,m),7.33-7.43(2H,m),および9.84(1H,s,N=C-NHC=O).
市販のビス(クロロエチル)アミン一水和物(5.7974g,32.48mmol)と炭酸ナトリウム(3.6300g,34.25mmol)の、メタノール(80cm3)と水(40cm3)の懸濁液に、0℃にて、ベンジルクロロフォメート(6.0cm3,33.77mmol)をゆっくりと滴加し、同温で3時間撹拌した。メタノールを半分程度留去し、水(50cm3)を加え、ジクロロメタンで4回抽出して飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥後、ろ過、濃縮して、化合物14が主成分の残渣(10.674 g)を得た。別のナスフラスコにNaH(ミネラルオイル中60%;2.0544g,51.36mmol)を入れ、n−ヘキサンで3回(5cm3×3)洗浄した。残存するn−ヘキサンを減圧下蒸発させ、ジメチルホルムアミド(80cm3)を加えてアリール置換した。0℃に冷却し、化合物15(4.1983g,18.07mmol)を加え、同温で10分間撹拌した。次に、ジメチルホルムアミド(20cm3)に化合物14を主成分とする残渣(10.674 g)を溶かしてこれを滴加し、ゆっくりと室温に戻しながら41時間撹拌した。水(400cm3)中に注ぎ込み、酢酸エチルで3回抽出し、水で1回、飽和塩化ナトリウム水溶液.で洗浄し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,150g,溶離液:15%→20%→30%酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、所望の7員環化合物(5位Cbz体)が主成分の残渣を7.1642 g得た。この残渣をメタノール(120cm3)およびジクロロメタン(40cm3)に溶かし、10%Pd/C(0.7241 g)を加えてH2置換し、室温で23時間撹拌した。セライトろ過ののち、ろ液を濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,100g,溶離液:酢酸エチル→メタノール:トリエチルアミン:ジクロロメタン = 10: 2 : 88)で精製し、化合物16を3.4838 g(11.56mmol)得た。収率:64%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.43-1.51(18H,Boc×2),2.96-3.54(6H,m),および3.98-4.26(2H,m),および6.62(1H,br s,NH).
化合物16(5.6532g,18.76mmol)をCH3CN(40cm3)に溶かし、炭酸カリウム(2.8864g,20.88mmol)および2-chloro-5-nitroピリジン(3.5675g,22.50mmol)を加えて19時間加熱還流した。水(50cm3)を加え、酢酸エチルで4回抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤をろ過し、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,120g,溶離液:10%→20%→30%酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、固形の化合物17を5.0881 g(12.02mmol)得た。収率:64%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.43(18H,s,Boc×2),3.12-3.45(2H,m),3.66-4.31(6H,m),6.53(1H,d,J = 9.6 Hz),8.23(1H,dd,J = 2.8,9.6 Hz),および9.04(1H,m).
化合物17(5.2346g,12.36mmol)をエタノール(100cm3)に溶かし、10%Pd/C(1.4253 g)を加えて懸濁液としたのちに水素置換し、室温で3.5時間撹拌した。セライトろ過を行い、溶媒を留去し、得られた残渣(0.8354 g)をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,80g,溶離液:30%→50%→100%酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、化合物18を4.7463 g(12.06mmol)得た。収率:98%
化合物18(4.7463g,12.06mmol)をアセトン(40cm3)および水(20cm3)に溶かし、炭酸ナトリウム(1.7605g,16.61mmol)およびベンジルクロロフォメート(2.60cm3,14.63mmol)を加えて室温で1時間撹拌した。アセトンを留去し、酢酸エチル(100cm3)を加えて分液して無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤をろ過し、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,90g,溶離液:10%→35%酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、化合物19を6.2841 g(11.91mmol)得た。
化合物19(6.2841g,11.91mmol)を乾燥テトラヒドロフラン(50cm3)に溶かし、アリール置換して-78 ℃に冷却した。この溶液にn−BuLi(1.58 M溶液(n−ヘキサン中);8.0cm3,12.64mmol)をゆっくりと滴加し、滴加終了後、同温にて5分間撹拌した。次に、乾燥テトラヒドロフラン(2cm3)に溶かした(R)-グリシジルブチレート(1.9001g,13.18mmol)をゆっくりと滴加し、室温に戻して21時間撹拌した。水(50cm3)を加え、酢酸エチルで4回抽出し、飽和塩化ナトリウム水溶液.で1回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して乾燥剤をろ過後、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,80g,溶離液:50%→100%酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、化合物20を4.0759 g(8.258mmol)得た。収率:69%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.43(18H,s,Boc×2),2.75(1H,br s,OH),3.10-4.26(12H,m),4.69-4.79(1H,m),6.53(1H,d,J = 9.3 Hz),7.82-7.92(1H,m),および8.07-8.12(1H,m).
化合物20(4.0759g,8.26mmol)、トリエチルアミン(1.8cm3,12.81mmol)および乾燥ジクロロメタン(80cm3)を入れ、0℃に冷却したのち、メタンスルホニルクロリド(0.8cm3,10.34mmol)を滴加し、0℃で20分間撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液.(50cm3)を加えて分液し、さらに水層をトリクロロメタンで2回抽出し、合わせた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、溶媒を留去した。得られた残渣(4.8528 g)をジメチルホルムアミド(40cm3)に溶かし、アジ化ナトリウム(1.0125g,15.57mmol)を加えて40〜50℃にて15時間撹拌した。水(150cm3)を加え、酢酸エチルで3回抽出し、飽和塩化ナトリウム水溶液.で1回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して乾燥剤をろ過後、溶媒を留去した。得られた残渣(4.4467 g)をテトラヒドロフラン(40cm3)に溶かし、室温にてトリフェニルフォスフィン(3.2983g,12.58mmol)および水(2.0cm3)を加え、50℃にて2時間撹拌した。溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,100g,溶離液:酢酸エチル →15%メタノール/トリクロロメタン)で精製し、化合物21を3.8884 g(7.89mmol)得た。収率:96%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.43(18H,s,Boc×2),2.88-4.26(12H,m),4.63-4.75(1H,m),6.55(1H,d,J = 9.3 Hz),7.86-7.96(1H,m),および8.06-8.12(1H,m).
化合物21(1.0932g,2.219mmol)を ジクロロメタン(10cm3)に溶かし、ピリジン(1.0cm3)および無水酢酸(1.0cm3)を加えて室温で25時間撹拌した。溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,40g,溶離液:50%酢酸エチル/n−ヘキサン→3%メタノール/酢酸エチル→3%メタノール/トリクロロメタン)で精製し、化合物22を0.9087 g(1.700mmol)得た。収率:77%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.43(18H,s,Boc×2),2.03(3H,s,Ac),3.10-4.26(12H,m),4.73-4.82(1H,m),6.02(1H,t,J = 6.2 Hz,NHAc),6.55(1H,d,J = 9.3 Hz),7.76-7.83(1H,m),および8.07-8.11(1H,m).
化合物22(0.2444g,0.457mmol)をジクロロメタン(10cm3)に溶かし、トリフロロ酢酸(1.0cm3)を加えて室温で3時間撹拌した。溶媒を留去して得られた残渣をジクロロメタン(10cm3)に溶かし、トリエチルアミン(0.5cm3)およびジクロロメタン(2cm3)に溶かしたBnOCH2COCl(0.1293g,0.700mmol)を加えて室温で21時間撹拌した。水(20cm3)を加え、10%メタノール/トリクロロメタンで5回抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤をろ過し、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,10g,溶離液:3%メタノール/トリクロロメタン)で精製し、化合物23を0.1010g(0.209mmol)得た。収率:46%
化合物23(0.1010g,0.209mmol)をエタノール(5cm3)に溶かし、10%Pd/C(0.0981 g)を加えて懸濁液としたのちに水素置換し、室温で64時間撹拌した。セライトろ過を行い、溶媒を留去し、得られた残渣(0.8354 g)をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,80g,溶離液:3%→10%メタノール/トリクロロメタン)で精製し、化合物24を0.0190g(0.0484mmol)得た。収率:23%
1H NMR(CDCl3)δ= 2.03(3H,s,Ac),3.00-4.04(12H,m),4.33(2H,s,CH2OH),4.73-4.83(1H,m),6.37(1H,t,J = 6.0Hz,NHAc),6.51-6.57(1H,m),7.75-7.82(1H,m),および8.09-8.12(1H,m).
市販の3,4,5-トリフルオロニトロベンゼン(25)(3.6970g,23.32mmol)をジエタノールアミン(19.40g,184.5mmol)に溶かして110〜120℃で2時間撹拌した。水(50cm3)を加え、酢酸エチルで5回抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤をろ過し、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,150g,溶離液:1%→2%→5%→10%メタノール/トリクロロメタン)で精製し、化合物26を7.5182 g(28.67mmol)得た。収率:87%
1H NMR(CDCl3)δ= 2.41(2H,br s,OH×2),3.47-3.58(4H,m),3.69-3.81(4H,m),および7.80(2H,d,J = 9.1 Hz).
化合物26(7.5182g,28.67mmol)、トリエチルアミン(10.0cm3,71.15mmol)および乾燥ジクロロメタン(100cm3)の溶液を0℃に冷却したのち、メタンスルホニルクロリド(5.0cm3,64.60mmol)を滴加し、0℃で1時間撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液.(100cm3)を加えて分液し、さらに水層をトリクロロメタンで3回抽出し、合わせた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、溶媒を留去した。得られた残渣(4.8528 g)をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,150g,溶離液:20%→50%酢酸エチル/n−ヘキサン→1%→2%メタノール/トリクロロメタン)で精製し、化合物27を11.9906 g(28.66mmol)得た。収率:100%
1H NMR(CDCl3)δ= 3.00(6H,s,Ms×2),3.71-3.76(4H,m),4.29-4.34(4H,m),および7.83(2H,d,J = 9.1 Hz).
ナスフラスコにNaH(ミネラルオイル中60%;2.4320g,60.80mmol)を入れ、n−ヘキサンで3回洗浄した(5cm3×3)。残存するn−ヘキサンを減圧下蒸発させ、ジメチルホルムアミド(80cm3)を加えた。室温にて化合物1(7.5056g,28.19mmol)を加え、同温で30分間撹拌した。次に、ジメチルホルムアミド(30cm3)に溶かした化合物27(11.9906g,28.66mmol)を室温にて滴加し、同温で20時間撹拌した。水(400cm3)中に注ぎ込み、酢酸エチルで4回抽出し、水で2回、飽和塩化ナトリウム水溶液.で1回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤をろ過後、溶媒を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,150g,溶離液:10%→20%→50%酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、化合物28を6.3121 g(12.82mmol)得た。収率:45%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.36(9H,s,Boc),3.23-3.77(6H,m),3.96-4.25(2H,m),5.08-5.31(2H,m,OCH2Ph),7.30-7.39(5H,m),および7.77(2H,d,J = 9.9 Hz).
化合物28(6.3121g,12.82mmol)をエタノール(100cm3)と水(1cm3)の混液に溶かし、10%Pd/C(0.6837 g)を加えて懸濁液としたのちに水素置換し、室温で41時間撹拌した。セライトろ過を行い、溶媒を留去し、得られた残渣(0.8354 g)をアセトン(60cm3)および水(30cm3)に溶かし、炭酸ナトリウム(3.2019g,30.21mmol)およびベンジルクロロフォメート(5.0cm3,28.14mmol)を加えて室温で1時間撹拌した。アセトンを留去し、水(100cm3)および酢酸エチル(100cm3)を加えて分液して無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤をろ過し、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,120g,溶離液:10%→15%→30%酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、化合物29を7.2419 g(12.14mmol)得た。収率:95%
化合物29(7.2419g,12.14mmol)を乾燥テトラヒドロフラン(60cm3)に溶かし、アリール置換して-78℃に冷却した。この溶液にn−BuLi(n−ヘキサン中の1.54 M溶液;8.8cm3,13.55mmol)をゆっくりと滴加し、滴加終了後、同温にて5分間撹拌した。次に、乾燥テトラヒドロフラン(2cm3)に溶かした(R)-グリシジルブチレート(1.9622g,13.61mmol)をゆっくりと滴加し、室温に戻して20時間撹拌した。水(50cm3)を加え、酢酸エチルで5回抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して乾燥剤をろ過後、溶媒を留去した。得られた残渣(8.9592 g)をメタノール(50cm3)に溶かし、炭酸カリウム(5.0460g,36.51mmol)を加えて室温で1時間撹拌した。メタノールを留去し、水(50cm3)を加え、酢酸エチルで5回抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して乾燥剤をろ過後、溶媒を留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,120g,溶離液:50%→1%メタノール/酢酸エチル)で精製し、化合物30を5.5651 g(9.89mmol)得た。収率:81%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.36(9H,s,Boc),2.81(1H,t,J = 6.3 Hz,CH2OH),3.03-4.16(12H,m),4.68-4.78(1H,m),5.07-5.32(2H,m,OCH2Ph),7.12(2H,br d,J = 9 Hz),および7.28-7.40(5H,m).
化合物30(5.5651g,9.89mmol)、トリエチルアミン(2.0cm3,14.23mmol)および乾燥ジクロロメタン(50cm3)の溶液を0℃に冷却したのち、メタンスルホニルクロリド(1.0cm3,12.92mmol)を滴加し、0℃で15分間撹拌した。メタノール(1cm3)および飽和炭酸水素ナトリウム水溶液.(30cm3)を加えて分液し、さらに水層をトリクロロメタンで2回抽出し、合わせた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、溶媒を留去した。得られた残渣をジメチルホルムアミド(50cm3)に溶かし、アジ化ナトリウム(1.0848g,16.69mmol)を加えて40〜50℃にて16時間撹拌した。水(100cm3)を加え、酢酸エチルで3回抽出し、飽和塩化ナトリウム水溶液.で1回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して乾燥剤をろ過後、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,100g,溶離液:20→30→50%酢酸エチル/n−ヘキサン)で精製し、化合物31を5.7033 g(9.71mmol)得た。収率:98%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.37(9H,s,Boc),3.05-4.20(12H,m),4.74-4.84(1H,m),5.08-5.33(2H,m,OCH2Ph),7.12(2H,br d,J = 9 Hz),および7.30-7.40(5H,m).
化合物31をテトラヒドロフラン(50cm3)に溶かし、室温にてトリフェニルフォスフィン(3.9751g,15.16mmol)および水(1.0cm3)を加え、50℃にて16時間撹拌した。溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,120g,溶離液:酢酸エチル →10%メタノール/トリクロロメタン)で精製し、化合物32を5.0795 g(9.05mmol)得た。収率:93%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.37(9H,s,Boc),2.88-4.18(12H,m),4.63-4.73(1H,m),5.08-5.33(2H,m,OCH2Ph),7.13(2H,br d,J = 9 Hz),および7.30-7.40(5H,m).
化合物32(0.9751g,1.736mmol)を ピリジン(5cm3)に溶かし、無水酢酸(3.0cm3)を加えて室温で1時間撹拌した。溶媒を留去して得られた残渣をエタノール(20cm3)と水(2cm3)の混液に溶かし、10%Pd/C(0.5584 g)を加えて懸濁液としたのちに水素置換し、室温で44時間撹拌した。セライトろ過を行い、溶媒を留去し、得られた残渣シリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,30g,溶離液:1%→3%メタノール/トリクロロメタン)で精製し、化合物33を0.7821 g(1.666mmol)得た。収率:96%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.49(9H,s,Boc×2),2.03(3H,s,Ac),3.02-3.08(2H,m),3.23-3.30(2H,m),3.37-3.44(2H,m),3.57-3.75(5H,m),3.99(1H,t,J = 9.1 Hz),4.73-4.82(1H,m),6.12(1H,t,J = 6.0Hz,NHAc),および7.08(2H,d,J = 10.7 Hz).
化合物32(0.9751g,1.736mmol)を メタノール(5cm3)に溶かし、トリエチルアミン(1.0cm3)およびジフルオロ酢酸エチル(1.0cm3)を加えて室温で1時間撹拌した。溶媒を留去して得られた残渣をエタノール(20cm3)と水(4cm3)の混液に溶かし、10%Pd/C(0.4436 g)を加えて懸濁液としたのちに水素置換し、室温で42時間撹拌した。セライトろ過を行い、溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,30g,溶離液:2%→3%メタノール/トリクロロメタン)で精製し、化合物34を0.7005 g(1.386mmol)得た。収率:93%
1H NMR(CDCl3)δ= 1.49(9H,s,Boc×2),3.02-3.08(2H,m),3.23-3.30(2H,m),3.37-3.45(2H,m),3.57-3.73(4H,m),3.79-3.90(1H,m),4.05(1H,t,J = 9.1 Hz),4.77-4.87(1H,m),5.94(1H,t,J = 54.0Hz,CHF2),および6.99-7.12(3H,m).
3-アミノ-5-メチルイソキサゾール(103.5 mg,1.06mmol)をジクロロメタン(10cm3)に溶かし、0℃にてトリホスゲン(104.5 mg,0.352mmol)を加え、さらにトリエチルアミン(0.4cm3,2.85mmol)をゆっくりと滴加して同温にて10分間撹拌した。同温にて化合物33(87.4 mg,0.187mmol)を加え、室温に戻して24時間撹拌した。10%クエン酸水溶液(20cm3)を加え、トリクロロメタンで3回抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤をろ過し、溶媒を留去した。得られた残渣をジクロロメタン(5cm3)に溶かし、トリフロロ酢酸(0.5cm3)を加えて室温で16時間撹拌した。10%炭酸ナトリウム水溶液(20cm3)で中和し、10%メタノール/トリクロロメタンで4回抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤をろ過し、溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,8g,溶離液:2%→5%メタノール/トリクロロメタン)で精製し、化合物35を81.5 mg(0.165mmol)得た。収率:88%
1H NMR(CDCl3)δ= 2.03(3H,s,Ac),2.38(3H,s,C=C-Me),3.16-3.24(2H,m),3.29-3.42(4H,m),3.62-4.03(6H,m),4.77-4.88(1H,m),6.21-6.33(1H,br,NHC=O),6.65(1H,s,Me-C=CH),7.10(2H,d,J = 10.7 Hz),および9.14(1H,s,NHAr).
化合物34(78.9 mg,0.156mmol)をジクロロメタン(3cm3)に溶かし、室温にてトリエチルアミン(0.05cm3,0.356mmol)およびジクロロメタン(1cm3)に溶かしたBnOCH2COCl(36.5 mg,0.198mmol)を加えて1時間撹拌した。メタノールをごく少量加え、水(20cm3)を加えてトリクロロメタンで2回抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤をろ過し、溶媒を留去した。得られた残渣をエタノール(5cm3)に溶かし、10%Pd/C(88.9 mg)を加えてH2置換し、室温で122時間撹拌した。セライトろ過ののち、溶媒を留去して得られた残渣を得られた残渣をジクロロメタン(5cm3)に溶かし、トリフロロ酢酸(0.5cm3)を加えて室温で21時間撹拌した。10%炭酸ナトリウム水溶液(30cm3)で中和し、10%メタノール/トリクロロメタンで4回抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、乾燥剤をろ過し、溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW-200,8g,溶離液:1%→2%→5%メタノール/トリクロロメタン)で精製し、化合物36を61.2 mg(0.132mmol)得た。収率:85%
1H NMR(CDCl3)δ= 3.11-3.19(2H,m),3.26-3.42(4H,m),3.63-3.90(5H,m),4.06(1H,t,J = 9.1 Hz),4.39(2H,s,CH2OH),4.79-4.90(1H,m),5.95(1H,t,J = 54.1 Hz,CHF2),7.08(2H,d,J = 10.7 Hz),および7.45(1H,t,J = 6.2 Hz,NHC=O).
ヒドロキシラミン-BOC化合物(4.01g)のDMF溶液(40ml)に60%NaH(2.61g)を室温でポーションワイズに加える、そのとき細かな泡が発生する。15分後、メシル化合物(11.59g)のDMF溶液(40ml)をゆっくり滴下し、室温で15分攪拌する。さらに100-110℃に温度を上げ、注意深く15分間攪拌する。反応後、減圧下溶媒を留去し、NH4Cl水溶液を加え、酢酸エチルで抽出する。乾燥(Na2SO4)後溶媒を留去し、シリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル(2:1))にて精製する。無色油状の化合物(44)を6.11g(62%)得た。
44:無色油状物質; 1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ1.48(s, 9H), 3.56-3.75(m, 6H), 3.94-4.05(m, 2H), 5.14(s, 2H), 7.32(s, 5H); IR(CHCl3) νmax 1693cm-1; MS e/m 277 (3), 206(3), 115(10), 101(29), 91(99), 57(100).
オキサジアゼパン化合物(44、6.84g)のメタノール溶液(70ml)に10%Pd-C(1.01g)を加え、6時間水素添加を行う。反応後、濾過し、ロ液の溶媒を留去する。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール(9:1))にて精製する。エタノールより再結晶して、無色アモルファス状の化合物(45)を2.80g(68%)得た。
45:無色アモルファス状物質 mp:156.5-157.5℃(EtOH)(発泡分解する); 1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ1.51(s, 9H), 3.41-3.53(m, 4H), 3.99(t, 6, 2H), 4.32(t, 5, 2H) ); IR(KBr) νmax 1705, 1667 cm-1; MS e/m 202(M+, 1), 129(9), 99(12), 72(17), 57(100), 43(86).
アミン化合物(45、6.84g)と3,4,5-トリフロロニトロベンゼン(3.11g)のアセトニトリル溶液(60ml)に炭酸カリウム(3.19g)を加え、15時間加熱還流する。反応後、NH4Cl水溶液を加え、クロロホルム-メタノール(9:1)で抽出する。乾燥(Na2SO4)後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル(2:1))にて精製する。ヘキサンから再結晶して、黄色針状晶の化合物(46)を3.31g(52%)得た。
46:黄色針状晶 mp:87-88℃(Hexane); 1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ1.51(s, 9H), 3.63-3.71(m, 4H), 3.84(t, 6, 2H), 4.13(t, 5, 2H), 7.72-7.84(m, 2H); IR(KBr) νmax 1678cm-1; MS e/m 359 (M+, 0.3), 303(1), 286(1), 256(4), 201(7), 172(7), 57(100).
ニトロ化合物(46、2.90g)のメタノール溶液(40ml)に10%Pd-C(646mg)を加え、2時間水素添加を行う。反応後、濾過し、ロ液の溶媒を留去する。乾燥残渣とカルボベンゾキシクロリド(3.0ml)のTHF溶液(50ml)に炭酸カリウム(4.6g)を加え、15時間攪拌する。反応後氷水を加え、クロロホルムで抽出する。乾燥(Na2SO4)後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン-酢酸エチル(2:1))にて精製する。クロロホルム-ヘキサンから再結晶して、無色プリズム晶の化合物(47)を3.19g(85%)得た。
47: 無色プリズム晶 mp:100-101℃(CHCl3-Hexane); 1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ1.51(s, 9H), 3.63-3.71(m, 4H), 3.84(t, 6, 2H), 4.13(t, 5, 2H), 7.72-7.84(m, 2H); IR(KBr) νmax 1731, 1687cm-1; MS e/m 463(M+, 4), 334(4), 305(4), 225(6), 197(6), 165(14), 108 (10), 91(91), 79(12), 57(100).
カルボベンゾキシ化合物(47、363mg)のTHF溶液(10ml)に1.54M BuLiヘキサン溶液(0.60ml)を加え、アルゴン雰囲気下−78℃にて攪拌する。10分間後、(R)-グリシジルブチレート(241mg)のTHF溶液(2ml)を添加し、同温で10分間、さらに室温で19時間攪拌する。反応後NH4Cl水溶液を加え、クロロホルム-メタノール(9:1)で抽出する。乾燥(Na2SO4)後溶媒を留去し、残渣のメタノール溶液(10ml)に炭酸カリウム(173mg)を加え、15分間攪拌した後、NH4Cl水溶液を加え、クロロホルム-メタノール(9:1)で抽出する。乾燥(Na2SO4)後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール(9:1))にて精製する。無色シロップ状の化合物(48)を291mg(87%)得た。
48: 無色シロップ状物質; 1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ1.51(s, 9H), 3.33-3.43(m, 4H), 3.71-3.82(m, 3H), 3.90-4.02(m, 3H), 4.07(t, 5, 2H), 4.70-4.79(m, 1H), 7.06-7.17(m, 2H) ; IR(CHCl3) νmax 1752, 1705, 1690 cm-1; MS e/m 429 (M+, 6), 326 (5), 299(9), 271(17), 242(11), 168(10), 154(8), 57(100).
ヒドロキシ化合物(48、364mg)とトリエチルアミン(0.5ml)のクロロホルム溶液(10ml)にメタンスルフォニルクロリド(0.2ml)を加え、氷冷下15分間攪拌する。反応後、NaHCO3水溶液を加え、クロロホルム-メタノール(9:1)で抽出する。乾燥(Na2SO4)後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール(19:1))にて精製する。無色シロップ状の化合物(49)を409mg(95%)得た。
49: 無色シロップ状物質; 1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ1.51(s, 9H), 3.11(s, 3H), 3.33-3.45(m, 4H), 3.77(t, 6, 2H), 3.89(dd, 9, 6, 1H), 4.07(t, 5, 2H), 4.13(dd, 9, 9, 1H), 4.43(dd, 12, 3.5, 1H), 4.53(dd, 12, 3, 1H), 4.96(dddd, 9, 6, 3.5, 3, 1H), 7.07-7.18(m, 2H) ; IR(CHCl3) νmax 1760, 1702, 1688 cm-1; MS e/m 507 (M+, 6), 404(4), 378(10), 349(10), 335(16), 320(10), 180(12), 79(9), 57(100).
メシル化合物(49)、406mg)と18-Crown-6(77mg)のDMF溶液(3ml) にNaN3(213mg)を加え、100-110℃に加熱する。1時間後、溶媒を留去し、水を加え、クロロホルムで抽出する。乾燥(Na2SO4)後溶媒を留去し、残渣をカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール(19:1))にて精製する。無色ガム状の化合物(50)を360mg(99%)得た。
50: 無色ガム状物質; 1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ1.51(s, 9H), 3.34-3.44(m, 4H), 3.60(dd, 13.5, 4, 1H), 3.71-3.85(m, 4H), 4.01-4.13(m, 3H), 4.78-4.88(m, 1H), 7.08-7.19(m, 2H) ; IR(CHCl3) νmax 2105, 1757, 1690 cm-1; MS e/m 454 (M+, 5), 404(4), 325(4), 267(5), 154(11), 57(100).
アジド化合物(50、101mg)とトリフェニルホスフィン(123mg)のTHF(5ml)と水(0.5ml)の混合溶液を加熱還流する。1時間後、溶媒を留去し、乾燥残渣とトリエチルアミン(1ml)のクロロホルム溶液(10ml)に無水酢酸(0.25ml)を滴下し、1時間攪拌する。反応後、NaHCO3水溶液を加え、クロロホルム-メタノール(9:1)で抽出する。乾燥(Na2SO4)後溶媒を留去し、残渣を分取薄層クロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール(19:1))にて精製する。無色ガム状の化合物(51)を101mg(97%)得た。
51:無色ガム状物質; 1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ1.51(s, 9H), 2.03(s, 3H), 3.34-3.43(m, 4H), 3.60-3.71(m, 2H), 3.72-3.81(m, 3H), 4.01(dd, 9, 9, 1H), 4.07(t, 5, 2H), 4.76-4.85(m, 1H), 6.99(br t, 6, NH), 7.04-7.15(m, 2H) ) ; IR(CHCl3) νmax 1750, 1673 cm-1; MS e/m 470 (M+, 14), 367(6), 341(9), 312(10), 298(10), 239(14), 183(9), 180 (13), 154(9), 57(100).
アジド化合物(50、633mg)とトリフェニルホスフィン(579mg)のTHF(10ml)と水(1ml)の混合溶液を加熱還流する。30分後、溶媒を留去し、乾燥残渣とトリエチルアミン(2ml)のメタノール溶液(10ml)にCHF2COOEt(1ml)を滴下し、3時間攪拌する。反応後、溶媒を留去し、残渣をカラムクロマトグラフィー(クロロホルム-メタノール(19:1))にて精製する。無色ガム状の化合物(52)を587mg(83%)得た。
52:無色ガム状物質; 1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ1.51(s, 9H), 3.33-3.43(m, 4H), 3.63-3.82(m, 5H), 4.02-4.11(m, 3H), 4.80-4.90(m, 1H), 5.96(t, 54, 1H), 7.02-7.14(m, 2H), 7.65-7.84(br, NH) ; IR(CHCl3) νmax 1758, 1706cm-1; MS e/m 506 (M+, 5), 403(4), 377(9), 348(9), 334(12), 319(7), 180 (11), 57(100).
化合物(53)の合成
53:無色ガラス状物質; 1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ2.03(s, 3H), 3.22(t, 6, 2H), 3.40(br t, 6, 2H), 3.49 (t, 5.5, 2H), 3.66(dd, 6, 4.5, 2H), 3.74(dd, 9, 6.5, 1H), 3.90(t, 5.5, 2H), 4.00(dd, 9, 9, 1H), 4.79(dddd, 9, 6.5, 4.5, 4.5, 1H), 6.68(br t, 6, NH), 7.01-7.12(m, 2H); IR(CHCl3) νmax 1749, 1669cm-1; MS e/m 370(M+, 17), 341(11), 312(18), 298(15), 256(11), 239(21), 195(14), 183(16), 180(25), 168(14), 126(8), 85(11), 56(100), 43(72).
化合物(54)の合成
化合物(55)の合成
N-08
上記実施例に記載の化合物の抗菌活性について調べた。
(試験方法)
CLSI(clinical and labatory standards institute)にて推奨されている標準法に準じ、種々の細菌に対する最小発育阻止濃度(MIC:μg/ml)を測定した。
検体は、試験化合物をDMSOに溶解して1280μg/mLの溶液とした後、DMSOにより2倍系列希釈することにより調製した。検体を細菌懸濁液に5%濃度で加え、MICを測定した。試験培地としてカチオン濃度を調整したMueller Hinton Brothを用いた。接種源濃度は、いずれも約5×105 CFU/mLとした。
(結果)
本発明化合物は、VRE(バンコマイシ耐性腸球菌)、VISA(バンコマイシン低感受性MRSA)を含む種々の細菌に対し、リネゾリドやバンコマイシンと同等またはそれ以上(例えば4倍以上)の強い抗菌活性を示した。例えば、実施例、81、82、83、84、85、86および91の化合物等は、S. aureus FDA 209P、S. aureus smith、S. aureus ATCC 700787、E. faecalis ATCC 29212、E. faecalis SR7914、E. faecium SR7917等の細菌に対してMIC値(μg/mL)が1以下であった。
キノロン系化合物の合成
上記式IのB環がキノロンである本発明化合物を以下の方法にしたがって製造した。
7-ビス(ヒドロキシエチル)アミノ化合物(62)
63: 1H-NMR(300MHz, CDCl3) : δ1.05(m, 2H), 1.22(m, 2H), 3.93(s, 3H), 3.99(m, 1H), 4.09(d, 1.8, 3H), 8.05(dd, 10.2, 8.4, 1H), 8.63(s, 1H).
7-ビス(メタンスルホニルオキシエチル)アミノ化合物(64)
64: 1H-NMR(300MHz, CDCl3) : δ0.87(m, 2H), 1.18(m, 2H), 2.96(s, 6H), 3.79(br t, 5.1, 4H), 3.87(s, 3H), 3.92(m, 1H), 3.93(s, 3H), 4.34(br t, 5.2, 4H), 7.95(d, 12.3, 1H), 8.65(s, 1H).
7-ビスBOCトリアザシクロヘプチル化合物(65)
65: 1H-NMR(300MHz, CDCl3) : δ0.94(m, 2H), 1.15(m, 2H), 1.48-1.49(br s, 18H), 3.27-3.38(m, 4H), 3.60-3.70(m, 3H), 3.74(s, 3H), 3.92(s, 3H), 3.92(m, 1H), 4.16(m, 1H), 7.95(d, 12.3, 1H), 8.60(s, 1H).
7-ビストリアザシクロヘプチル化合物(66)
66:黄色針状晶 mp : 169-172℃ (MeOH-Et2O) ; 1H-NMR(300MHz, DMSO) : δ1.02-1.11(m, 4H), 3.63(m, 4H), 3.72(s, 3H), 4.16(m, 1H), 7.77(d, 12, 1H), 8.71(s, 1H).
7-ビストリアザシクロヘプチル化合物のモノアセチル誘導体(67)
モノアシルメチルエステル化合物(34mg)のメタノール(2ml)溶液に氷冷下10%水酸化カリウム水溶液(2ml)を加え、室温で30分間撹拌した。反応後、希塩酸にてpH5-6として、クロロホルム抽出をする。水洗乾燥後、溶媒を留去する。残渣をジクロロメタン(1ml)に溶解し、TFA(1ml)を加え昼夜放置した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(WAKOゲルB0、20ml、クロロホルム〜5%メタノール/クロロホルム)にて精製し、メタノール-ヘキサンから再結晶して淡橙色針状晶の標記化合物(67)を25mg(76%)得た。
67: 淡橙色針状晶 mp : 193-196℃ (MeOH-Hexane) ; 1H-NMR(300MHz, CDCl3) : δ0.94(m, 2H), 1.15(m, 2H), 2.13 & 2.25(s, 3H), 3.09-3.72(m, 7.5H), 3.73 & 3.74(s, 3H), 3.92(m, 1H), 4.56(m, 0.5H), 7.92(d, 12, 1H), 8.60(s, 1H).
7-ビストリアザシクロヘプチル化合物のモノヒドロキシアセチル誘導体(69)
68: 1H-NMR(300MHz, CDCl3) :δ0.94(m, 2H), 1.15(m, 2H), 2.14(s, 3H), 3.09-3.90(m, 8H), 3.73 & 3.76(s, 3H), 3.92(s, 3H), 3.92(m, 1H), 5.00(s, 2H), 7.93(d, 12, 1H), 8.61(s, 1H).
モノアセトキシアセチルメチルエステル化合物(48、27mg)のメタノール(2ml)溶液に氷冷下10%水酸化カリウム水溶液(2ml)を加え、室温で10分間撹拌した。反応後、希塩酸にてpH5-6として、クロロホルム抽出をする。水洗乾燥後、溶媒を留去する。残渣をエタノール-ヘキサンから再結晶して淡橙色針状晶の標記化合物(69)を10mg(42%)得た。
69: 淡橙色針状晶 mp : 157-159℃ (EtOH-Hexane) ; 1H-NMR(300MHz, CDCl3) :δ1.00(m, 2H), 1.22(m, 2H), 3.23-3.90(m, 8H), 3.77(s, 3H), 4.03(m, 1H), 7.93(d, 12, 1H), 8.84(s, 1H).
7-BOCジアザオキシシクロヘプチル化合物(70)
70: 1H-NMR(300MHz, CDCl3) : δ0.94(m, 2H), 1.15(m, 2H), 1.48-1.49(br s, 18H), 3.27-3.38(m, 4H), 3.60-3.70(m, 3H), 3.74(s, 3H), 3.92(s, 3H), 3.92(m, 1H), 4.16(m, 1H), 7.95(d, 12.3, 1H), 8.60(s, 1H).
7-ジアザオキシシクロヘプチル化合物(71)
71: 淡橙色針状晶 mp : 222-224℃ (MeOH-Hexane) ; 1H-NMR(300MHz, CDCl3) : δ=1.01 (m, 2H), 1.22 (m, 2H), 3.66 (t, J = 6 Hz, 4H), 3.83 (t, J = 6 Hz, 4H), 3.88 (s, 3H), 4.06 (m, 1H), 7.94 (d, J = 12 Hz, 1H), 8.86 (s, 1H).
本発明のキノロン系化合物の抗菌活性
試験例1の方法に従って、本発明キノロン系化合物の抗菌活性を調べた。
(結果)
本発明化合物は、VRE(バンコマイシ耐性腸球菌)、MRSA(メチシリン耐性黄色ブドウ球菌)を含む種々の細菌に対し、市販のニューキノロン系抗菌剤(例:シプロフロキサシン、ガチフロキサシン、モキシフロキサシン)と同等またはそれ以上(例えば4倍以上)の強い抗菌活性を示した。例えば、実施例960の化合物(66)、実施例964の化合物(71)は、S. aureus FDA 209P、S. aureus SR3637、E. faecalis ATCC 29212、E. faecalis SR7914等の細菌に対してMIC値(μg/mL)が1以下であった。
化合物88の合成
50cm3ナスフラスコに化合物81(3.1291g、10.38mmol)、4−フルオロベンズアルデヒド(1.9321g、15.57mmol)、K2CO3(2.9080g、21.04mmol)を入れ、ピリジン(10cm3)を加えて懸濁液とした。これを88時間加熱還流した。ピリジンを留去して得られた残渣にH2O(100cm3)を加え、AcOEtで3回抽出し、飽和NaCl水溶液で洗浄後、Na2SO4で乾燥し、ろ過、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW−200、30g、溶出液;5%→10%→50%AcOEt/n−ヘキサン→10%MeOH/CH2Cl2)で精製し、化合物82(0.7581g、1.87mmol)および化合物83(0.3143g、1.03mmol)を得た。なお、化合物82および83のホルミル基が酸化されたカルボキシル体もそれぞれ微量ながら得られた。
収率:18%(化合物82)、10%(化合物83)、未反応の化合物81を65%回収
化合物82: 1H NMR (CDCl3) δ = 1.33 & 1.36 & 1.41 (18H, three singlet peaks of the conformers, t-Bu×2), 3.14-3.91 (6H, m), 4.10-4.32 (2H, m), 6.77 (2H, d, J = 9.1 Hz), 7.74 (2H, d, J = 9.1 Hz), and 9.75 (1H, s, CHO)
化合物83: 1H NMR (CDCl3) δ = 1.20 (9H, s, t-Bu), 3.09 (2H, t, J = 5.2 Hz), 3.70 (2H, t, J = 5.2 Hz), 3.70-3.86 (4H, m), 4.82 (1H, br s, NH), 6.76 (2H, d, J = 8.5 Hz), 7.73 (2H, d, J = 8.5 Hz), and 9.73 (1H, s, CHO).
化合物84
100cm3ナスフラスコに、化合物82(1.2082g、2.98mmol)を入れ、ピリジン(1cm3)とMeOH(10cm3)とで溶液とした。HONH2.HCl(0.3584g、5.16mmol)を加え、室温で21時間撹拌した。ピリジン、MeOHを留去後、残渣にH2O(50cm3)およびAcOEt(100cm3)を加え、分液してさらに水層をAcOEtで1回抽出し、合わせた有機層をH2Oで1回、飽和NaCl水溶液で1回洗浄し、Na2SO4で乾燥し、ろ過、濃縮して化合物84が主成分の残渣(1.1838g)を得た。
化合物85
100cm3ナスフラスコに、化合物84が主成分の残渣(1.1838g)を入れ、ピリジン(3cm3)およびCH2Cl2(15cm3)に溶かして溶液とした。これに0℃にてNCS(0.5020g、3.76mmol)を加え、同温で3時間撹拌したのちに室温で15時間撹拌した。残渣にH2O(50cm3)およびAcOEt(100cm3)を加え、分液してさらに水層をAcOEtで1回抽出し、合わせた有機層をH2Oで1回、飽和NaCl水溶液で1回洗浄し、Na2SO4で乾燥し、ろ過、濃縮して化合物85が主成分の残渣を得た。
化合物86
100cm3ナスフラスコに、化合物85が主成分の残渣(1.1838g)を入れ、Et3N(0.80cm3、5.69mmol)およびCH2Cl2(20cm3)に溶かして溶液とした。これに室温にてアリルアルコール(0.40cm3、5.85mmol)を加え、同温で24時間撹拌した。溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW−200、30g、溶出液;AcOEt→5%MeOH/CH2Cl2)で精製しようとしたが副生成物が多く、化合物86を含むフラクションのみを回収した。
1H NMR (CDCl3) δ = 1.34-1.42 (18H, t-Bu), 2.19 (1H, br s, OH), 3.13-3.86 (10H), 4.09-4.28 (2H), 4.74-4.86 (1H, m), 6.71 (2H, d, J = 8.8 Hz), and 7.53 (2H, d, J = 8.8 Hz).
化合物87
上記化合物86を含むフラクションを濃縮したもの(1.0953g)を、CH2Cl2(20cm3)に溶かして溶液とし、それにEt3N(0.80cm3、5.69mmol)を加えた。0℃にてMsCl(0.40cm3、5.17mmol)をCH2Cl2(5cm3)に溶かしたものを滴下し、室温に戻して2.5時間撹拌した。飽和NaHCO3水溶液(30cm3)でクエンチし、CH2Cl2で4回抽出し、飽和NaCl水溶液で1回洗浄し、Na2SO4で乾燥後、ろ過、濃縮して残渣(1.2848g)を得た。これをDMF(20cm3)に溶かし、NaN3(0.6000g、9.23mmol)を加えて60℃で3時間撹拌したのちに室温で40時間撹拌した。H2O(50cm3)およびAcOEt(40cm3)を加えて分液し、さらに水層をAcOEtで1回抽出し、合わせた有機層をH2Oで1回、飽和NaCl水溶液で1回ずつ洗浄し、Na2SO4で乾燥し、ろ過、濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW−200、30g、溶出液;50%→80%AcOEt/n−ヘキサン)で精製し、化合物87を0.3171g(0.632mmol)得た。
82からの収率:21%
1H NMR (CDCl3) δ = 1.34-1.48 (18H, t-Bu), 3.06-3.86 (10H), 4.07-4.28 (2H), 4.78-4.91 (1H, m), 6.65-6.73 (2H, m), and 7.44-7.56 (2H, m).
化合物88の合成
50cm3ナスフラスコに化合物87(0.3171g、0.632mmol)を入れ、THF(3cm3)に溶かして溶液とした。これに室温でPh3P(0.2525g、0.963mmol)およびH2O(0.20cm3、11.1mmol)を加え、室温で52時間撹拌した。溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW−200、30g、溶出液;50%→100%AcOEt/n−ヘキサン→10%MeOH/CHCl3)で精製し、アミン体を0.2413g(0.507mmol、80%)得た。50cm3ナスフラスコにアミン体(0.2413g、0.507mmol)を入れ、ピリジン(5cm3)に溶かして溶液とした。これに室温でAc2O(2.0cm3)を加え、同温にて15時間撹拌した。溶媒を留去し、得られた残渣(0.2556g)を化合物88とした。
収率:78%
1H NMR (CDCl3) δ = 1.27-1.41 (18H, t-Bu), 1.90 (3H, s, Ac), 2.80-3.68 (10H), 4.02-4.20 (2H), 4.66-4.78 (1H, m), 6.10 (1H, t, J = 6.0 Hz), 6.63 (2H, d, J = 8.8 Hz), and 7.42 (2H, d, J = 8.8 Hz).
化合物94の合成
200cm3ナスフラスコにNaH(ミネラルオイル中60%;3.4311g、85.8mmol)を入れ、n−ヘキサンで3回洗浄した。残存するn−ヘキサンを減圧下蒸発させ、DMF(150cm3)を加えた。室温にて化合物90(10.26g、34.2mmol)を加え、同温で10分間撹拌した。次に、DMF(50cm3)に溶かした化合物89(9.8497g、40.7mmol)を室温にて滴下し、同温で18時間撹拌した。H2O(500cm3)中に注ぎ込み、AcOEtで3回抽出し、水で1回、飽和NaCl水溶液で洗浄し、無水Na2SO4で乾燥後、ろ過、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW−200、150g、溶出液;10%→20%→30%→50%AcOEt/n−ヘキサン)で精製し、化合物91を3.9235g(8.36mmol)得た。
収率:25%
1H NMR (CDCl3) δ = 1.31-1.43 (9H, t-Bu), 3.08-3.74 (6H), 4.00-4.28 (2H), 4.98-5.24 (4H, m, CH2Ph), and 7.20-7.38 (10H, m).
化合物93および94
500cm3ナスフラスコに化合物91(3.9235g、8.36mmol)、10%Pd/C(0.7777g)を入れ、MeOH(60cm3)とCH2Cl2(20cm3)を加えて懸濁液とした。これをH2置換し、7日間撹拌した。反応溶液をCelite Padでろ過し、ろ液を濃縮して粗生成物(92)とした。この粗生成物(2.2861g)をMeCN(50cm3)に溶かし、K2CO3(3.3520g、24.25mmol)、3,4−ジフルオロニトロベンゼン(3.6271g、22.80mmol)を入れて14時間加熱還流した。H2O(50cm3)を加え、AcOEtで5回抽出し、飽和NaCl水溶液で洗浄し、無水Na2SO4で乾燥後、ろ過、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(BW−200、60g、溶出液;10%→20%→30%→40%AcOEt/n−ヘキサン)で精製し、化合物93を0.5019g(1.47mmol)、化合物94を0.4347g(0.91mmol)得た。
収率:18%(化合物93)、11%(化合物94)
化合物93: 1H NMR (CDCl3) δ = 1.45 (9H, s, t-Bu), 3.00-3.14 (2H), 3.36-3.74 (7H), 7.48 (1H, t = 9.1 Hz), and 7.84-8.01 (2H, m).
化合物94: 1H NMR (CDCl3) δ = 1.53-1.57 (9H, t-Bu), 3.38-5.76 (8H), 6.61 (2H, t, J = 8.6 Hz), and 7.84-8.01 (4H, m).
化合物103の合成
BOC化合物(101、1.01g)のクロロホルム溶液(25ml)にトリフロロ酢酸(2ml)を添加し、室温にて19時間撹拌する。反応後飽和NaHCO3水溶液を加え、クロロホルム‐メタノール(9:1)にて抽出する。乾燥(Na2SO4)後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン‐酢酸エチル(1:1))にて精製する。無色シロップ状の化合物(102)を526mg(74%)得た。
102: 無色シロップ状物質; 1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ3.09(t, 5.5, 1H), 3.14(t, 5.5, 1H), 3.54-3.70(m, 4H), 3.82(t, 5.5, 1H), 3.91(t, 5.5, 1H), 5.16(s, 2H), 5.84(br, NH), 7.29-7.40(m, 5H)
化合物103
アミノ化合物(102、321mg)と3,4,5−トリフロロニトロベンゼン(487mg)のアセトニトリル溶液(12ml)にK2CO3(561mg)を加え、21時間加熱還流する。反応後、NH4Cl水溶液を加え、クロロホルム−メタノール(9:1)で抽出する。乾燥(Na2SO4)後溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン−酢酸エチル(2:1))にて精製する。初流出部から淡黄アメ状物質の化合物(103)を45mg(8%)得た。ヘキサン−酢酸エチル(1:1)流出部より原料を258mg(80%)回収した。
103:淡黄色アメ状物質;1H-NMR(300MHz, CDCl3) δ3.55(br t, 5.5, 1H), 3.62(br t, 5.5, 1H), 3.70-3.81(m, 4H), 4.01(t, 5.5, 1H), 4.09(t, 5.5, 1H), 5.19(s, 2H), 7.31-7.39(m, 5H), 7.75-7.84(m, 2H)
Claims (45)
- 式:
Y1はNP2またはO;
P1およびP2は、それぞれ独立して水素、置換基群S1およびアミノ保護基から選択される置換基、またはP1およびP2は、隣接するN原子と一緒になって、置換されていてもよい複素環を形成してもよく;
置換基群S1は、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいホルミル、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルカルボニル、置換されていてもよい低級アルキルオキシカルボニル、置換されていてもよいアリールカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよいカルバモイル、低級アルキルチオ、シクロアルキルチオ、アリールチオ、置換されていてもよい低級アルキルスルホニル、置換されていてもよいフェニルスルホニル、置換されていてもよい芳香族複素環式基低級アルキル、置換されていてもよいアリール、および置換されていてもよい複素環基からなり;
B環は、置換されていてもよく縮合していてもよいベンゼン環または置換されていてもよい複素環であり;
但し、以下の化合物を除く
で示される化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。 - B環が、ハロゲン、ニトロ、アミノ、アミノ保護基で保護されたアミノ、置換されていてもよいアミド、ホルミル、カルボキシル、カルボキサミド、置換されていてもよいアルキル基、低級アルコキシ、ヒドロキシイミノ、置換されていてもよいオキサゾリジノン、置換されていてもよいイソキサゾール、および置換されていてもよい複素環式基(好ましくは、5または6員)からなる群から選択される1または2以上の置換基で置換されている、請求項1記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- 式:
P1は、水素、置換基群S1およびアミノ保護基から選択される置換基であり;
置換基群S1は、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいホルミル、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルカルボニル、置換されていてもよい低級アルキルオキシカルボニル、置換されていてもよいアリールカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよいカルバモイル、低級アルキルチオ、シクロアルキルチオ、アリールチオ、置換されていてもよい低級アルキルスルホニル、置換されていてもよいフェニルスルホニル、置換されていてもよい芳香族複素環式基低級アルキル、置換されていてもよいアリール、および置換されていてもよい複素環基からなり;
B環は、置換されていてもよく縮合していてもよいベンゼン環または置換されていてもよい複素環である]
で示される、請求項1記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。 - B環が、置換キノリン環である、請求項1、2または4のいずれかに記載の化合物。
- B環が、キノロン系抗菌性化合物またはニューキノロン系抗菌性化合物の残基であり、結合位が7位である、請求項5記載の化合物。
- 式:
Y1はNP2またはO;
P1およびP2は、それぞれ独立して水素、置換基群S1およびアミノ保護基から選択される置換基、またはP1およびP2は、隣接するN原子と一緒になって、置換されていてもよい複素環を形成してもよく;
R10〜R15は、それぞれ独立して水素、低級アルキル、シクロアルキル、シクロアルキル低級アルキル、ハロゲン、低級アルコキシ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、アミノ、低級アルキルアミノ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよい複素環式基を示す;またR12およびR13は、隣接原子と一緒になって置換されていてもよい複素環を形成してもよい]
で示される化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。 - R10が水素、R11がハロゲン、R12が低級アルコキシ、R13がシクロアルキル、R14が水素、R15がカルボキシまたは低級アルコキシカルボニルである、請求項7記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- P1、P2は、それぞれ独立してアミノ保護基であり、R11は水素である、請求項9記載の化合物。
- 式:
A環は、
(A−1)少なくとも3個のN原子を含有する、少なくとも7員の単環性複素環;
(A−2)少なくとも2個のN原子と少なくとも1個のO原子を含有する、少なくとも6員の単環性複素環;または
(A−3)少なくとも2個のN原子と少なくとも1個のS原子を含有する、少なくとも7員の単環性複素環
であって、該単環性複素環は置換されていてもよく、また該単環性複素環にはさらに環が縮合していてもよく、
X1は、単結合、または-O-、-S-、-NR2-、-CO-、-CS-、-CONR3-、-NR4CO-、-SO2NR5-、および-NR6SO2-(ここに、R2〜R6は、それぞれ独立して、水素または低級アルキルである)からなる群から選択されるヘテロ原子含有基、または該ヘテロ原子含有基が介在していてもよい低級アルキレンもしくは低級アルケニレンであり、
B環は、置換されていてもよい炭素環または置換されていてもよい複素環であり;
R1は、水素、またはオキサゾリジノン系抗菌剤のオキサゾリジノン環の5位に結合可能な有機残基である]
で示される化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。 - A環は、(A−1)少なくとも3個のN原子を含有する、少なくとも7員の単環性複素環である、請求項12記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- A環は、(A−2)少なくとも2個のN原子と少なくとも1個のO原子を含有する、少なくとも6員の単環性複素環である、請求項12記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- A環は、(A−3)少なくとも2個のN原子と少なくとも1個のS原子を含有する、少なくとも7員の単環性複素環である、請求項12記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- 式:
Y1は、NRb、OまたはSであり;
RbおよびRaは、それぞれ独立に、水素または置換基群S1から選択される置換基であって、該置換基群S1は、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいホルミル、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいシクロアルキルカルボニル、置換されていてもよい低級アルキルオキシカルボニル、置換されていてもよいアリールカルボニル、置換されていてもよい複素環式基カルボニル、置換されていてもよいカルバモイル、低級アルキルチオカルボニル、シクロアルキルチオカルボニル、アリールチオカルボニル、置換されていてもよい低級アルキルスルホニル、置換されていてもよいフェニルスルホニル、置換されていてもよい芳香族複素環式基スルホニル、置換されていてもよいアミノスルホニル、置換されていてもよいアリール、および置換されていてもよい複素環式基からなり、または
RaおよびRbは、隣接するN原子と一緒になって、置換されていてもよい複素環を形成し; A1環は、RaおよびRb以外の置換基によってさらに置換されていてもよく;
p、qおよびrは、それぞれ独立して0〜3の整数であり、
但し、
Y1がNRbまたはSの場合、p+q+r≧4であり、
Y1がOの場合、p+q+r≧3であり;
X1は、単結合、−O−、−S−、−NR2−、−CO−、−CS−、−CONR3−、−NR4CO−、−SO2NR5−、および−NR6SO2−(ここに、R2〜R6は、それぞれ独立して、水素または低級アルキルである)からなる群から選択されるヘテロ原子含有基、または該ヘテロ原子含有基が介在していてもよい低級アルキレンもしくは低級アルケニレンであり、
B環は、置換されていてもよい炭素環または置換されていてもよい複素環であり;
R1は、水素、またはオキサゾリジノン系抗菌剤のオキサゾリジノン環の5位に結合可能な有機残基である]
で示される請求項12記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。 - Y1がNRbであり、Rbが水素または前記置換基群S1から選択される置換基である、請求項16記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- Raが水素であり、Y1がNRbであり、Rbが水素または前記置換基群S1から選択される置換基である、請求項16記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- Raが水素または低級アルキルであり;Y1がNRbであり、Rbが水素、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいホルミル、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、または置換されていてもよいカルバモイルである、請求項16記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- pが0であり;Y1がNRbであり;RaおよびRbが、隣接するN原子と一緒になって、置換されていてもよい複素環を形成する、請求項16記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- Y1がOである、請求項16記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- Raが水素、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいホルミル、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、または置換されていてもよいカルバモイルであり;Y1がOである、請求項16記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- Y1がSである、請求項16記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- Raが水素またはアシルであり;Y1がSである、請求項16記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- pが0であり、q+r=4である、請求項16記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- pが0であり、q=r=2である、請求項16記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- X1が単結合である、請求項12または16記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- B環が、置換されていてもよいベンゼン環または置換されていてもよい5〜7員の芳香族複素環である、請求項12または16記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- B環が、置換されていてもよいベンゼン環である、請求項12または16記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- B環が、1または2個のハロゲンで置換されたベンゼン環である、請求項12または16記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- R1が、置換されていてもよいアミノメチレンまたは置換されていてもよいヒドロキシメチレンである、請求項12または16記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- R1が、置換アミノメチレンである、請求項12または16記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- R1が−CH2NHCOR7(R7が置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよい低級アルキルオキシ、シクロアルキル、置換されていてもよい複素環、低級アルキルアミノまたは置換されていてもよいフェニル)、または−CH2NHCSR8(R8が置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよい低級アルキルオキシ、シクロアルキル、置換されていてもよい複素環、低級アルキルアミノまたは置換されていてもよいフェニル)である、請求項12または16記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- Y1がNRbであり;Rbが水素または前記置換基群S1から選択される置換基であり;pが0であり、q+r=4であり;X1が単結合であり;B環が置換されていてもよいベンゼン環または置換されていてもよい5〜7員の芳香族複素環であり;R1が−CH2NHCOR7(R7が置換されていてもよい低級アルキル)または−CH2NHCSR8(R8が置換されていてもよい低級アルキルオキシ)であり;A1環がRaおよびRb以外の置換基によってさらに置換されていてもよい、請求項16記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- Raが水素又は低級アルキルであり;Y1がNRbであり、Rbが水素または置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいホルミル、置換されていてもよい低級アルキルカルボニルまたは置換されていてもよいカルバモイルであり;pが0であり、q=r=2であり;X1が単結合であり;B環が置換されていてもよいベンゼン環であり;R1が−CH2NHCOR7(R7が置換されていてもよい低級アルキル)または−CH2NHCSR8(R8が置換されていてもよい低級アルキルオキシ)であり;A1環が、RaおよびRb以外の置換基によってさらに置換されていてもよい、請求項16記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- Raが水素又は低級アルキルであり;Y1がNRbであり、Rbが置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよい低級アルキルカルボニルまたは置換されていてもよいカルバモイルであり;pが0であり、q=r=2であり;X1が単結合であり;B環が1または2個のハロゲンによって置換されていてもよいベンゼン環であり;R1が−CH2NHCOR7(R7が置換されていてもよい低級アルキル)または−CH2NHCSR8(R8が置換されていてもよい低級アルキルオキシ)である、請求項16記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- Rbが−COCH2OH、または−CONH−(置換されていてもよいヘテロ環式基)である、請求項36記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- pが0であり、q=r=2であり;Y1がNRbであり、RaおよびRbが、隣接するN原子と一緒になって、置換されていてもよい複素環を形成し;X1が単結合であり;B環が置換されていてもよいベンゼン環であり;R1が−CH2NHCOR7(R7が置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよい低級アルキルオキシ、シクロアルキル、置換されていてもよい複素環、低級アルキルアミノまたは置換されていてもよいフェニル)または−CH2NHCSR8(R8が置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよい低級アルキルオキシ、シクロアルキル、置換されていてもよい複素環、低級アルキルアミノまたは置換されていてもよいフェニル)であり;A1環がRaおよびRb以外の置換基によってさらに置換されていてもよい、請求項16記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- pが0であり、q=r=2であり;Y1がNRbであり、RaおよびRbが、隣接するN原子と一緒になって、オキソによって置換されていてもよい5員または6員の複素環を形成し、該複素環のその他の部分はさらに置換されているかまたは縮合されていてもよい;X1が単結合であり;B環が1または2個のハロゲンによって置換されていてもよいベンゼン環であり;R1が−CH2NHCOR7(R7が置換されていてもよい低級アルキル)または−CH2NHCSR8(R8が置換されていてもよい低級アルキルオキシ)である、請求項16記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- Y1がOであり;pが0であり、q+r=4であり;X1が単結合であり;B環が置換されていてもよいベンゼン環または置換されていてもよい5〜7員の芳香族複素環であり;R1が−CH2NHCOR7(R7が置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよい低級アルキルオキシ、シクロアルキル、置換されていてもよい複素環、低級アルキルアミノまたは置換されていてもよいフェニル)または−CH2NHCSR8(R8が置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよい低級アルキルオキシ、シクロアルキル、置換されていてもよい複素環、低級アルキルアミノまたは置換されていてもよいフェニル)であり;A1環がRaおよびRb以外の置換基によってさらに置換されていてもよい、請求項16記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- Y1がOであり;Raが水素、置換されていてもよい低級アルキル、置換されていてもよいホルミル、置換されていてもよい低級アルキルカルボニル、置換されていてもよいカルバモイルであり;pが0であり、q=r=2であり;X1が単結合であり;B環が1または2個のハロゲンによって置換されていてもよいベンゼン環であり;R1が−CH2NHCOR7(R7が置換されていてもよい低級アルキル)または−CH2NHCSR8(R8が置換されていてもよい低級アルキルオキシ)である;、請求項16記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- Raが−COCH2OH、−CONH−(置換されていてもよいヘテロ環式基)、または−CONHC(=NH)N(CH3)2、である、請求項42記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物。
- 請求項1〜43のいずれかに記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物を含有する医薬組成物。
- 請求項1〜43のいずれかに記載の化合物、その製薬上許容される塩、またはそれらの溶媒和物を含有する抗菌剤。
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