JPWO2002026745A1 - チエノピリミジン化合物とその塩並びに製造方法 - Google Patents

Abstract

本発明は、ｃＧＭＰ特異的ホスホジエステラーゼ阻害作用などを有する医薬として有用な新規なチエノピリミジン化合物に関し、具体的には、一般式（１）（式中、Ｒ１は水素原子またはＣ１−６アルキル基を、Ｒ２は置換されてもよいＣ３−８シクロアルキル基、置換されてもよいフェニル基または置換されてもよいＮ，ＯもしくはＳ原子を１〜４個含む飽和もしくは不飽和のヘテロ環基を、Ｒ３は、置換されてもよいＮ，ＯもしくはＳを１〜４個含む飽和もしくは不飽和のヘテロ環基、式（ＣＨ２）ＫＣ（＝Ｏ）Ｒ６または式ＣＨ＝ＣＨＣ（＝Ｏ）Ｒ６で表される基を、Ｒ４は、水素原子、Ｃ１−６アルキル基、ヒドロキシ基、Ｃ１−６アルコキシ基、ハロゲン、Ｃ１−６ハロアルキル基、ニトロ基やシアノ基を、Ｒ５は、シアノ基や置換されてもよいフェニル基または、置換されてもよいＮ，ＯもしくはＳを１〜４個含む飽和もしくは不飽和のヘテロ環基等を表す。）で表されるチエノ［２，３−ｄ］ピリミジン化合物とその製法である。

Description

技術分野：
本発明は、ｃＧＭＰ特異的ホスホジエステラーゼ（ｃＧＭＰ−ＰＤＥ）阻害剤として有用なピリドチエノピリミジン化合物及びその塩並びにそれらの製造法に関する。
背景技術：
ｃＧＭＰは、生体内の情報伝達経路におけるセカンドメッセンジャーとして重要な役割を担う物質であり、その分解酵素であるｃＧＭＰ−ＰＤＥ阻害剤は、細胞内のｃＧＭＰ濃度を上昇し、例えば、高血圧、心不全、心筋梗塞、狭心症、動脈硬化、ＰＴＣＡ後再狭窄、心臓浮腫、肺高血圧症、腎不全、腎浮腫、肝浮腫、喘息、気管支炎、痴呆、免疫不全、緑内症、またはインポテンツなどの予防および／または治療に有用である。
一方、従来、チエノ［２，３−ｄ］ピリミジン骨格を有するｃＧＭＰ−ＰＤＥ阻害剤として、ＷＯ９８／０６７２２号、ＥＰ７２８７５９号、ＷＯ９８／１７６６８号、ＷＯ９９／２８３２５号およびＷＯ９９／５５７０８号に、下記一般式で表される化合物が報告されている。

ここで、Ｘは置換基を有してもよいシクロアルキル基、フェニル基若しくはヘテロ環基、カルボン酸若しくはカルボン酸アミドで置換されたアルキレン若しくはシクロアルキル基等であり、Ｒ^１，Ｒ^２はアルキル基、ニトロ基、ハロゲン原子を表す。
しかし、前記式において、Ｒ^１，Ｒ^２が、ヘテロ環やカルボン酸、カルボン酸アミド等の置換基である化合物は記載されていない。
発明の開示：
本発明の目的は、ｃＧＭＰ−ＰＤＥ阻害活性を有する新規なチエノピリミジン化合物とその工業的に有利な製造法を提供することである。
本発明は一般式（１）

［式中、Ｒ_１は水素原子またはＣ_１−６アルキル基を表す。
Ｒ_２はＧ_１で置換されてもよいＣ_３−６シクロアルキル基、Ｇ_２で置換されてもよいフェニル基またはＧ_３で置換されてもよいＮ，ＯもしくはＳ原子を１〜４個含む飽和もしくは不飽和のヘテロ環基を表す。
Ｒ_３は、Ｇ_３で置換されてもよいＮ，ＯもしくはＳを１〜４個含む飽和もしくは不飽和のヘテロ環基、または、式
（ＣＨ_２）ｋＣ（＝Ｏ）Ｒ_６もしくは式ＣＨ＝ＣＨＣ（＝Ｏ）Ｒ_６
で表される基を表す。
Ｒ_４は、水素原子、Ｃ_１−６アルキル基、ヒドロキシ基、Ｃ_１−６アルコキシ基、ハロゲン原子、Ｃ_１−６ハロアルキル基、ニトロ基またはシアノ基を表す。
Ｒ_５は、シアノ基、Ｇ_２で置換されてもよいフェニル基、Ｇ_３で置換されてもよいＮ，ＯもしくはＳを１〜４個含む飽和もしくは不飽和のヘテロ環基、または式
（ＣＨ_２）ｋＣ（＝Ｏ）Ｒ_６もしくは式ＣＨ＝ＣＨＣ（＝Ｏ）Ｒ_６
で表される基を表す。
Ｒ_６は、水素原子、ヒドロキシ基、Ｃ_１−６アルコキシ基、Ｇ_２で置換されてもよいフェノキシ基、Ｇ_２で置換されてもよいベンジルオキシ基、または、
式Ｎｒ_１ｒ_２もしくは式ＮＨＮｒ_３ｒ_４で表される基を表す。
ｒ_１、ｒ_３は、水素原子またはヒドロキシル基、ＯＮＯ_２基で置換されていてもよいＣ_１−６アルキル基を表し、
ｒ_２、ｒ_４は、水素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_１−６アルコキシカルボニル基、Ｇ_３で置換されてもよいＮ，ＯもしくはＳを１〜４個含む飽和もしくは不飽和のヘテロ環で置換されてもよいＣ_１−６アルキル基、Ｇ_２で置換されてもよいフェニル基、Ｇ_２で置換されてもよいベンジル基またはＧ_３で置換されてもよいＮ，ＯもしくはＳを１〜４個含む飽和もしくは不飽和のヘテロ環基を表す。または、ｒ_１、ｒ_２は、Ｎといっしょになってｒ_５で置換されていてもよい下記式で表される環

（式中、Ｙは、Ｏ、ＣＨ_２またはＮＨを表す。）を形成してもよい。
ｒ_５はＧ_２で置換されてもよいＣ_１−６アルキル基、Ｇ_２で置換されてもよいフェニル基、Ｇ_２で置換されてもよいベンジル基、Ｇ_２で置換されていてもよいピリジル基、または−Ｚ−Ｑ
（ＺはＣＯ、ＣＳ、ＳＯ_２を表わし、Ｑは水素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_１−６アルコキシ基、ジＣ_１−６アルキルアミノ基、フェニルＣ_１−６アルキルアミノ基、またはＮ，ＯもしくはＳを１〜４個含む飽和もしくは不飽和のヘテロ環基を表す。）を表わす。
ｋは０、１または２を表す。
Ｇ_１は、ハロゲン原子、Ｃ_１−６アルキル基またはＣ_１−６アルコキシ基を表す。
Ｇ_２は、ハロゲン原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_１−６アルコキシ基またはＣ_１−２アルキレンジオキシ基、Ｃ_１−６アルキルアミノ基、Ｃ_１−６アルキルカルバモイル基を表す。
Ｇ_３は、ハロゲン原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_１−６ハロアルキル基、Ｃ_１−６アルコキシ基またはＣ_１−６アルコキシカルボニル基を表す。
ベンゼン環、シクロアルキルもしくはヘテロ環上のこれら、Ｇ_１，Ｇ_２，Ｇ_３，ｒ_５の置換基は、２つ以上置換されていてもよく、２つ以上の時は同一でも相異なっていてもよい。］
で表されるチエノピリミジン化合物及びその薬学的に許容される塩であり、特に、一般式（１−２）

（式中、Ｒ_１，Ｒ_２，Ｒ_４，Ｒ_５及びＲ_６は前記と同一の意味を表す。）で表される化合物であり、さらに、
一般式（２）

（式中、Ｒ_３，Ｒ_４及びＲ_５は前記と同一の意味を表し、Ｘはハロゲン原子を表す。）で表される化合物と、一般式（３）

（式中、Ｒ_１及びＲ_２は前記と同一の意味を表す。）で表される化合物とを反応させることを特徴とする前記一般式（１）で表される化合物の製造法である。
前記一般式（１）で表される本発明化合物において、
Ｒ_１は、水素原子または、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルなどのＣ_１−６アルキル基を表す。
Ｒ_２は、（任意の位置に、フッ素、塩素、臭素などのハロゲン原子、メチル、エチルなどのＣ_１−６アルキル基またはメトキシ、エトキシ等のＣ_１−６アルコキシ基で置換されてもよい）Ｃ_３−８シクロアルキル基、（任意の位置に、フッ素、塩素、臭素などのハロゲン原子、メチル、エチルなどのＣ_１−６アルキル基またはメトキシ、エトキシ等のＣ_１−６アルコキシ基、メチレンジオキシ、エチレンジオキシなどのＣ_１−２アルキレンジオキシ基で置換されてもよい）フェニル基または（任意の位置に、フッ素、塩素、臭素などのハロゲン原子、メチル、エチルなどのＣ_１−６アルキル基、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチルなどのＣ_{１− ６}ハロアルキル基、メトキシ、エトキシ等のＣ_１−６アルコキシ基またはメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどのＣ_１−６アルコキシカルボニル基で置換されてもよい）フリル基、チエニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピリダジニル基などの、Ｎ，ＯもしくはＳ原子を１〜４個含む飽和もしくは不飽和のヘテロ環基を表す。
Ｒ_３は、（任意の位置に、フッ素、塩素、臭素などのハロゲン原子、メチル、エチルなどのＣ_１−６アルキル基、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチルなどのＣ_１−６ハロアルキル基、メトキシ、エトキシ等のＣ_１−６アルコキシ基またはメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどのＣ_１−６アルコキシカルボニル基で置換されてもよい）フリル基、チエニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピリダジニル基などの、Ｎ，ＯもしくはＳ原子を１〜４個含む飽和もしくは不飽和のヘテロ環基を表すか、または、
式（ＣＨ_２）ｋＣ（＝Ｏ）Ｒ_６もしくは式ＣＨ＝ＣＨＣ（＝Ｏ）Ｒ_６で表される基を表す。
Ｒ_４は、水素原子またはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルなどのＣ_１−６アルキル基、ヒドロキシ基、メトキシ、エトキシ等のＣ_１−６アルコキシ基、フッ素、塩素、臭素などのハロゲン原子、メチル、エチルなどのＣ_１−６アルキル基、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチルなどのＣ_１−６ハロアルキル基、ニトロ、シアノ基を表す。
Ｒ_５は、シアノ基、（任意の位置に、フッ素、塩素、臭素などのハロゲン原子、メチル、エチルなどのＣ_１−６アルキル基またはメトキシ、エトキシ等のＣ_１−６アルコキシ基、またはメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどのＣ_１−６アルコキシカルボニル基、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチルなどのＣ_１−６ハロアルキル基で置換されてもよい）フェニル基または（任意の位置に、フッ素、塩素、臭素などのハロゲン原子、メチル、エチルなどのＣ_１−６アルキル基、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチルなどのＣ_１−６ハロアルキル基、メトキシ、エトキシ等のＣ_１−６アルコキシ基またはメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどのＣ_１−６アルコキシカルボニル基で置換されてもよい）フリル基、チエニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピリダジニル基などの、Ｎ，ＯもしくはＳ原子を１〜４個含む飽和もしくは不飽和のヘテロ環基を表すか、式（ＣＨ_２）ｋＣ（＝Ｏ）Ｒ_６または式ＣＨ＝ＣＨＣ（＝Ｏ）Ｒ_６で表される基を表す。
Ｒ_６は、ヒドロキシ基、メトキシ、エトキシ等のＣ_１−６アルコキシ基、（任意の位置に、フッ素、塩素、臭素などのハロゲン原子、メチル、エチルなどのＣ_１−６アルキル基またはメトキシ、エトキシ等のＣ_１−６アルコキシ基またはメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどのＣ_１−６アルコキシカルボニル基、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチルなどのＣ_１−６ハロアルキル基で置換されてもよい）フェノキシ基、（任意の位置に、フッ素、塩素、臭素などのハロゲン原子、メチル、エチルなどのＣ_１−６アルキル基またはメトキシ、エトキシ等のＣ_１−６アルコキシ基またはメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどのＣ_１−６アルコキシカルボニル基、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチルなどのＣ_１−６ハロアルキル基で置換されてもよい）ベンジルオキシ基、式Ｎｒ_１ｒ_２または式ＮＨＮｒ_３ｒ_４で表される基を表す。
ｒ_１、ｒ_３は、水素原子または（ヒドロキシル基、ＯＮＯ_２で置換されていてもよい）メチル、エチルなどのＣ_１−６のアルキル基を表し、
ｒ_２、ｒ_４は、水素原子；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル等のＣ_３−８のシクロアルキル基；メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル等のＣ_１−６アルキル基；メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル、メトキシカルボニルエチル、エトキシカルボニルエチルＣ_１−６のアルコキシカルボニルＣ_１−６アルキル基；（任意の位置に、フッ素、塩素、臭素などのハロゲン原子、メチル、エチルなどのＣ_１−６アルキル基、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチルなどのＣ_１−６ハロアルキル基、メトキシ、エトキシ等のＣ_１−６アルコキシ基またはメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどのＣ_１−６アルコキシカルボニル基で置換されてもよい）フリル基、チエニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピリダジニル基、などのＮ，ＯもしくはＳを１〜４個含む飽和もしくは不飽和のヘテロ環で置換されてもよいＣ_１−６のアルキル基；（任意の位置に、フッ素、塩素、臭素などのハロゲン原子、メチル、エチルなどのＣ_１−６アルキル基またはメトキシ、エトキシ等のＣ_１−６アルコキシ基、アミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ等のＣ_１−６アルコキシカルボニルアミノ基、で置換されてもよい）フェニル基；（任意の位置に、フッ素、塩素、臭素などのハロゲン原子、メチル、エチルなどのＣ_１−６アルキル基またはメトキシ、エトキシ等のＣ_１−６アルコキシ基で置換されてもよい）ベンジル基または、（任意の位置に、フッ素、塩素、臭素などのハロゲン原子、メチル、エチルなどのＣ_１−６アルキル基、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチルなどのＣ_１−６ハロアルキル基、メトキシ、エトキシ等のＣ_１−６アルコキシ基またはメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどのＣ_１−６アルコキシカルボニル基で置換されてもよい）フリル基、チエニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピリダジニル基、などのＮ，ＯもしくはＳを１〜４個含む飽和もしくは不飽和のヘテロ環基を表す。
または、ｒ_１、ｒ_２は、Ｎといっしょになって、モルホリノ基、ピペリジノ基、もしくはピペラジニル基を形成してもよい。
これらの置換基であるｒ_５としては、（メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ等のＣ_１−６アルキルアミノ基、メチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル等のＣ_１−６アルキルカルバモイルで置換されていてもよい）メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等のＣ_１−６アルキル基、（フッ素、塩素、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基等で置換されていてもよい）フェニル基、（フッ素、塩素、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基等で置換されていてもよい）ベンジル基、（フッ素、塩素、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基等で置換されていてもよい）ピリジル基、
または式−Ｚ−Ｑで表わされる基
（ＺはＣＯ、ＣＳ、ＳＯ_２を表わし、
Ｑは水素原子、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等のＣ_１−６アルキル基、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ等のＣ_１−６アルコキシ基、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、メチルエチルアミノ等のジＣ_１−６アルキルアミノ基、フェニルメチルアミノ、フェニルエチルアミノ等のフェニルＣ_１−６アルキルアミノ基、（メチル基、エチル基、プロピル基等のＣ_１−６アルキル基で置換されていてもよい）ピリジル、ピロリジニル、テトラヒドロフラニル、モルホリノ、ピペリジノ、ピペラジニル等のＮ，ＯもしくはＳを１〜４個含む飽和もしくは不飽和のヘテロ環基を表す。）を表わす。
ｋは０、１または２を表す。
なお、上記の、フェニル基、ベンジル基及びヘテロ環基が、２以上の置換基を有する場合は、同一でも異なっていてもよい。
また薬学的に許容される塩としては、一般式（１）で表される化合物の塩酸、硫酸、硝酸、燐酸などの無機酸の塩や酢酸、プロピオン酸、乳酸、コハク酸、酒石酸、クエン酸、安息香酸、サリチル酸、ニコチン酸、ヘプタグルコン酸などの有機酸の塩を挙げることができる。
なお、本発明化合物には、Ｒ_１，Ｒ_２，Ｒ_３，Ｒ_４，Ｒ_５の表す基により、不斉炭素を有する場合があるが、これらのラセミ体のみでなく光学活性体も本発明化合物に含まれる。
次に、本発明の製造法および中間体等となる新規化合物の製造法を説明する。
製造法１

（式中、Ｒ_１，Ｒ_２，Ｒ_３，Ｒ_４，及びＲ_５は前記と同じ意味を表し、Ｘはハロゲン原子を表す。）
目的化合物（１）は溶媒中で、化合物（２）と化合物（３）とを常法により置換反応させることにより得ることができる。
溶媒としては反応に不活性な溶媒であれば、特に限定はないが、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサンなどのエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類、ピリジン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキサイド（ＤＭＳＯ）などを用いることができる。
反応温度は、−１５℃〜溶媒の沸点程度、好ましくは、０〜８０℃である。
化合物（２）は、化合物（４）のチエノピリミドンをハロゲン化することにより製造できる。Ｘのハロゲンとしては、塩素、臭素等である。
ハロゲン化の反応は、通常行われる方法、例えば、塩素化の場合は塩素化剤として、オキシ塩化リン、五塩化リン、塩化チオニル等を使用する方法で行われる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であれば、特に限定はないが、ベンゼン、トルエン、、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＳＯなどを用いることができる。
反応温度は、−１５℃〜溶媒の沸点程度、好ましくは、２０℃〜溶媒の沸点である。
原料化合物（２）のチエノピリミドンは、文献既知の方法、例えば、Ｊ．Ｈｅｔ．Ｃｈｅｍ．２１，３７５−３８０（１９８４）またはＩｎｄｉａｎ　Ｊ．Ｃｈｅｍ．２８Ｂ（１２）１０３９−１０４７（１９８９）に記載の方法に準じて製造することができる。
また原料化合物（３）も、文献既知の方法、例えば、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．４１，３３６７−３３７２（１９９８）に記載の方法に準じて製造することができる。
製造法２

（式中、Ｒ_１，Ｒ_２，Ｒ_４，Ｒ_５，ｒ_１及びｒ_２は前記と同じ意味を表す。）
化合物（１ｃ）は、溶媒中で化合物（１ａ）と化合物（５）とを常法により脱水縮合することにより得ることができる。
脱水縮合反応は、通常行われる方法であれば、特に限定はないが、縮合剤を用いる方法が好ましい。
縮合剤としては、例えば、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド、２−エトキシ−１−エトキシカルボニル−１，２−ジヒドロキノリンなどを用いることができる。
なお、この反応において、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、３，４−ジヒドロ−３−ヒドロキシ−４−オキソ−１，２，３−ベンゾトリアジンを共存させると、反応がより速やかに進行する。
溶媒としては反応に不活性な溶媒であれば、特に限定はないが、例えばジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，４−ジオキサンなどのエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類、ピリジン、アセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＳＯなどを用いることができる。
反応温度は、−１５℃〜溶媒の沸点程度、好ましくは、０〜８０℃である。
化合物（１ｃ）で表されるアミド誘導体は、化合物（１ｂ）から得ることもできる。
溶媒として、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＳＯなどを用いて、反応温度、−１５〜２００℃、好ましくは０〜１５０℃で反応させるものである。
製造法３

（式中、Ｒ_１，Ｒ_２，Ｒ_３，Ｒ_４，ｒ_１及びｒ_２は前記と同じ意味を表し、Ｘはハロゲン原子を表す。）
化合物（１ｇ）は、溶媒中で化合物（１ｄ）と化合物（５）とを常法により脱水縮合することにより得ることができる。
脱水縮合反応は、通常行われる方法であれば、特に限定はないが、縮合剤を用いる方法が好ましい。
縮合剤としては、例えば、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド、２−エトキシ−１−エトキシカルボニル−１，２−ジヒドロキノリンなどを用いることができる。
なお、この反応において、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、３，４−ジヒドロ−３−ヒドロキシ−４−オキソ−１，２，３−ベンゾトリアジンを共存させると、反応がより速やかに進行する。
溶媒としては反応に不活性な溶媒であれば、特に限定はないが、例えばジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，４−ジオキサンなどのエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類、ピリジン、アセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＳＯなどを用いることができる。
反応温度は、−１５℃〜溶媒の沸点程度、好ましくは、０〜８０℃である。
化合物（１ｇ）は、化合物（１ｄ）から酸ハライド（１ｅ）を合成し、化合物（５）と反応させることにより得ることもできる。
酸ハライドの合成は、通常行われる方法であれば、特に限定はないが、例えば、塩素化の場合は塩素化剤として、塩化チオニル、オキシ塩化リン、五塩化リン等を使用する方法で行われる。
溶媒としては反応に不活性な溶媒であれば、特に限定はないが、無溶媒またはベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類などを用いることができる。
反応温度は、０℃〜溶媒の沸点程度、好ましくは、０〜８０℃である。
酸クロライド（１ｅ）と化合物（５）と反応は、通常行われる方法であれば、特に限定はないが、過剰量の（５）を用いるか、有機または無機の塩基存在下、（５）と反応を行う。
溶媒としては反応に不活性な溶媒であれば、特に限定はないが、無溶媒またはジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，４−ジオキサンなどのエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類などを用いることができる。
反応温度は、０℃〜溶媒の沸点程度、好ましくは、０〜３０℃である。
化合物（１ｇ）で表されるアミド誘導体は、化合物（１ｆ）から得ることもできる。
溶媒として、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＳＯなどを用いて、反応温度、−１５〜２００℃、好ましくは０〜１５０℃で反応させるものである。
製造法４

（式中、Ｒ_１，Ｒ_２，Ｒ_３及びＲ_４は前記と同じ意味を表す。）
目的化合物（１ｉ）は化合物（１ｈ）を脱水反応させることにより得ることができる。
脱水反応は、通常行われる方法であれば、特に限定はないが、例えば、オキシ塩化リン、五塩化リン等を使用する方法で行われる。
溶媒としては反応に不活性な溶媒であれば、特に限定はないが、例えば、無溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサンなどのエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＳＯなどを用いることができる。
反応温度は、−１５℃〜溶媒の沸点程度、好ましくは、０〜８０℃である。
製造法５

（式中、Ｒ_１，Ｒ_２，Ｒ_３，Ｒ_４及びＲ_５は前記と同じ意味を表し、ＨＡは酸を表す。）
目的化合物（１ｊ）は化合物（１）に酸を作用させることにより得ることができる。
酸の種類としては、塩酸、硫酸、硝酸、燐酸などの無機酸や、酢酸、プロピオン酸、乳酸、コハク酸、酒石酸、クエン酸、安息香酸、サリチル酸、ニコチン酸、ヘプタグルコン酸などの有機酸を挙げることができる。
反応溶媒としては反応に不活性な溶媒であれば、特に限定はないが、例えば、ジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，４−ジオキサンなどのエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＳＯなどを用いることができる。
反応温度は、−１５℃〜溶媒の沸点程度、好ましくは、０〜３０℃である。
本発明化合物（１）には、一般式（１）において、不斉炭素を有する化合物となり、光学異性体が存在する場合もあるが、これらの異性体も本発明に含まれることは言うまでもない。
本発明において、反応終了後は、通常の後処理を行うことにより目的物を得ることができる。
本発明化合物の構造は、ＩＲ，ＮＭＲおよびＭＳなどから決定した。
発明を実施するための最良の形態：
次に実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。
実施例１
４−［（３−クロロ−４−メトキシ）ベンジルアミノ］−６−エトキシカルボニル−５−メチル−２−（３−ピリジル）−チエノ［２，３−ｄ］ピリミジンの製造

４−オキソ−６−エトキシカルボニル−５−メチル−２−（３−ピリジル）−チエノ［２，３−ｄ］ピリミジン７．３ｇをオキシ塩化リン６０ｍｌに加え、８０〜１００℃で３時間攪拌した。オキシ塩化リンを減圧留去した後、濃縮物に水１００ｍｌを加え、冷却下、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で反応液をアルカリ性にし、クロロホルムで抽出し、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、硫酸マグネシウムを濾別後、減圧濃縮し、４−クロロ−６−エトキシカルボニル−５−メチル−２−（３−ピリジル）−チエノ［２，３−ｄ］ピリミジン７．４ｇを得た。
４−クロロ−６−エトキシカルボニル−５−メチル−２−（３−ピリジル）−チエノ［２，３−ｄ］ピリミジン７．４ｇにＤＭＳＯ６０ｍｌと３−クロロ−４−メトキシベンジルアミン４．２ｇとトリエチルアミン２．９ｇを加え、８０℃で３時間加熱攪拌した。反応液を水にあけ、析出した結晶を濾別し、得られた結晶を乾燥させ、目的化合物５．４ｇを得た。融点２１６−２１８℃
実施例２
４−［（３−クロロ−４−メトキシ）ベンジルアミノ］−５−メチル−２−（３−ピリジル）−チエノ［２，３−ｄ］ピリミジン−６−カルボン酸の製造

４−［（３−クロロ−４−メトキシ）ベンジルアミノ］−６−エトキシカルボニル−５−メチル−２−（３−ピリジル）−チエノ［２，３−ｄ］ピリミジン３．１ｇにエタノール６０ｍｌ、水３０ｍｌと水酸化ナトリウム１．５ｇを加え、２時間、加熱還流した。反応液を減圧濃縮した後、水にあけ、２Ｎ塩酸でｐＨ６とした。析出した結晶を濾別し、得られた結晶を乾燥させ、目的化合物２．９ｇを得た。融点１８５−１８６℃
実施例３
４−［（３−クロロ−４−メトキシ）ベンジルアミノ］−５−メチル−２−（３−ピリジル）−チエノ［２，３−ｄ］ピリミジン−６−Ｎ−フェニルカルボサミドの製造

４−［（３−クロロ−４−メトキシ）ベンジルアミノ］−５−メチル−２−（３−ピリジル）−チエノ［２，３−ｄ］ピリミジン−６−カルボン酸０．３ｇに、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩を０．１６ｇ、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール塩酸塩０．１１ｇ、トリエチルアミン０．１ｇ、アニリン０．０７ｇを加え、室温で２０時間攪拌した。反応液を水にあけ、析出した結晶を濾別し、水とエーテルで洗浄し、得られた結晶を乾燥させ、目的化合物０．２３ｇを得た。融点２１２−２１３℃
実施例４
４−［（３−クロロ−４−メトキシ）ベンジルアミノ］−５−メチル−２−（３−ピリジル）−チエノ［２，３−ｄ］ピリミジン−６−カルボサミドの製造

４−［（３−クロロ−４−メトキシ）ベンジルアミノ］−５−メチル−２−（３−ピリジル）−チエノ［２，３−ｄ］ピリミジン−６−カルボン酸０．６３ｇに、塩化チオニル８ｍｌ、ピリジン１滴加え、２時間加熱還流した。反応液を濃縮することで４−［（３−クロロ−４−メトキシ）ベンジルアミノ］−５−メチル−２−（３−ピリジル）−チエノ［２，３−ｄ］ピリミジン−６−カルボン酸クロリド０．７ｇを得た。
４−［（３−クロロ−４−メトキシ）ベンジルアミノ］−５−メチル−２−（３−ピリジル）−チエノ［２，３−ｄ］ピリミジン−６−カルボン酸クロリド０．７ｇにテトラヒドロフラン１０ｍｌ、アンモニア水１０ｍｌ加え、室温で２時間攪拌した。反応液を水にあけ、酢酸エチル抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、硫酸マグネシウムを濾別後、減圧濃縮し、得られた結晶をエーテルで洗浄することで目的化合物０．６ｇを得た。融点２２０−２２２℃
実施例５
４−［（３−クロロ−４−メトキシ）ベンジルアミノ］−６−シアノ−５−メチル−２−（３−ピリジル）−チエノ［２，３−ｄ］ピリミジンの製造

４−［（３−クロロ−４−メトキシ）ベンジルアミノ］−５−メチル−２−（３−ピリジル）−チエノ［２，３−ｄ］ピリミジン−６−カルボサミド０．４５ｇに、オキシ塩化リン５ｍｌを加え、３０分加熱還流した。反応液を水にあけ、２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液で中和し、酢酸エチル抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、硫酸マグネシウムを濾別後、減圧濃縮し、得られた結晶をエーテルで洗浄することで目的化合物０．２ｇを得た。融点１８２−１８５℃
実施例６
４−［（３−クロロ−４−メトキシ）ベンジルアミノ］−２−エトキシカルボニル−５−メチル−６−（３−ピリジル）−チエノ［２，３−ｄ］ピリミジンの製造

４−オキソ−２−エトキシカルボニル−５−メチル−６−（３−ピリジル）−チエノ［２，３−ｄ］ピリミジン４．５ｇをオキシ塩化リン４０ｍｌに加え、８０〜１００℃で３時間攪拌した。オキシ塩化リンを減圧留去した後、濃縮物に水８０ｍｌを加え、冷却下、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で反応液をアルカリ性にし、クロロホルムで抽出し、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、硫酸マグネシウムを濾別後、減圧濃縮し、４−クロロ−２−エトキシカルボニル−５−メチル−６−（３−ピリジル）−チエノ［２，３−ｄ］ピリミジン４．１ｇを得た。
４−クロロ−２−エトキシカルボニル−５−メチル−６−（３−ピリジル）−チエノ［２，３−ｄ］ピリミジン４．１ｇにＤＭＳＯ３０ｍｌと３−クロロ−４−メトキシベンジルアミン２．３ｇとトリエチルアミン１．６ｇを加え、８０℃で３時間加熱攪拌した。反応液を水にあけ、析出した結晶を濾別し、得られた結晶を乾燥させ、目的化合物５．１ｇを得た。融点１７２−１７４℃
実施例７
４−［（３−クロロ−４−メトキシ）ベンジルアミノ］−５−メチル−６−（３−ピリジル）−チエノ［２，３−ｄ］ピリミジン−２−カルボン酸の製造

４−［（３−クロロ−４−メトキシ）ベンジルアミノ］−２−エトキシカルボニル−５−メチル−６−（３−ピリジル）−チエノ［２，３−ｄ］ピリミジン２．５ｇにエタノール２０ｍｌ、水１０ｍｌと水酸化ナトリウム０．４３ｇを加え、２時間、加熱還流した。反応液を減圧濃縮した後、水にあけ、２Ｎ塩酸でｐＨ４とした。析出した結晶を濾別し、得られた結晶を乾燥させ、目的化合物２．３ｇを得た。融点２２２−２２４℃
実施例８
４−［（３−クロロ−４−メトキシ）ベンジルアミノ］−５−メチル−６−（３−ピリジル）−チエノ［２，３−ｄ］ピリミジン−２−Ｎ−フェニルカルボサミドの製造

４−［（３−クロロ−４−メトキシ）ベンジルアミノ］−５−メチル−６−（３−ピリジル）−チエノ［２，３−ｄ］ピリミジン−２−カルボン酸０．３ｇに、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩を０．１６ｇ、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール塩酸塩０．１１ｇ、トリエチルアミン０．１ｇ、アニリン０．０７ｇを加え、室温で２０時間攪拌した。反応液を水にあけ、析出した結晶を濾別し、水とエーテルで洗浄し、得られた結晶を乾燥させ、目的化合物０．３２ｇを得た。融点１９０−１９３℃
実施例９
４−［（３−クロロ−４−メトキシ）ベンジルアミノ］−５−メチル−２−（３−ピリジル）−６−（４−ピリジル）−チエノ［２，３−ｄ］ピリミジンの製造

４−オキソ−５−メチル−２−（３−ピリジル）−６−（４−ピリジル）−チエノ［２，３−ｄ］ピリミジン０．３８ｇをオキシ塩化リン５ｍｌに加え、８０〜１００℃で３時間攪拌した。オキシ塩化リンを減圧留去した後、濃縮物に水３０ｍｌを加え、冷却下、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で反応液をアルカリ性にし、クロロホルムで抽出し、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、硫酸マグネシウムを濾別後、減圧濃縮し、４−クロロ−５−メチル−２−（３−ピリジル）−６−（４−ピリジル）−チエノ［２，３−ｄ］ピリミジン０．２５ｇを得た。
４−クロロ−５−メチル−２−（３−ピリジル）−６−（４−ピリジル）−チエノ［２，３−ｄ］ピリミジン０．２５ｇにＤＭＳＯ５ｍｌと３−クロロ−４−メトキシベンジルアミン０．１４ｇとトリエチルアミン０．１ｇを加え、８０℃で３時間加熱攪拌した。反応液を水にあけ、析出した結晶を濾別し、得られた結晶を乾燥させ、目的化合物０．３２ｇを得た。融点２３４−２３６℃
実施例１０
４−［（３−クロロ−４−メトキシ）ベンジルアミノ］−５−メチル−６−（３−ピリジル）−チエノ［２，３−ｄ］ピリミジン−２−Ｎ−フェニルカルボサミド塩酸塩の製造

４−［（３−クロロ−４−メトキシ）ベンジルアミノ］−５−メチル−６−（３−ピリジル）−チエノ［２，３−ｄ］ピリミジン−２−Ｎ−フェニルカルボサミド０．２２ｇ、クロロホルム１５ｍｌに溶解し、塩化水素ガスで飽和したメタノール５ｍｌを氷冷下で加え、室温で１時間攪拌した。、溶媒を減圧留去して、得られた粗結晶はエーテル５ｍｌで洗浄し、乾燥することで目的物０．１７ｇを得た。融点１７０−１７５℃
上記実施例を含め、本発明化合物の代表例を第１表に示す。また、油状物のＮＭＲデータを第２表に示す。
表中の略号は下記の意味を示す。
Ｍｅ：メチル、Ｅｔ：エチル

本発明化合物の薬理活性を示す。
薬理試験例　ホスホジエステラーゼの阻害作用
ヒト血小板およびイヌ心臓，腎臓からのサイクリックヌクレオチドホスホジエステラーゼは、Ｔｈｏｍｐｓｏｎら（Ｔｈｏｍｐｓｏｎ　Ｗ．Ｊ．，ｅｔ　ａｌ．，Ａｄｖａｎｃｅｓ　ｉｎ　Ｃｙｃｌｉｃ　Ｎｕｃｌｅｏｔｉｄｅ　Ｒｅｓｅａｒｃｈ　１０，６９−９２，１９７９）の方法に準じ、ＤＥＡＥ−ｃｅｌｌｕｌｏｓｅカラムクロマトグラフィー（Ｗｈａｔｍａｎ社、ＤＥ−５２、φ３．２×１３ｃｍ）上、７０〜１０００ｍＭ酢酸ナトリウムの濃度勾配法で溶出させ、各アイソザイムに分離した。血小板からは、ＰＤＥ５（ｃＧＭＰ　ｓｐｅｃｉｆｉｃ　ＰＤＥ），ＰＤＥ３（ｃＧＭＰ　ｉｎｈｉｂｉｔｅｄ　ＰＤＥ）およびＰＤＥ２（ｃＧＭＰ　ｓｔｉｍｕｌａｔｅｄ　ＰＤＥ）を、心臓からは、ＰＤＥ１（Ｃａ−ｃａｌｍｏｄｕｌｉｎ　ｄｅｐｅｎｄｅｎｔ　ＰＤＥ）を、腎臓からは、ＰＤＥ４（ｃＡＭＰ　ｓｐｅｃｉｆｉｃ　ＰＤＥ）を分離した。ホスホジエステラーゼ活性は、Ｔｈｏｍｐｓｏｎらの方法を一部改変して測定した。すなわち、１μＭの［３Ｈ］−ｃＡＭＰまたは［３Ｈ］−ｃＧＭＰをホスホジエステラーゼで分解し、生成した５’−ＡＭＰまたは５’−ＧＭＰをヘビ毒（Ｓｉｇｍａ　Ｖ７０００）によって、ａｄｅｎｏｓｉｎｅあるいはｇｕａｎｏｓｉｎｅに分解させた。この反応液を陰イオン交換樹脂（Ｂｉｏ−Ｒａｄ社、ＡＧ１−Ｘ８）に添加し、未吸着のａｄｅｎｏｓｉｎｅあるいはｇｕａｎｏｓｉｎｅを液体シンチレーションカウンターによって計測した。濃度阻害曲線から酵素活性を５０％抑制する濃度（ＩＣ５０）を求めた。その結果を第３表に示す。

産業上の利用可能性：
本発明化合物は、阻害強度が強く、選択性の高いｃＧＭＰ特異的ＰＤＥ阻害作用、血管拡張作用を有し、たとえば、高血圧，心不全，心筋梗塞，狭心症，動脈硬化，ＰＴＣＡ後再狭窄，心臓浮腫，肺高血圧症，腎不全，腎浮腫，肝浮腫，喘息，気管支炎，痴呆，免疫不全，緑内症またはインポテンツなどの予防および／または治療に有用である。

Claims (3)

1. 一般式（１）
   

   

   ［式中、Ｒ_１は水素原子またはＣ_１−６アルキル基を表す。
   Ｒ_２はＧ_１で置換されてもよいＣ_３−６シクロアルキル基、Ｇ_２で置換されてもよいフェニル基またはＧ_３で置換されてもよいＮ，ＯもしくはＳ原子を１〜４個含む飽和もしくは不飽和のヘテロ環基を表す。
   Ｒ_３は、Ｇ_３で置換されてもよいＮ，ＯもしくはＳを１〜４個含む飽和もしくは不飽和のヘテロ環基、または、式
   （ＣＨ_２）ｋＣ（＝Ｏ）Ｒ_６もしくは式ＣＨ＝ＣＨＣ（＝Ｏ）Ｒ_６
   で表される基を表す。
   Ｒ_４は、水素原子、Ｃ_１−６アルキル基、ヒドロキシ基、Ｃ_１−６アルコキシ基、ハロゲン原子、Ｃ_１−６ハロアルキル基、ニトロ基またはシアノ基を表す。
   Ｒ_５は、シアノ基、Ｇ_２で置換されてもよいフェニル基、Ｇ_３で置換されてもよいＮ，ＯもしくはＳを１〜４個含む飽和もしくは不飽和のヘテロ環基、または式
   （ＣＨ_２）ｋＣ（＝Ｏ）Ｒ_６もしくは式ＣＨ＝ＣＨＣ（＝Ｏ）Ｒ_６
   で表される基を表す。
   Ｒ_６は、水素原子、ヒドロキシ基、Ｃ_１−６アルコキシ基、Ｇ_２で置換されてもよいフェノキシ基、Ｇ_２で置換されてもよいベンジルオキシ基、または、
   式Ｎｒ_１ｒ_２もしくは式ＮＨＮｒ_３ｒ_４で表される基を表す。
   ｒ_１、ｒ_３は、水素原子またはヒドロキシル基、ＯＮＯ_２基で置換されていてもよいＣ_１−６アルキル基を表し、
   ｒ_２、ｒ_４は、水素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_１−６アルコキシカルボニル基、Ｇ_３で置換されてもよいＮ，ＯもしくはＳを１〜４個含む飽和もしくは不飽和のヘテロ環で置換されてもよいＣ_１−６アルキル基、Ｇ_２で置換されてもよいフェニル基、Ｇ_２で置換されてもよいベンジル基またはＧ_３で置換されてもよいＮ，ＯもしくはＳを１〜４個含む飽和もしくは不飽和のヘテロ環基を表す。
   または、ｒ_１、ｒ_２は、Ｎといっしょになってｒ_５で置換されていてもよい下記式で表される環
   

   

   （式中、Ｙは、Ｏ、ＣＨ_２またはＮＨを表す。）を形成してもよい。
   ｒ_５はＧ_２で置換されてもよいＣ_１−６アルキル基、Ｇ_２で置換されてもよいフェニル基、Ｇ_２で置換されてもよいベンジル基、Ｇ_２で置換されていてもよいピリジル基、または−Ｚ−Ｑ
   （ＺはＣＯ、ＣＳ、ＳＯ_２を表わし、
   Ｑは水素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_１−６アルコキシ基、ジＣ_１−６アルキルアミノ基、フェニルＣ_１−６アルキルアミノ基、またはＮ，ＯもしくはＳを１〜４個含む飽和もしくは不飽和のヘテロ環基を表す。）
   ｋは０、１または２を表す。
   Ｇ_１は、ハロゲン原子、Ｃ_１−６アルキル基またはＣ_１−６アルコキシ基を表す。
   Ｇ_２は、ハロゲン原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_１−６アルコキシ基またはＣ_１−２アルキレンジオキシ基を表す。
   Ｇ_３は、ハロゲン原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_１−６ハロアルキル基、Ｃ_１−６アルコキシ基またはＣ_１−６アルコキシカルボニル基を表す。
   ベンゼン環、シクロアルキルもしくはヘテロ環上のこれら、Ｇ_１，Ｇ_２，Ｇ_３，ｒ_５の置換基は、２つ以上置換されていてもよく、２つ以上の時は同一でも相異なっていてもよい。］
   で表されるチエノピリミジン化合物及びその薬学的に許容される塩。
2. 一般式（１−２）
   

   

   （式中、Ｒ_１，Ｒ_２，Ｒ_４，Ｒ_５及びＲ_６は、請求項１と同一の意味を表す。）で表される化合物。
3. 一般式（２）
   

   

   （式中、Ｒ_３，Ｒ_４及びＲ_５は、請求項１と同一の意味を表し、Ｘはハロゲン原子を表す。）で表される化合物と、一般式（３）
   

   

   （式中、Ｒ_１及びＲ_２は請求項１と同一の意味を表す。）で表される化合物とを反応させることを特徴とする一般式（１）
   

   

   （式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４及びＲ_５は請求項１と同一の意味を表す。）で表される化合物の製造法。