JP2001139556A - インデノピリジンおよびインデノピリミジン化合物並びにその製造法 - Google Patents

インデノピリジンおよびインデノピリミジン化合物並びにその製造法

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JP2001139556A
JP2001139556A JP2000072712A JP2000072712A JP2001139556A JP 2001139556 A JP2001139556 A JP 2001139556A JP 2000072712 A JP2000072712 A JP 2000072712A JP 2000072712 A JP2000072712 A JP 2000072712A JP 2001139556 A JP2001139556 A JP 2001139556A
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JP2000072712A
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English (en)
Inventor
Kunihito Ito
國人 伊藤
Nobuhiro Umeda
信広 梅田
Seiichi Uchida
誠一 内田
Kosuke Shiiki
康介 椎木
Hiromi Horikoshi
裕美 堀越
Nobuo Mochizuki
信夫 望月
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Nippon Soda Co Ltd
Original Assignee
Nippon Soda Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 医薬として有用な、インデノピリジンおよび
インデノピリミジン化合物並びにそれらの有利な製造法
を提供する。 【解決手段】 一般式(1) 【化1】 [式中、R1 は、水素原子,C1-6 アルキル基などを表
し、mは、0,1−4の整数を表し、Xは、CH2 また
はC(=O)を、Yは、NまたはCHを表し、R 2 ,R
3 は、水素原子,C1-6 アルキル基などを表し、R
4 は、置換されてもよいフェニル基,ヘテロ環基などを
表し、R5 は、カルボキシ基,C1-6 アルキルカルボニ
ル基,置換されてもよいカルバモイル基,ヘテロ環基な
どを表す。]で表されるインデノピリジンおよびインデ
ノピリミジン化合物並びにそれらの製造法である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、インデノピリジン
およびインデノピリミジン化合物に関する。本発明化合
物は、cGMP特異的ホスホジエステラーゼ(PDE)
阻害剤として有用である。
【0002】
【従来の技術】cGMPは、生体内の情報伝達経路にお
けるセカンドメッセンジャーとして重要な役割を担う物
質であり、その分解酵素であるcGMP特異的ホスホジ
エステラーゼ(PDE)阻害剤は、細胞内のcGMP濃
度を上昇させ、例えば、高血圧,心不全,心筋梗塞,狭
心症,動脈硬化,PTCA後再狭窄,心臓浮腫,肺高血
圧症,腎不全,腎浮腫,肝浮腫,喘息,気管支炎,痴
呆,免疫不全,緑内症またはインポテンツなどの予防お
よび/または治療に有用である。一方、WO93/08
167号に、5H−インデノ[1,2−b]ピリジンお
よび5H−インデノ[1,2─d]ピリミジン誘導体
が、農園芸用殺菌剤として有用なことが記載されている
が、cGMP特異的PDE阻害作用については記載され
ていない。従来、知られているPDE阻害剤は、cGM
P特異的PDEだけでなく、cAMP PDEなども阻
害するため、副作用などの面で問題があり、また、阻害
強度などにおいても満足できるものでなく、より活性が
強くかつ選択性の高い化合物が望まれている。
【0003】
【発明の解決しようとする課題】本発明は、医薬として
有用な、インデノピリジンおよびインデノピリミジン化
合物を提供することである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式(1)
【0005】
【化5】
【0006】[式中、R1 は、ニトロ基,ハロゲン原
子,C1-6 アルキル基,C1-6 アルコキシ基,C1-6
ロアルキル基,C1-6 ハロアルコキシ基,C1-6 アルキ
ルチオ基,C1-6 アルコキシカルボニル基,またはC
1-6 アルキル基でモノもしくはジ置換されてもよいカル
バモイル基を表す。Xは、CH2 またはC(=O)を表
す。Yは、NまたはCHを表す。mは、0または1−4
の整数を表す。R2 ,R3 は、同一または相異なって,
水素原子,ヒドロキシ基,ハロゲン原子,C1-6 アルキ
ル基,C1-6 アルコキシ基,C1-6 ハロアルキル基また
は置換されてもよいフェニル基を表す。R4 は、水素原
子,C1-6 アルキル基,C3-8 シクロアルキル基,置換
されてもよいフェニル基,置換されてもよいナフチル
基,置換されてもよいベンジル基,C(=O)Or1
C(=O)r2 (ここで、r1 ,r2 は、水素原子,C
1- 6 アルキル基,C2-6 アルケニル基,置換されてもよ
いフェニル基,置換されてもよいベンジル基または置換
されてもよいN,OもしくはS原子を1〜4個含む飽和
または不飽和のヘテロ環基を表す。)または置換されて
もよいN,OもしくはS原子を1〜4個含む飽和または
不飽和のヘテロ環基を表す。R5 は、水素原子,シアノ
基,フェニルチオ基,C1-6 ハロアルキル基,C1- 6
ルキルチオ基,C3-8 シクロアルキル基,カルボキシ基
もしくはC1-6 アルコキシカルボニル基で置換されても
よいC1-6 アルキル基,置換されてもよいフェニル基,
置換されてもよいベンジル基,Or3 ,Nr4 5,C
(=O)Or6,C(=O)Nr7 8 (ここで、r
3 ,r4 ,r5 ,r6 ,r7 ,r8 は、水素原子,C
3-8 シクロアルキル基,カルボキシ基もしくはC1-6
ルコキシカルボニル基で置換されてもよいC1-6 アルキ
ル基,置換されてもよいフェニル基,置換されてもよい
ベンジル基または置換されてもよいN,OもしくはS原
子を1〜4個含む飽和または不飽和のヘテロ環基を表
す。)または置換されてもよいN,OもしくはS原子を
1〜4個含む飽和または不飽和のヘテロ環基を表す。
(ただし、m=0,X=C(=O),Y=CH,R2
3 =H,R4 =4−t−ブチルフェニル,R5 =4−
ピリジルである化合物を除く。)]で表されるインデノ
ピリジンおよびインデノピリミジン化合物及びその製造
法である。
【0007】本発明において、R1 は、ニトロ基、フッ
素,塩素,臭素などのハロゲン原子、メチル,エチル,
プロピル,イソプロピル,ブチル,イソブチル,s−ブ
チル,t−ブチルなどのC1-6 アルキル基、メトキシ,
エトキシ,プロポキシ,イソプロポキシ,ブトキシ,t
−ブトキシなどのC1-6 アルコキシ基、クロロメチル,
ジクロロメチル,トリクロロメチル,フルオロメチル,
ジフルオロメチル,トリフルオロメチル,1−フルオロ
エチル,1,1−ジフルオロエチル,ペンタフルオロエ
チルなどC1-6 ハロアルキル基、フルオロメトキシ,ジ
フルオロメトキシ,トリフルオロメトキシ,クロロメト
キシなどのC1-6 ハロアルコキシ基、メチルチオ,エチ
ルチオ,プロピルチオ,イソプロピルチオ,ブチルチ
オ,t−ブチルチオなどのC1-6 アルキルチオ基、メト
キシカルボニル,エトキシカルボニル,プロポキシカル
ボニル,イソプロポキシカルボニル,ブトキシカルボニ
ル,t−ブトキシカルボニルなどのC1-6 アルコキシカ
ルボニル基、またはカルバモイル,メチルカルバモイ
ル,ジメチルカルバモイル,エチルカルバモイル,ジエ
チルカルバモイル,プロピルカルバモイル,イソプロピ
ルカルバモイル,ブチルカルバモイルなどのC1-6 アル
キル基でモノもしくはジ置換されてもよいカルバモイル
基を表す。
【0008】R2 ,R3 は、同一または相異なって,水
素原子、ヒドロキシ基、フッ素,塩素,臭素などのハロ
ゲン原子、メチル,エチル,プロピル,イソプロピル,
ブチル,イソブチル,s−ブチル,t−ブチルなどのC
1-6 アルキル基、メトキシ,エトキシ,プロポキシ,イ
ソプロポキシ,ブトキシ,t−ブトキシなどのC1-6
ルコキシ基、クロロメチル,ジクロロメチル,トリクロ
ロメチル,フルオロメチル,ジフルオロメチル,トリフ
ルオロメチル,1−フルオロエチル,1,1−ジフルオ
ロエチル,ペンタフルオロエチルなどC1-6 ハロアルキ
ル基または(任意の位置に、フッ素,塩素,臭素などの
ハロゲン原子、メチル,エチルなどのC1-6 アルキル基
またはメトキシ,エトキシなどのC1-6 アルコキシ基で
置換されてもよい)フェニル基を表す。
【0009】R4 は、水素原子,メチル,エチル,プロ
ピル,イソプロピル,ブチル,イソブチル,s−ブチ
ル,t−ブチルなどのC1-6 アルキル基、シクロプロピ
ル,シクロペンチル,シクロヘキシル,シクロヘプチル
などのC3-8 シクロアルキル基、(任意の位置に、フッ
素,塩素,臭素などのハロゲン原子、メチル,エチルな
どのC1-6 アルキル基、メトキシ,エトキシなどのC
1-6 アルコキシ基またはメチレンジオキシ、エチレンジ
オキシなどのC1-3 アルキレンジオキシ基で置換されて
もよい)フェニル基、(任意の位置に、フッ素,塩素,
臭素などのハロゲン原子、メチル,エチルなどのC1-6
アルキル基またはメトキシ,エトキシなどのC1-6 アル
コキシ基で置換されてもよい)ナフチル基、(任意の位
置に、フッ素,塩素,臭素などのハロゲン原子、メチ
ル,エチルなどのC1-6 アルキル基またはメトキシ,エ
トキシなどのC1-6 アルコキシ基で置換されてもよい)
ベンジル基、C(=O)Or1 、C(=O)r2 [ここ
で、r1 ,r2 は、水素原子、メチル,エチル,プロピ
ル,イソプロピル,ブチル,イソブチル,s−ブチル,
t−ブチルなどのC1-6 アルキル基、エテニル,1−プ
ロペニル,2−プロペニルなどのC2-6 アルケニル基、
(任意の位置に、フッ素,塩素,臭素などのハロゲン原
子、メチル,エチルなどのC1-6 アルキル基またはメト
キシ,エトキシなどのC1-6 アルコキシ基で置換されて
もよい)フェニル基、(任意の位置に、フッ素,塩素,
臭素などのハロゲン原子、メチル,エチルなどのC1-6
アルキル基またはメトキシ,エトキシなどのC1-6 アル
コキシ基で置換されてもよい)ベンジル基または(任意
の位置に、フッ素,塩素,臭素などのハロゲン原子また
はメチル,エチルなどのC1-6 アルキル基で置換されて
もよい)ピリジル,キノリル,イソキノリルなどのN,
OもしくはS原子を1〜4個含む飽和または不飽和のヘ
テロ環基(以下、単にヘテロ環基と書く。)を表す。]
または(任意の位置に、フッ素,塩素,臭素などのハロ
ゲン原子またはメチル,エチルなどのC1-6 アルキル基
で置換されてもよい)ピリジル,キノリル,イソキノリ
ルなどのヘテロ環基を表す。
【0010】R5 は、水素原子、シアノ基、フェノキシ
基、フェニルチオ基、クロロメチル,ジクロロメチル,
トリクロロメチル,フルオロメチル,ジフルオロメチ
ル,トリフルオロメチル,1−フルオロエチル,1,1
−ジフルオロエチル,ペンタフルオロエチルなどC1-6
ハロアルキル基、メトキシ,エトキシ,プロポキシ,イ
ソプロポキシ,ブトキシ,t−ブトキシなどのC1-6
ルコキシ基、メチルチオ,エチルチオ,プロピルチオ,
イソプロピルチオ,ブチルチオ,t−ブチルチオなどの
1-6 アルキルチオ基、シクロプロピル,シクロペンチ
ル,シクロヘキシル,シクロヘプチルなどのC3-8 シク
ロアルキル基、(任意の位置に、カルボキシ基またはメ
トキシカルボニル,エトキシカルボニルなどのC1-6
ルコキシカルボニル基で置換されてもよい)メチル,エ
チル,プロピル,イソプロピル,ブチル,イソブチル,
s−ブチル,t−ブチルなどのC1-6 アルキル基、(任
意の位置に、フッ素,塩素,臭素などのハロゲン原子、
メチル,エチルなどのC1-6アルキル基またはメトキ
シ,エトキシなどのC1-6 アルコキシ基で置換されても
よい)フェニル基、(任意の位置に、フッ素,塩素,臭
素などのハロゲン原子、メチル,エチルなどのC1-6
ルキル基またはメトキシ,エトキシなどのC1-6アルコ
キシ基で置換されてもよい)ベンジル基、Or3 ,Nr
45,C(=O)Or6,C(=O)Nr78 (ここ
で、r3 ,r4 ,r5 ,r6 ,r7 ,r8 は、水素原
子、シクロプロピル,シクロペンチル,シクロヘキシ
ル,シクロヘプチルなどのC3-8 シクロアルキル基、
(任意の位置に、カルボキシ基またはメトキシカルボニ
ル,エトキシカルボニルなどのC1-6 アルコキシカルボ
ニル基で置換されてもよい)メチル,エチル,プロピ
ル,イソプロピル,ブチル,イソブチル,s−ブチル,
t−ブチルなどのC1-6 アルキル基、(任意の位置に、
フッ素,塩素,臭素などのハロゲン原子、メチル,エチ
ルなどのC1-6 アルキル基またはメトキシ,エトキシな
どのC1-6 アルコキシ基で置換されてもよい)フェニル
基、(任意の位置に、フッ素,塩素,臭素などのハロゲ
ン原子、メチル,エチルなどのC1-6 アルキル基または
メトキシ,エトキシなどのC1-6 アルコキシ基で置換さ
れてもよい)ベンジル基または(任意の位置に、フッ
素,塩素,臭素などのハロゲン原子、メチル,エチルな
どのC1-6 アルキル基で置換されてもよい)イミダゾリ
ル,チアゾリル,オキサゾリル,ピラゾリル,ピリジル
などのヘテロ環基を表す。]または(任意の位置に、フ
ッ素,塩素,臭素などのハロゲン原子、メチル,エチル
などのC1-6 アルキル基で置換されてもよい)イミダゾ
リル,チアゾリル,オキサゾリル,ピラゾリル、ピリジ
ルなどのヘテロ環基を表す。
【0011】
【発明の実施の態様】本発明化合物の製造法を以下に説
明する。
【0012】製造法1
【0013】
【化6】
【0014】(式中、R1 ,m,R2 ,R3 ,R4 ,R
5 ,XおよびYは、前記と同じ意味を表し、Zは、メチ
ルチオ基,メチルスルホニル基またはハロゲン原子を表
す。)
【0015】目的化合物(1a)は、溶媒中で、化合物
(2)と化合物(3)とを、反応温度10〜150℃で
反応させることにより得られる。溶媒としては、メタノ
ール,エタノール,n−ブタノールなどのアルコール
類、ジオキサンなどのエーテル類、ベンゼン,トルエン
などの芳香族炭化水素類,ピリジン,ジメチルホルムア
ミド(DMF),ジメチルスルホキサイド(DMSO)
などが挙げられる。
【0016】原料化合物(2)は、公知の方法(WO9
3/08167)または、常法により製造できる。
【0017】製造法2:R5 が、Or3 またはNr4
5 である化合物は下記の方法によって製造することもで
きる。
【0018】
【化7】
【0019】
【化8】
【0020】(式中、R1 ,m,R2 ,R3 ,R4 ,r
3 ,r4 およびr5 は、前記と同じ意味を表す。)
【0021】化合物(6)は、化合物(4)と化合物
(5)とを、溶媒中、塩基の存在下、反応温度10〜1
00℃で反応させることにより得られる。溶媒として
は、水、エタノール,n−ブタノールなどのアルコール
類、ジオキサンなどのエーテル類、ベンゼン,トルエン
などの芳香族炭化水素類、ピリジン,DMF,DMSO
などが挙げられる。塩基としては、ナトリウムメトキシ
ド,カリウムt−ブトキシドなどのアルカリ金属アルコ
キシド、トリエチルアミン,N,N−ジメチルアニリ
ン,ピリジン,1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]
ウンデセン−7(DBU)などの有機塩基類、水素化ナ
トリウムなどの金属水素化物,炭酸カリウム,水酸化ナ
トリウムなどの無機塩基が挙げられる。
【0022】化合物(7)は、トリフルオロ酢酸などの
溶媒中、化合物(6)を、反応温度10〜100℃で反
応させることにより得られる。
【0023】化合物(8)は、メタノール,エタノール
などの溶媒中、化合物(7)にヒドロキシルアミン塩酸
塩を、反応温度10〜100℃で反応させることにより
得られる。
【0024】化合物(9)は、化合物(8)を無水酢酸
などの溶媒中で、反応温度10〜100℃で反応させる
ことにより得られる。
【0025】化合物(11)は、化合物(9)と化合物
(10)とをジオキサンなどのエーテル類、ベンゼン,
トルエンなどの芳香族炭化水素類、ピリジン,DMF,
DMSOなどの溶媒中、水酸化ナトリウムなどの無機塩
基の存在下、反応温度10〜100℃で反応させること
により得られる。
【0026】化合物(12)は、化合物(11)を、溶
媒中、酸の存在下−5〜40℃で次亜塩素酸ナトリウム
を加えることにより得られる。溶媒としては、水、クロ
ロホルムなどのハロゲン化炭化水素類が挙げられる。酸
としては、塩酸,硫酸などの無機酸などが挙げられる。
【0027】目的化合物(1b)は、化合物(12)と
化合物(3)とを溶媒中、反応温度10〜150℃で反
応させることにより得られる。溶媒としては、メタノー
ル,エタノール,n−ブタノールなどのアルコール類、
ジオキサンなどのエーテル類、ベンゼン,トルエンなど
の芳香族炭化水素類、ピリジン,DMF,DMSOなど
が挙げられる。
【0028】化合物(1c)は、化合物(1b)を、
水,メタノール,エタノールなどの溶媒中、水酸化ナト
リウムなどの無機塩基の存在下、反応温度10〜100
℃で反応させることにより得られる。
【0029】目的化合物(1d)は、溶媒中または無溶
媒で、化合物(1b)と化合物(13)とを反応温度1
0〜150℃で反応させることにより得られる。溶媒と
しては、メタノール,エタノール,n−ブタノールなど
のアルコール類、ジオキサンなどのエーテル類、ベンゼ
ン,トルエンなどの芳香族炭化水素類、ジクロロメタ
ン,クロロホルム,1,2−ジクロロエタンなどのハロ
ゲン化炭化水素類、DMF,DMSOなどが挙げられ
る。また、四塩化チタンなどのルイス酸を触媒として用
いると反応が速やかに進行する場合もある。
【0030】製造法3:R5 が、C(=O)Or6 また
は C(=O)Nr78 である化合物は下記の方法に
よって製造することもできる。
【0031】
【化9】
【0032】化合物(1e)は、化合物(6)と化合物
(3)とを溶媒中、反応温度10〜150℃で反応させ
ることにより得られる。溶媒としては、メタノール,エ
タノール,n−ブタノールなどのアルコール類、ジオキ
サンなどのエーテル類、ベンゼン,トルエンなどの芳香
族炭化水素類、ピリジン,DMF,DMSOなどが挙げ
られる。
【0033】化合物(1f)は、トリフルオロ酢酸など
の溶媒中化合物(1e)を反応温度10〜100℃で反
応させることにより得られる。化合物(1g)は、化合
物(1f)を溶媒中2−メチル−2−ブテン、亜塩素
酸、リン酸二水素ナトリウム二水和物と反応温度10〜
100℃で反応させることにより得られる。
【0034】目的化合物(1h)は、溶媒中、化合物
(1g)と化合物(14)とを常法により脱水縮合させ
ることにより得ることもできる。この脱水縮合反応は、
適当な縮合剤の存在下に行うことができる。この場合、
縮合剤としては、例えば、1,3−ジシクロヘキシルカ
ルボジイミド、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−
3−エチルカルボジイミド塩酸塩,2−エトキシ−1−
エトキシカルボニル−1,2−ジヒドロキノリン等を挙
げることができる。またこの反応において、反応系に、
N−ヒドロキシコハク酸イミド,1−ヒドロキシベンゾ
トリアゾール,3,4−ジヒドロ−3−ヒドロキシ−4
−オキソ−1,2,3−ベンゾトリアジンを共存させる
ことにより、反応をより速やかに進行させることができ
る。反応溶媒としては、反応に不活性な溶媒であれば特
に制限はないが、例えば、ジエチルエーテル,テトラヒ
ドロフラン(THF),1,4−ジオキサン等のエーテ
ル類、ベンゼン,トルエン,キシレン等の芳香族炭化水
素類、ジクロロメタン,クロロホルム,1,2−ジクロ
ロエタン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル,
ジメチルホルムアミド(DMF),ジメチルスルホキシ
ド(DMSO),ピリジン等を挙げることができる。反
応は、−15℃〜溶媒の沸点程度、好ましくは0〜80
℃で行われる。化合物(1i)は化合物(1g)を、化
合物(15)を溶媒として用いて、酸の存在下、反応温
度10〜150℃で反応させることにより得られる。酸
としては、塩酸、硫酸などの無機酸が用いられる。
【0035】製造法4:R5 が置換されても良いピラゾ
ールである化合物は、下記の方法によって製造すること
もできる。
【0036】
【化10】
【0037】化合物(1j)は、アルゴンや窒素などの不活
性気流下、化合物(1f)を溶媒中、メチルマグネシウムブ
ロマイドを反応温度−100〜50℃で反応させることによ
り得られる。溶媒としては、エーテル、THF、ジオキサ
ンなどのエーテル類が挙げられる。化合物(1k)は、溶媒
中、化合物(1j)を常法により酸化させることにより得る
ことができる。酸化方法としては、クロム、マンガン、
銀などの金属塩や金属酸化物、あるいはジメチルスルホ
キシド(DMSO)に代表される有機酸化剤によって容易に行
うことができる。反応溶媒としては、反応に不活性な溶
媒であれば特に制限はないが、たとえば、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、1,2-ジクロロエタン等のハロゲン化
炭化水素を挙げることができる。化合物(1l)は、化合物
(1k)をN,N-ジメチルホルムアミド ジメチルアセタール
等の溶媒中、反応温度10〜150℃で反応させることによ
り得ることができる。
【0038】目的化合物(1m)は、溶媒中、塩基の存在
下、化合物(1l)をヒドラジン類と反応温度10〜100℃で
反応させることにより得ることができる。溶媒として
は、メタノール、エタノール、n-ブタノールなどのアル
コール類が挙げられる。塩基としては、トリエチルアミ
ン、ピリジンなどの有機塩基類、水酸化ナトリウム、炭
酸カリウム等の無機塩基が挙げられる。ヒドラジン類と
しては、ヒドラジン・一水和物やメチルヒドラジンなど
が挙げられる。
【0039】本発明において、反応終了後は、通常の後
処理を行うことにより目的物を得ることができる。本発
明化合物の構造は、IR,NMRおよびMSなどから決
定した。
【0040】本発明化合物(1)およびその合成中間体
などには、光学異性体が存在する場合があるが、それら
の異性体は本発明の範囲に含まれる。
【0041】
【実施例】次に、実施例、参考例を挙げて、本発明をさ
らに具体的に説明する。
【0042】実施例1 2−(4−ピリジル)−4−ベンジルアミノ−5H−イ
ンデノ[1,2−b]ピリジン−5−オン(化合物番号
I−1)の製造
【0043】
【化11】
【0044】2−(4−ピリジル)−4−メチルスルホ
ニル−5H−インデノ[1,2−b]ピリジン−5−オ
ン0.2g、ベンジルアミン0.1g、DMF10mlとを
100℃で1時間攪拌した。反応液を氷水中に注ぎ、酢
酸エチルで抽出を行い、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、得られ
た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ク
ロロホルム:メタノール=100:1)で精製して、目
的物0.11gを得た。m.p.205−207℃
【0045】実施例2 2−(4−ピリジル)−4−ベンジルアミノ−5H−イ
ンデノ[1,2−d]ピリミジン−5−オン(化合物番
号II−1)の製造
【0046】
【化12】
【0047】2−(4−ピリジル)−4−メチルチオ−
5H−インデノ[1,2−d]ピリミジン−5−オン1
g、ベンジルアミン0.96g、DMF15mlとを10
0℃で1時間攪拌した。反応液を氷水中に注ぎ、析出し
た結晶を乾燥した。得られた粗生成物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(クロロホルム)で精製して、目
的物0.06gを得た。m.p.200−202℃
【0048】実施例3 2−フェニル−4−(3−クロロ−4−メトキシベンジ
ルアミノ)−5H−インデノ[1,2−d]ピリミジン
−5−オン(化合物番号II−16)の製造
【0049】
【化13】
【0050】2−フェニル−4−クロロ−5H−インデ
ノ[1,2−d]ピリミジン−5−オン0.19g、3−
クロロ−4−メトキシベンジルアミン0.17g、DMF
10mlとを100℃で1時間攪拌した。反応液を氷水
中に注ぎ、酢酸エチルで抽出を行い、飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去
し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(クロロホルム)で精製を行い、目的物0.1gを
得た。m.p.184℃
【0051】参考例1 2−ジエトキシメチル−4−メチルチオ−5H−インデ
ノ[1,2−d]ピリミジン−5−オンの製造
【0052】
【化14】
【0053】2−ビス(メチルチオ)メチレン−インダ
ン−1,3−ジオン9.35g、ジエ0キシメチルカルボ
キシアミジン塩酸塩6.83g、炭酸カリウム5.16g、
DMF950mlとを70℃で2時間攪拌した。反応液
を氷水中に注ぎ、析出した結晶を濾取した。水、次いで
ヘキサンで洗浄し、乾燥して、目的物9.41gを得た。
【0054】参考例2 2−ホルミル−4−メチルチオ−5H−インデノ[1,
2−d]ピリミジン−5−オンの製造
【0055】
【化15】
【0056】2−ジエトキシメチル−4−メチルチオ−
5H−インデノ[1,2−d]ピリミジン−5−オン4.
0gとトリフルオロ酢酸40mlを4時間還流した。ト
リフルオロ酢酸を減圧留去し、ベンゼンを20ml加え
た。ベンゼンを減圧留去し、目的物3.02gを得た。
【0057】参考例3 2−ヒドロキシイミノメチル−4−メチルチオ−5H−
インデノ[1,2−d]ピリミジン−5−オンの製造
【0058】
【化16】
【0059】2−ホルミル−4−メチルチオ−5H−イ
ンデノ[1,2−d]ピリミジン−5−オン3.02g、
ヒドロキシルアミン塩酸塩0.92g、エタノール40m
lとを1時間還流した。反応液を氷水中に注ぎ、析出し
た結晶を濾取し、水とヘキサンで洗浄し、乾燥して、目
的物3.09gを得た。
【0060】参考例4 2−シアノ−4−メチルチオ−5H−インデノ[1,2
−d]ピリミジン−5−オンの製造
【0061】
【化17】
【0062】2−ヒドロキシイミノメチル−4−メチル
チオ−5H−インデノ[1,2−d]ピリミジン−5−
オン3.09gと無水酢酸10mlとを1時間還流した。
無水酢酸を減圧留去し、得られた粗生成物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(クロロフルム:メタノール
=1000:3)で精製して、目的物1.46gを得た。
【0063】参考例5 2−メトキシ−4−メチルチオ−5H−インデノ[1,
2−d]ピリミジン−5−オンの製造
【0064】
【化18】
【0065】2−シアノ−4−メチルチオ−5H−イン
デノ[1,2−d]ピリミジン−5−オン1.0gをメタ
ノール10mlに溶解し、0℃とした後、1N−水酸化
ナトリウム0.2gを加え、70℃で2時間攪拌した。反
応液を0℃とした後、濃塩酸を1.2ml加え、室温で3
0分攪拌した。メタノールを減圧留去して得られた粗生
成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホ
ルム)で精製して、目的物1.08gを得た。
【0066】参考例6 2−メトキシ−4−クロロ−5H−インデノ[1,2−
d]ピリミジン−5−オンの製造
【0067】
【化19】
【0068】2−メトキシ−4−メチルチオ−5H−イ
ンデノ[1,2−d]ピリミジン−5−オン0.36g、
クロロホルム5ml、水5ml、濃塩酸0.76mlとを
0℃で攪拌した。反応液に次亜塩素酸ナトリウム溶液4.
73gを加え、0℃で2時間攪拌した。クロロホルム1
0mlで抽出を行い、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、目的物0.
34gを得た。
【0069】実施例4 2−メトキシ−4−(3−クロロ−4−メトキシベンジ
ルアミノ)−5H−インデノ[1,2−d]ピリミジン
−5−オン(化合物番号II−47)の製造
【0070】
【化20】
【0071】2−メトキシ−4−クロロ−5H−インデ
ノ[1,2−d]ピリミジン−5−オン0.34g、3−
クロロ−4−メトキシベンジルアミン0.32g、DMF
10mlとを100℃で2時間攪拌した。反応液を氷水
中に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して
得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(クロロホルム)で精製し、目的物0.07gを得た。
m.p.198℃
【0072】実施例5 2−ヒドロキシ−4−(3−クロロ−4−メトキシベン
ジルアミノ)−5H−インデノ[1,2−d]ピリミジ
ン−5−オン(化合物番号II−48)の製造
【0073】
【化21】
【0074】2−メトキシ−4−(3−クロロ−4−メ
トキシベンジルアミノ)−5H−インデノ[1,2−
d]ピリミジン−5−オン0.05g、1N−水酸化ナト
リウム1ml、メタノール20mlとを3時間還流し
た。メタノールを減圧留去し、水5mlを加え、1N−
塩酸でpHを6〜7にした。析出した結晶を濾取し、水
で洗浄し、乾燥して、目的物0.04gを得た。m.p.
300℃以上
【0075】実施例6 2−(N,N−ジメチルアミノ)−4−(3−クロロ−
4−メトキシベンジルアミノ)−5H−インデノ[1,
2−d]ピリミジン−5−オン(化合物番号II−49)
の製造
【0076】
【化22】
【0077】2−メトキシ−4−(3−クロロ−4−メ
トキシベンジルアミノ)−5H−インデノ[1,2−
d]ピリミジン−5−オン0.05g、40%ジメチルア
ミン1ml、メタノール3mlとを4時間還流した。溶
媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(クロロホルム)で精製し、目的物0.0
1gを得た。m.p.300℃以上
【0078】実施例7 2−ジエトキシメチル−4−(3−クロロ−4−メトキ
シベンジルアミノ)−5H−インデノ[1,2−d]ピ
リミジン−5−オン(化合物番号II−51)の製造
【0079】
【化23】
【0080】2−ジエトキシメチル−4−メチルチオ−
−5H−インデノ[1,2−d]ピリミジン8.0g、
3−クロロ−4−メトキシベンジルアミン6.24g、
DMSO80mlを100℃で8時間攪拌した。反応液
を氷水に注ぎ酢酸エチルで抽出し、水で3回、飽和食塩
水で1回洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶
媒を減圧留去して得られた粗生成物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(ベンゼン/酢酸エチル=5/1)
で精製し、目的物3.9gを得た。m.p.162−1
64℃
【0081】参考例7 2−ホルミル−4−(3−クロロ−4−メトキシベンジ
ルアミノ)−5H−インデノ[1,2−d]ピリミジン
−5−オンの製造
【0082】
【化24】
【0083】2−ジエトキシメチル−4−(3−クロロ
−4−メトキシベンジルアミノ)−5H−インデノ
[1,2−d]ピリミジン−5−オン2.93g、トリフ
ルオロ酢酸30mlとを3時間還流した。トリフルオロ
酢酸を減圧留去し、ベンゼン10mlを加えたのちベン
ゼンを減圧留去して、目的物2.48gを得た。
【0084】実施例8 2−カルボキシ−4−(3−クロロ−4−メトキシベン
ジルアミノ)−5H−インデノ[1,2−d]ピリミジ
ン−5−オン(化合物番号II−18)の製造
【0085】
【化25】
【0086】2−ホルミル−4−(3−クロロ−4−メ
トキシベンジルアミノ)−5H−インデノ[1,2−
d]ピリミジン−5−オン2.48g、2−メチル−2
−ブテン21.6g、t−ブタノール150mlを室温
で攪拌した。亜塩素酸ナトリウム5.43g、リン酸二
水素ナトリウム二水和物7.04gを水60mlに溶解
して反応液に加え、室温で終夜攪拌した。溶媒を減圧留
去して水を加え、析出晶を濾取し、水洗後風乾して得ら
れた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(クロロホルム/メタノール=2/1)で精製し、目的
物1.81gを得た。m.p.169−171℃
【0087】実施例9 2−フェニルカルバモイル−4−(3−クロロ−4−メ
トキシベンジルアミノ)−5H−インデノ[1,2−
d]ピリミジン−5−オン(化合物番号II−21)の製
【0088】
【化26】
【0089】2−カルボキシ−4−(3−クロロ−4−
メトキシベンジルアミノ)−5H−インデノ[1,2−
d]ピリミジン−5−オン0.2g、アニリン0.05
g、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチル
カルボジイミド塩酸塩0.11g、1−ヒドロキシベン
ゾトリタゾール0.08g、トリエチルアミン0.06
g、DMF5mlを50℃で4時間攪拌した。反応液を
氷水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。水で3回、飽和食塩
水で1回洗浄したのち無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒を留去して得られた粗生成物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(クロロホルム)で精製し、目的
物0.1gを得た。m.p.225−227℃
【0090】実施例10 2−メトキシカルボニル−4−(3−クロロ−4−メト
キシベンジルアミノ)−5H−インデノ[1,2−d]
ピリミジン−5−オン(化合物番号II−17)の製造
【0091】
【化27】
【0092】2−カルボキシ−4−(3−クロロ−4−
メトキシベンジルアミノ)−5H−インデノ[1,2−
d]ピリミジン−5−オン0.2g、メタノール10m
lに硫酸を3滴加え3時間還流した。溶媒を留去し、得
られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(クロロホルム/メタノール=1000/3))で精製
し、目的物0.14gを得た。m.p.179−181℃
【0093】実施例11 2−(1H−ピラゾール−5−イル)−4−(3−クロロ−4
−メトキシベンジルアミノ)−5H−インデノ[1,2-d]ピ
リミジン−5−オン(II−64)の製造
【0094】1. 2−(1−ヒドロキシエチル)−4−
(3−クロロ−4−メトキシベンジルアミノ)−5H−イ
ンデノ[1,2-d]ピリミジン−5−オンの製造
【0095】
【化28】
【0096】アルゴン気流下、2−ホルミル−4−(3−
クロロ−4−メトキシベンジルアミノ)−5H−インデノ
[1,2-d]ピリミジン−5−オン2.24gとTHF50mlを−
78℃で攪拌した。そこに12%メチルマグネシウムブロマ
イド THF溶液を17.8ml加え、0℃で4時間攪拌し
た。反応液を氷水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、飽和
食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶
媒を減圧留去して得られた粗生成物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(クロロホルム)で精製し、目的物
0.89gを得た。
【0097】2. 2−アセチル−4−(3−クロロ−4−
メトキシベンジルアミノ)−5H−インデノ[1,2-d]ピリ
ミジン−5−オンの製造
【0098】
【化29】
【0099】2−(1−ヒドロキシエチル)−4−(3−ク
ロロ−4−メトキシベンジルアミノ)−5H−インデノ
[1,2-d]ピリミジン−5−オン1.11gとアセトン10mlを
室温で攪拌した。この反応液に、酸化クロム(VI)(無
水クロム酸)0.38gを水0.7mlに溶解させた後に濃硫
酸0.33mlを加えた液を加え、室温で30分攪拌した。反
応液にイソプロパノール10mlを加え、セライト濾過し
た後に酢酸エチルを加え、飽和食塩水で洗浄後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られ
た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ク
ロロホルム:メタノール=100:1)で精製し、目的
物0.34gを得た。
【0100】3. 2−(3−ジメチルアミノアクリロイ
ル)−4−(3−クロロ−4−メトキシベンジルアミノ)
−5H−インデノ[1,2-d]ピリミジン−5−オンの製造
【0101】
【化30】
【0102】2−アセチル−4−(3−クロロ−4−メトキ
シベンジルアミノ)−5H−インデノ[1,2-d]ピリミジン
−5−オン0.34g、N,N−ジメチルホルムアミド ジメチ
ルアセタール10mlを100℃で2時間攪拌した。反応液を氷
水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去
して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(クロロホルム:メタノール=50:1)で精製
し、目的物0.15gを得た。
【0103】3.目的化合物2−(1H−ピラゾール−5
−イル)−4−(3−クロロ−4−メトキシベンジルアミ
ノ)−5H−インデノ[1,2-d]ピリミジン−5−オンの製
【0104】
【化31】
【0105】2−(3−ジメチルアミノアクリロイル)
−4−(3−クロロ−4−メトキシベンジルアミノ)−5H
−インデノ[1,2-d]ピリミジン−5−オン0.15g、ヒドラ
ジン・一水和物0.1g、2N水酸化ナトリウム水溶液1.5
ml、エタノール5mlを室温で4時間攪拌した。溶媒を
減圧留去した後に酢酸エチルを加え、飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去
して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(クロロホルム:メタノール=100:1)で精
製し、目的物0.07g(アモルファス)を得た。1 H−NMR(CDCl3,δppm):7.85(1H,d), 7.
0-7.70(8H,m), 6.9(1H,d) 4.8(2H,d),3.9(3H,s)
【0106】実施例12 2−(4−ピリジル)−4−(3−クロロ−4−メトキシベ
ンジルアミノ)−5H−インデノ[1,2-d]ピリミジン−5
−オン塩酸塩の製造
【0107】
【化32】
【0108】2−(4−ピリジル)−4−(3−クロロ−4
−メトキシベンジルアミノ)−5H−インデノ[1,2-d]ピ
リミジン−5−オン0.13g、クロロホルム20ml、メタ
ノール3mlを0℃で攪拌した。反応液に塩酸ガスを20分
吹き込んだ後、窒素ガスを10分吹き込んだ。溶媒を減圧
留去し目的物を0.13g(m.p.210-212℃)得た。
【0109】上記実施例を含め、本発明化合物の代表例
を第1表〜第6表に示す。
【0110】
【表101】
【0111】
【表102 】
【0112】
【表103 】
【0113】
【表104】
【0114】
【表201】
【0115】
【表202】
【0116】
【表203 】
【0117】
【表204】
【0118】
【表205】
【0119】
【表206】
【0120】
【表301】
【0121】
【表302】
【0122】
【表303】
【0123】
【表304】
【0124】
【表401】
【0125】
【表402】
【0126】
【表403】
【0127】
【表404】
【0128】
【表501】
【0129】
【表502】
【0130】
【表503 】
【0131】
【表504】
【0132】
【表505】
【0133】
【表506】
【0134】
【表6】
【0135】
【発明の効果】次に、本発明化合物の生物活性を示す。
【0136】薬理試験例1 ホスホジエステラーゼの阻
害作用 ヒト血小板およびイヌ心臓、腎臓からのサイクリックヌ
クレオチドホスホジエステラーゼは、Thompson
ら(Thompson,W.J.,Advances
in Cyclic Nucleotide Rese
arch,10,69−92,1979)の方法に準
じ、DEAE−セルロースカラムクロマトグラフィー
(Whatman社、DE−52,φ3.2×13c
m)上、70〜1000mM酢酸ナトリウムの濃度勾配
法で溶出させ、各アイソザイムに分離した。血小板から
はPDE5(cGMP−specific PDE),
およびPDE3(cGMP inhibitable
cAMP PDE)を、心臓からはPDE1(Ca−c
almodulin−activatable PD
E)を、腎臓からはPDE4(cGMP non−in
hibitable cAMP PDE)を阻害試験に
供した。ホスホジエステラーゼ活性はThompson
らの方法を一部改変して測定した。即ち、1μMの〔3
H〕−cAMPまたは〔3H〕−cGMPをホスホジエ
ステラーゼで分解し、生成した5’−AMPまたは5’
−GMPをヘビ毒(Sigma,V7000)によって
アデノシンあるいはグアノシンに分解させた。この反応
液を陰イオン交換樹脂(Bio−Rad社、AG1−X
8)に添加し、未吸着のアデノシンあるいはグアノシン
を液体シンチレーションカウンターによって計測した。
濃度阻害曲線から酵素活性を50%抑制する濃度(IC
50)を求めた。結果を第7表に示した。
【0137】
【表7】
【0138】薬理試験例2 血管拡張作用 血管拡張作用は、平田健一と横山光宏の方法(動脈硬化
+高脂血症研究ストラテジー、秀潤社、275−277
頁、1996年)に記載された方法に準じて以下のよう
に行った。Sprague−Dawley系雄性ラット
(体重180−360g)より胸部大動脈を摘出し、余
分な結合組織を取り除いたのち、血管を5mmごとに切
断し、リング標本としてマグヌス法(37℃)により評
価した。栄養液は5%炭酸ガス、95%酸素ガスで通気
したクレブス−ヘンゼライト栄養液を用いた。標本は約
60分間平衡化したのち、1μMのフェニレフリンを添
加し収縮させた。2回目のフェニレフリン収縮時に1μ
Mのアセチルコリンを添加し、内皮細胞依存性の弛緩反
応を確認した。3回目のフェニレフリン収縮時に被験薬
物を累積的に添加し、その弛緩反応を観察した。被験物
質はすべてジメチルスルホキシドに溶解して実験に用い
た。被験薬物の評価は、各濃度に対する血管弛緩率(最
大弛緩は100μMのパパベリンを添加して得た)から
得た50%弛緩率(EC50)にて行った。結果を第8
表に示した。
【0139】
【表8】
【0140】上記のように本発明化合物は、阻害強度が
強く、選択性の高いcGMP特異的PDE阻害作用を有
し、たとえば、高血圧,心不全,心筋梗塞,狭心症,動
脈硬化,PTCA後再狭窄,心臓浮腫,肺高血圧症,腎
不全,腎浮腫,肝浮腫,喘息,気管支炎,痴呆,免疫不
全,緑内症またはインポテンツなどの予防および/また
は治療に有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) A61P 11/16 A61P 11/16 13/12 13/12 15/10 15/10 25/28 25/28 27/06 27/06 37/02 37/02 43/00 111 43/00 111 C07D 239/70 C07D 239/70 401/04 401/04 401/14 401/14 403/04 403/04 // A61K 31/444 A61K 31/444 31/497 31/497 31/517 31/517 (72)発明者 内田 誠一 神奈川県小田原市高田345 日本曹達株式 会社小田原研究所内 (72)発明者 椎木 康介 神奈川県小田原市高田345 日本曹達株式 会社小田原研究所内 (72)発明者 堀越 裕美 神奈川県小田原市高田345 日本曹達株式 会社小田原研究所内 (72)発明者 望月 信夫 神奈川県小田原市高田345 日本曹達株式 会社小田原研究所内 Fターム(参考) 4C063 AA01 AA03 BB01 BB09 CC17 CC22 CC25 CC31 CC34 CC41 CC51 CC62 CC75 CC81 CC82 CC92 DD10 DD12 DD14 DD17 EE01 4C086 AA03 AA04 BC27 BC45 BC48 GA02 GA03 GA07 GA08 GA09 GA10 ZC20

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式(1) 【化1】 [式中、R1 は、ニトロ基,ハロゲン原子,C1-6 アル
    キル基,C1-6 アルコキシ基,C1-6 ハロアルキル基,
    1-6 ハロアルコキシ基,C1-6 アルキルチオ基,C
    1-6 アルコキシカルボニル基,またはC1-6 アルキル基
    でモノもしくはジ置換されてもよいカルバモイル基を表
    す。Xは、CH2 またはC(=O)を表す。Yは、Nま
    たはCHを表す。mは、0または1−4の整数を表す。
    2 ,R3 は、同一または相異なって,水素原子,ヒド
    ロキシ基,ハロゲン原子,C1-6 アルキル基,C1-6
    ルコキシ基,C1-6 ハロアルキル基または置換されても
    よいフェニル基を表す。R4 は、水素原子,C1-6 アル
    キル基,C3-8 シクロアルキル基,置換されてもよいフ
    ェニル基,置換されてもよいナフチル基,置換されても
    よいベンジル基,C(=O)Or1 ,C(=O)r2
    (ここで、r1 ,r2 は、水素原子,C1- 6 アルキル
    基,C2-6 アルケニル基,置換されてもよいフェニル
    基,置換されてもよいベンジル基または置換されてもよ
    いN,OもしくはS原子を1〜4個含む飽和または不飽
    和のヘテロ環基を表す。)または置換されてもよいN,
    OもしくはS原子を1〜4個含む飽和または不飽和のヘ
    テロ環基を表す。R5 は、水素原子,シアノ基,フェニ
    ルチオ基,C1-6 ハロアルキル基,C1- 6 アルキルチオ
    基,C3-8 シクロアルキル基,カルボキシ基もしくはC
    1-6 アルコキシカルボニル基で置換されてもよいC1-6
    アルキル基,置換されてもよいフェニル基,置換されて
    もよいベンジル基,Or3 ,Nr45,C(=O)Or
    6,C(=O)Nr78 (ここで、r3 ,r4 ,r5
    6 ,r7 ,r8 は、水素原子,C3-8 シクロアルキル
    基,カルボキシ基もしくはC1-6 アルコキシカルボニル
    基で置換されてもよいC1-6 アルキル基,置換されても
    よいフェニル基,置換されてもよいベンジル基または置
    換されてもよいN,OもしくはS原子を1〜4個含む飽
    和または不飽和のヘテロ環基を表す。)または置換され
    てもよいN,OもしくはS原子を1〜4個含む飽和また
    は不飽和のヘテロ環基を表す。(ただし、m=0,X=
    C(=O),Y=CH,R2 =R3 =H,R4 =4−t
    −ブチルフェニル,R5 =4−ピリジルである化合物を
    除く。)]で表されるインデノピリジンおよびインデノ
    ピリミジン化合物。
  2. 【請求項2】一般式(2) 【化2】 (式中、R1 ,m,R5 ,XおよびYは、請求項1と同
    じ意味を表し、Zは、メチルチオ基,メチルスルホニル
    基またはハロゲン原子を表す。)で表される化合物と、
    一般式(3) 【化3】 (式中、R2 ,R3 およびR4 は、請求項1と同じ意味
    を表す。)で表される化合物とを反応させることを特徴
    とする一般式(1) 【化4】 (式中、R1,m,R2 ,R3 ,R4 ,R5 ,Xおよび
    Yは、請求項1と同じ意味を表す。)で表される化合物
    の製造法。
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