JPS645433U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS645433U JPS645433U JP10056187U JP10056187U JPS645433U JP S645433 U JPS645433 U JP S645433U JP 10056187 U JP10056187 U JP 10056187U JP 10056187 U JP10056187 U JP 10056187U JP S645433 U JPS645433 U JP S645433U
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- JP
- Japan
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- pattern
- reticle
- optical system
- light source
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- Pending
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 claims 1
Description
第１図及び第２図は本考案の縮小投影露光装置
の一実施例を示す図であり、第１図は斜視図、第
２図はアパーチヤの断面図であり、第３図は本考
案の一実施例により露光されるレテイクルのパタ
ーンとアパーチヤとの関係を示す平面図である。
第４図は従来の縮小投影露光装置を示す斜視図で
あり、第５図はレテイクルを示す平面図である。 ２……露光光源、３……コンデンサレンズ、４
……レテイクル、４ｂ，４ｃ，４ｄ，４ｅ……パ
ターン、５……支持ステージ、７……縮小光学系
、８……被転写基板、９……移動ステージ、１０
……縮小投影露光装置、１１……アパーチヤ、１
６……液晶。
の一実施例を示す図であり、第１図は斜視図、第
２図はアパーチヤの断面図であり、第３図は本考
案の一実施例により露光されるレテイクルのパタ
ーンとアパーチヤとの関係を示す平面図である。
第４図は従来の縮小投影露光装置を示す斜視図で
あり、第５図はレテイクルを示す平面図である。 ２……露光光源、３……コンデンサレンズ、４
……レテイクル、４ｂ，４ｃ，４ｄ，４ｅ……パ
ターン、５……支持ステージ、７……縮小光学系
、８……被転写基板、９……移動ステージ、１０
……縮小投影露光装置、１１……アパーチヤ、１
６……液晶。
Claims (1)
- 複数のパターンを有するレテイクルを用いる縮
小投影露光装置において、露光光源と、該光源か
ら放射された光を集光するコンデンサレンズと、
前記レテイクルを支持する支持ステージと、前記
パターンの像の一つを透過し、他のパターンの像
を遮蔽する、液晶セルからなるアパーチヤと、該
アパーチヤを透過したパターン像を縮小する縮小
光学系と、該縮小光学系を透過したパターン像が
転写される被転写基板を支持移動する移動ステー
ジとを順次備えたことを特徴とする縮小投影露光
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10056187U JPS645433U (ja) | 1987-06-29 | 1987-06-29 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10056187U JPS645433U (ja) | 1987-06-29 | 1987-06-29 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS645433U true JPS645433U (ja) | 1989-01-12 |
Family
ID=31328746
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10056187U Pending JPS645433U (ja) | 1987-06-29 | 1987-06-29 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS645433U (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6128312A (ja) * | 1984-07-20 | 1986-02-08 | ヤンマー農機株式会社 | 田植機 |
| JPS6214428A (ja) * | 1985-07-12 | 1987-01-23 | Nec Corp | 縮小投影型露光方法 |
| JPS62105130A (ja) * | 1985-10-31 | 1987-05-15 | Nec Corp | 複写機 |
-
1987
- 1987-06-29 JP JP10056187U patent/JPS645433U/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6128312A (ja) * | 1984-07-20 | 1986-02-08 | ヤンマー農機株式会社 | 田植機 |
| JPS6214428A (ja) * | 1985-07-12 | 1987-01-23 | Nec Corp | 縮小投影型露光方法 |
| JPS62105130A (ja) * | 1985-10-31 | 1987-05-15 | Nec Corp | 複写機 |