JPH03117829U - - Google Patents

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JPH03117829U
JPH03117829U JP2716990U JP2716990U JPH03117829U JP H03117829 U JPH03117829 U JP H03117829U JP 2716990 U JP2716990 U JP 2716990U JP 2716990 U JP2716990 U JP 2716990U JP H03117829 U JPH03117829 U JP H03117829U
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JP
Japan
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lens system
mask
stage
circuit pattern
exposure apparatus
Prior art date
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JP2716990U
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例の正面図、第2図は
もう一つの実施例の正面図である。 1……露光光学系、2……露光光、3……マス
クステージ、4……透過光、5……回折光、6…
…偏光フイルタ、7……露光レンズ系、8……ウ
エハステージ。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 露光光源を有する主照明系と回路パターンが描
    かれた原画(以下マスクと記す。)を設置するマ
    ククするマスクステージと回路パターンを投影転
    写するレンズ系と半導体基板を設置するウエハス
    テージからなる露光装置において、マスクステー
    ジとレンズ系の間または、レンズ系とウエハステ
    ージとの間に偏光フイルタを設けることを特徴と
    する露光装置。
JP2716990U 1990-03-19 1990-03-19 Pending JPH03117829U (ja)

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JPH03117829U true JPH03117829U (ja) 1991-12-05

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