JPS6410940B2 - - Google Patents
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- JPS6410940B2 JPS6410940B2 JP58214752A JP21475283A JPS6410940B2 JP S6410940 B2 JPS6410940 B2 JP S6410940B2 JP 58214752 A JP58214752 A JP 58214752A JP 21475283 A JP21475283 A JP 21475283A JP S6410940 B2 JPS6410940 B2 JP S6410940B2
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Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は時計、電卓等に用いられる薄型の半導
体装置およびその製造方法に関する。
体装置およびその製造方法に関する。
時計、電卓等の小型の電子機器に利用される半
導体装置は、特に薄型であることが要求される。
このため、従来から様々な工夫がなされている。
導体装置は、特に薄型であることが要求される。
このため、従来から様々な工夫がなされている。
添付図面の第1図および第2図を参照して従来
装置およびその製造方法を説明する。第1図は従
来装置の一構成例の断面図である。なお、以下の
図面の説明において、同一要素は同一符号で示し
てある。ガラスエポキシ樹脂等で製造された基板
1のペレツトマウント用ベツドには、ペレツト2
が銀ペースト3等によつてマウントされ、基板1
の上面に設けられたリード部とペレツト2の電極
とは、ボンデイングワイヤ4によつてワイヤボン
デイングされている。そして、これらは樹脂5に
よつて封止され、樹脂5の上面には封止ペレツト
6が取り付けられている。
装置およびその製造方法を説明する。第1図は従
来装置の一構成例の断面図である。なお、以下の
図面の説明において、同一要素は同一符号で示し
てある。ガラスエポキシ樹脂等で製造された基板
1のペレツトマウント用ベツドには、ペレツト2
が銀ペースト3等によつてマウントされ、基板1
の上面に設けられたリード部とペレツト2の電極
とは、ボンデイングワイヤ4によつてワイヤボン
デイングされている。そして、これらは樹脂5に
よつて封止され、樹脂5の上面には封止ペレツト
6が取り付けられている。
第2図は第1図に示す半導体装置の製造工程を
説明する断面図である。まず、基板1のペレツト
マウント用ベツドに銀ペースト3でペレツト2を
固定する(第2図a)。次いでボンデイングワイ
ヤ4でペレツト2の電極と基板1上のリード部と
をワイヤボンデイングする(第2図b)。次いで
ペレツト2付近に樹脂5aをポツテイングし、樹
脂ペレツト7を上に乗せる(第2図c)。なお、
樹脂ペレツト7は樹脂封止後は封止ペレツト6と
なる布6aと樹脂5bにより構成される。次いで
樹脂ペレツト7を熱すると半導体樹脂封止が完了
する(第1図)。
説明する断面図である。まず、基板1のペレツト
マウント用ベツドに銀ペースト3でペレツト2を
固定する(第2図a)。次いでボンデイングワイ
ヤ4でペレツト2の電極と基板1上のリード部と
をワイヤボンデイングする(第2図b)。次いで
ペレツト2付近に樹脂5aをポツテイングし、樹
脂ペレツト7を上に乗せる(第2図c)。なお、
樹脂ペレツト7は樹脂封止後は封止ペレツト6と
なる布6aと樹脂5bにより構成される。次いで
樹脂ペレツト7を熱すると半導体樹脂封止が完了
する(第1図)。
上記の如く従来装置では、封止ペレツトの位置
(高さ)は樹脂量およびボンデイングワイヤのル
ープの高さによつて変動することになるため、位
置の厚さが製品によつて異なり薄型の装置として
の利用価値が低下する。また、キヤリア等の設備
部品が必要になり、組立工程を複雑なのでコスト
が高くなるという欠点がある。
(高さ)は樹脂量およびボンデイングワイヤのル
ープの高さによつて変動することになるため、位
置の厚さが製品によつて異なり薄型の装置として
の利用価値が低下する。また、キヤリア等の設備
部品が必要になり、組立工程を複雑なのでコスト
が高くなるという欠点がある。
他方、製造工程の点においても、超薄型の装置
の場合には従来のワイヤボンデイング法は使用で
きない(ワイヤが基板上に突出するので、TAB、
フリツプフロツプ法等しか使用できない)ので従
来の製造設備との汎用性に欠け、またガラスエポ
キシ等の基板を用いると一品処理が必要になるの
で、量産性に欠けてコストが上昇するという欠点
がある。
の場合には従来のワイヤボンデイング法は使用で
きない(ワイヤが基板上に突出するので、TAB、
フリツプフロツプ法等しか使用できない)ので従
来の製造設備との汎用性に欠け、またガラスエポ
キシ等の基板を用いると一品処理が必要になるの
で、量産性に欠けてコストが上昇するという欠点
がある。
上記の従来技術の欠点を克服するため本発明
は、薄型で厚さが一定しており、かつ安価に量産
することのできる半導体装置およびその製造方法
を提供することを目的とする。
は、薄型で厚さが一定しており、かつ安価に量産
することのできる半導体装置およびその製造方法
を提供することを目的とする。
上記目的を達成するため本発明は、ペレツト
と、該ペレツトを収容するための穴を設けるとと
もに上部にリード部を設けたフイルムキヤリア
と、前記ペレツトの電極と該フイルムキヤリアの
リード部とを電気的に接続するボンデイングワイ
ヤと、前記穴を覆うとともに前記ボンデイングワ
イヤを該穴の内部に抑え込んで前記フイルムキヤ
リアの上面に貼り付けた封止板と、前記穴に前記
ペレツトを封止するための樹脂とからなり、前記
フイルムキヤリアの下面、ペレツトの下面および
樹脂の下面が略同一平面にあるようにした薄型の
半導体装置、及びフイルムキヤリアにペレツトを
収容するための穴を設け、前記穴を覆うように前
記フイルムキヤリアの下面にテープを貼り付け
て、該穴の該テープ部分に前記ペレツトを接着
し、前記フイルムキヤリアの上面に設けたリード
部と前記ペレツトの電極とをワイヤボンデイング
して、樹脂を前記穴にポツテイングし、前記穴を
封止板で覆つて、前記フイルムキヤリアの上面と
封止板を接触させて前記樹脂を固化し、前記テー
プを剥離して前記ペレツトを樹脂封止する薄型の
半導体装置の製造方法をその要旨とするものであ
る。
と、該ペレツトを収容するための穴を設けるとと
もに上部にリード部を設けたフイルムキヤリア
と、前記ペレツトの電極と該フイルムキヤリアの
リード部とを電気的に接続するボンデイングワイ
ヤと、前記穴を覆うとともに前記ボンデイングワ
イヤを該穴の内部に抑え込んで前記フイルムキヤ
リアの上面に貼り付けた封止板と、前記穴に前記
ペレツトを封止するための樹脂とからなり、前記
フイルムキヤリアの下面、ペレツトの下面および
樹脂の下面が略同一平面にあるようにした薄型の
半導体装置、及びフイルムキヤリアにペレツトを
収容するための穴を設け、前記穴を覆うように前
記フイルムキヤリアの下面にテープを貼り付け
て、該穴の該テープ部分に前記ペレツトを接着
し、前記フイルムキヤリアの上面に設けたリード
部と前記ペレツトの電極とをワイヤボンデイング
して、樹脂を前記穴にポツテイングし、前記穴を
封止板で覆つて、前記フイルムキヤリアの上面と
封止板を接触させて前記樹脂を固化し、前記テー
プを剥離して前記ペレツトを樹脂封止する薄型の
半導体装置の製造方法をその要旨とするものであ
る。
添付図面の第3図および第4図を参照して本発
明の一実施例を説明する。第3図は同実施例に係
る半導体装置の断面図である。厚さ350μm程度
のフイルムキヤリア8に設けられた穴には厚さ
200μm程度のペレツト2が樹脂5によつて封止
されている。フイルムキヤリア8の下面、ペレツ
ト2の下面および樹脂5の下面は同一平面となる
ように成形されており、穴の上面は絶縁性の封止
板9により覆われている。そして、ペレツト2の
電極とフイルムキヤリア8の上面のリード部を接
続するボンデイングワイヤ4は、封止板9によつ
てフイルムキヤリア8の上面の高さにまで抑え込
まれている。
明の一実施例を説明する。第3図は同実施例に係
る半導体装置の断面図である。厚さ350μm程度
のフイルムキヤリア8に設けられた穴には厚さ
200μm程度のペレツト2が樹脂5によつて封止
されている。フイルムキヤリア8の下面、ペレツ
ト2の下面および樹脂5の下面は同一平面となる
ように成形されており、穴の上面は絶縁性の封止
板9により覆われている。そして、ペレツト2の
電極とフイルムキヤリア8の上面のリード部を接
続するボンデイングワイヤ4は、封止板9によつ
てフイルムキヤリア8の上面の高さにまで抑え込
まれている。
第4図は第3図に示す実施例の製造工程を説明
する半導体装置の断面図である。まず、フイルム
キヤリア8に穴をあけ(第4図a)、その下面に
接着剤の付いた剥離性、耐熱性の良好な(150℃
程度)ポリエステル製のテープ10を貼付する
(第4図b)。
する半導体装置の断面図である。まず、フイルム
キヤリア8に穴をあけ(第4図a)、その下面に
接着剤の付いた剥離性、耐熱性の良好な(150℃
程度)ポリエステル製のテープ10を貼付する
(第4図b)。
次いで、穴の部分のテープ10にフイルムキヤ
リア8の厚さよりも薄いペレツト2を接着し(第
4図c)、ペレツト2の電極とフイルムキヤリア
8の表面に設けられたリード部との間をボンデイ
ングワイヤ4によつて150〜175℃程度のボンデイ
ング温度でワイヤボンデイングする(第4図d)。
リア8の厚さよりも薄いペレツト2を接着し(第
4図c)、ペレツト2の電極とフイルムキヤリア
8の表面に設けられたリード部との間をボンデイ
ングワイヤ4によつて150〜175℃程度のボンデイ
ング温度でワイヤボンデイングする(第4図d)。
次いで穴の部分に樹脂5をボンデイングし、封
止板9で穴を覆つて押しつける。すると、フイル
ムキヤリア8の上面から50μm程度突出していた
ボンデイングワイヤ4は押し下げられ、封止板9
はフイルムキヤリア8の上面に接触する(第4図
e)。
止板9で穴を覆つて押しつける。すると、フイル
ムキヤリア8の上面から50μm程度突出していた
ボンデイングワイヤ4は押し下げられ、封止板9
はフイルムキヤリア8の上面に接触する(第4図
e)。
次いでフイルムキヤリア8の下面に貼り付けた
テープ10を剥離すると薄型の半導体装置が出来
あがる(第4図f)。
テープ10を剥離すると薄型の半導体装置が出来
あがる(第4図f)。
なお、ポリエステル製のテープ10としては、
寺岡646(寺岡工業(株)製)や日東No.336(日東電工(株
)
製)があり、樹脂5としては日東NT8020(日東
電工(株)製)などがある。また、ボンデイングワイ
ヤ4としては、高速ボンデイング用で高ループに
なることを抑えた(低ループ性)高強度のFAワ
イヤー(例えば田中電子工業(株)製のAU―
DBFA)が適している。ボンデイングワイヤ4
が第4図dの工程であまり高ループになると、封
止板9で押し下げたときにペレツト2との間でシ
ヨートすることがあるからである。
寺岡646(寺岡工業(株)製)や日東No.336(日東電工(株
)
製)があり、樹脂5としては日東NT8020(日東
電工(株)製)などがある。また、ボンデイングワイ
ヤ4としては、高速ボンデイング用で高ループに
なることを抑えた(低ループ性)高強度のFAワ
イヤー(例えば田中電子工業(株)製のAU―
DBFA)が適している。ボンデイングワイヤ4
が第4図dの工程であまり高ループになると、封
止板9で押し下げたときにペレツト2との間でシ
ヨートすることがあるからである。
また、第4図eの工程の後にオープン等でキユ
アリング(curing)するようにしてもよい。
アリング(curing)するようにしてもよい。
上記の如く本発明によれば、フイルムキヤリア
に穴をあけ、そこにペレツトを入れてワイヤボン
デイングおよび樹脂のポツテイングの後に封止板
で穴の上面を覆つて樹脂封止し、フイルムキヤリ
アの下面とチツプの下面および樹脂の下面は同一
平面上にあるようにしたので、樹脂量やワイヤの
ループ高さにかかわらず厚さが一定でかつ従来の
ワイヤボンデイングによるものに比べてはるかに
薄型の半導体装置を提供することができる。この
ような薄型半導体装置は、カード電卓や薄型電子
時計に応用することができる。
に穴をあけ、そこにペレツトを入れてワイヤボン
デイングおよび樹脂のポツテイングの後に封止板
で穴の上面を覆つて樹脂封止し、フイルムキヤリ
アの下面とチツプの下面および樹脂の下面は同一
平面上にあるようにしたので、樹脂量やワイヤの
ループ高さにかかわらず厚さが一定でかつ従来の
ワイヤボンデイングによるものに比べてはるかに
薄型の半導体装置を提供することができる。この
ような薄型半導体装置は、カード電卓や薄型電子
時計に応用することができる。
また、本発明によれば、薄型の半導体装置の基
板としてフイルムキヤリアを利用し、その下面に
貼り付けたポリエステルテープにペレツトを接着
して樹脂封止した後に、テープを剥離することに
より半導体装置を製造するので、一品生産、処理
の必要なガラスエポキシ基板を利用する従来方法
に比べて著しく量産性に優れ、マウント剤(銀ペ
ースト等)を必要とする従来方法に比べてコスト
を低く抑えることができる。
板としてフイルムキヤリアを利用し、その下面に
貼り付けたポリエステルテープにペレツトを接着
して樹脂封止した後に、テープを剥離することに
より半導体装置を製造するので、一品生産、処理
の必要なガラスエポキシ基板を利用する従来方法
に比べて著しく量産性に優れ、マウント剤(銀ペ
ースト等)を必要とする従来方法に比べてコスト
を低く抑えることができる。
さらに、ペレツトのボンデイングをワイヤボン
デイング法により行なうことができる(従来技術
で超薄型の半導体装置を得るためには、フリツプ
チツプ法、TAB等が必要であつた)ので、従来
技術設備等との汎用性も高い。
デイング法により行なうことができる(従来技術
で超薄型の半導体装置を得るためには、フリツプ
チツプ法、TAB等が必要であつた)ので、従来
技術設備等との汎用性も高い。
第1図は従来装置の一構成例の断面図、第2図
は第1図に示す構成例の製造工程を説明する説明
図、第3図は本発明の一実施例の断面図、第4図
は第3図に示す実施例の製造工程を説明する説明
図である。 1…基板、2…ペレツト、3…銀ペースト、4
…金線、5,5a,5b…樹脂、6…封止ペレツ
ト、7…樹脂ペレツト、8…フイルムキヤリア、
9…封止板、10…テープ。
は第1図に示す構成例の製造工程を説明する説明
図、第3図は本発明の一実施例の断面図、第4図
は第3図に示す実施例の製造工程を説明する説明
図である。 1…基板、2…ペレツト、3…銀ペースト、4
…金線、5,5a,5b…樹脂、6…封止ペレツ
ト、7…樹脂ペレツト、8…フイルムキヤリア、
9…封止板、10…テープ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ペレツトと、該ペレツトを収容するための穴
を設けるとともに上部にリード部を設けたフイル
ムキヤリアと、前記ペレツトの電極と該フイルム
キヤリアのリード部とを電気的に接続するボンデ
イングワイヤと、前記穴を覆うとともに前記ボン
デイングワイヤを該穴の内部に抑え込んで前記フ
イルムキヤリアの上面に貼り付けた封止板と、前
記穴に前記ペレツトを封止するための樹脂とから
なり、前記フイルムキヤリアの下面、ペレツトの
下面および樹脂の下面が略同一平面にあるように
した薄型の半導体装置。 2 フイルムキヤリアにペレツトを収容するため
の穴を設け、前記穴を覆うように前記フイルムキ
ヤリアの下面にテープを貼り付けて、該穴の該テ
ープ部分に前記ペレツトを接着し、前記フイルム
キヤリアの上面に設けたリード部と前記ペレツト
の電極とをワイヤボンデイングして、樹脂を前記
穴にポツテイングし、前記穴を封止板で覆つて、
前記フイルムキヤリアの上面と封止板を接触させ
て前記樹脂を固化し、前記テープを剥離して前記
ペレツトを樹脂封止する薄型の半導体装置の製造
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58214752A JPS60106153A (ja) | 1983-11-15 | 1983-11-15 | 半導体装置およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58214752A JPS60106153A (ja) | 1983-11-15 | 1983-11-15 | 半導体装置およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60106153A JPS60106153A (ja) | 1985-06-11 |
JPS6410940B2 true JPS6410940B2 (ja) | 1989-02-22 |
Family
ID=16660981
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58214752A Granted JPS60106153A (ja) | 1983-11-15 | 1983-11-15 | 半導体装置およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60106153A (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63190363A (ja) * | 1987-02-02 | 1988-08-05 | Matsushita Electronics Corp | パワ−パツケ−ジ |
DE3911711A1 (de) * | 1989-04-10 | 1990-10-11 | Ibm | Modul-aufbau mit integriertem halbleiterchip und chiptraeger |
JP3332654B2 (ja) * | 1995-05-12 | 2002-10-07 | 株式会社東芝 | 半導体装置用基板、半導体装置および半導体装置の製造方法 |
US6022763A (en) * | 1996-05-10 | 2000-02-08 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Substrate for semiconductor device, semiconductor device using the same, and method for manufacture thereof |
KR100447035B1 (ko) | 1996-11-21 | 2004-09-07 | 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 | 반도체 장치의 제조방법 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS629723Y2 (ja) * | 1981-02-20 | 1987-03-06 |
-
1983
- 1983-11-15 JP JP58214752A patent/JPS60106153A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS60106153A (ja) | 1985-06-11 |
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