JPS639007B2 - - Google Patents
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- JPS639007B2 JPS639007B2 JP55101273A JP10127380A JPS639007B2 JP S639007 B2 JPS639007 B2 JP S639007B2 JP 55101273 A JP55101273 A JP 55101273A JP 10127380 A JP10127380 A JP 10127380A JP S639007 B2 JPS639007 B2 JP S639007B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C9/00—Alloys based on copper
- C22C9/02—Alloys based on copper with tin as the next major constituent
-
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- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
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- C22C9/06—Alloys based on copper with nickel or cobalt as the next major constituent
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Heat Treatment Of Nonferrous Metals Or Alloys (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
Description
<発明の属する技術分野>
本発明は集積回路導体用リードフレーム材料お
よびその製造方法に関し、更に詳しくは伸び率6
%以上において高い引張り強さと、同時に高い導
電率を有し、メツキ性、経済性にも優れた集積回
路導体用銅ニツケル錫合金およびその製造方法に
関する。 <発明の技術的背景> 集積回路導体用リードフレーム材料には、折り
曲げ可能な伸び率(実用的に6%以上)を確保し
た状態で高い引張り強さと、高い導電率を有し、
かつ経済性に優れた合金が求められる。 しかし、引張り強さと導電率は、一般に相反す
る特性であり、いずれか一方の特性を犠性にし、
他方の特性を生かすようにしている。現在のとこ
ろ、りん青銅(伸び率率%以上で、引張り強さ45
Kg/mm2程度、導電率約15%)、丹銅(伸び率数%
以上で、引張り強さ35Kg/mm2、導電率37%)、ベ
リリウム銅(伸び率数%以上で、引張り強さ46〜
80Kg/mm2、導電率37%)、銀銅(伸び率数%以上
で引張り強さ45Kg/mm2、導電率845%)や、最近
開発された主として鉄を添加し、この他にP、
CO、Sn、Znを含む合金(伸び率数%以上で、引
張り強さ35〜50Kg/mm2、導電率35〜60%)等が使
用されている。この他、存在している各種の銅合
金においても、以上の合金の特性と大同小異であ
る。特に、上述した各合金に共通している不具合
な点は材料の価格が高価であることである。 一般に、合金はその引張り強さを高くするため
に、析出時効を行つており、そのための熱処理コ
ストを避けることができない。しかし、この熱処
理コストが同一と仮定すると、後は合金を構成し
ている成分元素のコストが経済性を決定する要因
となる。 もちろん、微量の添加で引張り強さを増し、導
電率を低下させない元素Ti、Zr、Cr等との銅合
金が存在している。しかし、これらの高融点、高
酸化性の元素Ti、Zr、Crの添加には銅に均一に
固溶させ、析出硬化させる製造工程に困難さが増
し、別の面で製造上のコスト高を招いている。こ
のような理由によつて、Ti、Zr、Crなどを含む
析出硬化形銅合金はそれ程量産販売されていな
い。 以上のような理由により、現在、集積回路導体
用リードフレーム材料として一定の伸び率(6%
以上)を確保した状態において比較的に高い引張
り強さを持ちながら導電率の低い材料、りん青銅
が広く使用されている。 <発明が解決しようとする問題点> ところが、上述の目的を充たす集積回路導体用
リードフレーム材料として用いているりん青銅
は、Sn3〜9重量%、P0.05〜0.35重量%、残部
Cuからなる組成の銅合金であつて、高価なSn元
素を多く含み、材料費がコスト高となる不具合が
あつた。 そこで、本発明は従来の集積回路導体用リード
フレーム材料の不具合な点を除去するためになさ
れたものであつて、本発明の目的の一つは折り曲
げ可能な伸び率を確保した状態において高い引張
り強度と同時に高い導電率を有し、しかも経済性
に優れた集積回路導体用銅ニツケル錫合金を提供
しようとするものである。 本発明の目的のもう一つは、上述の集積回路導
体用銅ニツケル錫合金を析出時効処理を必要とせ
ず、しかも実用上要求される伸び率6%以上が容
易に得られ、かつこの伸び率を確保した状態にお
いて高い引張り強度と高い導電率が得られる製造
方法を提供しようとするものである。 <問題点を解決するための手段> 本発明者等は集積回路導体用銅ニツケル錫合金
における上述の不具合さを除去するために種々実
験を重ねた結果、次のことが判つた。 ○イ 銅合金のみならず、合金の強化は析出硬化に
よつて得られている。一方、導電率は添加元素
量の少ない稀薄合金である程高くなる。ただ
し、添加元素による導電率の低下の程度は元素
の種類によつて違いがあるため、一定の引張り
強さを確保しつつ、同時に導電率をある程度の
高さのものをうることが可能である。 ○ロ また、上述したように合金において相反する
関係にある引張り強さと導電率のバランスを図
るために、銅に対する添加元素の量を少なくし
て導電率の低下を小さくすると共に、これによ
り原料のコストの低下を図ることができる。 ○ハ しかし、これは機械的な強さを高くする点で
不利となる。そこで、本発明者等はNiおよび
Snを加え、脱酸時のPを残留させればよいと
考えた。しかし、これらの添加元素は析出硬化
を期待するものではなく、固溶体硬化を狙つた
ものであり、さらにその上加工硬化度を高くす
ることを目標としたものである。 ○ニ この結果、実験によりNi3.0〜0.5重量%、
Sn0.9〜0.5重量%、P0.2〜0.01重量%において、
後述する熱処理および圧延加工処理と組合せる
ことにより伸び率6%以上において引張り強さ
を約60Kg/mm2にすることができることが判つ
た。 ○ホ また、金属材料の特性はその加工法、熱処理
法によつて異なる。銅ニツケル錫合金の場合も
同様であつて、伸び率6%以上において高い引
張り強さを得るためには、冷間圧延加工を繰り
返し必要な厚さ(60%以上の加工率がとれる厚
さ)に達したとき、360℃〜395℃の温度で1時
間焼鈍(いわゆる止め焼鈍)し冷間圧延し、さ
らに実施した材料を150℃〜250℃の温度で1時
間焼鈍して所要の特性を発揮させる必要があ
る。 この関係をNi1.0重量%、Sn0.5重量%、
P0.05重量%、残部Cuの組成をもつ銅ニツケル
錫合金について実験した結果、次の表1に示す
結果を得た。
よびその製造方法に関し、更に詳しくは伸び率6
%以上において高い引張り強さと、同時に高い導
電率を有し、メツキ性、経済性にも優れた集積回
路導体用銅ニツケル錫合金およびその製造方法に
関する。 <発明の技術的背景> 集積回路導体用リードフレーム材料には、折り
曲げ可能な伸び率(実用的に6%以上)を確保し
た状態で高い引張り強さと、高い導電率を有し、
かつ経済性に優れた合金が求められる。 しかし、引張り強さと導電率は、一般に相反す
る特性であり、いずれか一方の特性を犠性にし、
他方の特性を生かすようにしている。現在のとこ
ろ、りん青銅(伸び率率%以上で、引張り強さ45
Kg/mm2程度、導電率約15%)、丹銅(伸び率数%
以上で、引張り強さ35Kg/mm2、導電率37%)、ベ
リリウム銅(伸び率数%以上で、引張り強さ46〜
80Kg/mm2、導電率37%)、銀銅(伸び率数%以上
で引張り強さ45Kg/mm2、導電率845%)や、最近
開発された主として鉄を添加し、この他にP、
CO、Sn、Znを含む合金(伸び率数%以上で、引
張り強さ35〜50Kg/mm2、導電率35〜60%)等が使
用されている。この他、存在している各種の銅合
金においても、以上の合金の特性と大同小異であ
る。特に、上述した各合金に共通している不具合
な点は材料の価格が高価であることである。 一般に、合金はその引張り強さを高くするため
に、析出時効を行つており、そのための熱処理コ
ストを避けることができない。しかし、この熱処
理コストが同一と仮定すると、後は合金を構成し
ている成分元素のコストが経済性を決定する要因
となる。 もちろん、微量の添加で引張り強さを増し、導
電率を低下させない元素Ti、Zr、Cr等との銅合
金が存在している。しかし、これらの高融点、高
酸化性の元素Ti、Zr、Crの添加には銅に均一に
固溶させ、析出硬化させる製造工程に困難さが増
し、別の面で製造上のコスト高を招いている。こ
のような理由によつて、Ti、Zr、Crなどを含む
析出硬化形銅合金はそれ程量産販売されていな
い。 以上のような理由により、現在、集積回路導体
用リードフレーム材料として一定の伸び率(6%
以上)を確保した状態において比較的に高い引張
り強さを持ちながら導電率の低い材料、りん青銅
が広く使用されている。 <発明が解決しようとする問題点> ところが、上述の目的を充たす集積回路導体用
リードフレーム材料として用いているりん青銅
は、Sn3〜9重量%、P0.05〜0.35重量%、残部
Cuからなる組成の銅合金であつて、高価なSn元
素を多く含み、材料費がコスト高となる不具合が
あつた。 そこで、本発明は従来の集積回路導体用リード
フレーム材料の不具合な点を除去するためになさ
れたものであつて、本発明の目的の一つは折り曲
げ可能な伸び率を確保した状態において高い引張
り強度と同時に高い導電率を有し、しかも経済性
に優れた集積回路導体用銅ニツケル錫合金を提供
しようとするものである。 本発明の目的のもう一つは、上述の集積回路導
体用銅ニツケル錫合金を析出時効処理を必要とせ
ず、しかも実用上要求される伸び率6%以上が容
易に得られ、かつこの伸び率を確保した状態にお
いて高い引張り強度と高い導電率が得られる製造
方法を提供しようとするものである。 <問題点を解決するための手段> 本発明者等は集積回路導体用銅ニツケル錫合金
における上述の不具合さを除去するために種々実
験を重ねた結果、次のことが判つた。 ○イ 銅合金のみならず、合金の強化は析出硬化に
よつて得られている。一方、導電率は添加元素
量の少ない稀薄合金である程高くなる。ただ
し、添加元素による導電率の低下の程度は元素
の種類によつて違いがあるため、一定の引張り
強さを確保しつつ、同時に導電率をある程度の
高さのものをうることが可能である。 ○ロ また、上述したように合金において相反する
関係にある引張り強さと導電率のバランスを図
るために、銅に対する添加元素の量を少なくし
て導電率の低下を小さくすると共に、これによ
り原料のコストの低下を図ることができる。 ○ハ しかし、これは機械的な強さを高くする点で
不利となる。そこで、本発明者等はNiおよび
Snを加え、脱酸時のPを残留させればよいと
考えた。しかし、これらの添加元素は析出硬化
を期待するものではなく、固溶体硬化を狙つた
ものであり、さらにその上加工硬化度を高くす
ることを目標としたものである。 ○ニ この結果、実験によりNi3.0〜0.5重量%、
Sn0.9〜0.5重量%、P0.2〜0.01重量%において、
後述する熱処理および圧延加工処理と組合せる
ことにより伸び率6%以上において引張り強さ
を約60Kg/mm2にすることができることが判つ
た。 ○ホ また、金属材料の特性はその加工法、熱処理
法によつて異なる。銅ニツケル錫合金の場合も
同様であつて、伸び率6%以上において高い引
張り強さを得るためには、冷間圧延加工を繰り
返し必要な厚さ(60%以上の加工率がとれる厚
さ)に達したとき、360℃〜395℃の温度で1時
間焼鈍(いわゆる止め焼鈍)し冷間圧延し、さ
らに実施した材料を150℃〜250℃の温度で1時
間焼鈍して所要の特性を発揮させる必要があ
る。 この関係をNi1.0重量%、Sn0.5重量%、
P0.05重量%、残部Cuの組成をもつ銅ニツケル
錫合金について実験した結果、次の表1に示す
結果を得た。
【表】
一般に、合金の伸び率は高温で焼鈍したとき
は高くなるが、引張り強さは低下する。しか
し、上述のように構成した銅ニツケル錫合金で
は異なつており、加工硬化しやすい。また、加
工硬化したものが焼鈍による引張り強さの低下
が少なく、伸び率6%で引張り強さ数10Kg/mm2
程度であることを知つた。 ○ヘ さらに、加工および焼鈍による機械的特性の
変化は組成によつても影響を受ける。実験結果
によれば上述の組成の銅ニツケル錫合金の場
合、加工硬化は主にSnによつて与えられる。
一方、伸び率は主にNiによつて得られ、後述
する加工率対引張り強さの関係を示す第1図に
おける特性曲線1,2,3およびイ,ロ,ハか
ら明らかなように、NiのみをCuに加えた場合
の加工硬化の程度により、Niを1重量%含有
する他に、更にSnを加えた組成の銅ニツケル
錫合金の加工硬化が高いことが判つた。そして
圧延加工率の高い範囲において、硬化率が高
い。しかも、Snの添加量の低い範囲でこの効
果を有していることを知り、本発明を完成する
ことができた。 すなわち、本発明にかかる集積回路導体用銅
ニツケル錫合金は、Ni0.5〜3.0重量%、Sn0.5
〜0.9重量%、P0.01〜0.2重量%、残部Cuから
なる組成を有する銅ニツケル錫合金である。 そして、上述の第一の集積回路導体用銅ニツ
ケル錫合金の製造方法は、Ni0.5〜3.0重量%、
Sn0.5〜0.9重量%、P0.01〜0.2重量%後、通常
の圧延を行い最終必要厚さから、60%以上の加
工率が得られる厚さで360℃〜395℃の温度で1
時間焼鈍した後冷間圧延し、150℃〜250℃の温
度で1時間焼鈍して所要の特性を発揮させるこ
とを特徴とする。 本発明の集積回路導体用銅ニツケル錫合金で
は、Snが0.3重量%以上含有すれば、Snを多く含
有する場合と同様に60%以上の圧延加工率の範囲
内であれば加工硬化率が殆んど同じであり、従来
のりん青銅のように1重量%以上の多くのSnを
含む必要はない。ここでSn添加量の下限は、上
述の結果と加工率を上げた場合、約50Kg/mm2の引
張り強さが得られる値である。また、Sn量の上
限はSn量が多くする程引張り強さを増すことが
できるが、反面導電率が低下するから、引張り強
さと導電率の両方を満足する値である。 また、Niについては上述した通り、伸び率を
高くする。通常、加工後焼鈍して伸び率を高くす
るには、相当高い温度で焼鈍しなければならな
い。この場合、必然的に引張り強さが低下する。
しかし、本発明者等の実験結果によれば、銅ニツ
ケル錫合金については引張り強さが低下しない範
囲で伸び率の向上を図ることができる。例えば
Ni1.0重量%−Sn0.5重量%−P0.05重量%−残部
Cu;Ni1.2重量%−Sn0.9重量%−P0.2重量%−
残部Cu;Ni0.5重量%−Sn0.3重量%−P0.01重量
%−残部Cuの成分組成の銅ニツケル錫合金の焼
鈍温度(℃)と引張り強度(Kg/mm2)、伸び率
(%)について測定した結果によれば、それぞれ
第2図の曲線a,b,cに示すように、引張り強
さが低下しない温度範囲で伸び率の向上が得られ
る。これは勿論、上述したように、加工、焼鈍の
工程および得られる金属組織に関係している。本
発明の製造工程では約20μm直径の球状の微細な
粒子となり、これが伸び率を得るのに必須であ
る。このような組織は他の合金系でも得られると
考えられる。Niを最低0.5重量%を含むことによ
つて上述の効果が顕著となる。 またNiは組成元素中最も高価なものであるか
ら原料コストの点からは低い程望ましい。ここで
Niは伸びに大きく寄与していることを述べたが
この他に、第1図に示す加工率(%)対引張り強
さ(Kg/mm2)の関係図のように強度の増加にも寄
与する。 なお、第1図中の曲線1,2,3はそれぞれ、
Sn3.0重量%−Ni1重量%−P0.25重量%−残部
Cu;Sn0.7重量%−Ni1重量%−P0.1重量%−残
部Cu;Sn0.5重量%−Ni1重量%−P0.05重量%−
残部Cuの銅ニツケル錫合金の加工率対引張り強
さの関係を示し、曲線イ,ロ,ハ,ニはそれぞれ
Ni9重量%−残部Cu;Ni5重量%−残部Cu;Ni2
重量%−残部Cu;Ni1重量%−残部Cuの銅ニツ
ケル合金の加工率対引張り強さの関係を示す。 Pは脱酸剤としてCu−P母合金を通常のよう
に利用するが、これを微量残留させることが必要
である。 <実施例> 次に、本発明の代表的な実施例について説明す
る。 Ni、Sn、Pをそれぞれ、下記の表2第2欄各
行に示す組成(重量%)の原料を2.5Kgまたは100
Kg大気中で溶解し、これを丸棒状又は角形材に鋳
造し、600℃以上900℃の温度で鋳造した後、冷間
圧延し、厚さ6mmから10mmまでの板材を作製し
た。ここで切断および表面研削などを行ない各種
の工程の実験に使用した。標準的な製造法では以
上の厚さからさらに冷間圧延および焼鈍(500℃)
を繰返し1mm厚さとした。1mm厚さにおいて375
℃で1時間焼鈍し、0.25mm厚さまで冷間圧延し
た。最終冷間圧延率は75%である。これを幅25mm
にスリツトし、得られた試料を表2第2欄各行に
示す合金組成の違いにより、それぞれNo.1、
No.2、No.3、No.4………、No.8とした。 そして、各試料No.1、No.2、No.3、………、
No.8の機械的性質および導電率等を測定し集積
回路導体用銅ニツケル錫合金として、曲げ加工
性、硬さ、メツキ性などについて試験した。その
結果を、表2第2欄に示す。ただし表2第3欄に
示す焼鈍条件は既述した第2図の焼鈍温度対伸び
率の関係において、伸び率6%にしたときの焼鈍
条件(温度範囲および時間)を表わしたものであ
る。
は高くなるが、引張り強さは低下する。しか
し、上述のように構成した銅ニツケル錫合金で
は異なつており、加工硬化しやすい。また、加
工硬化したものが焼鈍による引張り強さの低下
が少なく、伸び率6%で引張り強さ数10Kg/mm2
程度であることを知つた。 ○ヘ さらに、加工および焼鈍による機械的特性の
変化は組成によつても影響を受ける。実験結果
によれば上述の組成の銅ニツケル錫合金の場
合、加工硬化は主にSnによつて与えられる。
一方、伸び率は主にNiによつて得られ、後述
する加工率対引張り強さの関係を示す第1図に
おける特性曲線1,2,3およびイ,ロ,ハか
ら明らかなように、NiのみをCuに加えた場合
の加工硬化の程度により、Niを1重量%含有
する他に、更にSnを加えた組成の銅ニツケル
錫合金の加工硬化が高いことが判つた。そして
圧延加工率の高い範囲において、硬化率が高
い。しかも、Snの添加量の低い範囲でこの効
果を有していることを知り、本発明を完成する
ことができた。 すなわち、本発明にかかる集積回路導体用銅
ニツケル錫合金は、Ni0.5〜3.0重量%、Sn0.5
〜0.9重量%、P0.01〜0.2重量%、残部Cuから
なる組成を有する銅ニツケル錫合金である。 そして、上述の第一の集積回路導体用銅ニツ
ケル錫合金の製造方法は、Ni0.5〜3.0重量%、
Sn0.5〜0.9重量%、P0.01〜0.2重量%後、通常
の圧延を行い最終必要厚さから、60%以上の加
工率が得られる厚さで360℃〜395℃の温度で1
時間焼鈍した後冷間圧延し、150℃〜250℃の温
度で1時間焼鈍して所要の特性を発揮させるこ
とを特徴とする。 本発明の集積回路導体用銅ニツケル錫合金で
は、Snが0.3重量%以上含有すれば、Snを多く含
有する場合と同様に60%以上の圧延加工率の範囲
内であれば加工硬化率が殆んど同じであり、従来
のりん青銅のように1重量%以上の多くのSnを
含む必要はない。ここでSn添加量の下限は、上
述の結果と加工率を上げた場合、約50Kg/mm2の引
張り強さが得られる値である。また、Sn量の上
限はSn量が多くする程引張り強さを増すことが
できるが、反面導電率が低下するから、引張り強
さと導電率の両方を満足する値である。 また、Niについては上述した通り、伸び率を
高くする。通常、加工後焼鈍して伸び率を高くす
るには、相当高い温度で焼鈍しなければならな
い。この場合、必然的に引張り強さが低下する。
しかし、本発明者等の実験結果によれば、銅ニツ
ケル錫合金については引張り強さが低下しない範
囲で伸び率の向上を図ることができる。例えば
Ni1.0重量%−Sn0.5重量%−P0.05重量%−残部
Cu;Ni1.2重量%−Sn0.9重量%−P0.2重量%−
残部Cu;Ni0.5重量%−Sn0.3重量%−P0.01重量
%−残部Cuの成分組成の銅ニツケル錫合金の焼
鈍温度(℃)と引張り強度(Kg/mm2)、伸び率
(%)について測定した結果によれば、それぞれ
第2図の曲線a,b,cに示すように、引張り強
さが低下しない温度範囲で伸び率の向上が得られ
る。これは勿論、上述したように、加工、焼鈍の
工程および得られる金属組織に関係している。本
発明の製造工程では約20μm直径の球状の微細な
粒子となり、これが伸び率を得るのに必須であ
る。このような組織は他の合金系でも得られると
考えられる。Niを最低0.5重量%を含むことによ
つて上述の効果が顕著となる。 またNiは組成元素中最も高価なものであるか
ら原料コストの点からは低い程望ましい。ここで
Niは伸びに大きく寄与していることを述べたが
この他に、第1図に示す加工率(%)対引張り強
さ(Kg/mm2)の関係図のように強度の増加にも寄
与する。 なお、第1図中の曲線1,2,3はそれぞれ、
Sn3.0重量%−Ni1重量%−P0.25重量%−残部
Cu;Sn0.7重量%−Ni1重量%−P0.1重量%−残
部Cu;Sn0.5重量%−Ni1重量%−P0.05重量%−
残部Cuの銅ニツケル錫合金の加工率対引張り強
さの関係を示し、曲線イ,ロ,ハ,ニはそれぞれ
Ni9重量%−残部Cu;Ni5重量%−残部Cu;Ni2
重量%−残部Cu;Ni1重量%−残部Cuの銅ニツ
ケル合金の加工率対引張り強さの関係を示す。 Pは脱酸剤としてCu−P母合金を通常のよう
に利用するが、これを微量残留させることが必要
である。 <実施例> 次に、本発明の代表的な実施例について説明す
る。 Ni、Sn、Pをそれぞれ、下記の表2第2欄各
行に示す組成(重量%)の原料を2.5Kgまたは100
Kg大気中で溶解し、これを丸棒状又は角形材に鋳
造し、600℃以上900℃の温度で鋳造した後、冷間
圧延し、厚さ6mmから10mmまでの板材を作製し
た。ここで切断および表面研削などを行ない各種
の工程の実験に使用した。標準的な製造法では以
上の厚さからさらに冷間圧延および焼鈍(500℃)
を繰返し1mm厚さとした。1mm厚さにおいて375
℃で1時間焼鈍し、0.25mm厚さまで冷間圧延し
た。最終冷間圧延率は75%である。これを幅25mm
にスリツトし、得られた試料を表2第2欄各行に
示す合金組成の違いにより、それぞれNo.1、
No.2、No.3、No.4………、No.8とした。 そして、各試料No.1、No.2、No.3、………、
No.8の機械的性質および導電率等を測定し集積
回路導体用銅ニツケル錫合金として、曲げ加工
性、硬さ、メツキ性などについて試験した。その
結果を、表2第2欄に示す。ただし表2第3欄に
示す焼鈍条件は既述した第2図の焼鈍温度対伸び
率の関係において、伸び率6%にしたときの焼鈍
条件(温度範囲および時間)を表わしたものであ
る。
【表】
例えば表2、No.3の合金試料において、表示
した状態で板の表面あらさは0.35μ、曲げ半径0.2
mmRの90゜W曲げによる曲げ加工性は圧延と平行
では割れ発生がないが直角方向で割れを認めた。
また硬さはHv148である。さらにAgメツキによ
るメツキ性など何等問題を認めず、優れたリード
フレーム材料であることが確認された。 <発明の効果> 以上説明したように本発明の合金と製造法は経
済的な成分量で強さが50〜60Kg/mm2、伸び率6
%、導電率35〜50%程度の極めて良好な特性を具
えた銅合金であり、また一方その製造工程は析出
硬化処理など含まない経済的な製造方法であり集
積回路用導体としての利点が大きい。
した状態で板の表面あらさは0.35μ、曲げ半径0.2
mmRの90゜W曲げによる曲げ加工性は圧延と平行
では割れ発生がないが直角方向で割れを認めた。
また硬さはHv148である。さらにAgメツキによ
るメツキ性など何等問題を認めず、優れたリード
フレーム材料であることが確認された。 <発明の効果> 以上説明したように本発明の合金と製造法は経
済的な成分量で強さが50〜60Kg/mm2、伸び率6
%、導電率35〜50%程度の極めて良好な特性を具
えた銅合金であり、また一方その製造工程は析出
硬化処理など含まない経済的な製造方法であり集
積回路用導体としての利点が大きい。
第1図は本発明にかかる銅ニツケル錫合金と通
常の銅ニツケル錫合金の加工率対引張り強さの関
係を示す特性曲線図、第2図は本発明にかかる集
積回路導体用銅ニツケル錫合金の焼鈍温度対引張
り強さ、および伸び率の関係を示す特性曲線図で
ある。 図中、1……Sn3.0重量%−Ni1重量%−P0.25
重量%−残部Cuの特性曲線、2……Sn0.7重量%
−Ni1重量%−P0.1重量%−残部Cuの特性曲線、
3……Sn0.5重量%−Ni1重量%−P0.05重量%−
残部Cuの特性曲線、イ……Ni9重量%−残部Cu
の特性曲線、ロ……Ni5重量%−残部Cuの特性曲
線、ハ……Ni2重量%−残部Cuの特性曲線、ニ…
…Ni1重量%−残部Cuの特性曲線、a……Ni1.0
重量%−Sn0.5重量%−P0.05重量%−残部Cuの
特性曲線、b……Ni1.2重量%−Sn0.9重量%−
P0.2重量%−残部Cuの特性曲線、c……Ni0.5重
量%−Sn0.5重量%−P0.01重量%−残部Cuの特
性曲線。
常の銅ニツケル錫合金の加工率対引張り強さの関
係を示す特性曲線図、第2図は本発明にかかる集
積回路導体用銅ニツケル錫合金の焼鈍温度対引張
り強さ、および伸び率の関係を示す特性曲線図で
ある。 図中、1……Sn3.0重量%−Ni1重量%−P0.25
重量%−残部Cuの特性曲線、2……Sn0.7重量%
−Ni1重量%−P0.1重量%−残部Cuの特性曲線、
3……Sn0.5重量%−Ni1重量%−P0.05重量%−
残部Cuの特性曲線、イ……Ni9重量%−残部Cu
の特性曲線、ロ……Ni5重量%−残部Cuの特性曲
線、ハ……Ni2重量%−残部Cuの特性曲線、ニ…
…Ni1重量%−残部Cuの特性曲線、a……Ni1.0
重量%−Sn0.5重量%−P0.05重量%−残部Cuの
特性曲線、b……Ni1.2重量%−Sn0.9重量%−
P0.2重量%−残部Cuの特性曲線、c……Ni0.5重
量%−Sn0.5重量%−P0.01重量%−残部Cuの特
性曲線。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 Ni0.5〜3.0重量%、Sn0.5〜0.9重量%、P0.01
〜0.2重量%、残部Cuからなることを特徴とする
集積回路導体用銅ニツケル錫合金。 2 Ni0.5〜3.0重量%、Sn0.5〜0.9重量%、P0.01
〜0.2重量%、残部Cuからなる原料を溶解し鋳造
した後、通常の圧延を行い最終必要厚さから、60
%以上の加工率が、得られる厚さで360℃〜395℃
の温度で1時間焼鈍した後冷間圧延し、150℃〜
250℃の温度で1時間焼鈍して所要の特性を発揮
させることを特徴とする集積回路導体用銅ニツケ
ル錫合金の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10127380A JPS5727051A (en) | 1980-07-25 | 1980-07-25 | Copper nickel tin alloy for integrated circuit conductor and its manufacture |
US06/220,352 US4337089A (en) | 1980-07-25 | 1980-12-29 | Copper-nickel-tin alloys for lead conductor materials for integrated circuits and a method for producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10127380A JPS5727051A (en) | 1980-07-25 | 1980-07-25 | Copper nickel tin alloy for integrated circuit conductor and its manufacture |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21247287A Division JPS6379929A (ja) | 1987-08-26 | 1987-08-26 | 集積回路導体用銅ニッケル錫合金およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5727051A JPS5727051A (en) | 1982-02-13 |
JPS639007B2 true JPS639007B2 (ja) | 1988-02-25 |
Family
ID=14296269
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10127380A Granted JPS5727051A (en) | 1980-07-25 | 1980-07-25 | Copper nickel tin alloy for integrated circuit conductor and its manufacture |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4337089A (ja) |
JP (1) | JPS5727051A (ja) |
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---|---|---|---|---|
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JPS5793555A (en) * | 1980-12-02 | 1982-06-10 | Tamagawa Kikai Kinzoku Kk | Lead material for semiconductor |
JPS5816044A (ja) * | 1981-07-23 | 1983-01-29 | Mitsubishi Electric Corp | 銅基合金 |
JPS5949293B2 (ja) | 1982-06-05 | 1984-12-01 | 株式会社神戸製鋼所 | 電気電子部品用銅合金及びその製造法 |
KR840001426B1 (ko) * | 1982-10-20 | 1984-09-26 | 이영세 | 전기전자 부품용 동합금 및 동합금판의 제조방법 |
US4498121A (en) * | 1983-01-13 | 1985-02-05 | Olin Corporation | Copper alloys for suppressing growth of Cu-Al intermetallic compounds |
JPS59136439A (ja) * | 1983-01-26 | 1984-08-06 | Sanpo Shindo Kogyo Kk | 銅基合金 |
US5001546A (en) * | 1983-07-27 | 1991-03-19 | Olin Corporation | Clad metal lead frame substrates |
DE3347535C1 (de) * | 1983-12-30 | 1988-10-20 | Wieland-Werke Ag, 7900 Ulm | Niedriglegierte Kupferlegierung,Verfahren zu ihrer Herstellung sowie ihre Verwendung |
JPS60221541A (ja) * | 1984-04-07 | 1985-11-06 | Kobe Steel Ltd | 熱間加工性の優れた銅合金 |
DE3432226C1 (de) * | 1984-06-07 | 1985-08-22 | Wieland-Werke Ag, 7900 Ulm | Kupfer-Nickel-Zinn-Titan-Legierung,Verfahren zu ihrer Herstellung sowie ihre Verwendung |
EP0190386B1 (en) * | 1985-02-08 | 1988-02-17 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Copper-based alloy and lead frame made of it |
JPS6254048A (ja) * | 1985-09-02 | 1987-03-09 | Hitachi Metals Ltd | リ−ドフレ−ム用銅合金 |
JPS62161933A (ja) * | 1986-01-08 | 1987-07-17 | Nakasato Kk | 電気・電子機器用低価格電導性ばね用銅合金 |
AT386147B (de) * | 1986-04-16 | 1988-07-11 | Neumayer Karl | Verfahren zur herstellung von band- bzw. drahtfoermigem material |
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US5322575A (en) * | 1991-01-17 | 1994-06-21 | Dowa Mining Co., Ltd. | Process for production of copper base alloys and terminals using the same |
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DE4415067C2 (de) * | 1994-04-29 | 1996-02-22 | Diehl Gmbh & Co | Verfahren zur Herstellung einer Kupfer-Nickel-Silizium-Legierung und deren Verwendung |
KR0157257B1 (ko) * | 1995-12-08 | 1998-11-16 | 정훈보 | 석출물 성장 억제형 고강도, 고전도성 동합금 및 그 제조방법 |
EP1264905A3 (en) * | 1997-09-05 | 2002-12-18 | The Miller Company | Copper based alloy featuring precipitation hardening and solid-solution hardening |
CN1097095C (zh) * | 1997-09-05 | 2002-12-25 | 米勒公司 | 以沉淀硬化和固溶硬化为特征的铜基合金 |
US6471792B1 (en) | 1998-11-16 | 2002-10-29 | Olin Corporation | Stress relaxation resistant brass |
US6251199B1 (en) | 1999-05-04 | 2001-06-26 | Olin Corporation | Copper alloy having improved resistance to cracking due to localized stress |
JP4728535B2 (ja) * | 2001-09-11 | 2011-07-20 | 古河電気工業株式会社 | 電子電気機器用配線部品用の銅基合金板材 |
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JP5306591B2 (ja) * | 2005-12-07 | 2013-10-02 | 古河電気工業株式会社 | 配線用電線導体、配線用電線、及びそれらの製造方法 |
EP2340318B1 (de) * | 2008-10-31 | 2017-02-15 | Sundwiger Messingwerk GmbH & Co. KG | Kupfer-zinn-legierung, verbundwerkstoff und verwendung |
EP2451604B1 (en) * | 2009-07-10 | 2017-08-30 | Luvata Franklin, Inc. | Copper alloy for heat exchanger tube |
US20190033020A1 (en) * | 2017-07-27 | 2019-01-31 | United Technologies Corporation | Thin-walled heat exchanger with improved thermal transfer features |
CN109022900B (zh) * | 2018-08-17 | 2020-05-08 | 宁波博威合金材料股份有限公司 | 一种综合性能优异的铜合金及其应用 |
CN111172423B (zh) * | 2020-03-08 | 2021-10-29 | 沈阳有色金属研究所有限公司 | 一种白铜合金及其制备方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2155405A (en) * | 1938-04-28 | 1939-04-25 | Chase Brass & Copper Co | Electrical conductor |
US2375285A (en) * | 1943-01-22 | 1945-05-08 | Chase Brass & Copper Co | Spring |
-
1980
- 1980-07-25 JP JP10127380A patent/JPS5727051A/ja active Granted
- 1980-12-29 US US06/220,352 patent/US4337089A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4337089A (en) | 1982-06-29 |
JPS5727051A (en) | 1982-02-13 |
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