JPS6390030A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS6390030A JPS6390030A JP23458686A JP23458686A JPS6390030A JP S6390030 A JPS6390030 A JP S6390030A JP 23458686 A JP23458686 A JP 23458686A JP 23458686 A JP23458686 A JP 23458686A JP S6390030 A JPS6390030 A JP S6390030A
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、メッキ法、スパッタ法、蒸着法、イオンプレ
ーテインク法等の方法により、基板上に作製された磁気
記録用連続磁性金属膜の耐食性向上に関するものである
。
ーテインク法等の方法により、基板上に作製された磁気
記録用連続磁性金属膜の耐食性向上に関するものである
。
磁気記録に用いる記録媒体として、従来、磁性粉を基板
上に塗布したものが用いられてきたが、最近、高密度記
録が可能な記録媒体としてC0−Niスパッタ膜や%c
o−pメッキ膜等のいわゆる連続磁性金属膜を用いた磁
気記録媒体が実用化されつつある。
上に塗布したものが用いられてきたが、最近、高密度記
録が可能な記録媒体としてC0−Niスパッタ膜や%c
o−pメッキ膜等のいわゆる連続磁性金属膜を用いた磁
気記録媒体が実用化されつつある。
しかしながら、これら連続磁性金属膜は腐食されやすい
という欠点を有している。
という欠点を有している。
従来、この腐食の問題を解決するためには、昭和60年
度電子通信学会総合全国大会講演論文集1−199に述
べられているように、Cr等の高耐食性金属を含有した
磁性膜を用いるか、特願昭47−17253号に述べら
れているように、空気中熱酸化により表面酸化膜を設け
る方法が提案されている。
度電子通信学会総合全国大会講演論文集1−199に述
べられているように、Cr等の高耐食性金属を含有した
磁性膜を用いるか、特願昭47−17253号に述べら
れているように、空気中熱酸化により表面酸化膜を設け
る方法が提案されている。
しかしながら、高耐食性金属を含有せしめた磁性膜は飽
和磁束密度が小さくなるため、再生出力が小さい。また
、空気中熱酸化により設けた表面酸化膜は緻密ではない
ため高耐食性を得るためには、酸化膜の膜厚を厚くしな
ければならず、このため再生出力とくに高密度記録時の
再生出力が低下する。
和磁束密度が小さくなるため、再生出力が小さい。また
、空気中熱酸化により設けた表面酸化膜は緻密ではない
ため高耐食性を得るためには、酸化膜の膜厚を厚くしな
ければならず、このため再生出力とくに高密度記録時の
再生出力が低下する。
本発明の目的は上記した従来技術の欠点をなくし、再生
出力が大きく、シかも耐食性に秀れた連続磁性金属膜を
製造する方法を提供するものである。
出力が大きく、シかも耐食性に秀れた連続磁性金属膜を
製造する方法を提供するものである。
本発明者等は、連続磁性金属薄膜を有機溶媒に浸漬させ
、該溶媒中に強制的に空気あるいは酸素を導入すること
により薄くかつ緻密な酸化膜を形成できることを見出し
た。
、該溶媒中に強制的に空気あるいは酸素を導入すること
により薄くかつ緻密な酸化膜を形成できることを見出し
た。
なお、このようにして製造した磁性膜の機械的強度を向
上させるためには、該磁性膜上にさらにカーボン膜等の
保護膜分設けることも有効である。
上させるためには、該磁性膜上にさらにカーボン膜等の
保護膜分設けることも有効である。
本発明による酸化膜は従来の空気酸化による酸化膜にく
らべて耐食性に秀れ、しかも薄いために、従来問題であ
った連続磁性金属薄膜の高密度記録時の再生出力の低下
を減少せしめることが可能となる。
らべて耐食性に秀れ、しかも薄いために、従来問題であ
った連続磁性金属薄膜の高密度記録時の再生出力の低下
を減少せしめることが可能となる。
以下1本発明を実施例により具体的に説明する。
実施例1
外径130flφ、内径40mφ、厚さ1.9 wmの
kt円板上に、厚さ15μmのNiP膜を設けたものを
基板として用い、この基板上に厚さ0.2μmCr膜を
設けた後、厚さ0.06μmのCoyoNi3o 膜を
作製した。これら薄膜の作製法はともにマグネトロンス
パッタ法を用いた。用いたターゲットの直径は200o
+φであり、スパッタ時のAr圧は5mTorr%スパ
ッタ電力は1kWとした。
kt円板上に、厚さ15μmのNiP膜を設けたものを
基板として用い、この基板上に厚さ0.2μmCr膜を
設けた後、厚さ0.06μmのCoyoNi3o 膜を
作製した。これら薄膜の作製法はともにマグネトロンス
パッタ法を用いた。用いたターゲットの直径は200o
+φであり、スパッタ時のAr圧は5mTorr%スパ
ッタ電力は1kWとした。
つぎに、第1図に示すように、上記のようにして作製し
た円板1をトルエン溶液2中に浸漬させガス導入管3よ
り100mt/minの流量で空気をトルエン溶液中に
吹き込んだ。なお、空気吹込み中は、円板1を3 Or
pmの速度で回転させた。
た円板1をトルエン溶液2中に浸漬させガス導入管3よ
り100mt/minの流量で空気をトルエン溶液中に
吹き込んだ。なお、空気吹込み中は、円板1を3 Or
pmの速度で回転させた。
トルエン中空気酸化を行なわない試料と、トルエン中空
気酸化を行った試料の膜厚方向のオージェ分析を行い1
両者を比較した結果、酸化膜厚は〜50人であることが
わかった。
気酸化を行った試料の膜厚方向のオージェ分析を行い1
両者を比較した結果、酸化膜厚は〜50人であることが
わかった。
また、トルエン中空気酸化を行なわない試料とトルエン
中空気酸化を行った試料をともに温度60C1相対湿度
90チの雰囲気中に200時間放置し、飽和磁化の変化
を調べたところ、トルエン中空気酸化を行なわない試料
は飽和磁化が15チ減少したが、トルエン中空気酸化を
行った試料は飽和磁化の変化が全くなかった。
中空気酸化を行った試料をともに温度60C1相対湿度
90チの雰囲気中に200時間放置し、飽和磁化の変化
を調べたところ、トルエン中空気酸化を行なわない試料
は飽和磁化が15チ減少したが、トルエン中空気酸化を
行った試料は飽和磁化の変化が全くなかった。
つぎに、トルエン中空気酸化を行った円板に、さらにマ
グネトロンスパッタ法により0.02μmのカーボン膜
を設けた。
グネトロンスパッタ法により0.02μmのカーボン膜
を設けた。
このように、基板上にa Cr膜CoyoNiso膜。
トルエン中空気酸化膜およびカーボン膜を設けた磁気記
録媒体と、ギャップ長0.2μm、)ラック幅100μ
m、巻数12ターンのM n 7. nフェライトヘッ
ドを用い、ヘッド浮上量0.20μm、ヘッド−媒体量
相対速度20 m /9eOで記録再生実験を行った。
録媒体と、ギャップ長0.2μm、)ラック幅100μ
m、巻数12ターンのM n 7. nフェライトヘッ
ドを用い、ヘッド浮上量0.20μm、ヘッド−媒体量
相対速度20 m /9eOで記録再生実験を行った。
この結果、記録周波数0.1 M Hzにおける再生出
力は、2に20mVppであり* I)goは21 k
fciであった。この円板を3ケ月間室内放置後測定し
た誤答率は7X10−”であった。
力は、2に20mVppであり* I)goは21 k
fciであった。この円板を3ケ月間室内放置後測定し
た誤答率は7X10−”であった。
比較例1
実施例1と同一材質、同一形状の基板上に膜厚0.2μ
mのCr膜を設けた後、膜厚0.06μmのC0toN
4so膜を作製した。さらに膜厚0.02μmのカーボ
ン膜を設けた。これら薄膜の作製条件は実施例1に述べ
たものと同じである。
mのCr膜を設けた後、膜厚0.06μmのC0toN
4so膜を作製した。さらに膜厚0.02μmのカーボ
ン膜を設けた。これら薄膜の作製条件は実施例1に述べ
たものと同じである。
このようにして作製した記録媒体と実施例1で用いたの
と同じヘッドを用い、実施例1と同じ条件で測定したと
ころ、記録周波数0.1 M Hzにおける再生出力は
2.23mV、、であり、DgOは22kfciであっ
た。
と同じヘッドを用い、実施例1と同じ条件で測定したと
ころ、記録周波数0.1 M Hzにおける再生出力は
2.23mV、、であり、DgOは22kfciであっ
た。
この円板を3ケ月間室内放置後測定した後の誤答率は3
X10’であった。
X10’であった。
比較例2
実施例1と同一材質、同一形状の基板上に膜厚0.2μ
mのCr膜を設けた後、膜厚0.06μmのC076N
il(1膜を作製した。つぎにこの円板を。
mのCr膜を設けた後、膜厚0.06μmのC076N
il(1膜を作製した。つぎにこの円板を。
空気中で300Cに加熱し、そのまた1時間放置した。
その後、実施例1と同一の方法で表面酸化膜の測定を行
ったところ、膜厚は0.22μmであった。この試料を
温度60C1相対湿度90チの条件下に200hr放置
しても、飽和磁束密度の低下は認められなかった。ただ
し、表面酸化の際温度や時間を変化させ1表面酸化膜厚
を0.15μmとした場合には、飽和磁束密度は約10
チ低下した。
ったところ、膜厚は0.22μmであった。この試料を
温度60C1相対湿度90チの条件下に200hr放置
しても、飽和磁束密度の低下は認められなかった。ただ
し、表面酸化の際温度や時間を変化させ1表面酸化膜厚
を0.15μmとした場合には、飽和磁束密度は約10
チ低下した。
つぎに* 0070 N 1 so膜を表面酸化した円
板上に実施例1と同様に膜厚0.02μmのカーボン膜
を設けた。この円板と実施例1の磁気ヘッドを用い実施
例1の条件で記録再生実験を行ったところ。
板上に実施例1と同様に膜厚0.02μmのカーボン膜
を設けた。この円板と実施例1の磁気ヘッドを用い実施
例1の条件で記録再生実験を行ったところ。
0、1 M Hzでの再生出力は1.48 m V P
Fであり、Dsoはl 4 kfciであった。この
円板を3ケ月間室内放置後測定した後の誤答率は6X1
0−8であった。
Fであり、Dsoはl 4 kfciであった。この
円板を3ケ月間室内放置後測定した後の誤答率は6X1
0−8であった。
以上述べてきたように1本発明によると、再生出力、記
録密度特性をほとんど劣化させることなく、耐食性に秀
れた記録媒体を製造することができる。
録密度特性をほとんど劣化させることなく、耐食性に秀
れた記録媒体を製造することができる。
第1図は、本発明において用いた1表面酸化膜作製装置
の概略図である。 1・・・記録媒体、2・・・有機溶媒、3・・・空気ま
たは酸素ガス導入管。
の概略図である。 1・・・記録媒体、2・・・有機溶媒、3・・・空気ま
たは酸素ガス導入管。
Claims (1)
- 1、基板上に作製した連続磁性金属膜を有機溶媒中に浸
漬させ、該溶媒に空気あるいは酸素を強制的に導入する
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23458686A JPS6390030A (ja) | 1986-10-03 | 1986-10-03 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23458686A JPS6390030A (ja) | 1986-10-03 | 1986-10-03 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6390030A true JPS6390030A (ja) | 1988-04-20 |
Family
ID=16973342
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23458686A Pending JPS6390030A (ja) | 1986-10-03 | 1986-10-03 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6390030A (ja) |
-
1986
- 1986-10-03 JP JP23458686A patent/JPS6390030A/ja active Pending
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