JPS6389463A - 高熱伝導性窒化アルミニウム焼結体 - Google Patents

高熱伝導性窒化アルミニウム焼結体

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JPS6389463A
JPS6389463A JP61229835A JP22983586A JPS6389463A JP S6389463 A JPS6389463 A JP S6389463A JP 61229835 A JP61229835 A JP 61229835A JP 22983586 A JP22983586 A JP 22983586A JP S6389463 A JPS6389463 A JP S6389463A
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JP
Japan
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sintered body
raw material
less
aluminum nitride
thermal conductivity
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JP61229835A
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JPH0456793B2 (ja
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羽鳥 雅一
水野谷 信幸
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] ′        (産業上の利用分野)本発明は高熱
伝導性のA9.N焼結体に関し、更に詳しくは、熱伝導
率100W/mIIk以上の高熱伝導性であるにもかか
わらす透光性を有しないA文N焼結体に関する。
(従来の技術) 例えばレーザ受光素子のような光半導体素子は、Al2
O3基板のような不透明なセラミックス基板の上に光半
導体チップを搭載して構成されている。この場合、半導
体は高水準の光エネルギーが入力されるためその温度は
非常に高温となる。
この発生する熱量は系外に放散せしめることが必要であ
るが、そのためには基板を高熱伝導性の材料で構成する
ことが求められる。
しかしながら、前記したA1203は熱伝導性が小さく
、近時ますます増大する傾向にある半導体からの発熱量
を適正に放熱する材料としては不適切である。そのため
、最近では、熱伝導率の大きいAMN製基板基板用され
るに到っている。
(発明が解決しようとする問題点) AIN基板を用いた場合、その熱伝導率が大きければ大
きいほどその放熱性は良好である。しかしながら、A交
N焼結体はその熱伝導率が太きくなるにつれて、透光性
を発現するという性質を有している。そして、この透光
性という性質は。
光半導体素子の基板にとっては不適切な性質である。
したがって、A見N焼結体を基板として用いた場合、そ
の熱伝導率を大たらしめて放熱性を向上せしめると、透
光性が発現して基板としては不適当であるという相反す
る問題が生じてしまう。
本発明は、上記した問題を解決し、熱伝導率が100W
/mΦに以上であるにもかかわらす透光性を有しないA
IN焼結体の提供を目的とする。
[発明の構成] (問題点を解決するための手段) 本発明者は上記目的を達成するために鋭意研究を重ね、
その中で原料のAIN粉に関して多角的に検討を加えた
結果、AfLN原料粉の形状。
表面特性や含有されている不純物の種類、量などが大き
な影響を与えるとの事実を見出し、高熱伝導性と非透光
性を併有する焼結体の製造を可能たらしめる原料の必要
条件を確認して本発明のA交N焼結体を開発するに到っ
た。
すなわち、本発明の高熱伝導性A文N焼結体は、A文N
原料粉のBET比表面積が4.1rIT′/g以下であ
り、かつ、該原料粉中の酸素含有量。
鉄含有量、ケイ素含有量及び炭素含有量がそれぞれ、1
5000ppm以下、350ppm以下。
100 ppm以下、300ppm以下であることを特
徴とする。
本発明のA文N焼結体はその原料であるA文N粉に特徴
を有するものである。
すなわち、まず、BET法で測定した比表面積が4.L
rn’/g以下の粉体である。この比表面積は主として
焼結体の緻密化と、有色性に影響を与える要件である。
これがあまり大きい、すなわち表面活性に富む原料粉は
吸着能が大きいため、焼結体の製造過程で後述する不純
物のうちの大気中の酸素を取りこんでしまい、焼結体の
熱伝導率を低下せしめてしまう、好ましくは、1〜4d
1gのAfLN粉体である。
このAIN原料粉は上記した表面特性を有すると同時に
、不純物である酸素、鉄、ケイ素、炭素の含有量がそれ
ぞれ15000pp+s以下、350ppm以下、10
0pp履以下、300ppm以下のものである。
一般に、AIN粉にはその製造過程で各種の不純物が取
り込まれ、その不純物の種類、量は多種多様である0本
発明の原料粉として用いるA文N粉は、その不純物とし
て酸素、鉄、ケイ素、炭素を上記した量含有するもので
あればよい、とくに、酸素は上記したように焼結体の製
造過程で吸着されるものであるから、原料粉の精製とい
うことよりむしろ原料粉の粒径1表面状態の管理という
点から管理されるべきである。
いずれにしても、上記4種の不純物がAIN粉に上記範
囲の量を逸脱して含有されていると、得られた焼結体は
その焼結密度及び熱伝導率が低下してしまう。
本発明にかかるA見N原料粉は例えば次のようにして製
造することができる。AINの製造に関しては、現在、
直接法と、AM203還元法の2種ある。今回、使用し
た原料粉は、直接チッ化法によるもので、この製法が好
ましい。それは以下の反応に基づいて製造される。
2A党十N2→2A立N 本発明のAfLN焼結体は、用いる原料粉が上記したA
IN粉であることを除いては従来から適用されている方
法で製造することができる。
その代表的プロセスを以下に述べると、まず。
AIN原料粉とY2O3のような焼結助剤の粉とを例え
ばボールミルで湿式混合したのち、ここに更にアクリル
系樹脂のようなバインダを添加し、得られた混合物をプ
レス成形、シート成形してグリーン成形体とする。つい
で、このグリーン成形体を低温の炉内で加熱してバイン
ダを熱分解除去したのち、焼結炉で所定時間、所定の温
度で焼結する。
(発明の実施例) 実施例1〜3.比較例1〜2 表に示したBET比表面積、不純物を含有する各種のA
文N原料粉を用意した。
これら各原料粉97重量部と平均粒径0.8gのY2O
3粉3重量部とをボールミル内で充分に湿式混合し、更
にここに5重量部のパラフィン系バインダーを添加した
のち、得られた混合物を圧100 kg/ cm2でプ
レス成形して縦37mm横371厚み3■の成形板を得
た。
この成形板を窒素雰囲気炉において温度700℃、3時
間脱脂し、ついで窒素雰囲気の焼結炉において、185
0°0,2時間焼結した。縦30vs930m厘厚み1
.5m国の焼結体が得られた。
得られた各焼結板につき、レーザーフラッシュ法で熱伝
導率を測定した。また透光性に関しては、焼結板の下面
に30Wの小ランプを当接し上面から肉眼観察して判定
した0以上の結果を一括して表に示した。
[発明の効果] 以上の説明で明らかなように、本発明のA交N焼結体は
、熱伝導率が大きいにもかかわらず透光性を具備しない
、これは、表の結果で明示されているように、原料とし
たAIN粉のBET比表面積、不純物の量の影響である
本発明のAfLN焼結体は、高熱伝導性を有すると同時
に非透光性であるので1例えばレーザ受光素子の基板な
ど光半導体素子に用いて有用である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  窒化アルミニウム原料粉のBET比表面積が4.1m
    ^2/g以下であり、かつ、該原料粉中の酸素含有量、
    鉄含有量、ケイ素含有量及び炭素含有量がそれぞれ、1
    5000ppm以下、350ppm以下、100ppm
    以下、300ppm以下であることを特徴とする高熱伝
    導性窒化アルミニウム焼結体。
JP61229835A 1986-09-30 1986-09-30 高熱伝導性窒化アルミニウム焼結体 Granted JPS6389463A (ja)

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JP61229835A JPS6389463A (ja) 1986-09-30 1986-09-30 高熱伝導性窒化アルミニウム焼結体

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JPS6389463A true JPS6389463A (ja) 1988-04-20
JPH0456793B2 JPH0456793B2 (ja) 1992-09-09

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0342595A2 (en) * 1988-05-16 1989-11-23 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Sintered body of aluminium nitride

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP0342595A2 (en) * 1988-05-16 1989-11-23 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Sintered body of aluminium nitride

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