JPS6384948U - - Google Patents

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JPS6384948U
JPS6384948U JP18014686U JP18014686U JPS6384948U JP S6384948 U JPS6384948 U JP S6384948U JP 18014686 U JP18014686 U JP 18014686U JP 18014686 U JP18014686 U JP 18014686U JP S6384948 U JPS6384948 U JP S6384948U
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JP
Japan
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wafer
chamber
vacuum chamber
processing
atmosphere side
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JP18014686U
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図は、この考案の一実施例に係るエンドス
テーシヨンを示す概略平断面図である。第2図は
、第1図の線―に沿う拡大断面図である。第
3図は、従来のエンドステーシヨンの一例を示す
概略平断面図である。 2……処理室、4……イオンビーム、6……プ
ラテン、10……ウエハ、18a,18b……カ
セツト、26a〜26c……昇降台、28a,2
8b……予備真空室、30,38……アーム、3
6……アーム式搬送機構、32a〜32c……弁
体、34a,34b……真空弁。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 ウエハを大気側から第1の予備真空室を経て処
    理室内へ搬入し、処理後のウエハを第2の予備真
    空室を経て大気側へ搬出する構造のエンドステー
    シヨンにおいて、 処理室内の所定の中心点から互いにほぼ等距離
    かつほぼ等角度の所に設けられていて、供給され
    たウエハをそれぞれ昇降させる第1ないし第3の
    昇降手段と、 処理室の天井部であつて第1および第2の昇降
    手段の上方に位置する所にそれぞれ隣接された第
    1および第2の予備真空室と、 処理室内にあつて前記中心点を中心に回転させ
    られる3本一体形のアームであつて、各先端部に
    、各々がウエハを載置可能であり第1または第2
    の昇降手段によつて昇降させられてそれと共働し
    て第1または第2の予備真空室と処理室間を仕切
    る真空弁の作用をする弁体をそれぞれ有するもの
    と、 第1および第2の予備真空室と大気側とをそれ
    ぞれ仕切る二つの真空弁と、 大気側から第1の予備真空室内へウエハを搬入
    して、それを第1の昇降手段上に載置する搬送手
    段と、 第2の予備真空室内で第2の昇降手段からウエ
    ハを受け取つてそれを大気側へ搬出する搬送手段
    と、 処理室内にあつて第3の昇降手段とウエハの処
    理場所間でウエハを移載する搬送手段とを備える
    ことを特徴とするイオン処理装置用エンドステー
    シヨン。
JP18014686U 1986-11-21 1986-11-21 Pending JPS6384948U (ja)

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JP18014686U JPS6384948U (ja) 1986-11-21 1986-11-21

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JP18014686U JPS6384948U (ja) 1986-11-21 1986-11-21

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JPS6384948U true JPS6384948U (ja) 1988-06-03

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JP18014686U Pending JPS6384948U (ja) 1986-11-21 1986-11-21

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