JPH0680718B2 - エンドステ−シヨン - Google Patents
エンドステ−シヨンInfo
- Publication number
- JPH0680718B2 JPH0680718B2 JP59226582A JP22658284A JPH0680718B2 JP H0680718 B2 JPH0680718 B2 JP H0680718B2 JP 59226582 A JP59226582 A JP 59226582A JP 22658284 A JP22658284 A JP 22658284A JP H0680718 B2 JPH0680718 B2 JP H0680718B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- vacuum
- carry
- wafer
- chambers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、大気中のウェハを真空の搬入室を経て真空
の処理室に搬送し、そこでイオン注入等の処理の後真空
の搬出室を経て大気中に取り出すエンドステーションに
関する。
の処理室に搬送し、そこでイオン注入等の処理の後真空
の搬出室を経て大気中に取り出すエンドステーションに
関する。
第４図は、従来のエンドステーションの概略を示す平面
図である。このエンドステーションは、一つのウェハ搬
送ラインから成り、真空度が例えば10-5〜10-7Torrの処
理室２と、処理室２への大気の直接の流入を防止するた
めの真空度が例えば10-1Torr〜10-3Torrの予備室である
搬入室１および搬出室３から構成されている。搬入室
１、処理室２および搬出室３はそれぞれ真空排気系を有
している。大気と搬入室１との間、搬入室１と処理室２
との間、処理室２と搬出室３との間および搬出室３と大
気との間には、それぞれ、ゲートバルブ４、５、６、７
が設けられており、これによってウェハＷの搬送時以外
は各搬入室１、処理室２および搬出室３の真空気密が独
自に保たれる。尚ウェハＷの搬送は、搬送ベルト８、
９、10、11、12によって行われる。
図である。このエンドステーションは、一つのウェハ搬
送ラインから成り、真空度が例えば10-5〜10-7Torrの処
理室２と、処理室２への大気の直接の流入を防止するた
めの真空度が例えば10-1Torr〜10-3Torrの予備室である
搬入室１および搬出室３から構成されている。搬入室
１、処理室２および搬出室３はそれぞれ真空排気系を有
している。大気と搬入室１との間、搬入室１と処理室２
との間、処理室２と搬出室３との間および搬出室３と大
気との間には、それぞれ、ゲートバルブ４、５、６、７
が設けられており、これによってウェハＷの搬送時以外
は各搬入室１、処理室２および搬出室３の真空気密が独
自に保たれる。尚ウェハＷの搬送は、搬送ベルト８、
９、10、11、12によって行われる。
第５図は、第４図の装置の概略動作を示すタイムチャー
トである。ウェハＷは、大気中に置かれた複数枚のウェ
ハを装着したキャリアまたは他の搬送ラインから１枚ず
つ搬入室１に搬入され（図中（ｃ））、搬入室１を真空
排気（例えば真空荒引き）後（図中（ｄ））処理室２に
搬送され（図中（ｂ））、処理室２においてイオン注入
等の処理が行われる（図中（ａ））。その後ウェハＷ
は、搬出室３へ搬送され（図中（ｂ））、搬出室３をガ
スリークの後再び大気中へ搬出される（図中（ｃ））。
トである。ウェハＷは、大気中に置かれた複数枚のウェ
ハを装着したキャリアまたは他の搬送ラインから１枚ず
つ搬入室１に搬入され（図中（ｃ））、搬入室１を真空
排気（例えば真空荒引き）後（図中（ｄ））処理室２に
搬送され（図中（ｂ））、処理室２においてイオン注入
等の処理が行われる（図中（ａ））。その後ウェハＷ
は、搬出室３へ搬送され（図中（ｂ））、搬出室３をガ
スリークの後再び大気中へ搬出される（図中（ｃ））。
尚、以上のようなエンドステーションの一例が特開昭57
−205955号公報に示されている。
−205955号公報に示されている。
上述のようなエンドステーションでは、ウェハの処理能
力（単位時間当りの処理枚数）は、主として、処理室２
における注入時間および搬入室１、搬出室３における真
空排気（例えば真空荒引き）時間によって決定される。
例えば、ウェハ交換時間を７秒とした場合、注入時間が
10秒の場合は処理能力は200枚／時程度であり、注入時
間が５秒の場合は処理能力は300枚／時程度である。
力（単位時間当りの処理枚数）は、主として、処理室２
における注入時間および搬入室１、搬出室３における真
空排気（例えば真空荒引き）時間によって決定される。
例えば、ウェハ交換時間を７秒とした場合、注入時間が
10秒の場合は処理能力は200枚／時程度であり、注入時
間が５秒の場合は処理能力は300枚／時程度である。
ところが近年のイオンビームの大面積、大電流化に伴い
注入時間の短縮化（例えば１〜２秒）が可能になってき
たが、上述したエンドステーションでは、たとえ注入時
間が５秒以下となっても処理能力は主として搬入室１、
搬出室３の真空引き（例えば真空荒引き）時間によって
制限され、処理能力を大幅に改善させることは非常に難
しい（第５図参照）。この場合真空引き（例えば真空荒
引き）時間を非常に短くすることは、排気系が巨大にな
りスペース、コスト等の面から非現実的である。
注入時間の短縮化（例えば１〜２秒）が可能になってき
たが、上述したエンドステーションでは、たとえ注入時
間が５秒以下となっても処理能力は主として搬入室１、
搬出室３の真空引き（例えば真空荒引き）時間によって
制限され、処理能力を大幅に改善させることは非常に難
しい（第５図参照）。この場合真空引き（例えば真空荒
引き）時間を非常に短くすることは、排気系が巨大にな
りスペース、コスト等の面から非現実的である。
従ってこの発明は、真空引き（例えば真空荒引き）時間
が溢路になっている点を解決し、ウェハの処理能力を向
上させることを目的とする。
が溢路になっている点を解決し、ウェハの処理能力を向
上させることを目的とする。
この発明のエンドステーションは、第１および第２の搬
入室と、真空に排気される部屋であって、第１と第２の
搬入室の間に設けられていて両部屋に真空弁を介して隣
接すると共に処理室に直接通じており、かつ第１および
第２の搬入室からウェハを交互に受け取りそれを処理室
に搬送する機構を有する第１の方向制御室と、第１およ
び第２の搬出室と、真空に排気される部屋であって、第
１と第２の搬出室の間に設けられていて両部屋に真空弁
を介して隣接すると共に処理室に直接通じており、かつ
処理室からウェハを受け取りそれを第１および第２の搬
出室に交互に搬送する機構を有する第２の方向制御室と
を備えることを特徴とする。
入室と、真空に排気される部屋であって、第１と第２の
搬入室の間に設けられていて両部屋に真空弁を介して隣
接すると共に処理室に直接通じており、かつ第１および
第２の搬入室からウェハを交互に受け取りそれを処理室
に搬送する機構を有する第１の方向制御室と、第１およ
び第２の搬出室と、真空に排気される部屋であって、第
１と第２の搬出室の間に設けられていて両部屋に真空弁
を介して隣接すると共に処理室に直接通じており、かつ
処理室からウェハを受け取りそれを第１および第２の搬
出室に交互に搬送する機構を有する第２の方向制御室と
を備えることを特徴とする。
第１の方向制御室によって第１および第２の搬入室から
のウェハは交互に処理室に搬送され、かつ、第２の方向
制御室によって処理室からのウェハは第１および第２の
搬出室に交互に搬送される。この場合、第１および第２
の搬入室並びに第１および第２の搬出室の真空引き（例
えば真空荒引き）は独立に（又は一部共通して）行うこ
とができる。これによって、処理能力向上の溢路となっ
ている真空引き（例えば真空荒引き）時間が等価的に短
縮される。
のウェハは交互に処理室に搬送され、かつ、第２の方向
制御室によって処理室からのウェハは第１および第２の
搬出室に交互に搬送される。この場合、第１および第２
の搬入室並びに第１および第２の搬出室の真空引き（例
えば真空荒引き）は独立に（又は一部共通して）行うこ
とができる。これによって、処理能力向上の溢路となっ
ている真空引き（例えば真空荒引き）時間が等価的に短
縮される。
第１図は、この発明の一実施例の概略を示す平面図であ
る。このエンドステーションは、処理室を共通する２系
統のウェハ搬送ラインから成る。即ち、このエンドステ
ーションは、真空度が例えば10-1Torr〜10-3Torrの第１
の搬入室、例えば搬入室20および第２の搬入室、例えば
搬入室30と、第１の方向制御室、例えば方向制御室70
と、真空度が例えば10-5〜10-7Torrの共通の処理室60
と、第２の方向制御室、例えば方向制御室80と、真空度
が例えば10-1Torr〜10-3Torrの第１の搬出室、例えば搬
出室40および第２の搬出室、例えば搬出室50とから構成
されている。
る。このエンドステーションは、処理室を共通する２系
統のウェハ搬送ラインから成る。即ち、このエンドステ
ーションは、真空度が例えば10-1Torr〜10-3Torrの第１
の搬入室、例えば搬入室20および第２の搬入室、例えば
搬入室30と、第１の方向制御室、例えば方向制御室70
と、真空度が例えば10-5〜10-7Torrの共通の処理室60
と、第２の方向制御室、例えば方向制御室80と、真空度
が例えば10-1Torr〜10-3Torrの第１の搬出室、例えば搬
出室40および第２の搬出室、例えば搬出室50とから構成
されている。
搬入室20および30は、それぞれ、第４図で示した従来の
ものと同様であり、搬送ベルト22、32およびゲートバル
ブ（真空弁）23、24、33、34が設けられており、かつ入
口部には搬送ベルト21、31が設けられており、ウェハＷ
は大気中から１枚ずつ搬入される。搬出室40および50
も、それぞれ第４図に示した従来のものと同様であり、
ウェハＷは大気中に１枚ずつ搬出される。
ものと同様であり、搬送ベルト22、32およびゲートバル
ブ（真空弁）23、24、33、34が設けられており、かつ入
口部には搬送ベルト21、31が設けられており、ウェハＷ
は大気中から１枚ずつ搬入される。搬出室40および50
も、それぞれ第４図に示した従来のものと同様であり、
ウェハＷは大気中に１枚ずつ搬出される。
方向制御室70および80は、それぞれ、搬入室20と搬入室
30との間、および搬出室40と搬出室50との間に設けられ
ており、かつゲートバルブ等を介さずに処理室60に直接
通じており、これによって処理室60と同一の真空度に保
たれている。方向制御室70においては、搬入室20、30間
の搬送ベルト71および処理室60への搬送ベルト72が交差
しており、一方の搬送ベルト、例えば搬送ベルト71は上
下駆動機構（図示省略）により昇降させられる。また、
搬送ベルト71は逆回転可能であり、これによってウェハ
Ｗを搬送ベルト22および32のいずれからでも受け取るこ
とができる。
30との間、および搬出室40と搬出室50との間に設けられ
ており、かつゲートバルブ等を介さずに処理室60に直接
通じており、これによって処理室60と同一の真空度に保
たれている。方向制御室70においては、搬入室20、30間
の搬送ベルト71および処理室60への搬送ベルト72が交差
しており、一方の搬送ベルト、例えば搬送ベルト71は上
下駆動機構（図示省略）により昇降させられる。また、
搬送ベルト71は逆回転可能であり、これによってウェハ
Ｗを搬送ベルト22および32のいずれからでも受け取るこ
とができる。
第２図は、第１図の線II−IIに沿う部分断面図であり、
上昇位置の搬送ベルトを符号71で示し、降下位置の搬送
ベルトを符号71′で示す。上昇位置の搬送ベルト71と搬
送ベルト22および32とは同レベルにあり、この状態でウ
ェハＷを搬送ベルト22または32から受け取る。搬送ベル
ト72は降下位置の搬送ベルト71′よりも上に位置してお
り、搬送ベルト72と搬送ベルト61は同レベルにあり、こ
の状態でウェハＷを処理室60に搬送する。このようにし
て方向制御室70は、搬入室20および搬入室30からウェハ
Ｗを交互に受取りそれを処理室60へ搬送する。
上昇位置の搬送ベルトを符号71で示し、降下位置の搬送
ベルトを符号71′で示す。上昇位置の搬送ベルト71と搬
送ベルト22および32とは同レベルにあり、この状態でウ
ェハＷを搬送ベルト22または32から受け取る。搬送ベル
ト72は降下位置の搬送ベルト71′よりも上に位置してお
り、搬送ベルト72と搬送ベルト61は同レベルにあり、こ
の状態でウェハＷを処理室60に搬送する。このようにし
て方向制御室70は、搬入室20および搬入室30からウェハ
Ｗを交互に受取りそれを処理室60へ搬送する。
方向制御室80も方向制御室70と同様の機構を有し、処理
室60からウェハＷを受取りそれを搬出室40および搬出室
50へ交互に搬送する。この場合、ウェハＷを搬出室40と
搬出室50のどちらへ搬送するかは、予めプログラムで定
めておくことも可能であり、或いは搬出室40および搬出
室50の真空度を検出して早く真空度が所望値になった方
へ搬送することも可能である。尚、上記の搬送制御は、
搬入室20および搬入室30についても同様である。
室60からウェハＷを受取りそれを搬出室40および搬出室
50へ交互に搬送する。この場合、ウェハＷを搬出室40と
搬出室50のどちらへ搬送するかは、予めプログラムで定
めておくことも可能であり、或いは搬出室40および搬出
室50の真空度を検出して早く真空度が所望値になった方
へ搬送することも可能である。尚、上記の搬送制御は、
搬入室20および搬入室30についても同様である。
搬入室20、30、搬出室40、50および処理室60は、それぞ
れ独立した真空排気系を有する。但し、搬入室20、30お
よび搬出室40、50の真空引き系は、排気時期が完全に一
致する部屋については、或いは排気時期が少しも重複し
ない部屋についてはバルブ切り換えにより、それぞれ共
用可能である。
れ独立した真空排気系を有する。但し、搬入室20、30お
よび搬出室40、50の真空引き系は、排気時期が完全に一
致する部屋については、或いは排気時期が少しも重複し
ない部屋についてはバルブ切り換えにより、それぞれ共
用可能である。
第３図は、第１図の装置の動作の一例を示すタイミング
チャートである。制御手段（図示省略）によりこのよう
な制御が行われる。この場合、ウェハＷの位置検出、各
部屋の真空度検出等は、エンドステーションに設けられ
たフォトセンサ、真空度計等で行われる。
チャートである。制御手段（図示省略）によりこのよう
な制御が行われる。この場合、ウェハＷの位置検出、各
部屋の真空度検出等は、エンドステーションに設けられ
たフォトセンサ、真空度計等で行われる。
この発明の動作の一例を第３図に従って説明すると、ま
ず搬入室20に窒素ガスを入れてガスリークさせ大気圧に
し（図中（ａ））、そこへウェハＷを１枚搬入し（図中
（ｂ））、搬入室20の真空引き（例えば真空荒引き）を
行う（図中（ｃ））。真空引き（例えば真空荒引き）が
完了するとウェハＷを方向制御室70へ搬送する（図中
（ｄ））。その後ウェハＷを待機場所73へ搬送する（図
中（ｅ））と同時に、搬入室20のガスリークが行われ
（図中（ａ））そこで次の動作が開始される。ウェハＷ
はその搬送ベルト61によって注入場所62へ搬送され（図
中（ｆ））、そこでイオン注入等の処理が行われる（図
中（ｇ））。この場合のイオンビームは、イオン源（図
示省略）から第１図の紙面に垂直に飛来してくるが、ウ
ェハＷを立てらせる等すれば紙面に平行に飛来してきて
もよい。処理が完了したウェハＷは方向制御室80へ搬送
され（図中（ｈ））、更に搬出室40へ搬送され（図中
（ｉ））、搬出室40のガスリーク（図中（ｊ））の後、
ウェハＷは大気中に搬出される（図中（ｋ））。その後
搬出室40の真空引き（例えば真空荒引き）が行われる
（図中（ｌ））。以後同様の動作が繰り返され、かつ他
の搬送ラインにおいても同様の動作が並行して行われて
いる。
ず搬入室20に窒素ガスを入れてガスリークさせ大気圧に
し（図中（ａ））、そこへウェハＷを１枚搬入し（図中
（ｂ））、搬入室20の真空引き（例えば真空荒引き）を
行う（図中（ｃ））。真空引き（例えば真空荒引き）が
完了するとウェハＷを方向制御室70へ搬送する（図中
（ｄ））。その後ウェハＷを待機場所73へ搬送する（図
中（ｅ））と同時に、搬入室20のガスリークが行われ
（図中（ａ））そこで次の動作が開始される。ウェハＷ
はその搬送ベルト61によって注入場所62へ搬送され（図
中（ｆ））、そこでイオン注入等の処理が行われる（図
中（ｇ））。この場合のイオンビームは、イオン源（図
示省略）から第１図の紙面に垂直に飛来してくるが、ウ
ェハＷを立てらせる等すれば紙面に平行に飛来してきて
もよい。処理が完了したウェハＷは方向制御室80へ搬送
され（図中（ｈ））、更に搬出室40へ搬送され（図中
（ｉ））、搬出室40のガスリーク（図中（ｊ））の後、
ウェハＷは大気中に搬出される（図中（ｋ））。その後
搬出室40の真空引き（例えば真空荒引き）が行われる
（図中（ｌ））。以後同様の動作が繰り返され、かつ他
の搬送ラインにおいても同様の動作が並行して行われて
いる。
このように、このエンドステーションにおいては、二つ
の搬送ラインにおいて搬入室20、30および搬出室40、50
での真空引き（例えば真空荒引き）は独立に（または一
部共通して）行うことが可能な為、二つの搬送ラインか
ら交互にウェハＷを搬送して処理することにより、処理
能力向上の妨げとなっている真空引き（例えば真空荒引
き）時間を等価的に短縮することができる。例えば第３
図において各部屋20、30、40、50の真空引き（例えば真
空荒引き）時間が従来と同程度の時間、例えば６〜７秒
程度であっても、イオン注入時間が１〜２秒程度におい
ては、期間Ｔは13秒程度となる。この期間中ににイオン
注入が２回行われているから、処理能力は500枚／時以
上となる。
の搬送ラインにおいて搬入室20、30および搬出室40、50
での真空引き（例えば真空荒引き）は独立に（または一
部共通して）行うことが可能な為、二つの搬送ラインか
ら交互にウェハＷを搬送して処理することにより、処理
能力向上の妨げとなっている真空引き（例えば真空荒引
き）時間を等価的に短縮することができる。例えば第３
図において各部屋20、30、40、50の真空引き（例えば真
空荒引き）時間が従来と同程度の時間、例えば６〜７秒
程度であっても、イオン注入時間が１〜２秒程度におい
ては、期間Ｔは13秒程度となる。この期間中ににイオン
注入が２回行われているから、処理能力は500枚／時以
上となる。
尚、このエンドステーションにおいては、処理室が共通
な為一つの処理設備でよく、しかも処理室は一つの搬送
ラインを有するエンドステーションと同じであるから構
造が複雑になることはない。また、方向制御室70、80で
の搬送機構を除いて従来と同様の搬送機構が適用でき、
しかも２系統の搬送ラインは略同様の動作を行う為これ
の制御系は同一のものが使用できる。また、この実施例
のように方向制御室70には処理室60で処理するためのウ
ェハＷの待機場所73を設けることができる故、ウェハＷ
の搬送時間に伴う処理能力の減少を防ぐことができる。
更に、ウェハＷは１枚ずつ搬送するため、他の装置との
搬送ラインの結合により連続処理が可能である。尚、ウ
ェハＷの搬送は、上記のようにベルトに限定されること
なく、ローラ、チェーン、ギヤ等によって行っても良
い。
な為一つの処理設備でよく、しかも処理室は一つの搬送
ラインを有するエンドステーションと同じであるから構
造が複雑になることはない。また、方向制御室70、80で
の搬送機構を除いて従来と同様の搬送機構が適用でき、
しかも２系統の搬送ラインは略同様の動作を行う為これ
の制御系は同一のものが使用できる。また、この実施例
のように方向制御室70には処理室60で処理するためのウ
ェハＷの待機場所73を設けることができる故、ウェハＷ
の搬送時間に伴う処理能力の減少を防ぐことができる。
更に、ウェハＷは１枚ずつ搬送するため、他の装置との
搬送ラインの結合により連続処理が可能である。尚、ウ
ェハＷの搬送は、上記のようにベルトに限定されること
なく、ローラ、チェーン、ギヤ等によって行っても良
い。
以上のようにこの発明によれば、処理能力向上の妨げと
なっている搬出入室における真空引き時間を等価的に短
縮でき、これによってウェハの処理能力を大幅に向上さ
せることができる。
なっている搬出入室における真空引き時間を等価的に短
縮でき、これによってウェハの処理能力を大幅に向上さ
せることができる。
第１図は、この発明の一実施例の概略を示す平面図であ
る。第２図は、第１図の線II−IIに沿う部分断面図であ
る。第３図は、第１図の装置の動作の一例を示すタイム
チャートである。第４図は、従来のエンドステーション
の概略を示す平面図である。第５図は、第４図の装置の
概略動作を示すタイムチャートである。 Ｗ…ウェハ、20,30…搬入室、40,50…搬出室、60…処理
室、70,80…方向制御室
る。第２図は、第１図の線II−IIに沿う部分断面図であ
る。第３図は、第１図の装置の動作の一例を示すタイム
チャートである。第４図は、従来のエンドステーション
の概略を示す平面図である。第５図は、第４図の装置の
概略動作を示すタイムチャートである。 Ｗ…ウェハ、20,30…搬入室、40,50…搬出室、60…処理
室、70,80…方向制御室
Claims (1)
- 【請求項１】大気中のウェハを真空に排気される搬入室
を経て真空に排気される処理室に搬送し、そこで処理の
後、真空に排気される搬出室を経て大気中に取り出すエ
ンドステーションにおいて、第１および第２の搬入室
と、真空に排気される部屋であって、第１と第２の搬入
室の間に設けられていて両部屋に真空弁を介して隣接す
ると共に処理室に直接通じており、かつ第１および第２
の搬入室からウェハを交互に受け取りそれを処理室に搬
送する機構を有する第１の方向制御室と、第１および第
２の搬出室と、真空に排気される部屋であって、第１と
第２の搬出室の間に設けられていて両部屋に真空弁を介
して隣接すると共に処理室に直接通じており、かつ処理
室からウェハを受け取りそれを第１および第２の搬出室
に交互に搬送する機構を有する第２の方向制御室とを備
えることを特徴とするエンドステーション。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59226582A JPH0680718B2 (ja) | 1984-10-27 | 1984-10-27 | エンドステ−シヨン |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59226582A JPH0680718B2 (ja) | 1984-10-27 | 1984-10-27 | エンドステ−シヨン |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61104610A JPS61104610A (ja) | 1986-05-22 |
| JPH0680718B2 true JPH0680718B2 (ja) | 1994-10-12 |
Family
ID=16847428
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59226582A Expired - Lifetime JPH0680718B2 (ja) | 1984-10-27 | 1984-10-27 | エンドステ−シヨン |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0680718B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013236006A (ja) * | 2012-05-10 | 2013-11-21 | Showa Shinku:Kk | 回転導入機構を備えた真空装置 |
-
1984
- 1984-10-27 JP JP59226582A patent/JPH0680718B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013236006A (ja) * | 2012-05-10 | 2013-11-21 | Showa Shinku:Kk | 回転導入機構を備えた真空装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61104610A (ja) | 1986-05-22 |
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