JPS6381473A - 感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産朶よΩ利ｍ分野 本発明は、電荷発生層と電荷輸送層とを有する感光体に
関する。

従米挾術 カールソン法の発明以来、電子写真の応用分野は著しい
発展を続け、電子写真用感光体にも様々な材料が開発さ
れ実用化きれてきた。

従来用いられて来た電子写真感光体材料の主なものとし
ては、非晶質セレン、セレン砒素、セレンテルル、硫化
カドミウム、酸化亜鉛、アモルファスシリコン等の無機
物質、ポリビニルカルバゾール、金属フタロシアニン、
ジスアゾ顔料、トリスアゾ顔料、ペリレン顔料、トリフ
ェニルメタン化合物、トリフェニルアミン化合物、ヒド
ラゾン化合物、スチリル化合物、ピラゾリン化合物、オ
キサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、等の有機
物質が挙げられる。また、その構成形態としては、これ
らの物質を単体で用いる単層型構成、結着材中に分散さ
せて用いるバインダー型構成、機能別に電荷発生層と電
荷輸送層とを設ける８Ｉ層型構成等が挙げられる。

しかしながら、従来用いられて来た電子写真感光体材料
にはそれぞれ欠点があった。その一つとして人体への有
害性が挙げられるが、前述したアモルファスシリコンを
除く無機物質においては、何れも好ましくない性質を持
つものであった。また、電子写真感光体が実際に複写機
内で用いられるためには、帯電、露光、現像、転写、除
電、清掃等の苛酷な環境条件にＦｆＪＡきれた場合にお
いても、常に安定な性能を維持している必要があるが、
前述した有機物質においては、何れも耐久性に乏しく、
性能面での不安定要素が多かった。

このような欠点を解消すべく、近年、有害性を改善し耐
久性に富んだ材料として、グロー放電法により生成され
るアモルファスシリコンの電子写真感光体への応用が進
んで来ている。しかし、アモルファスシリコンは、原料
としてシランガスを多量に必要とする反面、高価なガス
であることから、出来上がった電子写真感光体も従来の
感光体に比べ大幅に高価なものとなる。また、成膜速度
が遅く、成膜時間の増大に伴い爆発性を有するシラン未
分解生成物を粉塵状に発生する等、生産上の不都合も多
い。また、この粉塵が製造時に感光層中に混入した場合
には、画像品質に著しく悪影響を及ぼす。さらに、アモ
ルファスシリコンは、元来、比誘電率が高いため帯電性
能が低く、複写機内で所定の表面電位に帯電するために
は膜厚を厚くする必要があり、高価なアモルファスシリ
コン膜を長時間堆積させなくてはならない。

ところでアモルファスカーボン膜自体は、プラズマ有機
重合膜として古くより知られており、例えばジエン（Ｍ
、５ｈｅｎ）及びベル（Ａ、Ｔ。

Ｂｅ１ｌ）により、１９７３年発行ののジャーナル・オ
ブ・アプライド・ポリマー・サイエンス（Ｊｏｕｒｎａ
　ｌ　　ｏｆ　　Ａｐｐ　ｌ　ｉｅｄ　　Ｐ。

ｌｙｍｅｒ　　５ｃｉｅｎｃｅ）第１７巻の第８８５頁
乃至第８９２頁において、あらゆる有機化合物のガスか
ら作製され得る事が、また、同著者により、１９７９年
のアメリカンケミカルソサエテ−ｒ　　　（Ａｍｅｒｉ
ｃａｎ　　ＣｈｅｍｉｃａｌＳｏｃｉｅｔｙ）発行によ
るプラズマボリマライゼーション（Ｐｌａｓｍａ　　Ｐ
ｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ）の中でもその成膜性が論
じられている。

しかしながら従来の方法で作製したプラズマ有機重合膜
は絶縁性を前提とした用途に限って用いられ、即ちそれ
らの膜は通常のポリエチレン膜の如＜１０”ΩＣｍ程度
の比抵抗を有する絶縁膜と考えられ、或は、少なくとも
そのような膜であるとのＵｇｔＡのもとに用いられてい
た。実際に電子写真感光体への用途にしても同様の認識
から、保護層、接着層、ブロッキング層もしくは絶縁層
に限られており、所謂アンダーコート層もしくはオーバ
ーコート層としてしか用いられていなかった。

例えば、特開昭５９−２８１６１号公報には、基板上に
ブロッキング層及び接着層としてプラズマ重合された網
目構造を有する高分子層を設け、その上にアモルファス
シリコン層を設けた感光体が開示されている。特開昭５
９−３８７５３号公報には、基板上にブロッキング層及
び接着層として酸素と窒素と炭化水素の混合ガスから生
成される１０１３〜１０１５Ωｃｍの高抵抗のプラズマ
重合膜を１０人〜１００人設けた上にアモルファスシリ
コン層を設けた感光体が開示されている。特開昭５９−
１３６７４２号公報には、アルミ基板上に設けたアモル
ファスシリコン層内へ光照射時にアルミ原子が拡散する
のを防止するための保護層として１〜５μｍ程度の炭素
膜を基板表面に形成せしめた感光体が開示されている。

特開昭６０−６３５４１号公報には、アルミ基板とその
上に設けたアモルファスシリコン層との接着性を改善す
るために、接着層として２００人〜２μｍのダイヤモン
ド状炭素膜を中間に設けた感光体が開示され、残留電荷
の面から膜厚は２μｍ以下が好ましいとされている。

これらの開示は、何れも基板とアモルファスシリコン層
との間に、所謂アンダーコート層を設けた発明であり、
電荷輸送性についての開示は全くなく、また、ａ−３ｉ
の有する前記した本質的問題を解決するものではない。

また、例えば、特開昭５０−２０７２８号公報には、ポ
リビニルカルバゾール−セレン系感光体の表面に保護層
としてグロー放電重合によるポリマー膜を０．１〜１μ
ｍ設けた感光体が開示きれている。特開昭５９−２１４
８５９号公報には、アモルファスシリコン感光体の表面
に保護層としてスチレンやアセチレン等の有機炭化水素
モノマーをプラズマ重合させて５μｍ程度の膜を形成き
せる技術が開示されている。特開昭６０−６１７６１号
公報には、表面保護層として、５００人〜２μｍのダイ
ヤモンド状炭素薄膜を設けた感光体が開示され、透光性
の面から膜厚は２μｍ以下が好ましいとされてている。

特開昭６０−２４９１１５号公報には、０．０５〜５μ
ｍ程度の無定形炭素または硬質炭素膜を表面保護層とし
て用いる技術が開示され、膜厚が５μｍを越えると感光
体活性に悪影響が及ぶとされている。

これらの開示は、何れも感光体表面に所謂オーバーコー
ト層を設けた発明であり、電荷輸送性についての開示は
全くなく、また、ａ−３ｉの有する前記した本質的問題
を解決するものではない。

また、特開昭５１−４６１３０号公報には、ポリビニル
カルバゾール系電子写真感光体の表面にグロー放電重合
を行なって０．００１〜３μｍのポリマー膜を形成せし
めた電子写真感光板が開示されているが、電荷輸送性に
ついては全く言及きれていないし、ａ−Ｓｉの持つ前記
した本質的問題を解決するものではない。

一方、アモルファスシリコン膜については、スピア（Ｗ
、Ｅ、５ｐｅａｒ）及びレコンバ（Ｐ。

Ｑ、ＬｅＣｏｍｂｅｒ）により１９７６年発行のフィロ
ソフィカル・マガジン（Ｐｈｉｌｏｓｏｐｈｉｃａｌ　
　Ｍａｇａｚｉｎｅ）第３３巻の第９３５頁乃至第９４
９頁において、極性制御が可能な材料である事が報じら
れて以来、榎々の光電デバイスへの応用が試みられて来
た。感光体への応用に関しては、例えば、特開昭５６−
６２２５４号公報、特開昭５７−１１９３５６号公報、
特開昭５７−１７７１４７号公報、特開昭５７−１１９
３５７号公報、特開昭５７−１７７１４９号公報、特開
昭５７−１１９３５７号公報、特開昭５７−１７７１４
６号公報、特開昭５７−１７７１４８号公報、特開昭５
７−１７４４４８号公報、特開昭５７−１７４４４９号
公報、特開昭５７−１７４４５０号公報、等に、炭素原
子を含有したアモルファスシリコン感光体が開示きれて
いるが、何れもアモルファスシリコンの光導電性を炭素
原子により調整する事を目的としたものであり、また、
アモルファスシリコン自体厚い膜を必要としている。

Ｉが解決しようとする間２点 以上のように、従来、電子写真感光体に用いられている
プラズマ有機重合膜は所謂アンダーコート層もしくはオ
ーバーコート層として使用されていたが、それらはキャ
リアの輸送機能を必要としない膜であって、有機重合膜
が絶縁性で有るとの判断にたって用いられている。従っ
てその膜厚も高々５μｍ程度の極めて薄い膜としてしか
用いられず、キャリアはトンネル効果で膜中を通過する
か、トンネル効果が期待できない場合には、残留電位の
発生に関して事実上問題にならずに済む程度の薄い膜で
しか用いられていない。また、従来、電子写真に用いら
れているアモルファスシリコン膜は所謂厚膜で使用きれ
ており、価格或は生産性等に、不都合な点が多い。

本発明者らは、アモルファスカーボン膜の電子写真感光
体への応用を検討しているうちに、本来絶縁性であると
考えられていた水素化アモルファスカーボン膜が、燐原
子及び硼素原子のうち少なくとも一方を含有すると共に
酸素原子を含有してなる水素化或は弗素化アモルファス
シリコンゲルマニウム膜との積層においては電荷輸送性
を有し、容易に好適な電子写真特性を示し始める事を見
出した。その理論的解釈には本発明者においても不明確
な点が多く詳細に亙り言及はできないが、水素化アモル
ファスカーボン膜中に捕捉されている比較的不安定なエ
ネルギー状態の電子、例えばπ電子、不対電子、残存フ
リーラジカル等が形成するバンド構造が、燐原子及び硼
素原子のうち少なくとも一方を含有すると共に酸素原子
を含有してなる水素化或は弗素化アモルファスシリコン
ゲルマニウム膜が形成するバンド構造と電導帯もしくは
荷電子帯において近似したエネルギー準位を有するため
、燐原子及び硼素原子のうち少なくとも一方を含有する
と共に酸素原子を含有してなる水素化或は弗素化アモル
ファスシリコンゲルマニウム膜中で発生したキャリアが
容易に水素化アモルファスカーボン膜中へ注入され、ざ
らに、このキャリアは前述の比較的不安定なエネルギー
状態の電子の作用により水素化アモルファスカーボン膜
中を好適に走行し得るためと推定される。

本発明はその新たな知見を利用することにより、アモル
ファスシリコン感光体の持つ前述の如き本質的問題点を
全て解消し、また従来とは全く使用目的も特性も異なる
、有機プラズマ重合膜、特に水素化アモルファスカーボ
ン膜を電荷輸送層として使用し、かつ、燐原子及び硼素
原子のうち少なくとも一方を含有すると共に酸素原子を
含有してなる水素化或は弗素化アモルファスシリコンゲ
ルマニウムの薄膜を電荷発生層として使用した感光体を
提供する事を目的とする。

“、を　　するための 即ち、本発明は、電荷発生層と電荷輸送層とを有する機
能分離型感光体において、該電荷輸送層がプラズマ重合
反応から生成される水素化アモルファスカーボン膜であ
り、かつ、該電荷発生層が燐原子及び硼素原子のうち少
なくとも一方を含有すると共に酸素原子を含有してなる
水素化或は弗素化アモルファスシリコンゲルマニウム膜
であることを特徴とする感光体に関する（以下、本発明
による電荷輸送層をａ−Ｃ膜及び電荷発生層をａ　−３
ｉＦｌと称する） 本発明は、従来のアモルファスシリコン感光体において
は、電荷発生層として優れた機能を有するアモルファス
シリコンを、電荷発生能が無くても電荷輸送能ざえあれ
ば済む電荷輸送層としても併用していたため発生してい
たこれらの問題点を解決すべく成されたものである。

即ち、本発明は、電荷輸送層としてグロー放電により生
成される水素化アモルファスカーボン膜を設け、かつ、
電荷発生層として同じくグロー放電により生成される燐
原子及び硼素原子のうち少なくとも一方を含有すると共
に酸素原子を含有してなる水素化或は弗素化アモルファ
スシリコンゲルマニウム膜を設けた事を特徴とする機能
分離型感光体に関する。該電荷輸送層は、可視光もしく
は半導体レーザー光付近の波長の光に対しては明確なる
光導電性は有ざないが、好適な輸送性を有し、ざらに、
帯電能、耐久性、耐候性、耐環境汚染性等の電子写真感
光体性能に優れ、しかも透光性にも優れるため、機能分
離型感光体としての積層構造を形成する場合においても
極めて高い自由度が得られるものである。また、該電荷
発生層は、可視光もしくは半導体レーザー光付近の波長
の光に対して優れた光導電性を有し、しかも従来のアモ
ルファスシリコン感光体に比べて極めて薄い膜厚で、そ
の機能を活かす事ができるものである。

本発明においては、ａ−Ｃ膜を形成するために有機化合
物ガス、特に炭化水素ガスが用いられる。

該炭化水素における相状態は常温常圧において必ずしも
気相である必要はなく、加熱或は減圧等により溶融、蒸
発、昇華等を経て気化しうるものであれば、液相でも固
相でも使用可能である。

使用可能な炭化水素には穏類が多いが、飽和炭化水素と
しては、例えば、メタン、エタン、プロパン、ブタン、
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デ
カン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカ
ン、ペンタデカン、ヘキサコサン、ヘプタコサン、オク
タデカン、ノナデカン、エイコサン、ヘンエイコサン、
トコサン、トリコサン、テトラコサン、ペンタコサン、
ヘキサコサン、ヘプタコサン、オクタコサン、ノナコサ
ン、トリアコンタン、トドリアコンタン、ペンタトリア
コンタン、等のノルマルパラフィン並びに、イソブタン
、イソペンタン、ネオペンタン、イソヘキサン、ネオヘ
キサン、２．３−ジメチルブタン、２−メチルヘキサン
、３−エチルペンタン、２．２−ジメチルペンタン、２
．４−ジメチルペンタン、３，３−ジメチルペンタン、
トリブタン、２−メチルへブタン、３−メチルへブタン
、２．２−ジメチルヘキサン、２，２．５−ジメチルヘ
キサン、２．２．３−）ジメチルペンタン、２．２．４
−トリメチルペンタン、２，３゜３−トリメチルペンタ
ン、２．３．４−トリメチルペンタン、イソナノン、等
のイソパラフィン、等が用いられる。不飽和炭化水素と
しては、例えば、エチレン、プロピレン、イソブチレン
、１−ブテン、２−ブテン、１−ペンテン、２−ペンテ
ン、２−メチル−１−ブテン、３−メチル−１−ブテン
、２−メチル−２−ブテン、１−ヘキセン、テトラメチ
ルエチレン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−ノネン
、１−デセン、等のオレフィン、並びに、アレン、メチ
ルアレン、ブタジェン、ペンタジェン、ヘキサジエン、
シクロペンタジェン、等のジオレフィン、並びに、オシ
メン、アロオシメン、ミルセン、ヘキサトリエン、等の
トリオレフイン、並びに、アセチレン、ブタジイン、１
゜３−ペンタジイン、２．４−へキサジイン、メチルア
セチレン、１−ブチン、ａ−ブチン、１−ペンチン、１
−ヘキシン、１−ヘプチン、１−オクチン、１−ノニン
、１−デシン、等が用いられる。

脂環式炭化水素としては、例えば、シクロプロパン、シ
クロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロ
へブタン、シクロオクタン、シクロノナン、シクロデカ
ン、シクロウンデカン、シクロドデカン、シクロトリデ
カン、シクロテトラデカン、シクロペンタデカン、シク
ロヘキサデカン、等のシクロパラフィン並びに、シクロ
プロペン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキ
セン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロノネン
、シクロデセン、等のシクロオレフィン並びに、リモネ
ン、テルピノレン、フエランドレン、シルベストレン、
ツエン、カレン、ピネン、ボルニレン、カンフエン、フ
エンチェン、シクロウンデカン、トリシクレン、ビサボ
レン、ジンギベレン、クルクメン、フムレン、カジネン
セスキベニヘン、セリネン、カリオフィレン、サンタレ
ン、セドレン、カンホレン、フィロクラテン、ボドカル
ブレン、ミレン、等のテルペン並びに、ステロイド等が
用いられる。芳香族炭化水素としては、例えば、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、ヘミメリテン、プソイドクメ
ン、メシチレン、プレニテン、インジュレン、ジュレン
、ペンタメチルベンゼン、ヘキサメチルベンゼン、エチ
ルベンゼン、プロピルベンゼン、クメン、スチレン、ビ
フェニル、テルフェニル、ジフェニルメタン、トリフェ
ニルメタン、ジベンジル、スチルベン、インデン、ナフ
タリン、テトラリン、アントラセン、フェナントレン、
等が用いられる。

本発明におけるａ　−Ｃ１４中に含まれる水素原子の量
はグミ−放電を用いるというその製造面から必然的に定
まるが、炭素原子と水素原子の総量に対して、概ね３０
乃至６０原子％含有される。ここで、炭素原子並びに水
素原子の膜中含有量は、有機元素分析の常法、例えばＯ
ＮＨ分析を用いる事により知る事ができる。

本発明におけるａ　−Ｃｌｌ中に含まれる水素原子の量
は、成膜装置の形態並びに成膜時の条件により変化する
が、例えば、基板温度を高くする、圧力を低くする、原
料炭化水素ガスの希釈率を低くする、印加電力を高くす
る、交番電界の周波数を低くする、交番電界に重畳せし
めた直流電界強度を高くする、等の手段、或は、これら
の組合せ操作は、含有水素量を低くする効果を有する。

本発明における電荷輸送層としてのａ　−Ｃ膜の膜厚は
、通常の電子写真ブａセスで用いるためには、５乃至５
０μｍ１待に７乃至２０ｕｍが適当であり、５μｍより
薄いと、帯電電位が低いため充分な複写画像濃度を得る
事ができない。また、５０ｕｍより厚いと、生産性の面
で好ましくない。

このａ−Ｃ膜は、高透光性、高暗抵抗を有するとともに
電荷輸送性に富み、膜厚を上記の様に５μｍ以上として
もキャリアはトラップされる事無く輸送され明減衰に寄
与する事が可能である。

本発明における原料気体からａ　−Ｃ膜を形成する過程
としては、原料気体が、直流、低周波、高周波、或はマ
イクロ波等を用いたプラズマ法により生成されるプラズ
マ状態を経て形成される方法が最も好ましいが、その他
にも、イオン化蒸着法、或はイオンビーム蒸着法等によ
り生成されるイオン状態を経て形成されてもよしル、真
空蒸着法、或はスパッタリング法等により生成される中
性粒子から形成されてもよいし、ざらには、これらの組
み合わせにより形成されてもよい。

本発明においては、ａ−Ｓｉ膜を形成するためにシラン
ガス、ジシランガス、或は、弗化シランガスが用いられ
る。また、化学的修飾物質とじて燐原子或は硼素原子を
膜中に含有せしめるための原料ガスとして、ホスフィン
ガス或はジボランガス等が用いられる。ざらに、化学的
修飾物質として酸素原子を膜中に含有せしめるための原
料ガスとして、酸素ガス、亜酸化窒素ガス、オゾンガス
、或は、−酸化炭素ガス、等の酸素化合物ガスが用いら
れる。また、ゲルマニウム原子を含有させるために、ゲ
ルマンガスが用いられる。

本発明におけるａ−Ｓｉ膜中に含有されるゲルマニウム
原子の含有量は、シリコン原子とゲルマニウム原子との
総和に対して、３０原子％以下が好ましい。ここで、ゲ
ルマニウム原子及びシリコン原子の含有率は、元素分析
の常法、例えばオージェ分析により知る事ができる。ゲ
ルマニウム原子の含有量は、膜形成時に流入するゲルマ
ンガスの流量を増加する事により高くなる。ゲルマニウ
ム原子の含有量が高くなるにつれ本発明感光体の長波長
感度は向上し、短波長領域から長波長領域にまで輻広く
露光源が選択され得るようになり好ましいが、ゲルマニ
ウム原子が３０原子％より多く含有されると帯電能の低
下を招くため、過剰の添加は好ましくない。従って、本
発明におけるａ−３ｉ膜中に含有されるゲルマニウム原
子の含有量は重要である。

本発明において化学的修飾物質として含有される燐原子
或は硼素原子の量は、全構成原子に対して２００００原
子ｐｐｍ以下である。ここで燐原子或は硼素原子の膜中
含有量は、元素分析の常法、例えばオージェ分析或はＩ
ＭＡ分析により知る事ができる。燐原子或は硼素原子の
膜中含有量が２ｏｏｏｏ原子ｐｐｍより高い場合には、
少量の添加では好適な輸送性、或は、極性制御効果を保
証していた燐原子或は硼素原子が、逆に膜の低抵抗化を
招く作用を示し、帯電能の低下を来たす。従って、本発
明における燐原子或は硼素原子添加量の範囲は重要であ
る。

本発明において化学的修飾物質として含有される酸素原
子の量は、全構成原子に対して０．００１乃至１原子％
である。ここで酸素原子の膜中含有量は、元素分析の常
法、倒えばオージェ分析或はＩＭＡ分析により知る事が
できる。酸素原子の膜中含有量が０．００１原子％より
低い場合には、ａ−Ｓｉ膜の電気抵抗値が低くなる事か
らａ−Ｓｉ膜にコロナ帯電等による電界がかかりにくく
なり、光励起キャリアが必ずしも効率よ＜ａ−Ｃ膜中に
注入されなくなり感度の低下を招く。また、帯電能も低
下する。酸素原子の膜中含有量が１原子％より高い場合
には、逆にａ＝ｓｉ膜の電気抵抗値が高くなりすぎる事
から、光励起キャリアの発生効率並びに易動速度が低下
し、感度の低下を招く。従って、本発明における酸素原
子添加量の範囲は重要である。

本発明におけるａ−Ｓｉ膜中に含まれる水素原子或は弗
素原子の量はグロー放電を用いるというその製造面から
必然的に定まるが、シリコン原子と水素原子或はシリコ
ン原子と弗素原子の総量に対して、概ね１ｏ乃至３５原
子％含有される。ここで、水素原子或は弗素原子の膜中
含有量は、元素分析の常法、例えば○ＮＨ分析、オージ
ェ分析等を用いる事により知る事ができる。

本発明における電荷発生層としてのａ−Ｓｉ膜の膜厚は
、通常の電子写真プロセスで用いるためには、０．１乃
至５μｍが適当であり、０．１μｍより薄いと、光吸収
が不十分となり充分な電荷発生が行なわれなくなり、感
度の低下を招く。また、５μｍより厚いと、生産性の面
で好ましくない。このａ−３ｔ膜は電荷発生能に富み、
ざらに、本発明の最も特徴とするところのａ−Ｃ膜との
積層構成において効率よ＜ａ−Ｃ膜中に発生キャリアを
注入せしめ、好適な明減衰に寄与する事が可能である。

本発明における原料気体からａ−３ｉ膜を形成する過程
は、ａ−Ｃ膜を形成する場合と同様にして行なわれる。

本発明において化学的修飾物質として含有される酸素原
子、燐原子、或は、硼素原子の量は、主に、プラズマ反
応を行なう反応室への前述の酸素化合物ガス、ホスフィ
ンガス、或は、ジボランガスの導入量を増減することに
より制御することが可能である。酸素化合物ガス、ホス
フィンガス、或は、ジボランガスの導入量を増大させれ
ば、本発明によるａ−３ｉ膜中への酸素原子、燐原子、
或は、硼素原子の添加量を高くすることが可能であり、
逆に酸素化合物ガス、ホスフィンガス、或は、ジボラン
ガスの導入量を減少させれば、本発明によるａ−Ｓｔ模
膜中の酸素原子、燐原子、或は、硼素原子の添加量を低
くすることが可能である。

本発明における感光体は、電荷発生層と電荷輸送層から
成る機能分離型の構成とするのが最適で、該電荷発生層
と該電荷輸送層の積層構成は、必要に応じて適宜選択す
ることが可能である。

第１図は、その一形態として、導電性基板（１）上に電
荷輸送層（２）と電荷発生層（３）を順次積層してなる
構成を示したものである。第２図は、別の一形態として
、導電性基板（１）上に電荷発生層（３）と電荷輸送層
（２）を順次積層してなる構成を示したものである。第
３図は、別の一形態として、導電性基板（１）上に、電
荷輸送層（２）と電荷発生層（３）と電荷輸送層（２）
を順次積層してなる構成を示したものである。

感光体表面を、例えばコロナ帯電器等により正帯電した
後、画像露光して使用する場合においては、第１図では
電荷発生層（３）で発生した正孔が電荷輸送層（２）中
を導電性基板（１）に向は走行し、第２図では電荷発生
層（３）で発生した電子が電荷輸送層（２）中を感光体
表面に向は走行し、第３図では電荷発生層（３）で発生
した正孔が導電性基板側の電荷輸送層（２）中を導電性
基板（１）に向は走行すると共に、同時に電荷発生層（
３）で発生した電子が表面側の電荷輸送層（２）中を感
光体表面に向は走行し、好適な明減衰に保証された静電
潜像の形成が行なわれる。反対に感光体表面を負帯電し
た後、画像露光して使用する場合においては、電子と正
孔の挙動を入れ代えて、キャリアーの走行性を解すれば
よい。第２図及び第３図では、画像露光用の照射光が電
荷輸送層中を通過する事になるが、本発明による電荷輸
送層は透光性に優れることから、好適な潜像形成を行な
うことが可能である。

第４図は、ざらなる一形態として、導電性基板（１）上
に電荷輸送層（２）と電荷発生層（３）と表面保護層（
４）を順次積層してなる構成を示したものである。即ち
第１図の形態に表面保護層を設けた形態に相当するが、
第１図の形態では、最表面が耐湿性に乏しいａ−３ｉ膜
で有ることから、多くの場合実用上の対湿度安定性を確
保するために表面保護層を設けることが好ましい。第２
図及び第３図の構成の場合、最表面が耐久性に優れたａ
−Ｃ膜であるため表面保護層を設けなくてもよいが、例
えば現像剤の付着による感光体表面の汚れを防止するよ
うな、複写機内の各種エレメントに対する整合性を調整
する目的から、表面保護層を設けることもざらなる一形
態と成りうる。

第５図は、ざらなる一形態として、導電性基板（１）上
に中間層（５）と電荷発生層（３）と電荷輸送層（２）
を順次積層してなる構成を示したものである。即ち第２
図の形態に中間層を設けた形態に相当するが、第２図の
形態では、導電性基板との接合面がａ−３ｉ膜である事
から、多くの場合接着性及び注入阻止効果を確保するた
めに中間層を設ける事が好ましい。第１図及び第３図の
構成の場合、導電性基板との接合面が、接着性及び注入
阻止効果に優れた、本発明による電荷輸送層であるため
、中間層を設けなくてもよいが、例えば導電性基板の前
処理方法のような、感光層形成以前の製造工程との整合
性を調整する目的から、中間層を設けることもざらなる
一形態と成りうる。

第６図は、ざらなる一形態として、導電性基板（１）上
に中間層（５）と電荷輸送層（２）と電荷発生層（３）
と表面保護層（４）を順次積層してなる構成を示したも
のである。即ち第１図の形態に中間層と表面保護層を設
けた形態に相当する。

中間層と表面保護層の設置理由は前述と同様であり、従
って第２図及び第３図の構成において中間層と表面保護
層を設けることもざらなる一形態と成りうる。

本発明において中間層と表面保護層は、材料的にも、製
法的にも、特に限定を受けるものではなく所定の目的が
達せられるものであれば、適宜選択することが可能であ
る。本発明によるａ−σ膜を用いてもよい。但し、用い
る材料が、例えば従来例で述べた如き絶縁性材料である
場合には、残留電位発生の防止のため膜厚は５μｍ以下
に留める必要がある。

本発明による感光体の電荷輸送層は、気相状態の分子を
減圧下で放電分解し、発生したプラズマ雰囲気中に含ま
れる活性中性種あるいは荷電極を基板上に拡散、電気力
、あるいは磁気力等により誘導し、基板上での再結合反
応により固相として堆積きせる、所謂プラズマ重合反応
から生成される事が好ましい。

第７図は本発明に係わる感光体の製造装置を示し、図中
（７０１）〜（７０６）は常温において気相状態にある
原料化合物及びキャリアガスを密封した第１乃至第６タ
ンクで、各々のタンクは第１乃至第６調節弁（７０７）
〜（７１２）と第１乃至第６流量制御！（７１３）〜（
７１８）に接続されている。図中（７１９）〜（７２１
）は常温において液相または固相状態にある原料化合物
を封入した第１乃至第３容器で、各々の容器は気化のた
め第１乃至第３温調器（７２２）〜（７２４）により与
熱可能であり、ざらに各々の容器は第７乃至第９調節弁
（７２５）〜（７２７）と第７乃至第９流量制御器（７
２８）〜（７３０）に接続されている。これらのガスは
混合器（７３１）で混合された後、主管（７３２）を介
して反応室（７３３）に送り込まれる。途中の配管は、
常温において液相または固相状態にあった原料化合物が
気化したガスが、途中で凝結しないように、適宜配置き
れた配管加熱器（７３４）により、与熱可能とされてい
る。反応室内には接地電極（７３５）と電力印加電極（
７３６）が対向して設置され、各々の電極は電極加熱器
（７３７）により与熱可能とされている。電力印加電極
（７３６）には、高周波電力用整合器（７３８）を介し
て高周波電源（７３９）　、低周波電力用整合器（７４
０）を介して低周波型Ｈ（７４１）　、ローパスフィル
タ（７４２）を介して直流電源（７４３）が接続されて
おり、接続選択スイッチ（７４４）により周波数の異な
る電力が印加可能とされている。反応室（７３３）内の
圧力は圧力制御弁（７４５）により調整可能であり、反
応室（７３３）内の減圧は、排気系選択弁（７４６）を
介して、拡散ポンプ（７４７）　、油回転ポンプ（７４
８）　、或は、冷却除外装置（７４９）　、メカニカル
ブースターポンプ（７５０）、油回転ポンプ（７４８）
により行なわれる。排ガスについては、ざらに適当な除
外装置（７５３）により安全無害化した後、大気中に排
気きれる。これら排気系配管についても、常温において
液相または固相状態にあった原料化合物が気化したガス
が、途中で凝結しないように、適宜配置された配管加熱
！　（７３４）により、与熱可能とされている。反応室
（７３３）も同様の理由から反応室加熱器（７５１）に
より与熱可能ときれ、内部に配された電極上に導電性基
板（７５２）が設置される。第７図において導電性基板
（７５２）は接地電極（７３５）に固定して配されてい
るが、電力印加電極（７３６）に固定して配されてもよ
く、ざらに双方に配されてもよい。

第８図は本発明に係わる感光体の製造装置の別の一形態
を示し、反応室（８３３）内部の形態以外は、第７図に
示した本発明に係わる感光体の製造装置と同様であり、
付記された番号は、７００番台のものを８００番台に置
＠−換えて解すればよい。第８図において、反応室（８
３３）内部には、第７図における接地電極（７３５）を
兼ねた円筒形の導電性基板（８５２）が設置され、内側
には電極加熱器（８３７）が配きれている。導電性基板
（８５２）周囲には同じく円筒形状をした電力印加電極
（８３６）が配され、外側には電極加熱器（８３７）が
配されている。導電性基板（８５２）は、外部より駆動
モータ（８５４）を用いて自転可能となっている。

感光体製造に供する反応室は、拡散ポンプにより予め１
０−４乃至１Ｏ−６Ｔｏｒｒ程度にまで減圧し、真空度
の確認と装置内部に吸着したガスの脱着を行なう。同時
に電極加熱器により、電極並びに電極に固定して配され
た導電性基板を所定の温度まで昇温する。導電性基板に
は、前述の如き感光体構成の中から所望の構成を得るた
めに、必要であれば、予めアンダーコート層或は電荷発
生層を設けて置いてもよい。アンダーコート層或は電荷
発生層の設置には、本装置を用いてもよいし別装置を用
いてもよい。次いで、第１乃至第６タンク及び第１乃至
第３容器から、原料ガスを適宜第１乃至第９流量制御器
を用いて定流量化しながら反応室内に導入し、圧力調節
弁により反応室内を一定の減圧状態に保つ。ガス流量が
安定化した後、接続選択スイッチにより、例えば高周波
電源を選択し、電力印加電極に高周波電力を投入する。

両電極間には放電が開始され、時間と共に基板上に固相
の膜が形成される。ａ−３ｉ膜或はａ−Ｃ膜は、原料ガ
スを代える事により任意に形成可能である。放電を一旦
停止し、原料ガス組成を変更した後、再び放電を再開す
れば異なる組成の膜を積層する事ができる。また、放電
を持続きせながら原料ガス流量だけを徐々に代え、異な
る組成の膜を勾配を持たせながら積層する事も可能であ
る。

反応時間により膜厚を制御し、所定の膜厚並びに積層構
成に達したところで放電を停止し、本発明による感光体
を得る。次いで、第１乃至第９調節弁を閉じ、反応室内
を充分に排気する。ここで所望の感光体構成が得られる
場合には反応室内の真空を破り、反応室より本発明によ
る感光体を取り出す。更に所望の感光体構成において、
電荷発生層或はオーバーコート層が必要とされる場合に
は、そのまま本装置を用いるか、或は同様に一旦真空を
破り取り出して別装置に移してこれらの層を設け、本発
明による感光体を得る。

以下実施例を挙げながら、本発明を説明する。

去塵別１ 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。

電荷輸送層形成工程： 第７図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置（７３３）の内部を１０−’Ｔｏ　ｒ　ｒ程度の高
真空にした後、第１、及び第２調節弁（７０７、及び７
０８）を解放し、第１タンク（７０１）より水素ガス、
及び第２タンク（７０２）よりアセチレンガスを各々出
力圧１．０Ｋｇ／ｃｍ２の下で第１、及び第２流量制御
器（７１３、及び７１４）内へ流入させた。そして各流
量制御器の目盛を調整して、水素ガスの流量を１００Ｓ
ＣＣｍ　Ｎ及びアセチレンガスの流量を３０ｓｅｃｍと
なるように設定して、途中混合ｉ！（７３１）を介して
、主管（７３２）より反応室（７３３）内へ流入した。

各々の流量が安定した後に、反応室（７３３）内の圧力
が１．５Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（７４５）を
調整した。一方、導電性基板（７５２）としては、樅５
０Ｘ横５０Ｘ厚３ｍｍのアルミニウム基板を用いて、予
め２００℃に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定し
た状態で、予め接続選択スイッチ（７４４）により接続
しておいた高周波電源（７３９）を投入し、電力印加電
極（７３６）に１７０Ｗａｔｔの電力を周波数１３．５
６ＭＨｚの下で印加して約５時間プラズマ重合反応を行
ない、導電性基板（７５２）上に厚ざ１５ｕｍのａ−Ｃ
膜を電荷輸送層として形成した。成膜完了後は、電力印
加を停止し、調節弁を閉じ、反応室（７３３）内を充分
に排気した。

以上のようにして得られたａ　−Ｃ膜につき有機元素分
析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素原
子と水素原子の総量に対して３０原子％であった。

電荷発生層形成工程： 次いで、一部タンクを交換し、第１調節弁（７０７）、
第２調節弁（７０８）、第５調節弁（７１１）、及び第
６調節弁（７１２）を解放し、第１タンク（７０１）か
ら水素ガス、第２タンク（７０２）からゲルマンガス、
第５タンク（７０５）から亜酸化窒素ガス、及び第６タ
ンク（７０６）からシランガスを、出力圧ＩＫｇ／Ｃｍ
２の下で第１、第２、第５、及び第６流量制御器（７１
３，７１４，７１７、及び７１８）内へ流入させた。同
時に、第４調節弁（７１０）を解放し、第４タンク（７
０４）より水素ガスで１１００ｐｐに希釈されたジボラ
ンガスを、出力圧１．５Ｋｇ７０ｍ２の下で第４流量制
御器（７１６）内へ、流入させな。各流量制御器の目盛
を調整して水素ガスの流量を２００ｓｅｃｍ、ゲルマン
ガスの流量を６ｓｅｃｍ、亜酸化窒素ガスの流量を０．
０１８　ＣＣｍ　％シランガスの流量を１０１００５ｃ
。

水素ガスで１１００ｐｐに希釈されたジボランガスの流
量を１０１０５ｅとなるように設定し、反応室（７３３
）内に流入させた。各々の流量が安定した後に、反応室
（７３３）内の圧力が０．６Ｔｏｒｒとなるように圧力
調節弁（７４５）を調整した。一方、ａ−Ｃ膜が形成さ
れている導電性基板（７５２）は、２３０℃に加熱して
おき、ガス流量及び圧力が安定した状態で、高周波電源
（７３９）より周波数１３．５６ＭＨｚの下で電力印加
電極（７３６）に４５Ｗａｔｔの電力を印加し、グロー
放電を発生させた。この放電を５分間行ない、厚き０．
３μｍの電荷発生層を得た。

得られたａ−３ｉ膜につき、金属中ＯＮＨ分析（板場製
作所製ＥＭＧＡ−１３００）　、オージェ分析、及びＩ
ＭＡ分析を行なったところ、含有されろ水素原子は全構
成原子に対して２２原子％、硼素原子は１ｏ原子ｐｐｍ
、酸素原子は０．００１原子％、ゲルマニウム原子は１
０．１原子％であった。

特性： 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
帯電電位は一３１０Ｖ（＋３１０Ｖ）で有り、即ち、全
感光体膜厚が１５゜３μｍであることから１μｍ当りの
帯電能は２０Ｖ／μｍ　（２０Ｖ／μｍ）と極めて高く
、このことから充分な帯電性能を有する事が理解きれた
。

また、暗中にてＶｍａｘからＶｍａｘの９０％の表面電
位にまで暗減衰するのに要した時間は約６秒（約８秒）
であり、このことから充分な電荷保持性能を有する事が
理解された。また、最高帯電電位に初期帯電した後、白
色光を用いて最高帯電電位の２０％の表面電位にまで明
減衰させたところ必要とされた光量は２．６ルツクス・
秒（２゜５ルツクス・秒）であり、このことから充分な
光感度性能を有する事が理解きれた。

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解される。

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
。

大施倒旦 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。

電荷輸送層形成工程： 第７図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置（７３３）の内部を１Ｏ−６Ｔｏｒｒ程度の高真空
にした後、第１、及び第２　（７０７、及び７０８）を
解放し、第１タンク（７０１）より水素ガス、及び第２
タンク（７０２）よりエチレンを各々出力圧１．０Ｋｇ
／ａｍ２の下で第１、及び第２流量制即器（７１３、及
び７１４）内へ流入きせた。そして各流量制御器の目盛
を調整して、水素ガスの流量を６０ｓｅｃｍ、及びエチ
レンガスの流量を６０ｓｅｃｍ、となるように設定して
、途中混合器（７３１）を介して、主管（７３２）より
反応室（７３３）内へ流入した。各々の流量が安定した
後に、反応室（７３３）内の圧力が１．ＩＴｏｒｒとな
るように圧力調節弁（７４５）を調整した。一方、導電
性基板（７５２）としては、Ｍ５０×横５０Ｘ厚３ｍｍ
のアルミニウム基板を用いて、予め２５０℃に加熱して
おき、ガス流量及び圧力が安定した状態で、予め接続選
択スイッチ（７４４）により接続しておいた高周波電源
（７３９）を投入し、電力印加電極（７３６）に２００
Ｗａｔｔの電力を周波数１３．５６ＭＨｚの下で印加し
て約１０時間プラズマ重合反応を行ない、導電性基板（
７５２）上に厚き１５μｍのａ−Ｃ膜を電荷輸送層とし
て形成した。成膜完了後は、電力印加を停止し、調節弁
を閉じ、反応室（７３３）内を充分に排気した。

以上のようにして得られたａ−Ｃ膜につき有機元素分析
を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素原子
と水素原子の総量に対して３９原子％であった。

電荷発生層形成工程： 次いで、一部タンクを交換し、第１調節弁（７０７）、
第２調節弁（７０８）、第５調節弁（７１１）、及び第
６調節弁（７１２）を解放し、第１タンク（７０１）か
ら水素ガス、第２タンク（７０２）からゲルマンガス、
第５タンク（７０５）から酸素ガス、及び第６タンク（
７０６）からシランガスを、出力圧ＩＫｇ／ａｍ２の下
で第１、第２、第５、及び第６流量制御器（７１３，７
１４，７１７、及び７１８）内へ流入させた。同時に、
第４調節弁（７１０）を解放し、第４タンク（７０４）
より水素ガスで１１００ｐｐに希釈されたジボランガス
を、出力圧１．５Ｋｇ／ｃｍ２の下で第４流量制御器（
７１６）内へ、流入させな。

各流量制罪器の目盛を調整して水素ガスの流量を２００
ｓｅｃｍ、ゲルマンガスの流量をＬｏｓｅｃｍ、酸素ガ
スの流量を０．５ｓｅｃｍ、シランガスの流量を１０１
００５ｅ、水素ガスで１１００ｐｐに希釈されたジボラ
ンガスの流量を１１０５ＣＣとなるように設定し、反応
室（７３３）内に流入させた。各々の流量が安定した後
に、反応室（７３３）内の圧力が０．８Ｔｏｒｒとなる
ように圧力調節弁（７４５）を調整した。一方、ａ−Ｃ
Ｍが形成されている導電性基板（７５２）は、２５０℃
に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定した状態で、
高周波電源（７３９）より周波数１３．５６ＭＨｚの下
で電力印加電極（７３６）に３５Ｗａｔｔの電力を印加
し、グロー放電を発生させた。この放電を５分間行ない
、厚ざ０．３μｍの電荷発生層を得た。

得られたａ−Ｓｉ膜につき、金属中○ＮＨ分析（板場製
作所製ＥＭＧＡ−１３００）　、オージェ分析、及びＩ
ＭＡ分析を行なったところ、含有される水素原子は全構
成原子に対して２０原子％、硼素原子は１２原子ｐｐｍ
、酸素原子は０．１原子％、ゲルマニウム原子は１６原
子％であった。

特性： 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
帯電電位は一４９０Ｖ　（＋４７０Ｖ）で有り、即ち、
全感光体膜厚が１５゜３μｍであることから１μｍ当り
の帯電能は３２■／μｍ（３１Ｖ／μｍ）と極めて高く
、このことから充分な帯電性能を有する事が理解された
。

また、暗中にてＶｍａｘからＶｍａｘの９０％の表面電
位にまで暗減衰するのに要した時間は約１１秒（約１０
秒）であり、このことから充分な電荷保持性能を有する
事が理解された。また、最高帯電電位に初期帯電した後
、白色光を用いて最高帯電電位の２０％の表面電位にま
で明減衰させたとこる必要とされた光量は１．フルック
ス・秒（１，６ルツクス・秒）であり、このことから充
分な光感度性能を有する事が理解された。また、最高帯
電電位に初期帯電した後、半導体レーザー光（発光波長
７８０ｎｍ）を用いて最高帯電電位の２０％の表面電位
にまで明減衰させたとこる必要ときれた光量は１０．２
ｅｒｇ／ａｍ２（９，３ｅ　ｒ　ｇ／　ｃ　ｒ＋１２）
であり、このことから充分な長波長光感度性能を有する
事が理解された。

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解される。

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
。

Ｘ施倒旦 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。

電荷輸送層形成工程： 第７図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置（７３３）の内部を１０−６Ｔｏ　ｒ　ｒ程度の高
真空にした後、第１、及び第２調節弁（７０７、及び７
０８）を解放し、第１タンク（７０１）より水素ガス、
及び第２タンク（７０２）よりブタジェンガスを各々出
力圧１．０Ｋｇ／ｃｍ２の下で第１、及び第２流量制瀕
器（７１３、及び７１４）内へ流入させた。水素ガスの
流量を６０ｓｅｃｍ、及びブタジェンガスの流量を６０
ｓｅｃｍとなるように設定して、途中混合！（７３１）
を介して、主管（７３２）より反応室（７３３）内へ流
入した。各々の流量が安定した後に、反応室（７３３）
内の圧力が２．０Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（７
４５）を調整した。一方、導電性基板（７５２）として
は、！５０Ｘ横５０×厚３ｍｍのアルミニウム基板を用
いて、予め１３０℃に加熱しておき、ガス流量及び圧力
が安定した状態で、予め接続選択スイッチ（７４４）に
より接続しておいた低周波電源（７４１）を投入し、電
力印加電極（７３６）に１２０Ｗａｔｔの電力を周波数
４００ＫＨｚの下で印加して約３０分間プラズマ重合反
応を行ない、導電性基板（７５２）上に厚き１５μｍの
ａ−Ｃ膜を電荷輸送層として形成した。成膜完了後は、
電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応室（７３３）内
を充分に排気した。

以上のようにして得られたａ　−Ｃ膜につき有機元素分
析を行なったところ、含有きれる水素原子の量は炭素原
子と水素原子の総量に対して５５原子％であった。

電荷発生層形成工程： 次いで、一部タンクを交換し、第１調節弁（７０７）、
第２調節弁（７０８）、第５調節弁（７１１）、及び第
６調節弁（７１２）を解放し、第１タンク（７０１）か
ら水素ガス、第２タンク（７０２）からゲルマンガス、
第５タンク（７０５）から亜酸化窒素ガス、及び第６タ
ンク（７０６）からシランガスを、出力圧ＩＫｇ／ｃｍ
２の下で第１、第２、第５、及び第６流量制御器（７１
３，７１４，７１７、及び７１８）内へ流入させた。同
時に、第４調節弁（７１０）を解放し、第４タンク（７
０４）より水素ガスで１１００ｐｐに希釈されたジボラ
ンガスを、出力圧１．５Ｋｇ／ｃｍ２の下で第４流量制
御器（７１６）内へ、流入させた。各流量制御器の目盛
を調整して水素ガスの流量を２００ｓｅｃｍ、ゲルマン
ガスの流量を６ｓｅｃｍ１亜酸化窒素ガスの流量を３ｓ
ｅｃｍ１シランガスの流量を１０１００５ｅ、水素ガス
で１１００ｐｐに希釈されたジボランガスの流量を１０
１０５ｅに設定し、反応室（７３３）内に流入させな。

各々の流量が安定した後に、反応室（７３３）内の圧力
が１．０Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（７４５）を
調整した。一方、ａ−Ｃ膜が形成されている導電性基板
（７５２）は、２４０℃に加熱しておき、ガス流量及び
圧力が安定した状態で、高周波電源（７３９）より周波
数１３．５６ＭＨｚの下で電力印加電極（７３６）に４
５Ｗａｔｔの電力を印加し、グロー放電を発生させた。

この放電を５分間行ない、厚ざ０．３μｍの電荷発生層
を得た。

得られたａ−３ｉ膜につき、金属中ＯＮＨ分析（板場製
作所製ＥＭＧＡ−１３００）　、オージェ分析、及びＩ
ＭＡ分析を行なったところ、含有される水素原子は全構
成原子に対して２１原子％、硼素原子は１１原子ｐｐｍ
、酸素原子は０．３１原子％、ゲルマニウム原子は９．
７原子％であった。

特性： 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
帯電電位は一６００Ｖ　（＋６２０Ｖ）で有り、即ち、
全感光体膜厚が１５゜３μｍであることから１μｍ当り
の帯電能は３９Ｖ／μｍ（４０Ｖ／μｍ）と極めて高く
、このことから充分な帯電性能を有する事が理解された
。

また、暗中にてＶｍａｘからＶｍａｘの９０％の表面電
位にまで暗′ｇ衰するのに要した時間は約１５秒（約１
６秒）であり、このことから充分な電荷保持性能を有す
る事が理解きれた。また、最高帯電電位に初期帯電した
後、白色光を用いて最高帯電電位の２０％の表面電位に
まで明減衰きせたとこる必要とされた光量は２．０ルツ
クス・秒（１，５ルツクス・秒）であり、このことから
充分な光感度性能を有する事が理解された。また、最高
帯電電位に初期帯電した後、半導体レーザー光（発光波
長７８０ｎｍ）を用いて最高帯電電位の２０％の表面電
位にまで明：ｇ哀させたとこる必要とされた光量は？、
９ｅｒｇ／ａｍ２（１３，２ｅｒｇ／ｃｍ２）であり、
このことがら充分な長波長光感度性能を有する事が理解
された。

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解される。

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
。

害旅困侠 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。

電荷輸送層形成工程： 第７図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置（７３３）の内部を１０−’Ｔｏ　ｒ　ｒ程度の高
真空にした後、第１容器（７１９）よりミルセンガスを
第１温調器（７２２）温度４５℃のもとで、第７流量Ｉ
ＩＪ御１＃　（７２８）内へ流入させた。流量制御器の
目盛を調整して、ミルセンガスの流量を１５ｓｅｃｍと
なるように設定して、主！　（７３２）より反応室（７
３３）内へ流入した。流量が安定した後に、反応室（７
３３）内の圧力が１．０Ｔｏｒｒとなるように圧力調節
弁（７４５）を調整した。一方、導電性基板（７５２）
としては、！５０Ｘ横５０Ｘ厚３ｍｍのアルミニウム基
板を用いて、予め１８０℃に加熱しておき、ガス流量及
び圧力が安定した状態で、予め接続選択スイッチ（７４
４）により接続しておいた低周波電源（７４１）を投入
し、電力印加電極（７３６）に１８０Ｗａｔｔの電力を
周波数４０ＫＨｚの下で印加して約３時間プラズマ重合
反応を行ない、導電性基板（７５２）上に厚き１５μｍ
のａ−Ｃ膜を電荷輸送層として形成した。成膜完了後は
、電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応室（７３３）
内を充分に排気した。

以上のようにして得られたａ　−Ｃ膜につき有機元素分
析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素原
子と水素原子の総量に対して４７原子％であった。

電荷発生層形成工程： 次いで、一部タンクを交換し、第１調節弁（７０７）、
第２調節弁（７０８）、第５調節弁（７１１）、及び第
６調節弁（７１２）を解放し、第１タンク（７０１）か
ら水素ガス、第２タンク（７０２）からゲルマンガス、
第５タンク（７０５）から酸素ガス、及び第６タンク（
７０６）からシランガスを、出力圧ＩＫｇ／ｃｍ２の下
で第１、第２、第５、及び第６流量制御器（７１３，７
１４，７１７、及び７１８）内へ流入きせた。同時に、
第４調節弁（７１０）を解放し、第４タンク（７０４）
より水素ガスで１１００ｐｐに希釈されたジボランガス
を、出力圧１．５Ｋｇ／ａｍ２の下で第４流量制御器（
７１６）内へ、流入きせた。

シランガスの流量を１０１００５ｅ、水素ガスで１１０
０ｐｐに希釈されたジボランガスの流量を５０ｓｃａｍ
に設定し、反応室（７３３）内に流入させた。各々の流
量が安定した後に、反応室（７３３）内の圧力が０．８
Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（７４５）を調整した
。一方、ａ−ｃｌＩ！Ｊが形成されている導電性基板（
７５２）は、２５０℃に加熱しておき、ガス流量及び圧
力が安定した状態で、高周波電源（７３９）より周波数
１３．５６ＭＨｚの下で電力印加電極（７３６）に４０
Ｗａｔｔの電力を印加し、グロー放電を発生させた。こ
の放電を５分間行ない、厚き０．３μｍの電荷発生層を
得た。

得られたａ−Ｓｉ膜につき、金属中ＯＮＨ分析（板場製
作所製ＥＭＧＡ−１３００）　、オージェ分析、及びＩ
ＭＡ分析を行なったところ、含有される水素原子は全構
成原子に対して２４原子％、硼素原子は４５原子ｐｐｍ
、酸素原子は１原子％、ゲルマニウム原子は１１原子％
であった。

特性： 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
帯電電位は一５３０Ｖ　（＋４８０■）で有り、即ち、
全感光体膜厚が１５゜３μｍであることから１μｍ当り
の帯電能は３５Ｖ／μｍ（３１Ｖ／μｍ）と極めて高く
、このことから充分な帯電性能を有する事が理解された
。

また、暗中にてＶｍａｘからＶｍａｘの９０％の表面電
位にまで暗滅哀するのに要した時間は約１３秒（約１２
秒）であり、このことから充分な電荷保持性能を有する
事が理解された。また、最高帯電電位に初期帯電した後
、白色光を用いて最高帯電電位の２０％の表面電位にま
で明減衰させたとこる必要とされた光量は３．６ルツク
ス・秒（２，２ルツクス・秒）であり、このことから充
分な光感度性能を有する事が理解された。

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解される。

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
。

実施凹旦 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。

電荷輸送層形成工程： 第７図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置（７３３）の内部を１０−６Ｔｏ　ｒ　ｒ程度の高
真空にした後、第１容器（７１９）よりスチレンガスを
第１温調器（７２２）温度２０℃のもとで、第７流量制
御器（７２８）内へ流入させた。流量制御器の目盛を調
整して、スチレンガスの流量を４０　ｓ　ｅ　ｃｍとな
るように設定して、主！　（７３２）より反応室（７３
３）内へ流入した。各々の流量が安定した後に、反応室
（７３３）内の圧力が０．８Ｔｏｒｒとなるように圧力
調節弁（７４５）を調整した。一方、導電性基板（７５
２）としては、！５０Ｘ横５０×厚３ｍｍのアルミニウ
ム基板を用いて、予め１５０℃に加熱してお伊、ガス流
量及び圧力が安定した状態で、予め接続選択スイッチ（
７４４）により接続しておいた低周波電源（７４１）を
投入し、電力印加電極（７３６）に１４０Ｗａｔｔの電
力を周波数１３．５６ＭＨｚの下で印加して約１時間半
プラズマ重合反応を行ない、導電性基板（７５２）上に
厚さ１５μｍのａ−Ｃ膜を電荷輸送層として形成した。

成膜完了後は、電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応
室（７３３）内を充分に排気した。

以上のようにして得られたａ　−Ｃ膜につき有機元素分
析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素原
子と水素原子の総量に対して４３原子％であった。

電荷発生層形成工程： 次いで、一部タンクを交換し、第１調節弁（７０７）、
第２調節弁（７０８）、第３調節弁（７０９）、第５調
節弁（７１１）、及び第６ＦＪ節弁（７１２）を解放し
、第１タンク（７０１）から水素ガス、第２タンク（７
０２）からゲルマンガス、第３タンク（７０３）から四
弗化シランガス、第５タンク（７０５）から亜酸化窒素
ガス、及び第６タンク（７０６）からシランガスを、出
力圧ＩＫｇ／ｃｍ２の下で第１、第２、第３、第５、及
び第６流量制御器（７１３，７１４，７１５，７１７、
及び７１８）内へ流入させた。同時に、第４調節弁（７
１０）を解放し、第４タンク（７０４）より水素ガスで
１１００ｐｐに希釈されたジボランガスを、出力圧１．
５Ｋｇ／ｃｍ２の下で第４流量制御器（７１６）内へ、
流入させた。各流量側′ｍ器の目盛を調整して水素ガス
の流量を２００ｓｅｃｍ、ゲルマンガスの流量を１０１
０５ｅ。

四弗化シランガスの流量を５０ｓｅｃｍ、亜酸化窒素ガ
スの流量をｌｓｃｃｍ、シランガスの流量を５０ｓｅｃ
ｍ、水素ガスで１１００ｐｐに希釈きれたジボランガス
の流量を１０１０５ｅとなるように設定し、反応室（７
３３）内に流入させた。

各々の流量が安定した後に、反応室（７３３）内の圧力
が０．９Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（７４５）を
調整した。一方、ａ　−Ｃ膜が形成きれている導電性基
板（７５２）は、２５０℃に加熱しておき、ガス流量及
び圧力が安定した状態で、高周波電源（７３９）より周
波数１３．５６ＭＨｚの下で電力印加電極（７３６）に
３５Ｗａｔｔの電力を印加し、グロー放電を発生させな
。この放電を５分間行ない、厚さ０．３μｍの電荷発生
層を得た。

得られたａ−３ｉ１５％につき、金属中ＯＮＨ分析（板
場製作所製ＥＭＧＡ−１３００）　、オージェ分析、及
びＩＭＡ分析を行なったところ、含有される水素原子は
全構成原子に対して２２原子％、硼素原子は１０原子ｐ
ｐｍ、弗素原子ば５原子％、酸素原子は０．１原子％、
ゲルマニウム原子は１７原子％であった。

特性： 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
帯電電位は一７４０Ｖ　（＋７７０Ｖ）で有り、即ち、
全感光体膜厚が１５゜３μｍであることから１μｍ当り
の帯電能は４８Ｖ／μｍ（５１Ｖ／μｍ）と極めて高く
、このことから充分な帯電性能を有する事が理解された
。

また、暗中にてＶｍａｘからＶｍａｘの９０％の表面電
位にまで暗減衰するのに要した時間は約３９秒（約４２
秒）であり、このことから充分な電荷保持性能を有する
事が理解された。また、最高帯電電位に初期帯電した後
、白色光を用いて最高帯電電位の２０％の表面電位にま
で明減衰させたところ必要とされた光量は３．８ルツク
ス・秒（３，フルックス・秒）であり、このことから充
分な光感度性能を有する事が理解された。

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解きれる。

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
。

去施ガ旦 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの頭に設けた
本発明感光体を作製した。

電荷輸送層形成工程： 実施例３と同様にして本発明による感光体の電荷輸送層
を形成した。

電荷発生層形成工程： 次いで、一部タンクを交換し、第１調節弁（７Ｏ７）、
第２調節弁（７０８）、第５調節弁（７１１）、及び第
６調節弁（７１２）を解放し、第１タンク（７０１）か
ら水素ガス、第２タンク（７０２）からゲルマンガス、
第５タンク（７０５）から酸素ガス、及び第６タンク（
７０６）からシランガスを、出力圧ＩＫｇ／ｃｍ２の下
で第１、第２、第５、及び第６流量制御器（７１３，７
１４，７１７、及び７１８）内へ流入させた。同時に、
第４Ｆ］節弁（７１０）を解放し、第４タンク（７０４
）より水素ガスで１０ｐｐｍに希釈されたホスフィンガ
スを、出力圧１．５Ｋｇ／ｃｍ２の下で第４流量制御器
（７１６）内へ、流入させた。

各流量制御器の目盛を調整して水素ガスの流量を２００
８　ＣＣｍ　％ゲルマンガスの７Ｍ量を３ｓｅｃｍ１酸
素ガスの流量を１．３ｓｅｃｍ、シランガスの流量を２
００ｓｅｃｍ、水素ガスでＬｏｏｐｐｍに希釈されたホ
スフィンガスの流量を１０１０５ｅに設定し、反応室（
７３３）内に流入させな。各々の流量が安定した後に、
反応室（７３３）内の圧力が０．９Ｔｏｒｒとなるよう
に圧力調節弁（７４５）を調整した。一方、ａ−Ｃ膜が
形成されている導電性基板（７５２）は、２５０℃に加
熱しておき、ガス流量及び圧力が安定した状態で、高周
波電源（７３９）より周波数１３．５６ＭＨｚの下で電
力印加電極（７３６）に３５　Ｗ　ａｌｌの電力を印加
し、グロー放電を発生させた。

この放電を５分間行ない、厚ざ０．３μｍの電荷発生層
を得た。

得られたａ−Ｓｉ膜につき、金属中ＯＮＨ分析（板場製
作所製ＥＭＧＡ−１３００）　、オージェ分析、及びＩ
ＭＡ分析を行なったところ、含有される水素原子は全構
成原子に対して１８原子％、燐原子は１１原子ｐｐｍ、
酸素原子は０．３原子％ゲルマニウム原子は４．２原子
％であった。

特性： 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
帯電電位は一４８０Ｖ　（＋６９０Ｖ）で有り、即ち、
全感光体膜厚が１５゜３μｍであることから１μｍ当り
の帯電能は３１Ｖ／μｍ　（４５Ｖ／μｍ）と極めて高
く、このことから充分な帯電性能を有する事が理解きれ
た。

また、暗中にてＶｍａｘからＶｍａｘの９０％の表面電
位にまで暗減衰するのに要した時間は約１２秒（約１８
秒）であり、このことから充分な電荷保持性能を有する
事が理解きれた。また、最高帯電電位に初期帯電した後
、白色光を用いて最高帯電電位の２０％の表面電位にま
で明減衰させたとこる必要とされた光量は１．１ルツク
ス・秒（３，２ルツクス・秒）であり、このことから充
分な光感度性能を有する事が理解された。

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解される。

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
。

去旅グヱ 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。

電荷輸送層形成工程： 実施例１と同様にして本発明による感光体の電荷輸送層
を形成した。

電荷発生層形成工程： 次いで、一部タンクを交換し、第１調節弁（７０７）、
第２調節弁（７０８）、第３調節弁（７０９）、第５調
節弁（７１１）、及び第６調節弁（７１２＞を解放し、
第１タンク（７０１）から水素ガス、第２タンク（７０
２）からゲルマンガス、第３タンク（７０３）から四弗
化シランガス、第５タンク（７０５）から二酸化炭素ガ
ス、及び第６タンク（７０６）からシランガスを、出力
圧ＩＫｇ／ａｍ２の下で第１、第２、第３、第５、及び
第６流量制御器（７１３，７１４，７１５，７１７、及
び７１８）内へ流入させた。同時に、第４ＦＪ節弁（７
１０）を解放し、第４タンク（７０４）より水素ガスで
１０ｐｐｍに希釈されたホスフィンガスを、出力圧１．
５Ｋｇ／ｃｍ２の下で第４流量制御器（７１６）内へ、
流入きせた。各流量制御器の目盛を調整して水素ガスの
流量を２００ＳＣＣｍ、ゲルマンガスの流量を６ｓｅｃ
ｍｓ四弗化シランガスの流量を５０ｓｅｃｍ、二酸化炭
素ガスの流量を０．５ｓｅｃｍ、シランガスの流量を５
５ｓｅｃｍ、水素ガスで１１００ｐｐに希釈されたホス
フィンガスの流量を１０１０５ｅに設定し、反応室（７
３３）内に流入きせた。各々の流量が安定した後に、反
応室（７３３）内の圧力が０．８Ｔｏｒｒとなるように
圧力調節弁（７４５）を調整した。一方、ａ−Ｃ膜が形
成されている導電性基板（７５２）は、２４０℃に加熱
しておき、ガス流量及び圧力が安定した状態で、高周波
電源（７３９）より周波数１３．５６ＭＨｚの下で電力
印加電極（７３６）に３５Ｗａｔｔの電力を印加し、グ
ロー放電を発生きせた。この放電を５分間行ない、厚き
０．３μｍの電荷発生層を得た。

得られたａ−３ｉ膜につき、金属中ＯＮＨ分析（板場製
作所製ＥＭＧＡ−１３００）　、オージェ分析、及びＩ
ＭＡ分析を行なったところ、含有きれろ水素原子は全構
成原子に対して２０原子％、燐原子は１０原子ｐｐｍ、
酸素原子は０．２原子％、弗素原子は４．９原子％、ゲ
ルマニウム原子は１１原子％であった。

特性： 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
帯電電位は一２９０Ｖ　（＋４３０Ｖ）で有り、即ち、
全感光体ｌＩ！Ｊ厚が１５゜３μｍであることから１μ
ｍ当りの帯電能は１９Ｖ／μｍ　（２８Ｖ／μｍ）と極
めて高く、このことから充分な帯電性能を有する事が理
解された。

また、暗中にてＶｍａｘからＶｍａｘの９０％の表面電
位にまで暗減衰するのに要した時間は約５秒（約８秒）
であり、このことから充分な電荷保持性能を有する事が
理解された。また、最高帯電電位に初期帯電した後、白
色光を用いて最高帯電電位の２０％の表面電位にまで明
減衰させたとこる必要とされた光量は２．３ルツクス・
秒（５゜フルックス・秒）であり、このことから充分な
光感度性能を有する事が理解された。

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解される。

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
。

去塵倒旦 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。

電荷輸送層形成工程： 実施例８と同様にして本発明による感光体の電荷輸送層
を形成した。

電荷発生層形成工程： 次いで、一部タンクを交換し、第１調節弁（７０７）、
第２調節弁（７０８）、第５調節弁（７１１）、及び第
６調節弁（７１２）を解放し、第１タンク（７０１）か
ら水素ガス、第２タンク（７０２）からゲルマンガス、
第５タンク（７０５）から亜酸化窒素ガス、及び第６タ
ンク（７０６）からシランガスを、出力圧ＩＫｇ／ｃｍ
２の下で第１、第２、第５、及び第６流量制御器（７１
３，７１４，７１７、及び７１８）内へ流入させた。同
時に、第４調節弁（７１０）を解放し、第４タンク（７
０４）より水素ガスで１ｏｐｐｍに希釈されたホスフィ
ンガスを、出力圧１．５Ｋｇ／ｃｍ２の下で第４流量制
御器（７１６）内へ、流入させた。各流量側ｔｎ器の目
盛を調整して水素ガスの流量を２００ｓｅｃｍ、ゲルマ
ンガスの流量を６ｓｅｃｍｓ亜酸化窒素ガスの流量を０
．０１３　ＣＣｍ　ｓシランガスの流量を２００ｓｅｃ
ｍｓ水素ガスで１１００ｐｐに希釈きれたホスフィンガ
スの流量を１０１０５ｅに設定し、反応室（７３３）内
に流入させた。各々の流量が安定した後に、反応室（７
３３）内の圧力が０．８Ｔｏｒｒとなるように圧力調節
弁（７４５）を調整した。

一方、ａ−Ｃ膜が形成されている導電性基板（７５２）
は、２５０℃に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定
した状態で、高周波電源（７３９）より周波数１３．５
６ＭＨｚの下で電力印加電極（７３６）に４０Ｗａｔｔ
の電力を印加し、グロー放電を発生させた。この放電を
５分間行ない、厚き０．３μｍの電荷発生層を得た。

得られたａ−３ｉ膜につき、金属中ＯＮＨ分析（板場製
作所製ＥＭＧＡ−１３００）　、オージェ分析、及びＩ
ＭＡ分析を行なったところ、含有される水素原子は全構
成原子に対して２０原子％、燐原子は１０原子ｐｐｍ、
酸素原子は０．００１原子％、ゲルマニウム原子は１０
．３原子％であった。

特性： 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
帯電電位は一５９０Ｖ　（＋８００Ｖ）で有り、即ち、
全感光体膜厚が１５゜３μｍであることから１μｍ当り
の帯電能は３８Ｖ／μｍ　（５２Ｖ／μｍ）と極めて高
く、このことから充分な帯電性能を有する事が理解され
た。

また、暗中にてＶｍａｘからＶｍａｘの９０％の表面電
位にまで暗減衰するのに要した時間は約２８秒（約３７
秒）であり、このことから充分な電荷保持性能を有する
事が理解された。また、最高帯電電位に初期帯電した後
、白色光を用いて最高帯電電位の２０％の表面電位にま
で明減衰させたとこる必要とされた光量は２．フルック
ス・秒（５，３ルツクス・秒）であり、このことから充
分な光感度性能を有する事が理解された。

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解される。

また、この感光体に対して常用の力−ルンンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
。

実施例９ 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。

電荷輸送層形成工程： 実施例２と同様にして本発明による感光体の電荷輸送層
を形成した。

電荷発生層形成工程： 次いで、一部タンクを交換し、第１調節弁（７０７）、
第２調節弁（７０８）、第５調節弁（７１１）、及び第
６調節弁（７１２）を解放し、第１タンク（７０１）か
ら水素ガス、第２タンク（７０２）からゲルマンガス、
第５タンク（７０５）から亜酸化窒素ガス、及び第６タ
ンク（７０６）からシランガスを、出力圧ＩＫｇ／ａｍ
２の下で第１、第２、第５、及び第６流量制御器（７１
３，７１４，７１７、及び７１８）内へ流入させた。同
時に、第４調節弁（７１０）を解放し、第４タンク（７
０４）より水素ガスで１０ｐｐｍに希釈きれたホスフィ
ンガスを、出力圧１．５Ｋｇ／ｃｍ　２の下で第４流量
制都器（７１６）内へ、流入きせた。各流量制御器の目
盛を調整して水素ガスのＥＣ量を２００ｓｅｃｍ、ゲル
マンガスの流量を６ｓｅｃｍｓ亜酸化窒素ガスの流量を
ＬｏｓｅＣｍ　％シランガスの流量を２００ｓｅｃｍ、
水素ガスで１１００ｐｐに希釈されたホスフィンガスの
流量を１０１０５ｅに設定し、反応室（７３３）内に流
入させた。各々の流量が安定した後に、反応室（７３３
）内の圧力が０．８Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（
７４５）を調整した。一方、ａ−Ｃ膜が形成されている
導電性基板（７５２）は、２３０℃に加熱しておき、ガ
ス流量及び圧力が安定した状態で、高周波電源（７３９
）より周波数１３．５６ＭＨｚの下で電力印加電極（７
３６）に３５Ｗａｔｔの電力を印加し、グロー放電を発
生させた。この放電を５分間行ない、厚き０゜３μｍの
電荷発生層を得た。

得られたａ−Ｓｉ膜につき、金属中ＯＮＨ分析（板場製
作断裂ＥＭＧＡ−１３００）　、オージェ分析、及びＩ
ＭＡ分析を行なったところ、含有される水素原子は全構
成原子に対して２２原子％、燐原子は１２原子ｐｐｍ、
酸素原子は１．０原子％、ゲルマニウム原子は９．２原
子％であった。

特性： 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
帯Ｎ電位は一４９０Ｖ　（＋６５０Ｖ）で有り、即ち、
全感光体膜厚が１５゜３μｍであることから１μｍ当り
の帯電能は３２Ｖ／μｍ（４２Ｖ／μｍ）と極めて高く
、このことから充分な帯電性能を有する事が理解された
。

また、暗中にてＶｍａｘからＶｍａｘの９０％の表面電
位にまで暗減衰するのに要した時間は約１１秒（約１４
秒）であり、このことから充分な電荷保持性能を有する
事が理解された。また、最高帯電電位に初期帯電した後
、白色光を用いて最高帯電電位の２０％の表面電位にま
で明減衰させたところ必要ときれた光量は２．０ルツク
ス・秒（５，０ルツクス・秒）であり、このことから充
分な光感度性能を有する事が理解された。

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解される。

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
。

大旅影工ｑ 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。

電荷輸送層形成工程： 実施例４と同様にして本発明による感光体の電荷輸送層
を形成した。

電荷発生層形成工程： 次いで、一部タンクを交換し、第１調節弁（７０７）、
第２調節弁（７０８）、第５調節弁（７１１）、及び第
６調節弁（７１２）を解放し、第１タンク（７０１）か
ら水素ガス、第２タンク（７０２）からゲルマンガス、
第５タンク（７゜５）から酸素ガス、及び第６タンク（
７０６）からシランガスを、出力圧ＩＫｇ／ｃｍ２の下
で第１、第２、第５、及び第６流量制御器（７１３，７
１４，７１７、及び？１８）内へ流入させた。同時に、
第４調節弁（７１０）を解放し、第４タンク（７０４）
より水素ガスでＬＯｐｐｍに希釈きれたホスフィンガス
を、出力圧１．５Ｋｇ／ａｍ２の下で第４流量制御器（
７１６）内へ、流入させな。

各流量制御２３の目盛を調整して水素ガスの流量を２０
０ｓｅｃｍ、ゲルマンガスの流量を１１０５ｃａ、酸素
ガスの流量を０．５ｓｅｃｍｓシランガスの流量を２０
０ｓｅｃｍ、水素ガスで１１００ｐｐに希釈されたホス
フィンガスの流量を５８ｃｃｍに設定し、反応室（７３
３）内に流入させた。各々の流量が安定した後に、反応
室（７３３）、内の圧力が１．ＱＴｏｒｒとなるように
圧力調節弁（７４５）を調整した。一方、ａ−Ｃ膜が形
成されている導電性基板（７５２）は、２５０℃に加熱
しておき、ガス流量及び圧力が安定した状態で、高周波
電源（７３９）より周波数１３．５６ＭＨｚの下で電力
印加電極（７３６）に４０　Ｗ　ａｌｌの電力を印加し
、グロー放電を発生きせた。

この放電を５分間行ない、厚ざ０．３μｍの電荷発生層
を得た。

得られたａ−５ｉＦＪにつき、金属中ＯＮＨ分析（板場
製作所製ＥＭＧＡ−１３００）　、オージェ分析、及び
ＩＭＡ分析を行なったところ、含有されろ水素原子は全
構成原子に対して２３原子％、燐原子ば６原子ｐｐｍ、
酸素原子は０．１原子％、ゲルマニウム原子は１５．８
原子％であった。

特性： 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
帯電電位は一３５０Ｖ　（＋４８０Ｖ）で有り、即ち、
全感光体膜厚が１５゜３μｍであることから１μｍ当り
の帯電能は２３Ｖ／μｍ（３１Ｖ／μｍ）と極めて高く
、このことから充分な帯電性能を有する事が理解された
。

また、暗中にてＶｍａｘからＶｍａｘの９０％の表面電
位にまで暗減衰するのに要した時間は約９秒（約１３秒
）であり、このことから充分な電荷保持性能を有する事
が理解された。また、最高帯電電位に初期帯電した後、
白色光を用いて最高帯電電位の２０％の表面電位にまで
明減衰きせたとこる必要とされた光量は１．２ルツクス
・秒（２゜フルックス・秒）であり、このことから充分
な光感度性能を有する事が理解された。また、最高帯電
電位に初期帯電した後、半導体レーザー光（発光波長７
８０ｎｍ）を用いて最高帯電電位の２０％の表面電位に
まで明減衰きせたとこる必要とされた光量は？、ｌｅｒ
ｇ／ａｍ２（１８，２ｅｒｇ／Ｃｍ２）であり、このこ
とから充分な長波長光感度性能を有する事が理解された
。

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解きれる。

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第６図は本発明感光体の構成を示す図面、第
７図乃至第８図は本発明に係わる感光体の製造装置を示
す図面である。 出願人　ミノルタカメラ株式会社 第１図　第２図 第３図　　第４図 第５図　　第６図 手続補正書 昭和６２年１０月２１日 特許庁長官　小　川　邦　夫　殿 ２、発明の名称 感光体 ３、補正をする者 事件との関係　　出願人 住所　大阪市東区安土町２丁目３０番地　大阪国際ビル
名称　（６０７）　　　ミ／ルタカメラ株式会社自発補
正 ５、補正のＮ＊ 図面 ６、１１１正の内容 図面第８図を「訂正第８図」の通り補正します。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 電荷発生層と電荷輸送層とを有する機能分離型感光体に
   おいて、該電荷輸送層は水素化アモルファスカーボン膜
   であり、かつ、該電荷発生層は酸素原子を含有すると共
   に燐原子及び硼素原子のうち少なくとも一方を含有して
   なる水素化アモルファスシリコンゲルマニウム膜或は酸
   素原子を含有すると共に燐原子及び硼素原子のうち少な
   くとも一方を含有してなる弗素化アモルファスシリコン
   ゲルマニウム膜であることを特徴とする感光体。